JP2967621B2 - 半導体装置用パッケージの製造方法 - Google Patents
半導体装置用パッケージの製造方法Info
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- Y10T29/49124—On flat or curved insulated base, e.g., printed circuit, etc.
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
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- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体装置用パッケージ
の製造方法に関し、特にピングリッドアレイ(PGA)
型の半導体装置用パッケージの製造方法に関する。
の製造方法に関し、特にピングリッドアレイ(PGA)
型の半導体装置用パッケージの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来のこの種の半導体装置用パッケージ
の製造方法およびこの製造方法によるパッケージの構造
は、図5の部分破断斜視図に示すように、電気接続用の
リード4は、導電部であるスルーホール3を介してセラ
ミック基板1に内蔵された配線パターンを形成したメタ
ライズパターン14に接続され、メタライズパターン1
4はセラミック基板1の側面に達するように延長して形
成されており、ここでタングステン等からなる電解めっ
き用の電極15に接続されているという構成であった。
の製造方法およびこの製造方法によるパッケージの構造
は、図5の部分破断斜視図に示すように、電気接続用の
リード4は、導電部であるスルーホール3を介してセラ
ミック基板1に内蔵された配線パターンを形成したメタ
ライズパターン14に接続され、メタライズパターン1
4はセラミック基板1の側面に達するように延長して形
成されており、ここでタングステン等からなる電解めっ
き用の電極15に接続されているという構成であった。
【0003】メタライズパターン14は、図6に示すよ
うに、それぞれスルーホール3を介してリード4に接続
する電極部分であるランド6と、ランド6からセラミッ
ク基板1の側面に達する延長部分であり電極15に接続
されるめっき引出線16とを有する配線パターンを有し
ている。
うに、それぞれスルーホール3を介してリード4に接続
する電極部分であるランド6と、ランド6からセラミッ
ク基板1の側面に達する延長部分であり電極15に接続
されるめっき引出線16とを有する配線パターンを有し
ている。
【0004】次に、従来のPGA型の半導体装置用パッ
ケージの製造方法について説明する。
ケージの製造方法について説明する。
【0005】セラミック基板の焼成作業までは、本発明
に直接間連するもの以外は冗長とならないよう説明を省
略し、焼成作業以降の工程について説明する。
に直接間連するもの以外は冗長とならないよう説明を省
略し、焼成作業以降の工程について説明する。
【0006】まず、セラミック基板1の外部に露出した
メタライズパターン14に、電極15およびめっき引出
線16を介して通電し、ニッケルを電解めっきにより被
着する。次に、リード4を銀銅ろう材によりメタライズ
パッド7に接着する。次に、ニッケルコバルト合金およ
び金を電解めっきにより被着する。最後に電極15を研
削により除去することにより、メタライズパターン14
が電気的および物理的に個々に分離され、PGA型の半
導体装置用パッケージが完成するというものであった。
メタライズパターン14に、電極15およびめっき引出
線16を介して通電し、ニッケルを電解めっきにより被
着する。次に、リード4を銀銅ろう材によりメタライズ
パッド7に接着する。次に、ニッケルコバルト合金およ
び金を電解めっきにより被着する。最後に電極15を研
削により除去することにより、メタライズパターン14
が電気的および物理的に個々に分離され、PGA型の半
導体装置用パッケージが完成するというものであった。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の半導体
装置用パッケージの製造方法は、メタライズパターンを
セラミック基板の側面まで延長しためっき引出線をこの
側面に形成した電解めっき用の電極に接続し、所要の通
電を行なって電解めっきを実施しているが、この延長部
分であるめっき引出線により配線パターン間の浮遊容量
が増加し、集積回路の高周波動作時における信号漏洩や
雑音発生の原因となることにより特性が劣化するという
欠点があった。
装置用パッケージの製造方法は、メタライズパターンを
セラミック基板の側面まで延長しためっき引出線をこの
側面に形成した電解めっき用の電極に接続し、所要の通
電を行なって電解めっきを実施しているが、この延長部
分であるめっき引出線により配線パターン間の浮遊容量
が増加し、集積回路の高周波動作時における信号漏洩や
雑音発生の原因となることにより特性が劣化するという
欠点があった。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体装置用パ
ッケージの製造方法は、積層した複数のセラミック板に
より形成された基板の一主面に設けられた開口部の前記
一主面と反対面に格子状に配列された電気接続用リード
を有するピングリッドアレイ型の半導体装置用パッケー
ジの製造方法において、前記電気接続用リードを接続す
る配線パターンを形成するメタライズパターンの前記電
気接続用リードの取付面に金属膜を蒸着し、前記金属膜
を電解めっき用の電極とし前記メタライズパターンの表
面および前記電気接続用リードに電解めっきすることを
特徴とするものである。
ッケージの製造方法は、積層した複数のセラミック板に
より形成された基板の一主面に設けられた開口部の前記
一主面と反対面に格子状に配列された電気接続用リード
を有するピングリッドアレイ型の半導体装置用パッケー
ジの製造方法において、前記電気接続用リードを接続す
る配線パターンを形成するメタライズパターンの前記電
気接続用リードの取付面に金属膜を蒸着し、前記金属膜
を電解めっき用の電極とし前記メタライズパターンの表
面および前記電気接続用リードに電解めっきすることを
特徴とするものである。
【0009】
【0010】
【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。
て説明する。
【0011】図1は本発明の半導体装置用パッケージの
製造方法の一実施例を適用したパッケージの構造の一例
を示す部分破断斜視図である。
製造方法の一実施例を適用したパッケージの構造の一例
を示す部分破断斜視図である。
【0012】本実施例を適用した半導体装置用パッケー
ジの構造は、図1に示すように、電気接続用のリード4
が、導電部であるスルーホール3を介して、セラミック
基板1に内蔵された配線パターンを形成するメタライズ
パターン2に接続されて構成されている。
ジの構造は、図1に示すように、電気接続用のリード4
が、導電部であるスルーホール3を介して、セラミック
基板1に内蔵された配線パターンを形成するメタライズ
パターン2に接続されて構成されている。
【0013】図2は、メタライズパターン2の一部を模
式的に示した模式部分平面図である。
式的に示した模式部分平面図である。
【0014】メタライズパターン2は、図2に示すよう
に、半導体チップが搭載される開口部5の周辺から、ス
ルーホール3が接続されるランド6に至る範囲に配線パ
ターンが形成され、従来例における側面までの延長部分
であるめっき引出線を有していない。
に、半導体チップが搭載される開口部5の周辺から、ス
ルーホール3が接続されるランド6に至る範囲に配線パ
ターンが形成され、従来例における側面までの延長部分
であるめっき引出線を有していない。
【0015】次に、本実施例の製造方法について説明す
る。
る。
【0016】図3は、本実施例におけるセラミック基板
1のリード4の取付け面を示す部分平面図である。ま
た、図4は電気接続用のリード4のろう付け後の状態を
示す模式部分断面図である。
1のリード4の取付け面を示す部分平面図である。ま
た、図4は電気接続用のリード4のろう付け後の状態を
示す模式部分断面図である。
【0017】図3において、まず、セラミック基板1の
リード4の取付け面に格子状に設けられたメタライズパ
ッド7を含み、リード4の取付け面全面にニッケル膜8
を蒸着する。この結果、メタライズパッド7は電気的に
短絡状態となる。次に、メタライズパッド上面およびセ
ラミック基板1のコーナ部を除きガラス膜9を被着す
る。セラミック基板1のコーナ部において、ガラス膜9
から露出したニッケル膜の部分が電解めっき用の電極1
0となる。
リード4の取付け面に格子状に設けられたメタライズパ
ッド7を含み、リード4の取付け面全面にニッケル膜8
を蒸着する。この結果、メタライズパッド7は電気的に
短絡状態となる。次に、メタライズパッド上面およびセ
ラミック基板1のコーナ部を除きガラス膜9を被着す
る。セラミック基板1のコーナ部において、ガラス膜9
から露出したニッケル膜の部分が電解めっき用の電極1
0となる。
【0018】次に図4に示すように、コバール等からな
るリード4を、銀銅等からなるろう材11によりろう付
けする。次に、電極10に、めっき浴中で所要の通電の
ための電圧を印加して電解めっきを行なうことにより、
ニッケルコバルトめっき12、金めっき13を被着す
る。
るリード4を、銀銅等からなるろう材11によりろう付
けする。次に、電極10に、めっき浴中で所要の通電の
ための電圧を印加して電解めっきを行なうことにより、
ニッケルコバルトめっき12、金めっき13を被着す
る。
【0019】めっき処理の終了後、弗酸によりガラス膜
9を除去し、希塩酸等によりニッケル膜8を除去するこ
とによりPGA型の半導体装置用パッケージが完成す
る。
9を除去し、希塩酸等によりニッケル膜8を除去するこ
とによりPGA型の半導体装置用パッケージが完成す
る。
【0020】なお、弗酸や希塩酸等による処理に対して
は、金めっき13により保護されるので、特性等に影響
を与えることはない。
は、金めっき13により保護されるので、特性等に影響
を与えることはない。
【0021】以上、本発明の実施例を説明したが、本発
明は上記実施例に限られることなく種々の変形が可能で
ある。
明は上記実施例に限られることなく種々の変形が可能で
ある。
【0022】たとえば、信号伝達用の配線パターン以外
の電源用や接地用の配線パターンにのみめっき引出線を
設けて本実施例と同様に電解めっきすることも、本発明
の主旨を逸脱しない限り適用できることは勿論である。
の電源用や接地用の配線パターンにのみめっき引出線を
設けて本実施例と同様に電解めっきすることも、本発明
の主旨を逸脱しない限り適用できることは勿論である。
【0023】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の半導体装
置用パッケージの製造方法は、メタライズパターンの電
気接続用リードの取付面に金属膜を蒸着し、この金属膜
を電解めっき用の電極とすることにより、配線パターン
をセラミック基板の側面まで延長しためっき引出線が不
要となるので、配線パターン間の浮遊容量を低減し、集
積回路の高周波動作時における信号漏洩や雑音発生が抑
圧されることにより特性が向上するという効果を有して
いる。
置用パッケージの製造方法は、メタライズパターンの電
気接続用リードの取付面に金属膜を蒸着し、この金属膜
を電解めっき用の電極とすることにより、配線パターン
をセラミック基板の側面まで延長しためっき引出線が不
要となるので、配線パターン間の浮遊容量を低減し、集
積回路の高周波動作時における信号漏洩や雑音発生が抑
圧されることにより特性が向上するという効果を有して
いる。
【図1】本発明の半導体装置用パッケージの製造方法の
一実施例を適用したパッケージの構造の一例を示す部分
破断斜視図である。
一実施例を適用したパッケージの構造の一例を示す部分
破断斜視図である。
【図2】本実施例の半導体装置用パッケージの製造方法
におけるメタライズパターンの一部を模式的に示した模
式部分平面図である。
におけるメタライズパターンの一部を模式的に示した模
式部分平面図である。
【図3】本実施例におけるセラミック基板のリードの取
付け面を示す部分平面図である。
付け面を示す部分平面図である。
【図4】電気接続用のリードのろう付け後の状態を示す
模式部分断面図である。
模式部分断面図である。
【図5】従来の半導体装置用パッケージの製造方法を適
用したパッケージ構造の一例を示す部分破断斜視図であ
る。
用したパッケージ構造の一例を示す部分破断斜視図であ
る。
【図6】従来の製造方法におけるメタライズパターンの
一部を模式的に示した模式部分平面図である。
一部を模式的に示した模式部分平面図である。
1 セラミック基板 2,14 メタライズパターン 3 スルーホール 4 リード 5 開口部 6 ランド 7 メタライズパッド 8 ニッケル膜 9 ガラス膜 10,15 電極 11 ろう材 12 ニッケルコバルトめっき 13 金めっき 16 めっき引出線
Claims (1)
- 【請求項1】 積層した複数のセラミック板により形成
された基板の一主面に設けられた開口部の前記一主面と
反対面に格子状に配列された電気接続用リードを有する
ピングリッドアレイ型の半導体装置用パッケージの製造
方法において、 前記電気接続用リードを接続する配線パターンを形成す
るメタライズパターンの前記電気接続用リードの取付面
に金属膜を蒸着し、 前記金属膜を電解めっき用の電極とし前記メタライズパ
ターンの表面および前記電気接続用リードに電解めっき
することを特徴とする半導体装置用パッケージの製造方
法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3214917A JP2967621B2 (ja) | 1991-08-27 | 1991-08-27 | 半導体装置用パッケージの製造方法 |
| US07/936,271 US5240588A (en) | 1991-08-27 | 1992-08-27 | Method for electroplating the lead pins of a semiconductor device pin grid array package |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3214917A JP2967621B2 (ja) | 1991-08-27 | 1991-08-27 | 半導体装置用パッケージの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0555728A JPH0555728A (ja) | 1993-03-05 |
| JP2967621B2 true JP2967621B2 (ja) | 1999-10-25 |
Family
ID=16663725
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3214917A Expired - Fee Related JP2967621B2 (ja) | 1991-08-27 | 1991-08-27 | 半導体装置用パッケージの製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5240588A (ja) |
| JP (1) | JP2967621B2 (ja) |
Families Citing this family (50)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5917707A (en) * | 1993-11-16 | 1999-06-29 | Formfactor, Inc. | Flexible contact structure with an electrically conductive shell |
| US5476211A (en) | 1993-11-16 | 1995-12-19 | Form Factor, Inc. | Method of manufacturing electrical contacts, using a sacrificial member |
| US5828126A (en) * | 1992-06-17 | 1998-10-27 | Vlsi Technology, Inc. | Chip on board package with top and bottom terminals |
| US5702985A (en) * | 1992-06-26 | 1997-12-30 | Staktek Corporation | Hermetically sealed ceramic integrated circuit heat dissipating package fabrication method |
| US5804870A (en) * | 1992-06-26 | 1998-09-08 | Staktek Corporation | Hermetically sealed integrated circuit lead-on package configuration |
| US5459102A (en) * | 1993-02-19 | 1995-10-17 | Ngk Spark Plug Co., Ltd. | Method of electroplating lead pins of integrated circuit package |
| US5399902A (en) * | 1993-03-04 | 1995-03-21 | International Business Machines Corporation | Semiconductor chip packaging structure including a ground plane |
| IL106892A0 (en) * | 1993-09-02 | 1993-12-28 | Pierre Badehi | Methods and apparatus for producing integrated circuit devices |
| US7084656B1 (en) | 1993-11-16 | 2006-08-01 | Formfactor, Inc. | Probe for semiconductor devices |
| US7200930B2 (en) * | 1994-11-15 | 2007-04-10 | Formfactor, Inc. | Probe for semiconductor devices |
| US6835898B2 (en) * | 1993-11-16 | 2004-12-28 | Formfactor, Inc. | Electrical contact structures formed by configuring a flexible wire to have a springable shape and overcoating the wire with at least one layer of a resilient conductive material, methods of mounting the contact structures to electronic components, and applications for employing the contact structures |
| US20070228110A1 (en) * | 1993-11-16 | 2007-10-04 | Formfactor, Inc. | Method Of Wirebonding That Utilizes A Gas Flow Within A Capillary From Which A Wire Is Played Out |
| IL108359A (en) * | 1994-01-17 | 2001-04-30 | Shellcase Ltd | Method and apparatus for producing integrated circuit devices |
| GB2288286A (en) * | 1994-03-30 | 1995-10-11 | Plessey Semiconductors Ltd | Ball grid array arrangement |
| DE69527473T2 (de) * | 1994-05-09 | 2003-03-20 | Nec Corp., Tokio/Tokyo | Halbleiteranordnung bestehend aus einem Halbleiterchip, der mittels Kontakthöckern auf der Leiterplatte verbunden ist und Montageverfahren |
| IL110261A0 (en) * | 1994-07-10 | 1994-10-21 | Schellcase Ltd | Packaged integrated circuit |
| US6727579B1 (en) * | 1994-11-16 | 2004-04-27 | Formfactor, Inc. | Electrical contact structures formed by configuring a flexible wire to have a springable shape and overcoating the wire with at least one layer of a resilient conductive material, methods of mounting the contact structures to electronic components, and applications for employing the contact structures |
| US5516416A (en) * | 1994-12-14 | 1996-05-14 | International Business Machines Corporation | Apparatus and method for electroplating pin grid array packaging modules |
| US20100065963A1 (en) | 1995-05-26 | 2010-03-18 | Formfactor, Inc. | Method of wirebonding that utilizes a gas flow within a capillary from which a wire is played out |
| US6685817B1 (en) | 1995-05-26 | 2004-02-03 | Formfactor, Inc. | Method and apparatus for controlling plating over a face of a substrate |
| US5804422A (en) * | 1995-09-20 | 1998-09-08 | Shinko Electric Industries Co., Ltd. | Process for producing a semiconductor package |
| US5818698A (en) | 1995-10-12 | 1998-10-06 | Micron Technology, Inc. | Method and apparatus for a chip-on-board semiconductor module |
| US5935404A (en) * | 1997-01-22 | 1999-08-10 | International Business Machines Corporation | Method of performing processes on features with electricity |
| US6323065B1 (en) | 1997-05-07 | 2001-11-27 | Signetics | Methods for manufacturing ball grid array assembly semiconductor packages |
| US6020637A (en) | 1997-05-07 | 2000-02-01 | Signetics Kp Co., Ltd. | Ball grid array semiconductor package |
| US6395582B1 (en) | 1997-07-14 | 2002-05-28 | Signetics | Methods for forming ground vias in semiconductor packages |
| KR100866814B1 (ko) * | 1998-12-16 | 2008-11-04 | 이비덴 가부시키가이샤 | 도전성접속핀 및 패키지기판 |
| US6323060B1 (en) | 1999-05-05 | 2001-11-27 | Dense-Pac Microsystems, Inc. | Stackable flex circuit IC package and method of making same |
| US6262895B1 (en) | 2000-01-13 | 2001-07-17 | John A. Forthun | Stackable chip package with flex carrier |
| US7485951B2 (en) | 2001-10-26 | 2009-02-03 | Entorian Technologies, Lp | Modularized die stacking system and method |
| US20060255446A1 (en) | 2001-10-26 | 2006-11-16 | Staktek Group, L.P. | Stacked modules and method |
| US7310458B2 (en) | 2001-10-26 | 2007-12-18 | Staktek Group L.P. | Stacked module systems and methods |
| US6914324B2 (en) | 2001-10-26 | 2005-07-05 | Staktek Group L.P. | Memory expansion and chip scale stacking system and method |
| US7026708B2 (en) | 2001-10-26 | 2006-04-11 | Staktek Group L.P. | Low profile chip scale stacking system and method |
| US7371609B2 (en) | 2001-10-26 | 2008-05-13 | Staktek Group L.P. | Stacked module systems and methods |
| US20030234443A1 (en) | 2001-10-26 | 2003-12-25 | Staktek Group, L.P. | Low profile stacking system and method |
| US7202555B2 (en) | 2001-10-26 | 2007-04-10 | Staktek Group L.P. | Pitch change and chip scale stacking system and method |
| US6956284B2 (en) | 2001-10-26 | 2005-10-18 | Staktek Group L.P. | Integrated circuit stacking system and method |
| US7656678B2 (en) | 2001-10-26 | 2010-02-02 | Entorian Technologies, Lp | Stacked module systems |
| US7053478B2 (en) | 2001-10-26 | 2006-05-30 | Staktek Group L.P. | Pitch change and chip scale stacking system |
| US6940729B2 (en) | 2001-10-26 | 2005-09-06 | Staktek Group L.P. | Integrated circuit stacking system and method |
| US7081373B2 (en) | 2001-12-14 | 2006-07-25 | Staktek Group, L.P. | CSP chip stack with flex circuit |
| US7542304B2 (en) | 2003-09-15 | 2009-06-02 | Entorian Technologies, Lp | Memory expansion and integrated circuit stacking system and method |
| CN100426477C (zh) * | 2004-01-09 | 2008-10-15 | 威宇科技测试封装有限公司 | 扁平塑封球栅阵列封装所用的载板的制造方法及其载板 |
| US7309914B2 (en) | 2005-01-20 | 2007-12-18 | Staktek Group L.P. | Inverted CSP stacking system and method |
| US7033861B1 (en) | 2005-05-18 | 2006-04-25 | Staktek Group L.P. | Stacked module systems and method |
| US7417310B2 (en) | 2006-11-02 | 2008-08-26 | Entorian Technologies, Lp | Circuit module having force resistant construction |
| JP5015705B2 (ja) * | 2007-09-18 | 2012-08-29 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 層間絶縁膜形成方法、層間絶縁膜、半導体デバイス、および半導体製造装置 |
| JP5188289B2 (ja) * | 2008-06-26 | 2013-04-24 | ラピスセミコンダクタ株式会社 | プリント基板の製造方法 |
| US8709870B2 (en) * | 2009-08-06 | 2014-04-29 | Maxim Integrated Products, Inc. | Method of forming solderable side-surface terminals of quad no-lead frame (QFN) integrated circuit packages |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59215790A (ja) * | 1983-05-23 | 1984-12-05 | マルイ工業株式会社 | 印刷回路板の製造法 |
| JPH071790B2 (ja) * | 1985-11-12 | 1995-01-11 | 京セラ株式会社 | プラグイン型半導体パツケ−ジの製造方法 |
| JP2517047B2 (ja) * | 1988-02-23 | 1996-07-24 | 新光電気工業株式会社 | セラミックパッケ―ジの製造方法 |
| DE3810992A1 (de) * | 1988-03-31 | 1989-10-12 | Hoechst Ceram Tec Ag | Verfahren und vorrichtung zum plattieren von pin-grid-arrays |
-
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