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JP3498869B2 - 光重合性組成物を有する画像形成材料 - Google Patents

光重合性組成物を有する画像形成材料

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Publication number
JP3498869B2
JP3498869B2 JP01310895A JP1310895A JP3498869B2 JP 3498869 B2 JP3498869 B2 JP 3498869B2 JP 01310895 A JP01310895 A JP 01310895A JP 1310895 A JP1310895 A JP 1310895A JP 3498869 B2 JP3498869 B2 JP 3498869B2
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JP
Japan
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group
substituted
chemical
alkyl
substituent
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JP01310895A
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一人 國田
俊一 近藤
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
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Priority to US08/589,992 priority patent/US5703140A/en
Priority to DE69604601T priority patent/DE69604601T2/de
Priority to EP96101075A priority patent/EP0724197B1/en
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
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    • Y10T428/31678Of metal

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  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は光重合性組成物を有する
画像形成材料に関する。さらに詳しくは、少なくとも付
加重合可能なエチレン性不飽和結合を有する重合可能な
化合物と特定のオキシムエーテル化合物を含有する光重
合性組成物を有する画像形成材料に関する。
【0002】
【従来の技術】付加重合可能なエチレン性不飽和結合を
有する化合物と光重合開始剤と更に必要に応じて適当な
皮膜形成能を有する結合剤及び熱重合禁止剤を混和させ
た感光性組成物を用いて、写真的手法により画像の複製
を行なう方法は、従来より知られるところであり、例え
ば、米国特許第2,927,022号、同第2,90
2,356号あるいは同第3,870,524号等にそ
の例が見られる。これらの米国特許に記載されているよ
うに、この種の感光性組成物は光照射により光重合を起
こし、硬化し不溶化することから、該感光性組成物を適
当な皮膜となし、所望の陰画像を通して光照射を行な
い、適当な溶媒により未露光部のみを除去する(以下、
単に現像と呼ぶ)ことにより所望の光重合性組成物の硬
化画像を形成することができる。このタイプの感光性組
成物は印刷版等を作製するために使用されるものとして
極めて有用である。
【0003】また従来より、付加重合可能なエチレン性
不飽和結合を有する化合物のみでは充分な感光性がな
く、感光性を高めるために光重合開始剤を添加すること
が提唱されており、かかる光重合開始剤としてはベンジ
ル、ベンゾイン、ベンゾインエチルエーテル、ミヒラー
ケトン、アントラキノン、アクリジン、フェナジン、ベ
ンゾフェノン、2−エチルアントラキノン等が用いられ
てきた。しかしながら、これらの光重合開始剤を用いた
場合、光重合性組成物の硬化の感応度が低いので画像形
成における像露光に長時間を要した。このため細密な画
像の場合には、操作にわずかな振動があると良好な画質
の画像が再現されず、さらに露光の光源のエネルギー放
射量を増大しなければならないためにそれに伴なう多大
な発熱の放射を考慮する必要があった。加えて熱による
組成物の皮膜の変形および変質も生じ易い等の問題があ
った。
【0004】また、近年、紫外線に対する高感度化や、
レーザーを用いて画像を形成する方法が検討され、印刷
版作成におけるUVプロジェクション露光法、レーザー
直接製版、レーザーファクシミリ、ホログラフィー等が
既に実用の段階であり、これらに対応する高感度な感光
材料が望まれ、開発されているところである。しかし未
だ十分な感度を有する感光材料が見いだされたとは言え
ない。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は高感度
の光重合性組成物を有する画像形成材料を提供すること
である。すなわち、本発明の目的は広く一般に付加重合
可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物を含む光重
合性組成物の光重合速度を増大させる化合物を含んだ光
重合性組成物を有する画像形成材料を提供することであ
る。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記目的を
達成すべく鋭意検討を重ねた結果、特定のオキシムエー
テル化合物が付加重合可能なエチレン性不飽和結合を有
する化合物の光重合速度を著しく増大させることを見い
だし、本発明に到達したものである。また特定のオキシ
ムエーテル化合物を利用することによるさらなる改良
果として感光材料の保存安定性向上化及び感光材料現像
後の現像廃液からの現像カスの抑制がみられた。
【0007】 即ち、本発明は、少なくとも下記成分
i)及びii)を含有する光重合性組成物を有する画像形
成材料である。 i)付加重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合
物 ii)後述の一般式〔I〕で表されるオキシムエーテル化
合物(好ましくは後述の一般式〔 II 〕で表されるα−置
換ケトオキシムエーテル化合物)以下、本発明の光重合
性組成物の各成分について詳しく説明する。
【0008】本発明に使用される成分(i)の付加重合
可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物は、末端エ
チレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個
以上有する化合物から選ばれる。モノマーとしては、例
えば、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタク
リル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マ
レイン酸など)と脂肪族多価アルコール化合物とのエス
テル、上記不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物
とのアミド等があげられる。
【0009】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アク
リル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3
−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテ
ル、トリメチロールエタントリアクリレート、へキサン
ジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオ
ールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアク
リレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジア
クリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテト
ラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソ
ルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオ
キシエチル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレ
ートオリゴマー等がある。
【0010】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオ
ールジメタクリレート、へキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビト
ールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリ
ルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメ
チルメタン、ビス−〔p−(アクリルオキシエトキシ)
フェニル〕ジメチルメタン等がある。
【0011】イタコン酸エステルとしては、エチレング
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、
1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトラメタクリレート等が
ある。
【0012】クロトン酸エステルとしては、エチレング
リコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジ
クロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、
ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソクロ
トン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソク
ロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネー
ト、ソルビトールテトライソクロトネー卜等がある。
【0013】マレイン酸エステルとしては、エチレング
リコールジマレート、トリエチレングリコールジマレー
ト、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテ
トラマレート等がある。さらに、前述のエステルモノマ
ーの混合物もあげることができる。また、脂肪族多価ア
ミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの
具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチ
レンビス−メタクリルアミド、1,6−へキサメチレン
ビス−アクリルアミド、1,6−へキサメチレンビス−
メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリ
ルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレン
ビスメタクリルアミド等がある。
【0014】その他の例としては、特公昭48−417
08号公報中に記載されている1分子に2個以上のイソ
シアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下
記の一般式(A)で示される水酸基を含有するビニルモ
ノマーを付加した1分子中に2個以上の重合性ビニル基
を含有するビニルウレタン化合物等があげられる。 CH2=C(R)COOCH2CH(R′)OH (A) (ただし、RおよびR′はHあるいはCH3を示す。) また、特開昭51−37193号に記載されているよう
なウレタンアクリレー卜類、特開昭48−64183
号、特公昭49−43191号、特公昭52−3049
0号公報に記載されているようなポリエステルアクリレ
ート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させ
たエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートや
メタクリレートをあげることができる。さらに日本接着
協会誌vol.20、No.7、300〜308ぺージ(19
84年)に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介
されているものも使用することができる。本発明におい
て、これらのモノマーはプレポリマー、すなわち2量
体、3量体およびオリゴマー、またはそれらの混合物な
らびにそれらの共重合体などの化学的形態で使用しう
る。
【0015】また、これらの使用量は、光重合性組成物
の全成分に対して5〜50重量%(以下%と略称す
る。)、好ましくは10〜40%である。50%より多
い場合には塗膜形成不良(べとつき)となり、また、5
%より少ない場合には硬化不良となるため好ましくな
い。本発明に使用される成分ii)のオキシムエーテル化
合物は、以下の一般式〔I〕で表される化合物である。
【0016】(R1)(R2)C=N−O−R3 式中、R1、R2及びR3は同一または異なる一価の有機
残基を表す。一般式〔I〕において、R1及びR2はより
好ましくは、互いに同一または異なり、水素原子、ハロ
ゲン原子、置換基を有していても良く、かつ、不飽和結
合を含んでいても良い炭化水素基、ヘテロ環基、ヒドロ
キシル基、置換オキシ基、メルカプト基、置換チオ基、
アミノ基、置換アミノ基、置換カルボニル基、カルボキ
シラート基、スルホ基、スルホナト基、置換スルフィニ
ル基、置換スルホニル基、ホスホノ基、置換ホスホノ
基、ホスホナト基、置換ホスホナト基 、シアノ基、ニ
トロ基を表し、またR1とR2が互いに結合して、環を形
成していても良い。
【0017】R3は置換基を有していても良く、かつ、
不飽和結合を含んでいても良い炭化水素基、ヘテロ環基
を表し、また、R3とR2が互いに結合して、環を形成し
ていても良い。次に一般式〔I〕における、R1、R2
びR3の例を以下に示す。上記置換基を有していてもよ
く、かつ、不飽和結合を含んでいても良い炭化水素基と
しては、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置
換アリール基、アルケニル基、置換アルケニル基、アル
キニル基及び置換アルキニル基があげられる。
【0018】アルキル基としては炭素原子数が1から2
0までの直鎖状、分岐状、または環状のアルキル基をあ
げることができ、その具体例としては、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウ
ンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル
基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、
イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペン
チル基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、イソヘ
キシル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル
基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、2−ノルボ
ルニル基をあげることができる。これらの中では、炭素
原子数1から12までの直鎖状、炭素原子数3から12
までの分岐状、ならびに炭素原子数5から10までの環
状のアルキル基がより好ましい。
【0019】置換アルキル基は置換基とアルキレン基と
の結合により構成され、置換基としては、水素を除く一
価の非金属原子団が用いられ、好ましい例としては、ハ
ロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、ヒドロキ
シル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト
基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ
基、アリールジチオ基、アミノ基、N−アルキルアミノ
基、N,N−ジアルキルアミノ基、N−アリールアミノ
基、N,N−ジアリールアミノ基、N−アルキル−N−
アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキ
シ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリー
ルカルバモイルオキシ基、N,N−ジアルキルカルバモ
イルオキシ基、N,N−ジアリールカルバモイルオキシ
基、N−アルキル−N−アリールカルバモイルオキシ
基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、ア
シルチオ基、アシルアミノ基、N−アルキルアシルアミ
ノ基、N−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、N′
−アルキルウレイド基、N′,N′−ジアルキルウレイ
ド基、N′−アリールウレイド基、N′,N′−ジアリ
ールウレイド基、N′−アルキル−N′−アリールウレ
イド基、N−アルキルウレイド基、N−アリールウレイ
ド基、N′−アルキル−N−アルキルウレイド基、N′
−アルキル−N−アリールウレイド基、N′,N′−ジ
アルキル−N−アルキルウレイド基、N′,N′−ジア
ルキル−N−アリールウレイド基、N′−アリール−N
−アルキルウレイド基、N′−アリール−N−アリール
ウレイド基、N′,N′−ジアリール−N−アルキルウ
レイド基、N′,N′−ジアリール−N−アリールウレ
イド基、N′−アルキル−N′−アリール−N−アルキ
ルウレイド基、N′−アルキル−N′−アリール−N−
アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、
アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−
アルコキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−ア
リーロキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−ア
ルコキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アリ
ーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、
カルボキシル基及びその共役塩基基(以下、カルボキシ
ラートと称す)、アルコキシカルボニル基、アリーロキ
シカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバ
モイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−ア
リールカルバモイル基、N,N−ジアリールカルバモイ
ル基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、ア
ルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アル
キルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基
(−SO3H)及びその共役塩基基(以下、スルホナト
基と称す)、アルコキシスルホニル基、アリーロキシス
ルホニル基、スルフィナモイル基、N−アルキルスルフ
ィナモイル基、N,N−ジアルキルスルフィナモイル
基、N−アリールスルフィナモイル基、N,N−ジアリ
ールスルフィナモイル基、N−アルキル−N−アリール
スルフィナモイル基、スルファモイル基、N−アルキル
スルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル
基、N−アリールスルファモイル基、N,N−ジアリー
ルスルファモイル基、N−アルキル−N−アリールスル
ファモイル基、N−アシルスルファモイル基及びその共
役塩基基、N−アルキルスルホニルスルファモイル基
(−SO2NHSO2(alkyl))及びその共役塩基
基、N−アリールスルホニルスルファモイル基(−SO
2NHSO2(allyl))及びその共役塩基基、N−
アルキルスルホニルカルバモイル基(−CONHSO2
(alkyl))及びその共役塩基基、N−アリールス
ルホニルカルバモイル基(−CONHSO2(ally
l))及びその共役塩基基、アルコキシシリル基(−S
i(Oalkyl)3)、アリーロキシシリル基(−S
i(Oallyl)3)、ヒドロキシシリル基(−Si
(OH)3)及びその共役塩基基、ホスホノ基(−PO3
2)及びその共役塩基基(以下、ホスホナト基と称
す)、ジアルキルホスホノ基(−PO3(alky
l)2)、ジアリールホスホノ基(−PO3(aryl)
2)、アルキルアリールホスホノ基(−PO3(alky
l)(aryl))、モノアルキルホスホノ基(−PO
3H(alkyl))及びその共役塩基基(以後、アル
キルホスホナト基と称す)、モノアリールホスホノ基
(−PO3H(aryl))及びその共役塩基基(以
後、アリールホスホナト基と称す)、ホスホノオキシ基
(−OPO32)及びその共役塩基基(以後、ホスホナ
トオキシ基と称す)、ジアルキルホスホノオキシ基(−
OPO3(alkyl)2)、ジアリールホスホノオキシ
基(−OPO3(aryl)2)、アルキルアリールホス
ホノオキシ基(−OPO3(alkyl)(ary
l))、モノアルキルホスホノオキシ基(−OPO3
(alkyl))及びその共役塩基基(以後、アルキル
ホスホナトオキシ基と称す)、モノアリールホスホノオ
キシ基(−OPO3H(aryl))及びその共役塩基
基(以後、アリールホスホナトオキシ基と称す)、シア
ノ基、ニトロ基、アリール基、アルケニル基、アルキニ
ル基があげられる。これらの置換基における、アルキル
基の具体例としては、前述のアルキル基があげられ、ア
リール基の具体例としては、フェニル基、ビフェニル
基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、
クメニル基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、
ブロモフェニル基、クロロメチルフェニル基、ヒドロキ
シフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル
基、フェノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベ
ンゾイロキシフェニル基、メチルチオフェニル基、フェ
ニルチオフェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチ
ルアミノフェニル基、アセチルアミノフェニル基、カル
ボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エ
トキシカルボニルフェニル基、フェノキシカルボニルフ
ェニル基、N−フェニルカルバモイルフェニル基、フェ
ニル基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、スルホ
フェニル基、スルホナトフェニル基、ホスホノフェニル
基、ホスホナトフェニル基などをあげることができる。
また、アルケニル基の例としては、ビニル基、1−プロ
ペニル基、1−ブテニル基、シンナミル基、2−クロロ
−1−エテニル基、等があげられ、アルキニル基の例と
しては、エチニル基、1−プロピニル基、1−ブチニル
基、トリメチルシリルエチニル基、フェニルエチニル基
等があげられる。
【0020】上述のアシル基(R4CO−)としては、
4が水素原子及び上記のアルキル基、アリール基、ア
ルケニル基、アルキニル基をあげることができる。 一
方、置換アルキル基におけるアルキレン基としては前述
の炭素数1から20までのアルキル基上の水素原子のい
ずれか1つを除し、2価の有機残基としたものをあげる
ことができ、好ましくは炭素原子数1から12までの直
鎖状、炭素原子数3から12までの分岐状ならびに炭素
原子数5から10までの環状のアルキレン基をあげるこ
とができる。好ましい置換アルキル基の具体例として
は、クロロメチル基、ブロモメチル基、2−クロロエチ
ル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、メト
キシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノ
キシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル
基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル
基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、
ベンゾイルオキシメチル基、N−シクロヘキシルカルバ
モイルオキシエチル基、N−フェニルカルバモイルオキ
シエチル基、アセチルアミノエチル基、N−メチルベン
ゾイルアミノプロピル基、2−オキソエチル基、2−オ
キソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシカル
ボニルエチル基、メトキシカルボニルメチル基、メトキ
シカルボニルブチル基、エトキシカルボニルメチル基、
ブトキシカルボニルメチル基、アリルオキシカルボニル
メチル基、ベンジルオキシカルボニルメチル基、メトキ
シカルボニルフェニルメチル基、トリクロロメチルカル
ボニルメチル基、アリルオキシカルボニルブチル基、ク
ロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイルメチ
ル基、N−メチルカルバモイルエチル基、N,N−ジプ
ロピルカルバモイルメチル基、N−(メトキシフェニ
ル)カルバモイルエチル基、N−メチル−N−(スルホ
フェニル)カルバモイルメチル基、スルホプロピル基、
スルホブチル基、スルホナトブチル基、スルファモイル
ブチル基、N−エチルスルファモイルメチル基、N,N
−ジプロピルスルファモイルプロピル基、N−トリルス
ルファモイルプロピル基、N−メチル−N−(ホスホノ
フェニル)スルファモイルオクチル基、
【0021】
【化1】
【0022】ホスホノブチル基、ホスホナトヘキシル
基、ジエチルホスホノブチル基、ジフェニルホスホノプ
ロピル基、メチルホスホノブチル基、メチルホスホナト
ブチル基、トリルホスホノヘキシル基、トリルホスホナ
トヘキシル基、ホスホノオキシプロピル基、ホスホナト
オキシブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチ
ルベンジル基、1−メチル−1−フェニルエチル基、p
−メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、1−プ
ロペニルメチル基、2−ブテニル基、2−メチルアリル
基、2−メチルプロペニルメチル基、2−プロピニル
基、2−ブチニル基、3−ブチニル基、等をあげること
ができる。
【0023】アリール基としては1個から3個のベンゼ
ン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と5員不飽和
環が縮合環を形成したものをあげることができ、具体例
としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フ
ェナントリル基、、インデニル基、アセナブテニル基、
フルオレニル基、をあげることができ、これらのなかで
は、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。
【0024】置換アリール基は、置換基がアリール基に
結合したものであり、前述のアリール基の環形成炭素原
子上に置換基として、水素を除く一価の非金属原子団を
有するものが用いられる。好ましい置換基の例としては
前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびに、先に置
換アルキル基における置換基として示したものをあげる
ことができる。これらの、置換アリール基の好ましい具
体例としては、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、
メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフ
ェニル基、フルオロフェニル基、クロロメチルフェニル
基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニ
ル基、メトキシフェニル基、メトキシエトキシフェニル
基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、
メチルチオフェニル基、トリルチオフェニル基、フェニ
ルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエチル
アミノフェニル基、モルホリノフェニル基、アセチルオ
キシフェニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、N−シ
クロヘキシルカルバモイルオキシフェニル基、N−フェ
ニルカルバモイルオキシフェニル基、アセチルアミノフ
ェニル基、N−メチルベンゾイルアミノフェニル基、カ
ルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、
アリルオキシカルボニルフェニル基、クロロフェノキシ
カルボニルフェニル基、カルバモイルフェニル基、N−
メチルカルバモイルフェニル基、N,N−ジプロピルカ
ルバモイルフェニル基、N−(メトキシフェニル)カル
バモイルフェニル基、N−メチル−N−(スルホフェニ
ル)カルバモイルフェニル基、スルホフェニル基、スル
ホナトフェニル基、スルファモイルフェニル基、N−エ
チルスルファモイルフェニル基、N,N−ジプロピルス
ルファモイルフェニル基、N−トリルスルファモイルフ
ェニル基、N−メチル−N−(ホスホノフェニル)スル
ファモイルフェニル基、ホスホノフェニル基、ホスホナ
トフェニル基、ジエチルホスホノフェニル基、ジフェニ
ルホスホノフェニル基、メチルホスホノフェニル基、メ
チルホスホナトフェニル基、トリルホスホノフェニル
基、トリルホスホナトフェニル基、アリル基、1−プロ
ペニルメチル基、2−ブテニル基、2−メチルアリルフ
ェニル基、2−メチルプロペニルフェニル基、2−プロ
ピニルフェニル基、2−ブチニルフェニル基、3−ブチ
ニルフェニル基、等をあげることができる。
【0025】アルケニル基としては、上述のものを挙げ
ることができる。置換アルケニル基は、置換基がアルケ
ニル基の水素原子と置き換わり結合したものであり、こ
の置換基としては、上述の置換アルキル基における置換
基が用いられ、一方アルケニル基は上述のアルケニル基
を用いることができる。好ましい置換アルケニル基の例
としては
【0026】
【化2】
【0027】等をあげることができる。アルキニル基と
しては、上述のものを挙げることができる。置換アルキ
ニル基は、置換基がアルキニル基の水素原子と置き換わ
り、結合したものであり、この置換基としては、上述の
置換アルキル基における置換基が用いられ、一方アルキ
ニル基は上述のアルキニル基を用いることができる。
【0028】ヘテロ環基とは、ヘテロ環上の水素を1つ
除した一価の基及びこの一価の基からさらに水素を1つ
除し、上述の置換アルキル基における置換基が結合して
できた一価の基(置換ヘテロ環基)である。好ましいヘ
テロ環の例としては、
【0029】
【化3】
【0030】
【化4】
【0031】等をあげることができる。
【0032】置換オキシ基(R5O−)としては、R5
水素を除く一価の非金属原子団であるものを用いること
ができる。好ましい置換オキシ基としては、アルコキシ
基、アリーロキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオ
キシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリ
ールカルバモイルオキシ基、N,N−ジアルキルカルバ
モイルオキシ基、N,N−ジアリールカルバモイルオキ
シ基、N−アルキル−N−アリールカルバモイルオキシ
基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、ホ
スホノオキシ基、ホスホナトオキシ基をあげる事ができ
る。これらにおけるアルキル基、ならびにアリール基と
しては前述のアルキル基、置換アルキル基ならびに、ア
リール基、置換アリール基として示したものをあげる事
ができる。また、アシルオキシ基におけるアシル基(R
6CO−)としては、R6が、前述のアルキル基、置換ア
ルキル基、アリール基ならびに置換アリール基のものを
あげることができる。これらの置換基の中では、アルコ
キシ基、アリーロキシ基、アシルオキシ基、アリールス
ルホキシ基、がより好ましい。好ましい置換オキシ基の
具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオ
キシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、ペン
チルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ドデシルオキシ基、
ベンジルオキシ基、アリルオキシ基、フェネチルオキシ
基、カルボキシエチルオキシ基、メトキシカルボニルエ
チルオキシ基、エトキシカルボニルエチルオキシ基、メ
トキシエトキシ基、フェノキシエトキシ基、メトキシエ
トキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、モル
ホリノエトキシ基、モルホリノプロピルオキシ基、アリ
ロキシエトキシエトキシ基、フェノキシ基、トリルオキ
シ基、キシリルオキシ基、メシチルオキシ基、クメニル
オキシ基、メトキシフェニルオキシ基、エトキシフェニ
ルオキシ基、クロロフェニルオキシ基、ブロモフェニル
オキシ基、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ナ
フチルオキシ基、フェニルスルホニルオキシ基、ホスホ
ノオキシ基、ホスホナトオキシ等が挙げられる。
【0033】置換チオ基(R7S−)としてはR7が水素
を除く一価の非金属原子団のものを使用できる。好まし
い置換チオ基の例としては、アルキルチオ基、アリール
チオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アシル
チオ基をあげることができる。これらにおけるアルキル
基、アリール基としては前述のアルキル基、置換アルキ
ル基、ならびにアリール基、置換アリール基として示し
たものをあげることができ、アシルチオ基におけるアシ
ル基(R6CO−)のR6は前述のとおりである。これら
の中ではアルキルチオ基、ならびにアリールチオ基がよ
り好ましい。好ましい置換チオ基の具体例としては、メ
チルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、エトキシ
エチルチオ基、カルボキシエチルチオ基、メトキシカル
ボニルチオ基等があげられる。
【0034】置換アミノ基(R8NH−,(R9
(R10)N−)としては、R8,R9,R10が水素を除く
一価の非金属原子団のものを使用できる。置換アミノ基
の好ましい例としては、N−アルキルアミノ基、N,N
−ジアルキルアミノ基、N−アリールアミノ基、N,N
−ジアリールアミノ基、N−アルキル−N−アリールア
ミノ基、アシルアミノ基、N−アルキルアシルアミノ
基、N−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、N′−
アルキルウレイド基、N′,N′−ジアルキルウレイド
基、N′−アリールウレイド基、N′,N′−ジアリー
ルウレイド基、N′−アルキル−N′−アリールウレイ
ド基、N−アルキルウレイド基、N−アリールウレイド
基、N′−アルキル−N−アルキルウレイド基、N′−
アルキル−N−アリールウレイド基、N′,N′−ジア
ルキル−N−アルキルウレイド基、N′,N′−ジアル
キル−N−アリールウレイド基、N′−アリール−N−
アルキルウレイド基、N′−アリール−N−アリールウ
レイド基、N′,N′−ジアリール−N−アルキルウレ
イド基、N′,N′−ジアリール−N−アリールウレイ
ド基、N′−アルキル−N′−アリール−N−アルキル
ウレイド基、N′−アルキル−N′−アリール−N−ア
リールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、ア
リーロキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−ア
ルコキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アリ
ーロキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アル
コキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アリー
ロキシカルボニルアミノ基があげられる。これらにおけ
るアルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、
置換アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基
として示したものをあげることができ、アシルアミノ
基、N−アルキルアシルアミノ基、N−アリールアシル
アミノ基におけるアシル基(R6CO−)のR6は前述の
とおりである。これらの内、より好ましいものとして
は、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ
基、N−アリールアミノ基、アシルアミノ基、があげら
れる。好ましい置換アミノ基の具体例としては、メチル
アミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、モルホ
リノ基、ピペリジノ基、ピロリジノ基、フェニルアミノ
基、ベンゾイルアミノ基、アセチルアミノ基等があげら
れる。
【0035】置換カルボニル基(R11−CO−)として
は、R11が一価の非金属原子団のものを使用できる。置
換カルボニル基の好ましい例としては、ホルミル基、ア
シル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、ア
リーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキ
ルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル
基、N−アリールカルバモイル基、N,N−ジアリール
カルバモイル基、N−アルキル−N−アリールカルバモ
イル基があげられる。これらにおけるアルキル基、アリ
ール基としては前述のアルキル基、置換アルキル基、な
らびにアリール基、置換アリール基として示したものを
あげることができる。これらの内、より好ましい置換基
としては、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、ア
ルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カ
ルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−
ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル
基、があげられ、更により好ましいものとしては、ホル
ミル基、アシル基、アルコキシカルボニル基ならびにア
リーロキシカルボニル基があげられる。好ましい置換基
の具体例としては、ホルミル基、アセチル基、ベンゾイ
ル基、カルボキシル基、メトキシカルボニル基、アリル
オキシカルボニル基、N−メチルカルバモイル基、N−
フェニルカルバモイル基、N,N−ジエチルカルバモイ
ル基、モルホリノカルボニル基等があげられる。
【0036】置換スルフィニル基(R12−SO−)とし
てはR12が一価の非金属原子団のものを使用できる。好
ましい例としては、アルキルスルフィニル基、アリール
スルフィニル基、スルフィナモイル基、N−アルキルス
ルフィナモイル基、N,N−ジアルキルスルフィナモイ
ル基、N−アリールスルフィナモイル基、N,N−ジア
リールスルフィナモイル基、N−アルキル−N−アリー
ルスルフィナモイル基があげられる。これらにおけるア
ルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、置換
アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基とし
て示したものをあげることができる。これらの内、より
好ましい例としてはアルキルスルフィニル基、アリール
スルフィニル基、があげられる。このような置換スルフ
ィニル基の具体例としては、へキシルスルフィニル基、
ベンジルスルフィニル基、トリルスルフィニル基等があ
げられる。
【0037】置換スルホニル基(R13−SO2−)とし
ては、R13が一価の非金属原子団のものを使用できる。
より好ましい例としては、アルキルスルホニル基、アリ
ールスルホニル基をあげることができる。これらにおけ
るアルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、
置換アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基
として示したものをあげることができる。このような、
置換スルホニル基の具体例としては、ブチルスルホニル
基、クロロフェニルスルホニル基等があげられる。
【0038】スルホナト基(−SO3 -)は前述のとお
り、スルホ基(−SO3H)の共役塩基陰イオン基を意
味し、通常は対陽イオンと共に使用されるのが好まし
い。このような対陽イオンとしては、一般に知られるも
の、すなわち、種々のオニウム類(アンモニウム類、ス
ルホニウム類、ホスホニウム類、ヨードニウム類、アジ
ニウム類等)、ならびに金属イオン類(Na+、K+、C
2+、Zn2+等)があげられる。
【0039】カルボキシラート基(−CO2 - )は前述
のとおり、カルボキシル基(CO2H)の共役塩基陰イ
オン基を意味し、通常は対陽イオンと共に使用されるの
が好ましい。このような対陽イオンとしては、一般に知
られるもの、すなわち、種々のオニウム類(アンモニウ
ム類、スルホニウム類、ホスホニウム類、ヨードニウム
類、アジニウム類等)、ならびに金属イオン類(N
+、K+、Ca2+、Zn2+等)があげられる。
【0040】置換ホスホノ基とはホスホノ基上の水酸基
の一つもしくは二つが他の有機オキソ基によって置換さ
れたものを意味し、好ましい例としては、前述のジアル
キルホスホノ基、ジアリールホスホノ基、アルキルアリ
ールホスホノ基、モノアルキルホスホノ基、モノアリー
ルホスホノ基があげられる。これらの中ではジアルキル
ホスホノ基、ならびにジアリールホスホノ基がより好ま
しい。このような具体例としては、ジエチルホスホノ
基、ジブチルホスホノ基、ジフェニルホスホノ基等があ
げられる。
【0041】ホスホナト基(−PO3 2-、−PO3-
とは前述のとおり、ホスホノ基(−PO32)の、酸第
一解離もしくは、酸第二解離に由来する共役塩基陰イオ
ン基を意味する。通常は対陽イオンと共に使用されるの
が好ましい。このような対陽イオンとしては、一般に知
られるもの、すなわち、種々のオニウム類(アンモニウ
ム類、スルホニウム類、ホスホニウム類、ヨードニウム
類:アジニウム類、等)、ならびに金属イオン類(Na
+、K+、Ca2+、Zn2+等)があげられる。
【0042】置換ホスホナト基とは前述の置換ホスホノ
基の内、水酸基を一つ有機オキソ基に置換したものの共
役塩基陰イオン基であり、具体例としては、前述のモノ
アルキルホスホノ基(−PO3H(alkyl))、モ
ノアリールホスホノ基(−PO3H(aryl))の共
役塩基をあげることができる。通常は対陽イオンと共に
使用されるのが好ましい。このような対陽イオンとして
は、一般に知られるもの、すなわち、種々のオニウム類
(アンモニウム類、スルホニウム類、ホスホニウム類、
ヨードニウム類、アジニウム類、等)、ならびに金属イ
オン類(Na+、K+、Ca2+、Zn2+等)があげられ
る。
【0043】次に、R1とR2、R2とR3が互いに結合し
て環を形成する場合の例を示す。R 1とR2、R2とR3
互いに結合して形成する脂肪族環としては、5員環、6
員環、7員環及び8員環の脂肪族環をあげることがで
き、より好ましくは、5員環、6員環の脂肪族環をあげ
ることができる。これらは更に、これらを構成する炭素
原子上に置換基を有していても良く(置換基の例として
は、前述の置換アルキル基上の置換基をあげることがで
きる)、また、環構成炭素の一部が、ヘテロ原子(酸素
原子、硫黄原子、窒素原子等)で置換されていても良
い。また更に、この脂肪族環の一部が芳香族環の一部を
形成していても良い。
【0044】また上記オキシムエーテル化合物はより好
ましくは以下の一般式〔II〕で表されるα−置換ケトオ
キシムエーテル化合物である。
【0045】
【化5】
【0046】式中、R2及びR3は互いに同一または異な
り、置換基を有していても良く、かつ、不飽和結合を含
んでいても良い炭化水素基、又は、ヘテロ環基を表す。
また、R2、R3は互いに結合して環を形成していてもよ
い。R14及びR15は互いに同一または異なり、水素原
子、置換基を有していても良く、かつ、不飽和結合を含
んでいても良い炭化水素基、ヘテロ環基、ヒドロキシル
基、置換オキシ基、メルカプト基、置換チオ基、アミノ
基、置換アミノ基を表す。また、R14及びR15は互いに
結合して環を形成し、
【0047】
【化6】
【0048】を環の連結主鎖に含んでいても良い炭素数
2から8のアルキレン基を表す。R16は水素原子、置換
基を有していても良く、かつ、不飽和結合を含んでいて
も良い炭化水素基、或いは置換カルボニル基を表す。X
は水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していても良
く、かつ、不飽和結合を含んでいても良い炭化水素基、
ヒドロキシル基、置換オキシ基、メルカプト基、置換チ
オ基、アミノ基、置換アミノ基、置換カルボニル基、カ
ルボキシラート基、スルホ基、スルホナト基、置換スル
フィニル基、置換スルホニル基、ホスホノ基、置換ホス
ホノ基、ホスホナト基、置換ホスホナト基、シアノ基、
或いはニトロ基を表す。
【0049】上記オキシムエーテル化合物は、更に好ま
しくは以下の一般式〔III〕で表されるα−アミノケト
オキシムエーテル化合物である。
【0050】
【化7】
【0051】式中、R2、R3、R14、R15は上記と同一
の意味を有する。R17及びR18は互いに同一または異な
り、水素原子、置換基を有していても良く、かつ、不飽
和結合を含んでいても良い炭化水素基を表す。また、R
17、R18は互いに結合して環を形成し、
【0052】
【化8】
【0053】を連結主鎖に含んでいても良い炭素数2か
ら8のアルキレン基を表す。R19は水素原子、置換基を
有していても良く不飽和結合を含んでいても良い炭化水
素基、或いは置換カルボニル基を表す。さらに上記ケト
オキシムエーテルは、最も好ましくは以下の一般式〔I
V〕で表されるα−アミノケトオキシムエーテル化合物
である。
【0054】
【化9】
【0055】式中、R2、R14、R15、R17及びR18
上記と同一の意味を有する。Yは置換基を有していても
良く不飽和結合を含んでいても良い炭化水素連結基(炭
化水素基の水素の1つを除した2価の基)を表す。Zは
酸第1解離でのpKaが0以上16以下の酸基及びその
酸基の前駆体及びその酸基の共役塩基基、或いはその酸
基の解離する水素原子を置換基を有していても良い炭化
水素基で置き換えた基(置換酸基と称する)を表す。
【0056】このような酸基、及び前駆体、共役塩基
基、置換酸基の中でも特に好ましい基としては、例え
ば、上述のヒドロキシル基、置換オキシ基、メルカプト
基、置換カルボニル基、カルボキシラート基、スルホ
基、スルホナト基、スルファモイル基及びその共役塩基
基、N−アルキルスルファモイル基及びその共役塩基
基、N−アリールスルファモイル基及びその共役塩基
基、N−アシルスルファモイル基及びその共役塩基基、
N−アルキルスルホニルスルファモイル基及びその共役
塩基基、N−アリールスルホニルスルファモイル基及び
その共役塩基基、N−アルキルスルホニルカルバモイル
基及びその共役塩基基、N−アリールスルホニルカルバ
モイル基及びその共役塩基基、ホスホノ基、置換ホスホ
ノ基、ホスホナト基、置換ホスホナト基、シアノ基、ア
ルコキシシリル基、アリーロキシシリル基、ヒドロキシ
シリル基及びその共役塩基基等を挙げることができる。
【0057】以下、化合物例を示すが、これに制約を受
けるものではない。一般式〔II〕で表されるケトオキシ
ムエーテル化合物の好ましい具体例は
【0058】
【化10】
【0059】
【化11】
【0060】
【化12】
【0061】一般式〔III〕で表されるα−アミノケト
オキシムエーテル化合物の好ましい具体例としては、
【0062】
【化13】
【0063】
【化14】
【0064】
【化15】
【0065】
【化16】
【0066】
【化17】
【0067】
【化18】
【0068】
【化19】
【0069】一般式〔IV〕で表されるα−アミノケトオ
キシムエーテル化合物の好ましい具体例としては、
【0070】
【化20】
【0071】
【化21】
【0072】
【化22】
【0073】
【化23】
【0074】
【化24】
【0075】
【化25】
【0076】
【化26】
【0077】
【化27】
【0078】
【化28】
【0079】
【化29】
【0080】等を挙げることができる。本発明の光重合
性組成物に用いられる一般式〔I〕又は一般式〔II〕、
〔III〕もしくは〔IV〕の上記オキシムエーテル化合物
は、単独、或いは2種以上を併用してもよい。また、一
般式[I] 〜[IV]の化合物は光重合性組成物の全成分に対
して、通常0.05〜50%、好ましくは0.5〜35
%、更に好ましくは、1〜25%の量が使用される。こ
の量が50%より多いと塗膜形成不良(ひびわれ)とな
り、0.05%より少ないと硬化不良となって好ましく
ない。
【0081】さらに本発明の感光性組成物には、成分ii
i)として既に公知の光重合開始剤を共存させることが好
ましい。好ましい光重合開始剤としては(a)芳香族ケ
トン類、(b)芳香族オニウム塩化合物、(c)有機過
酸化物、(d)チオ化合物、(e)ヘキサアリールビイ
ミダゾール化合物、(f)ケトオキシムエステル化合
物、(g)ボレート化合物、(h)アジニウム化合物、
(i)メタロセン化合物、(j)活性エステル化合物、
(k)炭素ハロゲン結合を有する化合物等が挙げられ
る。
【0082】成分iii)の一例である(a)芳香族ケトン
類の好ましい例としては、「RADIATION CURING IN POLY
MER SCIENCE AND TECHNOLOGY」J.P.FOUASSIER J.F.RABE
K (1993)、p77〜117記載のベンゾフェノン骨格或いはチ
オキサントン骨格を有する化合物、例えば
【0083】
【化30】
【0084】
【化31】
【0085】
【化32】
【0086】等が挙げられる。より好ましい(a)芳香
族ケトン類の例としては、特公昭47−6416記載の
α−チオベンゾフェノン化合物、特公昭47−3981
記載のベンゾインエーテル化合物、例えば
【0087】
【化33】
【0088】特公昭47−22326記載のα−置換ベ
ンゾイン化合物、例えば
【0089】
【化34】
【0090】特公昭47−23664記載のベンゾイン
誘導体、特開昭57−30704記載のアロイルホスホ
ン酸エステル、特公昭60−26483記載のジアルコ
キシベンゾフェノン、例えば
【0091】
【化35】
【0092】特公昭60−26403、特開昭62−8
1345記載のベンゾインエーテル類、例えば、
【0093】
【化36】
【0094】特公平1−34242、米国特許第4,3
18,791号、ヨーロッパ特許0284561A1号
記載のα−アミノベンゾフェノン類、例えば
【0095】
【化37】
【0096】特開平2−211452記載のp−ジ(ジ
メチルアミノベンゾイル)ベンゼン、例えば
【0097】
【化38】
【0098】特開昭61−194062記載のチオ置換
芳香族ケトン、例えば、
【0099】
【化39】
【0100】特公平2−9597記載のアシルホスフィ
ンスルフィド、例えば、
【0101】
【化40】
【0102】特公平2−9596記載のアシルホスフィ
ン、例えば、
【0103】
【化41】
【0104】特公昭63−61950記載のチオキサン
トン類、特公昭59−42864記載のクマリン類等を
挙げることができる。また、成分iii)の別の例である
(b)芳香族オニウム塩としては、周期律表の第V、VI
およびVII族の元素、具体的にはN、P、As、Sb、
Bi、O、S、Se、Te、またはIの芳香族オニウム
塩が含まれる。このような芳香族オニウム塩の例として
は、特公昭52−14277号、特公昭52−1427
8号、特公昭52−14279号に示されている化合物
を挙げることができる。
【0105】具体的には、
【0106】
【化42】
【0107】
【化43】
【0108】
【化44】
【0109】
【化45】
【0110】をあげることができる。本発明に使用され
る成分iii)の他の例である(c)「有機過酸化物」とし
ては分子中に酸素−酸素結合を1個以上有する有機化合
物のほとんど全てが含まれるが、その例としては、メチ
ルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパー
オキサイド、3,3,5−トリメチルシクロヘキサノン
パーオキサイド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイ
ド、アセチルアセトンパーオキサイド、1,1−ビス
(ターシャリイブチルパーオキシ)−3,3,5−トリ
メチルシクロヘキサン、1,1−ビス(ターシャリイブ
チルパーオキシ)シクロヘキサン、2,2−ビス(ター
シャリイブチルパーオキシ)ブタン、ターシャリイブチ
ルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサ
イド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイ
ド、パラメタンハイドロパーオキサイド、2,5−ジメ
チルヘキサン−2,5−ジハイドロパーオキサイド、
1,1,3,3−テトラメチルブチルハイドロパーオキ
サイド、ジターシャリイブチルパーオキサイド、ターシ
ャリイブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキ
サイド、ビス(ターシャリイブチルパーオキシイソプロ
ピル)ベンゼン、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ター
シャリイブチルパーオキシ)ヘキサン、2,5−キサノ
イルパーオキサイド、過酸化こはく酸、過酸化ベンゾイ
ル、2,4−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、メタ
−トルオイルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキ
シジカーボネート、ジ−2−エチルヘキシルパーオキシ
ジカーボネート、ジ−2−エトキシエチルパーオキシジ
カーボネート、ジメトキシイソプロピルパーオキシカー
ボネート、ジ(3−メチル−3−メトキシブチル)パー
オキシジカーボネート、ターシャリイブチルパーオキシ
アセテート、ターシャリイブチルパーオキシピバレー
ト、ターシャリイブチルパーオキシネオデカノエート、
ターシャリイブチルパーオキシオクタノエート、ターシ
ャリイブチルパーオキシ−3,5,5−トリメチルヘキ
サノエート、ターシャリイブチルパーオキシラウレー
ト、ターシャリーカーボネート、3,3′4,4′−テ
トラ−(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェ
ノン、3,3′4,4′−テトラ−(t−アミルパーオ
キシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′4,4′−
テトラ−(t−ヘキシルパーオキシカルボニル)ベンゾ
フェノン、3,3′4,4′−テトラ−(t−オクチル
パーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′4,
4′−テトラ−(クミルパーオキシカルボニル)ベンゾ
フェノン、3,3′4,4′−テトラ−(p−イソプロ
ピルクミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、カ
ルボニルジ(t−ブチルパーオキシ二水素二フタレー
ト)、カルボニルジ(t−ヘキシルパーオキシ二水素二
フタレート)等がある。
【0111】これらの中で、3,3′4,4′−テトラ
−(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノ
ン、3,3′4,4′−テトラ−(t−アミルパーオキ
シカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′4,4′−テ
トラ−(t−ヘキシルパーオキシカルボニル)ベンゾフ
ェノン、3,3′4,4′−テトラ−(t−オクチルパ
ーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′4,
4′−テトラ−(クミルパーオキシカルボニル)ベンゾ
フェノン、3,3′4,4′−テトラ−(p−イソプロ
ピルクミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、ジ
−t−ブチルジパーオキシイソフタレートなどの過酸化
エステル系が好ましい。
【0112】本発明で使用される成分iii)としての
(d)チオ化合物は、下記一般式〔V〕で示される。
【0113】
【化46】
【0114】(ここで、R20はアルキル基、アリール基
または置換アリール基を示し、R21は水素原子またはア
ルキル基を示す。また、R20とR21は、互いに結合して
酸素、硫黄および窒素原子から選ばれたヘテロ原子を含
んでもよい5員ないし7員環を形成するのに必要な非金
属原子群を示す。)上記一般式〔II〕におけるR20のア
ルキル基としては炭素原子数1〜4個のものが好まし
い。またR21のアリール基としてはフェニル、ナフチル
のような炭素原子数6〜10個のものが好ましく、置換
アリール基としては、上記のようなアリール基に塩素原
子のようなハロゲン原子、メチル基のようなアルキル
基、メトシキ基、エトキシ基のようなアルコキシ基で置
換されたものが含まれる。
【0115】R21は、好ましくは炭素原子数1〜4個の
アルキル基である。一般式〔V〕で示されるチオ化合物
の具体例としては、下記に示すような化合物が挙げられ
る。
【0116】
【表1】
【0117】本発明に使用される成分iii)の他の例であ
る(e)ヘキサアリールビイミダゾールとしては、特公
昭45−37377号、特公昭44−86516号記載
のロフィンダイマー類、例えば 2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,4′,
5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−
ビス(o−ブロモフェニル)−4,4′,5,5′−テ
トラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o,p
−ジクロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフ
ェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−クロロフ
ェニル)−4,4′,5,5′−テトラ(m−メトキシ
フェニル)ビイミダゾール、2,2′−ビス(o,o′
−ジクロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフ
ェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−ニトロフ
ェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミ
ダゾール、2,2′−ビス(o−メチルフェニル)−
4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、
2,2′−ビス(o−トリフルオロフェニル)−4,
4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール等が挙
げられる。
【0118】本発明で使用される成分iii)の他の例であ
る(f)ケトオキシムエステルとしては 3−ベンゾイロキシイミノブタン−2−オン、3−アセ
トキシイミノブタン−2−オン、3−プロピオニルオキ
シイミノブタン−2−オン、2−アセトキシイミノペン
タン−3−オン、2−アセトキシイミノ−1−フェニル
プロパン−1−オン、2−ベンゾイロキシイミノ−1−
フェニルプロパン−1−オン、3−p−トルエンスルホ
ニルオキシイミノブタン−2−オン、2−エトキシカル
ボニルオキシイミノ−1−フェニルプロパン−1−オン
等が挙げられる。
【0119】本発明における成分iii)の他の例である
(g)ボレート塩の例としては下記一般式〔VI〕で表
わされる化合物をあげる事ができる。
【0120】
【化47】
【0121】(ここで、R22、R23、R24およびR25
互いに同一でも異なっていてもよく、各々置換もしくは
非置換のアルキル基、置換もしくは非置換のアリール
基、置換もしくは非置換のアルケニル基、置換もしくは
非置換のアルキニル基、又は置換もしくは非置換の複素
環基を示し、R22、R23、R24およびR25はその2個以
上の基が結合して環状構造を形成してもよい。ただし、
22、R23、R24およびR 25のうち、少なくとも1つは
置換もしくは非置換のアルキル基である。Z+はアルカ
リ金属オチオンまたは第4段アンモニウムカチオンを示
す)。
【0122】上記R22〜R25のアルキル基としては、直
鎖、分枝、環状のものが含まれ、炭素原子数1〜18の
ものが好ましい。具体的にはメチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、オク
チル、ステアリル、シクロブチル、シクロペンチル、シ
クロヘキシルなどが含まれる。また置換アルキル基とし
ては、上記のようなアルキル基に、ハロゲン原子(例え
ば−Cl、−Brなど)、シアノ基、ニトロ基、アリー
ル基(好ましくはフェニル基)、ヒドロキシ基、
【0123】
【化48】
【0124】(ここでR26、R27は独立して水素原子、
炭素数1〜14のアルキル基、又はアリール基を示
す。)、−COOR28(ここでR28は水素原子、炭素数
1〜14のアルキル基、又はアリール基を示す。)、−
OCOR29又は−OR30(ここでR 29、R30は炭素数1
〜14のアルキル基、又はアリール基を示す。)を置換
基として有するものが含まれる。
【0125】上記R22〜R25のアリール基としては、フ
ェニル基、ナフチル基などの1〜3環のアリール基が含
まれ、置換アリール基としては、上記のようなアリール
基に前述の置換アルキル基の置換基又は、炭素数1〜1
4のアルキル基を有するものが含まれる。上記R22〜R
25のアルケニル基としては、炭素数2〜18の直鎖、分
枝、環状のものが含まれ。置換アルケニル基の置換基と
しては、前記の置換アルキル基の置換基として挙げたも
のが含まれる。
【0126】上記R22〜R25のアルキニル基としては、
炭素数2〜28の直鎖又は分枝のものが含まれ、置換ア
ルキニル基の置換基としては、前記置換アルキル基の置
換基として挙げたものが含まれる。また、上記R22〜R
25の複素環基としてはN、SおよびOの少なくとも1つ
を含む5員環以上、好ましくは5〜7員環の複素環基が
挙げられ、この複素環基には縮合環が含まれていてもよ
い。更に置換基として前述の置換アリール基の置換基と
して挙げたものを有していてもよい。
【0127】一般式(VI)で示される化合物例としては
具体的には米国特許3,567,453号、同4,34
3,891号、ヨーロッパ特許109,772号、同1
09,773号に記載されている化合物および以下に示
すもの、が挙げられる。
【0128】
【化49】
【0129】本発明の成分iii)の他の例である(h)ア
ジニウム塩化合物の例としては、特開昭63−1383
45号、特開昭63−142345号、特開昭63−1
42346号、特開昭63−143537号ならびに特
公昭46−42363号記載のN−O結合を有する化合
物群をあげることができる。成分iii)の他の例である
(i)メタロセン化合物の例としては、特開昭59−1
52396号、特開昭61−151197号、特開昭6
3−41484号、特開平2−249号、特開平2−4
705号記載のチタノセン化合物ならびに、特開平1−
304453号、特開平1−152109号記載の鉄−
アレーン錯体をあげることができる。
【0130】成分iii)の他の例である(j)活性エステ
ル化合物の例としては特公昭62−6223記載のイミ
ドスルホネート化合物、特公昭63−14340号、特
開昭59−174831号記載の活性スルホネート類を
あげることができる。
【0131】成分iii)の一例である(k)炭素ハロゲン
結合を有する化合物の好ましい例としては、下記一般式
〔VII〕から〔XIII〕のものを挙げることができる。
【0132】
【化50】
【0133】(式中、X2はハロゲン原子を表わす。Y2
は−CX2、−NH2、−NHR32−NR32、−OR32
表わす。ここでR32はアルキル基、置換アルキル基、ア
リール基、置換アリール基を表わす。またR31は−CX
2、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換ア
リール基、置換アルケニル基、を表わす。)で表わされ
る化合物。
【0134】
【化51】
【0135】(ただし、R33は、アルキル基、置換アル
キル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アリール
基、置換アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、置
換アルコキシル基、ニトロ基又はシアノ基であり、X2
はハロゲン原子であり、nは1〜3の整数である。)で
表わされる化合物。
【0136】
【化52】
【0137】(ただし、R34は、アリール基又は置換ア
リール基であり、R35
【0138】
【化53】
【0139】又はハロゲンであり、Z2は−C(=O)
−、−C(=S)−又は−SO2−であり、R36、R37
はアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換ア
ルケニル基、アリール基又は置換アリール基であり、R
38は一般式〔VII〕中のR32と同じであり、X3はハロゲ
ン原子であり、mは1又は2である。)で表わされる化
合物。
【0140】
【化54】
【0141】ただし、式中、R39は置換されていてもよ
いアリール基又は複素環式基であり、R40は炭素原子1
〜3個を有するトリハロアルキル基又はトリハロアルケ
ニル基であり、pは1、2又は3である。
【0142】
【化55】
【0143】(ただし、Lは水素原子又は式:CO−
(R41q(CX3 4rの置換基であり、Qはイオウ、セ
レン又は酸素原子、ジアルキルメチレン基、アルケン−
1,2−イレン基、1,2−フェニレン基又はN−R基
であり、Mは置換又は非置換のアルキレン基又はアルケ
ニレン基であるか、又は1,2−アリーレン基であり、
42はアルキル基、アラルキル基又はアルコキシアルキ
ル基であり、R41は炭素環式又は複素環式の2価の芳香
族基であり、X4は塩素、臭素またはヨウ素原子であ
り、q=0及びr=1であるか又はq=1及びr=1又
は2である。)で表わされる、トリハロゲノメチル基を
有するカルボニルメチレン複素環式化合物。
【0144】
【化56】
【0145】(ただし、X5はハロゲン原子であり、t
は1〜3の整数であり、sは1〜4の整数であり、R43
は水素原子又はCH3-t5 t基であり、R44はs価の置
換されていてもよい不飽和有機基である)で表わされ
る、4−ハロゲノ−5−(ハロゲノメチル−フェニル)
−オキサゾール誘導体。
【0146】
【化57】
【0147】(ただし、X6はハロゲン原子であり、v
は1〜3の整数であり、uは1〜4の整数であり、R45
は水素原子又はCH3-v6 v基であり、R46はu価の置
換されていてもよい不飽和有機基である。)で表わされ
る、2−(ハロゲノメチル−フェニル)−4−ハロゲノ
−オキサゾール誘導体。
【0148】このような炭素−ハロゲン結合を有する化
合物の具体例としては、たとえば、若林ら著、Bull. Ch
em. Soc. Japan,42、2924(1969)記載の化
合物、たとえば、2−フェニル4,6−ビス(トリクロ
ルメチル)−S−トリアジン、2−(p−クロルフェニ
ル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリア
ジン、2−(p−トリル)−4,6−ビス(トリクロル
メチル)−S−トリアジン、2−(p−メトキシフェニ
ル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリア
ジン、2−(2′,4′−ジクロルフェニル)−4,6
−ビス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2,
4,6−トリス(トリクロルメチル)−S−トリアジ
ン、2−メチル−4,6−ビス(トリクロルメチル)−
S−トリアジン、2−n−ノニル−4,6−ビス(トリ
クロルメチル)−S−トリアジン、2−(α,α,β−
トリクロルエチル)−4,6−ビス(トリクロルメチ
ル)−S−トリアジン等が挙げられる。その他、英国特
許1388492号明細書記載の化合物、たとえば、2
−スチリル−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−
トリアジン、2−(p−メチルスチリル)−4,6−ビ
ス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2−(p−
メトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロルメチ
ル)−S−トリアジン、2−(p−メトキシスチリル)
−4−アミノ−6−トリクロルメチル−S−トリアジン
等、特開昭53−133428号記載の化合物、たとえ
ば、2−(4−メトキシ−ナフト−1−イル)−4,6
−ビス−トリクロルメチル−S−トリアジン、2−(4
−エトキシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス−トリ
クロルメチル−S−トリアジン、2−〔4−(2−エト
キシエチル)−ナフト−1−イル〕−4,6−ビス−ト
リクロルメチル−S−トリアジン、2−(4,7−ジメ
トキシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス−トリクロ
ルメチル−S−トリアジン)、2−(アセナフト−5−
イル)−4,6−ビス−トリクロルメチル−S−トリア
ジン等、独国特許3337024号明細書記載の化合
物、たとえば、
【0149】
【化58】
【0150】
【化59】
【0151】等を挙げることができる。また、F. C. Sc
haefer等によるJ. Org. Chem. 29、1527(196
4)記載の化合物、たとえば2−メチル−4,6−ビス
(トリブロムメチル)−S−トリアジン、2,4,6−
トリス(トリブロムメチル)−S−トリアジン、2,
4,6−トリス(ジブロムメチル)−S−トリアジン、
2−アミノ−4−メチル−6−トリブロムメチル−S−
トリアジン、2−メトキシ−4−メチル−6−トリクロ
ルメチル−S−トリアジン等を挙げることができる。
【0152】さらに特開昭62−58241号記載の化
合物、たとえば、
【0153】
【化60】
【0154】
【化61】
【0155】等を挙げることができる。更に特開平5−
281728号記載の化合物、例えば、
【0156】
【化62】
【0157】等を挙げることができる。あるいはさらに
M. P. Hutt、E. F. ElslagerおよびL. M. Herbel著「Jo
urnalof Heterocyclic chemistry」第7巻(No.
3)、第511頁以降(1970年)に記載されている
合成方法に準じて、当業者が容易に合成することができ
る次のような化合物群
【0158】
【化63】
【0159】
【化64】
【0160】
【化65】
【0161】
【化66】
【0162】
【化67】
【0163】
【化68】
【0164】あるいは、ドイツ特許第2641100号
に記載されているような化合物、例えば、4−(4−メ
トキシ−スチリル)−6−(3,3,3−トリクロルプ
ロペニル)−2−ピロンおよび4−(3,4,5−トリ
メトキシ−スチリル)−6−トリクロルメチル−2−ピ
ロン、あるいはドイツ特許第3333450号に記載さ
れている化合物、例えば、
【0165】
【化69】
【0166】
【表2】
【0167】あるいはドイツ特許第3021590号に
記載の化合物群、
【0168】
【化70】
【0169】
【化71】
【0170】あるいはドイツ特許第3021599号に
記載の化合物群例えば、
【0171】
【化72】
【0172】を挙げることができる。本発明における成
分iii)のさらにより好ましい例としては、上述の(c)
有機過酸化物、(e)ヘキサアリールビイミダゾール化
合物、(i)メタロセン化合物、(k)炭素ハロゲン結
合を有する化合物をあげることができ、さらに最も好ま
しい例としては、一般式〔VII〕であらわされるトリハ
ロメチル−S−トリアジン化合物をあげる事ができる。
【0173】本発明における成分iii)は単独もしくは2
種以上の併用によって好適に用いられる。さらに本発明
の感光性組成物には成分iv)として既に公知の分光増感
色素又は染料を共存させることが好ましい。好ましい分
光増感色素又は染料の例としては多核芳香族類(例え
ば、ピレン、ペリレン、トリフェニレン) キサンテン類(例えば、フルオレッセイン、エオシン、
エリスロシン、ローダミンB、ローズベンガル シアニン類(例えば、チアカルボシアニン、オキサカル
ボシアニン) メロシアニン類(例えば、メロシアニン、カルボメロシ
アニン) チアジン類(例えば、チオニン、メチレンブルー、トル
イジンブルー) アクリジン類(例えば、アクリジンオレンジ、クロロフ
ラビン、アクリフラビン) フタロシアニン類(例えば、フタロシアニン、メタルフ
タロシアニン) ポリフィリン類(例えば、テトラフェニルポルフィリ
ン、メタルポルフィリン) クロロフィル類(例えば、クロロフィル、クロロフィリ
ン、中心金属置換クロロフィル) 金属錯体、例えば
【0174】
【化73】
【0175】アントラキノン類、例えば(アントラキノ
ン) スクアリウム類、例えば(スクアリウム)等が挙げられ
る。より好ましい成分iv)分光増感色素又は染料の例と
しては特公平37−13034号記載のスチリル系色
素、例えば、
【0176】
【化74】
【0177】特開昭62−143044号記載の陽イオ
ン染料、例えば、
【0178】
【化75】
【0179】特公昭59−24147号記載のキノキサ
リニウム塩、例えば、
【0180】
【化76】
【0181】特開昭64−33104号記載の新メチレ
ンブルー化合物、例えば、
【0182】
【化77】
【0183】特開昭64−56767号記載のアントラ
キノン類、例えば
【0184】
【化78】
【0185】特開平2−1714号記載のベンゾキサン
テン染料。特開平2−226148号及び特開平2−2
26149号記載のアクリジン類、例えば、
【0186】
【化79】
【0187】特公昭40−28499号記載のピリリウ
ム塩類、例えば、
【0188】
【化80】
【0189】特公昭46−42363号記載のシアニン
類、例えば
【0190】
【化81】
【0191】特開平2−63053号記載のベンゾフラ
ン色素、例えば
【0192】
【化82】
【0193】特開平2−85858号、特開平2−21
6154号の共役ケトン色素、例えば
【0194】
【化83】
【0195】特開昭57−10605号記載の色素。特
公平2−30321号記載のアゾシンナミリデン誘導
体、例えば、
【0196】
【化84】
【0197】特開平1−287105号記載のシアニン
系色素、例えば、
【0198】
【化85】
【0199】特開昭62−31844号、特開昭62−
31848号、特開昭62−143043号記載のキサ
ンテン系色素、例えば、
【0200】
【化86】
【0201】特公昭59−28325号記載のアミノス
チリルケトン、例えば
【0202】
【化87】
【0203】特公昭61−9621号記載の以下の一般
式〔1〕〜〔8〕で表されるメロシアニン色素、例え
ば、
【0204】
【化88】
【0205】一般式〔3〕ないし〔8〕において、X8
は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ
基、アリール基、置換アリール基、アリールオキシ基、
アラルキル基又はハロゲン原子を表わす。一般式〔2〕
においてPhはフェニル基を表わす。一般式〔1〕ない
し〔8〕において、R48、R49およびR50はそれぞれア
ルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、アリール
基、置換アリール基又はアラルキル基を表わし、互いに
等しくても異なってもよい。
【0206】特開平2−179643号記載の以下の一
般式
〔9〕〜〔11〕で表わされる色素、例えば
【0207】
【化89】
【0208】A:酸素原子、イオウ原子、セレン原子、
テルル原子、アルキル又はアリール置換された窒素原子
またはジアルキル置換された炭素原子を表わす。 Y3:水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリー
ル基、置換アリール基、アラルキル基、アシル基、また
は置換アルコキシカルボニル基を表わす。 R51、R52:水素原子、炭素数1〜18のアルキル基、
もしくは置換基として、R53O−、
【0209】
【化90】
【0210】−(CH2CH2O)−R53、ハロゲン原子
(F、Cl、Br、I)を有する炭素数1〜18の置換
アルキル基。但し、R53は水素原子又は炭素数1〜10
のアルキル基を表わし、Bは、ジアルキルアミノ基、水
酸基、アシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表わ
す。wは0〜4の整数、xは1〜20の整数を表わす。
【0211】特開平2−244050号記載の以下の一
般式〔12〕で表されるメロシアニン色素、例えば、
【0212】
【化91】
【0213】(式中R54およびR55は各々独立して水素
原子、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシカルボ
ニル基、アリール基、置換アリール基またはアラルキル
基を表わす。A2は酸素原子、イオウ原子、セレン原
子、テルル原子、アルキルないしはアリール置換された
窒素原子、またはジアルキル置換された炭素原子を表わ
す。X9は含窒素ヘテロ五員環を形成するのに必要な非
金属原子群を表わす。
【0214】Y4は置換フェニル基、無置換ないし置換
された多核芳香環、または無置換ないしは置換されたヘ
テロ芳香環を表わす。Z3は水素原子、アルキル基、置
換アルキル基、アリール基、置換アリール基、アラルキ
ル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ
基、置換アミノ基、アシル基、またはアルコキシカルボ
ニル基を表わし、Y4と互いに結合して環を形成してい
てもよい。
【0215】好ましい具体例としては
【0216】
【化92】
【0217】特公昭59−28326号記載の以下の一
般式〔13〕で表されるメロシアニン色素、例えば、
【0218】
【化93】
【0219】上式において、R56およびR57はそれぞれ
水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、
置換アリール基またはアラルキル基を表わし、それらは
互いに等しくても異ってもよい。X10はハメット(Hamm
ett)のシグマ(σ)値が−0.9から+0.5までの
範囲内の置換基を表わす。特開昭59−89303号記
載の以下の一般式〔14〕で表されるメロシアニン色
素、例えば、
【0220】
【化94】
【0221】(式中R58およびR59は各々独立して水素
原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換
アリール基またはアラルキル基を表わす。Xはハメット
(Hammett)のシグマ(σ)値が−0.9から+0.5
までの範囲内の置換基を表わす。Y5は水素原子、アル
キル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール
基、アラルキル基、アシル基またはアルコキシカルボニ
ル基を表わす。) 好ましい具体例としては、
【0222】
【化95】
【0223】特願平6−269047号記載の以下の一
般式〔15〕で表されるメロシアニン色素、例えば
【0224】
【化96】
【0225】(式中、R1、R2、R3、R4、R9
10、R11、R12はそれぞれ独立して、水素原子、ハロ
ゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、
置換アリール基、ヒドロキシル基、置換オキシ基、メル
カプト基、置換チオ基、アミノ基、置換アミノ基、置換
カルボニル基、スルホ基、スルホナト基、置換スルフィ
ニル基、置換スルホニル基、ホスフォノ基、置換ホスフ
ォノ基、ホスフォナト基、置換ホスフォナト基、シアノ
基、ニトロ基を表すか、もしくは、R1とR2、R2
3、R3とR4、R9とR10、R10とR11、R11とR12
互いに結合して脂肪族又は芳香族環を形成していても良
く、R5は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、ア
リール基、又は置換アリール基を表し、R6は置換、又
は無置換のアルケニルアルキル基、又は置換もしくは無
置換のアルキニルアルキル基を表し、R7、R8はそれぞ
れ独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、置
換アルキル基、アリール基、置換アリール基、置換カル
ボニル基を表す) 好ましい具体例としては
【0226】
【化97】
【0227】等を挙げることができる。本発明における
成分iv)のさらにより好ましい例としては、上述の特公
昭61−9621号記載のメロシアニン色素、特開平2
−179643号記載のメロシアニン色素、特開平2−
244050号記載のメロシアニン色素、特公昭59−
28326号記載のメロシアニン色素、特開昭59−8
9303号記載のメロシアニン色素、特願平6−269
047号記載のメロシアニン色素を挙げることができ
る。
【0228】本発明における成分iv)も単独もしくは2
種以上の併用によって好適に用いられる。さらに本発明
の光重合性組成物には、感度を一層向上させる、あるい
は酸素による重合阻害を抑制する等の作用を有する公知
の化合物を共増感剤として加えても良い。
【0229】この様な共増感剤の例としては、アミン
類、例えばM. R. Sanderら著「Journal of Polymer Soc
iety」第10巻3173頁(1972)、特公昭44−
20189号、特開昭51−82102号、特開昭52
−134692号、特開昭59−138205、特開昭
60−84305号、特開昭62−18537号、特開
昭64−33104号、Research Disclosure 3382
5号記載の化合物、等があげられ、具体的には、トリエ
タノールアミン、p−ジメチルアミノ安息香酸エチルエ
ステル、p−ホルミルジメチルアニリン、p−メチルチ
オジメチルアニリン、等があげられる。
【0230】共増感剤の別の例としてはチオールおよび
スルフィド類、例えば、特開昭53−702号、特公昭
55−500806号、特開平5−142772号記載
のチオール化合物、特開昭56−75643号のジスル
フィド化合物等があげられ、具体的には、2−メルカプ
トベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾー
ル、2−メルカプトベンゾイミダゾール、2−メルカプ
ト−4(3H)−キナゾリン、β−メルカプトナフタレ
ン等があげられる。
【0231】また別の例としては、アミノ酸化合物
(例、N−フェニルグリシン等)、特公昭48−429
65号記載の有機金属化合物(例、トリブチル錫アセテ
ート等)、特公昭55−34414号記載の水素供与
体、特願平5−91089号記載のイオウ化合物(例、
トリチアン等)、特願平5−32147号記載のリン化
合物(ジエチルホスファイト等)、特願平6−1916
05号記載のSi−H、Ge−H化合物等があげられ
る。
【0232】本発明における組成物中の成分ii)、iii)
及びiv)の量はそれぞれ、光重合可能なエチレン性不飽
和化合物と必要に応じて添加されるバインダーとしての
線状有機高分子重合体との合計に対して0.01〜60
wt%、より好ましくは、1〜30wt%の範囲であ
る。本発明に使用される成分ii)と成分iii)の比は成分
ii)のオキシムエーテル1重量部に対し、成分iii)を
0.01〜50重量部使用するのが適当であり、更に好
ましくは0.02〜20重量部、最も好ましくは0.0
5〜10重量部である。
【0233】本発明に使用される成分ii)と成分iv)の
比は成分ii)のオキシムエーテル1重量部に対し、成分
(iv)を0.01〜50重量部使用するのが適当であ
り、更に好ましくは0.02〜20重量部、最も好まし
くは0.05〜10重量部である。上記共増感剤を使用
する場合には、成分ii)のオキシムエーテル1重量部に
対して、0.01〜50重量部使用するのが適当であ
り、より好ましくは0.02〜20重量部、最も好まし
くは0.05〜10重量部である。
【0234】本発明の光重合性組成物には、バインダー
としての線状有機高分子重合体を含有させることが好ま
しい。このような「線状有機高分子重合体」としては、
光重合可能なエチレン性不飽和化合物と相溶性を有して
いる線状有機高分子重合体である限り、どれを使用して
も構わない。好ましくは水現像或いは弱アルカリ水現像
を可能とする水あるいは弱アルカリ水可溶性または膨潤
性である線状有機高分子重合体が選択される。線状有機
高分子重合体は、該組成物の皮膜形成剤としてだけでな
く、現像剤として水、弱アルカリ水或いは有機溶剤のい
ずれが使用されるかに応じて適宜選択使用される。例え
ば、水可溶性有機高分子重合体を用いると水現像が可能
になる。この様な線状有機高分子重合体としては、側鎖
にカルボン酸基を有する付加重合体、例えば特開昭59
−44615号、特公昭54−34327号、特公昭5
8−12577号、特公昭54−25957号、特開昭
54−92723号、特開昭59−53836号、特開
昭59−71048号に記載されているもの、すなわ
ち、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタ
コン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重
合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等がある。ま
た同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸性セルロース誘
導体がある。この他に水酸基を有する付加重合体に環状
酸無水物を付加させたものなどが有用である。特にこれ
らの中で〔ベンジル(メタ)アクリレート/(メタ)ア
クリル酸/必要に応じてその他の付加重合性ビニルモノ
マー〕共重合体及び〔アリル(メタ)アクリレート/
(メタ)アクリル酸/必要に応じてその他の付加重合性
ビニルモノマー〕共重合体が好適である。この他に水溶
性線状有機高分子として、ポリビニルピロリドンやポリ
エチレンオキサイド等が有用である。また硬化皮膜の強
度をあげるためにアルコール可溶性ポリアミドや2,2
−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパンとエピ
クロロヒドリンのポリエーテル等も有用である。これら
の線状有機高分子重合体は全組成中に任意な量を混和せ
ることができる。しかし90重量%を超える場合には形
成される画像強度等の点で好ましい結果を与えない。好
ましくは30〜85%である。また光重合可能なエチレ
ン性不飽和化合物と線状有機高分子重合体は、重量比で
1/9〜7/3の範囲とするのが好ましい。より好まし
い範囲は3/7〜5/5である。
【0235】また、本発明においては以上の基本成分の
他に感光性組成物の製造中あるいは保存中において重合
可能なエチレン性不飽和化合物の不要な熱重合を阻止す
るために少量の熱重合防止剤を添加することが望まし
い。適当な熱重合防止剤としてはハイドロキノン、p−
メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−グレゾ−
ル、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノ
ン、4,4′−チオビス(3−メチル−6−t−ブチル
フェノール)、2,2′−メチレンビス(4−メチル−
6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソフェニルヒ
ドロキシアミン第一セリウム塩等があげられる。熱重合
防止剤の添加量は、全組成物の重量に対して約0.01
%〜約5%が好ましい。また必要に応じて、酸素による
重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドの
ような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の
過程で感光層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘
導体の添加量は、全組成物の約0.5%〜約10%が好
ましい。さらに、感光層の着色を目的として染料もしく
は顔料を添加してもよい。染料及び顔料の添加量は全組
成物の約0.5%〜約5%が好ましい。加えて、硬化皮
膜の物性を改良するために無機充填剤や、その他の公知
の添加剤を加えてもよい。
【0236】本発明の光重合性組成物は、通常支持体上
に塗布して使用される。支持体上に塗布して使用する際
には種々の有機溶剤に溶かして使用に供される。ここ
で、使用する溶媒としては、アセトン、メチルエチルケ
トン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロラ
イド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコ
ールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチ
ルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレング
リコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シク
ロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコ
ールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコー
ルエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノ
イソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチル
エーテルアセテート、3−メトキシプロパノール、メト
キシメトキシエタノール、ジエレングリコールモノメチ
ルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコール
モノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコール
モノエチルエーテルアセテート、3−メトキシプロピル
アセテート、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸
エチルなどがある。これらの溶媒は、単独あるいは混合
して使用することができる。そして、塗布溶液中の固形
分の濃度は、2〜50重量%が適当である。その被覆量
は乾燥後の重量で約0.1g/m2〜約10g/m2の範囲
が適当である。より好ましくは0.5〜5g/m2であ
る。
【0237】上記支持体としては、寸度的に安定な板状
物が用いられる。該寸度的に安定な板状物としては、
紙、プラスチック(例えばポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリスチレンなど)がラミネートされた紙、また、
例えばアルミニウム(アルミニウム合金も含む。)、亜
鉛、銅などのような金属の板、さらに、例えば二酢酸セ
ルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロー
ス、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロ
ース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポ
リスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリ
ビニルアセタールなどのようなプラスチックのフィル
ム、上記の如き金属がラミネートもしくは蒸着された紙
もしくはプラスチックフィルムなどがあげられる。これ
らの支持体のうち、アルミニウム板は寸度的に著しく安
定であり、しかも安価であるので特に好ましい。更に、
特公昭48−18327号に記載されているようなポリ
エチレンテレフタレートフィルム上にアルミニウムシー
トが結合された複合体シートも好ましい。
【0238】また金属、特にアルミニウムの表面を有す
る支持体の場合には、砂目立て処理、珪酸ソーダ、弗化
ジルコニウム酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬処
理、あるいは陽極酸化処理などの表面処理がなされてい
ることが好ましい。さらに、砂目立てしたのちに珪酸ナ
トリウム水溶液に浸漬処理されたアルミニウム板が好ま
しく使用できる。特公昭47−5125号の記載されて
いるようにアルミニウム板を陽極酸化処理したのちに、
アルカリ金属珪酸塩の水溶液に浸漬処理したものが好適
に使用される。上記陽極酸化処理は、例えば、燐酸、ク
ロム酸、硫酸、硼酸等の無機酸、若しくは蓚酸、スルフ
ァミン酸等の有機酸またはそれらの塩の水溶液又は非水
溶液の単独又は二種以上を組み合わせた電解液中でアル
ミニウム板を陽極として電流を流すことにより実施され
る。
【0239】また米国特許第3,658,662号に記
載されているようなシリケート電着も有効である。更
に、特公昭46−27481号、特開昭52−5860
2号、特開昭52−30503号に開示されているよう
な電解グレインと、上記陽極酸化処理および珪酸ソーダ
処理を組合せた表面処理も有用である。
【0240】また、特開昭55−28893号に開示さ
れているような機械的粗面化、化学的エッチング、電解
グレイン、陽極酸化処理さらに珪酸ソーダ処理を順に行
ったものも好適である。更に、これらの処理を行った後
に、水溶性の樹脂、例えばポリビニルホスホン酸、スル
ホン酸基を側鎖に有する重合体および共重合体、ポリア
クリル酸、水溶性金属塩(例えば硼酸亜鉛)もしくは、
黄色染料、アミン塩等を下塗りしたものも好適である。
【0241】これらの親水化処理は、支持体の表面を親
水性とするために施される以外に、その上に設けられる
光重合性組成物の有害な反応を防ぐため、かつ感光層の
密着性の向上等のために施されるものである。支持体上
に設けられた光重合性組成物の層の上には、空気中の酸
素による重合禁止作用を防止するため、例えばポリビニ
ルアルコール、特にケン化度95%以上のポリビニルア
ルコール、酸性セルロース類などのような酸素遮断性に
優れたポリマーよりなる保護層を設けてもよい。このよ
うな保護層の塗布方法については、例えば米国特許第
3,458,311号、特開昭55−49729号に詳
しく記載されている。
【0242】また本発明の光重合性組成物は通常の光重
合反応に使用できる。さらに、印刷版、プリント基板等
作成の際のフォトレジスト等多方面に適用することが可
能である。特に本発明の光重合性組成物の特徴である高
感度性と可視光領域までの幅広い分光感度特性により、
Ar+レーザー、YAG−SHGレーザー等の可視光レ
ーザー用の感光材料に適用すると良好な効果が得られ
る。
【0243】また、本発明の光重合性組成物は、高感度
でかつ可視光に感光性があるため、マイクロカプセルを
利用した画像形成システム用として特に有利に用いるこ
とができる。マイクロカプセルを利用した画像形成シス
テムに利用するには例えば、特開昭57−197538
号、同61−130945号、同58−88739号、
同58−88740号、欧州特許第223,587A1
号明細書等を参考にできる。この画像形成方法は例え
ば、エチレン性のビニル化合物及び光重合開始剤から成
る光重合開始剤組成物と色素プレカーサーを含むマイク
ロカプセルを支持体に塗設し、この感光シートを画像様
露光して露光部のマイクロカプセルを硬化させた後、顕
色剤シートを重ねて全面加圧することにより、未露光部
のマイクロカプセルを破壊し、色画像形成物質(例えば
色素プレカーサー)を受像要素(例えば顕色剤層)に転
写し、発色させる方式である。
【0244】本発明の光重合性組成物を用いた感光材料
は、画像露光したのち、現像液で感光層の未露光部を除
去し、画像を得る。これらの光重合性組成物を平版印刷
版の作成に使用する際の好ましい現像液としては、特公
昭57−7427号に記載されているような現像液があ
げられ、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、第三リン
酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、第三リン酸アン
モニウム、第二リン酸アンモニウム、メタケイ酸ナトリ
ウム、重炭酸ナトリウム、アンモニア水などのような無
機アルカリ剤やモノエタノールアミン又はジエタノール
アミンなどのような有機アルカリ剤の水溶液が適当であ
る。該アルカリ剤は、濃度が0.1〜10重量%、好ま
しくは0.5〜5重量%になるように添加される。
【0245】また、該アルカリ性水溶液には、必要に応
じて界面活性剤やベンジルアルコール、2−フェノキシ
エタノール、2−ブトキシエタノールのような有機溶媒
を少量含むことができる。例えば、米国特許第3,37
5,171号および同第3,615,480号に記載さ
れているものを挙げることができる。更に、特開昭50
−26601号、同58−54341号、特公昭56−
39464号、同56−42860号の各公報に記載さ
れている現像液も優れている。
【0246】
【発明の効果】本発明の光重合性組成物は、紫外線から
可視光の幅広い領域の活性光線に対して高感度を有する
と共に、これを用いて得られる感光材料の保存安定性が
向上する。更にこの感光材料現像後の現像廃液から生ず
る現像カスが抑制される。
【0247】
【実施例】次に本発明を実施例によって説明するが、本
発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 〔オキシムエーテルの合成〕オキシムエーテルは一般的
には、例えば、A.Lachman, C.R.Noller, Org. Synth.,
II, 70; E.J.Corey, M.Petrzilka, Y.Veda, Helv. Chi
m. Acta, 60, 2294 (1977) 記載の方法によりアルデヒ
ド又はケトンから反応式1に示す方法でオキシム体を経
由し容易に合成できる。
【0248】
【化98】
【0249】(式中、R1、R2及びR3は上記と同一の
意味を有する。) また、出発物質であるアルデヒド又はケトンは例えば、
市販のものを使用するか、或いはアルデヒドの場合には
C.D.Hurd, R.N.Meinert, Org. Synth, II, 541(1943)記
載の第1アルコールの酸化による方法、A.I.Rachlin,
H.Gurien, D.P.Wagner, Org. Synth., 51, 8 (1971)記
載の酸塩化物の還元による方法、H.C.Brown, A.Tsukamo
to, J. Am. Chem. Soc., 81, 502 (1959); 83, 4549 (1
961); 86,1089 (1964) 記載のアミドの還元による方
法、W.E.Truce, Org. React., 9, 37(1957)記載の芳香
環へのホルミル化による方法、また、ケトンの場合に
は、M.S.Kharsch, et al, J. Org. Chem.,18, 1051 (19
53) 記載の第2アルコールの酸化による方法、W.S.Ide,
J.S.Buch, Org. React., 4, 273 (1948) 記載のベンゾ
イン縮合による方法、M.J.Torgenson, Org. React., 1
8, 59 (1970) 記載の有機リチウム化合物とカルボン酸
との反応による方法、E.Berliner, Org. React., 5, 22
9 (1949)記載のフリーデルクラフツ反応による方法、ま
た特にα−置換ケトンの場合には、特開平1−1395
54号記載の方法、特公昭6−35427号記載の方法
等により容易に合成することができる。 〔合成例1〕 化合物III−4の合成 市販の2−メチル−4′−(メチルチオ)−2−モルホ
リノプロピオフェノン(チバガイギー社製)(279.
4g)に対し、NaOH(240.0g)、C 25OH
(0.8リットル)、水(0.16リットル)をフラス
コに入れ3時間加熱還流させる。次にこの反応混合液を
水(3リットル)の入ったビーカーに少しずつ注ぎ入れ
ると白晶(オキシム体)が析出する。この白晶をろ取
後、真空乾燥し白晶(オキシム体)235.5gを得
た。収率90%、融点は185.0〜186.0℃であ
った。
【0250】次に、このオキシム体(235.5g)、
KOH(67.3g)、ベンジルブロマイド(153.
9g)、アセトン(1.0リットル)をフラスコに入
れ、5時間加熱還流させる。次にこの反応混合液を氷水
(3リットル)の入ったビーカーに少しずつ注ぎ入れ、
濃塩酸でpHを8にし、5℃で2時間攪拌すると無色の
結晶(粗III−4)が析出する。この無色の結晶をメタ
ノールから再結晶することにより、純度99%以上の化
合物III-4が230.7g、収率75%で得られた。化
合物III−4は1HNMR、IR、MASSスペクトルに
より構造を確認、融点は87.5〜88.0℃であっ
た。 〔合成例2〕 化合物IV−5の合成 合成例1で得られた中間生成物のオキシム体(白晶)
(58.9g)をフラスコに入れテトラヒドロフラン
(200g)を加え、加熱溶解させる。ここへNaOC
3(11.9g)を加え1時間攪拌したのち、40℃
まで自然冷却し、ブロモ酢酸メチル(36.7g)を加
え、50℃で3時間温める。3時間後、水(1.5リッ
トル)に投入し、濃塩酸でpHを8とし、酢酸エチルで
抽出し、抽出液を硫酸ナトリウムで乾燥後、ろ紙により
ろ過し、ろ液を減圧濃縮する。得られた油状物にメタノ
ールを加えて氷冷1日放置すると無色の結晶が析出す
る。このものは純度98%以上の化合物IV−5であるこ
とを1HNMR、IR、MASSスペクトルにより確認
した。51.3g、収率70%、融点は75.5〜7
6.5℃であった。
【0251】また、本発明における化合物III−4、IV
−5以外の一般式(I)で表される化合物も同様の方法
により容易に合成することができる。 実施例 1〜18、及び比較例1〜3 厚さ0.30mmのアルミニウム板をナイロンブラシと4
00メッシュのパミストンの水懸濁液とを用いその表面
を砂目立てした後、よく水で洗浄した。10%水酸化ナ
トリウムに70℃で60秒間浸漬してエッチングした
後、流水で水洗後20%硝酸で中和洗浄し、次いで水洗
した。これをVA=12.7Vの条件下で正弦波の交番
波形電流を用いて1%硝酸水溶液中で160クーロン/
dm2の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。その表
面粗さを測定したところ、0.6μ(Ra表示)であっ
た。引き続いて30%の硫酸水溶液中に浸漬し55℃で
2分間デスマットした後、20%硫酸水溶液中、電流密
度2A/dm2において陽極酸化皮膜の量が2.7g/m2
になるように2分間陽極酸化処理した。
【0252】このように処理されたアルミニウム板上
に、下記組成の光重合性組成物を乾燥塗布重量が1.4
g/m2となるように塗布し、80℃2分間乾燥させ感光
層を形成させた。 〔組成〕 ペンタエリスリトールテトラアクリレート 2.0g アリルメタアクリレート/メタクリル酸共重合体 2.0g (共重合モル比80/20) 成分ii) Xg 成分iii) Yg 成分iv) Zg メチルエチルケトン 20g プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 20g この感光層上にポリビニルアルコール(ケン化度98モ
ル%、重合度1000)の3重量%の水溶液を乾燥塗布
重量が2g/m2となるように塗布し、100℃/2分間
乾燥させて感光材料を調製した。この感光材料について
次の試験を行った。
【0253】感光性試験には、可視光、及びAr+レー
ザー光(波長=488nm)の各単色光を用いた。可視光
はタングステンランプを光源とし、ケンコー光学フィル
ター(Kenko optical filter)BP−49を通して得
た。感光測定には富士PSステップガイド(富士写真フ
イルム株式会社製、初段の透過光学濃度が0.05で順
次0.15増えていき15段まであるステップタブレッ
ト)を使用して行った。感度は、感材膜面部での露光エ
ネルギーが0.25mJとなる様に、露光した時のPSス
テップガイドのクリアー段数で示した。この段数の値が
大きいほど感度が高い。
【0254】現像は、下記の現像液に25℃、1分間浸
漬して行った。 〔現像液〕 1Kケイ酸カリウム 30g 水酸化カリウム 15g C1225−C64−O−C64−SO3Na 3g 水 1000g また、保存安定性の試験、現像カス試験を同時に行っ
た。保存安定性の試験は、上記で作成した感光材料をオ
ーブン中で60℃、3日間強制経時したものについて析
出物の有無を光学顕微鏡にて観察した。
【0255】
【表3】
【0256】
【表4】
【0257】上表より、本発明における成分 (ii) を
使用すると感度が上昇し、保存安定性が向上することは
明かである。 実施例 19〜26 現像カスのモデル試験として、上記で作成した未露光の
感光材料(塗布板)を0〜20m2の範囲で2m2刻みで
上記現像液(1リットル)に浸漬し、この現像廃液を1
週間自然放置し析出物(現像カス)の有無を目視で観察
した。このときの現像カスを発生した感光材料の処理し
た面積(m2)を0〜20m2の範囲で調べた。(従って処
理面積(m2)が大きい程、現像カスを発生しにくい感材
であるといえる。)
【0258】
【表5】
【0259】上表より、本発明の光重合性組成物で処理
した面積(m2)が大きい程、現像カスを発生しにくい感
材であることがわかる。表3、表4及び表5における化
合物A−1、A−2、B−1、及びB−2は下記に示す
通りである。
【0260】
【化99】
【0261】実施例27〜35、及び比較例4 厚さ0.30mmのアルミニウム板をナイロンブラシと4
00メッシュのパミストンの水懸濁液とを用いその表面
を砂目立てした後、よく水で洗浄した。10%水酸化ナ
トリウムに70℃で60秒間浸漬してエッチングした
後、流水で水洗後20%硝酸で中和洗浄し、次いで水洗
した。これをVA=12.7Vの条件下で正弦波の交番
波形電流を用いて1%硝酸水溶液中で160クーロン/
dm2の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。その表
面粗さを測定したところ、0.6μ(Ra表示)であっ
た。引き続いて30%の硫酸水溶液中に浸漬し55℃で
2分間デスマットした後、20%硫酸水溶液中、電流密
度2A/dm2において陽極酸化皮膜の量が2.7g/m2
になるように2分間陽極酸化処理した。
【0262】このように処理されたアルミニウム板上
に、下記組成の光重合性組成物を乾燥塗布重量が1.4
g/m2となるように塗布し、80℃2分間乾燥させ感光
層を形成させた。 〔組成〕 ペンタエリスリトールテトラアクリレート 2.0g ベンジルアクリレート/アリルメタアクリレート/ /メタクリル酸共重合体 2.0g (共重合モル比10/70/20) 成分ii) 0.5g メチルエチルケトン 20g プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 20g この感光層上にポリビニルアルコール(ケン化度98モ
ル%、重合度1000)の3重量%の水溶液を乾燥塗布
重量が2g/m2となるように塗布し、100℃/2分間
乾燥させて感光材料を調製した。この感光材料について
次の試験を行った。
【0263】感光性試験には、25/nmの単色光を用い
た。低圧水銀ランプを光源とし、光学フィルター(日本
真空光学(株)社製)MIF−UW型70φを通して得
た。感度は、感材膜面部での露光量が0.85mWとなる
様に、露光した時の露光時間(秒数)を200,40
0,800,1600秒と振り、初めて硬化した秒数で
調べた。この秒数の値が小さいほど感度が高い。
【0264】現像は、下記の現像液に25℃、1分間浸
漬して行った。 〔現像液〕 1Kケイ酸カリウム 30g 水酸化カリウム 15g C1225−C64−O−C64−SO3Na 3g 水 1000g また、保存安定性の試験、現像カス試験を同時に行っ
た。保存安定性の試験は、上記で作成した感光材料をオ
ーブン中で60℃、3日間強制経時したものについて析
出物の有無を光学顕微鏡にて観察した。
【0265】
【表6】
【0266】上表より、本発明における成分 (ii) を
使用すると感度が上昇することは明かである。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−241902(JP,A) 特開 昭63−226096(JP,A) 特開 昭62−58601(JP,A) 特開 昭55−33195(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G03F 7/00 - 7/42

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 少なくとも下記成分i)及び ii )を含有
    する光重合性組成物を有する画像形成材料。 i)付加重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合
    ii )下記一般式〔I〕で表されるオキシムエーテル化合
    物。 (R1)(R2)C=N−O−R3 〔I〕式中、
    1、及びR2は、互いに同一または異なり、水素原子、
    ハロゲン原子、置換基を有していても良く、かつ、不飽
    和結合を含んでいても良い炭化水素基、ヘテロ環基、ヒ
    ドロキシル基、置換オキシ基、メルカプト基、置換チオ
    基、アミノ基、置換アミノ基、置換カルボニル基、カル
    ボキシラート基、スルホ基、スルホナト基、置換スルフ
    ィニル基、置換スルホニル基、ホスホノ基、置換ホスホ
    ノ基、ホスホナト基、置換ホスホナト基 、シアノ基
    ニトロ基を表し、またR1とR2が互いに結合して、環
    を形成していても良い。R3は置換基を有していても良
    く、かつ、不飽和結合を含んでいても良い炭化水素基
    ヘテロ環基を表し、また、R3とR2が互いに結合し
    て、環を形成していても良い。
  2. 【請求項2】 少なくとも下記成分i)及び ii )を含有
    する光重合性組成物を有する画像形成材料。 i)付加重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合
    ii )下記一般式〔 II 〕で表されるα−置換ケトオキシム
    エーテル化合物 。 【化1】 式中、R2及びR3は互いに同一または異なり、置換基を
    有していても良く、かつ、不飽和結合を含んでいても良
    い炭化水素基、又は、ヘテロ環基を表す。また、R2
    3は互いに結合して環を形成していてもよい。 R14及びR15は互いに同一または異なり、水素原子、置
    換基を有していても良く、かつ、不飽和結合を含んでい
    ても良い炭化水素基、ヘテロ環基、ヒドロキシル基、置
    換オキシ基、メルカプト基、置換チオ基、アミノ基又は
    置換アミノ基を表す。また、R14及びR15は互いに結合
    して環を形成し、 【化2】 を環の連結主鎖に含んでいても良い炭素数2から8のア
    ルキレン基を表す。 R16は水素原子、置換基を有していても良く、かつ、不
    飽和結合を含んでいても良い炭化水素基、又は置換カル
    ボニル基を表す。 Xは水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していても良
    く、かつ、不飽和結合を含んでいても良い炭化水素基、
    ヒドロキシル基、置換オキシ基、メルカプト基、置換チ
    オ基、アミノ基、置換アミノ基、置換カルボニル基、カ
    ルボキシラート基、スルホ基、スルホナト基、置換スル
    フィニル基、置換スルホニル基、ホスホノ基、置換ホス
    ホノ基、ホスホナト基、置換ホスホナト基、シアノ基、
    又はニトロ基を表す。
  3. 【請求項3】 レーザー光対応である請求項1又は2に
    記載の画像形成材料
  4. 【請求項4】 印刷版用である請求項1〜3のいずれか
    に記載の画像形成材料
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Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3723312B2 (ja) * 1997-02-25 2005-12-07 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
US20010010893A1 (en) * 1998-03-05 2001-08-02 Hiroshi Takanashi Negative-working photosensitive resin composition and photosensitive resin plate using the same
SG97168A1 (en) 1999-12-15 2003-07-18 Ciba Sc Holding Ag Photosensitive resin composition
US7026103B2 (en) * 2000-06-15 2006-04-11 3M Innovative Properties Company Multicolor imaging using multiphoton photochemical processes
AU2001269837A1 (en) * 2000-06-15 2001-12-24 3M Innovative Properties Company Process for producing microfluidic articles
US7014988B2 (en) * 2000-06-15 2006-03-21 3M Innovative Properties Company Multiphoton curing to provide encapsulated optical elements
US6852766B1 (en) * 2000-06-15 2005-02-08 3M Innovative Properties Company Multiphoton photosensitization system
KR100754813B1 (ko) 2000-06-15 2007-09-04 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 캄파니 다중통과 다광자 흡수 방법 및 장치
JP2004503928A (ja) 2000-06-15 2004-02-05 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 多方向光反応吸収方法
ATE433129T1 (de) * 2000-06-15 2009-06-15 3M Innovative Properties Co Mikroherstellungsverfahren für organische optische bauteile
US20040012872A1 (en) * 2001-06-14 2004-01-22 Fleming Patrick R Multiphoton absorption method using patterned light
US20030155667A1 (en) * 2002-12-12 2003-08-21 Devoe Robert J Method for making or adding structures to an article
JP2006160836A (ja) * 2004-12-03 2006-06-22 Fuji Photo Film Co Ltd 放射線の照射により硬化可能なインクジェット記録用インク及びこれを用いた平版印刷版作製方法
EP1798031A3 (en) 2005-01-26 2007-07-04 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
EP1696268B1 (en) 2005-02-28 2016-11-09 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor
CN101349865B (zh) * 2007-07-17 2012-10-03 富士胶片株式会社 感光性组合物、可固化组合物、滤色器和制备滤色器的方法
KR101412719B1 (ko) * 2007-07-17 2014-06-26 후지필름 가부시키가이샤 감광성 조성물, 경화성 조성물, 신규 화합물, 광중합성조성물, 컬러 필터, 및, 평판 인쇄판 원판
JP5496482B2 (ja) * 2007-08-27 2014-05-21 富士フイルム株式会社 新規化合物、光重合性組成物、カラーフィルタ用光重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版
JP5507054B2 (ja) 2008-03-28 2014-05-28 富士フイルム株式会社 重合性組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、及び固体撮像素子

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1180846A (en) * 1967-08-08 1970-02-11 Agfa Gevaert Nv Photopolymerisation of Ethylenically Unsaturated Organic Compounds
DE2558812C2 (de) * 1975-12-27 1987-04-30 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Photopolymerisierbares Gemisch
US4590145A (en) * 1985-06-28 1986-05-20 Daicel Chemical Industries, Ltd. Photopolymerization initiator comprised of thioxanthones and oxime esters
DE4219385A1 (de) * 1992-06-13 1993-12-16 Basf Ag Copolymerisierbare Oximether und diese enthaltende Copolymerisate
DE4309193A1 (de) * 1993-03-22 1994-09-29 Basf Ag Copolymerisierbare Oximether und diese enthaltende Copolymerisate

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