JP2986746B2 - 低分子有機珪素化合物及び架橋性材料 - Google Patents
低分子有機珪素化合物及び架橋性材料Info
- Publication number
- JP2986746B2 JP2986746B2 JP8305204A JP30520496A JP2986746B2 JP 2986746 B2 JP2986746 B2 JP 2986746B2 JP 8305204 A JP8305204 A JP 8305204A JP 30520496 A JP30520496 A JP 30520496A JP 2986746 B2 JP2986746 B2 JP 2986746B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- organopolysiloxane
- group
- sio
- units
- weight
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 87
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 title claims description 5
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 60
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 claims description 54
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 claims description 23
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 claims description 22
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 20
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 18
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 14
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 14
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 239000012763 reinforcing filler Substances 0.000 claims description 8
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 7
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 claims description 7
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 7
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N carbon carbon Chemical compound C.C CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 claims description 5
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 claims description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 claims description 4
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 claims description 3
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 2
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims description 2
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 4
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 claims 1
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 claims 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 claims 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 107
- -1 siloxanes Chemical class 0.000 description 64
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 238000000034 method Methods 0.000 description 29
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 29
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 22
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 22
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 20
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 20
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 20
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 18
- 229910020175 SiOH Inorganic materials 0.000 description 16
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 13
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 13
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 11
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 11
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 11
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 11
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 10
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 10
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910003902 SiCl 4 Inorganic materials 0.000 description 9
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 9
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 9
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 9
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 8
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 8
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 8
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 8
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 8
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 7
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910004283 SiO 4 Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000004061 bleaching Methods 0.000 description 6
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 6
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 6
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 6
- UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 6
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 5
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 5
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 5
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 description 5
- QYLFHLNFIHBCPR-UHFFFAOYSA-N 1-ethynylcyclohexan-1-ol Chemical compound C#CC1(O)CCCCC1 QYLFHLNFIHBCPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 4
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 4
- BITPLIXHRASDQB-UHFFFAOYSA-N ethenyl-[ethenyl(dimethyl)silyl]oxy-dimethylsilane Chemical compound C=C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C=C BITPLIXHRASDQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 4
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 4
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 4
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 4
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 4
- AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetramethylurea Chemical compound CN(C)C(=O)N(C)C AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 3
- 229940045985 antineoplastic platinum compound Drugs 0.000 description 3
- 239000000010 aprotic solvent Substances 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 3
- XSDCTSITJJJDPY-UHFFFAOYSA-N chloro-ethenyl-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)C=C XSDCTSITJJJDPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 3
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 3
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 3
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 3
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 3
- 150000001369 organodichlorosilanes Chemical class 0.000 description 3
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 210000002741 palatine tonsil Anatomy 0.000 description 3
- 150000003058 platinum compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 3
- 238000004073 vulcanization Methods 0.000 description 3
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 3
- AVGQTJUPLKNPQP-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloropropane Chemical compound CCC(Cl)(Cl)Cl AVGQTJUPLKNPQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000006023 1-pentenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000530 1-propynyl group Chemical group [H]C([H])([H])C#C* 0.000 description 2
- XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylpropan-2-ylperoxy)propan-2-ylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)(C)OOC(C)(C)C1=CC=CC=C1 XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920004482 WACKER® Polymers 0.000 description 2
- WYUIWUCVZCRTRH-UHFFFAOYSA-N [[[ethenyl(dimethyl)silyl]amino]-dimethylsilyl]ethene Chemical compound C=C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C=C WYUIWUCVZCRTRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- FFBHFFJDDLITSX-UHFFFAOYSA-N benzyl N-[2-hydroxy-4-(3-oxomorpholin-4-yl)phenyl]carbamate Chemical compound OC1=C(NC(=O)OCC2=CC=CC=C2)C=CC(=C1)N1CCOCC1=O FFBHFFJDDLITSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FSIJKGMIQTVTNP-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl)-methyl-trimethylsilyloxysilane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C=C)C=C FSIJKGMIQTVTNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 2
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N cyclohexene Chemical compound C1CCC=CC1 HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000596 cyclohexenyl group Chemical group C1(=CCCCC1)* 0.000 description 2
- 125000000058 cyclopentadienyl group Chemical group C1(=CC=CC1)* 0.000 description 2
- LPIQUOYDBNQMRZ-UHFFFAOYSA-N cyclopentene Chemical compound C1CC=CC1 LPIQUOYDBNQMRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002433 cyclopentenyl group Chemical group C1(=CCCC1)* 0.000 description 2
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 2
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 2
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 2
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 2
- 239000012760 heat stabilizer Substances 0.000 description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 2
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- HYHGXWLJHZIVJT-UHFFFAOYSA-N iron(2+) oxidosilane Chemical compound [SiH3][O-].[SiH3][O-].[Fe+2] HYHGXWLJHZIVJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 125000005394 methallyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 210000002445 nipple Anatomy 0.000 description 2
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 2
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 2
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 2
- 239000000546 pharmaceutical excipient Substances 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 230000001698 pyrogenic effect Effects 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004469 siloxy group Chemical group [SiH3]O* 0.000 description 2
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 2
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AAPLIUHOKVUFCC-UHFFFAOYSA-N trimethylsilanol Chemical compound C[Si](C)(C)O AAPLIUHOKVUFCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ORGHESHFQPYLAO-UHFFFAOYSA-N vinyl radical Chemical compound C=[CH] ORGHESHFQPYLAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003039 volatile agent Substances 0.000 description 2
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WRXCBRHBHGNNQA-UHFFFAOYSA-N (2,4-dichlorobenzoyl) 2,4-dichlorobenzenecarboperoxoate Chemical compound ClC1=CC(Cl)=CC=C1C(=O)OOC(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1Cl WRXCBRHBHGNNQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004973 1-butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 1-octene Chemical class CCCCCCC=C KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006017 1-propenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- VMAWODUEPLAHOE-UHFFFAOYSA-N 2,4,6,8-tetrakis(ethenyl)-2,4,6,8-tetramethyl-1,3,5,7,2,4,6,8-tetraoxatetrasilocane Chemical compound C=C[Si]1(C)O[Si](C)(C=C)O[Si](C)(C=C)O[Si](C)(C=C)O1 VMAWODUEPLAHOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMWVYCCGCQPJEA-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis(tert-butylperoxy)-2,5-dimethylhexane Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)CCC(C)(C)OOC(C)(C)C DMWVYCCGCQPJEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIZVXGBYTGTTTI-UHFFFAOYSA-N 2-[(4-methylphenyl)sulfonylamino]-2-phenylacetic acid Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)NC(C(O)=O)C1=CC=CC=C1 LIZVXGBYTGTTTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZMAWJRXKGLWGS-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-n-[4-(4-methoxyphenyl)-1,3-thiazol-2-yl]-n-(3-methoxypropyl)acetamide Chemical compound S1C(N(C(=O)CCl)CCCOC)=NC(C=2C=CC(OC)=CC=2)=C1 KZMAWJRXKGLWGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CEBKHWWANWSNTI-UHFFFAOYSA-N 2-methylbut-3-yn-2-ol Chemical compound CC(C)(O)C#C CEBKHWWANWSNTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006283 4-chlorobenzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1Cl)C([H])([H])* 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- 239000004971 Cross linker Substances 0.000 description 1
- 229920000858 Cyclodextrin Polymers 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 239000006057 Non-nutritive feed additive Substances 0.000 description 1
- 229910003849 O-Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003872 O—Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018557 Si O Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910008051 Si-OH Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002808 Si–O–Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006358 Si—OH Inorganic materials 0.000 description 1
- FMRLDPWIRHBCCC-UHFFFAOYSA-L Zinc carbonate Chemical compound [Zn+2].[O-]C([O-])=O FMRLDPWIRHBCCC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000006230 acetylene black Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 1
- 239000004964 aerogel Substances 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001447 alkali salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000005210 alkyl ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005428 anthryl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C3C(*)=C([H])C([H])=C([H])C3=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003286 aryl halide group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052916 barium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- HMOQPOVBDRFNIU-UHFFFAOYSA-N barium(2+);dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ba+2].[O-][Si]([O-])=O HMOQPOVBDRFNIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- ZPOLOEWJWXZUSP-AATRIKPKSA-N bis(prop-2-enyl) (e)-but-2-enedioate Chemical compound C=CCOC(=O)\C=C\C(=O)OCC=C ZPOLOEWJWXZUSP-AATRIKPKSA-N 0.000 description 1
- ZPOLOEWJWXZUSP-WAYWQWQTSA-N bis(prop-2-enyl) (z)-but-2-enedioate Chemical compound C=CCOC(=O)\C=C/C(=O)OCC=C ZPOLOEWJWXZUSP-WAYWQWQTSA-N 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000009388 chemical precipitation Methods 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- YQHLDYVWEZKEOX-UHFFFAOYSA-N cumene hydroperoxide Chemical compound OOC(C)(C)C1=CC=CC=C1 YQHLDYVWEZKEOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001925 cycloalkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- ZXIJMRYMVAMXQP-UHFFFAOYSA-N cycloheptene Chemical compound C1CCC=CCC1 ZXIJMRYMVAMXQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- DIXBSCZRIZDQGC-UHFFFAOYSA-N diaziridine Chemical compound C1NN1 DIXBSCZRIZDQGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEPRKVQEAMIZSS-AATRIKPKSA-N diethyl fumarate Chemical compound CCOC(=O)\C=C\C(=O)OCC IEPRKVQEAMIZSS-AATRIKPKSA-N 0.000 description 1
- OLLFKUHHDPMQFR-UHFFFAOYSA-N dihydroxy(diphenyl)silane Chemical class C=1C=CC=CC=1[Si](O)(O)C1=CC=CC=C1 OLLFKUHHDPMQFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDCRTTXIJACKKU-ARJAWSKDSA-N dimethyl maleate Chemical compound COC(=O)\C=C/C(=O)OC LDCRTTXIJACKKU-ARJAWSKDSA-N 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920005645 diorganopolysiloxane polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 239000006232 furnace black Substances 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010440 gypsum Substances 0.000 description 1
- 229910052602 gypsum Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000017 hydrogel Substances 0.000 description 1
- 150000002432 hydroperoxides Chemical class 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000004356 hydroxy functional group Chemical group O* 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 229910052909 inorganic silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L magnesium carbonate Chemical compound [Mg+2].[O-]C([O-])=O ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001095 magnesium carbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000021 magnesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003094 microcapsule Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- WKWOFMSUGVVZIV-UHFFFAOYSA-N n-bis(ethenyl)silyl-n-trimethylsilylmethanamine Chemical compound C[Si](C)(C)N(C)[SiH](C=C)C=C WKWOFMSUGVVZIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 1
- 125000003854 p-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Cl 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002941 palladium compounds Chemical class 0.000 description 1
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N pentamethylene Natural products C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 1
- 125000005561 phenanthryl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 1
- 150000004713 phosphodiesters Chemical class 0.000 description 1
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- HFHDHCJBZVLPGP-UHFFFAOYSA-N schardinger α-dextrin Chemical compound O1C(C(C2O)O)C(CO)OC2OC(C(C2O)O)C(CO)OC2OC(C(C2O)O)C(CO)OC2OC(C(O)C2O)C(CO)OC2OC(C(C2O)O)C(CO)OC2OC2C(O)C(O)C1OC2CO HFHDHCJBZVLPGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005624 silicic acid group Chemical class 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001973 tert-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N tert‐butyl hydroperoxide Chemical compound CC(C)(C)OO CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMTMWSZLPHDWBQ-UHFFFAOYSA-N tetrakis[ethenyl(dimethyl)silyl] silicate Chemical compound C=C[Si](C)(C)O[Si](O[Si](C)(C)C=C)(O[Si](C)(C)C=C)O[Si](C)(C)C=C JMTMWSZLPHDWBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005389 trialkylsiloxy group Chemical group 0.000 description 1
- GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N trichloro(ethenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C=C GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006227 trimethylsilylation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000005050 vinyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 239000004636 vulcanized rubber Substances 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000010 zinc carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011667 zinc carbonate Substances 0.000 description 1
- 235000004416 zinc carbonate Nutrition 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L83/04—Polysiloxanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0834—Compounds having one or more O-Si linkage
- C07F7/0838—Compounds with one or more Si-O-Si sequences
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/045—Polysiloxanes containing less than 25 silicon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/54—Silicon-containing compounds
- C08K5/541—Silicon-containing compounds containing oxygen
- C08K5/5415—Silicon-containing compounds containing oxygen containing at least one Si—O bond
- C08K5/5419—Silicon-containing compounds containing oxygen containing at least one Si—O bond containing at least one Si—C bond
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/12—Polysiloxanes containing silicon bound to hydrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/14—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups
- C08G77/16—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups to hydroxyl groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/14—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups
- C08G77/18—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups to alkoxy or aryloxy groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/20—Polysiloxanes containing silicon bound to unsaturated aliphatic groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/80—Siloxanes having aromatic substituents, e.g. phenyl side groups
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、低分子有機珪素化
合物、その製法並びにこれを架橋性オルガノポリシロキ
サン材料中に使用することに関する。本発明では、概念
オルガノポリシロキサンは、ダイマー、オリゴマー及び
ポリマーのシロキサンを包含する。
合物、その製法並びにこれを架橋性オルガノポリシロキ
サン材料中に使用することに関する。本発明では、概念
オルガノポリシロキサンは、ダイマー、オリゴマー及び
ポリマーのシロキサンを包含する。
【0002】
【従来の技術】構造SiO4/2−の三官能性単位(Q
−単位)及び構造R3SiO1/2−の単官能性単位
(M−単位)から成る低分子有機珪素化合物、例えば
(Me3SiO)4Si(CAS3555−47−3)
及び(Me3SiO)3SiOH(CAS17477−
97−3)、(ビニル−Me2SiO)4Si(CAS
60111−54−8)、(Me3SiO)2ビニル−
SiOH(CAS5356−84−3)及び(Me3S
iO)2MeSiOH(CAS17928−28−8)
は既に公知である(CAS:Chemical Abs
tract Service)。同様にこのような化合
物をシリカゲル、沈降又は熱分解珪酸を水酸化アルキル
アンモニウムを用いて水性アルカリ性分解し、引き続き
トリメチルシリル化により製造することも公知である。
これに関しては、例えばD.ヘッベル(Hoebbe
l)その他著“ツアイトシュリフト ヒュア アンオル
ガーニッシェ ウント アールゲマイネ ヒェミー(Z
eitschrift fur Anorganisc
he und Allgemeine Chemi
e)”第424巻(1976年)115頁を参照にされ
たい。
−単位)及び構造R3SiO1/2−の単官能性単位
(M−単位)から成る低分子有機珪素化合物、例えば
(Me3SiO)4Si(CAS3555−47−3)
及び(Me3SiO)3SiOH(CAS17477−
97−3)、(ビニル−Me2SiO)4Si(CAS
60111−54−8)、(Me3SiO)2ビニル−
SiOH(CAS5356−84−3)及び(Me3S
iO)2MeSiOH(CAS17928−28−8)
は既に公知である(CAS:Chemical Abs
tract Service)。同様にこのような化合
物をシリカゲル、沈降又は熱分解珪酸を水酸化アルキル
アンモニウムを用いて水性アルカリ性分解し、引き続き
トリメチルシリル化により製造することも公知である。
これに関しては、例えばD.ヘッベル(Hoebbe
l)その他著“ツアイトシュリフト ヒュア アンオル
ガーニッシェ ウント アールゲマイネ ヒェミー(Z
eitschrift fur Anorganisc
he und Allgemeine Chemi
e)”第424巻(1976年)115頁を参照にされ
たい。
【0003】西ドイツ特許(DE−A)第421613
9号明細書(Wacker−Chemie GmbH;
1993年11月18日交付)又は出願番号USSN0
8/313192の相応する米国特許出願には、1より
小さいか1と同じM−対Q−単位の比を有するMQ−樹
脂が記載されている。このMQ−樹脂は、疎水性にした
高分散珪酸の代わりに填料としてシリコーンゴム中に使
用することができる。西ドイツ特許(DE−B)第24
22846号明細書(Rhone−Poulenc
S.A.;1976年4月23日交付)又は相応する米
国特許(US−A)第3933729号及び第3983
265号明細書には、接着改良用に1、2より小さいか
1、2と同じM−対Q−単位の比を有するMQ−樹脂1
0〜50部を有する縮合架橋性オルガノポリシロキサン
材料が記載されている。
9号明細書(Wacker−Chemie GmbH;
1993年11月18日交付)又は出願番号USSN0
8/313192の相応する米国特許出願には、1より
小さいか1と同じM−対Q−単位の比を有するMQ−樹
脂が記載されている。このMQ−樹脂は、疎水性にした
高分散珪酸の代わりに填料としてシリコーンゴム中に使
用することができる。西ドイツ特許(DE−B)第24
22846号明細書(Rhone−Poulenc
S.A.;1976年4月23日交付)又は相応する米
国特許(US−A)第3933729号及び第3983
265号明細書には、接着改良用に1、2より小さいか
1、2と同じM−対Q−単位の比を有するMQ−樹脂1
0〜50部を有する縮合架橋性オルガノポリシロキサン
材料が記載されている。
【0004】
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、式: RaR1 b(OR2)cSiO4−(a+b+c)/2 (I) [式中、Rは同一又は異なるものであってよく、水素原
子又は場合により置換された、SiC−結合の、炭素原
子1〜18個を有する脂肪族飽和炭化水素基を表わし、
その際、珪素1個当たり最大1個の基Rは、水素原子を
表わすことができ、R1は同一又は異なるものであって
よく、SiC−結合の、炭素原子2〜18個を有する脂
肪族不飽和炭化水素基を表わし、R2は同一又は異なる
ものであってよく、水素原子又は、酸素原子で中断され
ていてよい、場合により置換された、炭素原子1〜18
個を有する炭化水素基を表わし、aは0、1、2又は3
であり、bは0、1、2又は3であり、cは0、1、2
又は3であり、式(I)中のa、b及びcの合計は3よ
り小さいか又は3であり、1分子当たり少なくとも1個
の基R1が存在している]の単位から成る珪素原子2〜
17個を有する低分子有機珪素化合物において、これ
は、式: (R3SiO)d(R2R 1SiO)e(OH)fSi (Ia) [式中、dは0、1、2又は3であり、eは1、2又は
3であり、fは1又は2であり、d+e+fの合計は4
である]の化合物及び式: [(R3SiO)g(R2R1SiO)h(OH)iSi]2O (Ib) [式中、gは同一又は異なるものであってよく、0、
1、2又は3であり、hは同一又は異なるものであって
よく、0、1、2又は3であり、iは同一又は異なるも
のであってよく、0、1又は2であり、各珪素原子1個
のg+h+iの合計は3であり、1分子当たり少なくと
も1個の基R1 及び1個の基OHが存在している]の化
合物から選択したものであることを特徴とする。
子又は場合により置換された、SiC−結合の、炭素原
子1〜18個を有する脂肪族飽和炭化水素基を表わし、
その際、珪素1個当たり最大1個の基Rは、水素原子を
表わすことができ、R1は同一又は異なるものであって
よく、SiC−結合の、炭素原子2〜18個を有する脂
肪族不飽和炭化水素基を表わし、R2は同一又は異なる
ものであってよく、水素原子又は、酸素原子で中断され
ていてよい、場合により置換された、炭素原子1〜18
個を有する炭化水素基を表わし、aは0、1、2又は3
であり、bは0、1、2又は3であり、cは0、1、2
又は3であり、式(I)中のa、b及びcの合計は3よ
り小さいか又は3であり、1分子当たり少なくとも1個
の基R1が存在している]の単位から成る珪素原子2〜
17個を有する低分子有機珪素化合物において、これ
は、式: (R3SiO)d(R2R 1SiO)e(OH)fSi (Ia) [式中、dは0、1、2又は3であり、eは1、2又は
3であり、fは1又は2であり、d+e+fの合計は4
である]の化合物及び式: [(R3SiO)g(R2R1SiO)h(OH)iSi]2O (Ib) [式中、gは同一又は異なるものであってよく、0、
1、2又は3であり、hは同一又は異なるものであって
よく、0、1、2又は3であり、iは同一又は異なるも
のであってよく、0、1又は2であり、各珪素原子1個
のg+h+iの合計は3であり、1分子当たり少なくと
も1個の基R1 及び1個の基OHが存在している]の化
合物から選択したものであることを特徴とする。
【0006】炭化水素基Rの例は、アルキル基、例えば
メチル−、エチル−、n−プロピル−、イソ−プロピル
−、n−ブチル−、イソ−ブチル−、t−ブチル−、n
−ペンチル−、イソ−ペンチル−、ネオ−ペンチル−、
t−ペンチル基、ヘキシル基、例えばn−ヘキシル基、
ヘプチル基、例えばn−ヘプチル基、オクチル基、例え
ばn−オクチル基及びイソ−オクチル基、例えば2,
2,4−トリメチルペンチル基、ノニル基、例えばn−
ノニル基、デシル基、例えばn−デシル基、ドデシル
基、例えばn−ドデシル基、オクタデシル基、例えばn
−オクタデシル基;シクロアルキル基、例えばシクロペ
ンチル−、シクロヘキシル−、シクロヘプチル基及びメ
チルシクロヘキシル基;アリール基、例えばフェニル
−、ビフェニリル−、ナフチル−、アンスリール−及び
フェナンスリール基;アルカリール基、例えばo−、m
−、p−トリル基、キシリル基及びエチルフェニル基;
アラルキル基、例えばベンジル基、α−及びβ−フェニ
ルエチル基である。
メチル−、エチル−、n−プロピル−、イソ−プロピル
−、n−ブチル−、イソ−ブチル−、t−ブチル−、n
−ペンチル−、イソ−ペンチル−、ネオ−ペンチル−、
t−ペンチル基、ヘキシル基、例えばn−ヘキシル基、
ヘプチル基、例えばn−ヘプチル基、オクチル基、例え
ばn−オクチル基及びイソ−オクチル基、例えば2,
2,4−トリメチルペンチル基、ノニル基、例えばn−
ノニル基、デシル基、例えばn−デシル基、ドデシル
基、例えばn−ドデシル基、オクタデシル基、例えばn
−オクタデシル基;シクロアルキル基、例えばシクロペ
ンチル−、シクロヘキシル−、シクロヘプチル基及びメ
チルシクロヘキシル基;アリール基、例えばフェニル
−、ビフェニリル−、ナフチル−、アンスリール−及び
フェナンスリール基;アルカリール基、例えばo−、m
−、p−トリル基、キシリル基及びエチルフェニル基;
アラルキル基、例えばベンジル基、α−及びβ−フェニ
ルエチル基である。
【0007】置換された炭化水素基Rの例は、ハロゲン
化アルキル基、例えば3−クロルプロピル−、3,3,
3−トリフルオルプロピル−及びペルフルオルヘキシル
エチル基、ハロゲン化アリール基、例えばp−クロルフ
ェニル−及びp−クロルベンジル基である。
化アルキル基、例えば3−クロルプロピル−、3,3,
3−トリフルオルプロピル−及びペルフルオルヘキシル
エチル基、ハロゲン化アリール基、例えばp−クロルフ
ェニル−及びp−クロルベンジル基である。
【0008】基Rは、有利には水素原子及び炭素原子1
〜8個を有する炭化水素基、特に有利にはメチル基であ
る。
〜8個を有する炭化水素基、特に有利にはメチル基であ
る。
【0009】基R1の例は、ビニル−、アリル−、メタ
リル−、1−プロペニル−、1−ブテニル−、1−ペン
テニル基、5−ヘキセニル−、ブタジエニル−、ヘキサ
ジエチニル−、シクロペンテニル−、シクロペンタジエ
ニル−、シクロヘキセニル−、エチニル、プロパルギル
−及び1−プロピニル基である。
リル−、1−プロペニル−、1−ブテニル−、1−ペン
テニル基、5−ヘキセニル−、ブタジエニル−、ヘキサ
ジエチニル−、シクロペンテニル−、シクロペンタジエ
ニル−、シクロヘキセニル−、エチニル、プロパルギル
−及び1−プロピニル基である。
【0010】有利には基R1は、炭素原子2〜8個を有
するアルケニル基、特に有利にはビニル基である。
するアルケニル基、特に有利にはビニル基である。
【0011】場合により置換された炭化水素基R2の例
は、R及びR1で例として挙げた基並びにアルコキシア
ルキル基、例えばメトキシエチル基及びエトキシエチル
基である。
は、R及びR1で例として挙げた基並びにアルコキシア
ルキル基、例えばメトキシエチル基及びエトキシエチル
基である。
【0012】有利には基R2は、水素原子及び炭素原子
1〜8個を有するアルキル基、特に有利には水素原子、
メチル−及びエチル基、特には水素原子である。
1〜8個を有するアルキル基、特に有利には水素原子、
メチル−及びエチル基、特には水素原子である。
【0013】本発明による低分子有機珪素化合物は有利
には、最高1000g/モル、特に有利には最高500
g/モルの分子量を有する。
には、最高1000g/モル、特に有利には最高500
g/モルの分子量を有する。
【0014】有利には、本発明による式(Ia)の低分
子有機珪素化合物には、
子有機珪素化合物には、
【0015】
【化2】
【0016】[式中、R、R1及びR2は前記したもの
を表わす]が該当する。
を表わす]が該当する。
【0017】特に有利には、本発明による式(Ia)の
低分子有機珪素化合物には、(R3SiO)(R2R1
SiO)3Si及び(R2R1SiO)3SiOR
2[式中R、R1及びR2は前記したものを表わす]が
該当する。
低分子有機珪素化合物には、(R3SiO)(R2R1
SiO)3Si及び(R2R1SiO)3SiOR
2[式中R、R1及びR2は前記したものを表わす]が
該当する。
【0018】本発明による式(Ia)の有機珪素化合物
の例は、(Me3SiO)(Me2ViSiO)3S
i、(Me3SiO)2(Me2ViSiO)2Si、
(Me3SiO)3(Me2ViSiO)Si、(Me
3SiO)(Me2ViSiO)2SiOH、(Me3
SiO)2(Me2ViSiO)SiOH及び(Me2
ViSiO)3SiOH[式中、Meはメチル基であ
り、Viはビニル基である]である。
の例は、(Me3SiO)(Me2ViSiO)3S
i、(Me3SiO)2(Me2ViSiO)2Si、
(Me3SiO)3(Me2ViSiO)Si、(Me
3SiO)(Me2ViSiO)2SiOH、(Me3
SiO)2(Me2ViSiO)SiOH及び(Me2
ViSiO)3SiOH[式中、Meはメチル基であ
り、Viはビニル基である]である。
【0019】有利には、本発明による式(Ib)の低分
子有機珪素化合物には、
子有機珪素化合物には、
【0020】
【化3】
【0021】[式中、R、R1及びR2は前記したもの
を表わす]が該当する。
を表わす]が該当する。
【0022】特に有利には、本発明による式(Ib)の
低分子有機珪素化合物には、(R2R1SiO)3Si
−O−Si(R2R1SiO)3、(R3SiO)(R
2R1SiO)2Si−O−Si(R2R1SiO)3
及び(R2R1SiO)3Si−O−Si(R2R1S
iO)2(OR2)[式中、R、R1及びR2は前記し
たものを表わす]が該当する。
低分子有機珪素化合物には、(R2R1SiO)3Si
−O−Si(R2R1SiO)3、(R3SiO)(R
2R1SiO)2Si−O−Si(R2R1SiO)3
及び(R2R1SiO)3Si−O−Si(R2R1S
iO)2(OR2)[式中、R、R1及びR2は前記し
たものを表わす]が該当する。
【0023】本発明による式(Ib)の低分子有機珪素
化合物の例は、
化合物の例は、
【0024】
【化4】
【0025】[式中、Meはメチル基であり、Viはビ
ニル基である]である。
ニル基である]である。
【0026】本発明による低分子有機珪素化合物は、R
1が前記したものを表わす基R1を1分子当たり少なく
とも2個含有する。
1が前記したものを表わす基R1を1分子当たり少なく
とも2個含有する。
【0027】式Iの単位から成る、本発明による低分子
有機珪素化合物又は本発明により使用される有機珪素化
合物を製造するために、シリコーン化学で公知の方法を
使用することができる。例えば、本発明による低分子有
機珪素化合物をテトラオルガニルアンモニウム−シリケ
ート溶液から、例えばD.ヘッベルその他著“ツアイト
シュリフト ヒュア アンオルガーニッシェ ウント
アールゲマイネ ヒェミー”第424巻(1976年)
115頁以降に記載されているようにして製造すること
ができる。
有機珪素化合物又は本発明により使用される有機珪素化
合物を製造するために、シリコーン化学で公知の方法を
使用することができる。例えば、本発明による低分子有
機珪素化合物をテトラオルガニルアンモニウム−シリケ
ート溶液から、例えばD.ヘッベルその他著“ツアイト
シュリフト ヒュア アンオルガーニッシェ ウント
アールゲマイネ ヒェミー”第424巻(1976年)
115頁以降に記載されているようにして製造すること
ができる。
【0028】有利な方法(方法1)によれば、第1工程
で単官能性シランR2R1SiCl及び場合によりR3
SiCl、テトラクロルシラン及び/又はオルガノトリ
クロルシラン並びに場合によりオルガノジクロルシラン
から成る混合物を、炭素原子1〜4個を有するアルカノ
ール、特にエタノールと温度有利には0〜80℃、特に
有利には20℃で及び圧力有利には900〜1100ヘ
クトパスカルで反応させ、反応混合物を水の添加下で、
反応混合物の重量に対して各々有利には80〜300重
量%、特に有利には100〜200重量%の量で加水分
解し、こうして得た低分子シロキサンを有機相から単離
するが、その際、R及びR1は前記したものを表わす。
で単官能性シランR2R1SiCl及び場合によりR3
SiCl、テトラクロルシラン及び/又はオルガノトリ
クロルシラン並びに場合によりオルガノジクロルシラン
から成る混合物を、炭素原子1〜4個を有するアルカノ
ール、特にエタノールと温度有利には0〜80℃、特に
有利には20℃で及び圧力有利には900〜1100ヘ
クトパスカルで反応させ、反応混合物を水の添加下で、
反応混合物の重量に対して各々有利には80〜300重
量%、特に有利には100〜200重量%の量で加水分
解し、こうして得た低分子シロキサンを有機相から単離
するが、その際、R及びR1は前記したものを表わす。
【0029】本発明による反応で、単官能性シランR2
R1SiCl及び場合によりR3SiCl対テトラクロ
ルシラン及び/又はオルガノトリクロルシランのモル比
は、有利には1.6:1〜10:1の間、特に有利には
1.8:1〜9:1の間である。場合によりオルガノジ
クロルシランを一緒に使用することもできる。オルガノ
ジクロルシランを一緒に使用する場合には、各々テトラ
クロルシラン及び/又はオルガノトリクロルシランに対
して最高30モル%、特に有利には最高20モル%の量
で使用する。
R1SiCl及び場合によりR3SiCl対テトラクロ
ルシラン及び/又はオルガノトリクロルシランのモル比
は、有利には1.6:1〜10:1の間、特に有利には
1.8:1〜9:1の間である。場合によりオルガノジ
クロルシランを一緒に使用することもできる。オルガノ
ジクロルシランを一緒に使用する場合には、各々テトラ
クロルシラン及び/又はオルガノトリクロルシランに対
して最高30モル%、特に有利には最高20モル%の量
で使用する。
【0030】加水分解後に有利には水相を有機相から分
離し、なお存在する酸を除去するために有機相を水で洗
浄して中性にし、その際、引き続き有機相から非揮発性
成分を有利には温度80〜160℃及び圧力30から6
00ヘクトパスカル、特に有利には温度100〜150
℃及び圧力50〜500ヘクトパスカルで除去する。
離し、なお存在する酸を除去するために有機相を水で洗
浄して中性にし、その際、引き続き有機相から非揮発性
成分を有利には温度80〜160℃及び圧力30から6
00ヘクトパスカル、特に有利には温度100〜150
℃及び圧力50〜500ヘクトパスカルで除去する。
【0031】こうして得た低分子有機珪素化合物を次い
で第2工程で、式R3Si−O−SiR3及び/又はR
2R1Si−O−SiR1R2及び/又はR3Si−O
−SiR1R2(式中、R及びR1は前記したものを表
わす)のジシロキサンと、各々低分子有機珪素化合物に
対して有利には60〜200重量%、特に有利には90
〜180重量%の量で、酸性触媒の存在で、温度有利に
は20〜200℃、特に有利には40〜100℃及び周
囲の大気の圧力で反応させるが、その際、反応終了後酸
性触媒を除去する。
で第2工程で、式R3Si−O−SiR3及び/又はR
2R1Si−O−SiR1R2及び/又はR3Si−O
−SiR1R2(式中、R及びR1は前記したものを表
わす)のジシロキサンと、各々低分子有機珪素化合物に
対して有利には60〜200重量%、特に有利には90
〜180重量%の量で、酸性触媒の存在で、温度有利に
は20〜200℃、特に有利には40〜100℃及び周
囲の大気の圧力で反応させるが、その際、反応終了後酸
性触媒を除去する。
【0032】本発明による方法1の第2工程で使用され
る酸性触媒の例は、ルイス酸、例えばBF3、AlCl
3、FeCl3及びホスホニトリルクロリド並びにブレ
ーンステズ酸、例えば塩酸、硫酸、燐酸、酢酸及びp−
トルエンスルホン酸、並びに酸性イオン交換体、例えば
沸石及び酸性活性化漂布土であるが、その際、酸性活性
化漂白土が有利である。
る酸性触媒の例は、ルイス酸、例えばBF3、AlCl
3、FeCl3及びホスホニトリルクロリド並びにブレ
ーンステズ酸、例えば塩酸、硫酸、燐酸、酢酸及びp−
トルエンスルホン酸、並びに酸性イオン交換体、例えば
沸石及び酸性活性化漂布土であるが、その際、酸性活性
化漂白土が有利である。
【0033】本発明による方法1の第2工程で酸性触媒
を、各々使用した有機珪素化合物の全重量に対して有利
には1〜20重量%、特に有利には2〜15重量%の量
で使用する。
を、各々使用した有機珪素化合物の全重量に対して有利
には1〜20重量%、特に有利には2〜15重量%の量
で使用する。
【0034】第2工程による本発明の反応の終了後、反
応材料中に不溶性の触媒、例えば酸性活性化漂白土が該
当する場合には、触媒を濾過により反応材料から分離す
る。その他の場合には、反応材料からの触媒の除去を、
中和し、引き続き生成した塩を濾過することによって行
う。いずれの場合でも濾液を次いで低揮発性成分から、
有利には温度80〜160℃及び圧力30〜600ヘク
トパスカル、特に有利には温度100〜150℃及び5
0〜500ヘクトパスカルで除去する。
応材料中に不溶性の触媒、例えば酸性活性化漂白土が該
当する場合には、触媒を濾過により反応材料から分離す
る。その他の場合には、反応材料からの触媒の除去を、
中和し、引き続き生成した塩を濾過することによって行
う。いずれの場合でも濾液を次いで低揮発性成分から、
有利には温度80〜160℃及び圧力30〜600ヘク
トパスカル、特に有利には温度100〜150℃及び5
0〜500ヘクトパスカルで除去する。
【0035】その他の有利な方法(方法2)によれば、
二酸化珪素を、各々二酸化珪素100重量部に対して有
利には5〜200重量部、特に有利には20〜100重
量部の量のトリオルガニルシリル化剤と、各々二酸化珪
素100重量部に対して有利には0.5〜200重量
部、特に有利には10〜100重量部の量の水性塩基の
存在で反応させる。
二酸化珪素を、各々二酸化珪素100重量部に対して有
利には5〜200重量部、特に有利には20〜100重
量部の量のトリオルガニルシリル化剤と、各々二酸化珪
素100重量部に対して有利には0.5〜200重量
部、特に有利には10〜100重量部の量の水性塩基の
存在で反応させる。
【0036】本発明による方法2の反応は、有利には温
度0〜250℃、特に有利には20〜100℃で周囲の
大気の圧力で実施する。
度0〜250℃、特に有利には20〜100℃で周囲の
大気の圧力で実施する。
【0037】本発明により使用されるトリオルガニルシ
リル化剤には、有利にはR3SiOH又はR3SiOS
iR3、R2R1SiOH又はR2R1SiOR2R
1 及びR3SiNHSiR3並びにR2R1SiNH
SiR2R1が該当する。
リル化剤には、有利にはR3SiOH又はR3SiOS
iR3、R2R1SiOH又はR2R1SiOR2R
1 及びR3SiNHSiR3並びにR2R1SiNH
SiR2R1が該当する。
【0038】水性塩基には、水100重量部中のアンモ
ニア5〜25重量部から成る混合物が該当する。しかし
水性塩基を水及びヘキサオルガニルジシラザンの混合物
の反応によって直接本発明による反応の間に製造するこ
ともできる。
ニア5〜25重量部から成る混合物が該当する。しかし
水性塩基を水及びヘキサオルガニルジシラザンの混合物
の反応によって直接本発明による反応の間に製造するこ
ともできる。
【0039】本発明による反応は、所望の場合には、反
応成分に対して不活性の有機溶剤、例えばアルカン、芳
香族炭化水素及びハロゲン炭化水素又は反応成分に対し
て不活性の有機珪素化合物、例えばヘキサメチルジシロ
キサン中で実施することができる。
応成分に対して不活性の有機溶剤、例えばアルカン、芳
香族炭化水素及びハロゲン炭化水素又は反応成分に対し
て不活性の有機珪素化合物、例えばヘキサメチルジシロ
キサン中で実施することができる。
【0040】本発明による方法2では、二酸化珪素とし
て有利には微粒状珪酸、湿式化学的沈降により製造した
珪酸又は熱分解的に例えばテトラクロルシランの炎内加
水分解により製造した珪酸を使用するが、その際、熱分
解的に製造した高分散珪酸が特に有利である。
て有利には微粒状珪酸、湿式化学的沈降により製造した
珪酸又は熱分解的に例えばテトラクロルシランの炎内加
水分解により製造した珪酸を使用するが、その際、熱分
解的に製造した高分散珪酸が特に有利である。
【0041】有利には本発明により使用される珪酸は、
平均一次粒子粒度最高250nm、特に有利には最高1
00nm、特には2〜50nmを有する。
平均一次粒子粒度最高250nm、特に有利には最高1
00nm、特には2〜50nmを有する。
【0042】有利には本発明により使用される珪酸は、
(DIN66131及びDIN66132によるBET
法により測定して)25m2/gより大きい、特に有利
には50〜400m2/gの比表面積を有する。
(DIN66131及びDIN66132によるBET
法により測定して)25m2/gより大きい、特に有利
には50〜400m2/gの比表面積を有する。
【0043】反応実施後、有利には0.5〜60時間後
に、場合により攪拌下で有利には温度100〜140℃
及び周囲の大気の圧力で易揮発性物質を分離し、これに
引き続いて有利には140〜220℃及び周囲の大気の
圧力又は減圧で、場合により不活性気体流、例えば窒素
ガスによる保護下で、本発明により製造した低分子有機
珪素化合物を蒸留により残さから分離する。
に、場合により攪拌下で有利には温度100〜140℃
及び周囲の大気の圧力で易揮発性物質を分離し、これに
引き続いて有利には140〜220℃及び周囲の大気の
圧力又は減圧で、場合により不活性気体流、例えば窒素
ガスによる保護下で、本発明により製造した低分子有機
珪素化合物を蒸留により残さから分離する。
【0044】その他の有利な方法(方法3)によれば、
第1工程で、例えば西ドイツ特許(DE−A)第391
8337号明細書(Wacker−Chemie Gm
bH)又は相応する米国特許第5011962号明細書
によるようなクロルシロキサン及び/又はクロルシラン
をシロキサノール及び/又はシラノールと、塩基並びに
場合により有機非プロトン性溶剤の存在で反応させる
が、その際、塩素原子をシリル−及び/又はシロキシ基
と変換する。こうして得た反応生成物がなおSi−結合
の塩素原子を含有する場合には、これを第2工程で水と
塩基並びに場合により有機非プロトン性溶剤の存在で、
反応させるが、その際、Si−結合の塩素原子はSi−
結合のヒドロキシル基により変換される。
第1工程で、例えば西ドイツ特許(DE−A)第391
8337号明細書(Wacker−Chemie Gm
bH)又は相応する米国特許第5011962号明細書
によるようなクロルシロキサン及び/又はクロルシラン
をシロキサノール及び/又はシラノールと、塩基並びに
場合により有機非プロトン性溶剤の存在で反応させる
が、その際、塩素原子をシリル−及び/又はシロキシ基
と変換する。こうして得た反応生成物がなおSi−結合
の塩素原子を含有する場合には、これを第2工程で水と
塩基並びに場合により有機非プロトン性溶剤の存在で、
反応させるが、その際、Si−結合の塩素原子はSi−
結合のヒドロキシル基により変換される。
【0045】本発明による方法3で使用される塩基に
は、有利には有機アミン、例えばアルキルアミン、例え
ばトリエチルアミン、芳香族アミン、例えばピリジン及
びその塩並びに塩基性塩、例えば炭酸水素ナトリウム及
び炭酸カリウムが該当する。
は、有利には有機アミン、例えばアルキルアミン、例え
ばトリエチルアミン、芳香族アミン、例えばピリジン及
びその塩並びに塩基性塩、例えば炭酸水素ナトリウム及
び炭酸カリウムが該当する。
【0046】本発明による方法3の第1工程では、塩基
を、Si−結合の塩素に関して、有利には0.5〜30
0%の化学量論的過剰量で、特に有利には10〜100
%の過剰量で使用する。
を、Si−結合の塩素に関して、有利には0.5〜30
0%の化学量論的過剰量で、特に有利には10〜100
%の過剰量で使用する。
【0047】本発明による方法3の場合により実施され
る第2工程で、塩基を有利にはSi−結合の塩素に対し
て0.5から300%の化学量論的過剰量で、特に有利
には10〜100%の過剰量で使用する。
る第2工程で、塩基を有利にはSi−結合の塩素に対し
て0.5から300%の化学量論的過剰量で、特に有利
には10〜100%の過剰量で使用する。
【0048】方法3による本発明の反応は、所望の場合
には、反応成分に対して不活性の非プロトン性溶剤、例
えばトルエン、シクロヘキサン、テトラヒドロフラン及
びジエチルエーテル中で実施することができる。
には、反応成分に対して不活性の非プロトン性溶剤、例
えばトルエン、シクロヘキサン、テトラヒドロフラン及
びジエチルエーテル中で実施することができる。
【0049】本発明による方法3の反応は、有利には温
度−10〜100℃、特に有利には室温〜80℃及び周
囲の大気の圧力で実施する。
度−10〜100℃、特に有利には室温〜80℃及び周
囲の大気の圧力で実施する。
【0050】反応終了後、得られた生成物を公知方法に
より、例えば相分離し、水で洗浄して中性にし、減圧で
蒸留することによって単離する。
より、例えば相分離し、水で洗浄して中性にし、減圧で
蒸留することによって単離する。
【0051】本発明による式(Ia)及び(Ib)の低
分子有機珪素化合物は、特に有利には本発明による方法
3により製造する。
分子有機珪素化合物は、特に有利には本発明による方法
3により製造する。
【0052】本発明による低分子有機化合物又は本発明
により製造される低分子有機珪素化合物は、これまでも
低分子有機珪素化合物が使用されてきた全ての目的のた
めに使用することができる。
により製造される低分子有機珪素化合物は、これまでも
低分子有機珪素化合物が使用されてきた全ての目的のた
めに使用することができる。
【0053】特に架橋性オルガノポリシロキサン材料を
製造するために好適である。
製造するために好適である。
【0054】本発明のもう一つの目的は、オルガノポリ
シロキサンを基礎とする架橋性材料であるが、これはオ
ルガノポリシロキサンに加えて、式: RaR1 b(OR2)cSiO4−(a+b+c)/2 (I) [式中、R、R1、R2、a、b及びcは請求項1に記
載したものを表わし、その際式(I)中のa、b及びc
の合計は3より小さいか又は3であり、1分子当たり少
なくとも1個の基R1、有利には少なくとも2個の基R
1、特に有利には少なくとも3個の基R1、特には少な
くとも4個の基R1が存在しており、かつ付加架橋可能
な材料の場合には、1分子当たり付加的に少なくとも1
個の基OR2が存在するという条件を有する]の単位か
ら成る珪素原子2〜17個を有する低分子有機珪素化合
物少なくとも1種類を含有することを特徴とする。
シロキサンを基礎とする架橋性材料であるが、これはオ
ルガノポリシロキサンに加えて、式: RaR1 b(OR2)cSiO4−(a+b+c)/2 (I) [式中、R、R1、R2、a、b及びcは請求項1に記
載したものを表わし、その際式(I)中のa、b及びc
の合計は3より小さいか又は3であり、1分子当たり少
なくとも1個の基R1、有利には少なくとも2個の基R
1、特に有利には少なくとも3個の基R1、特には少な
くとも4個の基R1が存在しており、かつ付加架橋可能
な材料の場合には、1分子当たり付加的に少なくとも1
個の基OR2が存在するという条件を有する]の単位か
ら成る珪素原子2〜17個を有する低分子有機珪素化合
物少なくとも1種類を含有することを特徴とする。
【0055】本発明により使用される低分子有機珪素化
合物は有利には、M−単位、即ちa+b=3を有する式
(I)の単位並びにQ−単位、即ちa+b=0を有する
式(I)の単位及び/又はT−単位、即ちa+b=1を
有する式(I)の単位から成る。
合物は有利には、M−単位、即ちa+b=3を有する式
(I)の単位並びにQ−単位、即ちa+b=0を有する
式(I)の単位及び/又はT−単位、即ちa+b=1を
有する式(I)の単位から成る。
【0056】本発明により使用される低分子有機珪素化
合物は、分子量有利には最高2500g/モル、特に有
利には最高1000g/モル、特に最高500g/モル
を有する。
合物は、分子量有利には最高2500g/モル、特に有
利には最高1000g/モル、特に最高500g/モル
を有する。
【0057】本発明により使用される低分子有機珪素化
合物は、有利には2より大きいか又は2と同じ、特に有
利には2.5より大きいか又は2.5と同じM−単位対
Q−単位及び/又はT−単位の合計の数値比を有する。
合物は、有利には2より大きいか又は2と同じ、特に有
利には2.5より大きいか又は2.5と同じM−単位対
Q−単位及び/又はT−単位の合計の数値比を有する。
【0058】特に有利には本発明により使用される低分
子有機珪素化合物は、珪素原子4〜10個を有する。
子有機珪素化合物は、珪素原子4〜10個を有する。
【0059】本発明により使用される有機珪素化合物に
は、唯一の種類並びに少なくとも2種類の異なる種類の
有機珪素化合物が該当する。
は、唯一の種類並びに少なくとも2種類の異なる種類の
有機珪素化合物が該当する。
【0060】本発明により使用される有機珪素化合物の
例は、
例は、
【0061】
【化5】
【0062】であるが、その際、Meはメチル基を表わ
し、Viはビニル基を表わす。
し、Viはビニル基を表わす。
【0063】有利には本発明により使用される低分子有
機珪素化合物には、
機珪素化合物には、
【0064】
【化6】
【0065】が該当するが、その際、Meはメチル基を
表わし、Viはビニル基を表わす。
表わし、Viはビニル基を表わす。
【0066】特に有利には本発明により使用される低分
子有機珪素化合物には、
子有機珪素化合物には、
【0067】
【化7】
【0068】が該当するが、その際、Meはメチル基を
表わし、Viはビニル基を表わす。
表わし、Viはビニル基を表わす。
【0069】本発明による材料には、任意の従来公知の
種類のエラストマーに架橋可能なオルガノポリシロキサ
ン材料、例えば一成分又は二成分の室温(いわゆるRT
V−材料)又は高めた温度(いわゆるHTV−材料)で
加硫性のオルガノポリシロキサン材料が該当するが、そ
の際、架橋は、縮合、Si−結合の水素の脂肪族多重結
合への付加又は過酸化的にラジカル形成により行われ
る。
種類のエラストマーに架橋可能なオルガノポリシロキサ
ン材料、例えば一成分又は二成分の室温(いわゆるRT
V−材料)又は高めた温度(いわゆるHTV−材料)で
加硫性のオルガノポリシロキサン材料が該当するが、そ
の際、架橋は、縮合、Si−結合の水素の脂肪族多重結
合への付加又は過酸化的にラジカル形成により行われ
る。
【0070】有利には本発明による材料には、Si−結
合の水素の脂肪族炭素−炭素多重結合への付加により架
橋可能な材料並びに過酸化的に架橋可能なオルガノポリ
シロキサン材料が該当する。
合の水素の脂肪族炭素−炭素多重結合への付加により架
橋可能な材料並びに過酸化的に架橋可能なオルガノポリ
シロキサン材料が該当する。
【0071】一般にこのような材料中に使用される成分
の種類及び量は既に公知である。このために例えば、書
類番号P4401606.9を有する西ドイツ特許出願
(Wacker−Chemie GmbH;1994年
1月20日出願)、出願番号USSN08/36818
3を有する相応する米国特許出願、書類番号P4405
245.6を有する西ドイツ特許出願(Wacker−
Chemie GmbH;1994年2月18日出願)
及び西ドイツ特許第4336345A号明細書(Wac
ker−Chemie GmbH;1995年4月27
日出願)を参照にされたい。
の種類及び量は既に公知である。このために例えば、書
類番号P4401606.9を有する西ドイツ特許出願
(Wacker−Chemie GmbH;1994年
1月20日出願)、出願番号USSN08/36818
3を有する相応する米国特許出願、書類番号P4405
245.6を有する西ドイツ特許出願(Wacker−
Chemie GmbH;1994年2月18日出願)
及び西ドイツ特許第4336345A号明細書(Wac
ker−Chemie GmbH;1995年4月27
日出願)を参照にされたい。
【0072】本発明により過酸化的に架橋可能なオルガ
ノポリシロキサン材料は、有利には、(A)一般式:
ノポリシロキサン材料は、有利には、(A)一般式:
【0073】
【化8】
【0074】[式中、R3は、同一又は異なるものであ
ってよく、場合により置換された炭化水素基を表わし、
rは0、1、2又は3であり、平均数値1.9〜2.1
を有する]の単位から成るオルガノポリシロキサン、
(B)強化性及び/又は非強化性填料、(C)架橋を起
こさせる試薬、例えば有機過酸化物、(D)式(I)の
単位から成る、珪素原子2〜17個を有する低分子脂肪
族不飽和有機珪素化合物少なくとも1種類並びに場合に
より、(E)添加物を含有する。
ってよく、場合により置換された炭化水素基を表わし、
rは0、1、2又は3であり、平均数値1.9〜2.1
を有する]の単位から成るオルガノポリシロキサン、
(B)強化性及び/又は非強化性填料、(C)架橋を起
こさせる試薬、例えば有機過酸化物、(D)式(I)の
単位から成る、珪素原子2〜17個を有する低分子脂肪
族不飽和有機珪素化合物少なくとも1種類並びに場合に
より、(E)添加物を含有する。
【0075】基R3の例は、R及びR1で前記した例で
あり、その際、場合により置換された炭素原子1〜8個
を有する炭化水素基が有利であり、メチル−、ビニル
−、フェニル−及び3,3,3−トリフルオルプロピル
基が特に有利である。
あり、その際、場合により置換された炭素原子1〜8個
を有する炭化水素基が有利であり、メチル−、ビニル
−、フェニル−及び3,3,3−トリフルオルプロピル
基が特に有利である。
【0076】有利には、式(II)の単位から成るオル
ガノポリシロキサン中に含有されるSi−原子の少なく
とも70モル%にアルキル基、特にメチル基が結合して
いる。オルガノポリシロキサン(A)がSi−結合のメ
チル−及び/又は3,3,3−トリフルオルプロピル基
の他になおSi−結合のビニル−及び/又はフェニル基
を含有する場合には、後者は有利には約0.001〜3
0モル%である。
ガノポリシロキサン中に含有されるSi−原子の少なく
とも70モル%にアルキル基、特にメチル基が結合して
いる。オルガノポリシロキサン(A)がSi−結合のメ
チル−及び/又は3,3,3−トリフルオルプロピル基
の他になおSi−結合のビニル−及び/又はフェニル基
を含有する場合には、後者は有利には約0.001〜3
0モル%である。
【0077】有利には、オルガノポリシロキサン(A)
は、主としてジオルガノシロキサン単位から成る。オル
ガノポリシロキサン(A)の末端基は、トリアルキルシ
ロキシ基、特にトリメチルシロキシ基又はジメチルビニ
ルシロキシ基であってよいが;これらのアルキル基の1
個又は数個がヒドロキシ基又はアルコキシ基、例えばメ
トキシ又はエトキシ基により置換されていてもよい。
は、主としてジオルガノシロキサン単位から成る。オル
ガノポリシロキサン(A)の末端基は、トリアルキルシ
ロキシ基、特にトリメチルシロキシ基又はジメチルビニ
ルシロキシ基であってよいが;これらのアルキル基の1
個又は数個がヒドロキシ基又はアルコキシ基、例えばメ
トキシ又はエトキシ基により置換されていてもよい。
【0078】オルガノポリシロキサン(A)は、液体又
は高粘度の物質であってよい。有利にはオルガノポリシ
ロキサン(A)は、25℃で粘度103〜108mm2
/秒を有する。
は高粘度の物質であってよい。有利にはオルガノポリシ
ロキサン(A)は、25℃で粘度103〜108mm2
/秒を有する。
【0079】強化填料の例は、BET表面積少なくとも
50m2/gを有する熱分解又は沈降珪酸並びにファー
ネスブラック及びアセチレンブラックである。
50m2/gを有する熱分解又は沈降珪酸並びにファー
ネスブラック及びアセチレンブラックである。
【0080】前記珪酸填料は、親水性特性を有すること
ができるか又は公知の方法により疎水性にされていても
よい。これに関しては、西ドイツ特許第3839900
A号明細書(Wacker−Chemie GmbH;
1988年11月25日出願)又は相応する米国特許
(US−A)第5057151号明細書を参照にされた
い。次いで一般に、疎水化を各々オルガノポリシロキサ
ン材料の全重量に対してヘキサメチルジシラザン及び/
又はジビニルテトラメチルジシラザン1〜20重量%及
び水0.5〜5重量%を用いて行うが、その際、親水性
珪酸を順次材料に加工する前に、これらの試薬を有利に
は好適な混合装置、例えばニーダー又はインナーミキサ
ー中で既に前装入したオルガノポリシロキサンに添加す
る。
ができるか又は公知の方法により疎水性にされていても
よい。これに関しては、西ドイツ特許第3839900
A号明細書(Wacker−Chemie GmbH;
1988年11月25日出願)又は相応する米国特許
(US−A)第5057151号明細書を参照にされた
い。次いで一般に、疎水化を各々オルガノポリシロキサ
ン材料の全重量に対してヘキサメチルジシラザン及び/
又はジビニルテトラメチルジシラザン1〜20重量%及
び水0.5〜5重量%を用いて行うが、その際、親水性
珪酸を順次材料に加工する前に、これらの試薬を有利に
は好適な混合装置、例えばニーダー又はインナーミキサ
ー中で既に前装入したオルガノポリシロキサンに添加す
る。
【0081】非強化性填料の例は、石英粉、珪藻土、珪
酸カルシウム、珪酸ジルコニウム、沸石、金属酸化物粉
末、例えば酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化鉄又は
酸化亜鉛、珪酸バリウム、硫酸バリウム、炭酸カルシウ
ム、石膏並びにプラスチック粉末、例えばポリアクリル
ニトリル粉末又はポリテトラフルオルエチレン粉末であ
る。その他に填料としては、繊維成分、例えばガラス繊
維及びプラスチック繊維を使用することができる。これ
らの填料のBET表面積は有利には50m2/gより下
である。
酸カルシウム、珪酸ジルコニウム、沸石、金属酸化物粉
末、例えば酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化鉄又は
酸化亜鉛、珪酸バリウム、硫酸バリウム、炭酸カルシウ
ム、石膏並びにプラスチック粉末、例えばポリアクリル
ニトリル粉末又はポリテトラフルオルエチレン粉末であ
る。その他に填料としては、繊維成分、例えばガラス繊
維及びプラスチック繊維を使用することができる。これ
らの填料のBET表面積は有利には50m2/gより下
である。
【0082】本発明によるエラストマーに架橋可能なオ
ルガノポリシロキサン材料は、填料(B)を、各々オル
ガノポリシロキサン(A)100重量部に対して有利に
は1〜200重量部、特に有利には30〜100重量部
の量で含有する。
ルガノポリシロキサン材料は、填料(B)を、各々オル
ガノポリシロキサン(A)100重量部に対して有利に
は1〜200重量部、特に有利には30〜100重量部
の量で含有する。
【0083】成分(C)には一般に、これまでも過酸化
的に架橋可能な材料中に使用されてきた、架橋を開始す
るか又は生じさせる試薬が該当しうる。
的に架橋可能な材料中に使用されてきた、架橋を開始す
るか又は生じさせる試薬が該当しうる。
【0084】有利には成分(C)として本発明によるオ
ルガノポリシロキサン材料では、過酸化物、例えば過酸
化ジベンゾイル、ビス−(2,4−ジクロルベンゾイ
ル)−ペルオキシド、過酸化ジクミル及び2,5−ビス
−(t−ブチルペルオキシ)−2,5−ジメチルヘキサ
ン並びにその混合物を使用するが、その際ビス−(2,
4−ジクロルベンゾイル)−ペルオキシド及び過酸化ジ
クミルが有利である。
ルガノポリシロキサン材料では、過酸化物、例えば過酸
化ジベンゾイル、ビス−(2,4−ジクロルベンゾイ
ル)−ペルオキシド、過酸化ジクミル及び2,5−ビス
−(t−ブチルペルオキシ)−2,5−ジメチルヘキサ
ン並びにその混合物を使用するが、その際ビス−(2,
4−ジクロルベンゾイル)−ペルオキシド及び過酸化ジ
クミルが有利である。
【0085】本発明によりエラストマーに架橋可能なオ
ルガノポリシロキサン材料は、過酸化物(C)を、各々
オルガノポリシロキサン材料の全重量に対して有利には
0.4〜2.0重量%、特に有利には0.7〜1.5重
量%の量で含有する。
ルガノポリシロキサン材料は、過酸化物(C)を、各々
オルガノポリシロキサン材料の全重量に対して有利には
0.4〜2.0重量%、特に有利には0.7〜1.5重
量%の量で含有する。
【0086】本発明によるエラストマーに架橋可能なオ
ルガノポリシロキサン材料は、低分子有機珪素化合物
(D)を、各々オルガノポリシロキサン材料の全重量に
対して有利には0.01〜10.0重量%、特に有利に
は0.05〜2.0重量%の量で含有する。
ルガノポリシロキサン材料は、低分子有機珪素化合物
(D)を、各々オルガノポリシロキサン材料の全重量に
対して有利には0.01〜10.0重量%、特に有利に
は0.05〜2.0重量%の量で含有する。
【0087】その都度の用途に応じて、本発明によりエ
ラストマーに加硫可能なオルガノポリシロキサン材料
に、添加物(E)、例えば加工助剤、例えば可塑剤、顔
料及び安定化剤、例えば加熱安定化剤を添加することが
できる。
ラストマーに加硫可能なオルガノポリシロキサン材料
に、添加物(E)、例えば加工助剤、例えば可塑剤、顔
料及び安定化剤、例えば加熱安定化剤を添加することが
できる。
【0088】添加物(E)として使用することができる
可塑剤の例は、25℃で粘度最高1000m2/秒を有
するトリメチルシリル基又はヒドロキシ基を末端基とす
るポリジメチルシロキサン又はジフェニルシランジオー
ルである。
可塑剤の例は、25℃で粘度最高1000m2/秒を有
するトリメチルシリル基又はヒドロキシ基を末端基とす
るポリジメチルシロキサン又はジフェニルシランジオー
ルである。
【0089】添加物(E)として使用することができる
熱安定化剤の例は、遷移金属脂肪酸塩、例えばオクタン
酸鉄、遷移金属シラノレート、例えばシラノール酸鉄並
びにCer(IV)−化合物である。
熱安定化剤の例は、遷移金属脂肪酸塩、例えばオクタン
酸鉄、遷移金属シラノレート、例えばシラノール酸鉄並
びにCer(IV)−化合物である。
【0090】更に、本発明による材料は有利にはその他
の物質は含有しない。
の物質は含有しない。
【0091】本発明による材料を製造するために各々使
用される成分は、唯一の種類のこのような成分であって
もよいし、少なくとも2種類のこのような成分から成る
混合物であってもよい。
用される成分は、唯一の種類のこのような成分であって
もよいし、少なくとも2種類のこのような成分から成る
混合物であってもよい。
【0092】本発明による過酸化的に架橋可能なオルガ
ノポリシロキサン材料の製造は、公知方法により、例え
ば個々の成分の簡単な混合によって行うことができる。
その際、本発明により使用される低分子有機珪素化合物
の加工は、種々の混合方法で、例えばシリコーンゴム材
料の個々の成分の任意の混合工程で行うことができる。
有利には、本発明による過酸化的に架橋可能な材料を調
製するために、低分子有機珪素化合物を填料を混入する
間に材料中に混入する。その他の可能性は、本発明によ
り使用される低分子有機珪素化合物を填料上に、粉末ミ
キサー中で混合することによって塗布するか又は填料、
不活性有機溶剤及び低分子有機珪素化合物の懸濁液中で
混合し、引き続き有機溶剤を蒸発乾固し、これを用いて
引き続き、同様に賦形剤として填料と一緒に装入するよ
うにする。もう1つの方法は、本発明により使用される
低分子有機珪素化合物を、化学的反応により、例えば前
記方法2と同様にして填料上に生成させ、この上で放置
することである。
ノポリシロキサン材料の製造は、公知方法により、例え
ば個々の成分の簡単な混合によって行うことができる。
その際、本発明により使用される低分子有機珪素化合物
の加工は、種々の混合方法で、例えばシリコーンゴム材
料の個々の成分の任意の混合工程で行うことができる。
有利には、本発明による過酸化的に架橋可能な材料を調
製するために、低分子有機珪素化合物を填料を混入する
間に材料中に混入する。その他の可能性は、本発明によ
り使用される低分子有機珪素化合物を填料上に、粉末ミ
キサー中で混合することによって塗布するか又は填料、
不活性有機溶剤及び低分子有機珪素化合物の懸濁液中で
混合し、引き続き有機溶剤を蒸発乾固し、これを用いて
引き続き、同様に賦形剤として填料と一緒に装入するよ
うにする。もう1つの方法は、本発明により使用される
低分子有機珪素化合物を、化学的反応により、例えば前
記方法2と同様にして填料上に生成させ、この上で放置
することである。
【0093】本発明により過酸化的に架橋可能な材料
は、従来公知の過酸化的に架橋可能な材料と同じ条件で
架橋させることができる。
は、従来公知の過酸化的に架橋可能な材料と同じ条件で
架橋させることができる。
【0094】本発明により過酸化的に架橋可能な材料
は、これから製造したエラストマーが、特に引裂き伝搬
抵抗及び圧縮永久歪に関して非常に良好な機械的特性を
示すという利点を有する。
は、これから製造したエラストマーが、特に引裂き伝搬
抵抗及び圧縮永久歪に関して非常に良好な機械的特性を
示すという利点を有する。
【0095】本発明によるオルガノポリシロキサン材料
並びに本発明によりこれから製造されるエラストマー
は、これまでもエラストマーに架橋可能なオルガノポリ
シロキサン材料又はエラストマー用に使用されている全
ての目的のために使用することができる。特に本発明に
よるオルガノポリシロキサン材料並びにこれから本発明
により製造されるエラストマーは、改良された引裂き伝
搬抵抗を必要とする用途、例えばホース、ケーブルジャ
ケット、自動車部品及びパッキング用に好適である。
並びに本発明によりこれから製造されるエラストマー
は、これまでもエラストマーに架橋可能なオルガノポリ
シロキサン材料又はエラストマー用に使用されている全
ての目的のために使用することができる。特に本発明に
よるオルガノポリシロキサン材料並びにこれから本発明
により製造されるエラストマーは、改良された引裂き伝
搬抵抗を必要とする用途、例えばホース、ケーブルジャ
ケット、自動車部品及びパッキング用に好適である。
【0096】本発明により付加架橋可能なオルガノポリ
シロキサン材料は、有利には、(1)脂肪族炭素−炭素
−多重結合を有する、珪素原子少なくとも18個を有す
るオルガノポリシロキサン、(2)Si−結合の水素原
子を有するオルガノポリシロキサン、(3)Si−結合
の水素の脂肪族多重結合への付加を促進する触媒、
(4)式(I)の単位から成る、珪素原子2〜17個を
有する低分子脂肪族不飽和有機珪素化合物少なくとも1
種類及び(5)強化性及び/又は非強化性填料並びに場
合によりその他の物質を含有する。
シロキサン材料は、有利には、(1)脂肪族炭素−炭素
−多重結合を有する、珪素原子少なくとも18個を有す
るオルガノポリシロキサン、(2)Si−結合の水素原
子を有するオルガノポリシロキサン、(3)Si−結合
の水素の脂肪族多重結合への付加を促進する触媒、
(4)式(I)の単位から成る、珪素原子2〜17個を
有する低分子脂肪族不飽和有機珪素化合物少なくとも1
種類及び(5)強化性及び/又は非強化性填料並びに場
合によりその他の物質を含有する。
【0097】本発明による材料には、付加架橋作用を有
する2−成分−シリコーンゴム材料が該当し、即ち本発
明によるシリコーンゴム材料の両方の成分は、一つの成
分が同時に成分(1)、(2)及び(3)を含有しない
という条件で、全成分を任意の組み合わせ及び量比で含
有することができる。
する2−成分−シリコーンゴム材料が該当し、即ち本発
明によるシリコーンゴム材料の両方の成分は、一つの成
分が同時に成分(1)、(2)及び(3)を含有しない
という条件で、全成分を任意の組み合わせ及び量比で含
有することができる。
【0098】オルガノポリシロキサン(1)には有利に
は、式: R4 sR5 tSiO(4− s − t )/2 (III) [式中、R4は同一又は異なるものであってよく、R1
に記載したものを表わし、R5は同一又は異なるもので
あってよく、Rに記載したものを表わし、sは0、1又
は2であり、tは0、1、2又は3であり、その際、s
+tの合計は3より小さいか、3と等しく、1分子当た
り少なくとも2個の基R4が存在するという条件であ
る]の単位から成る、珪素原子少なくとも18個を有す
る直鎖、環式又は分枝鎖状のシロキサンが該当する。
は、式: R4 sR5 tSiO(4− s − t )/2 (III) [式中、R4は同一又は異なるものであってよく、R1
に記載したものを表わし、R5は同一又は異なるもので
あってよく、Rに記載したものを表わし、sは0、1又
は2であり、tは0、1、2又は3であり、その際、s
+tの合計は3より小さいか、3と等しく、1分子当た
り少なくとも2個の基R4が存在するという条件であ
る]の単位から成る、珪素原子少なくとも18個を有す
る直鎖、環式又は分枝鎖状のシロキサンが該当する。
【0099】オルガノポリシロキサン(1)は、有利に
は25℃で平均粘度102〜106mm2/秒を有す
る。
は25℃で平均粘度102〜106mm2/秒を有す
る。
【0100】基R4の例は、R1に記載した全ての例並
びにSiH−官能性化合物を用いるヒドロシリル化反応
で得られる全ての脂肪族不飽和基である。
びにSiH−官能性化合物を用いるヒドロシリル化反応
で得られる全ての脂肪族不飽和基である。
【0101】有利には基R4には炭素原子2〜6個を有
する脂肪族多重結合を有する炭化水素基、例えばビニル
−、アリル−、メタリル−、1−プロペニル−、1−ブ
テニル−、1−ペンテニル基、5−ヘキセニル−、ブタ
ンジエニル−、ヘキサジエニル−、シクロペンテニル
−、シクロペンタジエニル−、シクロヘキセニル−、エ
チニル−、プロパルギル−及び1−プロピニル基が該当
し、その際、ビニル−及びアリル基が特に有利である。
する脂肪族多重結合を有する炭化水素基、例えばビニル
−、アリル−、メタリル−、1−プロペニル−、1−ブ
テニル−、1−ペンテニル基、5−ヘキセニル−、ブタ
ンジエニル−、ヘキサジエニル−、シクロペンテニル
−、シクロペンタジエニル−、シクロヘキセニル−、エ
チニル−、プロパルギル−及び1−プロピニル基が該当
し、その際、ビニル−及びアリル基が特に有利である。
【0102】基R5の例は基Rに記載した全ての例であ
る。
る。
【0103】R5には有利には、炭素原子1〜8個を有
する場合により置換された、脂肪族飽和、一価の炭化水
素が該当するが、その際、メチル基が特に有利である。
する場合により置換された、脂肪族飽和、一価の炭化水
素が該当するが、その際、メチル基が特に有利である。
【0104】特に有利には、オルガノポリシロキサン
(1)には、構造:
(1)には、構造:
【0105】
【化9】
【0106】[式中、Meはメチル−を表わし、Viは
ビニル基を表わす]の、25℃で粘度200〜105m
m2/秒を有する直鎖のオルガノポリシロキサンが該当
する。
ビニル基を表わす]の、25℃で粘度200〜105m
m2/秒を有する直鎖のオルガノポリシロキサンが該当
する。
【0107】Si−結合の水素原子を有するオルガノポ
リシロキサン(2)としては、有利には、式:
リシロキサン(2)としては、有利には、式:
【0108】
【化10】
【0109】[式中、R5は同一又は異なるものであっ
てよく、前記したものを表わし、uは0、1、2又は3
であり、vは0、1又は2であり、その際u+vの合計
は3より小さいか又は3と等しく、1分子当たり平均少
なくとも2個のSi−結合の水素原子が存在していると
いう条件である]の単位から成る、直鎖、環式又は分枝
鎖状のシロキサンを使用する。
てよく、前記したものを表わし、uは0、1、2又は3
であり、vは0、1又は2であり、その際u+vの合計
は3より小さいか又は3と等しく、1分子当たり平均少
なくとも2個のSi−結合の水素原子が存在していると
いう条件である]の単位から成る、直鎖、環式又は分枝
鎖状のシロキサンを使用する。
【0110】オルガノポリシロキサン(2)は有利に
は、25℃で平均粘度10〜2・104mm2/秒を有
する。
は、25℃で平均粘度10〜2・104mm2/秒を有
する。
【0111】1分子当たり3個又はそれ以上のSiH−
結合を含有するポリオルガノシロキサン(2)を使用す
ることが有利である。1分子当たり2個しかSiH−結
合を有さない成分(2)では、アルケニル基を含有する
ポリオルガノシロキサン(1)は、1分子当たり有利に
は少なくとも3個のアルケニル基を含有する。
結合を含有するポリオルガノシロキサン(2)を使用す
ることが有利である。1分子当たり2個しかSiH−結
合を有さない成分(2)では、アルケニル基を含有する
ポリオルガノシロキサン(1)は、1分子当たり有利に
は少なくとも3個のアルケニル基を含有する。
【0112】有利にはポリオルガノシロキサン(2)を
架橋剤として使用する。架橋剤の水素含量(これは専ら
珪素元素と直接結合した水素原子に関するが)は、有利
には水素0.002〜1.7重量%、特に有利には水素
0.1〜1.7重量%の範囲である。
架橋剤として使用する。架橋剤の水素含量(これは専ら
珪素元素と直接結合した水素原子に関するが)は、有利
には水素0.002〜1.7重量%、特に有利には水素
0.1〜1.7重量%の範囲である。
【0113】特に有利には、オルガノポリシロキサン
(2)には25℃で粘度20〜1000mm2/秒を有
するオルガノポリシロキサンが該当する。
(2)には25℃で粘度20〜1000mm2/秒を有
するオルガノポリシロキサンが該当する。
【0114】ポリオルガノシロキサン(2)は有利に
は、SiH−基対成分(1)の脂肪族炭素−炭素−多重
結合を有する基のモル比が0.5〜5、有利には1.0
〜3.0であるような量で硬化性シリコーンゴム材料中
に含有されている。
は、SiH−基対成分(1)の脂肪族炭素−炭素−多重
結合を有する基のモル比が0.5〜5、有利には1.0
〜3.0であるような量で硬化性シリコーンゴム材料中
に含有されている。
【0115】成分(3)は、成分(1)の脂肪族炭素−
炭素−多重結合を有する基と成分(2)のSi−結合の
水素原子との間の付加反応(ヒドロシリル化)のための
触媒として作用する。文献には、既に多数の好適なヒド
ロシリル化触媒が記載されている。原則として本発明に
よる材料中に付加架橋性シリコーンゴム材料中に一般に
使用される全てのヒドロシリル化触媒を使用することが
できる。
炭素−多重結合を有する基と成分(2)のSi−結合の
水素原子との間の付加反応(ヒドロシリル化)のための
触媒として作用する。文献には、既に多数の好適なヒド
ロシリル化触媒が記載されている。原則として本発明に
よる材料中に付加架橋性シリコーンゴム材料中に一般に
使用される全てのヒドロシリル化触媒を使用することが
できる。
【0116】ヒドロシリル化触媒としては、金属、例え
ば白金、ロジウム、パラジウム及びイリジウム、有利に
は場合により微粒状賦形剤物質、例えば活性炭、酸化ア
ルミニウム又は二酸化珪素上に固着させた白金を使用す
ることができる。
ば白金、ロジウム、パラジウム及びイリジウム、有利に
は場合により微粒状賦形剤物質、例えば活性炭、酸化ア
ルミニウム又は二酸化珪素上に固着させた白金を使用す
ることができる。
【0117】有利には白金及び白金化合物を使用する。
特に有利には、ポリオルガノシロキサン中に可溶性であ
るような白金化合物を使用する。可溶性の白金化合物と
しては、例えば式:(PtCl2・オレフィン)2及び
H(PtCl3・オレフィン)の白金−オレフィン−錯
体を使用することができ、その際、有利には炭素原子2
〜8個を有するアルケン、例えばエチレン、プロピレ
ン、ブテン及びオクテンの異性体又は炭素原子5〜7個
を有するシクロアルケン、例えばシクロペンテン、シク
ロヘキセン及びシクロヘプテンを使用する。その他の可
溶性白金−触媒は、式:(PtCl2・C3H6)2の
白金−シクロプロパン−錯体、ヘキサクロル白金酸とア
ルコール、エーテル及びアルデヒドとの反応生成物又は
その混合物又はヘキサクロル白金酸とメチルビニルシク
ロテトラシロキサンとの炭酸水素ナトリウムの存在及び
エタノール性溶液中における反応生成物である。白金と
ビニルシロキサンの錯体、例えば1,3−ジビニルテト
ラメチルジシロキサンが特に有利である。
特に有利には、ポリオルガノシロキサン中に可溶性であ
るような白金化合物を使用する。可溶性の白金化合物と
しては、例えば式:(PtCl2・オレフィン)2及び
H(PtCl3・オレフィン)の白金−オレフィン−錯
体を使用することができ、その際、有利には炭素原子2
〜8個を有するアルケン、例えばエチレン、プロピレ
ン、ブテン及びオクテンの異性体又は炭素原子5〜7個
を有するシクロアルケン、例えばシクロペンテン、シク
ロヘキセン及びシクロヘプテンを使用する。その他の可
溶性白金−触媒は、式:(PtCl2・C3H6)2の
白金−シクロプロパン−錯体、ヘキサクロル白金酸とア
ルコール、エーテル及びアルデヒドとの反応生成物又は
その混合物又はヘキサクロル白金酸とメチルビニルシク
ロテトラシロキサンとの炭酸水素ナトリウムの存在及び
エタノール性溶液中における反応生成物である。白金と
ビニルシロキサンの錯体、例えば1,3−ジビニルテト
ラメチルジシロキサンが特に有利である。
【0118】ヒドロシリル化触媒は、マイクロカプセル
形で使用することもでき、その際、触媒を含有し、ポリ
オルガノシロキサン中に不溶性の微粒状固体は、例えば
熱可塑性樹脂(ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂)で
ある。ヒドロシリル化触媒は包接化合物の形、例えばシ
クロデキストリンで使用することもできる。
形で使用することもでき、その際、触媒を含有し、ポリ
オルガノシロキサン中に不溶性の微粒状固体は、例えば
熱可塑性樹脂(ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂)で
ある。ヒドロシリル化触媒は包接化合物の形、例えばシ
クロデキストリンで使用することもできる。
【0119】使用されるヒドロシリル化触媒の量は、所
望の架橋速度並びに経済学的観点により決まり、公知で
ある。慣用の白金−触媒を使用する場合には、硬化性シ
リコーンゴム材料の含量は元素の白金に関して有利に
は、元素白金0.1〜500重量ppm、有利には10
〜100重量ppmの範囲である。
望の架橋速度並びに経済学的観点により決まり、公知で
ある。慣用の白金−触媒を使用する場合には、硬化性シ
リコーンゴム材料の含量は元素の白金に関して有利に
は、元素白金0.1〜500重量ppm、有利には10
〜100重量ppmの範囲である。
【0120】本発明によりエラストマーに架橋可能なオ
ルガノポリシロキサン材料は、低分子有機珪素化合物
(4)を、各々オルガノポリシロキサン材料の全重量に
対して有利には0.01〜10.0重量%、特に有利に
は0.05〜2.0重量%の量で含有する。
ルガノポリシロキサン材料は、低分子有機珪素化合物
(4)を、各々オルガノポリシロキサン材料の全重量に
対して有利には0.01〜10.0重量%、特に有利に
は0.05〜2.0重量%の量で含有する。
【0121】使用される填料(5)の例は、強化填料、
従ってにBET表面積少なくとも50m2/g、有利に
は50〜500m2/gを有する填料、例えば熱分解的
に得た珪酸、構造保持下で脱水した珪酸ヒドロゲル、従
っていわゆる“エーロゲル”及びその他の種類の沈降珪
酸及び非強化性填料、従って50m2/gより少ないB
ETによる比表面積を有する填料、例えば石英粉、珪藻
土、珪酸カルシウム、珪酸ジルコニウム 沸石、粘土、
リトポン、金属酸化物、例えば酸化鉄、酸化亜鉛、酸化
チタン及び酸化アルミニウム、金属炭酸塩、例えば炭酸
カルシウム、炭酸マグネシウム及び炭酸亜鉛、金属硫酸
塩、例えば硫酸バリウム、金属粉、繊維、カーボンブラ
ック、石墨、雲母及び白亜である。前記填料は前記した
ように疎水性にすることもできる。
従ってにBET表面積少なくとも50m2/g、有利に
は50〜500m2/gを有する填料、例えば熱分解的
に得た珪酸、構造保持下で脱水した珪酸ヒドロゲル、従
っていわゆる“エーロゲル”及びその他の種類の沈降珪
酸及び非強化性填料、従って50m2/gより少ないB
ETによる比表面積を有する填料、例えば石英粉、珪藻
土、珪酸カルシウム、珪酸ジルコニウム 沸石、粘土、
リトポン、金属酸化物、例えば酸化鉄、酸化亜鉛、酸化
チタン及び酸化アルミニウム、金属炭酸塩、例えば炭酸
カルシウム、炭酸マグネシウム及び炭酸亜鉛、金属硫酸
塩、例えば硫酸バリウム、金属粉、繊維、カーボンブラ
ック、石墨、雲母及び白亜である。前記填料は前記した
ように疎水性にすることもできる。
【0122】本発明によるエラストマーに架橋可能なオ
ルガノポリシロキサン材料は、填料を、各々本発明によ
る架橋性オルガノポリシロキサン材料100重量部に対
して有利には1〜50重量部、特に有利には5〜40重
量部の量で含有する。
ルガノポリシロキサン材料は、填料を、各々本発明によ
る架橋性オルガノポリシロキサン材料100重量部に対
して有利には1〜50重量部、特に有利には5〜40重
量部の量で含有する。
【0123】成分(1)〜(5)は本発明によるシリコ
ーンゴム材料の必須成分であるが、場合により50重量
%までの、有利には1〜40重量%の間の含分のその他
の添加物がシリコーンゴム材料中に含有されていてよ
い。これらの添加物は、例えば接着助剤、例えばアミノ
アルコキシシラン及びSi−結合の水素を有する直鎖及
び樹脂状メチルシロキサン、熱安定化剤、例えば遷移金
属脂肪酸塩、例えばオクタン酸鉄、遷移金属シラノレー
ト、例えばシラノール酸鉄並びにCer(IV)−化合
物、遷移金属含有の珪酸又はパラジウム化合物、抑制
剤、顔料、色料及び可塑剤であってよい。
ーンゴム材料の必須成分であるが、場合により50重量
%までの、有利には1〜40重量%の間の含分のその他
の添加物がシリコーンゴム材料中に含有されていてよ
い。これらの添加物は、例えば接着助剤、例えばアミノ
アルコキシシラン及びSi−結合の水素を有する直鎖及
び樹脂状メチルシロキサン、熱安定化剤、例えば遷移金
属脂肪酸塩、例えばオクタン酸鉄、遷移金属シラノレー
ト、例えばシラノール酸鉄並びにCer(IV)−化合
物、遷移金属含有の珪酸又はパラジウム化合物、抑制
剤、顔料、色料及び可塑剤であってよい。
【0124】可塑剤の例は、室温で液体の、トリオルガ
ノシロキシ基により末端ブロックされたジオルガノポリ
シロキサン、例えば25℃で粘度10〜10000mm
2/秒を有するトリメチルシロキシ基により末端ブロッ
クされたジメチルポリシロキサン並びに室温で液体のオ
ルガノポリシロキサン樹脂である。
ノシロキシ基により末端ブロックされたジオルガノポリ
シロキサン、例えば25℃で粘度10〜10000mm
2/秒を有するトリメチルシロキシ基により末端ブロッ
クされたジメチルポリシロキサン並びに室温で液体のオ
ルガノポリシロキサン樹脂である。
【0125】硬化性シリコーンゴム材料の架橋時間及び
架橋速度を目的に応じて調整するために役立つ特別な添
加物を含有することができる。この自体公知の抑制剤
は、例えばアセチレン化アルコール、例えばエチニルシ
クロヘキサノール及び2−メチル−3−ブチン−2−オ
ール、トリアルキルシアヌレート、アルキルマレエー
ト、例えばジアリルマレエート及びジメチルマレエー
ト、アルキルフマレート、例えばジエチルフマレート及
びジアリルフマレート、有機ヒドロペルオキシド、例え
ばクモールヒドロペルオキシド、t−ブチルヒドロペル
オキシド及びピナンヒドロペルオキシド、有機過酸化
物、ベンゾトリアゾール、有機スルホキシド、有機アミ
ン及びアミド、ホスフィン、ホスファイト、ニトリル、
ジアジリジン及びオキシムである。
架橋速度を目的に応じて調整するために役立つ特別な添
加物を含有することができる。この自体公知の抑制剤
は、例えばアセチレン化アルコール、例えばエチニルシ
クロヘキサノール及び2−メチル−3−ブチン−2−オ
ール、トリアルキルシアヌレート、アルキルマレエー
ト、例えばジアリルマレエート及びジメチルマレエー
ト、アルキルフマレート、例えばジエチルフマレート及
びジアリルフマレート、有機ヒドロペルオキシド、例え
ばクモールヒドロペルオキシド、t−ブチルヒドロペル
オキシド及びピナンヒドロペルオキシド、有機過酸化
物、ベンゾトリアゾール、有機スルホキシド、有機アミ
ン及びアミド、ホスフィン、ホスファイト、ニトリル、
ジアジリジン及びオキシムである。
【0126】更に、本発明による材料は、有利にはその
他の物質を含有しない。
他の物質を含有しない。
【0127】本発明による材料を製造するために各々使
用される成分は、唯一の種類のこのような成分であって
もよいし、少なくとも2種類のこのような成分から成る
混合物であってもよい。
用される成分は、唯一の種類のこのような成分であって
もよいし、少なくとも2種類のこのような成分から成る
混合物であってもよい。
【0128】Si−結合の水素の脂肪族炭素−炭素−多
重結合への付加により架橋可能な本発明によるオルガノ
ポリシロキサン材料の製造は、自体公知の方法により、
例えば個々の成分の簡単な混合により行うことができ
る。これに関しては、既に最初に記載した出願番号P4
405245.6を有する西ドイツ特許出願明細書を参
照にされたい。
重結合への付加により架橋可能な本発明によるオルガノ
ポリシロキサン材料の製造は、自体公知の方法により、
例えば個々の成分の簡単な混合により行うことができ
る。これに関しては、既に最初に記載した出願番号P4
405245.6を有する西ドイツ特許出願明細書を参
照にされたい。
【0129】その際、本発明により使用される低分子有
機珪素化合物は種々の混合方法で、例えばシリコーンゴ
ム材料の個々の成分の任意の混合工程で行うことができ
る。有利には、本発明による付加架橋性材料を調製する
ために、低分子有機珪素化合物を填料を混入する間に材
料中に混入する。その他の方法は、低分子有機珪素化合
物を填料上に、粉末ミキサー中で混合することによって
塗布するか又は填料、不活性有機溶剤及び本発明により
使用される低分子有機珪素化合物の懸濁液中で混合し、
引き続き有機溶剤を蒸発乾固し、これを用いて引き続
き、同様に賦形剤として填料と一緒に装入するようにす
る。もう一つの可能性は、本発明により使用される低分
子有機珪素化合物を、化学的反応により、例えば前記方
法2と同様にして填料上に生成させ、この上で放置する
ことである。
機珪素化合物は種々の混合方法で、例えばシリコーンゴ
ム材料の個々の成分の任意の混合工程で行うことができ
る。有利には、本発明による付加架橋性材料を調製する
ために、低分子有機珪素化合物を填料を混入する間に材
料中に混入する。その他の方法は、低分子有機珪素化合
物を填料上に、粉末ミキサー中で混合することによって
塗布するか又は填料、不活性有機溶剤及び本発明により
使用される低分子有機珪素化合物の懸濁液中で混合し、
引き続き有機溶剤を蒸発乾固し、これを用いて引き続
き、同様に賦形剤として填料と一緒に装入するようにす
る。もう一つの可能性は、本発明により使用される低分
子有機珪素化合物を、化学的反応により、例えば前記方
法2と同様にして填料上に生成させ、この上で放置する
ことである。
【0130】2成分の本発明による材料の調製では、有
利には本発明により使用される低分子有機珪素化合物を
最後の混合工程で添加する。
利には本発明により使用される低分子有機珪素化合物を
最後の混合工程で添加する。
【0131】本発明による付加により過酸化的に架橋可
能な材料は、従来公知の付加により架橋可能な材料と同
じ条件で架橋させることができる。有利には加硫を温度
10〜200℃で行う。
能な材料は、従来公知の付加により架橋可能な材料と同
じ条件で架橋させることができる。有利には加硫を温度
10〜200℃で行う。
【0132】本発明により付加により架橋可能な材料は
非常に良好な流動学的特性、特に卓越した粘度安定性を
有するという利点を有する。
非常に良好な流動学的特性、特に卓越した粘度安定性を
有するという利点を有する。
【0133】本発明により付加によって架橋可能な材料
は、これから製造したエラストマーが、特に引裂き伝搬
抵抗及び圧縮永久歪に関して、非常に良好な機械的特性
を示すという利点を有する。
は、これから製造したエラストマーが、特に引裂き伝搬
抵抗及び圧縮永久歪に関して、非常に良好な機械的特性
を示すという利点を有する。
【0134】本発明によるオルガノポリシロキサン材料
並びに本発明によりこれから製造されるエラストマー
は、これまでもエラストマーに架橋可能なオルガノポリ
シロキサン材料又はエラストマー用に使用されている全
ての目的のために使用することができる。特に本発明に
よるオルガノポリシロキサン材料並びにこれから本発明
により製造されるエラストマーは、射出成形法による成
形品、改良された引裂き伝搬抵抗を必要とする離型用
途、例えばベビーゴム乳首、瓶乳首、パッキン及び特別
な成形品用に好適である。
並びに本発明によりこれから製造されるエラストマー
は、これまでもエラストマーに架橋可能なオルガノポリ
シロキサン材料又はエラストマー用に使用されている全
ての目的のために使用することができる。特に本発明に
よるオルガノポリシロキサン材料並びにこれから本発明
により製造されるエラストマーは、射出成形法による成
形品、改良された引裂き伝搬抵抗を必要とする離型用
途、例えばベビーゴム乳首、瓶乳首、パッキン及び特別
な成形品用に好適である。
【0135】次の実施例中、粘度の記載は全て温度25
℃に関する。他に記載のない限り、下記の実施例は、周
囲の大気の圧力、従って約1000ヘクトパスカル及び
温度約20℃、又は成分混合に際して室温で付加的に加
熱又は冷却なしに調整される温度で実施する。更に、他
に記載のない限り、部は重量部であり、%は重量%であ
る。
℃に関する。他に記載のない限り、下記の実施例は、周
囲の大気の圧力、従って約1000ヘクトパスカル及び
温度約20℃、又は成分混合に際して室温で付加的に加
熱又は冷却なしに調整される温度で実施する。更に、他
に記載のない限り、部は重量部であり、%は重量%であ
る。
【0136】加硫ゴムの引裂き伝搬抵抗はASTM D
624−B−91により測定する。
624−B−91により測定する。
【0137】圧縮永久歪はDIN53517により測定
する。
する。
【0138】その他に、下記の略語を使用する: Me:メチル基 Et:エチル基 Vi:ビニル基
【0139】
例1 (Me2ViSiO)2Si(Me3SiO)2の製造 略語:(VM)2QM2 1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサン2007.
2g(10.8モル)、SiCl4614.8g(3.
62モル)、テトラメチル尿素2.7g(1000pp
m)及びPNCl2231g(トリクロルプロパン中2
5%)(=PNCl22.2%)から成る混合物を、室
温で5時間攪拌する(最初に62℃に発熱)。揮発性成
分を120℃で油ポンプ真空中で回転蒸発器で除去した
後、残分を蒸留する。純粋な(Me2ViSiO)2S
iCl2180gが100ヘクトパスカルで沸点47℃
を有する無色透明な液体として得られる。同定は1H−
及び29Si−NMR−スペクトルを用いて行う。収率
は16.6%である。
2g(10.8モル)、SiCl4614.8g(3.
62モル)、テトラメチル尿素2.7g(1000pp
m)及びPNCl2231g(トリクロルプロパン中2
5%)(=PNCl22.2%)から成る混合物を、室
温で5時間攪拌する(最初に62℃に発熱)。揮発性成
分を120℃で油ポンプ真空中で回転蒸発器で除去した
後、残分を蒸留する。純粋な(Me2ViSiO)2S
iCl2180gが100ヘクトパスカルで沸点47℃
を有する無色透明な液体として得られる。同定は1H−
及び29Si−NMR−スペクトルを用いて行う。収率
は16.6%である。
【0140】こうして得た(Me2ViSiO)2Si
Cl250.0g(0.166モル)を次いでトリエチ
ルアミン41.9g(0.415モル)及びn−ヘキサ
ン150gと混合し、室温でトリメチルシラノール(工
業用、分子篩0.4nmで乾燥;1H−NMRによりヘ
キサメチルジシロキサン19%を含有する)42.0g
(0.38モル)を30分間以内に加える。1時間後反
応させ、水で洗浄し、有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥
させる。揮発性成分を120℃で油ポンプ真空中で回転
蒸発器で除去した後、残分をビグロー−塔で分別する。
純粋な(Me2ViSiO)2Si(Me3SiO)2
25gが300ヘクトパスカルで沸点58〜62℃を有
する無色透明な液体として得られる。同定は1H−NM
R−スペクトルを用いて行う。収率は37%である。
Cl250.0g(0.166モル)を次いでトリエチ
ルアミン41.9g(0.415モル)及びn−ヘキサ
ン150gと混合し、室温でトリメチルシラノール(工
業用、分子篩0.4nmで乾燥;1H−NMRによりヘ
キサメチルジシロキサン19%を含有する)42.0g
(0.38モル)を30分間以内に加える。1時間後反
応させ、水で洗浄し、有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥
させる。揮発性成分を120℃で油ポンプ真空中で回転
蒸発器で除去した後、残分をビグロー−塔で分別する。
純粋な(Me2ViSiO)2Si(Me3SiO)2
25gが300ヘクトパスカルで沸点58〜62℃を有
する無色透明な液体として得られる。同定は1H−NM
R−スペクトルを用いて行う。収率は37%である。
【0141】例2 (Me2ViSiO)3Si−OHの製造 略語:(VM)3Q−OH 1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサン1834g
(9.86モル)、SiCl4559g(3.29モ
ル)、テトラメチル尿素(N−ヘキサン中2.5%)
2.4g(25ppm)及びPNCl224g(トリク
ロルプロパン中25%)(=PNCl20.25%)か
ら成る混合物を、46時間室温で攪拌する。揮発性成分
を30℃/400ヘクトパスカルで回転蒸発器で除去し
た後、残分を蒸留する。600ヘクトパスカルで沸点9
3〜100℃を有する無色透明な液体334gが得られ
る。得られた生成物の組成を29Si−NMR−スペク
トルで同定する:(Me2ViSiO)3SiCl 9
4モル%及び(Me2ViSiO)4Si 6モル% 収率は26%である。
(9.86モル)、SiCl4559g(3.29モ
ル)、テトラメチル尿素(N−ヘキサン中2.5%)
2.4g(25ppm)及びPNCl224g(トリク
ロルプロパン中25%)(=PNCl20.25%)か
ら成る混合物を、46時間室温で攪拌する。揮発性成分
を30℃/400ヘクトパスカルで回転蒸発器で除去し
た後、残分を蒸留する。600ヘクトパスカルで沸点9
3〜100℃を有する無色透明な液体334gが得られ
る。得られた生成物の組成を29Si−NMR−スペク
トルで同定する:(Me2ViSiO)3SiCl 9
4モル%及び(Me2ViSiO)4Si 6モル% 収率は26%である。
【0142】こうして得た(Me2ViSiO)3Si
Cl 94モル%及び(Me2ViSiO)4Si6モ
ル%から成る混合物348g(0.95モル)を次いで
トリエチルアミン105.7g(1.05モル)及びn
−ヘキサン1670gと混合し、室温で水84.9g
(4.7モル)を加える。18時間室温で攪拌し、引き
続き1時間還流加熱し、水で洗浄し、有機相を硫酸ナト
リウム上で乾燥させる。揮発性成分を30℃/700ヘ
クトパスカルで回転蒸発器で除去した後、残分を充填塔
で蒸留する。500ヘクトパスカルで沸点73〜75℃
を有する無色透明な液体267gが得られる。得られた
生成物の組成を29Si−NMR−スペクトルで同定す
る:(Me2ViSiO)3SiOH 96モル%及び
(Me2ViSiO)4Si 4モル% 例3 (Me2ViSiO)3Si(Me3SiO)の製造 略語:(VM)3QM トリメチルクロルシラン23.8g(0.21モル)、
トリエチルアミン26.3g(0.26モル)及びn−
ヘキサン150gから成る混合物に、室温で例2で得ら
れた(Me2ViSiO)3SiOH(96%)45.
0g(0.174モル)を40分間以内で滴加する。1
時間後反応させ、水で洗浄し、有機相を硫酸ナトリウム
上で乾燥させる。揮発性成分を25℃で油ポンプ真空中
で回転蒸発器で除去した後、残分をビグロー−塔で分別
する。純粋な(Me2ViSiO)3Si(Me3Si
O)15gが400ヘクトパスカルで沸点60〜63℃
を有する無色透明な液体として得られる。同定は1H−
NMR−スペクトルを用いて行う。収率は28%であ
る。
Cl 94モル%及び(Me2ViSiO)4Si6モ
ル%から成る混合物348g(0.95モル)を次いで
トリエチルアミン105.7g(1.05モル)及びn
−ヘキサン1670gと混合し、室温で水84.9g
(4.7モル)を加える。18時間室温で攪拌し、引き
続き1時間還流加熱し、水で洗浄し、有機相を硫酸ナト
リウム上で乾燥させる。揮発性成分を30℃/700ヘ
クトパスカルで回転蒸発器で除去した後、残分を充填塔
で蒸留する。500ヘクトパスカルで沸点73〜75℃
を有する無色透明な液体267gが得られる。得られた
生成物の組成を29Si−NMR−スペクトルで同定す
る:(Me2ViSiO)3SiOH 96モル%及び
(Me2ViSiO)4Si 4モル% 例3 (Me2ViSiO)3Si(Me3SiO)の製造 略語:(VM)3QM トリメチルクロルシラン23.8g(0.21モル)、
トリエチルアミン26.3g(0.26モル)及びn−
ヘキサン150gから成る混合物に、室温で例2で得ら
れた(Me2ViSiO)3SiOH(96%)45.
0g(0.174モル)を40分間以内で滴加する。1
時間後反応させ、水で洗浄し、有機相を硫酸ナトリウム
上で乾燥させる。揮発性成分を25℃で油ポンプ真空中
で回転蒸発器で除去した後、残分をビグロー−塔で分別
する。純粋な(Me2ViSiO)3Si(Me3Si
O)15gが400ヘクトパスカルで沸点60〜63℃
を有する無色透明な液体として得られる。同定は1H−
NMR−スペクトルを用いて行う。収率は28%であ
る。
【0143】例4 (Me2ViSiO)2(Me3SiO)SiOHの製
造 略語:(VM)2MQ−OH 例1に製造を記載してある(Me2ViSiO)2Si
Cl258.5g(0.19モル)、トリエチルアミン
20.8g(0.2モル)及びテトラヒドロフラン29
2gから成る混合物に、室温でトリメチルシラノール
(工業用、分子篩0.4nmで乾燥;1H−NMRによ
りヘキサメチルジシロキサン10%を含有する)19g
(0.19モル)を2.25時間以内に滴加する。2時
間後反応させ、濾過助剤(Filterhilfe)
(D−Bad Kreuznach在Seitz Fi
lterwerkeで“Seitz Super”の名
称で市販されている)を用いて濾過し、30℃及び70
0ヘクトパスカルで溶剤を溜去する。もう一度濾過した
後、蒸留用橋渡し管を用いて蒸留する。500ヘクトパ
スカルで55〜81℃の沸点範囲で無色透明な液体4
1.5gが得られ、これは29Si−NMR−スペクト
ルによれば(Me2ViSiO)2(Me3SiO)S
iCl 83モル%を含有する。収率は51%である。
造 略語:(VM)2MQ−OH 例1に製造を記載してある(Me2ViSiO)2Si
Cl258.5g(0.19モル)、トリエチルアミン
20.8g(0.2モル)及びテトラヒドロフラン29
2gから成る混合物に、室温でトリメチルシラノール
(工業用、分子篩0.4nmで乾燥;1H−NMRによ
りヘキサメチルジシロキサン10%を含有する)19g
(0.19モル)を2.25時間以内に滴加する。2時
間後反応させ、濾過助剤(Filterhilfe)
(D−Bad Kreuznach在Seitz Fi
lterwerkeで“Seitz Super”の名
称で市販されている)を用いて濾過し、30℃及び70
0ヘクトパスカルで溶剤を溜去する。もう一度濾過した
後、蒸留用橋渡し管を用いて蒸留する。500ヘクトパ
スカルで55〜81℃の沸点範囲で無色透明な液体4
1.5gが得られ、これは29Si−NMR−スペクト
ルによれば(Me2ViSiO)2(Me3SiO)S
iCl 83モル%を含有する。収率は51%である。
【0144】水29g(1.6モル)、トリエチルアミ
ン31.9g(0.32モル)及びジエチルエーテル2
03gから成る混合物に、室温でジエチルエーテル60
g中のこうして得た(Me2ViSiO)2(Me3S
iO)SiCl 58.0g(0.11モル)の溶液を
60分間以内で滴加するが、その際、反応混合物の温度
は30℃に上昇する。2時間後反応させ、水で洗浄し、
有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥させる。揮発性成分を
25〜60℃で油ポンプ真空中で回転蒸発器で除去した
後、透明な油状物47gが残分として得られる。1H−
及び29Si−NMR−スペクトルにより、油状物は
(Me2ViSiO)2(Me3SiO)SiOH約8
0%を含有する。トリエチルアミンの残量を酸性活性漂
白土(ミュンヒェン在Suedchemie AGで
“Tonsil OptimumFF”の名称で市販さ
れている)を用いる濾過により除去する。(Me2Vi
SiO)2(Me3SiO)SiOH33gが得られ
る;収率は約90%である。
ン31.9g(0.32モル)及びジエチルエーテル2
03gから成る混合物に、室温でジエチルエーテル60
g中のこうして得た(Me2ViSiO)2(Me3S
iO)SiCl 58.0g(0.11モル)の溶液を
60分間以内で滴加するが、その際、反応混合物の温度
は30℃に上昇する。2時間後反応させ、水で洗浄し、
有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥させる。揮発性成分を
25〜60℃で油ポンプ真空中で回転蒸発器で除去した
後、透明な油状物47gが残分として得られる。1H−
及び29Si−NMR−スペクトルにより、油状物は
(Me2ViSiO)2(Me3SiO)SiOH約8
0%を含有する。トリエチルアミンの残量を酸性活性漂
白土(ミュンヒェン在Suedchemie AGで
“Tonsil OptimumFF”の名称で市販さ
れている)を用いる濾過により除去する。(Me2Vi
SiO)2(Me3SiO)SiOH33gが得られ
る;収率は約90%である。
【0145】例5 (Me2ViSiO)4Siの製造 略語:(VM)4Q SiCl4248g及びビニルジメチルクロルシラン1
540gから成る混合物に、エタノール848gを徐々
に加え、引き続き水360gで徐々に加水分解する。更
に水400gを添加した後、90分間攪拌する。水相を
分離し、有機相を水で3回洗浄する。引き続き有機相を
130℃までで圧力70ヘクトパスカルで蒸留する。透
明な液体570gが得られるが、これはガスクロマトグ
ラフィーによれば(ViMe2SiO)4Si95%を
含有する。
540gから成る混合物に、エタノール848gを徐々
に加え、引き続き水360gで徐々に加水分解する。更
に水400gを添加した後、90分間攪拌する。水相を
分離し、有機相を水で3回洗浄する。引き続き有機相を
130℃までで圧力70ヘクトパスカルで蒸留する。透
明な液体570gが得られるが、これはガスクロマトグ
ラフィーによれば(ViMe2SiO)4Si95%を
含有する。
【0146】例6 (Me2ViSiO)2Si(Me3SiO)2−60
%の製造 略語:(VM)2QM2−60% SiCl4248g、ビニルジメチルクロルシラン77
0g及びトリメチルクロルシラン694gから成る混合
物にエタノール848gを徐々に加え、引き続き水36
0gで徐々に加水分解する。更に水400gを添加した
後、90分間攪拌する。水相を分離し、有機相を水で3
回洗浄する。引き続き有機相を圧力300ヘキトパスカ
ルで130℃までで蒸留する。液状残分525gが得ら
れるが、これはガスクロマトグラフィーによれば(Me
3SiO)4Si5%、(Me2ViSiO)Si(M
e3SiO)318%、(Me2ViSiO)2Si
(Me3SiO)260%、(Me2ViSiO)3S
i(Me3SiO)14%及び(ViMe2SiO)4
Si3%を有する。
%の製造 略語:(VM)2QM2−60% SiCl4248g、ビニルジメチルクロルシラン77
0g及びトリメチルクロルシラン694gから成る混合
物にエタノール848gを徐々に加え、引き続き水36
0gで徐々に加水分解する。更に水400gを添加した
後、90分間攪拌する。水相を分離し、有機相を水で3
回洗浄する。引き続き有機相を圧力300ヘキトパスカ
ルで130℃までで蒸留する。液状残分525gが得ら
れるが、これはガスクロマトグラフィーによれば(Me
3SiO)4Si5%、(Me2ViSiO)Si(M
e3SiO)318%、(Me2ViSiO)2Si
(Me3SiO)260%、(Me2ViSiO)3S
i(Me3SiO)14%及び(ViMe2SiO)4
Si3%を有する。
【0147】例7 (Me2ViSiO)2Si(Me3SiO)2−55
%の製造 略語:(VM)2QM2−55% SiCl4248g及びトリメチルクロルシラン138
8gから成る混合物に、エタノール848gを徐々に加
え、引き続き水360gで徐々に加水分解する。更に水
400gを添加した後、90分間攪拌する。水相を分離
し、有機相を水で3回洗浄する。引き続き有機相を13
0℃までで圧力70ヘクトパスカルで蒸留する。こうし
て得た液体200gを1,3−ジビニル−テトラメチル
ジシロキサン212g中に溶解させ、溶液を6時間かけ
て80℃で酸性活性化漂白土(ミュンヒェン在Sued
chemie AGで“Tonsil Optimum
FF”の名称で市販されている)30gの添加下で処理
する。触媒を濾別後、溶液を130℃及び圧力300ヘ
クトパスカルで蒸留する。液状残分208gが得られる
が、これはガスクロマトグラフィーによれば(Me3S
iO)4Si5%、(Me2ViSiO)Si(Me3
SiO)320%、(Me2ViSiO)2Si(Me
3SiO)255%、(Me2ViSiO)3Si(M
e3SiO)16%及び(ViMe2SiO)4Si4
%を有する。
%の製造 略語:(VM)2QM2−55% SiCl4248g及びトリメチルクロルシラン138
8gから成る混合物に、エタノール848gを徐々に加
え、引き続き水360gで徐々に加水分解する。更に水
400gを添加した後、90分間攪拌する。水相を分離
し、有機相を水で3回洗浄する。引き続き有機相を13
0℃までで圧力70ヘクトパスカルで蒸留する。こうし
て得た液体200gを1,3−ジビニル−テトラメチル
ジシロキサン212g中に溶解させ、溶液を6時間かけ
て80℃で酸性活性化漂白土(ミュンヒェン在Sued
chemie AGで“Tonsil Optimum
FF”の名称で市販されている)30gの添加下で処理
する。触媒を濾別後、溶液を130℃及び圧力300ヘ
クトパスカルで蒸留する。液状残分208gが得られる
が、これはガスクロマトグラフィーによれば(Me3S
iO)4Si5%、(Me2ViSiO)Si(Me3
SiO)320%、(Me2ViSiO)2Si(Me
3SiO)255%、(Me2ViSiO)3Si(M
e3SiO)16%及び(ViMe2SiO)4Si4
%を有する。
【0148】例8 組成[Me2ViSiO]4[Me3SiO]4[Si
O4/2]3の低分子シロキサンの製造 略語:[(VM)1,3M1,3Q] SiCl4248g、ビニルジメチルクロルシラン25
0g及びトリメチルクロルシラン225gから成る混合
物に、エタノール848gを徐々に加え、引き続き水3
60gで徐々に加水分解する。更に水400gを添加し
た後、90分間攪拌する。水相を分離し、有機相を水で
3回洗浄する。引き続き有機相を130℃までで圧力7
0ヘクトパスカルで蒸留する。粘度14mm2/秒を有
する液状残分462gが得られるが、これは29Si−
NMR−スペクトルによればビニルジメチルシロキシ−
単位対SiO4/2−単位のモル比1.30対1及びト
リメチルシロキシ−単位対SiO4/2−単位のモル比
1.32対1を有する。
O4/2]3の低分子シロキサンの製造 略語:[(VM)1,3M1,3Q] SiCl4248g、ビニルジメチルクロルシラン25
0g及びトリメチルクロルシラン225gから成る混合
物に、エタノール848gを徐々に加え、引き続き水3
60gで徐々に加水分解する。更に水400gを添加し
た後、90分間攪拌する。水相を分離し、有機相を水で
3回洗浄する。引き続き有機相を130℃までで圧力7
0ヘクトパスカルで蒸留する。粘度14mm2/秒を有
する液状残分462gが得られるが、これは29Si−
NMR−スペクトルによればビニルジメチルシロキシ−
単位対SiO4/2−単位のモル比1.30対1及びト
リメチルシロキシ−単位対SiO4/2−単位のモル比
1.32対1を有する。
【0149】例9 組成[Me2ViSiO]4[Me3SiO]4[Si
O4/2]3の低分子シロキサンの製造 略語:[(VM)1,3M1,3Q] SiCl4248及びトリメチルクロルシラン500g
から成る混合物に、エタノール848gを徐々に加え、
引き続き水360gで徐々に加水分解する。更に水40
0gを添加した後、90分間攪拌する。水相を分離し、
有機相を水で3回洗浄する。引き続き有機相を130℃
までで圧力70ヘクトパスカルで蒸留する。こうして得
た液体300gをヘキサメチルジシロキサン212g中
に溶解させ、溶液を6時間かけて80℃で酸性活性化漂
白土(ミュンヒェン在Suedchemie AGで
“Tonsil OptimumFF”の名称で市販さ
れている)30gの添加下で処理する。触媒を濾別後、
溶液を130℃及び圧力300ヘクトパスカルで蒸留す
る。粘度13.5mm2/秒を有する液状残分317g
が得られるが、これは29Si−NMR−スペクトルに
よればビニルジメチルシロキシ−単位対SiO4/2−
単位のモル比1.31対1及びトリメチルシロキシ−単
位対SiO4/2−単位のモル比1.29対1を有す
る。
O4/2]3の低分子シロキサンの製造 略語:[(VM)1,3M1,3Q] SiCl4248及びトリメチルクロルシラン500g
から成る混合物に、エタノール848gを徐々に加え、
引き続き水360gで徐々に加水分解する。更に水40
0gを添加した後、90分間攪拌する。水相を分離し、
有機相を水で3回洗浄する。引き続き有機相を130℃
までで圧力70ヘクトパスカルで蒸留する。こうして得
た液体300gをヘキサメチルジシロキサン212g中
に溶解させ、溶液を6時間かけて80℃で酸性活性化漂
白土(ミュンヒェン在Suedchemie AGで
“Tonsil OptimumFF”の名称で市販さ
れている)30gの添加下で処理する。触媒を濾別後、
溶液を130℃及び圧力300ヘクトパスカルで蒸留す
る。粘度13.5mm2/秒を有する液状残分317g
が得られるが、これは29Si−NMR−スペクトルに
よればビニルジメチルシロキシ−単位対SiO4/2−
単位のモル比1.31対1及びトリメチルシロキシ−単
位対SiO4/2−単位のモル比1.29対1を有す
る。
【0150】例10 (ViMe2SiO)3SiOHの製造 略語:(VM)3QOH 水50g及び1,3−ジビニル−1,1,3,3−テト
ラメチルジシラザン50gをBETによる比表面積30
0mm2/gを有する発熱性珪酸(Wacker−Ch
emie GmbHで名称“WACKER HDKRT
30”として市販されている)100gと強力に混合
し、1時間室温で攪拌し、引き続き24時間80℃で貯
蔵する。引き続き粉末反応混合物から140℃で2時間
弱窒素流中で易揮発性化合物を除去し、精製する。乾燥
窒素中で200℃で8時間蒸留し、水相の少量の含分を
除去した後、透明な液体16.8gが得られるが、これ
はガスクロマトグラフィーによれば(VM)3QOH8
2%を含有する。
ラメチルジシラザン50gをBETによる比表面積30
0mm2/gを有する発熱性珪酸(Wacker−Ch
emie GmbHで名称“WACKER HDKRT
30”として市販されている)100gと強力に混合
し、1時間室温で攪拌し、引き続き24時間80℃で貯
蔵する。引き続き粉末反応混合物から140℃で2時間
弱窒素流中で易揮発性化合物を除去し、精製する。乾燥
窒素中で200℃で8時間蒸留し、水相の少量の含分を
除去した後、透明な液体16.8gが得られるが、これ
はガスクロマトグラフィーによれば(VM)3QOH8
2%を含有する。
【0151】例11 (ViMe2SiO)3SiOHの製造 略語:(VM)3QOH 例10に記載の方法を、弱窒素流中で易揮発性化合物を
除去した後に中断し、引き続き乾燥窒素中での蒸留工程
は行わないというふうに変えて、繰り返す。揮発性化合
物の含量(弱窒素流下で230℃で2時間加熱後の重量
損失として測定)13.7%を有する白色粉末が得られ
る。この揮発性化合物はガスクロマトグラフィーによれ
ば水13%の他に(VM)3QOH71%を含有する。
除去した後に中断し、引き続き乾燥窒素中での蒸留工程
は行わないというふうに変えて、繰り返す。揮発性化合
物の含量(弱窒素流下で230℃で2時間加熱後の重量
損失として測定)13.7%を有する白色粉末が得られ
る。この揮発性化合物はガスクロマトグラフィーによれ
ば水13%の他に(VM)3QOH71%を含有する。
【0152】例12 (ViMe2SiO)3SiOHの製造 略語:(VM)3QOH 水50g、1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラ
メチルジシラザン50g及びBETによる比表面積30
0mm2/gを有する発熱性珪酸(Wacker−Ch
emie GmbHで名称“WACKER HDKRT
30”として市販されている)100gをヘキサメチル
ジシロキサン500g中に懸濁し、引き続き24時間8
0℃で反応させる。引き続き常圧で110℃までで過剰
のヘキサメチルジシロキサンを溜去する。こうして得た
粉末状反応混合物から引き続き140℃で2時間弱窒素
流中で易揮発性化合物を除去する。乾燥窒素中で200
℃で8時間蒸留し、水相の少量の含分を除去した後、透
明な液体14.7gが得られるが、これはガスクロマト
グラフィーによれば(VM)3QOH80%を含有す
る。
メチルジシラザン50g及びBETによる比表面積30
0mm2/gを有する発熱性珪酸(Wacker−Ch
emie GmbHで名称“WACKER HDKRT
30”として市販されている)100gをヘキサメチル
ジシロキサン500g中に懸濁し、引き続き24時間8
0℃で反応させる。引き続き常圧で110℃までで過剰
のヘキサメチルジシロキサンを溜去する。こうして得た
粉末状反応混合物から引き続き140℃で2時間弱窒素
流中で易揮発性化合物を除去する。乾燥窒素中で200
℃で8時間蒸留し、水相の少量の含分を除去した後、透
明な液体14.7gが得られるが、これはガスクロマト
グラフィーによれば(VM)3QOH80%を含有す
る。
【0153】例13 (ViMe2SiO)3SiOHの製造 略語:(VM)3QOH 例12に記載の方法を、弱窒素流中で易揮発性化合物を
除去した後に中断し、引き続き乾燥窒素中での蒸留工程
は行わないというふうに変えて、繰り返す。揮発性化合
物の含量(弱窒素流下で230℃で2時間加熱後の重量
損失として測定)13.9%を有する白色粉末が得られ
る。この揮発性化合物はガスクロマトグラフィーによれ
ば水11%の他に(VM)3QOH68%を含有する。
除去した後に中断し、引き続き乾燥窒素中での蒸留工程
は行わないというふうに変えて、繰り返す。揮発性化合
物の含量(弱窒素流下で230℃で2時間加熱後の重量
損失として測定)13.9%を有する白色粉末が得られ
る。この揮発性化合物はガスクロマトグラフィーによれ
ば水11%の他に(VM)3QOH68%を含有する。
【0154】例14 (ViMe2SiO)3SiMeの製造 略語:(VM)3QT(Me) 例5に記載の方法を、SiCl4248gの代わりにメ
チルトリクロルシラン218gを使用するというふうに
変えて、繰り返す。無色液体460gが得られるが、こ
れはガスクロマトグラフィーによれば(ViMe2Si
O)3SiMe91%を含有する。
チルトリクロルシラン218gを使用するというふうに
変えて、繰り返す。無色液体460gが得られるが、こ
れはガスクロマトグラフィーによれば(ViMe2Si
O)3SiMe91%を含有する。
【0155】例15 (ViMe2SiO)3SiViの製造 略語:(VM)3T(Vi) 例5に記載の操作方法を、SiCl4248gの代わり
にビニルトリクロルシラン236gを使用するというふ
うに変えて、繰り返す。無色液体435gが得られる
が、これはガスクロマトグラフィーによれば(ViMe
2SiO)3SiVi92%を含有する。
にビニルトリクロルシラン236gを使用するというふ
うに変えて、繰り返す。無色液体435gが得られる
が、これはガスクロマトグラフィーによれば(ViMe
2SiO)3SiVi92%を含有する。
【0156】例16 付加架橋性材料用の基礎材料の製造 内容5lの実験室用ニーダー中に、粘度20000mm
2/秒を有するビニル基を末端基とするジメチルポリシ
ロキサン500gを前装入し、150℃に加熱し、既に
最初に記載した西ドイツ特許第3839900A号明細
書によりヘキサメチルジシラザンで疎水化した珪酸39
0gを填料として加える。1000ヘクトパスカルで1
50℃で混練することによって、1時間の間に揮発性成
分を除去する。非常に固い材料が生じ、これを引き続き
前記ジメチルポリシロキサン410gで希釈する。この
基礎材料から引き続き遊星形ミキサーでA−並びにB−
成分を製造する。
2/秒を有するビニル基を末端基とするジメチルポリシ
ロキサン500gを前装入し、150℃に加熱し、既に
最初に記載した西ドイツ特許第3839900A号明細
書によりヘキサメチルジシラザンで疎水化した珪酸39
0gを填料として加える。1000ヘクトパスカルで1
50℃で混練することによって、1時間の間に揮発性成
分を除去する。非常に固い材料が生じ、これを引き続き
前記ジメチルポリシロキサン410gで希釈する。この
基礎材料から引き続き遊星形ミキサーでA−並びにB−
成分を製造する。
【0157】次にA−成分を製造するために、30分間
以内に室温及び常圧で、前記基礎材料380g、ジビニ
ルテトラメチルジシロキサンとのPt−錯体0.2g、
製造を前記例で詳説してある第1表に記載の低分子有機
珪素化合物0.6g並びに抑制剤としてエチニルシクロ
ヘキサノール1.0gを混合する。
以内に室温及び常圧で、前記基礎材料380g、ジビニ
ルテトラメチルジシロキサンとのPt−錯体0.2g、
製造を前記例で詳説してある第1表に記載の低分子有機
珪素化合物0.6g並びに抑制剤としてエチニルシクロ
ヘキサノール1.0gを混合する。
【0158】次にB−成分を製造するために、30分間
以内に室温及び常圧で、前記基礎材料380g、架橋剤
としてSi−H0.5モル%及び粘度400mm2/秒
を有する直鎖状メチル−H−ポリシロキサン18g、抑
制剤としてエチニルシクロヘキサノール1.0g及び製
造を前記例で詳説してある第1表に記載の低分子有機珪
素化合物0.6gを混合する。
以内に室温及び常圧で、前記基礎材料380g、架橋剤
としてSi−H0.5モル%及び粘度400mm2/秒
を有する直鎖状メチル−H−ポリシロキサン18g、抑
制剤としてエチニルシクロヘキサノール1.0g及び製
造を前記例で詳説してある第1表に記載の低分子有機珪
素化合物0.6gを混合する。
【0159】成分A及びBは各々重量比1:1で混合
し、温度160℃で架橋させる。
し、温度160℃で架橋させる。
【0160】加硫し、200℃で4時間温度処理した
後、引裂き伝搬抵抗及び永久歪を測定する。結果は第1
表に記載する。
後、引裂き伝搬抵抗及び永久歪を測定する。結果は第1
表に記載する。
【0161】
【表1】
【0162】例17 基礎材料を製造するための例16に記載の方法を、填料
として疎水化珪酸390gの代わりに385gを使用す
るというふうに変えて、繰り返した。
として疎水化珪酸390gの代わりに385gを使用す
るというふうに変えて、繰り返した。
【0163】次にA−成分を製造するために、30分間
以内に室温及び常圧で、前記基礎材料380g、ジビニ
ルテトラメチルジシロキサンとの白金錯体0.2g製造
を前記例で詳説してある第2表に記載の低分子有機珪素
化合物を含有する粉末状生成物0.6g及び抑制剤とし
てエチニルクロルヘキサノール1.0gを混合する。
以内に室温及び常圧で、前記基礎材料380g、ジビニ
ルテトラメチルジシロキサンとの白金錯体0.2g製造
を前記例で詳説してある第2表に記載の低分子有機珪素
化合物を含有する粉末状生成物0.6g及び抑制剤とし
てエチニルクロルヘキサノール1.0gを混合する。
【0164】次にB−成分を製造するために、30分間
以内に室温及び常圧で、前記基礎材料380g、架橋剤
としてSi−H0.5モル%及び粘度400mm2/秒
を有する直鎖状メチル−H−ポリシロキサン18g及び
抑制剤としてエチニルシクロヘキサノール1.0g及び
製造を前記例で詳説してある第2表に記載の低分子有機
珪素化合物を含有する粉末状生成物5gを混合する。
以内に室温及び常圧で、前記基礎材料380g、架橋剤
としてSi−H0.5モル%及び粘度400mm2/秒
を有する直鎖状メチル−H−ポリシロキサン18g及び
抑制剤としてエチニルシクロヘキサノール1.0g及び
製造を前記例で詳説してある第2表に記載の低分子有機
珪素化合物を含有する粉末状生成物5gを混合する。
【0165】更に例16に記載したようにして操作す
る。加硫し、200℃で4時間温度処理した後、引裂き
伝搬抵抗及び永久歪を測定する。結果を第2表に記載す
る。
る。加硫し、200℃で4時間温度処理した後、引裂き
伝搬抵抗及び永久歪を測定する。結果を第2表に記載す
る。
【0166】
【表2】
【0167】比較例1 例16に記載の方法を、A−並びにB−成分を製造する
ために各々低分子有機珪素化合物は使用しないというふ
うに変えて繰り返す。結果を第1表に記載する。
ために各々低分子有機珪素化合物は使用しないというふ
うに変えて繰り返す。結果を第1表に記載する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 リヒャルト ヴァイトナー ドイツ連邦共和国 ブルクハウゼン リ ンダッハーシュトラーセ 69 (72)発明者 ミヒャエル シュテップ ドイツ連邦共和国 ブルクハウゼン メ ーリンガー シュトラーセ 4 (72)発明者 フォルカー フライ ドイツ連邦共和国 ブルクハウゼン ヤ ーンヴェーク 5 (56)参考文献 特開 平6−329687(JP,A) 特開 平7−97386(JP,A) 特開 平8−53622(JP,A) 特開 平5−59070(JP,A) 特表 平7−509273(JP,A) 米国特許3884847(US,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C07F 7/08 C08G 77/20 C08L 83/05 CAPLUS(STN) REGISTRY(STN) WPIDS(STN)
Claims (6)
- 【請求項1】 オルガノポリシロキサンを基礎とするエ
ラストマーに架橋可能な材料において、これは、オルガ
ノポリシロキサンに加えて、式: RaR1 b(OR2)cSiO4−(a+b+c)/2 (I) [式中、Rは同一又は異なるものであってよく、水素原
子又はハロゲンで置換された又は非置換の、SiC−結
合の、炭素原子1〜18個を有する脂肪族飽和炭化水素
基を表わし、その際、珪素1個当たり最大1個の基R
は、水素原子を表わすことができ、R1は同一又は異な
るものであってよく、SiC−結合の、炭素原子2〜1
8個を有する脂肪族不飽和炭化水素基を表わし、R2は
同一又は異なるものであってよく、水素原子又は、酸素
原子で中断されていてよい、低級アルコキシ又はアルコ
キシアルキル基で置換された又は非置換の、炭素原子1
〜18個を有する炭化水素基を表わし、aは0、1、2
又は3であり、bは0、1、2又は3であり、cは0、
1、2又は3であり、式(I)中のa、b及びcの合計
は3より小さいか又は3であり、1分子当たり少なくと
も1個の基R1 が存在しており、かつ付加架橋可能な材
料の場合には、1分子当たり付加的に少なくとも1個の
基OR2が存在するという条件を有する]の単位から成
る珪素原子2〜17個を有する低分子有機珪素化合物少
なくとも1種を含有することを特徴とする、エラストマ
ーに架橋可能な材料。 - 【請求項2】 低分子有機珪素化合物が少なくとも2個
の基R1を有することを特徴とする、請求項1に記載の
オルガノポリシロキサンを基礎とするエラストマーに架
橋可能な材料。 - 【請求項3】 低分子有機珪素化合物が少なくとも3個
の基R1を有することを特徴とする、請求項1又は2に
記載のオルガノポリシロキサンを基礎とするエラストマ
ーに架橋可能な材料。 - 【請求項4】 低分子有機珪素化合物が、2より大きい
か又は2と同じM−単位対Q−単位及び/又はT−単位
の合計の数値的比を有することを特徴とする、請求項1
から3のいずれか1項又は数項に記載のオルガノポリシ
ロキサンを基礎とするエラストマーに架橋可能な材料。 - 【請求項5】 過酸化的に架橋可能であり、 (A)一般式: 【化1】 [式中、R3は同一又は異なるものであってよく、置換
又は非置換の炭化水素基を表わし、rは0、1、2又は
3であり、平均数値1.9〜2.1を有する]の単位か
ら成るオルガノポリシロキサン、 (B)強化性及び/又は非強化性填料、 (C)架橋を起こさせる試薬、例えば有機過酸化物、 (D)式(I)の単位から成る、珪素原子2〜17個を
有する低分子脂肪族不飽和有機珪素化合物少なくとも1
種並びに場合により、 (E)添加物を含有することを特徴とする、請求項1か
ら4のいずれか1項又は数項に記載のオルガノポリシロ
キサンを基礎とするエラストマーに架橋可能な材料。 - 【請求項6】 付加架橋可能であり、 (1)脂肪族炭素−炭素−多重結合を有する基を有す
る、珪素原子少なくとも18個を有するオルガノポリシ
ロキサン、 (2)Si−結合の水素原子を有するオルガノポリシロ
キサン、 (3)Si−結合の水素の脂肪族多重結合への付加を促
進する触媒、 (4)式(I)の単位から成る、珪素原子2〜17個を
有する低分子脂肪族不飽和有機珪素化合物少なくとも1
種及び (5)強化性及び/又は非強化性填料並びに場合により
その他の物質を含有することを特徴とする、請求項1か
ら4のいずれか1項又は数項に記載のオルガノポリシロ
キサンを基礎とするエラストマーに架橋可能な材料。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19545363.8 | 1995-12-05 | ||
DE19545363A DE19545363A1 (de) | 1995-12-05 | 1995-12-05 | Niedermolekulare Organosiliciumverbindungen, Verfahren zu deren Herstellung sowie deren Verwendung in vernetzbaren Organopolysiloxanmassen |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09202790A JPH09202790A (ja) | 1997-08-05 |
JP2986746B2 true JP2986746B2 (ja) | 1999-12-06 |
Family
ID=7779249
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8305204A Expired - Lifetime JP2986746B2 (ja) | 1995-12-05 | 1996-11-15 | 低分子有機珪素化合物及び架橋性材料 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US5977243A (ja) |
EP (1) | EP0776935B1 (ja) |
JP (1) | JP2986746B2 (ja) |
DE (2) | DE19545363A1 (ja) |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19545363A1 (de) * | 1995-12-05 | 1997-06-12 | Wacker Chemie Gmbh | Niedermolekulare Organosiliciumverbindungen, Verfahren zu deren Herstellung sowie deren Verwendung in vernetzbaren Organopolysiloxanmassen |
DE19625654A1 (de) * | 1996-06-26 | 1998-01-02 | Wacker Chemie Gmbh | Vernetzbare Organopolysiloxanmassen |
DE69922755T2 (de) * | 1998-09-25 | 2005-05-19 | Nitto Denko Corp., Ibaraki | Aufzeichnungsblatt für hochtemperaturbeständige Etiketten |
ATE223458T1 (de) * | 1998-11-19 | 2002-09-15 | Wacker Chemie Gmbh | Kombinationsvernetzer für drucklose vulkanisation von siliconkautschuk |
US6433122B1 (en) * | 1999-11-25 | 2002-08-13 | Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd. | method for producing organopolysiloxane |
JP4800460B2 (ja) * | 1999-12-28 | 2011-10-26 | 東レ・ダウコーニング株式会社 | 室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物およびその硬化物 |
CN1228391C (zh) * | 2000-05-09 | 2005-11-23 | 大金工业株式会社 | 配合清洁填料的高分子聚合物组合物 |
DE10228842A1 (de) * | 2002-06-27 | 2004-02-05 | Wacker-Chemie Gmbh | Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von aus zwei Komponenten bestehenden additionsvernetzenden Siliconmassen |
DE102004014216A1 (de) * | 2004-03-23 | 2005-10-13 | Wacker-Chemie Gmbh | Vernetzbare Massen auf der Basis von Organosiliciumverbindungen |
DE102005005634A1 (de) * | 2005-02-08 | 2006-08-24 | Wacker Chemie Ag | Vernetzbare Massen auf der Basis von Organosiliciumverbindungen |
GB2427171A (en) * | 2005-06-17 | 2006-12-20 | 3M Innovative Properties Co | Bonding a fluoropolymer layer to a silicone layer |
DE102006033236A1 (de) * | 2006-07-18 | 2008-01-24 | Wacker Chemie Ag | Zusammensetzung auf der Basis von Organosiliciumverbindungen |
EP2097471B1 (en) * | 2006-12-21 | 2014-09-10 | Dow Corning Corporation | Dual curing polymers and methods for their preparation and use |
DE102007047212A1 (de) * | 2007-10-02 | 2009-04-09 | Wacker Chemie Ag | Härtbare Siliconzusammensetzungen |
WO2017130890A1 (ja) * | 2016-01-28 | 2017-08-03 | 富士フイルム株式会社 | 音響波プローブ用組成物、これを用いた音響波プローブ用シリコーン樹脂、音響波プローブおよび超音波プローブ、ならびに、音響波測定装置、超音波診断装置、光音響波測定装置および超音波内視鏡 |
JP6626959B2 (ja) * | 2016-03-25 | 2019-12-25 | 富士フイルム株式会社 | 音響波プローブ用組成物、これを用いた音響波プローブ用シリコーン樹脂、音響波プローブおよび超音波プローブ、ならびに、音響波測定装置、超音波診断装置、光音響波測定装置および超音波内視鏡 |
ES2685266B1 (es) * | 2017-03-31 | 2019-05-10 | Siliconas Silam S A | Composición de elastómero de silicona bicomponente curable mejorada |
US12215226B2 (en) * | 2018-10-30 | 2025-02-04 | Dow Toray Co., Ltd. | Curable reactive silicone composition, cured product thereof and uses of composition and cured product |
TWI833869B (zh) | 2018-12-27 | 2024-03-01 | 日商陶氏東麗股份有限公司 | 固化性聚矽氧組成物、其固化物及其製造方法 |
US12173202B2 (en) | 2018-12-27 | 2024-12-24 | Dow Toray Co., Ltd. | Curable silicone composition, cured product thereof, and method for producing same |
WO2020138408A1 (ja) | 2018-12-27 | 2020-07-02 | ダウ・東レ株式会社 | ホットメルト性を有する硬化性シリコーンシートの製造方法 |
US12258496B2 (en) | 2019-03-29 | 2025-03-25 | Dow Toray Co., Ltd. | Curable silicone composition, cured product of same and method for producing same |
WO2021132710A1 (ja) | 2019-12-27 | 2021-07-01 | ダウ・東レ株式会社 | 硬化性ホットメルトシリコーン組成物、その硬化物、及び前記組成物又は硬化物を含む積層体 |
CN116925357B (zh) * | 2023-07-11 | 2024-04-19 | 杭州崇耀科技发展有限公司 | 离型剂用有机硅聚合物、制备方法及有机硅离型剂 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3884847A (en) | 1972-07-20 | 1975-05-20 | Rhone Poulenc Sa | Process for the preparation of so-called cold-cured flexible polyurethane |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3904583A (en) * | 1973-02-20 | 1975-09-09 | Nat Res Dev | Preparation of organosilicon polymers |
US3983265A (en) * | 1973-05-11 | 1976-09-28 | Rhone-Poulenc S.A. | Method of coating a substrate with curable organopolysiloxane compositions |
FR2228814B1 (ja) * | 1973-05-11 | 1975-11-21 | Rhone Poulenc Ind | |
DE3209755A1 (de) * | 1982-03-17 | 1983-09-22 | Wacker-Chemie GmbH, 8000 München | Verfahren zum verstaerken des haftens von organopolysiloxanelastomeren |
DE3837397A1 (de) * | 1988-11-03 | 1990-05-10 | Wacker Chemie Gmbh | Neue organooligosilsesquioxane |
DE3839900A1 (de) * | 1988-11-25 | 1990-05-31 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur hydrophobierung von si-oh-gruppen enthaltendem, teilchenfoermigem feststoff und verwendung des erhaltenen, hydrophoben, teilchenfoermigen feststoffes in einem verfahren zur herstellung von zu elastomeren haertbaren massen auf basis von diorganopolysiloxanen |
DE3918337A1 (de) * | 1989-06-05 | 1990-12-06 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur herstellung von organosiloxanen |
JPH0767784B2 (ja) * | 1990-10-11 | 1995-07-26 | 信越化学工業株式会社 | シリコーンゴム積層体及びその製造方法 |
EP0490321B1 (en) * | 1990-12-10 | 1997-07-30 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Optical fibers and core forming compositions |
EP0518057B1 (de) * | 1991-06-08 | 1998-07-29 | Hüls Aktiengesellschaft | Gemische kettenförmiger und cyclischer Siloxan-Oligomerer, Verfahren zu deren Herstellung sowie ihre Verwendung |
US5548053A (en) * | 1992-05-15 | 1996-08-20 | Wacker-Chemie Gmbh | Process for the preparation of organopolysiloxane resin |
DE4241713A1 (de) * | 1992-12-10 | 1994-06-16 | Wacker Chemie Gmbh | Zu Elastomeren vernetzbare Organopolysiloxanmassen |
DE4316101A1 (de) * | 1993-05-13 | 1994-11-17 | Wacker Chemie Gmbh | Organosiliciumverbindungen mit käfigartiger Struktur |
US5470934A (en) * | 1993-09-29 | 1995-11-28 | Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd. | Vinyl- and alkoxy-functional organosilicon compounds and method for the preparation thereof |
JPH0797386A (ja) * | 1993-09-29 | 1995-04-11 | Toray Dow Corning Silicone Co Ltd | アルコキシ官能性有機ケイ素化合物およびその製造方法 |
KR0135217B1 (ko) * | 1993-10-25 | 1998-04-22 | 에리히 프랑크, 칼-하인즈 림뵉 | 전이금속 함유 소수성 실리카 |
DE4336345A1 (de) * | 1993-10-25 | 1995-04-27 | Wacker Chemie Gmbh | Übergangsmetallhaltige hydrophobe Kieselsäure |
JPH07331177A (ja) * | 1994-05-31 | 1995-12-19 | Toray Dow Corning Silicone Co Ltd | 剥離性硬化皮膜形成性シリコーン組成物 |
JPH0853622A (ja) * | 1994-06-07 | 1996-02-27 | Shin Etsu Chem Co Ltd | シリコーンゲル組成物 |
US5661222A (en) * | 1995-04-13 | 1997-08-26 | Dentsply Research & Development Corp. | Polyvinylsiloxane impression material |
DE19545363A1 (de) * | 1995-12-05 | 1997-06-12 | Wacker Chemie Gmbh | Niedermolekulare Organosiliciumverbindungen, Verfahren zu deren Herstellung sowie deren Verwendung in vernetzbaren Organopolysiloxanmassen |
-
1995
- 1995-12-05 DE DE19545363A patent/DE19545363A1/de not_active Withdrawn
-
1996
- 1996-11-15 JP JP8305204A patent/JP2986746B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1996-12-04 US US08/760,611 patent/US5977243A/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-12-05 DE DE59602280T patent/DE59602280D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1996-12-05 EP EP96119511A patent/EP0776935B1/de not_active Expired - Lifetime
-
1999
- 1999-08-04 US US09/366,800 patent/US6313217B1/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3884847A (en) | 1972-07-20 | 1975-05-20 | Rhone Poulenc Sa | Process for the preparation of so-called cold-cured flexible polyurethane |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH09202790A (ja) | 1997-08-05 |
DE59602280D1 (de) | 1999-07-29 |
EP0776935A1 (de) | 1997-06-04 |
EP0776935B1 (de) | 1999-06-23 |
DE19545363A1 (de) | 1997-06-12 |
US5977243A (en) | 1999-11-02 |
US6313217B1 (en) | 2001-11-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2986746B2 (ja) | 低分子有機珪素化合物及び架橋性材料 | |
JP2831581B2 (ja) | 疎水性ケイ酸、その製法及び付加架橋性2成分−シリコーンゴム材料 | |
EP0305032B1 (en) | Method for preparing clear polyorganosiloxane elastomers | |
US4529752A (en) | Solvent resistant vulcanizable silicone rubber composition | |
KR101651966B1 (ko) | 경화성 실리콘 러버 조성물들과 경화된 실리콘 러버 조성물들 그리고 관능성 실리카를 사용하는 그들의 제조 방법들 | |
JPH02281041A (ja) | オルガノシロキサン樹脂の製造方法 | |
JPH11157825A (ja) | 疎水性沈降シリカの製造方法 | |
JPH11240713A (ja) | 疎水性クレーの製造方法 | |
KR100689685B1 (ko) | 잠재적으로 가교가능한 실리콘 물질 중의 실리카 현탁액의제조 방법 | |
KR102132813B1 (ko) | 하이드로실릴기 함유 유기 규소 수지의 제조방법 | |
CN101180355A (zh) | 用于生产含有微细填料的硅氧烷组合物的方法 | |
US5110967A (en) | Crosslinkers and chain extenders for room temperature vulcanization or crosslinking of polymers | |
JPH08512234A (ja) | オルガノシロキサンもしくはポリオルガノシロキサンの製造のための触媒 | |
US3435001A (en) | Method for hydrolyzing organochlorosilanes | |
JP3513540B2 (ja) | ポリオルガノシロキサンからオルガノアルコキシシランを回収する方法 | |
JPH0633343B2 (ja) | オルガノシリコーン処理シリカ及びそれを含む組成物、並びにその組成物の製造方法 | |
US5410007A (en) | Particulated platinum group metal containing silicone resin catalyst, method for making, and use | |
CN1054260A (zh) | 包封的钯配合物与部分热固化的有机聚硅氧烷组合物 | |
JP2003137530A (ja) | 微粉末シリカの表面処理方法およびポリオルガノシロキサン組成物 | |
US20070066783A1 (en) | Silicone material having outstanding viscosity stability | |
JPH01193323A (ja) | フルオロシリコーンポリマー製造用触媒 | |
US5283308A (en) | Neutralization of polyorganosiloxanes using triorganosilanes and curable compositions containing said polyorganosiloxanes | |
KR100689682B1 (ko) | 잠재적으로 가교가능한 실리콘 물질 중의 실리카 현탁액의제조 방법 | |
US3462386A (en) | Organosilicon materials and method for making them | |
JPS637189B2 (ja) |