JP2715004B2 - 半導体メモリ装置 - Google Patents
半導体メモリ装置Info
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Links
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
- G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
- G11C11/40—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
- G11C11/401—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
- G11C11/4063—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
- G11C11/407—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
- G11C11/409—Read-write [R-W] circuits
- G11C11/4096—Input/output [I/O] data management or control circuits, e.g. reading or writing circuits, I/O drivers or bit-line switches
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
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- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
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- G11C11/40—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
-
- G—PHYSICS
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- G11C—STATIC STORES
- G11C7/00—Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
- G11C7/10—Input/output [I/O] data interface arrangements, e.g. I/O data control circuits, I/O data buffers
- G11C7/1051—Data output circuits, e.g. read-out amplifiers, data output buffers, data output registers, data output level conversion circuits
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- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Databases & Information Systems (AREA)
- Dram (AREA)
- Static Random-Access Memory (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、一般に半導体メモリ
装置に関し、特に、ストアされたデータ信号をシリアル
にかつ正確に読出すことのできる半導体メモリ装置に関
する。
装置に関し、特に、ストアされたデータ信号をシリアル
にかつ正確に読出すことのできる半導体メモリ装置に関
する。
【0002】
【従来の技術】近年、半導体メモリが様々な機器におい
て用いられるようになり、様々な機能が要求されるよう
になった。すなわち、半導体メモリは、基本的に、与え
られた(または予め定められた)データをストアし、か
つストアされたデータを読出すための機能を有するので
あるが、これに加えて、アクセスのための追加の機能が
必要となった。特に、映像信号または画像信号処理を高
速で行なうため、シリアルアクセス、すなわちデータ信
号のシリアル読出および/またはシリアル書込が必要と
なった。
て用いられるようになり、様々な機能が要求されるよう
になった。すなわち、半導体メモリは、基本的に、与え
られた(または予め定められた)データをストアし、か
つストアされたデータを読出すための機能を有するので
あるが、これに加えて、アクセスのための追加の機能が
必要となった。特に、映像信号または画像信号処理を高
速で行なうため、シリアルアクセス、すなわちデータ信
号のシリアル読出および/またはシリアル書込が必要と
なった。
【0003】シリアルアクセス機能を有するランダムア
クセスメモリ(RAM)として、たとえばフィールドメ
モリおよびビデオRAMが知られる。フィールドメモリ
では、与えられたデータ信号がシリアルにメモリセルに
書込まれ、ストアされたデータ信号が書込まれた順序で
読出される。1つのフィールドメモリは、たとえばテレ
ビジョンの1画面のデジタル画素信号をストアできるメ
モリ容量を有しているので、映像信号処理のための遅延
回路としてしばしば用いられる。
クセスメモリ(RAM)として、たとえばフィールドメ
モリおよびビデオRAMが知られる。フィールドメモリ
では、与えられたデータ信号がシリアルにメモリセルに
書込まれ、ストアされたデータ信号が書込まれた順序で
読出される。1つのフィールドメモリは、たとえばテレ
ビジョンの1画面のデジタル画素信号をストアできるメ
モリ容量を有しているので、映像信号処理のための遅延
回路としてしばしば用いられる。
【0004】ビデオRAMは、ランダムアクセスポート
およびシリアルアクセスポートを有する。ランダムアク
セスポートを介して、与えられたデータ信号が外部的に
指定されたメモリセルにストアされ、ストアされたデー
タ信号が外部的に指定されたメモリセルから読出され
る。他方、シリアルアクセスポートを介して与えられた
データ信号が外部的に指定されたメモリセル行にシリア
ルにストアされ、ストアされたデータ信号が外部的に指
定されたメモリセル行からシリアルに読出される。画像
信号処理を高速に実行するため、ランダムアクセスポー
トは、頻繁に使用され、一方、シリアルアクセスポート
は、処理された、すなわちストアされた画素信号をCR
Tのような画像表示装置に高速で供給するために使用さ
れる。
およびシリアルアクセスポートを有する。ランダムアク
セスポートを介して、与えられたデータ信号が外部的に
指定されたメモリセルにストアされ、ストアされたデー
タ信号が外部的に指定されたメモリセルから読出され
る。他方、シリアルアクセスポートを介して与えられた
データ信号が外部的に指定されたメモリセル行にシリア
ルにストアされ、ストアされたデータ信号が外部的に指
定されたメモリセル行からシリアルに読出される。画像
信号処理を高速に実行するため、ランダムアクセスポー
トは、頻繁に使用され、一方、シリアルアクセスポート
は、処理された、すなわちストアされた画素信号をCR
Tのような画像表示装置に高速で供給するために使用さ
れる。
【0005】さらには、RAMではないが、与えられた
データ信号をシリアルにストアし、ストアされたデータ
信号をストアされた順序でシリアルに読出すためのファ
ーストインファーストアウト(FIFO)メモリも知ら
れる。
データ信号をシリアルにストアし、ストアされたデータ
信号をストアされた順序でシリアルに読出すためのファ
ーストインファーストアウト(FIFO)メモリも知ら
れる。
【0006】上記の半導体メモリは、シリアルアクセ
ス、特にメモリセルにストアされたデータ信号をシリア
ルに読出すための機能を有する点で共通していることが
指摘される。この発明は、シリアルアクセス機能を有す
る半導体メモリに一般に適用可能であるが、以下では、
説明を簡単にするため、一例としてフィールドメモリに
ついてのみ記載する。
ス、特にメモリセルにストアされたデータ信号をシリア
ルに読出すための機能を有する点で共通していることが
指摘される。この発明は、シリアルアクセス機能を有す
る半導体メモリに一般に適用可能であるが、以下では、
説明を簡単にするため、一例としてフィールドメモリに
ついてのみ記載する。
【0007】図2は、この発明の背景を示すフィールド
メモリのブロック図である。図2を参照して、このフィ
ールドメモリは、行および列に配設された多数のメモリ
セルを含むメモリセルアレイ1と、外部的に指定された
メモリセル行を選択するための行デコーダ2と、外部的
に指定されたメモリセル列を選択するための列デコーダ
3と、メモリセルから読出されたデータ信号を増幅する
ためのセンスアンプ7とを含む。データ入力のためのシ
リアルセレクタ8が列デコーダ3に接続される。
メモリのブロック図である。図2を参照して、このフィ
ールドメモリは、行および列に配設された多数のメモリ
セルを含むメモリセルアレイ1と、外部的に指定された
メモリセル行を選択するための行デコーダ2と、外部的
に指定されたメモリセル列を選択するための列デコーダ
3と、メモリセルから読出されたデータ信号を増幅する
ためのセンスアンプ7とを含む。データ入力のためのシ
リアルセレクタ8が列デコーダ3に接続される。
【0008】書込動作において、入力バッファ9は、外
部的に与えられるシリアル入力データSID1ないしS
ID6を受け、受けたデータをデータレジスタ10に与
える。データレジスタ10は、与えられたパラレルデー
タを保持し、シリアルセレクタ8から発生された出力信
号に応答して、保持されたデータをメモリセルアレイ1
に与える。行デコーダ2は、外部的に与えられるアドレ
ス信号により指定された1つのワード線を選択するの
で、データレジスタ10から与えられたデータが1つの
メモリセル行に書込まれる。
部的に与えられるシリアル入力データSID1ないしS
ID6を受け、受けたデータをデータレジスタ10に与
える。データレジスタ10は、与えられたパラレルデー
タを保持し、シリアルセレクタ8から発生された出力信
号に応答して、保持されたデータをメモリセルアレイ1
に与える。行デコーダ2は、外部的に与えられるアドレ
ス信号により指定された1つのワード線を選択するの
で、データレジスタ10から与えられたデータが1つの
メモリセル行に書込まれる。
【0009】読出動作において、行デコーダ2が外部的
に与えられたアドレス信号により指定された1つのワー
ド線を選択する。したがって、選択されたワード線に接
続されたメモリセル行にストアされたデータ信号がビッ
ト線(図示せず)に与えられ、センスアンプ7により増
幅される。センスアンプ7により増幅されたパラレルデ
ータ信号は、データレジスタ4に与えられ、そこで保持
される。シリアルセレクタ5は、外部的に与えられるシ
リアル出力クロック信号SOCに応答して、データレジ
スタ4内に設けられたラッチ回路を順次選択する。すな
わち、データレジスタ4は、シリアルセレクタ5から発
生されるシリアル選択信号SSに応答して、保持された
またはラッチされたデータ信号を順次シリアルバスSB
に出力する。出力バッファ6は、シリアルバスSBを介
してデータレジスタ4に接続される。したがって、メモ
リセルアレイ1内のメモリセル行から読出されたデータ
信号が、出力バッファ6を介して、シリアル出力データ
SOD1ないしSOD6として出力される。
に与えられたアドレス信号により指定された1つのワー
ド線を選択する。したがって、選択されたワード線に接
続されたメモリセル行にストアされたデータ信号がビッ
ト線(図示せず)に与えられ、センスアンプ7により増
幅される。センスアンプ7により増幅されたパラレルデ
ータ信号は、データレジスタ4に与えられ、そこで保持
される。シリアルセレクタ5は、外部的に与えられるシ
リアル出力クロック信号SOCに応答して、データレジ
スタ4内に設けられたラッチ回路を順次選択する。すな
わち、データレジスタ4は、シリアルセレクタ5から発
生されるシリアル選択信号SSに応答して、保持された
またはラッチされたデータ信号を順次シリアルバスSB
に出力する。出力バッファ6は、シリアルバスSBを介
してデータレジスタ4に接続される。したがって、メモ
リセルアレイ1内のメモリセル行から読出されたデータ
信号が、出力バッファ6を介して、シリアル出力データ
SOD1ないしSOD6として出力される。
【0010】フィールドメモリ内の他の回路について以
下に簡単に説明する。命令/アドレスバッファ11は、
外部的に与えられる命令信号IR1ないしIR7/アド
レス信号A0ないしA8を受ける。受信されたアドレス
信号A0ないしA8は、行デコーダ2,列デコーダ3,
入力用行アドレスカウンタ12および出力用行アドレス
カウンタ13に与えられる。行デコーダ2は、アドレス
カウンタ12または13からのカウント信号に応答し
て、メモリセル行、すなわちワード線を選択する。行デ
コーダ2は、リフレッシュモードにおいて、リフレッシ
ュ用行アドレスカウンタ14からのカウント信号にも応
答して、ワード線を選択する。一方、命令/アドレスバ
ッファ11により受信された命令信号は命令レジスタ1
5内に保持される。命令デコーダ16は、命令レジスタ
15内に保持された命令信号を受け、それをデコードす
る。命令デコーダ16は、この外部的に与えられた命令
に従ってフィールドメモリが動作するための様々な制御
信号を発生する。このフィールドメモリは、上記の回路
を同期して動作させるためのタイミング信号を発生する
タイミング信号発生回路17を含む。
下に簡単に説明する。命令/アドレスバッファ11は、
外部的に与えられる命令信号IR1ないしIR7/アド
レス信号A0ないしA8を受ける。受信されたアドレス
信号A0ないしA8は、行デコーダ2,列デコーダ3,
入力用行アドレスカウンタ12および出力用行アドレス
カウンタ13に与えられる。行デコーダ2は、アドレス
カウンタ12または13からのカウント信号に応答し
て、メモリセル行、すなわちワード線を選択する。行デ
コーダ2は、リフレッシュモードにおいて、リフレッシ
ュ用行アドレスカウンタ14からのカウント信号にも応
答して、ワード線を選択する。一方、命令/アドレスバ
ッファ11により受信された命令信号は命令レジスタ1
5内に保持される。命令デコーダ16は、命令レジスタ
15内に保持された命令信号を受け、それをデコードす
る。命令デコーダ16は、この外部的に与えられた命令
に従ってフィールドメモリが動作するための様々な制御
信号を発生する。このフィールドメモリは、上記の回路
を同期して動作させるためのタイミング信号を発生する
タイミング信号発生回路17を含む。
【0011】図3は、図2に示したデータレジスタ4の
回路図である。図3を参照して、このデータレジスタ回
路は、各々がそれぞれのビット線対に接続されたデータ
信号保持回路41ないし4nを含む。各データ信号保持
回路41ないし4nは、シリアルバス線対にそれぞれ接
続される。各データ信号保持回路41ないし4nは、同
じ回路構成を有するので、以下の説明では回路41につ
いてのみ説明する。
回路図である。図3を参照して、このデータレジスタ回
路は、各々がそれぞれのビット線対に接続されたデータ
信号保持回路41ないし4nを含む。各データ信号保持
回路41ないし4nは、シリアルバス線対にそれぞれ接
続される。各データ信号保持回路41ないし4nは、同
じ回路構成を有するので、以下の説明では回路41につ
いてのみ説明する。
【0012】データ信号保持回路41は、PMOSトラ
ンジスタQ6およびQ7と、NMOSトランジスタQ2
およびQ5とによって構成されたラッチ回路を含む。ト
ランジスタQ6およびQ2によってインバータが構成さ
れ、トランジスタQ7およびQ5によって別のインバー
タが構成される。これら2つのインバータはクロスカッ
プルされ、ラッチ回路が構成される。このラッチ回路
は、第1の入力/出力ノードNaがラッチ線LLaに接
続され、第2の入力/出力ノードNbがラッチ線LLb
に接続される。トランジスタQ2およびQ5の共通接続
ノードNcと接地との間に、このラッチ回路の活性化を
制御するためのNMOSトランジスタQ3が接続され
る。トランジスタQ3は、図示されていない制御回路か
ら与えられる活性化信号FFZに応答してONし、ラッ
チ回路を活性化させる。
ンジスタQ6およびQ7と、NMOSトランジスタQ2
およびQ5とによって構成されたラッチ回路を含む。ト
ランジスタQ6およびQ2によってインバータが構成さ
れ、トランジスタQ7およびQ5によって別のインバー
タが構成される。これら2つのインバータはクロスカッ
プルされ、ラッチ回路が構成される。このラッチ回路
は、第1の入力/出力ノードNaがラッチ線LLaに接
続され、第2の入力/出力ノードNbがラッチ線LLb
に接続される。トランジスタQ2およびQ5の共通接続
ノードNcと接地との間に、このラッチ回路の活性化を
制御するためのNMOSトランジスタQ3が接続され
る。トランジスタQ3は、図示されていない制御回路か
ら与えられる活性化信号FFZに応答してONし、ラッ
チ回路を活性化させる。
【0013】ラッチ線対LLaおよびLLbは、NMO
SトランジスタQ11およびQ12を介してビット線対
BLaおよびBLbに接続される。トランジスタQ11
およびQ12は、ゲートが図示されていない制御回路か
ら発生されるデータ伝送信号DTRを受けるように接続
される。メモリセルMCは、スイッチングトランジスタ
と、データ信号をストアするためのキャパシタとを含
む。ワード線WLが高レベルになったとき、スイッチン
グトランジスタがONし、ビット線BLaおよびBLb
間に微小な電位差が現われる。センスアンプ(S/A)
71は、この微小な電位差を増幅する。高レベルのデー
タ伝送信号DTRが与えられたとき、トランジスタQ1
1およびQ12がONするので、増幅されたデータ信号
がラッチ線LLaおよびLLbを介してラッチ回路に与
えられ、そこでラッチされる。
SトランジスタQ11およびQ12を介してビット線対
BLaおよびBLbに接続される。トランジスタQ11
およびQ12は、ゲートが図示されていない制御回路か
ら発生されるデータ伝送信号DTRを受けるように接続
される。メモリセルMCは、スイッチングトランジスタ
と、データ信号をストアするためのキャパシタとを含
む。ワード線WLが高レベルになったとき、スイッチン
グトランジスタがONし、ビット線BLaおよびBLb
間に微小な電位差が現われる。センスアンプ(S/A)
71は、この微小な電位差を増幅する。高レベルのデー
タ伝送信号DTRが与えられたとき、トランジスタQ1
1およびQ12がONするので、増幅されたデータ信号
がラッチ線LLaおよびLLbを介してラッチ回路に与
えられ、そこでラッチされる。
【0014】図2に示したシリアルセレクタ5が、順次
に立上がるパルス信号であるシリアル選択信号SS1な
いしSSnを発生する。トランジスタQ1およびQ4
は、信号SS1の高レベルの期間においてONするの
で、ラッチされたデータ信号、すなわちメモリセルMC
から読出されたデータ信号がシリアルバス線対SBaお
よびSBbに与えられる。シリアル選択信号SS1ない
しSSnがそれぞれのデータ信号保持回路41ないし4
nに与えられるので、各ラッチ回路にラッチされたデー
タ信号が順次にシリアルバス線対SBaおよびSBbに
与えられる。シリアルバス線対SBaおよびSBbに与
えられたデータ信号は、図2に示した出力バッファ6を
介して外部に伝送される。
に立上がるパルス信号であるシリアル選択信号SS1な
いしSSnを発生する。トランジスタQ1およびQ4
は、信号SS1の高レベルの期間においてONするの
で、ラッチされたデータ信号、すなわちメモリセルMC
から読出されたデータ信号がシリアルバス線対SBaお
よびSBbに与えられる。シリアル選択信号SS1ない
しSSnがそれぞれのデータ信号保持回路41ないし4
nに与えられるので、各ラッチ回路にラッチされたデー
タ信号が順次にシリアルバス線対SBaおよびSBbに
与えられる。シリアルバス線対SBaおよびSBbに与
えられたデータ信号は、図2に示した出力バッファ6を
介して外部に伝送される。
【0015】
【発明が解決しようとする課題】図3に示したラッチ回
路におけるトランジスタQ5のソースとトランジスタQ
3のドレインとの間に抵抗成分Rが等価的に存在するこ
とが指摘される。抵抗成分Rが存在する理由は次のよう
である。
路におけるトランジスタQ5のソースとトランジスタQ
3のドレインとの間に抵抗成分Rが等価的に存在するこ
とが指摘される。抵抗成分Rが存在する理由は次のよう
である。
【0016】図4は、図3に示したラッチ回路の半導体
基板上のレイアウト図である。図4を参照して、各シリ
アルバス線SBaおよびSBbは、アルミ配線層91お
よび92によりそれぞれ形成される。n+ 不純物領域9
7上に絶縁層(図示せず)を介して形成された第2ポリ
シリコン層99がトランジスタQ1を構成する。n+ 不
純物領域98上にも第2ポリシリコン層99が形成され
ているので、トランジスタQ4が構成される。各トラン
ジスタQ1およびQ4のソースは、コンタクトホールを
介してシリアルバス線SBaおよびSBbにそれぞれ接
続される。n+ 不純物領域90上に絶縁層を介してそれ
ぞれ形成された第2ポリシリコン層93および94が、
トランジスタQ3およびQ5をそれぞれ構成する。n+
不純物領域96上に絶縁層を介して形成された第2ポリ
シリコン層95がトランジスタQ2を構成する。
基板上のレイアウト図である。図4を参照して、各シリ
アルバス線SBaおよびSBbは、アルミ配線層91お
よび92によりそれぞれ形成される。n+ 不純物領域9
7上に絶縁層(図示せず)を介して形成された第2ポリ
シリコン層99がトランジスタQ1を構成する。n+ 不
純物領域98上にも第2ポリシリコン層99が形成され
ているので、トランジスタQ4が構成される。各トラン
ジスタQ1およびQ4のソースは、コンタクトホールを
介してシリアルバス線SBaおよびSBbにそれぞれ接
続される。n+ 不純物領域90上に絶縁層を介してそれ
ぞれ形成された第2ポリシリコン層93および94が、
トランジスタQ3およびQ5をそれぞれ構成する。n+
不純物領域96上に絶縁層を介して形成された第2ポリ
シリコン層95がトランジスタQ2を構成する。
【0017】図4から解かるように、トランジスタQ2
は接地されたn+不純物領域90の近くの位置に形成さ
れているが、他方、トランジスタQ5はトランジスタQ
2よりもさらに遠い位置に形成されている。これに加え
て、トランジスタQ5は、コンタクトホールにより接続
されたアルミ配線層を介してトランジスタQ3のドレイ
ンに接続されている。したがって、トランジスタQ5の
ソースとトランジスタQ3のドレインとの間の抵抗値
が、トランジスタQ2のソースとトランジスタQ3のド
レインとの間の抵抗値よりも高いことが解かる。その結
果、前述の図3に示すように、トランジスタQ5のソー
スとトランジスタQ3のドレインとの間に抵抗成分Rが
等価的に存在することが理解される。この抵抗成分Rの
存在により、次のような問題が発生する。
は接地されたn+不純物領域90の近くの位置に形成さ
れているが、他方、トランジスタQ5はトランジスタQ
2よりもさらに遠い位置に形成されている。これに加え
て、トランジスタQ5は、コンタクトホールにより接続
されたアルミ配線層を介してトランジスタQ3のドレイ
ンに接続されている。したがって、トランジスタQ5の
ソースとトランジスタQ3のドレインとの間の抵抗値
が、トランジスタQ2のソースとトランジスタQ3のド
レインとの間の抵抗値よりも高いことが解かる。その結
果、前述の図3に示すように、トランジスタQ5のソー
スとトランジスタQ3のドレインとの間に抵抗成分Rが
等価的に存在することが理解される。この抵抗成分Rの
存在により、次のような問題が発生する。
【0018】図5は、図3に示したデータ信号保持回路
41の動作を説明するための信号波形図である。図3お
よび図5を参照して、シリアルバス線SBaおよびSB
bは、予め高電位のフローティング状態にもたらされて
いる。トランジスタQ2、Q5、Q6およびQ7により
構成されたラッチ回路は、メモリセルMCから読出され
たデータ信号をラッチしており、各ノードNaおよびN
bがそれぞれ高レベルおよび低レベルを有するものと仮
定する。シリアル選択信号SS1が期間Tにおいて高レ
ベルになるので、トランジスタQ1およびQ4がONす
る。したがって、高電位を有するシリアルバス線SBb
がトランジスタQ4を介してノードNbに接続される。
その結果、シリアルバス線SBbの高電位が、トランジ
スタQ4,Q5,抵抗成分RおよびトランジスタQ3を
介して放電される。したがって、シリアルバス線SBb
から接地に向かって電流が流れるので、トランジスタQ
5のソースにおけるノードNrの電位が円内C2に示す
ようにこの電流により上昇される。その結果、ラッチ回
路の入力/出力ノードNbが、図5の円内C1に示すよ
うに一時的に上昇する。図5に示した場合では、しかし
ながら、ノードNbの上昇が少ないので、ラッチ回路の
反転は防がれる。これに対し、図6に示した場合では、
ラッチ回路の反転が次のように引起こされる。
41の動作を説明するための信号波形図である。図3お
よび図5を参照して、シリアルバス線SBaおよびSB
bは、予め高電位のフローティング状態にもたらされて
いる。トランジスタQ2、Q5、Q6およびQ7により
構成されたラッチ回路は、メモリセルMCから読出され
たデータ信号をラッチしており、各ノードNaおよびN
bがそれぞれ高レベルおよび低レベルを有するものと仮
定する。シリアル選択信号SS1が期間Tにおいて高レ
ベルになるので、トランジスタQ1およびQ4がONす
る。したがって、高電位を有するシリアルバス線SBb
がトランジスタQ4を介してノードNbに接続される。
その結果、シリアルバス線SBbの高電位が、トランジ
スタQ4,Q5,抵抗成分RおよびトランジスタQ3を
介して放電される。したがって、シリアルバス線SBb
から接地に向かって電流が流れるので、トランジスタQ
5のソースにおけるノードNrの電位が円内C2に示す
ようにこの電流により上昇される。その結果、ラッチ回
路の入力/出力ノードNbが、図5の円内C1に示すよ
うに一時的に上昇する。図5に示した場合では、しかし
ながら、ノードNbの上昇が少ないので、ラッチ回路の
反転は防がれる。これに対し、図6に示した場合では、
ラッチ回路の反転が次のように引起こされる。
【0019】図6を参照して、図3に示した抵抗成分R
の値が、図5に示した場合よりも大きいものと仮定す
る。したがって、トランジスタQ5のソースにおけるノ
ードNrの電位の上昇が円内C3に示すように図5に示
す場合よりも大きい。このことは、ラッチ回路のノード
Nbの電位の大きな上昇を引起こし、その結果ラッチ回
路が反転される。ラッチ回路のこの反転に伴って、シリ
アルバス線SBaおよびSBbに与えられる電位も、円
内C4およびC5に示すように変化されるので、誤った
データ信号がシリアルバス線対SBaおよびSBbに与
えられることになる。言換えると、抵抗成分Rの存在に
より、フィールドメモリの読出誤りが発生する。
の値が、図5に示した場合よりも大きいものと仮定す
る。したがって、トランジスタQ5のソースにおけるノ
ードNrの電位の上昇が円内C3に示すように図5に示
す場合よりも大きい。このことは、ラッチ回路のノード
Nbの電位の大きな上昇を引起こし、その結果ラッチ回
路が反転される。ラッチ回路のこの反転に伴って、シリ
アルバス線SBaおよびSBbに与えられる電位も、円
内C4およびC5に示すように変化されるので、誤った
データ信号がシリアルバス線対SBaおよびSBbに与
えられることになる。言換えると、抵抗成分Rの存在に
より、フィールドメモリの読出誤りが発生する。
【0020】この発明は、上記のような課題を解決する
ために成されたもので、シリアルアクセス可能な半導体
メモリ装置において、読出誤りの発生を防ぐことを目的
とする。
ために成されたもので、シリアルアクセス可能な半導体
メモリ装置において、読出誤りの発生を防ぐことを目的
とする。
【0021】
【課題を解決するための手段】この発明に係る半導体メ
モリ装置は、少なくとも1つの方向に配設された複数の
メモリセルを含むメモリセル列と、メモリセル列に結合
され、メモリセル列から読出されたデータビット信号を
それぞれ保持する複数のデータビット保持手段と、複数
のデータビット保持手段内に保持されたデータビット信
号を外部へシリアルに伝送するためのシリアルバス線
と、外部的に与えられるクロック信号に応答して、外部
へ出力されるべきデータビット信号をシリアルに選択す
るシリアルセレクタ手段と、シリアルセレクタ手段に応
答して、複数のデータビット保持手段内に保持されたデ
ータビット信号をシリアルバス線にシリアル供給するシ
リアル供給手段と、複数のデータビット保持手段に接続
され、複数のデータビット手段による信号保持作用を安
定化させる保持安定化手段と、複数のメモリセルに接続
され、メモリセルのデータを検出し、ビット線対の電位
差を増幅する複数のセンスアンプとを備え、複数のデー
タビット保持手段は、複数のセンスアンプからのデータ
ビット信号を受けて所定のノードの電位としてデータビ
ット信号を保持し、シリアル供給手段は、所定のノード
とシリアルバス線との間に接続され、シリアルセレクタ
手段に応答して、所定のノードと前記シリアルバス線と
の接続を開閉し、保持安定化手段は、所定のノードに接
続している。さらに、この発明に係る半導体メモリ装置
は、記憶されたデータビット信号をシリアルに読出すこ
とが可能な半導体メモリ装置であって、少なくとも1つ
の方向に配設された複数のメモリセルを含むメモリセル
列と、複数のメモリセルにそれぞれ接続された複数のビ
ット線と、複数のビット線にそれぞれ接続され、読出動
作において、複数のメモリセルからそれぞれのビット線
に与えられたデータビット信号をそれぞれラッチする複
数のラッチ回路と、複数のラッチ回路内にラッチされた
データビット信号を外部へシリアルに伝送するためのシ
リアルバス線と、外部的に与えられるクロック信号に応
答して、外部へ読出されるべきデータビット信号をシリ
アルに選択するシリアルセレクタ回路と、複数のラッチ
回路とシリアルバス線との間に接続され、シリアルセレ
クタ回路から発生される出力信号に応答して、順次に導
通状態となる複数のスイッチングトランジスタとを備
え、複数のラッチ回路は、複数のスイッチングトランジ
スタの導通状態に応答して、シリアルバス線上の電位に
より、ラッチされた信号を変更する傾向を有し、各複数
のラッチ回路と各複数のスイッチングトランジスタとに
それぞれ接続する複数の接続ノードに接続された、複数
のキャパシタをさらに備え、複数のキャパシタは、複数
のラッチ回路内にラッチされた信号が複数のスイッチン
グトランジスタの導通状態に応答して変更されるのを防
止する。
モリ装置は、少なくとも1つの方向に配設された複数の
メモリセルを含むメモリセル列と、メモリセル列に結合
され、メモリセル列から読出されたデータビット信号を
それぞれ保持する複数のデータビット保持手段と、複数
のデータビット保持手段内に保持されたデータビット信
号を外部へシリアルに伝送するためのシリアルバス線
と、外部的に与えられるクロック信号に応答して、外部
へ出力されるべきデータビット信号をシリアルに選択す
るシリアルセレクタ手段と、シリアルセレクタ手段に応
答して、複数のデータビット保持手段内に保持されたデ
ータビット信号をシリアルバス線にシリアル供給するシ
リアル供給手段と、複数のデータビット保持手段に接続
され、複数のデータビット手段による信号保持作用を安
定化させる保持安定化手段と、複数のメモリセルに接続
され、メモリセルのデータを検出し、ビット線対の電位
差を増幅する複数のセンスアンプとを備え、複数のデー
タビット保持手段は、複数のセンスアンプからのデータ
ビット信号を受けて所定のノードの電位としてデータビ
ット信号を保持し、シリアル供給手段は、所定のノード
とシリアルバス線との間に接続され、シリアルセレクタ
手段に応答して、所定のノードと前記シリアルバス線と
の接続を開閉し、保持安定化手段は、所定のノードに接
続している。さらに、この発明に係る半導体メモリ装置
は、記憶されたデータビット信号をシリアルに読出すこ
とが可能な半導体メモリ装置であって、少なくとも1つ
の方向に配設された複数のメモリセルを含むメモリセル
列と、複数のメモリセルにそれぞれ接続された複数のビ
ット線と、複数のビット線にそれぞれ接続され、読出動
作において、複数のメモリセルからそれぞれのビット線
に与えられたデータビット信号をそれぞれラッチする複
数のラッチ回路と、複数のラッチ回路内にラッチされた
データビット信号を外部へシリアルに伝送するためのシ
リアルバス線と、外部的に与えられるクロック信号に応
答して、外部へ読出されるべきデータビット信号をシリ
アルに選択するシリアルセレクタ回路と、複数のラッチ
回路とシリアルバス線との間に接続され、シリアルセレ
クタ回路から発生される出力信号に応答して、順次に導
通状態となる複数のスイッチングトランジスタとを備
え、複数のラッチ回路は、複数のスイッチングトランジ
スタの導通状態に応答して、シリアルバス線上の電位に
より、ラッチされた信号を変更する傾向を有し、各複数
のラッチ回路と各複数のスイッチングトランジスタとに
それぞれ接続する複数の接続ノードに接続された、複数
のキャパシタをさらに備え、複数のキャパシタは、複数
のラッチ回路内にラッチされた信号が複数のスイッチン
グトランジスタの導通状態に応答して変更されるのを防
止する。
【0022】
【作用】この発明における半導体メモリ装置では、保持
安定化手段が複数のデータビット保持手段による信号保
持作用を安定化させるので、シリアル供給手段が保持さ
れたデータビット信号をシリアルバス線に供給する際に
生じるかもしれない保持されたデータビット信号の変更
が防がれる。さらに、この発明における半導体メモリ装
置では、各複数のラッチ回路と各複数のスイッチングト
ランジスタとにそれぞれ接続する複数のノードに接続さ
れた、複数のキャパシタが、ラッチ回路のデータビット
信号保持作用を安定化させる。このため、データビット
信号がスイッチングトランジスタを介してシリアルバス
線に供給される際に生じる可能性がある、ラッチ回路に
保持されているデータビット信号の変更が防止される。
安定化手段が複数のデータビット保持手段による信号保
持作用を安定化させるので、シリアル供給手段が保持さ
れたデータビット信号をシリアルバス線に供給する際に
生じるかもしれない保持されたデータビット信号の変更
が防がれる。さらに、この発明における半導体メモリ装
置では、各複数のラッチ回路と各複数のスイッチングト
ランジスタとにそれぞれ接続する複数のノードに接続さ
れた、複数のキャパシタが、ラッチ回路のデータビット
信号保持作用を安定化させる。このため、データビット
信号がスイッチングトランジスタを介してシリアルバス
線に供給される際に生じる可能性がある、ラッチ回路に
保持されているデータビット信号の変更が防止される。
【0023】
【実施例】図1は、この発明の一実施例を示す改善され
たデータレジスタの回路図である。図1を参照して、図
3に示した従来の回路と比較して、その改善点は、それ
ぞれのデータ信号保持回路81ないし8nにおいて、ラ
ッチ線LLaおよびLLbにキャパシタCaおよびCb
がそれぞれ接続されていることである。キャパシタCa
は、ラッチ線LLaと接地との間に接続される。キャパ
シタCbは、ラッチ線LLbと接地との間に接続され
る。これらのキャパシタCaおよびCbは、トランジス
タQ2,Q5,Q6およびQ7により構成されたラッチ
回路によるラッチ作用を安定化させるのに貢献する。す
なわち、各キャパシタCaおよびCbは、それぞれのノ
ードNaおよびNbの電位により充電または放電され
る。たとえば、ノードNaが高レベルになったとき、キ
ャパシタCaが充電され、一方、ノードNbは低レベル
になっているので、キャパシタCbが放電されている。
したがって、高レベルのシリアル選択信号SS1に応答
してトランジスタQ1およびQ4がONしたとき、シリ
アルバス線SSb上の高電位の電荷はキャパシタCbに
より吸収される。言換えると、電流がシリアルバス線S
Bbから、トランジスタQ4,Q5,抵抗成分Rおよび
トランジスタQ3を介して接地に向かって流れないの
で、トランジスタQ5のソースにおけるノードNrの電
位が上昇するのが防がれる。したがって、ノードNbの
電位が上昇しないので、ラッチ回路が反転されるのが防
がれる。
たデータレジスタの回路図である。図1を参照して、図
3に示した従来の回路と比較して、その改善点は、それ
ぞれのデータ信号保持回路81ないし8nにおいて、ラ
ッチ線LLaおよびLLbにキャパシタCaおよびCb
がそれぞれ接続されていることである。キャパシタCa
は、ラッチ線LLaと接地との間に接続される。キャパ
シタCbは、ラッチ線LLbと接地との間に接続され
る。これらのキャパシタCaおよびCbは、トランジス
タQ2,Q5,Q6およびQ7により構成されたラッチ
回路によるラッチ作用を安定化させるのに貢献する。す
なわち、各キャパシタCaおよびCbは、それぞれのノ
ードNaおよびNbの電位により充電または放電され
る。たとえば、ノードNaが高レベルになったとき、キ
ャパシタCaが充電され、一方、ノードNbは低レベル
になっているので、キャパシタCbが放電されている。
したがって、高レベルのシリアル選択信号SS1に応答
してトランジスタQ1およびQ4がONしたとき、シリ
アルバス線SSb上の高電位の電荷はキャパシタCbに
より吸収される。言換えると、電流がシリアルバス線S
Bbから、トランジスタQ4,Q5,抵抗成分Rおよび
トランジスタQ3を介して接地に向かって流れないの
で、トランジスタQ5のソースにおけるノードNrの電
位が上昇するのが防がれる。したがって、ノードNbの
電位が上昇しないので、ラッチ回路が反転されるのが防
がれる。
【0024】次に、キャパシタCaおよびCbの容量値
について説明する。キャパシタCaおよびCbは、前述
のようにラッチ回路によるラッチ作用を安定化させるの
に貢献する。各キャパシタCaおよびCbの容量値は、
好ましくは、各シリアルバス線SBaおよびSBbが接
地に対して有している浮遊容量の値とほぼ同じ値に設定
される。キャパシタCaおよびCbの容量値を大きく設
定すればするほど、ラッチ作用は安定化されるが、ラッ
チされたデータ信号を反転させるのに要する時間がそれ
につれて増加する。このことは、シリアルメモリの読出
速度が低下されることを意味する。したがって、シリア
ルメモリにおいて要求される動作速度およびラッチ回路
の反転駆動能力を考慮して、キャパシタCaおよびCb
の許容可能な最大値が決定されることになる。
について説明する。キャパシタCaおよびCbは、前述
のようにラッチ回路によるラッチ作用を安定化させるの
に貢献する。各キャパシタCaおよびCbの容量値は、
好ましくは、各シリアルバス線SBaおよびSBbが接
地に対して有している浮遊容量の値とほぼ同じ値に設定
される。キャパシタCaおよびCbの容量値を大きく設
定すればするほど、ラッチ作用は安定化されるが、ラッ
チされたデータ信号を反転させるのに要する時間がそれ
につれて増加する。このことは、シリアルメモリの読出
速度が低下されることを意味する。したがって、シリア
ルメモリにおいて要求される動作速度およびラッチ回路
の反転駆動能力を考慮して、キャパシタCaおよびCb
の許容可能な最大値が決定されることになる。
【0025】このように、シリアルデジスタ内の各デー
タ信号保持回路81ないし8nにおいて、各ラッチ線L
LaおよびLLbにキャパシタCaおよびCbを接続し
たので、ラッチ回路によるラッチ作用が安定化される。
言換えると、トランジスタQ1およびQ4が高レベルの
シリアル選択信号SS1に応答してONしたとき、ラッ
チ回路が誤って反転されるのが防がれる。その結果、正
確なデータ信号がトランジスタQ1およびQ4を介して
シリアルバス線対SBaおよびSBbに与えられるの
で、読出誤りの発生が防がれる。
タ信号保持回路81ないし8nにおいて、各ラッチ線L
LaおよびLLbにキャパシタCaおよびCbを接続し
たので、ラッチ回路によるラッチ作用が安定化される。
言換えると、トランジスタQ1およびQ4が高レベルの
シリアル選択信号SS1に応答してONしたとき、ラッ
チ回路が誤って反転されるのが防がれる。その結果、正
確なデータ信号がトランジスタQ1およびQ4を介して
シリアルバス線対SBaおよびSBbに与えられるの
で、読出誤りの発生が防がれる。
【0026】上記の説明では、一例としてフィールドメ
モリにおいてこの発明が適用される場合について説明し
たが、前述のように、シリアルアクセス可能な他の半導
体メモリ、すなわちビデオRAMおよびFIFOメモリ
にもこの発明を適用することができる。言換えると、一
般に、ストアされたデータ信号をシリアルに読出すため
のデータレジスタ、すなわちラッチ回路を有する半導体
メモリに、この発明を広く適用できることが指摘され
る。
モリにおいてこの発明が適用される場合について説明し
たが、前述のように、シリアルアクセス可能な他の半導
体メモリ、すなわちビデオRAMおよびFIFOメモリ
にもこの発明を適用することができる。言換えると、一
般に、ストアされたデータ信号をシリアルに読出すため
のデータレジスタ、すなわちラッチ回路を有する半導体
メモリに、この発明を広く適用できることが指摘され
る。
【0027】
【発明の効果】以上のように、この発明によれば、複数
のデータビット保持手段による信号保持作用を安定化さ
せる保持安定化手段を設けたので、読出誤りが生じない
シリアルアクセス可能な半導体メモリ装置が得られた。
さらに、この発明によれば、ラッチ回路により保持され
ているデータビット信号をスイッチングトランジスタを
介して、シリアルバス線に読出す際に、ラッチ回路のデ
ータラッチ機能がキャパシタにより安定化されているの
で、読出誤りが生じないシリアルアクセス可能な半導体
メモリ装置が得られた。
のデータビット保持手段による信号保持作用を安定化さ
せる保持安定化手段を設けたので、読出誤りが生じない
シリアルアクセス可能な半導体メモリ装置が得られた。
さらに、この発明によれば、ラッチ回路により保持され
ているデータビット信号をスイッチングトランジスタを
介して、シリアルバス線に読出す際に、ラッチ回路のデ
ータラッチ機能がキャパシタにより安定化されているの
で、読出誤りが生じないシリアルアクセス可能な半導体
メモリ装置が得られた。
【図1】この発明の一実施例を示す改善されたデータレ
ジスタの回路図である。
ジスタの回路図である。
【図2】この発明の背景を示すフィールドメモリのブロ
ック図である。
ック図である。
【図3】図2に示したデータレジスタの回路図である。
【図4】図3に示したラッチ回路の半導体基板上のレイ
アウト図である。
アウト図である。
【図5】図3に示したデータ信号保持回路の正常動作を
説明するための信号波形図である。
説明するための信号波形図である。
【図6】図3に示したデータ信号保持回路における誤動
作の発生を説明するための信号波形図である。
作の発生を説明するための信号波形図である。
4 データレジスタ 81 データ信号保持回路 Ca ラッチ安定用キャパシタ Cb ラッチ安定用キャパシタ R 抵抗成分
Claims (10)
- 【請求項1】 少なくとも1つの方向に配設された複数
のメモリセルを含むメモリセル列と、 前記メモリセル列に結合され、前記メモリセル列から読
出されたデータビット信号をそれぞれ保持する複数のデ
ータビット保持手段と、 前記複数のデータビット保持手段内に保持されたデータ
ビット信号を外部へシリアルに伝送するためのシリアル
バス線と、 外部的に与えられるクロック信号に応答して、外部へ出
力されるべきデータビット信号をシリアルに選択するシ
リアルセレクタ手段と、 前記シリアルセレクタ手段に応答して、前記複数のデー
タビット保持手段内に保持されたデータビット信号を前
記シリアルバス線にシリアルに供給するシリアル供給手
段と、 前記複数のデータビット保持手段に接続され、前記複数
のデータビット手段による信号保持作用を安定化させる
保持安定化手段と、 前記複数のメモリセルに接続され、メモリセルのデータ
を検出し、ビット線対の微小電位差を増幅する複数のセ
ンスアンプとを備え、 前記複数のデータビット保持手段は、前記複数のセンス
アンプからのデータビット信号を受けて所定のノードの
電位レベルとして前記データビット信号を保持し、 前記シリアル供給手段は、前記所定のノードと前記シリ
アルバス線との間に接続され、前記シリアルセレクタ手
段に応答して、前記所定のノードと前記シリアルバス線
との接続を開閉し、 前記保持安定化手段は、前記所定のノードに接続してい
る、半導体メモリ装置。 - 【請求項2】 前記シリアル供給手段は、前記シリアル
選択手段に応答して、前記複数のデータビット保持手段
と前記シリアルバス線との間を順次接続する複数のスイ
ッチング手段を含み、 前記各複数のデータビット保持手段は、対応する前記ス
イッチング手段の導通状態に応答して、保持されたデー
タビット信号を変更する傾向を有し、 前記保持安定化手段は、前記複数のデータビット保持手
段にそれぞれ接続され、それぞれのデータビット保持手
段内に保持されたデータビット信号の変更を防ぐ複数の
変更防止手段を含む、請求項1記載の半導体メモリ装
置。 - 【請求項3】 前記各複数のメモリセルに接続され、そ
れぞれのメモリセルにストアされたデータビット信号を
伝送するめたの複数ビット線をさらに備え、 前記各複数のビット保持手段は、前記各複数のビット線
にそれぞれ結合された複数のラッチ回路手段を含む、請
求項2記載の半導体メモリ装置。 - 【請求項4】 前記複数の変更防止手段は、前記それぞ
れのラッチ回路手段に接続された複数の容量手段を含
み、 前記各容量手段は、容量値が前記半導体メモリ装置にお
いて要求される動作速度、およびそれぞれの前記ラッチ
回路手段の、前記シリアルバス線の放電による反転に対
する駆動能力により決定される、請求項3記載の半導体
メモリ装置。 - 【請求項5】 前記各ラッチ回路手段は、前記各複数の
ビット線に結合され、かつ互いにクロスカップルされた
2つのインバータ手段を含み、 前記各容量手段は、容量値が前記半導体メモリ装置にお
いて要求される動作速度、およびそれぞれの前記インバ
ータ手段の、前記シリアルバス線の放電による反転に対
する駆動能力により決定される、請求項4記載の半導体
メモリ装置。 - 【請求項6】 前記半導体メモリ装置は、フィールドメ
モリ装置を含む、請求項1記載の半導体メモリ装置。 - 【請求項7】 記憶されたデータビット信号をシリアル
に読出すことが可能な半導体メモリ装置であって、 少なくとも1つの方向に配設された複数のメモリセルを
含むメモリセル列と、 前記複数のメモリセルにそれぞれ接続された複数のビッ
ト線と、 前記複数のビット線にそれぞれ接続され、読出動作にお
いて、前記複数のメモリセルからそれぞれのビット線に
与えられたデータビット信号をそれぞれラッチする複数
のラッチ回路と、 前記複数のラッチ回路内にラッチされたデータビット信
号を外部へシリアルに伝送するためのシリアルバス線
と、 外部的に与えられるクロック信号に応答して、外部へ読
出されるべきデータビット信号をシリアルに選択するシ
リアルセレクタ回路と、 前記複数のラッチ回路と前記シリアルバス線との間に接
続され、前記シリアルセレクタ回路から発生される出力
信号に応答して、順次に導通状態となる複数のスイッチ
ングトランジスタとを備え、 前記複数のラッチ回路は、前記複数のスイッチングトラ
ンジスタの導通状態に応答して、前記シリアルバス線上
の電位により、ラッチされた信号を変更する傾向を有
し、 前記各複数のラッチ回路と前記各複数のスイッチングト
ランジスタとをそれぞれ接続する複数の接続ノードに接
続された、複数のキャパシタをさらに備え、前記複数の
キャパシタは、前記複数のラッチ回路内にラッチされた
信号が、前記複数のスイッチングトランジスタの導通状
態に応答して変更されるのを防止する、半導体メモリ装
置。 - 【請求項8】 前記半導体メモリ装置は、フィールドメ
モリ装置を含む、請求項7記載の半導体メモリ装置。 - 【請求項9】 前記複数のメモリセルに接続され、メモ
リセルのデータを検出し、ビット線対の電位差を増幅す
る複数のセンスアンプをさらに備え、 前記複数のラッチ回路は、前記複数のセンスアンプから
のデータビット信号を受けて、前記データビット信号を
前記複数の接続ノードの電位としてラッチし、 前記複数のスイッチングトランジスタは、前記接続ノー
ドと前記シリアルバス線との間に接続され、前記シリア
ルセレクタ回路に応答して前記接続ノードと前記シリア
ルバス線との接続を開閉し、 前記複数のキャパシタは、前記接続ノードに接続され、
前記スイッチングトランジスタが活性化すると前記シリ
アルバス線の放電により、前記ラッチ回路に蓄えられて
いるラッチ信号が変更されることを防止する、請求項7
記載の半導体メモリ装置。 - 【請求項10】 記憶されたデータビット信号をシリア
ルに読出すことが可能な半導体メモリ装置であって、 少なくとも1つの方向に配設された複数のメモリセルを
含むメモリセル列と、 前記各複数のメモリセルにそれぞれ接続された複数のビ
ット線と、 前記各複数のビット線にそれぞれ接続され、読出動作に
おいて前記複数のメモリセルからそれぞれのビット線に
与えられたデータビット信号をそれぞれラッチする複数
のラッチ回路と、 前記複数のラッチ回路内にラッチされたデータビット信
号を外部へシリアルに伝送するためのシリアルバス線
と、 外部から与えられるクロック信号に応答して、外部へ読
出されるべきデータビット信号をシリアルに選択するシ
リアルセレクタ回路と、 前記複数のラッチ回路とシリアルバス線との間に接続さ
れ、前記シリアルセレクタ回路から発生される出力信号
に応答して、順次に導通状態となる複数のスイッチング
トランジスタとを備え、 前記複数のラッチ回路は、前記複数のスイッチングトラ
ンジスタの導通状態に応答して、前記シリアルバス線上
の電位により、ラッチされた信号を変更する傾向を有
し、 前記各複数のラッチ回路と前記各複数のスイッチングト
ランジスタとをそれぞれ接続する複数の接続ノードに接
続され、前記スイッチングトランジスタが活性化する
と、前記複数のラッチ回路のうちの特定の1つを介した
前記シリアルバス線の放電に応じて、前記特定のラッチ
回路に蓄えられている特定のラッチ信号が変更されるこ
とを防止する、複数の容量手段をさらに備える、半導体
メモリ装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3000237A JP2715004B2 (ja) | 1991-01-07 | 1991-01-07 | 半導体メモリ装置 |
US07/765,764 US5367486A (en) | 1991-01-07 | 1991-09-26 | Semiconductor memory device capable of correctly and serially reading stored data signals |
KR1019910020615A KR950006335B1 (ko) | 1991-01-07 | 1991-11-19 | 반도체 메모리장치 |
DE4140844A DE4140844A1 (de) | 1991-01-07 | 1991-12-11 | Halbleiterspeichervorrichtung fuer das korrekte serielle auslesen von gespeicherten datensignalen |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3000237A JP2715004B2 (ja) | 1991-01-07 | 1991-01-07 | 半導体メモリ装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04251496A JPH04251496A (ja) | 1992-09-07 |
JP2715004B2 true JP2715004B2 (ja) | 1998-02-16 |
Family
ID=11468365
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3000237A Expired - Lifetime JP2715004B2 (ja) | 1991-01-07 | 1991-01-07 | 半導体メモリ装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5367486A (ja) |
JP (1) | JP2715004B2 (ja) |
KR (1) | KR950006335B1 (ja) |
DE (1) | DE4140844A1 (ja) |
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