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JP3283672B2 - 半導体メモリ - Google Patents

半導体メモリ

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JP3283672B2
JP3283672B2 JP32682193A JP32682193A JP3283672B2 JP 3283672 B2 JP3283672 B2 JP 3283672B2 JP 32682193 A JP32682193 A JP 32682193A JP 32682193 A JP32682193 A JP 32682193A JP 3283672 B2 JP3283672 B2 JP 3283672B2
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勝己 松野
幹 竹内
譲 大路
正和 青木
潤 衛藤
健 阪田
真志 堀口
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Hitachi Ltd
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Hitachi Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、強誘電体を用いた不揮
発性の半導体メモリに関する。
【0002】
【従来の技術】強誘電体を用いた、フェロ・エレクトリ
ック・ランダム・アクセス・メモリ(FERAM)は、
強誘電体の分極方向で記憶を行う不揮発メモリである。
このようなFERAMの一例として、特開平2−110
893の第1図に示されたアレー構成がある。従来のダ
イナミック・ランダム・アクセス・メモリ(DRAM)
と同様に、メモリセルMC1等は1トランジスタ1キャ
パシタからなる。ただし、メモリセルのキャパシタは蓄
積電極、プレート、蓄積電極とプレートとの間の強誘電
体膜で構成されている。このメモリセルは情報を強誘電
体膜の分極の方向として記憶する。この分極方向は、強
誘電体の特性として、電源を切っても失われない。
【0003】さて、メモリセルの不揮発情報を読出す際
には、全データ線(BL1,BL1 ̄ ̄ ̄,BL2,B
L2 ̄ ̄ ̄)をVssに設定した後、全データ線をフロ
ーティング状態にし、その後1つのワード線(WL1)
を活性化する。そして、全データ線の各データ線に接続
されたセンスアンプ(SA,SA’)により、各データ
線に現れた電圧を増幅し、その後、データ線を選択して
出力する。ここで、センスアンプ(SA,SA’)は次
のようにメモリセルの情報を検出する。まず、メモリセ
ルのキャパシタのプレートはVDD/2の電位にあるの
で、ワード線WL1に接続されたメモリセルのキャパシ
タには(Vss−VDD/2)の電圧が印加される。こ
の電圧は不揮発情報に対応して、メモリセルのキャパシ
タの強誘電体の分極方向をそのまま維持する場合と、反
転させる場合とがある。分極が反転する場合には、メモ
リセルから大きな電流が流れ出る。分極が反転しない場
合には、メモリセルからの電流はほとんどない。この電
流を検知することにより、不揮発情報を読み出すことが
できる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記F
ERAMでは以下の課題がある。
【0005】(1)1つのメモリセル情報を読出す時
に、非選択データ線も一時的にVssに設定される。こ
の結果、非選択データ線の充放電電流が不必要に大きく
なる。
【0006】(2)1つのメモリセル情報を読出す時
に、非選択データ線も一時的にVssに設定されるの
で、非選択データ線に接続されるメモリセルの情報が破
壊される。
【0007】(3)非選択データ線に接続されるメモリ
セルの情報が破壊されるので、強誘電体膜の分極が反転
したメモリセルに情報の再書き込みをするセンスアンプ
が各データ線に必要となる。その結果、チップ面積が増
大する。
【0008】従って、本発明の目的は強誘電体を用いた
不揮発性メモリの消費電力を低減することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の代表的な実施形態による半導体メモリは、
複数のワード線(WLf1〜WLfm)と、該複数のワード線に交
差する如く設けられた複数のデータ線(DLf1,DBf1,〜,DL
fn,DBfn)と、上記複数のワード線と上記複数のデータ線
との所望の交点に設けられた複数のメモリセル(MCf11,M
CBf11,〜,MCfmn,MCfmn)と、上記複数のワード線の1つ
のワード線(WLfi)を活性化するワード線選択手段と、上
記複数のデータ線の1つのデータ線(DLfj)を選択するデ
ータ線選択手段と、上記複数のデータ線の各データ線の
電位を所定の電位に設定するプリチャージ手段(PCf1〜P
Cfn,PCf0)とをチップ上に有する半導体メモリにおい
て、上記ワード線選択手段、上記データ線選択手段及び
上記プリチャージ手段は第1の電位(VDD)と第2の電位
(VSS)との間に設けられ、上記複数のメモリセルの各メ
モリセルは1つの電界効果トランジスタと1つのキャパ
シタとを有し、上記1つの電界効果トランジスタは上記
複数のワード線の1つのワード線に接続されたゲート
と、上記複数のデータ線の1つのデータ線に接続された
ソース又はドレインと、上記1つのキャパシタに接続さ
れたドレイン又はソースを有し、上記1つのキャパシタ
は上記1つの電界効果トランジスタの上記ドレイン又は
ソースに接続された蓄積電極と、プレート電極(PLf)
と、該蓄積電極と該プレート電極との間に設けられた強
誘電体膜とを有し、上記データ線選択手段が上記複数の
データ線の上記1つのデータ線(DLfj)を選択した後、上
記プリチャージ手段(PCf0)が上記選択された上記1つの
データ線(DLfj)の電位を上記第1の電位(VDD)に設定
し、しかる後、上記ワード線選択手段が上記複数のワー
ド線の上記1つのワード線(WLfi)を活性化することを特
徴とする(図1、図2参照)。
【0010】本発明の好適な実施形態による半導体メモ
リは、上記データ線選択手段が上記複数のデータ線の上
記1つのデータ線(DLfj)を選択する前に、上記プリチャ
ージ手段(PCf1〜PCfn)は上記複数のデータ線の電位を、
上記複数のメモリセルの上記キャパシタのプレート電極
の電位と略同一の第3の電位(VPL)に設定することを特
徴とする(図2参照)。
【0011】本発明のより好適な実施形態による半導体
メモリは、上記複数のデータ線に共通に設けられた1つ
のセンスアンプ(SAf)をさらに具備し、上記センスアン
プ(SAf)は上記データ線選択手段により選択された上記
複数のデータ線の上記1つのデータ線(DLfj)に接続さ
れ、上記ワード線選択手段が上記複数のワード線の上記
1つのワード線(WLfi)を活性化した後に、上記センスア
ンプ(SAf)は活性化されることを特徴とする(図1、図
2参照)。
【0012】
【作用】上記半導体メモリによれば、非選択データ線を
第1の電位に設定する必要がなく、その際の消費電流を
低減できる。
【0013】本発明の好適な実施形態による半導体メモ
リによれば、ワード線を活性化する際に、非選択データ
線の電位が上記複数のメモリセルの上記キャパシタのプ
レート電極の電位と略同一の第3の電位(VPL)に設定さ
れているので、非選択データ線に接続されるメモリセル
のキャパシタの強誘電体膜には電圧が印加されず、メモ
リセルの情報が破壊されない。
【0014】本発明のより好適な実施形態による半導体
メモリによれば、非選択データ線に接続されるメモリセ
ルの情報が破壊されないので、上記複数のデータ線に共
通に設けられた1つのセンスアンプ(SAf)を具備するだ
けでよく、メモリ面積を小さくできる。
【0015】
【実施例】図1は、本発明によるメモリの回路構成を示
した一実施例である。図において、ワード線WLfx
(x=1,…,m)とデータ線DLfyおよび相補デー
タ線DBfy(y=1,…,n)が行列状に配置され、
WLfxとDLfyとの交点上にメモリセルMCfxy
が接続され、WLfxとDBfyとの交点上に相補メモ
リセルMBfxyが接続されて、メモリセルアレイが構
成される。DLfy,DBfyは、それぞれプリチャー
ジ回路PCfy、データ線対選択スイッチSWfyに接
続される。PCfyは、プリチャージ回路制御線PCS
fyにより制御され、活性化時において、プリチャージ
電位供給線VCSfyの電位をDLfy,DBfyに供
給する。SWfyは、列選択信号線YSfyにより制御
され、選択されたデータ線対を感知信号線対DLf0,
DBf0に接続する。DLf0,DBf0は、プリチャ
ージ回路PCf0、センスアンプSAf、入出力スイッ
チSWf0に接続される。SAfは、センスアンプ制御
線PPf,PNfにより制御され、活性化時において、
DLf0,DBf0間の電位差を感知し増幅する。SW
f0は、列選択信号線YSf0により制御され、DLf
0,DBf0を入出力信号線対I/Ofに接続する。な
お、PCSf1〜PCSfnは全て個別のものである必
要はなく、例えば全てつながっていてもよい。VCSf
1〜VCSfnについても同様である。また、PCf0
を設けず、DLf0,DBf0のプリチャージ動作をP
Cf1〜PCfnのいずれかにより行ってもよい。
【0016】本実施例に示した回路の読み出し動作の一
例を、図2を用いて説明する。この例は、選択されたデ
ータ線対に対しては読み出し動作を行うが、選択されな
いデータ線対を動作させず、待機時電位のままとするも
のである。図において、WLfi(i=1,…,m)は
選択されたワード線を表し、DLfj,DBfj(j=
1,…,n)は、選択されたデータ線対を表し、DLf
y,DBfyは、ここでは選択されないデータ線対を表
すものとする。待機時において、ワード線電位はVS
S、メモリセルキャパシタのプレート電位およびデータ
線電位はVPL、センスアンプは非活性、プリチャージ
回路は活性、選択スイッチは非導通である。また、プリ
チャージ電位供給線VCSf0の電位をVDDとし、信
号線対DLf0,DBf0にはVDDを供給する。な
お、VPLはVDDとVSSとのほぼ中間の電圧であ
る。時刻trf1において、選択データ線対に接続され
たプリチャージ回路PCfjを非活性化すると共に、Y
SfjによりスイッチSWfjをオンさせ、DLfjを
DLf0に接続し(以下DLfj−DLf0と表す)、
DBfjをDBf0に接続する(以下DBfj−DBf
0と表す)。この時、VCSf0の電位VDDがDLf
j−DLf0,DBfj−DBf0に供給される。ここ
で、PCSf0の電位をVCHに上げると、VDDの充
電が十分行われる。この時、非選択データ線対に接続さ
れたプリチャージ回路PCfyは、待機時と同様に活性
化状態を保ち、DLfy,DBfyにVPLを供給し続
けてもよいし、PCfjと同時に非活性化し、DLf
y,DBfyをフローティング状態にしてもよい。
【0017】ここで図3に示すように、プリチャージ回
路制御線PCSf1,PCSf2にプリチャージ回路を
交互に接続すると、非活性のプリチャージ回路に隣接す
るプリチャージ回路を活性状態に保つことが可能にな
る。この構成によれば、選択データ線に隣接する非選択
データ線の電位を固定することができ、選択データ線の
電位変動に伴い非選択データ線に発生する、データ線間
容量による干渉雑音を低減できる。なお、例えば3本以
上のプリチャージ回路制御線を設ける等してもよい。
【0018】さて、図2に戻って読み出し動作の説明を
続ける。時刻trf2において、PCf0を非活性化
し、DLfj−DLf0,DBfj−DBf0をフロー
ティング状態にする。次に時刻trf3において、WL
fiの電位をVSSからVCHに上げ、WLfiに接続
されたメモリセルMCfiy,MBfiyのトランジス
タをオンさせる。すると、選択されたメモリセル対MC
fij,MBfijの強誘電体キャパシタには、ほぼV
DD−VPLの電圧が印加され、DLfj−DLf0,
DBfj−DBf0に信号電位が現われる。この時、非
選択データ線対の電位はほぼVPLであるから、WLf
iに接続された非選択セルでは、WLfiによりトラン
ジスタがオンしても、強誘電体キャパシタにほとんど電
圧がかからない。よって、これらのメモリセルからは信
号が読み出されず、また情報が破壊されることもない。
ここで時刻trf4において、PNf,PPfによりセ
ンスアンプSAfを活性化し、DLfj−DLf0,D
Bfj−DBf0の電位差を感知・増幅する。この増幅
動作により、分極反転により情報が破壊されたメモリセ
ルMCfij,MBfijに対し、再書き込みが行われ
る。時刻trf5において、YSf0によりスイッチS
Wf0をオンさせ、DLfj−DLf0,DBfj−D
Bf0に読み出した信号をI/Ofに出力する。この
時、外部から書き込み信号を与えることにより、選択セ
ルに情報を書き込むことも可能である。時刻trf6に
おいてSWfj,SWf0をオフさせると共に、PCf
1〜PCfnを活性化してDLf1〜DLfn,DBf
1〜DBfnの電位をVPLに充電する。時刻trf7
において、WLfiの電位をVSSにしてセル選択トラ
ンジスタをオフさせることにより、メモリセルアレイが
待機状態に戻される。また、SAfが非活性化され、時
刻trf8においてPCf0を活性化させることにより
DLf0,DBf0の電位が待機状態に戻され、読み出
し動作が終了する。上記の読み出し動作において、WL
fiとDLfj,DBfjとの交点上にあるメモリセル
以外は情報が読み出されない。よって、不要のデータ線
対駆動を省き、低消費電力のメモリを構成できる。ま
た、不要のメモリセル駆動による強誘電体の膜疲労促進
を緩和し、信頼性の高いメモリを得ることができる。な
お、ここでは1対のメモリセルから情報を読み出す例を
示したが、複数のデータ線対にVDDプリチャージを行
い、WLfiをVCHとした後、データ線対を順次DL
f0,DBf0に接続して信号の増幅および入出力線へ
の読み出しを行ってもよい。また、VDDプリチャージ
ではなくVSSプリチャージとしても同様な読出し動作
が行えることは言うまでもない。
【0019】以上述べたように、図1及び図2で説明し
た本実施例によれば、不要のデータ線対駆動を省けるの
で動作時の消費電流を低減することができる。さらに、
複数のデータ線でセンスアンプを共用し、センスアンプ
数を大幅に削減することが可能となる。これにより、低
消費電力、低雑音の効果が得られると共に、センスアン
プの面積削減、レイアウト余裕緩和の効果がある。ま
た、選択されないメモリセルキャパシタの不必要な分極
反転を低減して、強誘電体の疲労を緩和することができ
る。
【0020】図4は、本発明によるメモリの回路構成を
示した実施例であり、メモリセルアレイの構成および配
置を変え、ダミーセルを設けた点、およびデータ線と相
補データ線を並べず、ダミーデータ線を設けた点で、図
1に示した実施例と異なる。図において、ワード線WL
zx(x=1,…,m)とデータ線DLzy(y=1,
…,n)が行列状に配置され、WLzxとDLzyとの
交点上にメモリセルMCzxyが接続される。また、ダ
ミーワード線DWLzとダミーデータ線DDLzとの交
点上にダミーセルDMz1が接続される。ダミーセルの
キャパシタとしては、たとえばメモリセルのキャパシタ
より大面積のものを用いる。そして、読みだし動作直前
のダミーセルキャパシタの分極方向は、蓄積電極の電位
に選択データ線のプリチャージ電位、たとえばVDDを
印加し、一方プレートにVPLを印加したときに強誘電
体キャパシタに書き込まれる分極方向と同じに設定す
る。これにより、たとえば図2で説明したのと同様な読
みだし動作時に、データ線に現われる’1’および’
0’の信号電圧の中間の電圧がダミーデータ線に発生
し、メモリセルの記憶情報が検知される。なぜなら、メ
モリセルキャパシタの分極が読みだし動作時に非反転の
場合、キャパシタの面積の差だけダミーセルキャパシタ
の方が実効容量が大きいのでダミーデータ線の電位がデ
ータ線電位より低くなる。一方、メモリセルキャパシタ
の分極が反転の場合、反転にともないキャパシタに流入
する電流により、メモリセルキャパシタの方が実効容量
が大きくなるので、ダミーデータ線の電位がデータ線電
位より高くなるからである。なお、分極反転による実効
容量増大効果が、面積差による容量増大効果を上回るよ
うにダミーセルキャパシタを設計しなければならない。
DLzyは、それぞれプリチャージ回路PCzy、デー
タ線選択スイッチSWzyに接続される。PCzyは、
プリチャージ回路制御線PCSzo,PCSzeにより
制御され、活性化時において、プリチャージ電位供給線
VCSzの電位をDLzyに供給する。図の例では、P
CSzo、PCSzeに制御されるプリチャージ回路は
交互に配置され、1本おきのデータ線電位を固定するこ
とができる。SWzyは、列選択信号線YSzyにより
制御され、選択されたデータ線を感知・増幅用信号線D
Lz0に接続する。また、ダミーデータ線DDLzは、
プリチャージ回路DPCz、スイッチDSWzに接続さ
れる。DPCzは、プリチャージ回路制御線DPCSz
により制御され、活性化時において、プリチャージ電位
供給線DVCSzの電位をDDLzに供給する。DSW
zは、ダミーデータ線選択信号線DYSzにより制御さ
れ、DDLzを感知・増幅用信号線DDLz0に接続す
る。DLz0,DDLz0は、プリチャージ回路PCz
0、センスアンプSAz、入出力スイッチSWz0に接
続される。PCz0は、DLz0,DDLz0に充電を
行う。SAzは、DLz0,DDLz0間の電位差を感
知し増幅する。SWz0は、列選択信号線YSz0によ
り制御され、DLz0,DDLz0を入出力信号線対I
/Ozに接続する。読み出し動作および書き込み動作
は、前に述べた実施例と同様の原理に基づいて行えばよ
い。
【0021】本実施例によれば、これまで述べたような
データ線対を基本とするアレイ構成に比べ、より高密度
のメモリを得ることができる。また、選択データ線に隣
接する非選択データ線の電位を固定することが可能であ
るので、このような構成においても、データ線間の干渉
雑音の影響を十分低減できる。なお、ダミーセルを複数
個アレイ状に接続する等の変更を行ってもよい。さら
に、図において、センス回路を挟んでダミーセル側に別
のメモリセルアレイを接続し、メモリセルアレイ側に別
のダミーセルを接続し、選択セルを含むメモリセルアレ
イの反対側のダミーセルを用いる構成としてもよい。
【0022】図5は、強誘電体メモリ回路を示す、本発
明の一実施例である。同図(a)はメモリアレー構成、
同図(b)は(a)においてメモリセルを選択するため
の、アドレス入力方法を示す。図5(a)において、セ
ンスアンプSAa1等を選択的に駆動するためのスイッ
チSWP1等が設けられている点が図1と異なる。セン
スアンプの電源線がセンスアンプごとに設けられる図1
の例に比較して、センスアンプ電源線は共通化している
ので、メモリアレーを高集積化できる。ここで、SWP
1等を駆動する選択線YSDa1等は必要であるが、電
源線より細い配線でよいので高集積化に支障はない。し
たがって、メモリアレーを高集積化するのにより適した
構成である。図5(a)は、Vss(0V)プリチャー
ジで読出し動作を行なう場合であり、センスアンプの高
電位側の電源線に対してのみスイッチが設けられる。V
DDプリチャージの場合もセンスアンプの低電位側の電
源線に対してのみスイッチを設けることにより、本発明
の実施例の概念が同様に適用できることは言うまでもな
い。図5(b)は、同図(a)におけるメモリセルMC
ai1等を選択するための、アドレス入力方法を示すも
のである。2回に分けてアドレス入力を行うが、第二の
アドレスにワード線の選択情報が含まれる点が特徴的で
ある。まず、第一のアドレスストローブ信号/CS1の
立ち下がりに呼応して、YSajを指定するアドレス
(センスアンプに接続してVSSプリチャージを行うデ
ータ線の選択情報)が取り込まれる。この情報は、接続
されたセンスアンプ、たとえばSAaiをYSDa1に
より選択的に活性化するためにも用いられる。次に、第
二のアドレスストローブ信号/CS2の立ち下がりに呼
応して、ワード線WLaiを指定するアドレス、および
YSSAakを指定するアドレス(入出力線I/Oaに
接続するセンスアンプの選択情報)が取り込まれる。こ
こで、YSajによりただ1つのデータ線対が選択さ
れ、ただ1つのセンスアンプに接続される場合にはYS
SAakを/CS2に呼応して入力する必要はないが、
YSajにより複数のデータ線対が複数のセンスアンプ
にそれぞれ接続される場合にはYSSAakが必要とな
る。以上の2度にわたるアドレス取り込みの結果、指定
されたメモリセルの情報が、たとえば読出されDout
として出力される。本発明の実施例によれば、ワード線
のアドレスを先に入力する入力方法に比べ、VSSプリ
チャージすべき選択データ線および活性化すべきセンス
アンプを含むブロックが最初に与えられ、最初のアドレ
ス入力後直ちに読出し動作(選択的プリチャージ動作)
を開始できるので、低消費電力でかつ高速なメモリが得
られる効果がある。また、アドレスを複数回に分けて入
力する結果、アドレスピンの数を削減でき、少ないピン
数で高集積の半導体メモリを実装できる効果がある。複
数のデータ線対間でセンスアンプを共有することによ
り、センスアンプの占有面積を低減でき、チップ面積を
小さくできるので、チップ価格を安くできる効果もあ
る。なお、図5(b)に示したアドレス入力法の概念
が、図1および図4のメモリアレーに対しても適用でき
ることは言うまでもない。たとえば、図1のメモリアレ
ーの場合は、第一のアドレスストローブ信号/CS1に
呼応してYSfj、PPf、PNfに関する情報が取り
込まれ、第二のアドレスストローブ信号/CS2に呼応
してWLfi、YSf0に関する情報が取り込まれる。
【0023】図6は、強誘電体メモリ回路を示す、本発
明の一実施例であり、図5と同様なメモリ回路が2つ並
列して配置され、さらに周辺回路まで含めてより詳細に
記述したものである。メモリアレー内の様々なスイッチ
を制御するための制御線が、交差して設けられている。
まず、選択データ線をセンスアンプに接続するためのス
イッチはYデコーダYDECbからのY選択線YDb1
2等により選択される。一連の情報読み出し、書き込み
動作の中でのスイッチングのタイミングは、データ線に
交差する制御線YEb0によりコントロールされる。セ
ンスアンプSAb1等はYデコーダYDECbからのY
選択線YDb12等により選択される。選択されたセン
スアンプを活性化するタイミングは、データ線に交差す
る制御線P1bによりコントロールされる。また、選択
されたセンスアンプと入出力線I/Obとを接続するタ
イミングは、データ線に交差する制御線YEb1により
コントロールされる。データ線対を電源線VCSbの電
位、たとえばVDD/2の電位にプリチャージするため
の回路PCb1等が、データ線対ごとに設けられる。一
方、センスアンプの感知信号線を電源線VSAbの電
位、たとえば0Vの電位にプリチャージするための回路
PCSAb1等が、センスアンプごとに設けられる。上
記メモリセルアレーはMCTLb、XABb、YAB
b、XDECb、YDECbの周辺回路により制御され
る。コントロール回路MCTLbは、入力信号/CS
1、/CS2の状態に応じて、入力アドレスA0〜AN
の意味を解読する。周辺回路XABbは、Xアドレスを
生成し、最終的にワード線、たとえばWLbiを選択す
るための回路であり、MCTLbからの信号R1bによ
り入力アドレスA0〜ANが少なくともその一部にXア
ドレスを含むと指定された場合は、入力アドレスをもと
にXアドレスAWbを生成する。この情報はXデコーダ
XDECbにより解読され、最終的にワードドライバ、
たとえばXDRVbを活性化して、ワード線を選択す
る。なお、後に示すように、XDECbからの信号XD
0bは、信号線PCSbi、PCSSAb1、P1b、
YEb0、YEb1等の選択に用いる場合もある。周辺
回路YABbは、Yアドレスを生成し、最終的にデータ
線を選択するための回路であり、MCTLbからの信号
C1bにより入力アドレスA0〜ANが少なくともその
一部にYアドレスを含むと指定された場合は、入力アド
レスをもとにYアドレスADbを生成する。この情報は
YデコーダYDECbにより解読され、最終的にデータ
線、センスアンプを選択する。
【0024】図7は、図6のワードドライバXDRVb
等の一例であり、信号線XD0bがハイレベル、信号線
XEB0がロウレベルにセットされたドライバに限り、
ワード線WLbが活性化される。信号線WPHbは通常
ロウレベルにあり、ワード線電位を0Vに固定するが、
ドライバを動作させるときには、ハイレベルとして、信
号線XD0bおよびXEB0の入力に対応してドライバ
を動作させる。
【0025】図8は、図6のメモリ回路の情報読み出し
動作波形を示す、本発明の一実施例である。コントロー
ル回路MCTLbへの第一のアドレスストローブ信号/
CS1がロウレベルになると、アドレス信号A0〜AN
がデータ線の選択アドレスとして取り込まれ、信号AD
bさらにはYDb1、YDb12等を発生する。これと
並行して信号線たとえばPCSb1をロウレベルにし
て、データ線電位をVDD/2のフローティング状態に
する。この後、信号線YEb0をハイレベルにすると、
たとえば信号線YDb1で選択されたデータ線対DLb
1、DBb1のみがスイッチSWb1によりセンスアン
プSAb1に接続される。これに伴い、DLb1、DB
b1は回路PCSAb1により0Vにプリチャージされ
る。その他のデータ線はVDD/2の電位のままであ
る。次に、信号線PCSSAb1をロウレベルにして、
DLb1、DBb1をフローティング状態にする。さら
に、コントロール回路MCTLbへの第二のアドレスス
トローブ信号/CS2がロウレベルになると、アドレス
信号A0〜ANがワード線の選択アドレスとして取り込
まれ、信号AWbさらにはXD0b、XEBb等を発生
する。また、図7に示すワードドライバの活性化信号W
PHbもハイレベルにする。この結果、XD0b、XE
Bb等で選択されたワード線、たとえばWLbiが活性
化される。ワード線を活性化する前には、メモリセルキ
ャパシタのプレートPLbに対向する側のノード電位は
VDD/2にあり、DLb1、DBb1は0Vのフロー
ティング状態にあるので、WLbiの活性化に伴いDL
b1、DBb1の電位はわずかに上昇する。この電位上
昇量は、データ線の寄生容量と、強誘電体キャパシタの
実効容量とにより決まる。ここでメモリセルMCbi1
およびMBbi1の強誘電体キャパシタには反対方向の
分極が書き込んであるので、DLb1とDBb1とに電
位差が生じる。この理由は、PLbの電位がVDD/
2、DLb1、DBb1がほぼ0Vなので、WLb1を
活性化することにより2つの強誘電体キャパシタの分極
は一方向に揃う。すなわち、いずれか一方の分極は反転
する。分極が反転する場合、これを補償する余分の電荷
が必要と成り、キャパシタ容量が実効的に大きくなる。
この結果、分極の反転した側のデータ線の信号電位はよ
りVDD/2に近くなる。以上の原理に基づき発生した
DLb1とDBb1との電位差を、センスアンプSAb
1により検知するため、信号線P1bをハイレベルにす
る。この結果、YDb12で選択されたセンスアンプS
Ab1のみが活性化され、DLb1、DBb1の一方を
VDDに、他方を0Vに増幅する。この段階で、メモリ
セルMCbi1、MBbi1への情報再書き込みも行わ
れる。信号線YEb1をハイレベルにすると、YDb1
2で選択されたセンスアンプSAb1のみが入出力線I
/Obに接続され、情報を読み出すことができる。な
お、ワード線WLbiの活性化にともないWLbiと非
選択データ線との交点に設けられたメモリセルの情報が
破壊されることはない。なぜなら、プレートPLbおよ
び非選択データ線の電位は共にVDD/2であり、非選
択メモリセルの強誘電体キャパシタに電圧が印加される
ことはないからである。読み出し動作を終了するには、
/CS1をハイレベルにもどし、これに同期して、Yア
ドレスADb、YDb1、YDb12等を戻す。また、
YEb0をロウレベルにしてデータ線DLb1、DBb
1をセンスアンプSAb1から切り離した後、PCSb
1をハイレベルに戻してデータ線をVDD/2にプリチ
ャージする。データ線がVDD/2にプリチャージされ
た後に、ワードドライバのWPHbをロウレベルにして
ワード線WLbiを非活性にするが、ワードドライバの
貫通電流を防ぐため、/CS1の立ち上がりに同期して
XD0bをあらかじめロウレベルに戻しておく。最後
に、/CS2をハイレベルに戻し、これに同期してAW
bおよびXEBbをそれぞれロウレベル、ハイレベルに
戻す。以上述べた、本発明の動作方法によれば、/CS
1信号に同期した1回目のアドレス入力情報により、デ
ータ線を選択的に0Vにプリチャージするので、同アド
レス情報をワード線の選択に用いる場合に比べ、高速か
つ低消費電流の動作が可能となる。なぜなら、1回目の
アドレス情報でワード線を選択する場合は、ワード線を
選択する前に、まずデータ線をプリチャージする期間を
設ける必要がある。したがって、データ線をプリチャー
ジした後ワード線を選択し、2回目のアドレス情報でデ
ータ線、センスアンプを選択することになる。したがっ
て、データ線をプリチャージする期間だけアクセス時間
が遅くなる。しかも、この場合は、すべてのデータ線を
プリチャージする必要がある。したがって、データ線充
放電に伴う消費電流が大きくなる。
【0026】情報の書き換え動作を行うには、図8にお
いてYEb1をハイレベルにし、センスアンプと入出力
線とを接続している時点で、入出力線側からセンスアン
プを強制的に反転させてやれば良い。あるいは、図7の
ような読み出し動作を行うことなく、たとえばYDb1
2、YDb1、WLbiの活性化により、情報を書き換
えるメモリセルに対し、キャパシタのデータ線側のノー
ドを、入出力線に接続して、直ちに情報を書き換えても
良い。
【0027】以上図6〜図8で説明した本発明の実施例
によれば、情報の読み出し、書き込みに際して、選択さ
れたメモリセルの接続するデータ線のみを充放電すれば
良いので、動作時の消費電流を大幅に削減できる効果が
ある。さらに、アドレスを2回に分けて入力できるの
で、パッケージのピン数を少なく抑えつつ、メモリ記憶
容量を増大することができる。しかも、1回目のアドレ
スをデータ線の選択的なVss(0V)プリチャージ用
情報に用いるので、1回目のアドレスをワード線の選択
情報に用いる場合に比べ、動作速度の劣化を抑えつつ低
消費電力を実現できる効果がある。また、センスアンプ
の活性化を行うに際し、センスアンプのpチャネル電界
効果トランジスタ側のみにスイッチを設けることによ
り、nチャネル電界効果トランジスタ側にも同時にスイ
ッチを設ける場合に比べ、回路が簡素化され、スイッチ
回路の占有面積を小さくできる効果がある。さらに、セ
ンスアンプを複数のデータ線間で共有する構成が可能と
なるので、センスアンプの占有面積を減らし、チップ面
積を小さくできる効果がある。なお、本発明の実施例で
は、Vssプリチャージによる情報読み出し方法につい
て説明したが、VDDプリチャージでも同様に行えるこ
とは言うまでもない。
【0028】図9は、強誘電体メモリ回路を示す、本発
明の別の実施例である。図6と比較して、YデコーダY
DECc1からの1つの信号線、たとえばYDc12に
より、複数のセンスアンプを同時に選択し、1つの信号
線、たとえばYDc1等によって、複数のデータ線対を
同時に選択する点が特徴的である。複数のデータ線対は
それぞれ異なるセンスアンプに接続される。図9におい
ては、信号線YDc12が、2つのセンスアンプを、信
号線YDc1等が2つのデータ線対を選択する例を示し
ている。センスアンプSAc1およびSAc2は、信号
線P1cによる制御で、同時に活性化される。また、セ
ンスアンプSAc1およびSAc2は、信号線YEc1
による制御で、別の入出力線I/Oc1およびI/Oc
2にそれぞれ接続される。たとえば、情報読み出し時に
おいて、センスアンプからの出力はレジスタRScに蓄
えられ、デコーダ回路YDECc2による選択により、
適宜主入出力線I/OMcに出力される。この場合、た
とえば図5(b)と同様な方法でアドレスを入力すれば
よいが、図5(b)において第二のアドレスでYSSA
akを選択する代わりに、図9ではレジスタRScと主
入出力線I/OMcとの間のスイッチを制御する。ある
いは、コントロール回路YDECc2はカウンタであっ
て、2回目のアドレスをもとに、レジスタRScの情報
を順次主入出力線I/OMcに転送する。カウンタアッ
プ動作は、外部からの信号、たとえば/CS2信号ある
いはシステムクロック信号を用いれば良い。本発明の実
施例によれば、信号線YDc1等や、YDc1と信号線
YEc0との間で構成されるアンド回路等を、データ線
ピッチに合わせて配置する必要がなく、YDc1〜YD
c4、YDc12の間隔を広く取れる。したがって、レ
イアウトが容易になり、またアンド回路によりチップ面
積の増大を招くこともない。しかも、ワード線と交差す
る全てのデータ線を充放電する場合に比べて、動作時の
消費電流を小さくできる効果がある。さらに、データを
センスアンプにラッチしたまま、一連のデータを高速に
読み出し、書き換えできる効果がある。すなわち、図5
(b)で説明したのと同様な読み出し方法において、3
回目以降の入力アドレスも/CS2信号に呼応させて、
同じワード線を選択したまま活性化した上記センスアン
プの選択に用いることにより、一連のデータの高速な読
み出し、書き換えが可能となる。あるいは、2回目の入
力アドレスをもとに、カウンタにより内部アドレスを発
生させ、レジスタRScの情報を連続的に読み出し、あ
るいは書き換えることも可能である。
【0029】図10は、強誘電体メモリ回路を示す、本
発明の別の実施例である。複数のセンスアンプが信号線
YDd12の制御により、同時に活性化される点は図9
と同様である。図9と異なる点は、同時に活性化された
センスアンプは、コントロール回路YDECd2によ
り、選択的に同一の入出力線I/Odに接続されること
である。コントロール回路YDECd2は、たとえばカ
ウンタであって、センスアンプ群選択信号YDd12に
より活性化され、信号線YEd1からの信号で、順次一
連のセンスアンプが共通入出力線I/Odに接続され
る。コントロール回路YDECd2をアドレスデコーダ
で構成しても良いことは、言うまでもない。この場合、
たとえば図5(b)と同様な方法でアドレスを入力すれ
ば、高速かつ低消費電力の強誘電体メモリが実現でき
る。本発明の実施例によれば、図9の実施例と同様な効
果がある。すなわち、YDd1〜YDd4、YDd12
の間隔を広く取れる。また、ワード線と交差する全ての
データ線を充放電する場合に比べて、動作時の消費電流
を小さくできる。さらに、データをセンスアンプにラッ
チしたまま、一連のデータを高速に読み出し、書き換え
できる。
【0030】図11は、強誘電体メモリ回路を示す、本
発明の別の実施例である。1つのメモリアレーブロック
MA0−00等は、1つのセンスアンプとi+1本のデ
ータ線対とを有し、たとえば図5(a)と同様に構成さ
れる。ただし、センスアンプを挟んで両側にメモリアレ
ーが配置されている。k+1個のブロックMA0−00
〜MAk−00の相似な位置にあるデータ線対は、Yア
ドレス線、たとえばYDM0−0とこれに交差する信号
線YEU0−0またはYE0D−0の交点として、同時
に各ブロック内のセンスアンプに接続される。また、M
A0−00〜MAk−00の各ブロック内にあるk+1
個のセンスアンプSA00等は、Yアドレス線YDSA
−0とこれに交差する信号線P1−0との交点として活
性化される。同時に活性化されたk+1個のセンスアン
プSA00等の入出力線IO00への接続は、Yアドレ
ス線YDSA00〜YDSAk0と信号線P1−0との
交点として選択的に行われる。図11の場合、MA0−
00〜MAk−00と同様なk+1個のブロックからな
る単位が、横方向にn+1個、縦方向にm+1個配置さ
れている。このようにして、2本の交差する信号線を選
択することにより、メモリセルの情報を選択的に読出
し、あるいは書き換えることができる。
【0031】図12は図11と同様なメモリ回路におけ
るアドレス入力方法を示す、本発明の一実施例である。
まず、第一のアドレスストローブ信号/CS1の立ち下
がりに呼応して、Yアドレス線YDMs−t、YDSA
−t(0≦s≦i、0≦t≦m)および信号線YE0U
−rまたはYE0D−r、P1−r(0≦r≦n)の選
択、すなわち、0Vにプリチャージするデータ線対の選
択情報が取り込まれる。次に、第二のアドレスストロー
ブ信号/CS2の立ち下がりに呼応して、ブロック
(t,r)内のワード線WL0(i)等および活性され
たk+1個のセンスアンプのうち一つを選択するYアド
レス線YDSAp1t(0≦p1≦k)の選択情報が取り
込まれる。このように、1回の入力アドレスはXデコー
ダXDECおよびYデコーダYDECの情報として適宜
分岐される。図11及び図12で述べた本発明の実施例
によれば、図9、10と同様な理由で信号線YDM0−
0〜YDMi−0等のレイアウトが容易になり、かつ動
作時の消費電流を低減できる効果がある。特に、2本の
交差する信号線、たとえばYDM0−0とYE0U−0
との論理積によりデータ線の選択を行うので、同じ信号
線YDM0−0の通過するメモリアレーブロックMA0
−00〜MA0−0nのうち、MA0−00のみを選択
することができ、上記の効果、すなわち信号線のレイア
ウトが容易で、かつ動作時の消費電流を低減できる効果
がより顕著となる。また別の効果としては、同時に活性
化されるセンスアンプを、信号線YDSA00等により
順次入出力線に接続することにより、一連のデータを高
速に読み出し、書き換えできる効果がある。さらに、同
一のセンスアンプを共有するデータ線対の数i+1を増
やすことにより、データ線長を短くできるので、データ
線の寄生容量を減らすことができ、その結果、信号電圧
を大きくできる効果がある。なお、iを大きくする場
合、kも大きくすれば(mを小さくすれば)、信号線Y
DM0−0〜m、…YDMi−0〜m、YDSA−0〜
m等のアドレス数を一定にできる。したがって、データ
線の寄生容量を減らすことに伴い、1回目のアドレス情
報量が増加することはない。
【0032】図13は、強誘電体メモリ回路を示す、本
発明の別の実施例である。図1〜図12の本発明の実施
例では、複数のデータ線対が1つのセンスアンプを共有
していたのに対し、本実施例では、複数のデータ線対が
複数のセンスアンプを共有する。前の実施例、図11で
は、1つのメモリアレーブロックたとえばMA0−00
が複数のデータ線対と1つのセンスアンプとから構成さ
れているのに対し、図13ではMA0−00等が複数の
データ線対と2つのセンスアンプとで構成されている。
このMA0−00等が図11と同様にマトリックス状に
配置される。図13において、たとえば、図8で説明し
たのと同様な方法で、2つのうちひとつのセンスアンプ
SA00U等に情報を読み出した後、これをラッチす
る。データをラッチしているセンスアンプSA00U、
SA10U等を次々に選択することにより、一連のデー
タを高速に読出すことができる。これは、図9〜図12
の本発明の実施例と同様である。一方、センスアンプに
ラッチしているデータ以外の情報が必要となった場合、
センスアンプSA00U等にラッチしているデータをア
クセスしている間に、2つのうちもうひとつのセンスア
ンプSA00D等を用いて、図8で説明したのと同様な
方法で、所望の情報をセンスアンプに読出すことができ
る。なお、センスアンプSA00U等にデータをラッチ
した段階で、データ線とセンスアンプは切り離してお
く。本発明の実施例によれば、同一のワード線に接続す
るメモリセルの情報はもちろん、他のワード線に接続す
るメモリセルの情報についても、連続して高速に読み出
せる効果がある。なお、本発明の実施例では、図9と同
様に、同時に活性化されるセンスアンプは、異なる入出
力線に接続されているが、図10、図11と同様な入出
力線の構成にしても良いことは、言うまでもない。
【0033】
【発明の効果】本発明によれば、低消費電力、高速、か
つ高集積の不揮発性強誘電体メモリが提供される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の強誘電体メモリ回路構成である。
【図2】図1の読出し動作波形である。
【図3】図1のプリチャージ回路構成である。
【図4】本発明のメモリ回路構成である。
【図5】本発明の強誘電体メモリ回路(a)及びそのア
ドレス入力方法(b)である。
【図6】本発明の強誘電体メモリ回路である。
【図7】図6のワード線駆動回路XDRVbの例であ
る。
【図8】図6のメモリ回路の動作波形である。
【図9】本発明の強誘電体メモリ回路である。
【図10】本発明の強誘電体メモリ回路である。
【図11】本発明の強誘電体メモリ回路である。
【図12】図11のメモリ回路におけるアドレス入力方
法である。
【図13】本発明の強誘電体メモリ回路である。
【符号の説明】
/CS1、/CS2…アドレスストローブ信号、A0〜
AN…アドレス信号、DOUT…出力、PPa〜PP
f、PNa〜PNf…センスアンプ駆動線、VSAa〜
VSAd…接地線、VCSa〜VCSd、VCSf1〜
VCSfn…VDD/2電源線、A0〜AN…アドレス
入力信号、R1b…Xアドレスコントロール信号、C1
b…Yアドレスコントロール信号、AWb…Xアドレス
信号、ADb…Yアドレス信号、XD0b、XEBb…
ワード線選択線、PCSai〜PCSdi、PCSf1
〜PCSfn…データ線プリチャージ信号、PCSSA
a1〜PCSSAd1、PCSf0…センス系プリチャ
ージ信号、P1b〜P1d、P1−0〜n…センスアン
プ駆動信号、YEb1〜YEd1、YE1−0〜n…セ
ンスアンプ・入出力線接続信号、YEb0〜YEd0、
YE0U−0〜n、YE0D−0〜n…センスアンプ・
データ線接続信号、I/Oa〜I/Of、IO00…入
出力線、PLa〜PLb…プレート、YDbi〜YDd
i、YSai〜YStijk、YDM0−0〜YDM0
−m、YDMi−0〜YDMi−m…データ線選択線、
YDb12〜YDd12、YSDa1、YDSA−0〜
YDSA−m…センスアンプ選択線、DLai〜DLf
i、DBai〜DBfi、D00、D00B…データ
線、WLai〜WLfi、WL0…ワード線、WPHb
…ワードドライバセット信号、YSSAai、YSSA
di、YSf0、YDSA00…センスアンプ・入出力
線接続選択線、MCTLb、XABb、YABb、XD
ECb、YDECb…周辺回路、XDRVb…ワードド
ライバ、MAb、M00U、M00D…メモリセルアレ
ー、MCaij〜MCfij、MBaij〜MCfij
…メモリセル、PCai〜PCfi…データ線プリチャ
ージ回路、513−i…センスアンプ・データ線間スイ
ッチ、PCSAai〜PCSAdi、PCf0…センス
系プリチャージ回路、SAai〜SAf、SA00、S
A00D、SA00U…センスアンプ、SWSAai〜
SWSAdi、SWf0…センスアンプ・入出力線間ス
イッチ、MA0−00〜MA0−nm、MAk−00〜
MAk−nm…メモリアレーブロック。
フロントページの続き (72)発明者 青木 正和 東京都国分寺市東恋ケ窪1丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 衛藤 潤 東京都国分寺市東恋ケ窪1丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 阪田 健 東京都国分寺市東恋ケ窪1丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 堀口 真志 東京都国分寺市東恋ケ窪1丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (56)参考文献 特開 昭64−49195(JP,A) 特開 昭63−201998(JP,A) 特開 平2−110893(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11C 11/22

Claims (10)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】複数のワード線と複数のデータ線との交点
    に設けられ、電界効果トランジスタに接続された蓄積電
    極とプレート電極との間に設けられた強誘電体膜を含む
    キャパシタをそれぞれに持つ複数のメモリセルと、 上記複数のワード線の1つのワード線を活性化するため
    のワード線選択手段と、 上記複数のデータ線の1つのデータ線を選択するための
    データ線選択手段と、 上記メモリセルに記憶された情報を検知するためのセン
    スアンプと、 上記複数のメモリセルの上記キャパシタの上記プレート
    電極に第1電位を供給するための手段と、 上記複数のデータ線の各データ線の電位を所定の電位に
    設定するためのプリチャージ手段とを備え、 上記複数のデータ線の内の一つのデータ線である第1デ
    ータ線に接続された上記複数のメモリセルの内の一つで
    ある第1メモリセルから信号を読み出す場合に、上記プ
    リチャージ手段が、上記第1メモリセルの接続される上
    記第1データ線の電位を上記第1電位と異なる第2電位
    にプリチャージするとともに上記複数のデータ線のうち
    上記第1データ線を除く他のデータ線の電位を上記第1
    電位にプリチャージし、しかる後、上記ワード線選択手
    段が読み出し対象となる上記第1メモリセルに接続され
    た上記複数のワード線のうちの1つである第1ワード線
    を活性化する ことを特徴とする半導体メモリ。
  2. 【請求項2】請求項1に記載の半導体メモリにおいて、
    上記第1ワード線が活性化されている期間に、上記プリ
    チャージ手段は、上記第1データ線に対するプリチャー
    ジを停止するとともに上記複数のデータ線のうち上記第
    1データ線を除く他のデータ線の電位を上記第1電位に
    プリチャージすることを特徴とする半導体メモリ。
  3. 【請求項3】請求項2に記載の半導体メモリにおいて、
    上記センスアンプは、上記メモリセルから読み出された
    情報を上記第2電位又は第3電位に増幅し、 上記第電位は上記第電位と上記第電位との間の電
    位であることを特徴とする半導体メモリ。
  4. 【請求項4】請求項1又は請求項3の何れかに記載の半
    導体メモリにおいて、上記プリチャージ手段は上記複数
    のデータ線のうち所望のデータ線を上記第2電位に設定
    するための第1プリチャージ回路と上記複数のデータ線
    のうち上記所望のデータ線以外のデータ線を上記第1電
    位に設定するための第2プリチャージ回路とを有する
    とを特徴とする半導体メモリ。
  5. 【請求項5】請求項1から請求項4のいずれかに記載の
    半導体メモリにおいて、 上記センスアンプは上記複数のデータ線に共通に設けら
    れ、 上記センスアンプは上記データ線選択手段により上記読
    み出し対象となるメモリセルに接続された1つのデータ
    線に接続されることを特徴とする半導体メモリ。
  6. 【請求項6】請求項4に記載の半導体メモリにおいて、上記センスアンプ及び 上記第1プリチャージ回路は上記
    複数のデータ線に共通に設けられ、 上記センスアンプ及び上記第1プリチャージ回路は上記
    データ線選択手段により上記読み出し対象となるメモリ
    セルに接続された1つのデータ線に接続され、 上記第1プリチャージ回路は上記第2電位を上記読み出
    し対象となるメモリセルに接続された1つのデータ線に
    出力することを特徴とする半導体メモリ。
  7. 【請求項7】請求項6に記載の半導体メモリにおいて、 上記第2プリチャージ回路は上記複数のデータ線の奇数
    番目の各データ線に接続された第3プリチャージ回路群
    と上記複数のデータ線の偶数番目の各データ線に接続さ
    れた第4プリチャージ回路群とを有し、 上記センスアンプが活性化される際には、上記データ線
    選択手段により選択される上記複数のデータ線の上記1
    つのデータ線が奇数番目のときは上記第4プリチャージ
    回路群が活性化され、上記データ線選択手段により選択
    される上記複数のデータ線の上記1つのデータ線が偶数
    番目のときは上記第3プリチャージ回路群が活性化され
    ることを特徴とする半導体メモリ。
  8. 【請求項8】請求項7に記載の半導体メモリにおいて、 上記半導体メモリは上記複数のメモリセルに共通に1つ
    のダミーセルをさらに具備し、 該ダミーセルは1つのトランジスタと1つのキャパシタ
    を有し、 上記複数のメモリセルの選択されたメモリセルと上記ダ
    ミーセルを上記センスアンプに接続することにより、上
    記選択されたメモリセルに記録された情報を増幅し、 上記複数のメモリセルの各メモリセルのキャパシタの強
    誘電体は第1の分極の状態と第2の分極の状態とを有
    し、 上記ダミーセルのキャパシタの容量は上記複数のメモリ
    セルの各メモリセルのキャパシタの上記第1の分極の状
    態の時の容量より大きく、上記第2の分極の状態の時の
    容量より小さいことを特徴とする半導体メモリ。
  9. 【請求項9】請求項1〜請求項4の何れかに記載の半導
    体メモリにおいて、 上記センスアンプは上記複数のデータ線に共通に複数個
    設けられ、上記半導体メモリの 外部から入力される第1アドレス信
    号により、上記データ線選択手段は上記読み出し対象と
    なるメモリセルに接続された1つのデータ線を上記複数
    のセンスアンプのうち1つのセンスアンプに接続する
    とを特徴とする半導体メモリ。
  10. 【請求項10】請求項1〜請求項4の何れかに記載の半
    導体メモリにおいて、 上記センスアンプは上記複数のデータ線に共通に設けら
    れ、上記半導体メモリの 外部から入力される第1アドレス信
    号により、上記データ線選択手段は上記読み出し対象と
    なるメモリセルに接続された1つのデータ線を 上記セン
    スアンプに接続し、 上記第1アドレス信号の後に上記半導体メモリの外部か
    ら入力される第2アドレス信号により、上記ワード線選
    択手段は上記複数のワード線のうち上記読み出し対象と
    なるメモリセルに接続された上記第1ワード線を活性化
    することを特徴とする半導体メモリ。
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