JP3105392B2 - コネクタ用銅基合金の製造法 - Google Patents
コネクタ用銅基合金の製造法Info
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Description
・電子部品用材料として好適な中強度・中導電性銅基合
金の製造法に関するものである。
種々の機械の電気配線の複雑化・高集積化が進み、これ
に伴ってコネクタ等の電気・電子部品用伸銅品材料の需
要が増加している。
より一層の軽量化、高信頼化、低コスト化が要求される
ようになり、これらの要求を満たすものとなるようにす
るために、コネクタ用銅基合金材料は薄肉化され、ま
た、複雑な形状にプレスされるため、強度、弾性、導電
性およびプレス成形性が良好でなければならないとされ
ている。
に対して座屈しない強度、電線の加締め、保持に対する
強度等の改善が望まれ、したがって引張強さは、450
N/mm2 以上であることが好ましく、さらに通電によるジ
ュール熱発生を抑えるため導電率は、39%IACS 以上で
あることが好ましいとされている。
要求も厳しくなり、曲げ部半径(R)と板厚(t)との
比R/tが1以下を満足する加工性が必要である。更
に、耐食性、耐応力腐食割れ性に優れていることが必要
であり、またメス端子に至っては、熱的負荷が加わるこ
とから、耐応力緩和特性にも優れていなければならな
い。
トの材料として使用されていたが、これらは強度と導電
率のバランス、耐食性、耐応力腐食割れ性、耐応力緩和
特性等の点では劣っていた。このように、上記の諸特性
を同時に兼備し、しかも安価なコネクタ用合金材料は得
られていなかった。
めっきされることが多いため、プレス工程で生じたプレ
スくずを溶解原料として再使用するためには、脱脂、め
っき剥離等の予備処理が必要であった。またプレスくず
を直接原料として使用した場合には、プレス油の燃焼
(酸化)や蒸発の過程で炉壁を痛めたり、水素の吸蔵に
よるインゴットのブローホール発生があったりして、歩
留まり低下等、コストアップの要因となっていた。
ては母材となる材料の製造工程とSnめっき等の表面処
理工程とが各々独立して実施されており、熱処理等をは
じめとした工程短縮等によるコストダウンの余地が残さ
れていた。
きの有無や厚さ等が検討されているが、これはめっき加
熱剥離の見地から検討されたものであり、耐応力緩和特
性、はんだ付け性、接触抵抗、ばね性などコネクタ端子
として要求される特性について、総合的には検討されて
おらず、このためCuやSnの最適膜厚の検討は不十分
であった。
ニクスの発達にともない、コネクタ等の電気、電子部品
用材料に要求される上記のような諸特性を兼備した銅基
合金、すなわち強度、弾性、導電率、プレス成形性等に
優れたコネクタ用銅基合金の製造法を提供するものであ
る。
を解決するために鋭意研究した結果、銅に添加する成分
の種類を極めて少なくするとともに、銅材より安価な成
分を添加することにより低コスト化を図ることによって
コネクタ等の電気・電子部品の製造用材料に要求される
強度・弾性・導電率・プレス成形性等に優れた諸特性を
兼備したコネクタ用銅合金を開発することができた。
レスくずを直接溶解原料として再使用することが可能と
なるようにするとともに、本合金のSn表面処理材をよ
り有利に得るための製造法の提供を目的とする。
がZn:3.0〜7.0wt% 、Sn:0.2〜1.0wt
% であり、且つそれらの添加量が次式(1)で表わされる
関係を満たし、1.0≦0.2X+Y≦1.8 (1)[但
し、XはZnの添加量(wt%)であり、YはSnの添加
量(wt%)である。]不純物の合計が0.2wt%以下であ
る銅基合金を原材料として用い、350〜750℃の温
度で1〜360分の熱処理後、加工率40%以上で冷間
加工して得た材料の表面に、Cu下地を0.3〜1.0
μm、SnをCu下地上に0.5〜2.0μmの厚さで
表面処理層として形成し、次いで100〜280℃の温
度で1〜180分の熱処理を施すことを特徴とするコネ
クタ用銅基合金の製造法を提供するものである。
よびSnの成分量限定理由は以下に基づく。
度、弾性が向上する。Cuより安価であるため多量に添
加することが望ましいが、7wt% を越えると耐食性、耐
応力腐食割れ性、導電率および耐応力緩和特性が低下す
る。さらにめっき性、はんだ付け性が低下する。一方、
3wt% より少ないと強度、弾性が不足する。さらにSn
で表面処理したスクラップを原料とした場合に、溶解時
の水素ガス吸蔵量が多くなり、インゴットのブローホー
ルが発生しやすくなる。また、安価なZnが少ないので
あるから、経済的にも不利になる。したがって、Znは
3.0〜7.0wt% の範囲とする。
とした機械的特性を向上させる効果がある。また、Sn
めっき材等のSnで表面処理した材料の再利用の点から
も添加元素として含有されるのが好ましい。しかしなが
ら、Sn含有量が増すと導電率が急激に低下し、また熱
間加工性も低下する。このため導電率39%IACS を確保
するためには、1.0wt% を越えない範囲でなければな
らず、また逆に0.2wt% より少ないと以上のような効
果を得られないことから、Snの添加量は0.2〜1.
0wt% の範囲であればよい。
あれば、Cuの固溶限を越えない範囲であるため均一な
組成の合金が得られ、尚且つ以下の式(1) により限定さ
れる範囲(図1に示す斜線部が、本発明銅基合金の組成
範囲である)で、Zn、Snを母合金のCuに添加する
ことで引張強さ450N/mm2 以上、導電率が39%IACS
以上、さらにコネクタ材として必要な諸特性、具体的に
は耐食性、耐応力腐食割れ性(アンモニア蒸気中での割
れ寿命が黄銅1種の10倍以上)、耐応力緩和特性(1
20〜150℃における緩和率が黄銅1種の半分以
下)、成形加工性(R/t≦1.0の90°W曲げにも
クラック発生無し)等を満足する銅基合金を作製でき
る。 1.0≦0.2X+Y≦1.8 (1) [但し、XはZnの添加量(wt% )であり、YはSnの
添加量(wt% )である。]さらに、その他の不純物はで
きるだけ少ないほうが望ましい。特に一般的に含有され
やすいFe、Siは少量の含有で導電率の低下や、熱処
理時の硬度のばらつきを大きくし、また再結晶時におけ
る結晶粒の制御が難しくなるため、Feは0.1wt% 以
下、さらに好ましくは0.05wt% 以下、Siは0.0
5wt% 以下、さらに好ましくは0.03wt% 以下とす
る。
と導電率の低下以外に、不純物含有の影響による成形加
工性の低下や酸化皮膜の影響による接触抵抗の増大、は
んだ付け性の低下を生じ、また製造上も歩留まりや特性
にばらつきが発生しやすくなることから、不純物の合計
は0.2wt% 以下とする。
0℃の温度で1〜360分熱処理後、加工率40%以上
で冷間加工した材料の表面に、Cu下地を0.3〜1.
0μm、Snを0.5〜2.0μmの厚さで表面被覆し
た後に、100〜280℃の温度で1〜180分熱処理
を施すとさらにコネクタ用材料としての特性が向上する
ことを見い出した。
て、結晶粒径を5〜20μmに制御すればプレス成形性
が向上するが、この時の処理温度は350〜750℃と
する。これは350℃未満の温度では再結晶に必要な温
度としては低すぎ、処理時間が長くなるため経済的でな
く、逆に750℃を越える温度では短時間で結晶粒が粗
大化し、粒径の制御が難しい。
処理時間が短かすぎると再結晶による結晶粒の制御が十
分でなく、長すぎると結晶粒の成長、粗大化が起こりや
すく、また経済的にも不利となるからである。最終冷間
加工率は40%以上とする。40%未満では加工硬化に
よる強度、硬度等の向上が十分でない。但し、加工率が
大きすぎると加工性が低下するので、より好ましい範囲
としては40〜80%の範囲である。
としてCu下地を0.3〜1.0μm、Snの表面処理
被覆を0.5〜2.0μm施す。Cu下地が0.3μm
未満では、合金中のZnが表面処理層および表面に拡散
し酸化することによる接触抵抗の増加や、はんだ付け性
の低下を防止する効果が少なく、1.0μmを越えても
効果が飽和し、また経済的でもなくなる。Sn表面処理
層は、0.5μm未満では耐食性、特に耐硫化水素性が
不十分であり、逆に2.0μmを越えても効果が飽和
し、経済的に不利となる。
よって実施すれば、膜厚の均一性、経済性の面から好ま
しく、尚、より好ましくは表面処理後に光沢を出すため
にリフロー処理を施すとよい。
にウィスカ対策をはじめとした特性の向上が図れること
が判明した。すなわち、上記表面処理材を100〜28
0℃の温度で1〜180分熱処理することによって、材
料のばね限界値、耐応力緩和特性が向上し、ウィスカ対
策が実現できる。100℃未満の温度ではこのような効
果が十分でなく、280℃を越えると拡散や酸化によ
り、接触抵抗、はんだ付け性、加工性が低下する。ま
た、熱処理時間が1分未満では効果が十分でなく180
分を超えると拡散や酸化による前述の特性低下が起こり
経済的でない。以下、実施例をもって詳細に説明する
が、本発明の範囲はこれらに限定されるものではない。
o.1〜11を高周波誘導溶解炉を用いて溶製し、40
×40×150(mm)の鋳塊に鋳造した。ただし溶解鋳造
時の雰囲気はArガス雰囲気とした。鋳造後直ちに水冷
し、各鋳塊について冷間圧延と焼鈍を繰り返し、厚さ
0.6mmまで冷間圧延した。
後、水急冷を行い、さらに酸洗を施して得た熱処理材を
厚さ0.25mmまで冷間圧延し、試験材とした。尚、表
1に示した本発明合金No.1〜8中の不純物は、それ
ぞれ合計0.2wt% 以下であり、特にFe、Siは共に
0.05wt% 以下であった。
硬さ、引張強さおよび導電率の測定を行なった。測定方
法はそれぞれJIS Z 2244、JIS Z 22
41、JIS H 0505に従った。また、曲げ加工
性は、90°W曲げ試験(CES−M−0002−6、
R=0.2mm、圧延方向および垂直方向)を行ない、中
央部の山表面が良好なものを○印、しわの発生したもの
を△印、割れの発生したものを×印として評価し、これ
らの結果を表1に併せて示した。
o.1〜8の銅合金は引張強さ、導電率のバランスに優
れ、また曲げ加工性も良好であることがわる。従ってこ
れらはコネクタ等の電気・電子部品用材料として非常に
優れた特性を有する銅合金である。これに対して、Zn
含有量の多いNo.9、Fe不純物の多いNo.10、
Fe,Si不純物の多いNo.11は、導電率、曲げ加
工性に劣っていることがわかる。
と市販の黄銅1種(C2600−EH,C2600−H
材)について、硬さ、引張強さ、ばね限界値、導電率、
耐応力腐食割れ性、耐熱温度を試験測定した。この場
合、硬さ、引張強さおよび導電率の測定試験は、実施例
1と同様の測定法であり、ばね限界値の測定は、JIS
H 3130にしたがって行なった。応力腐食割れ時間
は試料に約400N/mm2 の曲げ応力を負荷し、12.5
%アンモニア水の入ったデシケータ内に暴露して割れが
発生した時間である。耐熱温度は、30分加熱保持後の
硬さが、初期硬さの90%となる温度とした。このよう
にして得た結果を表2に併せて示した。
は、従来の代表的なコネクタ等の電気・電子部品用材料
である黄銅に比較して、導電率、耐応力腐食割れ性、耐
熱性が向上していることがわかる。従って、本発明の銅
基合金は、耐環境性、信頼性に優れていることが明らか
である。
後、Cu下地めっきを0.5μm、Snめっきを1.1
μm施した後、プレス打ち抜きした材料を溶解鋳造用の
原料として準備した。鋳造における目標組成は第3表と
し、また、溶解用の原料としてプレスくずを約1t、残
りは電気Cu、Znにより成分調整し約2tのインゴッ
トを6本得た。得られたインゴットの成分はほぼ表3に
示すものと同一であった。
は、原料のプレスくずを450℃で、3時間大気中で加
熱処理して用いたものであり、残りの3本は何ら処理を
せずに用いたものである。各インゴットを急速に溶解
し、2tのインゴットを鋳造して、熱間圧延、冷間圧
延、焼鈍を繰り返し、0.25mmに仕上げた。このよう
にして得られた材料の全長を検査し、インゴットのブロ
ーホールに起因した欠点の個数を数え、その結果を表4
に示した。
レスくずを熱処理して用いたものは欠陥がなく優れてい
たのに対し、熱処理をしないで用いた製品には欠陥が発
生しており、歩留まりに問題があることがわかる。
o.1にCu下地めっき0.5μm、Snめっき1.1
μmを施した後、150℃の温度で60分の熱処理を実
施したものと、めっき処理後熱処理しなかったものの特
性を比較し、その結果を表5に示した。ただし、応力緩
和率は、試験片の中央部の応力が、400N/mm2 になる
ようにアーチ状に曲げ150℃の温度で500時間保持
後の曲げぐせを応力緩和率として次式により算出した。
(L1 −L0 )]×100 L0 :治具の長さ(mm) L1 :開始前の試料長さ(mm) L2 :処理後の試料端間の水平距離(mm)
法によって熱処理した材料は、熱処理をしなかった材料
に比べて諸特性に優れ、コネクタ用として適しているこ
とがわかった。
材料は、従来合金である黄銅等に比較して、引張強さ、
導電率のバランスや成形加工性をはじめ、耐環境性、耐
熱性、耐応力緩和率保持性等に優れるため、黄銅に代わ
る安価なコネクタ等の電気・電子部品材料として最適な
ものである。
る。
Claims (1)
- 【請求項1】 添加成分元素の含有量がZn:3.0〜
7.0wt% 、Sn:0.2〜1.0wt% であり、且つそ
れらの添加量が次式(1)で表わされる関係を満たし、 1.0≦0.2X+Y≦1.8 (1) [但し、XはZnの添加量(wt%)であり、YはSnの添
加量(wt%)である。]不純物の合計が0.2wt%以下で
ある銅基合金を原材料として用い、 350〜750℃の温度で1〜360分の熱処理後、加
工率40%以上で冷間加工して得た材料の表面に、 Cu下地を0.3〜1.0μm、SnをCu下地上に
0.5〜2.0μmの厚さで表面処理層として形成し、 次いで100〜280℃の温度で1〜180分の熱処理
を施すことを特徴とするコネクタ用銅基合金の製造法。
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