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JP2986746B2 - 低分子有機珪素化合物及び架橋性材料 - Google Patents

低分子有機珪素化合物及び架橋性材料

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JP2986746B2
JP2986746B2 JP8305204A JP30520496A JP2986746B2 JP 2986746 B2 JP2986746 B2 JP 2986746B2 JP 8305204 A JP8305204 A JP 8305204A JP 30520496 A JP30520496 A JP 30520496A JP 2986746 B2 JP2986746 B2 JP 2986746B2
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sio
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シュースター ヨハン
ヴァイトナー リヒャルト
ミヒャエル  シュテップ
フライ フォルカー
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Wacker Chemie AG
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、低分子有機珪素化
合物、その製法並びにこれを架橋性オルガノポリシロキ
サン材料中に使用することに関する。本発明では、概念
オルガノポリシロキサンは、ダイマー、オリゴマー及び
ポリマーのシロキサンを包含する。
【0002】
【従来の技術】構造SiO4/2−の三官能性単位(Q
−単位)及び構造RSiO1/2−の単官能性単位
(M−単位)から成る低分子有機珪素化合物、例えば
(MeSiO)Si(CAS3555−47−3)
及び(MeSiO)SiOH(CAS17477−
97−3)、(ビニル−MeSiO)Si(CAS
60111−54−8)、(MeSiO)ビニル−
SiOH(CAS5356−84−3)及び(Me
iO)MeSiOH(CAS17928−28−8)
は既に公知である(CAS:Chemical Abs
tract Service)。同様にこのような化合
物をシリカゲル、沈降又は熱分解珪酸を水酸化アルキル
アンモニウムを用いて水性アルカリ性分解し、引き続き
トリメチルシリル化により製造することも公知である。
これに関しては、例えばD.ヘッベル(Hoebbe
l)その他著“ツアイトシュリフト ヒュア アンオル
ガーニッシェ ウント アールゲマイネ ヒェミー(Z
eitschrift fur Anorganisc
he und Allgemeine Chemi
e)”第424巻(1976年)115頁を参照にされ
たい。
【0003】西ドイツ特許(DE−A)第421613
9号明細書(Wacker−Chemie GmbH;
1993年11月18日交付)又は出願番号USSN0
8/313192の相応する米国特許出願には、1より
小さいか1と同じM−対Q−単位の比を有するMQ−樹
脂が記載されている。このMQ−樹脂は、疎水性にした
高分散珪酸の代わりに填料としてシリコーンゴム中に使
用することができる。西ドイツ特許(DE−B)第24
22846号明細書(Rhone−Poulenc
S.A.;1976年4月23日交付)又は相応する米
国特許(US−A)第3933729号及び第3983
265号明細書には、接着改良用に1、2より小さいか
1、2と同じM−対Q−単位の比を有するMQ−樹脂1
0〜50部を有する縮合架橋性オルガノポリシロキサン
材料が記載されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、式: R (ORSiO−(a+b+c)/2 (I) [式中、Rは同一又は異なるものであってよく、水素原
子又は場合により置換された、SiC−結合の、炭素原
子1〜18個を有する脂肪族飽和炭化水素基を表わし、
その際、珪素1個当たり最大1個の基Rは、水素原子を
表わすことができ、R1は同一又は異なるものであって
よく、SiC−結合の、炭素原子2〜18個を有する脂
肪族不飽和炭化水素基を表わし、Rは同一又は異なる
ものであってよく、水素原子又は、酸素原子で中断され
ていてよい、場合により置換された、炭素原子1〜18
個を有する炭化水素基を表わし、aは0、1、2又は3
であり、bは0、1、2又は3であり、cは0、1、2
又は3であり、式(I)中のa、b及びcの合計は3よ
り小さいか又は3であり、1分子当たり少なくとも1個
の基Rが存在している]の単位から成る珪素原子2〜
17個を有する低分子有機珪素化合物において、これ
は、式: (RSiO)(R2R SiO)(OH)Si (Ia) [式中、dは0、1、2又は3であり、eは1、2又は
3であり、fは1又は2であり、d+e+fの合計は4
である]の化合物及び式: [(RSiO)(RSiO)(OH)Si]O (Ib) [式中、gは同一又は異なるものであってよく、0、
1、2又は3であり、hは同一又は異なるものであって
よく、0、1、2又は3であり、iは同一又は異なるも
のであってよく、0、1又は2であり、各珪素原子1個
のg+h+iの合計は3であり、1分子当たり少なくと
も1個の基R 及び1個の基OHが存在している]の化
合物から選択したものであることを特徴とする。
【0006】炭化水素基Rの例は、アルキル基、例えば
メチル−、エチル−、n−プロピル−、イソ−プロピル
−、n−ブチル−、イソ−ブチル−、t−ブチル−、n
−ペンチル−、イソ−ペンチル−、ネオ−ペンチル−、
t−ペンチル基、ヘキシル基、例えばn−ヘキシル基、
ヘプチル基、例えばn−ヘプチル基、オクチル基、例え
ばn−オクチル基及びイソ−オクチル基、例えば2,
2,4−トリメチルペンチル基、ノニル基、例えばn−
ノニル基、デシル基、例えばn−デシル基、ドデシル
基、例えばn−ドデシル基、オクタデシル基、例えばn
−オクタデシル基;シクロアルキル基、例えばシクロペ
ンチル−、シクロヘキシル−、シクロヘプチル基及びメ
チルシクロヘキシル基;アリール基、例えばフェニル
−、ビフェニリル−、ナフチル−、アンスリール−及び
フェナンスリール基;アルカリール基、例えばo−、m
−、p−トリル基、キシリル基及びエチルフェニル基;
アラルキル基、例えばベンジル基、α−及びβ−フェニ
ルエチル基である。
【0007】置換された炭化水素基Rの例は、ハロゲン
化アルキル基、例えば3−クロルプロピル−、3,3,
3−トリフルオルプロピル−及びペルフルオルヘキシル
エチル基、ハロゲン化アリール基、例えばp−クロルフ
ェニル−及びp−クロルベンジル基である。
【0008】基Rは、有利には水素原子及び炭素原子1
〜8個を有する炭化水素基、特に有利にはメチル基であ
る。
【0009】基Rの例は、ビニル−、アリル−、メタ
リル−、1−プロペニル−、1−ブテニル−、1−ペン
テニル基、5−ヘキセニル−、ブタジエニル−、ヘキサ
ジエチニル−、シクロペンテニル−、シクロペンタジエ
ニル−、シクロヘキセニル−、エチニル、プロパルギル
−及び1−プロピニル基である。
【0010】有利には基Rは、炭素原子2〜8個を有
するアルケニル基、特に有利にはビニル基である。
【0011】場合により置換された炭化水素基Rの例
は、R及びRで例として挙げた基並びにアルコキシア
ルキル基、例えばメトキシエチル基及びエトキシエチル
基である。
【0012】有利には基Rは、水素原子及び炭素原子
1〜8個を有するアルキル基、特に有利には水素原子、
メチル−及びエチル基、特には水素原子である。
【0013】本発明による低分子有機珪素化合物は有利
には、最高1000g/モル、特に有利には最高500
g/モルの分子量を有する。
【0014】有利には、本発明による式(Ia)の低分
子有機珪素化合物には、
【0015】
【化2】
【0016】[式中、R、R及びRは前記したもの
を表わす]が該当する。
【0017】特に有利には、本発明による式(Ia)の
低分子有機珪素化合物には、(RSiO)(R
SiO)Si及び(RSiO)SiOR
[式中R、R及びRは前記したものを表わす]が
該当する。
【0018】本発明による式(Ia)の有機珪素化合物
の例は、(MeSiO)(MeViSiO)
i、(MeSiO)(MeViSiO)Si、
(MeSiO)(MeViSiO)Si、(Me
SiO)(MeViSiO)SiOH、(Me
SiO)(MeViSiO)SiOH及び(Me
ViSiO)SiOH[式中、Meはメチル基であ
り、Viはビニル基である]である。
【0019】有利には、本発明による式(Ib)の低分
子有機珪素化合物には、
【0020】
【化3】
【0021】[式中、R、R及びRは前記したもの
を表わす]が該当する。
【0022】特に有利には、本発明による式(Ib)の
低分子有機珪素化合物には、(RSiO)Si
−O−Si(RSiO)、(RSiO)(R
SiO)Si−O−Si(RSiO)
及び(RSiO)Si−O−Si(R
iO)(OR)[式中、R、R及びRは前記し
たものを表わす]が該当する。
【0023】本発明による式(Ib)の低分子有機珪素
化合物の例は、
【0024】
【化4】
【0025】[式中、Meはメチル基であり、Viはビ
ニル基である]である。
【0026】本発明による低分子有機珪素化合物は、R
が前記したものを表わす基Rを1分子当たり少なく
とも2個含有する。
【0027】式Iの単位から成る、本発明による低分子
有機珪素化合物又は本発明により使用される有機珪素化
合物を製造するために、シリコーン化学で公知の方法を
使用することができる。例えば、本発明による低分子有
機珪素化合物をテトラオルガニルアンモニウム−シリケ
ート溶液から、例えばD.ヘッベルその他著“ツアイト
シュリフト ヒュア アンオルガーニッシェ ウント
アールゲマイネ ヒェミー”第424巻(1976年)
115頁以降に記載されているようにして製造すること
ができる。
【0028】有利な方法(方法1)によれば、第1工程
で単官能性シランRSiCl及び場合によりR
SiCl、テトラクロルシラン及び/又はオルガノトリ
クロルシラン並びに場合によりオルガノジクロルシラン
から成る混合物を、炭素原子1〜4個を有するアルカノ
ール、特にエタノールと温度有利には0〜80℃、特に
有利には20℃で及び圧力有利には900〜1100ヘ
クトパスカルで反応させ、反応混合物を水の添加下で、
反応混合物の重量に対して各々有利には80〜300重
量%、特に有利には100〜200重量%の量で加水分
解し、こうして得た低分子シロキサンを有機相から単離
するが、その際、R及びRは前記したものを表わす。
【0029】本発明による反応で、単官能性シランR
SiCl及び場合によりRSiCl対テトラクロ
ルシラン及び/又はオルガノトリクロルシランのモル比
は、有利には1.6:1〜10:1の間、特に有利には
1.8:1〜9:1の間である。場合によりオルガノジ
クロルシランを一緒に使用することもできる。オルガノ
ジクロルシランを一緒に使用する場合には、各々テトラ
クロルシラン及び/又はオルガノトリクロルシランに対
して最高30モル%、特に有利には最高20モル%の量
で使用する。
【0030】加水分解後に有利には水相を有機相から分
離し、なお存在する酸を除去するために有機相を水で洗
浄して中性にし、その際、引き続き有機相から非揮発性
成分を有利には温度80〜160℃及び圧力30から6
00ヘクトパスカル、特に有利には温度100〜150
℃及び圧力50〜500ヘクトパスカルで除去する。
【0031】こうして得た低分子有機珪素化合物を次い
で第2工程で、式RSi−O−SiR及び/又はR
Si−O−SiR及び/又はRSi−O
−SiR(式中、R及びRは前記したものを表
わす)のジシロキサンと、各々低分子有機珪素化合物に
対して有利には60〜200重量%、特に有利には90
〜180重量%の量で、酸性触媒の存在で、温度有利に
は20〜200℃、特に有利には40〜100℃及び周
囲の大気の圧力で反応させるが、その際、反応終了後酸
性触媒を除去する。
【0032】本発明による方法1の第2工程で使用され
る酸性触媒の例は、ルイス酸、例えばBF、AlCl
、FeCl及びホスホニトリルクロリド並びにブレ
ーンステズ酸、例えば塩酸、硫酸、燐酸、酢酸及びp−
トルエンスルホン酸、並びに酸性イオン交換体、例えば
沸石及び酸性活性化漂布土であるが、その際、酸性活性
化漂白土が有利である。
【0033】本発明による方法1の第2工程で酸性触媒
を、各々使用した有機珪素化合物の全重量に対して有利
には1〜20重量%、特に有利には2〜15重量%の量
で使用する。
【0034】第2工程による本発明の反応の終了後、反
応材料中に不溶性の触媒、例えば酸性活性化漂白土が該
当する場合には、触媒を濾過により反応材料から分離す
る。その他の場合には、反応材料からの触媒の除去を、
中和し、引き続き生成した塩を濾過することによって行
う。いずれの場合でも濾液を次いで低揮発性成分から、
有利には温度80〜160℃及び圧力30〜600ヘク
トパスカル、特に有利には温度100〜150℃及び5
0〜500ヘクトパスカルで除去する。
【0035】その他の有利な方法(方法2)によれば、
二酸化珪素を、各々二酸化珪素100重量部に対して有
利には5〜200重量部、特に有利には20〜100重
量部の量のトリオルガニルシリル化剤と、各々二酸化珪
素100重量部に対して有利には0.5〜200重量
部、特に有利には10〜100重量部の量の水性塩基の
存在で反応させる。
【0036】本発明による方法2の反応は、有利には温
度0〜250℃、特に有利には20〜100℃で周囲の
大気の圧力で実施する。
【0037】本発明により使用されるトリオルガニルシ
リル化剤には、有利にはRSiOH又はRSiOS
iR、RSiOH又はRSiOR
及びRSiNHSiR並びにRSiNH
SiRが該当する。
【0038】水性塩基には、水100重量部中のアンモ
ニア5〜25重量部から成る混合物が該当する。しかし
水性塩基を水及びヘキサオルガニルジシラザンの混合物
の反応によって直接本発明による反応の間に製造するこ
ともできる。
【0039】本発明による反応は、所望の場合には、反
応成分に対して不活性の有機溶剤、例えばアルカン、芳
香族炭化水素及びハロゲン炭化水素又は反応成分に対し
て不活性の有機珪素化合物、例えばヘキサメチルジシロ
キサン中で実施することができる。
【0040】本発明による方法2では、二酸化珪素とし
て有利には微粒状珪酸、湿式化学的沈降により製造した
珪酸又は熱分解的に例えばテトラクロルシランの炎内加
水分解により製造した珪酸を使用するが、その際、熱分
解的に製造した高分散珪酸が特に有利である。
【0041】有利には本発明により使用される珪酸は、
平均一次粒子粒度最高250nm、特に有利には最高1
00nm、特には2〜50nmを有する。
【0042】有利には本発明により使用される珪酸は、
(DIN66131及びDIN66132によるBET
法により測定して)25m2/gより大きい、特に有利
には50〜400m2/gの比表面積を有する。
【0043】反応実施後、有利には0.5〜60時間後
に、場合により攪拌下で有利には温度100〜140℃
及び周囲の大気の圧力で易揮発性物質を分離し、これに
引き続いて有利には140〜220℃及び周囲の大気の
圧力又は減圧で、場合により不活性気体流、例えば窒素
ガスによる保護下で、本発明により製造した低分子有機
珪素化合物を蒸留により残さから分離する。
【0044】その他の有利な方法(方法3)によれば、
第1工程で、例えば西ドイツ特許(DE−A)第391
8337号明細書(Wacker−Chemie Gm
bH)又は相応する米国特許第5011962号明細書
によるようなクロルシロキサン及び/又はクロルシラン
をシロキサノール及び/又はシラノールと、塩基並びに
場合により有機非プロトン性溶剤の存在で反応させる
が、その際、塩素原子をシリル−及び/又はシロキシ基
と変換する。こうして得た反応生成物がなおSi−結合
の塩素原子を含有する場合には、これを第2工程で水と
塩基並びに場合により有機非プロトン性溶剤の存在で、
反応させるが、その際、Si−結合の塩素原子はSi−
結合のヒドロキシル基により変換される。
【0045】本発明による方法3で使用される塩基に
は、有利には有機アミン、例えばアルキルアミン、例え
ばトリエチルアミン、芳香族アミン、例えばピリジン及
びその塩並びに塩基性塩、例えば炭酸水素ナトリウム及
び炭酸カリウムが該当する。
【0046】本発明による方法3の第1工程では、塩基
を、Si−結合の塩素に関して、有利には0.5〜30
0%の化学量論的過剰量で、特に有利には10〜100
%の過剰量で使用する。
【0047】本発明による方法3の場合により実施され
る第2工程で、塩基を有利にはSi−結合の塩素に対し
て0.5から300%の化学量論的過剰量で、特に有利
には10〜100%の過剰量で使用する。
【0048】方法3による本発明の反応は、所望の場合
には、反応成分に対して不活性の非プロトン性溶剤、例
えばトルエン、シクロヘキサン、テトラヒドロフラン及
びジエチルエーテル中で実施することができる。
【0049】本発明による方法3の反応は、有利には温
度−10〜100℃、特に有利には室温〜80℃及び周
囲の大気の圧力で実施する。
【0050】反応終了後、得られた生成物を公知方法に
より、例えば相分離し、水で洗浄して中性にし、減圧で
蒸留することによって単離する。
【0051】本発明による式(Ia)及び(Ib)の低
分子有機珪素化合物は、特に有利には本発明による方法
3により製造する。
【0052】本発明による低分子有機化合物又は本発明
により製造される低分子有機珪素化合物は、これまでも
低分子有機珪素化合物が使用されてきた全ての目的のた
めに使用することができる。
【0053】特に架橋性オルガノポリシロキサン材料を
製造するために好適である。
【0054】本発明のもう一つの目的は、オルガノポリ
シロキサンを基礎とする架橋性材料であるが、これはオ
ルガノポリシロキサンに加えて、式: R (ORSiO−(a+b+c)/2 (I) [式中、R、R、R、a、b及びcは請求項1に記
載したものを表わし、その際式(I)中のa、b及びc
の合計は3より小さいか又は3であり、1分子当たり少
なくとも1個の基R、有利には少なくとも2個の基R
、特に有利には少なくとも3個の基R、特には少な
くとも4個の基Rが存在しており、かつ付加架橋可能
な材料の場合には、1分子当たり付加的に少なくとも1
個の基OR2が存在するという条件を有する]の単位か
ら成る珪素原子2〜17個を有する低分子有機珪素化合
物少なくとも1種類を含有することを特徴とする。
【0055】本発明により使用される低分子有機珪素化
合物は有利には、M−単位、即ちa+b=3を有する式
(I)の単位並びにQ−単位、即ちa+b=0を有する
式(I)の単位及び/又はT−単位、即ちa+b=1を
有する式(I)の単位から成る。
【0056】本発明により使用される低分子有機珪素化
合物は、分子量有利には最高2500g/モル、特に有
利には最高1000g/モル、特に最高500g/モル
を有する。
【0057】本発明により使用される低分子有機珪素化
合物は、有利には2より大きいか又は2と同じ、特に有
利には2.5より大きいか又は2.5と同じM−単位対
Q−単位及び/又はT−単位の合計の数値比を有する。
【0058】特に有利には本発明により使用される低分
子有機珪素化合物は、珪素原子4〜10個を有する。
【0059】本発明により使用される有機珪素化合物に
は、唯一の種類並びに少なくとも2種類の異なる種類の
有機珪素化合物が該当する。
【0060】本発明により使用される有機珪素化合物の
例は、
【0061】
【化5】
【0062】であるが、その際、Meはメチル基を表わ
し、Viはビニル基を表わす。
【0063】有利には本発明により使用される低分子有
機珪素化合物には、
【0064】
【化6】
【0065】が該当するが、その際、Meはメチル基を
表わし、Viはビニル基を表わす。
【0066】特に有利には本発明により使用される低分
子有機珪素化合物には、
【0067】
【化7】
【0068】が該当するが、その際、Meはメチル基を
表わし、Viはビニル基を表わす。
【0069】本発明による材料には、任意の従来公知の
種類のエラストマーに架橋可能なオルガノポリシロキサ
ン材料、例えば一成分又は二成分の室温(いわゆるRT
V−材料)又は高めた温度(いわゆるHTV−材料)で
加硫性のオルガノポリシロキサン材料が該当するが、そ
の際、架橋は、縮合、Si−結合の水素の脂肪族多重結
合への付加又は過酸化的にラジカル形成により行われ
る。
【0070】有利には本発明による材料には、Si−結
合の水素の脂肪族炭素−炭素多重結合への付加により架
橋可能な材料並びに過酸化的に架橋可能なオルガノポリ
シロキサン材料が該当する。
【0071】一般にこのような材料中に使用される成分
の種類及び量は既に公知である。このために例えば、書
類番号P4401606.9を有する西ドイツ特許出願
(Wacker−Chemie GmbH;1994年
1月20日出願)、出願番号USSN08/36818
3を有する相応する米国特許出願、書類番号P4405
245.6を有する西ドイツ特許出願(Wacker−
Chemie GmbH;1994年2月18日出願)
及び西ドイツ特許第4336345A号明細書(Wac
ker−Chemie GmbH;1995年4月27
日出願)を参照にされたい。
【0072】本発明により過酸化的に架橋可能なオルガ
ノポリシロキサン材料は、有利には、(A)一般式:
【0073】
【化8】
【0074】[式中、Rは、同一又は異なるものであ
ってよく、場合により置換された炭化水素基を表わし、
rは0、1、2又は3であり、平均数値1.9〜2.1
を有する]の単位から成るオルガノポリシロキサン、
(B)強化性及び/又は非強化性填料、(C)架橋を起
こさせる試薬、例えば有機過酸化物、(D)式(I)の
単位から成る、珪素原子2〜17個を有する低分子脂肪
族不飽和有機珪素化合物少なくとも1種類並びに場合に
より、(E)添加物を含有する。
【0075】基Rの例は、R及びRで前記した例で
あり、その際、場合により置換された炭素原子1〜8個
を有する炭化水素基が有利であり、メチル−、ビニル
−、フェニル−及び3,3,3−トリフルオルプロピル
基が特に有利である。
【0076】有利には、式(II)の単位から成るオル
ガノポリシロキサン中に含有されるSi−原子の少なく
とも70モル%にアルキル基、特にメチル基が結合して
いる。オルガノポリシロキサン(A)がSi−結合のメ
チル−及び/又は3,3,3−トリフルオルプロピル基
の他になおSi−結合のビニル−及び/又はフェニル基
を含有する場合には、後者は有利には約0.001〜3
0モル%である。
【0077】有利には、オルガノポリシロキサン(A)
は、主としてジオルガノシロキサン単位から成る。オル
ガノポリシロキサン(A)の末端基は、トリアルキルシ
ロキシ基、特にトリメチルシロキシ基又はジメチルビニ
ルシロキシ基であってよいが;これらのアルキル基の1
個又は数個がヒドロキシ基又はアルコキシ基、例えばメ
トキシ又はエトキシ基により置換されていてもよい。
【0078】オルガノポリシロキサン(A)は、液体又
は高粘度の物質であってよい。有利にはオルガノポリシ
ロキサン(A)は、25℃で粘度10〜10mm2
/秒を有する。
【0079】強化填料の例は、BET表面積少なくとも
50m2/gを有する熱分解又は沈降珪酸並びにファー
ネスブラック及びアセチレンブラックである。
【0080】前記珪酸填料は、親水性特性を有すること
ができるか又は公知の方法により疎水性にされていても
よい。これに関しては、西ドイツ特許第3839900
A号明細書(Wacker−Chemie GmbH;
1988年11月25日出願)又は相応する米国特許
(US−A)第5057151号明細書を参照にされた
い。次いで一般に、疎水化を各々オルガノポリシロキサ
ン材料の全重量に対してヘキサメチルジシラザン及び/
又はジビニルテトラメチルジシラザン1〜20重量%及
び水0.5〜5重量%を用いて行うが、その際、親水性
珪酸を順次材料に加工する前に、これらの試薬を有利に
は好適な混合装置、例えばニーダー又はインナーミキサ
ー中で既に前装入したオルガノポリシロキサンに添加す
る。
【0081】非強化性填料の例は、石英粉、珪藻土、珪
酸カルシウム、珪酸ジルコニウム、沸石、金属酸化物粉
末、例えば酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化鉄又は
酸化亜鉛、珪酸バリウム、硫酸バリウム、炭酸カルシウ
ム、石膏並びにプラスチック粉末、例えばポリアクリル
ニトリル粉末又はポリテトラフルオルエチレン粉末であ
る。その他に填料としては、繊維成分、例えばガラス繊
維及びプラスチック繊維を使用することができる。これ
らの填料のBET表面積は有利には50m2/gより下
である。
【0082】本発明によるエラストマーに架橋可能なオ
ルガノポリシロキサン材料は、填料(B)を、各々オル
ガノポリシロキサン(A)100重量部に対して有利に
は1〜200重量部、特に有利には30〜100重量部
の量で含有する。
【0083】成分(C)には一般に、これまでも過酸化
的に架橋可能な材料中に使用されてきた、架橋を開始す
るか又は生じさせる試薬が該当しうる。
【0084】有利には成分(C)として本発明によるオ
ルガノポリシロキサン材料では、過酸化物、例えば過酸
化ジベンゾイル、ビス−(2,4−ジクロルベンゾイ
ル)−ペルオキシド、過酸化ジクミル及び2,5−ビス
−(t−ブチルペルオキシ)−2,5−ジメチルヘキサ
ン並びにその混合物を使用するが、その際ビス−(2,
4−ジクロルベンゾイル)−ペルオキシド及び過酸化ジ
クミルが有利である。
【0085】本発明によりエラストマーに架橋可能なオ
ルガノポリシロキサン材料は、過酸化物(C)を、各々
オルガノポリシロキサン材料の全重量に対して有利には
0.4〜2.0重量%、特に有利には0.7〜1.5重
量%の量で含有する。
【0086】本発明によるエラストマーに架橋可能なオ
ルガノポリシロキサン材料は、低分子有機珪素化合物
(D)を、各々オルガノポリシロキサン材料の全重量に
対して有利には0.01〜10.0重量%、特に有利に
は0.05〜2.0重量%の量で含有する。
【0087】その都度の用途に応じて、本発明によりエ
ラストマーに加硫可能なオルガノポリシロキサン材料
に、添加物(E)、例えば加工助剤、例えば可塑剤、顔
料及び安定化剤、例えば加熱安定化剤を添加することが
できる。
【0088】添加物(E)として使用することができる
可塑剤の例は、25℃で粘度最高1000m2/秒を有
するトリメチルシリル基又はヒドロキシ基を末端基とす
るポリジメチルシロキサン又はジフェニルシランジオー
ルである。
【0089】添加物(E)として使用することができる
熱安定化剤の例は、遷移金属脂肪酸塩、例えばオクタン
酸鉄、遷移金属シラノレート、例えばシラノール酸鉄並
びにCer(IV)−化合物である。
【0090】更に、本発明による材料は有利にはその他
の物質は含有しない。
【0091】本発明による材料を製造するために各々使
用される成分は、唯一の種類のこのような成分であって
もよいし、少なくとも2種類のこのような成分から成る
混合物であってもよい。
【0092】本発明による過酸化的に架橋可能なオルガ
ノポリシロキサン材料の製造は、公知方法により、例え
ば個々の成分の簡単な混合によって行うことができる。
その際、本発明により使用される低分子有機珪素化合物
の加工は、種々の混合方法で、例えばシリコーンゴム材
料の個々の成分の任意の混合工程で行うことができる。
有利には、本発明による過酸化的に架橋可能な材料を調
製するために、低分子有機珪素化合物を填料を混入する
間に材料中に混入する。その他の可能性は、本発明によ
り使用される低分子有機珪素化合物を填料上に、粉末ミ
キサー中で混合することによって塗布するか又は填料、
不活性有機溶剤及び低分子有機珪素化合物の懸濁液中で
混合し、引き続き有機溶剤を蒸発乾固し、これを用いて
引き続き、同様に賦形剤として填料と一緒に装入するよ
うにする。もう1つの方法は、本発明により使用される
低分子有機珪素化合物を、化学的反応により、例えば前
記方法2と同様にして填料上に生成させ、この上で放置
することである。
【0093】本発明により過酸化的に架橋可能な材料
は、従来公知の過酸化的に架橋可能な材料と同じ条件で
架橋させることができる。
【0094】本発明により過酸化的に架橋可能な材料
は、これから製造したエラストマーが、特に引裂き伝搬
抵抗及び圧縮永久歪に関して非常に良好な機械的特性を
示すという利点を有する。
【0095】本発明によるオルガノポリシロキサン材料
並びに本発明によりこれから製造されるエラストマー
は、これまでもエラストマーに架橋可能なオルガノポリ
シロキサン材料又はエラストマー用に使用されている全
ての目的のために使用することができる。特に本発明に
よるオルガノポリシロキサン材料並びにこれから本発明
により製造されるエラストマーは、改良された引裂き伝
搬抵抗を必要とする用途、例えばホース、ケーブルジャ
ケット、自動車部品及びパッキング用に好適である。
【0096】本発明により付加架橋可能なオルガノポリ
シロキサン材料は、有利には、(1)脂肪族炭素−炭素
−多重結合を有する、珪素原子少なくとも18個を有す
るオルガノポリシロキサン、(2)Si−結合の水素原
子を有するオルガノポリシロキサン、(3)Si−結合
の水素の脂肪族多重結合への付加を促進する触媒、
(4)式(I)の単位から成る、珪素原子2〜17個を
有する低分子脂肪族不飽和有機珪素化合物少なくとも1
種類及び(5)強化性及び/又は非強化性填料並びに場
合によりその他の物質を含有する。
【0097】本発明による材料には、付加架橋作用を有
する2−成分−シリコーンゴム材料が該当し、即ち本発
明によるシリコーンゴム材料の両方の成分は、一つの成
分が同時に成分(1)、(2)及び(3)を含有しない
という条件で、全成分を任意の組み合わせ及び量比で含
有することができる。
【0098】オルガノポリシロキサン(1)には有利に
は、式: R SiO(4− )/2 (III) [式中、Rは同一又は異なるものであってよく、R
に記載したものを表わし、Rは同一又は異なるもので
あってよく、Rに記載したものを表わし、sは0、1又
は2であり、tは0、1、2又は3であり、その際、s
+tの合計は3より小さいか、3と等しく、1分子当た
り少なくとも2個の基Rが存在するという条件であ
る]の単位から成る、珪素原子少なくとも18個を有す
る直鎖、環式又は分枝鎖状のシロキサンが該当する。
【0099】オルガノポリシロキサン(1)は、有利に
は25℃で平均粘度10〜10mm2/秒を有す
る。
【0100】基Rの例は、Rに記載した全ての例並
びにSiH−官能性化合物を用いるヒドロシリル化反応
で得られる全ての脂肪族不飽和基である。
【0101】有利には基Rには炭素原子2〜6個を有
する脂肪族多重結合を有する炭化水素基、例えばビニル
−、アリル−、メタリル−、1−プロペニル−、1−ブ
テニル−、1−ペンテニル基、5−ヘキセニル−、ブタ
ンジエニル−、ヘキサジエニル−、シクロペンテニル
−、シクロペンタジエニル−、シクロヘキセニル−、エ
チニル−、プロパルギル−及び1−プロピニル基が該当
し、その際、ビニル−及びアリル基が特に有利である。
【0102】基Rの例は基Rに記載した全ての例であ
る。
【0103】Rには有利には、炭素原子1〜8個を有
する場合により置換された、脂肪族飽和、一価の炭化水
素が該当するが、その際、メチル基が特に有利である。
【0104】特に有利には、オルガノポリシロキサン
(1)には、構造:
【0105】
【化9】
【0106】[式中、Meはメチル−を表わし、Viは
ビニル基を表わす]の、25℃で粘度200〜10
2/秒を有する直鎖のオルガノポリシロキサンが該当
する。
【0107】Si−結合の水素原子を有するオルガノポ
リシロキサン(2)としては、有利には、式:
【0108】
【化10】
【0109】[式中、Rは同一又は異なるものであっ
てよく、前記したものを表わし、uは0、1、2又は3
であり、vは0、1又は2であり、その際u+vの合計
は3より小さいか又は3と等しく、1分子当たり平均少
なくとも2個のSi−結合の水素原子が存在していると
いう条件である]の単位から成る、直鎖、環式又は分枝
鎖状のシロキサンを使用する。
【0110】オルガノポリシロキサン(2)は有利に
は、25℃で平均粘度10〜2・10mm2/秒を有
する。
【0111】1分子当たり3個又はそれ以上のSiH−
結合を含有するポリオルガノシロキサン(2)を使用す
ることが有利である。1分子当たり2個しかSiH−結
合を有さない成分(2)では、アルケニル基を含有する
ポリオルガノシロキサン(1)は、1分子当たり有利に
は少なくとも3個のアルケニル基を含有する。
【0112】有利にはポリオルガノシロキサン(2)を
架橋剤として使用する。架橋剤の水素含量(これは専ら
珪素元素と直接結合した水素原子に関するが)は、有利
には水素0.002〜1.7重量%、特に有利には水素
0.1〜1.7重量%の範囲である。
【0113】特に有利には、オルガノポリシロキサン
(2)には25℃で粘度20〜1000mm2/秒を有
するオルガノポリシロキサンが該当する。
【0114】ポリオルガノシロキサン(2)は有利に
は、SiH−基対成分(1)の脂肪族炭素−炭素−多重
結合を有する基のモル比が0.5〜5、有利には1.0
〜3.0であるような量で硬化性シリコーンゴム材料中
に含有されている。
【0115】成分(3)は、成分(1)の脂肪族炭素−
炭素−多重結合を有する基と成分(2)のSi−結合の
水素原子との間の付加反応(ヒドロシリル化)のための
触媒として作用する。文献には、既に多数の好適なヒド
ロシリル化触媒が記載されている。原則として本発明に
よる材料中に付加架橋性シリコーンゴム材料中に一般に
使用される全てのヒドロシリル化触媒を使用することが
できる。
【0116】ヒドロシリル化触媒としては、金属、例え
ば白金、ロジウム、パラジウム及びイリジウム、有利に
は場合により微粒状賦形剤物質、例えば活性炭、酸化ア
ルミニウム又は二酸化珪素上に固着させた白金を使用す
ることができる。
【0117】有利には白金及び白金化合物を使用する。
特に有利には、ポリオルガノシロキサン中に可溶性であ
るような白金化合物を使用する。可溶性の白金化合物と
しては、例えば式:(PtCl・オレフィン)及び
H(PtCl・オレフィン)の白金−オレフィン−錯
体を使用することができ、その際、有利には炭素原子2
〜8個を有するアルケン、例えばエチレン、プロピレ
ン、ブテン及びオクテンの異性体又は炭素原子5〜7個
を有するシクロアルケン、例えばシクロペンテン、シク
ロヘキセン及びシクロヘプテンを使用する。その他の可
溶性白金−触媒は、式:(PtCl・C
白金−シクロプロパン−錯体、ヘキサクロル白金酸とア
ルコール、エーテル及びアルデヒドとの反応生成物又は
その混合物又はヘキサクロル白金酸とメチルビニルシク
ロテトラシロキサンとの炭酸水素ナトリウムの存在及び
エタノール性溶液中における反応生成物である。白金と
ビニルシロキサンの錯体、例えば1,3−ジビニルテト
ラメチルジシロキサンが特に有利である。
【0118】ヒドロシリル化触媒は、マイクロカプセル
形で使用することもでき、その際、触媒を含有し、ポリ
オルガノシロキサン中に不溶性の微粒状固体は、例えば
熱可塑性樹脂(ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂)で
ある。ヒドロシリル化触媒は包接化合物の形、例えばシ
クロデキストリンで使用することもできる。
【0119】使用されるヒドロシリル化触媒の量は、所
望の架橋速度並びに経済学的観点により決まり、公知で
ある。慣用の白金−触媒を使用する場合には、硬化性シ
リコーンゴム材料の含量は元素の白金に関して有利に
は、元素白金0.1〜500重量ppm、有利には10
〜100重量ppmの範囲である。
【0120】本発明によりエラストマーに架橋可能なオ
ルガノポリシロキサン材料は、低分子有機珪素化合物
(4)を、各々オルガノポリシロキサン材料の全重量に
対して有利には0.01〜10.0重量%、特に有利に
は0.05〜2.0重量%の量で含有する。
【0121】使用される填料(5)の例は、強化填料、
従ってにBET表面積少なくとも50m2/g、有利に
は50〜500m2/gを有する填料、例えば熱分解的
に得た珪酸、構造保持下で脱水した珪酸ヒドロゲル、従
っていわゆる“エーロゲル”及びその他の種類の沈降珪
酸及び非強化性填料、従って50m2/gより少ないB
ETによる比表面積を有する填料、例えば石英粉、珪藻
土、珪酸カルシウム、珪酸ジルコニウム 沸石、粘土、
リトポン、金属酸化物、例えば酸化鉄、酸化亜鉛、酸化
チタン及び酸化アルミニウム、金属炭酸塩、例えば炭酸
カルシウム、炭酸マグネシウム及び炭酸亜鉛、金属硫酸
塩、例えば硫酸バリウム、金属粉、繊維、カーボンブラ
ック、石墨、雲母及び白亜である。前記填料は前記した
ように疎水性にすることもできる。
【0122】本発明によるエラストマーに架橋可能なオ
ルガノポリシロキサン材料は、填料を、各々本発明によ
る架橋性オルガノポリシロキサン材料100重量部に対
して有利には1〜50重量部、特に有利には5〜40重
量部の量で含有する。
【0123】成分(1)〜(5)は本発明によるシリコ
ーンゴム材料の必須成分であるが、場合により50重量
%までの、有利には1〜40重量%の間の含分のその他
の添加物がシリコーンゴム材料中に含有されていてよ
い。これらの添加物は、例えば接着助剤、例えばアミノ
アルコキシシラン及びSi−結合の水素を有する直鎖及
び樹脂状メチルシロキサン、熱安定化剤、例えば遷移金
属脂肪酸塩、例えばオクタン酸鉄、遷移金属シラノレー
ト、例えばシラノール酸鉄並びにCer(IV)−化合
物、遷移金属含有の珪酸又はパラジウム化合物、抑制
剤、顔料、色料及び可塑剤であってよい。
【0124】可塑剤の例は、室温で液体の、トリオルガ
ノシロキシ基により末端ブロックされたジオルガノポリ
シロキサン、例えば25℃で粘度10〜10000mm
2/秒を有するトリメチルシロキシ基により末端ブロッ
クされたジメチルポリシロキサン並びに室温で液体のオ
ルガノポリシロキサン樹脂である。
【0125】硬化性シリコーンゴム材料の架橋時間及び
架橋速度を目的に応じて調整するために役立つ特別な添
加物を含有することができる。この自体公知の抑制剤
は、例えばアセチレン化アルコール、例えばエチニルシ
クロヘキサノール及び2−メチル−3−ブチン−2−オ
ール、トリアルキルシアヌレート、アルキルマレエー
ト、例えばジアリルマレエート及びジメチルマレエー
ト、アルキルフマレート、例えばジエチルフマレート及
びジアリルフマレート、有機ヒドロペルオキシド、例え
ばクモールヒドロペルオキシド、t−ブチルヒドロペル
オキシド及びピナンヒドロペルオキシド、有機過酸化
物、ベンゾトリアゾール、有機スルホキシド、有機アミ
ン及びアミド、ホスフィン、ホスファイト、ニトリル、
ジアジリジン及びオキシムである。
【0126】更に、本発明による材料は、有利にはその
他の物質を含有しない。
【0127】本発明による材料を製造するために各々使
用される成分は、唯一の種類のこのような成分であって
もよいし、少なくとも2種類のこのような成分から成る
混合物であってもよい。
【0128】Si−結合の水素の脂肪族炭素−炭素−多
重結合への付加により架橋可能な本発明によるオルガノ
ポリシロキサン材料の製造は、自体公知の方法により、
例えば個々の成分の簡単な混合により行うことができ
る。これに関しては、既に最初に記載した出願番号P4
405245.6を有する西ドイツ特許出願明細書を参
照にされたい。
【0129】その際、本発明により使用される低分子有
機珪素化合物は種々の混合方法で、例えばシリコーンゴ
ム材料の個々の成分の任意の混合工程で行うことができ
る。有利には、本発明による付加架橋性材料を調製する
ために、低分子有機珪素化合物を填料を混入する間に材
料中に混入する。その他の方法は、低分子有機珪素化合
物を填料上に、粉末ミキサー中で混合することによって
塗布するか又は填料、不活性有機溶剤及び本発明により
使用される低分子有機珪素化合物の懸濁液中で混合し、
引き続き有機溶剤を蒸発乾固し、これを用いて引き続
き、同様に賦形剤として填料と一緒に装入するようにす
る。もう一つの可能性は、本発明により使用される低分
子有機珪素化合物を、化学的反応により、例えば前記方
法2と同様にして填料上に生成させ、この上で放置する
ことである。
【0130】2成分の本発明による材料の調製では、有
利には本発明により使用される低分子有機珪素化合物を
最後の混合工程で添加する。
【0131】本発明による付加により過酸化的に架橋可
能な材料は、従来公知の付加により架橋可能な材料と同
じ条件で架橋させることができる。有利には加硫を温度
10〜200℃で行う。
【0132】本発明により付加により架橋可能な材料は
非常に良好な流動学的特性、特に卓越した粘度安定性を
有するという利点を有する。
【0133】本発明により付加によって架橋可能な材料
は、これから製造したエラストマーが、特に引裂き伝搬
抵抗及び圧縮永久歪に関して、非常に良好な機械的特性
を示すという利点を有する。
【0134】本発明によるオルガノポリシロキサン材料
並びに本発明によりこれから製造されるエラストマー
は、これまでもエラストマーに架橋可能なオルガノポリ
シロキサン材料又はエラストマー用に使用されている全
ての目的のために使用することができる。特に本発明に
よるオルガノポリシロキサン材料並びにこれから本発明
により製造されるエラストマーは、射出成形法による成
形品、改良された引裂き伝搬抵抗を必要とする離型用
途、例えばベビーゴム乳首、瓶乳首、パッキン及び特別
な成形品用に好適である。
【0135】次の実施例中、粘度の記載は全て温度25
℃に関する。他に記載のない限り、下記の実施例は、周
囲の大気の圧力、従って約1000ヘクトパスカル及び
温度約20℃、又は成分混合に際して室温で付加的に加
熱又は冷却なしに調整される温度で実施する。更に、他
に記載のない限り、部は重量部であり、%は重量%であ
る。
【0136】加硫ゴムの引裂き伝搬抵抗はASTM D
624−B−91により測定する。
【0137】圧縮永久歪はDIN53517により測定
する。
【0138】その他に、下記の略語を使用する: Me:メチル基 Et:エチル基 Vi:ビニル基
【0139】
【実施例】
例1 (MeViSiO)Si(MeSiO)の製造 略語:(VM)QM 1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサン2007.
2g(10.8モル)、SiCl614.8g(3.
62モル)、テトラメチル尿素2.7g(1000pp
m)及びPNCl231g(トリクロルプロパン中2
5%)(=PNCl2.2%)から成る混合物を、室
温で5時間攪拌する(最初に62℃に発熱)。揮発性成
分を120℃で油ポンプ真空中で回転蒸発器で除去した
後、残分を蒸留する。純粋な(MeViSiO)
iCl180gが100ヘクトパスカルで沸点47℃
を有する無色透明な液体として得られる。同定はH−
及び29Si−NMR−スペクトルを用いて行う。収率
は16.6%である。
【0140】こうして得た(MeViSiO)Si
Cl50.0g(0.166モル)を次いでトリエチ
ルアミン41.9g(0.415モル)及びn−ヘキサ
ン150gと混合し、室温でトリメチルシラノール(工
業用、分子篩0.4nmで乾燥;H−NMRによりヘ
キサメチルジシロキサン19%を含有する)42.0g
(0.38モル)を30分間以内に加える。1時間後反
応させ、水で洗浄し、有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥
させる。揮発性成分を120℃で油ポンプ真空中で回転
蒸発器で除去した後、残分をビグロー−塔で分別する。
純粋な(MeViSiO)Si(MeSiO)
25gが300ヘクトパスカルで沸点58〜62℃を有
する無色透明な液体として得られる。同定はH−NM
R−スペクトルを用いて行う。収率は37%である。
【0141】例2 (MeViSiO)Si−OHの製造 略語:(VM)Q−OH 1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサン1834g
(9.86モル)、SiCl559g(3.29モ
ル)、テトラメチル尿素(N−ヘキサン中2.5%)
2.4g(25ppm)及びPNCl24g(トリク
ロルプロパン中25%)(=PNCl0.25%)か
ら成る混合物を、46時間室温で攪拌する。揮発性成分
を30℃/400ヘクトパスカルで回転蒸発器で除去し
た後、残分を蒸留する。600ヘクトパスカルで沸点9
3〜100℃を有する無色透明な液体334gが得られ
る。得られた生成物の組成を29Si−NMR−スペク
トルで同定する:(MeViSiO)SiCl 9
4モル%及び(MeViSiO)Si 6モル% 収率は26%である。
【0142】こうして得た(MeViSiO)Si
Cl 94モル%及び(MeViSiO)Si6モ
ル%から成る混合物348g(0.95モル)を次いで
トリエチルアミン105.7g(1.05モル)及びn
−ヘキサン1670gと混合し、室温で水84.9g
(4.7モル)を加える。18時間室温で攪拌し、引き
続き1時間還流加熱し、水で洗浄し、有機相を硫酸ナト
リウム上で乾燥させる。揮発性成分を30℃/700ヘ
クトパスカルで回転蒸発器で除去した後、残分を充填塔
で蒸留する。500ヘクトパスカルで沸点73〜75℃
を有する無色透明な液体267gが得られる。得られた
生成物の組成を29Si−NMR−スペクトルで同定す
る:(MeViSiO)SiOH 96モル%及び
(MeViSiO)Si 4モル% 例3 (MeViSiO)Si(MeSiO)の製造 略語:(VM)QM トリメチルクロルシラン23.8g(0.21モル)、
トリエチルアミン26.3g(0.26モル)及びn−
ヘキサン150gから成る混合物に、室温で例2で得ら
れた(MeViSiO)SiOH(96%)45.
0g(0.174モル)を40分間以内で滴加する。1
時間後反応させ、水で洗浄し、有機相を硫酸ナトリウム
上で乾燥させる。揮発性成分を25℃で油ポンプ真空中
で回転蒸発器で除去した後、残分をビグロー−塔で分別
する。純粋な(MeViSiO)Si(MeSi
O)15gが400ヘクトパスカルで沸点60〜63℃
を有する無色透明な液体として得られる。同定はH−
NMR−スペクトルを用いて行う。収率は28%であ
る。
【0143】例4 (MeViSiO)(MeSiO)SiOHの製
造 略語:(VM)MQ−OH 例1に製造を記載してある(MeViSiO)Si
Cl58.5g(0.19モル)、トリエチルアミン
20.8g(0.2モル)及びテトラヒドロフラン29
2gから成る混合物に、室温でトリメチルシラノール
(工業用、分子篩0.4nmで乾燥;H−NMRによ
りヘキサメチルジシロキサン10%を含有する)19g
(0.19モル)を2.25時間以内に滴加する。2時
間後反応させ、濾過助剤(Filterhilfe)
(D−Bad Kreuznach在Seitz Fi
lterwerkeで“Seitz Super”の名
称で市販されている)を用いて濾過し、30℃及び70
0ヘクトパスカルで溶剤を溜去する。もう一度濾過した
後、蒸留用橋渡し管を用いて蒸留する。500ヘクトパ
スカルで55〜81℃の沸点範囲で無色透明な液体4
1.5gが得られ、これは29Si−NMR−スペクト
ルによれば(MeViSiO)(MeSiO)S
iCl 83モル%を含有する。収率は51%である。
【0144】水29g(1.6モル)、トリエチルアミ
ン31.9g(0.32モル)及びジエチルエーテル2
03gから成る混合物に、室温でジエチルエーテル60
g中のこうして得た(MeViSiO)(Me
iO)SiCl 58.0g(0.11モル)の溶液を
60分間以内で滴加するが、その際、反応混合物の温度
は30℃に上昇する。2時間後反応させ、水で洗浄し、
有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥させる。揮発性成分を
25〜60℃で油ポンプ真空中で回転蒸発器で除去した
後、透明な油状物47gが残分として得られる。H−
及び29Si−NMR−スペクトルにより、油状物は
(MeViSiO)(MeSiO)SiOH約8
0%を含有する。トリエチルアミンの残量を酸性活性漂
白土(ミュンヒェン在Suedchemie AGで
“Tonsil OptimumFF”の名称で市販さ
れている)を用いる濾過により除去する。(MeVi
SiO)(MeSiO)SiOH33gが得られ
る;収率は約90%である。
【0145】例5 (MeViSiO)Siの製造 略語:(VM)Q SiCl248g及びビニルジメチルクロルシラン1
540gから成る混合物に、エタノール848gを徐々
に加え、引き続き水360gで徐々に加水分解する。更
に水400gを添加した後、90分間攪拌する。水相を
分離し、有機相を水で3回洗浄する。引き続き有機相を
130℃までで圧力70ヘクトパスカルで蒸留する。透
明な液体570gが得られるが、これはガスクロマトグ
ラフィーによれば(ViMeSiO)Si95%を
含有する。
【0146】例6 (MeViSiO)Si(MeSiO)−60
%の製造 略語:(VM)QM−60% SiCl248g、ビニルジメチルクロルシラン77
0g及びトリメチルクロルシラン694gから成る混合
物にエタノール848gを徐々に加え、引き続き水36
0gで徐々に加水分解する。更に水400gを添加した
後、90分間攪拌する。水相を分離し、有機相を水で3
回洗浄する。引き続き有機相を圧力300ヘキトパスカ
ルで130℃までで蒸留する。液状残分525gが得ら
れるが、これはガスクロマトグラフィーによれば(Me
SiO)Si5%、(MeViSiO)Si(M
SiO)18%、(MeViSiO)Si
(MeSiO)60%、(MeViSiO)
i(MeSiO)14%及び(ViMeSiO)
Si3%を有する。
【0147】例7 (MeViSiO)Si(MeSiO)−55
%の製造 略語:(VM)QM−55% SiCl248g及びトリメチルクロルシラン138
8gから成る混合物に、エタノール848gを徐々に加
え、引き続き水360gで徐々に加水分解する。更に水
400gを添加した後、90分間攪拌する。水相を分離
し、有機相を水で3回洗浄する。引き続き有機相を13
0℃までで圧力70ヘクトパスカルで蒸留する。こうし
て得た液体200gを1,3−ジビニル−テトラメチル
ジシロキサン212g中に溶解させ、溶液を6時間かけ
て80℃で酸性活性化漂白土(ミュンヒェン在Sued
chemie AGで“Tonsil Optimum
FF”の名称で市販されている)30gの添加下で処理
する。触媒を濾別後、溶液を130℃及び圧力300ヘ
クトパスカルで蒸留する。液状残分208gが得られる
が、これはガスクロマトグラフィーによれば(Me
iO)Si5%、(MeViSiO)Si(Me
SiO)20%、(MeViSiO)Si(Me
SiO)55%、(MeViSiO)Si(M
SiO)16%及び(ViMeSiO)Si4
%を有する。
【0148】例8 組成[MeViSiO][MeSiO][Si
4/2の低分子シロキサンの製造 略語:[(VM)1,31,3Q] SiCl248g、ビニルジメチルクロルシラン25
0g及びトリメチルクロルシラン225gから成る混合
物に、エタノール848gを徐々に加え、引き続き水3
60gで徐々に加水分解する。更に水400gを添加し
た後、90分間攪拌する。水相を分離し、有機相を水で
3回洗浄する。引き続き有機相を130℃までで圧力7
0ヘクトパスカルで蒸留する。粘度14mm2/秒を有
する液状残分462gが得られるが、これは29Si−
NMR−スペクトルによればビニルジメチルシロキシ−
単位対SiO4/2−単位のモル比1.30対1及びト
リメチルシロキシ−単位対SiO4/2−単位のモル比
1.32対1を有する。
【0149】例9 組成[MeViSiO][MeSiO][Si
4/2の低分子シロキサンの製造 略語:[(VM)1,31,3Q] SiCl248及びトリメチルクロルシラン500g
から成る混合物に、エタノール848gを徐々に加え、
引き続き水360gで徐々に加水分解する。更に水40
0gを添加した後、90分間攪拌する。水相を分離し、
有機相を水で3回洗浄する。引き続き有機相を130℃
までで圧力70ヘクトパスカルで蒸留する。こうして得
た液体300gをヘキサメチルジシロキサン212g中
に溶解させ、溶液を6時間かけて80℃で酸性活性化漂
白土(ミュンヒェン在Suedchemie AGで
“Tonsil OptimumFF”の名称で市販さ
れている)30gの添加下で処理する。触媒を濾別後、
溶液を130℃及び圧力300ヘクトパスカルで蒸留す
る。粘度13.5mm2/秒を有する液状残分317g
が得られるが、これは29Si−NMR−スペクトルに
よればビニルジメチルシロキシ−単位対SiO4/2
単位のモル比1.31対1及びトリメチルシロキシ−単
位対SiO4/2−単位のモル比1.29対1を有す
る。
【0150】例10 (ViMeSiO)SiOHの製造 略語:(VM)QOH 水50g及び1,3−ジビニル−1,1,3,3−テト
ラメチルジシラザン50gをBETによる比表面積30
0mm2/gを有する発熱性珪酸(Wacker−Ch
emie GmbHで名称“WACKER HDK
30”として市販されている)100gと強力に混合
し、1時間室温で攪拌し、引き続き24時間80℃で貯
蔵する。引き続き粉末反応混合物から140℃で2時間
弱窒素流中で易揮発性化合物を除去し、精製する。乾燥
窒素中で200℃で8時間蒸留し、水相の少量の含分を
除去した後、透明な液体16.8gが得られるが、これ
はガスクロマトグラフィーによれば(VM)QOH8
2%を含有する。
【0151】例11 (ViMeSiO)SiOHの製造 略語:(VM)QOH 例10に記載の方法を、弱窒素流中で易揮発性化合物を
除去した後に中断し、引き続き乾燥窒素中での蒸留工程
は行わないというふうに変えて、繰り返す。揮発性化合
物の含量(弱窒素流下で230℃で2時間加熱後の重量
損失として測定)13.7%を有する白色粉末が得られ
る。この揮発性化合物はガスクロマトグラフィーによれ
ば水13%の他に(VM)QOH71%を含有する。
【0152】例12 (ViMeSiO)SiOHの製造 略語:(VM)QOH 水50g、1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラ
メチルジシラザン50g及びBETによる比表面積30
0mm2/gを有する発熱性珪酸(Wacker−Ch
emie GmbHで名称“WACKER HDK
30”として市販されている)100gをヘキサメチル
ジシロキサン500g中に懸濁し、引き続き24時間8
0℃で反応させる。引き続き常圧で110℃までで過剰
のヘキサメチルジシロキサンを溜去する。こうして得た
粉末状反応混合物から引き続き140℃で2時間弱窒素
流中で易揮発性化合物を除去する。乾燥窒素中で200
℃で8時間蒸留し、水相の少量の含分を除去した後、透
明な液体14.7gが得られるが、これはガスクロマト
グラフィーによれば(VM)QOH80%を含有す
る。
【0153】例13 (ViMeSiO)SiOHの製造 略語:(VM)QOH 例12に記載の方法を、弱窒素流中で易揮発性化合物を
除去した後に中断し、引き続き乾燥窒素中での蒸留工程
は行わないというふうに変えて、繰り返す。揮発性化合
物の含量(弱窒素流下で230℃で2時間加熱後の重量
損失として測定)13.9%を有する白色粉末が得られ
る。この揮発性化合物はガスクロマトグラフィーによれ
ば水11%の他に(VM)QOH68%を含有する。
【0154】例14 (ViMeSiO)SiMeの製造 略語:(VM)QT(Me) 例5に記載の方法を、SiCl248gの代わりにメ
チルトリクロルシラン218gを使用するというふうに
変えて、繰り返す。無色液体460gが得られるが、こ
れはガスクロマトグラフィーによれば(ViMeSi
O)SiMe91%を含有する。
【0155】例15 (ViMeSiO)SiViの製造 略語:(VM)T(Vi) 例5に記載の操作方法を、SiCl248gの代わり
にビニルトリクロルシラン236gを使用するというふ
うに変えて、繰り返す。無色液体435gが得られる
が、これはガスクロマトグラフィーによれば(ViMe
SiO)SiVi92%を含有する。
【0156】例16 付加架橋性材料用の基礎材料の製造 内容5lの実験室用ニーダー中に、粘度20000mm
2/秒を有するビニル基を末端基とするジメチルポリシ
ロキサン500gを前装入し、150℃に加熱し、既に
最初に記載した西ドイツ特許第3839900A号明細
書によりヘキサメチルジシラザンで疎水化した珪酸39
0gを填料として加える。1000ヘクトパスカルで1
50℃で混練することによって、1時間の間に揮発性成
分を除去する。非常に固い材料が生じ、これを引き続き
前記ジメチルポリシロキサン410gで希釈する。この
基礎材料から引き続き遊星形ミキサーでA−並びにB−
成分を製造する。
【0157】次にA−成分を製造するために、30分間
以内に室温及び常圧で、前記基礎材料380g、ジビニ
ルテトラメチルジシロキサンとのPt−錯体0.2g、
製造を前記例で詳説してある第1表に記載の低分子有機
珪素化合物0.6g並びに抑制剤としてエチニルシクロ
ヘキサノール1.0gを混合する。
【0158】次にB−成分を製造するために、30分間
以内に室温及び常圧で、前記基礎材料380g、架橋剤
としてSi−H0.5モル%及び粘度400mm2/秒
を有する直鎖状メチル−H−ポリシロキサン18g、抑
制剤としてエチニルシクロヘキサノール1.0g及び製
造を前記例で詳説してある第1表に記載の低分子有機珪
素化合物0.6gを混合する。
【0159】成分A及びBは各々重量比1:1で混合
し、温度160℃で架橋させる。
【0160】加硫し、200℃で4時間温度処理した
後、引裂き伝搬抵抗及び永久歪を測定する。結果は第1
表に記載する。
【0161】
【表1】
【0162】例17 基礎材料を製造するための例16に記載の方法を、填料
として疎水化珪酸390gの代わりに385gを使用す
るというふうに変えて、繰り返した。
【0163】次にA−成分を製造するために、30分間
以内に室温及び常圧で、前記基礎材料380g、ジビニ
ルテトラメチルジシロキサンとの白金錯体0.2g製造
を前記例で詳説してある第2表に記載の低分子有機珪素
化合物を含有する粉末状生成物0.6g及び抑制剤とし
てエチニルクロルヘキサノール1.0gを混合する。
【0164】次にB−成分を製造するために、30分間
以内に室温及び常圧で、前記基礎材料380g、架橋剤
としてSi−H0.5モル%及び粘度400mm2/秒
を有する直鎖状メチル−H−ポリシロキサン18g及び
抑制剤としてエチニルシクロヘキサノール1.0g及び
製造を前記例で詳説してある第2表に記載の低分子有機
珪素化合物を含有する粉末状生成物5gを混合する。
【0165】更に例16に記載したようにして操作す
る。加硫し、200℃で4時間温度処理した後、引裂き
伝搬抵抗及び永久歪を測定する。結果を第2表に記載す
る。
【0166】
【表2】
【0167】比較例1 例16に記載の方法を、A−並びにB−成分を製造する
ために各々低分子有機珪素化合物は使用しないというふ
うに変えて繰り返す。結果を第1表に記載する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 リヒャルト ヴァイトナー ドイツ連邦共和国 ブルクハウゼン リ ンダッハーシュトラーセ 69 (72)発明者 ミヒャエル シュテップ ドイツ連邦共和国 ブルクハウゼン メ ーリンガー シュトラーセ 4 (72)発明者 フォルカー フライ ドイツ連邦共和国 ブルクハウゼン ヤ ーンヴェーク 5 (56)参考文献 特開 平6−329687(JP,A) 特開 平7−97386(JP,A) 特開 平8−53622(JP,A) 特開 平5−59070(JP,A) 特表 平7−509273(JP,A) 米国特許3884847(US,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C07F 7/08 C08G 77/20 C08L 83/05 CAPLUS(STN) REGISTRY(STN) WPIDS(STN)

Claims (6)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 オルガノポリシロキサンを基礎とする
    ラストマーに架橋可能な材料において、これは、オルガ
    ノポリシロキサンに加えて、式: R (ORSiO4−(a+b+c)/2 (I) [式中、Rは同一又は異なるものであってよく、水素原
    子又はハロゲンで置換された又は非置換の、SiC−結
    合の、炭素原子1〜18個を有する脂肪族飽和炭化水素
    基を表わし、その際、珪素1個当たり最大1個の基R
    は、水素原子を表わすことができ、Rは同一又は異な
    るものであってよく、SiC−結合の、炭素原子2〜1
    8個を有する脂肪族不飽和炭化水素基を表わし、R
    同一又は異なるものであってよく、水素原子又は、酸素
    原子で中断されていてよい、低級アルコキシ又はアルコ
    キシアルキル基で置換された又は非置換の、炭素原子1
    〜18個を有する炭化水素基を表わし、aは0、1、2
    又は3であり、bは0、1、2又は3であり、cは0、
    1、2又は3であり、式(I)中のa、b及びcの合計
    は3より小さいか又は3であり、1分子当たり少なくと
    も1個の基R が存在しており、かつ付加架橋可能な材
    料の場合には、1分子当たり付加的に少なくとも1個の
    基ORが存在するという条件を有する]の単位から成
    る珪素原子2〜17個を有する低分子有機珪素化合物少
    なくとも1種を含有することを特徴とする、エラストマ
    ーに架橋可能な材料。
  2. 【請求項2】 低分子有機珪素化合物が少なくとも2個
    の基Rを有することを特徴とする、請求項に記載の
    オルガノポリシロキサンを基礎とするエラストマーに
    可能な材料。
  3. 【請求項3】 低分子有機珪素化合物が少なくとも3個
    の基Rを有することを特徴とする、請求項又は
    記載のオルガノポリシロキサンを基礎とするエラストマ
    ーに架橋可能な材料。
  4. 【請求項4】 低分子有機珪素化合物が、2より大きい
    か又は2と同じM−単位対Q−単位及び/又はT−単位
    の合計の数値的比を有することを特徴とする、請求項
    からのいずれか1項又は数項に記載のオルガノポリシ
    ロキサンを基礎とするエラストマーに架橋可能な材料。
  5. 【請求項5】 過酸化的に架橋可能であり、 (A)一般式: 【化1】 [式中、Rは同一又は異なるものであってよく、置換
    又は非置換の炭化水素基を表わし、rは0、1、2又は
    3であり、平均数値1.9〜2.1を有する]の単位か
    ら成るオルガノポリシロキサン、 (B)強化性及び/又は非強化性填料、 (C)架橋を起こさせる試薬、例えば有機過酸化物、 (D)式(I)の単位から成る、珪素原子2〜17個を
    有する低分子脂肪族不飽和有機珪素化合物少なくとも1
    種並びに場合により、 (E)添加物を含有することを特徴とする、請求項
    のいずれか1項又は数項に記載のオルガノポリシロ
    キサンを基礎とするエラストマーに架橋可能な材料。
  6. 【請求項6】 付加架橋可能であり、 (1)脂肪族炭素−炭素−多重結合を有する基を有す
    る、珪素原子少なくとも18個を有するオルガノポリシ
    ロキサン、 (2)Si−結合の水素原子を有するオルガノポリシロ
    キサン、 (3)Si−結合の水素の脂肪族多重結合への付加を促
    進する触媒、 (4)式(I)の単位から成る、珪素原子2〜17個を
    有する低分子脂肪族不飽和有機珪素化合物少なくとも1
    種及び (5)強化性及び/又は非強化性填料並びに場合により
    その他の物質を含有することを特徴とする、請求項
    のいずれか1項又は数項に記載のオルガノポリシロ
    キサンを基礎とするエラストマーに架橋可能な材料。
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