JP3323213B2 - 懸濁触媒系の反応方法 - Google Patents
懸濁触媒系の反応方法Info
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Description
り液と液または液と気体の化学反応により液状反応生成
物を製造するにあたり、触媒分離方式としてクロスフロ
ー方式の濾過を用いることにより、触媒を分離した液状
反応生成液を安定に長期間連続的に抜き出すことを特徴
とする反応方法に関する。
固液相または気・液・固の三相反応系は、固定床方式や
触媒懸濁液流動床方式を用いた反応方法がある。固定床
方式の反応方法は、触媒分離が容易であり、触媒を高濃
度に保持し、反応を行うことができる利点を有してい
る。しかし、触媒を反応器内に固定して置き、充填触媒
による圧力損失を過大にせず、かつ必要な反応活性点を
確保するため、触媒は微細な細孔を有するペレット状ま
たは大きな粒径のものを使用する必要がある。そのた
め、例えば触媒の被毒が激しい反応では、触媒表面での
活性劣化が大きく、触媒内部の活性点が利用されないこ
とがある。また、触媒細孔内の物質移動速度の遅い反応
においては、触媒表面での反応が主となるため触媒の利
用効率が低いという欠点を有している。さらに、反応熱
を伴う系ではその温度制御が困難でありホットスポット
等の発生により異常反応、触媒永久被毒等が発生する問
題点がある。
合に比較して触媒の粒子径が小さい懸濁触媒を用いたス
ラリー系の反応が考えられる。すなわち、触媒懸濁液流
動床方式は、攪拌槽、ガスリフト、循環ポンプなどによ
り触媒と液体、場合によっては気体も含めた混合・異相
間接触を良好にし反応を行う反応装置と、反応液スラリ
ーから触媒と反応液を分離する触媒分離装置からなる。
この触媒分離装置として例えば図4に示すような沈降分
離器(4)を使用した場合、その系の固液の比重差、触
媒粒子径などに起因する沈降速度により装置が過大とな
り適用可能な反応系が限られる。さらに粒径が微粒子で
ある場合には完全な触媒分離は非常に困難であり、濾液
である反応生成物への触媒混入を起こし、後工程での詰
まり・スケーリングや、触媒損失などの問題がある。ま
た、遠心分離等の機械的な分離装置では高圧系や危険物
を扱う系において、その摺動部分・シール部分があるた
め適用できない場合があり、また摺動部分で触媒を粉砕
し微粒化するため分離性能が低下し、触媒が濾液へ混入
する問題がある。
式のフィルター濾過器を使用した場合は、触媒の粒子径
がミクロンオーダーの微粒子でも確実に分離することが
可能となり、微粒子の触媒を使用することにより反応速
度の向上が望める。しかしながら、フィルターの詰まり
やスケーリング等を起こし濾過速度低下により、頻繁に
逆洗浄を行わなければならない。ここで逆洗浄とは、濾
過面に対し濾過液または気体を濾過時とは逆方向にすな
わち濾液側から流入させ、フィルターのスラリー側での
固体の詰まりやケークを洗浄し濾過性能を再生するもの
である。
合は分離した濾液をスラリーに戻すため非効率的であ
り、逆洗浄に気体を使用した場合は反応系に外乱を与え
たりし、また逆洗浄の際には系の運転を止めなければな
らないため安定した円滑な連続運転ができないという問
題点がある。これは特公昭55ー49538号公報にも
あるように、特に高濃度のスラリー(3重量パーセント
以上)に対しては、濾材にセラミックや焼結金属のよう
な可撓性の乏しい材質のものを用いた場合は、経時的な
濾過速度の低下があり、さらに逆洗浄による濾過速度の
回復向上効果が小さいという問題点が記載されている。
前記特許公報に従い、可撓性のあるフィルターを用いた
濾過器を持つ反応器にてベンゼンのアルキレーションに
よるエチルベンゼン合成の実験を行った。ここで、ベン
ゼンに対する耐溶剤性によりフィルターは、ステンレス
製の金網を用いた(最小目開きのもので5ミクロン)。
この結果、確かに逆洗浄による濾過速度の回復は良好で
あった。しかし、逆洗浄の周期が濾過速度の低下により
約24時間であり、逆洗浄により反応系に乱れを生じ操
作が不安定で複雑であること、また目開きが5ミクロン
でありこれより小さい粒径の触媒が流出してしまうこと
などの問題点があった。本発明の目的はこれらの問題点
を解決することにある。
記課題を解決するために、各種の濾材細孔径のセラミッ
クや焼結金属の濾材を用い、触媒スラリーに対する反応
・触媒分離を連続的に円滑に行う方法について研究を進
めた。その結果、クロスフロー方式の濾過を用いた反応
方式が良好に作動することを見いだした。
存在下、液と液または液と気体の接触反応で液状反応生
成物を得るに際し、 (1)懸濁液流動床にて液状反応生成物を得る工程、 (2)主に液状反応生成物からなるスラリー濃度3重量
%以上の触媒懸濁液を、0.5〜10μmの平均細孔径
の濾材を用い、かつ、クロスフロー線速度が0.05m
/秒以上のクロスフロー方式の濾過により、液状反応生
成物と濃縮された触媒懸濁液とに分離する工程、 (3)懸濁液流動床へ前記濃縮された触媒懸濁液を循環
する工程を有することを特徴とする連続反応方法であ
る。
(フィルター)を隔ててスラリー(懸濁液)側と濾液側
に圧力差(このときの圧力差を濾過差圧と呼ぶ:以下同
じ)をつけ、これを推進力として濾過を行ないスラリー
は濾過面に対し平行に流しながら(このときのスラリー
の流路断面積当りの平均流速をクロスフロー線速度と呼
ぶ:以下同じ)、連続的に濾過を行うものである。例え
ば、管状のフィルターを用いた場合、反応器より抜き出
したスラリーをフィルター管の一方から供給し、フィル
ター管の他方から濃縮スラリーを排出すると同時に、フ
ィルター管濾過面を通して濾液を分離する方式である。
但しこのフィルター管は、管壁面の全体または一部に濾
過面を有しているもので、管の断面形状は円形に規定さ
れるものではない。また、スラリーがフィルター管外部
で濾液がフィルター管内部でも良い。
過は、濾過面に対し平行に流動するスラリーの剪断力に
より、濾過面でのスラリーの固形物ケークの成長を抑
え、経時的な濾過速度の低下を抑制する。これにより断
続的な逆洗浄を不用とし、連続運転を可能にするもので
ある。触媒の二次粒子の平均粒子径(水力学相当直径も
含める)は特に限定されないが、1ミリメートル以下の
微粒子径の触媒が好ましい。ここで、二次粒子とは固体
粒子の最小単位である一次粒子に対し、一次粒子の凝集
体のことである。一般に該粒子径を小さくすることは触
媒の単位体積当りの表面積(比表面積)を大きくし有効
な活性点を増加させることにより反応速度は大きくなる
利点がある。ただし、触媒が濾材の細孔を通って流出し
ないような粒径でなくてはならない。
囲、例えば固形物の配管での詰まりや沈降部分がない様
な範囲であればよい。低濃度では従来の差圧式濾過器で
も充分濾過は安定しており、逆洗浄の周期も長くできる
が、3重量%以上の高濃度になると本反応方式が、濾過
速度の安定および逆洗浄の周期の長期化に非常に効果を
発揮する。
ばよい。約100cP(センチポイズ)までの低粘度領
域では特に問題はないが、高粘度領域の流体では、スラ
リーの濾過器の入口と出口の圧力差(フィルター壁面で
の圧力損失)や濾過差圧が大きくなったり、固形物の配
管での詰まりが発生したり、濾液の濾過器からの抜出速
度が液流動性の低下により極端に遅くなる場合もあるた
め、流動可能な範囲に制限される。ここで、スラリー粘
度の上限はその系の特性や目的などにより異なるため一
義的に限定することはできない。
小触媒径よりも小さいものを用いれば良いということに
なるが、しかし、触媒の最小径の定義は測定精度などの
問題も含めて難しい。また、濾材細孔径が最小触媒粒径
より大きい場合でもブリッジングや、ケークの形成によ
りそのケーク中を通過する粒子がほとんどない場合(ケ
ーク濾過)もある。
循環ポンプ、配管などでの固体触媒の衝突による機械的
粉砕により、初期平均粒子径よりもかなり小さい微粒子
が生成し、この微粒子がフィルターに詰まり濾過速度の
低下を引き起こす事を確認した。そこで、さらに種々の
懸濁触媒を用いて研究を進めた結果、この微粒化は一定
の値でほぼ安定する(これは粒子の分散と凝集がバラン
スすることや、微粒化するに必要なエネルギーが粒子径
が小さいほど大きくなることによると考えられる)とい
うことが判明した。すなはち、積算粒径分布において粒
径の小さいものから約2〜5重量%の粒子は、さらに微
粒化するとか、増加するとかいった経時的変化がほとん
ど見られなかった。さらに、この安定した粒径は0.5
〜10ミクロン程度であり、これと同程度の細孔径の濾
材を用いることにより詰まりの問題もなく触媒分離を円
滑に行えることが見いだされた。
径、または平板であればその最小間隙の寸法は、好まし
くは3ミリメートル以上で、100ミリメートル以下と
する。これは、該寸法が3ミリメートルより小さい場
合、スラリーの詰まりが発生し、安定した運転が難しか
ったり、濾過能力の再生が不能になるためである。ま
た、該寸法が100ミリメートルより大きい場合、大き
な濾過面積が取りにくい、すなわち同一濾過面積でも該
寸法が大きいほど濾過装置は大きなものとなってしま
う。
流動するスラリーの剪断力を与えるためにスラリー線速
度は、系のスラリー濃度、粘度、触媒粒子径、濾過器の
フィルター直径などにもよるが、0.05m/s(m/
秒:以下同じ)以上とし、好ましくは0.1〜20m/
sとする。スラリー線速度を大きくすると剪断力は大き
くなりケーク厚みは薄くなるため濾過速度は大きくなる
が、濾過器を通過するスラリーの入口と出口の圧力差が
大きくなり、スラリー循環のための必要動力が大きくな
ってしまう。逆にスラリー線速が0.05m/sより小
さいと、剪断力が小さくなり、ケーク厚みは大きくな
り、濾過速度は小さくなってしまう。
g/cm2 以下とし、好ましくは0.05〜10Kg/
cm2 とする。濾過差圧は、ケーク厚みが一定であれば
濾過速度とほぼ比例関係にある。しかし、濾過速度を上
げるため濾過差圧を過剰に上げると、濾過面へのケーク
の付着力が強まり、同一のスラリー線速度では、ケーク
への付着力と剪断力のバランスからケーク厚みが厚くな
るために濾過速度は低下する。これより、濾過差圧を2
0Kg/cm2 より高くするのは濾過性能を低下させる
だけである。
環ポンプを使用すれば全く別々に設定できる。しかし、
例えば濾過器側圧力を反応器圧力より下げると、落圧・
昇圧の動力損失があるばかりでなく、触媒表面に吸着さ
れている反応物質が吸・脱着を繰り返すため、触媒活性
が大幅に低下したり、副反応物を生成しやすくなる。従
って、反応器圧力と濾過器スラリー側圧力は、流通圧力
損失程度の差圧とほぼ等しい圧力にすることが望まし
い。また、濾過差圧を確保するため、反応圧力は1Kg
/cm2 ゲージ圧以上の加圧反応であることが望まし
い。
で流動状態を保っていればよい。すなわち、濾過器内で
沸騰したり凝固しない様に保たれていればよい。通常は
反応器内の生成物温度で濾過器を流通させるが、例えば
シール材の材質上の問題がある場合には、濾過器側温度
を反応温度より下げることにより腐食を防止することも
考えられるため、必ずしも反応温度と濾過温度を一致さ
る必要はない。
分離器や液体サイクロンを使用した場合に、スラリー中
へ気体が混入すると、気泡に同伴する固形物により濾過
性能を低下させるため、気体の分離を十分行う必要があ
るが、クロスフロー濾過器においては、スラリー中へ気
体が混入しても、液相が連続相であれば流動しているス
ラリー中の気泡は運動量のバランスからスラリーの流速
が早いフィルター管中心部を流れスラリーの流速の遅い
フィルター壁面近傍にはほとんど存在しないため、濾過
性能に影響しない。
スが考えられる。但し、本発明は、これらのプロセスの
みに限定されるものではない。図1は、攪拌槽型反応器
(1)、クロスフロー濾過器(2)、および循環ポンプ
(3)を組合せたものである。図2は、反応器(1)、
クロスフロー濾過器(2)、および循環ポンプ(3)を
組み合わせたもので、反応器内上部の気相部にクロスフ
ロー濾過器の循環排出スラリー液をスプレーすることで
気液の接触・吸収を良好に行い反応させるものである。
この場合、反応器内の固・液の混合や気体の吸収を、循
環ポンプによる循環スラリーで行うため、図1の場合に
対し反応器の攪拌機が不用となる。これにより、特に高
圧系の反応において、攪拌機の軸シール等の問題がなく
なる。
クロスフロー濾過器(2)を組み合わせたものである。
この場合、気泡ポンプの原理を利用した液循環方式で、
図2の場合に対し循環ポンプを不用とする。これによ
り、押しだし流れに近い反応方式であるため、完全混合
槽よりも反応器は小さくなる。さらにクロスフロー濾過
器においては、気体の分離が不十分でスラリー中へ気体
が混入しても、濾過性能に問題はない。
横置きでも、縦置きでも良い。また、濾過器のスラリー
流入・流出方向も、濾過器上部または下部などの制約は
特にない。さらに、濾材の形状は、円管でも平面でも良
い。但し、濾過圧力が大きい場合は、同一の厚みでも強
度の高い円管の方が望ましい。また、スラリーは管内、
管外のどちらに流しても良いが、スラリーを管内に流し
た方がスラリーがスムーズに流れるため望ましい。
説明するが、本発明は、これら実施例のみに限定される
ものではない。
続アルキル化反応によるエチルベンゼンの製造を、図1
に示すようなプロセスで、以下に示す反応条件下におい
て行った。4リットルのSUS316製電磁攪拌式オー
トクレーブの内部に、温度計サヤ、原料液導入管、原料
ガス導入管及び温度調整用熱媒管を取り付け、さらに反
応液抜き出しノズル、循環液戻りノズル及び液面計を設
け、連続アルキル化反応器とした。
を通してバルブ操作により所定の循環量、すなわちクロ
スフロー線速度が約1〜3m/sになるように操作し
た。スラリーは、クロスフロー濾過器に供給し、固液分
離を行い、濃縮したスラリー液は反応器へ戻し、濾液は
濾液槽に抜きだした。この濾過器は、セラミック製の多
孔体(平均細孔径1〜2ミクロン)のフィルター管を設
置し、ガスまたは液にて逆洗浄操作ができるように逆洗
浄装置を取り付けた。
に、触媒として前処理した後粉砕し平均粒子径80〜1
20ミクロンに選別したY型ゼオライトを500g、ベ
ンゼン液を1600g仕込み、攪拌状態での液面計の指
示を確認し、この液面を運転中は保持する。次に、反応
器液面が先の指示値になるようにベンゼンを連続的に高
圧定量ポンプにより供給(定常時約18Kg/hr:K
g/時間:以下同じ)し、スラリー循環を行いながら反
応器内触媒スラリー濃度を分析すると約23重量%であ
った。その後、反応圧力が約15Kg/cm2 ゲージに
なるようエチレンを供給し、反応温度190℃の条件下
で反応を行った。反応液の抜き出し方法は、濾液槽の圧
力を濾過器内圧力以下で調整して行った(濾過器と濾液
槽との操作圧力差、すなわち濾過差圧は約0.1〜2.
0Kg/cm2 )。
にアルキル化反応および反応液と触媒の分離を円滑に行
った。ここで、濾過速度は、反応開始後急速に低下した
が、約100時間で安定化し、安定後の濾過速度は、1
50〜250リットル/m2/hr(濾過器単位面積当
り単位時間当りの濾液量:以下同じ)であった。さら
に、逆洗浄の効果を見るため、逆洗浄を行い再スタート
したところ、濾過速度は、ほぼ初期濾過速度まで回復し
約100時間後にほぼ安定化した。この時の濾過速度は
逆洗浄前の安定した値と同等であった。
イソホロン(以下、IPCIと略称する)を用いて連続
水素化反応による次の(2)式で表されるイソホロンジ
アミン(以下、IPDAと略称する)の製造を行った。
ここで、IPCIは、原料として次の(3)式で表され
るシアノイソホロン(以下、IPCNと略称する)を用
いて無触媒下での連続イミノ化反応によって合成した。
ここで水素化反応は図3に示すようなガスリフト方式の
プロセスを用いた。イミノ化反応・水素化反応の反応条
件を以下に示す。
の装置を用いて連続イミノ化反応器とした(但し、液循
環は行わない)。また、水素化反応器は竪型管状でその
上部に気液分離器を設け、温度計サヤ、原料液導入管、
原料ガス導入管を取り付け、温度調整用に熱媒トレース
を行い、さらに反応液抜き出しノズル、循環液戻りノズ
ル、ガス抜き出しノズル及び液面計を設け、連続水素化
反応器とした。
ンプにて水素化反応器に供給した。水素化反応器からの
反応液スラリー循環はガスリフトにより行った。反応器
への供給ガスは、反応消費分の水素ガスと排出ガスを圧
縮した循環ガスである。スラリーの循環流速は供給ガス
量により調整し、クロスフロー線速度は約1〜3m/s
とした。
同様に行った。この濾過器は、SUS316製焼結管状
フィルター(平均細孔径約2ミクロン)を設置し、ガス
または液にて逆洗浄操作ができるように逆洗浄装置を取
り付けた。イミノ化反応は、はじめに、イミノ化反応器
内に、IPCN原料混合液(重量比率でIPCN:メタ
ノール=1:2)を2.7Kg仕込み、攪拌状態での液
面計の指示を確認し、この液面を運転中は保持する。
より連続的にイミノ化反応器に供給(定常時約6Kg/
hr)し、イミノ化反応の反応圧力が約9Kg/cm2
になるようアンモニアを供給し、反応温度80℃の条件
下にて反応を行った。このイミノ化反応液を、イミノ化
反応器の液面が先の指示値になるように抜き出し、これ
を次の水素化反応器へ供給した。
に、触媒として遠心沈降式粒度分布測定装置SA−CP
3(島津製作所株式会社製)による測定値が平均粒子径
26.2ミクロン(粒子最小径約1〜3ミクロン)のラ
ネーコバルト触媒を63g仕込む。次に、前記のイミノ
化反応液を供給し、さらに水素ガスを供給し、スラリー
循環を行いながら反応器内触媒スラリー濃度を分析する
と約19重量%であった。その後水素化反応の反応圧力
が120Kg/cm2 ゲージになるように水素ガス抜き
出し部のバルブを調整し、反応温度120℃の条件下で
反応を行った。反応液の抜き出し方法は、濾液槽の圧力
を濾過器内圧力以下で調整して行った(濾過器と濾液槽
との操作圧力差、すなわち濾過差圧は約0.5〜3.0
Kg/cm2 )。その結果、逆洗浄無しで500時間連
続的にイミノ化反応・水素化反応および反応液と触媒の
分離を円滑に行った。安定後の濾過速度(約100時間
にて安定)は100〜200リットル/m2 /hrであ
った。
ルエステル(以下、DBEと略称する)を用いた連続水
素化反応による次の(5)式で表されるジオール(以
下、DIOLと略称する)の製造を、図2に示すような
プロセスで、以下に示す反応条件下において行った。
置を用い一部改造し、すなわち攪拌機は取り除き、スラ
リー循環液戻りノズルは反応器気相部にて液が分散し気
相との接触が良くなるようにスプレーを取り付けたもの
を、連続水素化反応器とした。 反応器からの反応液ス
ラリー循環は実施例1と同様に行った。但し、クロスフ
ロー線速度は3〜8m/sとした。
同様に行った。この濾過器は、SUS316製焼結管状
フィルター(平均細孔径約0.5ミクロン)を設置し、
ガスまたは液にて逆洗浄操作ができるように逆洗浄装置
を取り付けた。水素化反応は、はじめに、反応器内に、
触媒として遠心沈降式粒度分布測定装置SA−CP3
(島津製作所株式会社製)による測定値が平均粒子径3
〜5ミクロン(最小粒子径約1ミクロン)の銅クロム触
媒を850g、DBE液を1620g仕込み、攪拌状態
での液面計の指示を確認し、この液面を運転中は保持す
る。次に、反応器液面が先の指示値になるようにDBE
液を連続的に高圧定量ポンプにより供給(定常時約3.
0Kg/hr)し、スラリー循環を行いながら反応器内
触媒スラリー濃度を分析すると約27重量%であった。
その後、反応圧力が250Kg/cm2 ゲージになるよ
う水素を供給し、反応温度250℃の条件下で反応を行
った。反応液の抜き出し方法は、濾液槽の圧力を濾過器
内圧力以下で調整して行った(濾過器と濾液槽の操作圧
力差、すなわち濾過差圧は約0.5〜10.0Kg/c
m2 )。
に水素化反応および反応液と触媒の分離を円滑に行っ
た。安定後の濾過速度(約20時間にて安定)は100
〜200リットル/m2 /hrであった。
プからクロスフロー濾過器へ供給する配管の途中にN2
ガスを吹き込み(系の温度・圧力で約10容積%:N2
ガス供給装置の限界まで行った)、スラリーへの気体混
入の影響を見た結果、触媒分離性能にはほとんど影響し
なかった。
ことにより、粒径が数ミクロン単位までの触媒の使用が
可能であり、また高濃度のスラリーでの反応および触媒
分離を行える。このため、反応器の小型化ができ、触媒
流出による後工程での詰まり・スケーリングや触媒損失
を抑制できる。さらに、経時的な濾過速度低下を抑制す
ることにより逆洗浄の周期を長くし、長期間にわたり連
続的に円滑な運転を実現するものである。また、沈降速
度の遅い系に対して沈降分離器に比較して触媒分離装置
の小型化ができ、高圧系や危険物を取り扱う系に対して
もクローズ系であるため問題なく適用できる。
て、沈降分離器や液体サイクロンを使用する場合、スラ
リー中へ気体が混入すると、気泡に同伴する固形物によ
り濾過性能を低下させるため、気体の分離を十分行う必
要があるが、クロスフロー濾過器においては、スラリー
中へ気体が混入しても、濾過性能の低下はないなどの効
果もある。
の図である。(循環ポンプによるスラリー循環方式、攪
拌型反応装置)
の図である。(循環ポンプによるスラリー循環方式、循
環液スプレーによる反応装置)
の図である。(ガスリフトによるスラリー循環方式)
Claims (1)
- 【請求項1】 微粒子状固体触媒の存在下、液と液また
は液と気体の接触反応で液状反応生成物を得るに際し、 (1)懸濁液流動床にて液状反応生成物を得る工程、 (2)主に液状反応生成物からなるスラリー濃度3重量
%以上の触媒懸濁液を、0.5〜10μmの平均細孔径
の濾材を用い、かつ、クロスフロー線速度が0.05m
/秒以上のクロスフロー方式の濾過により、液状反応生
成物と濃縮された触媒懸濁液とに分離する工程、 (3)懸濁液流動床へ前記濃縮された触媒懸濁液を循環
する工程を有することを特徴とする連続反応方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP23024491A JP3323213B2 (ja) | 1991-09-10 | 1991-09-10 | 懸濁触媒系の反応方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23024491A JP3323213B2 (ja) | 1991-09-10 | 1991-09-10 | 懸濁触媒系の反応方法 |
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JPH0568869A JPH0568869A (ja) | 1993-03-23 |
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Family
ID=16904783
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP23024491A Expired - Lifetime JP3323213B2 (ja) | 1991-09-10 | 1991-09-10 | 懸濁触媒系の反応方法 |
Country Status (1)
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- 1991-09-10 JP JP23024491A patent/JP3323213B2/ja not_active Expired - Lifetime
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