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JP2683395B2 - ステロイド誘導体 - Google Patents

ステロイド誘導体

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JP2683395B2
JP2683395B2 JP63329177A JP32917788A JP2683395B2 JP 2683395 B2 JP2683395 B2 JP 2683395B2 JP 63329177 A JP63329177 A JP 63329177A JP 32917788 A JP32917788 A JP 32917788A JP 2683395 B2 JP2683395 B2 JP 2683395B2
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JP
Japan
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methyl
thp
methylene
diene
diol
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JP63329177A
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陽二 橘
信二 横山
政弘 辻
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Nisshin Seifun Group Inc
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Nisshin Seifun Group Inc
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Publication date
Application filed by Nisshin Seifun Group Inc filed Critical Nisshin Seifun Group Inc
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    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

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  • Steroid Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、式(I) (式中、R1は水素原子またはOR2を表わし、R2は水素原
子または保護基を表わし、R4は水素原子または保護基を
表わす) で示される23−フェニルスルホニル−コレスタ−5,7−
ジエン−1α,3β,25−トリオール誘導体、または23−
フェニルスルホニル−コレスタ−5,7−ジエン−3β,25
−ジオール誘導体に関する。
上記の式(I)で示される化合物からフェニルスルホ
ニル基を還元的に脱離するか、または必要な場合に、こ
のフェニルスルホニル基を還元的に脱離するのに先立ち
または脱離のあとで、保護基を脱離することによって得
られる式(IV) (式中、R1は水素原子またはOR2を表わし、R2は水素原
子または保護基を表わし、R4は水素原子または保護基を
表わす) で示されるコレスタ−5,7−ジエン−1α,3β,25−トリ
オールもしくはそのヒドロキシ基が保護された誘導体、
またはコレスタ−5,7−ジエン−3β,25−ジオールもし
くはそのヒドロキシ基が保護された誘導体は強力なビタ
ミンD3活性を有する1α,25−ジヒドロキシビタミンD3
または25−ヒドロキシビタミンD3製造のための中間体と
して有用なステロイド誘導体である。
[従来の技術及びその問題点] ビタミンD3は、生理活性を発現する前に、まず、肝臓
において25位の炭素がヒドロキシル化されて25−ヒドロ
キシビタミンD3になり、次いで腎臓において1位の炭素
がヒドロキシル化されて1α,25−ジヒドロキシビタミ
ンD3に代謝されることが知られている。1α,25−ジヒ
ドロキシビタミンD3は、小腸、腎臓ならびに骨などの標
的器官に運ばれて、例えば、小腸では、粘膜上皮細胞に
作用してカルシウム、リン酸の吸収を促し、腎臓では、
尿細管上皮細胞に作用してカルシウム、リン酸の再吸収
を促進し、そして、骨では、骨塩の動員を促進する作用
を有する、活性型ビタミンD3の中でも、最も生理活性が
高く、例えば、オステオポローシス(骨粗鬆症)等の治
療に広く用いられている。
一般に、1α,25−ジヒドロキシビタミンD3、または2
5−ヒドロキシビタミンD3は、その前駆体化合物である
上記化合物コレスタ−5,7−ジエン−1α,3β,−25−
トリオールまたはコレスタ−5,7−ジエン−3β,25−ジ
オールの紫外線照射による開環反応と引き続く異性化反
応によって製造されており、従って、上記化合物を効率
よく製造する方法は、工業的に優れた1α,25−ジヒド
ロキシビタミンD3または25−ヒドロキシビタミンD3の製
造法を提供するものということができる。
従来、コレスタ−5,7−ジエン−1α,3β,25−トリオ
ールおよびコレスタ−5,7−ジエン−3β,25−ジオール
の製造法としては、1α,25−ジヒドロキシコレステロ
ールまたは25−ヒドロキシコレステロールを出発原料と
して用いる方法(「T.Kametani,Med.Res.Rev.,,147〜
171(1987)」中の文献参照)等がある。
しかし、上記の方法では、目的化合物の5,7−ジエン
の他に、その異性体である4,6−ジエンが多量に副成す
るので、結果的に収率が低くなり、また、その分離も困
難であるため、この方法は、工業的方法として優れた方
法とはいえない。
そこで本発明者らは、上記問題点を回避し、コレスタ
−5,7−ジエン−1α,3β,25−トリオールおよびコレス
タ−5,7−ジエン−3β,25−ジオールを得る新規な製造
法を提供すべく研究した結果、23,24−ジノルコラ−5,7
−ジエン−1α,3β,22−トリオール誘導体および23,24
−ジノルコラ−5,7−ジエン−3β,22−ジオール誘導体
をそれぞれ、出発原料とし、新規な中間体を経由するこ
とによって上記問題点を解決しうることを見出して本発
明を完成したものである。
[問題点を解決するための手段] すなわち、本発明は 次式: (式中、R1は水素原子またはOR2を表わし、R2は水素原
子または保護基を表わし、R3は水酸基、ハロゲンまたは
OTs(Ts=トシレート)を表わす) で示される23,24−ジノルコラ−5,7−ジエン−1α,3
β,22−トリオール誘導体、または23,24−ジノルコラ−
5,7−ジエン−3β,22−ジオール誘導体と、次式: (式中、R4は水素原子または保護基を表わす) で示される2−メチル−4−フェニルスルホニル−2−
ブタノール誘導体とを塩基の存在下で縮合させると次
式: (式中、R1,R2,R4は上記定義の通りである) で示される23−フェニルスルホニル−コレスタ−5,7−
ジエン−1α,3β,25−トリオール誘導体、または23−
フェニルスルホニル−コレスタ−5,7−ジエン−3β,25
−ジオール誘導体が生成されること、および上記の式
(I)で示される化合物からフェニルスルホニル基を還
元的に脱離するか、または必要な場合にこのフェニルス
ルホニル基を還元的に脱離するのに先立ちまたは脱離の
あとで保護基を脱離することによって、強力なビタミン
D3活性を有する1α,25−ジヒドロキシビタミンD3又は2
5−ヒドロキシビタミンD3製造のための有用なステロイ
ド誘導体である式(IV) (式中、R1,R2およびR4は上記定義の通りである) で示されるコレスタ−5,7−ジエン−1α,3β,25−トリ
オールもしくはそのヒドロキシ基が保護された誘導体、
またはコレスタ−5,7−ジエン−3β,25−ジオールもし
くはそのヒドロキシ基が保護された誘導体が製造されう
るという知見に基づくものである。
従って本発明は、上記した式(I)で示される新規な
化合物である23−フェニルスルホニル−コレスタ−5,7
−ジエン−1α,3β,25−トリオール誘導体、または23
−フェニルスルホニル−コレスタ−5,7−ジエン−3β,
25−ジオール誘導体、並びにこの化合物を経由してコレ
スタ−5,7−ジエン−1α,3β,25−トリオールもしくは
そのヒドロキシ基が保護された誘導体、またはコレスタ
−5,7−ジエン−3β,25−ジオールもしくはそのヒドロ
キシ基が保護された誘導体を製造するための方法に関す
るものである。
本発明の式(I)の化合物を合成するための式(II)
で示される23,24−ジノルコラ−5,7−ジエン−1α,3
β,22−トリオール誘導体および23,24−ジノルコラ−5,
7−ジエン−3β−22−ジオール誘導体は、それぞれ下
記スキームI,IIおよびIIIに示される合成経路によって
容易に得ることができる。
すなわち、23,24−ジノルコラ−5,7−ジエン−1α,3
β,22−トリオール誘導体は、1α−アセトキシエルゴ
ステリルアセテート(Y.Tachibana,Bull.Chem.Soc.Jp
n.,61,3915(1988))の4−フェニル−1,2,4−トリア
ゾンDiels−Alder付加体をオゾン分解して得られる22−
位の炭素がアルデヒドである4−フェニル−1,2,4−ト
リアゾリン付加体(V)を、NaBH4で還元して22位をア
ルコールとし〔化合物(VI)〕、次いで、そのヒドロキ
シル基をt−ブチルジメチルシリル基で保護し〔化合物
(VII)〕、ジアセテートを加水分解して1,3−ジオール
体〔化合物(VIII)〕に導き、次いで、このジオールを
ベンジルエーテル、メトキシメチルエーテル、テトラヒ
ドロピラニルエーテル等のエーテル、好ましくはテトラ
ヒドロピラニルエーテルを用いて保護し(IX)、その
後、22−位のt−ブチルジメチルシリル基を、例えば、
テトラブチルアンモニムフルオライドのテトラヒドロフ
ラン溶液で除去して22−アルコール体〔化合物(X)〕
とし、この化合物のトリアゾリン基を、LiAlH4を用いて
除去して、5,7−ジエン−22−オール〔化合物(XI)〕
とし、次いで塩基性条件下で、p−トルエンスルホニル
クロライドで処理することにより、22位がトシル化され
たものが得られる。この化合物〔(II)、R3=OTs〕を
ジメチルホルムアミド中、LiBrで処理すると、22位が臭
素のものが、また、アセトン中、NaIで処理すると、22
位が沃素のものが得られる(スキームI)。
又、化合物(XI)は次のようにしても合成することが
できる。すなわち、1α−ヒドロキシエルゴステロール
の4−フェニル−1,2,4−トリアゾリン付加体をオゾン
分解して得られる22−オキソ−5α,8α−(4−フェニ
ル−1,2−ウラゾロ)−23,24−ジノル−6−コレン−1
α,3β−ジオール(XII)の水酸基を例えばテトラヒド
ロピラニルエーテルとして保護した化合物(XIII)をLi
AlH4等で還元することにより(XI)を得ることができる
(スキームII)。
一方、23,24−ジノルコラ−5,7−ジエン−3β−22−
ジオール誘導体は、22位の炭素がアルデヒドである4−
フェニル−1,2,4−トリアゾリン付加体(XIV)〔Barton
等,J,Chem.Soc.,C.1971 1968〕を、LiAlH4で還元し、生
成した23,24−ジノルコラ−5,7−ジエン−3β,22−ジ
オール(XV)の22位のヒドロキシル基を、p−トルエン
スルホニルクロライドで処理し、選択的に22位の水酸基
をトシル化した後3位水酸基を保護し、化合物IIを得
る。この化合物〔(II)、OR2=保護されたヒドロキシ
ル基、R3=OTs〕をジメチルホルムアミド中、LiBrで処
理すると、22位が臭素のものが、また、アセトン中、Na
Iで処理すると、22位が沃素のものが得られる(スキー
ムIII)。
本発明において用いられる2−メチル−4−フェニル
スルホニル−2−ブタノール誘導体(III)は、下記ス
キームIVに示される合成経路によって容易に得られる。
すなわち、塩基性条件下、メチルフェニルスルホンおよ
びイソブチレンオキシドを反応させ、生成したフェニル
スルホニルブタノール誘導体(XVI)のヒドロキシル基
を保護し得る〔化合物(III)〕。ここで用いられる保
護基としては、アセチル、プロピオニル、ブチリル等の
アシル基、t−ブチルジメチルシリル、トリメチルシリ
ル等のシリル基、または、テトラヒドロピラニル基等で
ある(スキームIV)。
本発明に従えば、23,24−ジノルコラ−5,7−ジエン−
1α,3β,22−トリオール誘導体、または、同3β,22−
ジオール誘導体(II)は、塩基の存在下、有機溶媒中
で、2−メチル−4−フェニルスルホニル−2−ブタノ
ール誘導体(III)と縮合させることにより、23位がス
ルホニル化された化合物(I)に変換せしめられる。こ
こで使用される塩基としては、ブチルリチウム、リチウ
ムジイソプロピルアミド、ナトリウムヒドリド等が用い
られ、一般に式(II)の化合物に対して、1〜5当量の
量で使用される。反応は、−50℃〜室温の範囲の温度で
行うことができる。
化合物(I)は、次いで、有機溶媒中で還元的に脱ス
ルホニル化を行うことにより、また、場合によっては、
さらに、ヒドロキシル基の保護基を脱離することによ
り、化合物(IV)に変換せしめる。ここで使用される還
元剤としては、Na−Hg(アマルガム)、トリブチルスズ
ヒドリド、LiAlH4等が挙げられるが、好ましくはNa−Hg
であり、化合物(I)に対して、1〜10当量の量で使用
される。反応は、一般に、−60℃〜100℃、好ましく
は、室温〜70℃の範囲の温度で行うことができる。
上記した化合物(I)についてのフェニルスルホニル
基の脱離と引き続くヒドロキシル基の保護基の脱離の工
程は場合によって順序を変更してヒドロキシル基の保護
基の脱離をはじめに行い、次いでフェニルスルホニル基
の脱離を行ってもよい。
このヒドロキシル基の保護基の脱離は公知の方法で行
いうる。例えばヒドロキシル基がアシル基で保護されて
いる場合には加水分解反応により、またヒドロキシル基
がエーテル基で保護されている場合には酸性条件で容易
にこれを脱離することができる。
[発明の効果] 以上説明したように、本発明によれば、新規の23,24
−ジノルコラ−5,7−ジエン−1α,3β,22−トリオール
誘導体または既知の23,24−ジノルコラ−5,7−ジエン−
3β,22−ジオール誘導体を出発物質として、新規な中
間体と新規な反応経路を用いるコレスタ−5,7−ジエン
−1α,3β,25−トリオールまたはコレスタ−5,7−ジエ
ン−3β,25−ジオールの新規な製造法が提供される。
本発明の製造法によれば、従来法に比較して、副生成
物もなく、純度が高く、しかも収率が高い。
以下、本発明を実施例により説明するが、これらは本
発明の範囲を限定するものではない。
[実 施 例] 実施例 1 2−メチル−4−フェニルスルホニルブタン−2−オー
ル(XVI)の合成 水素化ナトリウム(60%鉱物油分散)5.6gを乾いたフ
ラスコにとりアルゴン気流下で少量のペンタンで2回洗
浄し、残留するペンタンを減圧下で留去したものに、DM
SO70ml、メチルフェニルスルホン21.8gを加え70℃で90
分反応させた。反応液を0℃に冷却後、無水THF70mlで
希釈しイソブチレンオキシド14gと無水THF35mlの混合物
を滴下し室温で3時間反応させた。THFを減圧下留去し
た残留物を氷水中に注ぎベンゼンで抽出、ベンゼン層を
水洗、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、ベンゼンを留去し
たものをシリカゲルカラムクロマトグラフィー(25%Et
OAc−ヘキサン)で精製して2−メチル−4−フェニル
スルホニルブタン−2−オール(XVI)20.7g(収率48
%)を得た。
MS 230(M+)、213、200、143、77、43 NMR(重クロロホルム)δ 1.21(6H,s,2−メチル)、1.71(1H,s,OH),1.85(2
H,m,3−メチレン)、3.12(2H,m,4−メチレン)、7.54
〜7.94(5H,m,フェニル) 実施例 2 2−メチル−4−フェニルスルホニル−2−テトラヒド
ロピラニルオキシブタン(III,R4=THP)の合成 前実施例で合成した2−メチル−4−フェニルスルホ
ニルブタン−2−オール8.0gを乾燥塩化メチレン250ml
に溶解し、ジヒドロピラン4.4g、ピリジニウム・パラト
ルエンスルホネート880mgを加え室温で6時間反応させ
た。この塩化メチレン溶液を水で2回、飽和食塩水で洗
浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した
残留物を、ヘキサン−AcOEtより結晶化させ2−メチル
−4−フェニルスルホニル−2−テトラヒドロピラニル
オキシブタン(III,R4=THP)8.28g(収率75.6%)を得
た。
無色結晶m.p.80〜82℃ NMR(重クロロホルム)δ 1.18,1.21(6H,各々s,2−メチル)、1.12〜1.90(6H,
m,THP−メチレン)、1.90(2H,m,3−メチレン)、3.1〜
3.41(2H,m,4−メチレンおよび1H,m,THP−6−メチレ
ン)、3.88(1H,m,THP−6−メチレン)、4.58(1H,m,T
HP−1−メチレン)、7.52〜7.94(5H,m,フェニル) 実施例 3 22−ヒドロキシ−5α,8α−(4−フェニル−1,2−ウ
ラゾロ)23,24−ジノル−6−コレン−1α,3β−ジオ
ール・1,3−ジアセテート(V)の合成 水素化ホウ素化トリウム600mgを冷却したメタノール1
0mlに溶解し、22−オキソ−5α,8α−(4−フェニル
−1,2−ウラゾロ)−23,24−ジノル−6−コレン−1
α,3β−ジオール・1,3−ジアセテート(V)2gのクロ
ロホルム50mlに溶解し0℃に冷却したものに滴下し、そ
の温度で15分間反応させた。反応液を水洗し、無水硫酸
ナトリウムで乾燥し減圧下溶媒を留去し残留物として22
−アルコール体(VI)1.9gを得た。
針状結晶 融点196〜198℃(クロロホルム−ヘキサンよ
り結晶化) MS 370(M+−トリアゾリン−AcOH)、310、251、197、
141 NMR(CDCl3)δ 0.875(3H,s,18−メチル)、1.055(3H,s,19−メチ
ル)、1.069(3H,d,J=5.6Hz,21−メチル)、2.013(3
H,s,アセチル)、2.030(3H,s,アセチル)、3.21〜3.38
(2H,m,22−メチレン)、3.60(1H,m,9−メチレン)、
5.11(1H,m,1β−メチン)、5.91(1H,m,3α−メチ
ン)、6.34(1H,d,J=8.0Hz,6−H)、6.45(1H,d,J=
8.2Hz,7−H),7.26〜7.52(5H,m,フェニル) 元素分析 計算値(C34H43O7N3) C;67.42%,H;7.15%,N;6.94% 分析値C;66.94%,H;7.15%,N;6.82% 実施例 4 22−t−ブチルジメチルシリルオキシ−5α,8α−(4
−フェニル−1,2−ウラゾロ)−23,24−ジノル−6−コ
レン−1α,3β−ジオールジアセテート(VII)の合成 前実施例で合成した22−アルコール(VI)1.9gを乾燥
DMF20mlに溶解し、t−ブチルジメチルシリルクロライ
ド733mgとイミダゾール733mgを加え室温で30分間反応さ
せた。反応液に氷を入れ反応を停止させエーテルを加え
水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し減圧下溶媒を留去
した残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製
し22−t−ブチルジメチルシリルオキシ−5α,8α−
(4−フェニル−1,2−ウラゾロ)−23,24−ジノル−6
−コレン−1α,3β−ジオール−1,3−ジアセテート(V
II)2.1gを得た。
アモルファス MS 486(M+−トリアゾリン−AcOH)、424、368、310、
249、177、119、75、42 NMR(CDCl3)δ 0.03(6H,s,Si−メチル)、0.84(3H,s,18−メチ
ル)、0.89(9H,s,t−ブチル)、0.98(3H.d,J=6.1Hz,
21−メチル)、1.04(3H,s,19−メチル)、2.01(3H,s,
アセチル)、2.03(3H,s,アセチル)、3.28(2H,m,22−
メチレン)、3.58(1H,dd,J=3.12,10Hz,9−メチン)、
5.12(1H,m,1β−メチン)、5.88(1H,m,3α−メチ
ン)、6.32(1H,d,J=8.0Hz,6−H)、6.45(1H,d,J=
8.3Hz,7−H)、7.25〜7.52(5H,m,フェニル) 実施例 5 22−t−ブチルジメチルシリルオキシ−5α,8α−(4
−フェニル−1,2−ウラゾロ)−23,24−ジノル−6−コ
レン−1α,3β−ジオール(VIII)合成 前実施例で合成したシリルエーテルジアセテート(VI
I)1.9gにメタノール50mlと炭酸カリウム350mgを加え、
60℃で1時間反応させた。メタノールを減圧下留去しク
ロロホルムを加え水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
減圧下溶媒を留去し22−t−ブチルジメチルシリルオキ
シ−5α,8α−(4−フェニル−1,2−ウラゾロ)−23,
24−ジノル−6−コレン−1α,3β−ジオール(VIII)
1.8gを得た。
針状結晶 融点222〜224℃(メタノール−ベンゼンより
結晶化) MS 460(M+−トリアゾリン)、442、424、402、330、3
28、310、197、119、75 NMR(CDCl3)δ 0.03(6H,s,Si−メチル)、0.82,0.83(6H,各々s,18
−メチルおよび19−メチル)、0.89(9H,s,t−ブチ
ル)、1.01(3H,d,J=6.0,21−メチル)、3.05(1H,dd,
22−メチン)、3.61(1H,dd,9−メチン)、3.69(1H,b
r,1β−メチン)、4.80(1H,m,3β−メチン)、6.18(1
H,d,J=8.3Hz,6−H)、6.35(1H,d,J=8.3Hz,7−
H)、7.23〜7.39(5H,m,フェニル) 実施例 6 22−t−ブチルジメチルシリルオキシ−5α,8α−(4
−フェニル−1,2−ウラゾロ)−1α,3β−ビス(テト
ラヒドロピラニルオキシ)−23,24−ジノル−6−コレ
ン(IX)の合成 前実施例で合成したシリルジオール体(VIII)1.8gに
塩化メチレン20mlに溶解しジヒドロピラン350mgとPPTS7
0mgを加え還流下で4時間反応させた。冷却後塩化メチ
レン溶液を水洗、無水硫化ナトリウムで乾燥、減圧下溶
媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーで精製し22−t−ブチルジメチルシリルオキシ−5
α,8α−(4−フェニル−1,2−ウラゾロ)−1α,3β
−ビス(テオラヒドロピラニルオキシ)−23,24−ジノ
ル−6−コレン(IX)2.3gを得た。
MS 442(M+−トリアゾリン−2THP−H2O)、425、402、
374、316、310、292、265、177、119、85 NMR(CDCl3)δ 0.03(6H,s,Si−メチル)、0.81(3H,s,18−メチ
ル)、0.87(9H,s,t−ブチル)、0.99(6H,21−メチル
および19−メチル)、3.15〜3.92(8H,m,22−メチレン,
THP−メチレン,1β−メチン、9−メチン)、4.77,4,85
(2H,THP−メチン)、4.95(1H,m,3α−H)、6.35(2
H,m,6,7−H)、7.2〜7.5(5H,m,フェニル) 実施例7 5α,8α−(4−フェニル−1,2−ウラゾロ)−1α,3
β−ビス(テトラヒドロピラニルオキシ)−23,24−ジ
ノル−6−コレン−22−オール(X)の合成 前実施例で合成したTHP−エーテル−シリルエーテル
(IX)(THP=テトラヒドロピラニル基)2.3gをTHF5ml
に溶解し、1.0Mテトラブチルアンモニウムフルオライド
−THF溶液5mlを加え室温で1時間反応させた。THFを減
圧下留去し酢酸エチルを加え水洗し、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥し減圧下溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィーで精製し、5α,8α−(4−フェニル−
1,2−ウラゾロ)−1α,3β−ビス(テトラヒドロピラ
ニルオキシ)−23,24−ジノル−6−コレン−22−オー
ル(X)1.9gを得た。
MS 514(M+−175)、430、412、327、271、177、119、
85 NMR(CDCl3)δ 0.85(3H,s,18−メチル)、0.98,1.062(6H,21−メチ
ルおよび19−メチル)、3.30〜3.70(6H,br,THP−メチ
レン9−メチン,1β−メチンおよび22−メチレン)、3.
90(2H,br,THP−メチレン)、4.79〜4.86(2H,THP−メ
チン)、4.90(1H,br,3α−H)、6.29,6.43(2H,m,6,7
−H)、7.2〜7.5(5H,m,フェニル) 実施例 8 1α,3β−ビス(テトラヒドロピラニルオキシ)−23,2
4−ジノル−5,7−コラジエン−22−オール(XI)の合成 LiAlH41.4gの無水TPF100mlの懸濁液に前実施例で合成
したTHPエーテル22−オール(X)1.4gの無水THF50ml溶
液を滴下し、THF還流下1時間反応させた。反応液を氷
冷下注意しながら水1.4ml、次いで10%−NaOH水溶液1.4
ml、水5.6mlを加えて1時間撹拌した。生じた沈澱をセ
ライトを通して別、液を減圧下留去、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、1α,3β−ビ
ス(テトラヒドロピラニルオキシ)−23,24−ジノル−
5,7−コラジエン−22−オール(XI)0.92gを得た。
NMR(CDCl3)δ 0.64,0.65(3H,各々s,18−メチル)、0.93,0.95(3H,
各々s,19−メチル)、1.07(2H,d,J=6.6Hz,21−メチ
ル)、3.38(1H,m,22−メチレン)、3.52〜3.60(2H,m,
THP−メチレン)、3.65(1H,m,22−メチレン)、3.75
(1H,m,1β−メチン)、3.89(2H,m,THP−メチレン)、
4.13(1H,m,3α−H)、4.65〜4.80(2H,m,THP−メチ
ン)、5.37,5.64(2H,m,6,7−H) 実施例 9 22−オキソ−5α,8α−(4−フェニル−1,2−ウラゾ
ロ)−1α,3β−ビス−(テトラヒドロピラニルオキ
シ)−23,24−ジノル−6−コレン(XIII)の合成 22−アルデヒド体(XII)65mgをジクロロメタン3mlに
溶解し、ジヒドロピラン54mgとピリジニウム・p−トル
エンスルホネート10mgを加え、室温で12時間反応させ
た。反応液を水、飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥後、溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーで精製し22−オキソ−5α,8α
−(4−フェニル−1,2−ウラゾロ)−1α,3β−ビス
(テトラヒドロピラニルオキシ)−23,24−ジノル−6
−コレン54mg(61%)を得た。1 H NMR(CDCl3)δ 4.67〜4.82(2H,m,THP−メチン)、3.70(1H,m,1−
H)、4.82(1H,m,3−H)、5.38,5,66(2H,m,6,7−
H)、9.65(1H,m,アルデヒド) 実施例 10 1α,3β−ビス(テトラヒドロピラニルオキシ)−23,2
4−ジノル−5,7−コラジエン−22−オール(XI)の合成 水素化アルミニウムリチウム150mgと無水テトロヒド
ロフラン(THF10mlの混合物に前実施例で合成したTHP−
エチル−22−アルデヒド(XIII)50mgのTHF10mlの溶液
を滴下し、還流下1.5時間反応させた。反応液を冷却後
水で過剰のLiAlH4を分解後、10%NaOHを0.2ml加え室温
で1時間撹拌し過、液を濃縮し、残渣をシリカゲル
カラムクロマグラフィーで精製し、5,7−ジエン−22−
オール体24mg(XI)(63%)を得た。
このものは、実施例8で合成したものと一致した。
実施例 11 1α,3β−ビス(テトラヒドロピラニルオキシ)−23,2
4−ジノル−5,7−コラジエン−22−オール・p−トルエ
ンスルホネートの合成(II;R1=OR2=OTHP,R3=OTs) 前実施例で合成したTHP−エーテル−22−オール
(X)0.8gをピリジン10mlに溶解し、塩化p−トルエン
スルホニル0.6gを加え室温で1時間反応させた。反応液
を氷水中に注ぎ過剰の塩化パラトルエンスルホニルを分
解後、エーテルで抽出、希塩酸、炭酸水素ナトリウム水
溶液、飽和食塩水で抽出、無水硫酸ナトリウムで乾燥
後、溶媒を留去した残渣をシリカゲルクロマトグラフィ
ーで精製し、1α,3β−ビス(テトラヒドロピラニルオ
キシ)−23,24−ジノル−5,7−コラジエン−22−オール
・p−トルエンスルホネート(II;R1=OR2=OTHP,R3=O
Ts)1.0gを得た。
アモルファス NMR(CDCl3)δ 0.58(3H,s,18−メチル)、0.91,0.93(3H,各々s,19
−メチル)、1.01(3H,d,J=6.6HZ,21−メチル)、2.25
(3H,s,トシル−メチル)、3.4〜3.6(2H,br,THP−メチ
レン)、3.75〜4.05(5H,br,1β−H,22−メチレンおよ
びTHP−メチレン)、4.15(1H,m,3α−H)、4.68〜4.8
0(2H,br,THP−メチン)、5.35,5.63(2H,br,6,7−
H)、7.24(2H,d,J=8.2Hz,アリール)、7.79(2H,d,J
=8.0Hz,アリール) 実施例 12 22−ヨード−1α,3β−ビス(テトラヒドロピラニルオ
キシ)−23,24−ジノル−5,7−コラジエンの合成(II;R
1=OR2=OTHP,R3=I) 前実施例で合成したTHP−エーテル−トシレート(II,
R1=OR2=OTHP,R3=OTs)620mgをアセトン10mlに溶解
し、ヨウ化ナトリウム750mgを加えアセトン還流下で1
時間反応させた。アセトンを減圧下留去しエーテルを加
え水洗、乾燥しエーテルを留去した残留物をシリカゲル
カラムで精製し22−ヨード−1α,3β−ビス(テトラヒ
ドロピラニルオキシ)−23,24−ジノル−5,7−コラジエ
ン(II;R1=OR2=OTHP,R3=I)570mgを得た。
アモルファス MS 624(M+)、540、522、504、437、395、368、173、
155、85 NMR(CDCl3)δ 0.67(3H,s,18−メチル)、0.92,0.95(3H,各々s,19
−メチル)、1.05(3H,d,J=5.4Hz,21−メチル)、3.23
〜3.40(2H,m,22−メチレン)、3.45〜3.67(2H,m,THP
−メチレン)、3.75(1H,br,1β−H)、3.80〜3.98(2
H,m,THP−メチレン)、4.12(1H,m,3α−H)、4.67〜
4.78(2H,br,THP−メチン)5.36,5.64(2H,br,6,7−
H) 実施例 13 23−フェニルスルホニル−1α,3β,25−トリス(テト
ラヒドロピラニルオキシ)−5,7−コレスタジエン
(I)(R1=OR2=OTHP,R4=THP)の合成 2−メチル−4−フェニルスルホニル−2−テトラヒ
ドロピラニルオキシブタン(III)910mgをアルゴン気流
下THF12mlに溶解し−20℃に冷却後、10%−n−ブチル
リチウムヘキサン溶液1.8mlを滴下しその温度で30分反
応させた。前実施例で合成したTHP−エーテル−ヨウ化
物570mg、THF4ml、HMPA0.5mlの混合物を加え、−20℃で
30分、0℃で1時間反応させた。反応液に飽和塩化アン
モニウムを加え、酢酸エチルに溶解、飽和食塩水で洗浄
後溶媒を留去、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで
精製し、23−フェニルスルホニル−1α,3β,25−トリ
ス(テトラヒドロピラニルオキシ)−5,7−コレスタジ
エン(I)700mgを得た。
アモルファス MS 706(M+−THP−H2O)、622、606、556、536、521、
464、397、377、337、251、197、143、109、85 NMR(CDCl3)δ 0.52〜0.75(3H,br,18−メチル)、0.92(3H,br,19−
メチル)、1.14〜1.26(6H,br,26,27−メチル)、1.33
(3H,br,12−メチル)、1.47(br,THP−メチレン)、3.
35〜3.50(3H,br,THP−メチレン)、3.76(1H,br,1β−
H)、3.80〜4.00(3H,br,THP−メチレン)、4.14(1H,
m,3β−H)、4.81(3H,br,THP−メチン)、5.35,5.62
(2H,br,6,7−H)、7.50〜7.97(5H,br,フェニル) 実施例 14 23−フェニルスルホニル−1α,3β,25−トリス(テト
ラヒドロピラニルオキシ)−5,7−コレスタジエン
(I)(R1=OR2=OTHP,R4=THP)の合成 2−メチル−4−フェニルスルホニル−2−テトラヒ
ドロピラニルオキシブタン(III)455mgをアルゴン気流
下THF4mlに溶解し−20℃に冷却後、10%−n−ブチルリ
チウムヘキサン溶液0.9mlを滴下しその温度で30分反応
させた。実施例9で合成したTHP−エーテル−トレシー
ト300mg、THF2ml、HMPA0.3mlの混合物を加え、−20℃で
30分、0℃で4時間反応させた。前実施例同様に処理
し、23−フェニルスルホニル−1α,3β,25−トリス
(テトラヒドロピラニルオキシ)−5,7−コレスタジエ
ン(I)288mgを得た。
実施例 15 1α,3β,25−トリス(テトラヒドロピラニルオキシ)
−5,7−コレスタジエンの合成 前実施例で合成した23−スルホニル−5,7−コレスタ
ジエンTHP−エーテル(I)700mgをNa2HPO4で飽和した
メタノール60mlに溶解し、5%−Na(Hg)8.0gを加え室
温で6時間撹拌した。生じた水銀を除きメタノールを減
圧下で留去しエーテルを加え、水、飽和食塩水で洗浄し
再び溶媒を留去した残留物をシリカゲルカラムで精製し
1α,3β,25−トリス(テトラヒドロピラニルオキシ)
−5,7−コレスタジエンを520mgを得た。
アモルファス MS 584(M+−THP)、566、500、481、397、382、379、
362、310、241、197、157、109、85 NMR(CDCl3)δ 0.61(3H,br,18−メチル)、0.93(3H,br,19−メチ
ル)、1.19(br,26,27−メチル)、1.23(br,21−メチ
ル)、3.46(3H,br,THP−メチレン)、3.74(1H,br,1β
−H)、3.91(3H,br,THP−メチレン)、4.12(1H,br,3
α−H)、4.69(3H,br,THP−メチン)、5.36,5.64(2
H,br,6,7−H) 実施例 16 5,7−コレスタジエン−1α,3β,25−トリオール(IV;R
1=OH)の合成 前実施例で合成したTHP−エーテル5,7−ジエン400mg
をエタノール6mlに溶解し、PPTS24mgを加え55℃で4時
間撹拌した。エーテルを加え、水、飽和食塩水で洗浄し
溶媒を留去した残留物をシリカゲルカラムで精製し、5,
7−コレスタジエン−1α,3β,25−トリオール(IV;R1
=OH)205mgを得た。
針状結晶 融点180〜183℃(エーテル−ヘキサンより結
晶化) NMR(CDCl3)δ 0.63(3H,s,18−メチル)、0.95(3H,s,19−メチ
ル)、0.96(3H,d,21−メチル)、1.22(6H,s,25−メチ
ル)、3.78(1H,m,1β−H)、4.07(1H,m,3α−H)、
5.39,5.72(2H,m,6,7−H) UV 282nm(ε=11,800,EtOH) 実施例 17 23,24−ジノル−5,7−コラジエン−3β,22−ジオール
(XV)の合成 LiAlH43gを無水THF150mlに懸濁させ22−オキソ−5
α,8α−(4−フェニル−1,2−ウラゾロ)−23,24−ジ
ノル−6−コレン−3β−オール・アセテート(XIV)
2.85gの無水THF50ml溶液を室温で滴下した。その後3時
間THF還流下反応させ、氷浴で冷却しながら水3mlを注意
しながら滴下し過剰のLiAlH4を分解し、さらに10%NaOH
3ml、水9mlを加え1時間撹拌し水酸化アルミニウムを固
化させ沈澱物を別、液を濃縮、残留物をクロロホル
ム−メタノールより結晶化して23,24−ジノル−5,7−コ
ルジエン−3β,22−ジオール(XV)1.27g(収率73%)
を得た。
融点 195.0〜198.5℃(THF−ヘキサン) MS 330(M+)315、312、297、271、211、197、143、9
1、54 NMR(重クロロホルム)δ 0.66(3H,s,18−メチル)、0.92(3H,s,19−メチ
ル)、1.10(3H,d,J=6,3Hz,21−メチル)、3.40(1H,
m,3α−H)、3.65(2H,m,22−メチレン)、5.40(1H,
m,6−H)、5.58(1H,m,7−H) 元素分析 計算値(C22H34O2) C;79.95%,H;10.37% 分析値 C;79.65%,H;10.40% 実施例 18 23,24−ジノル−5,7−コラジエン−3β,22−ジオール
・22−p−トルエンスルホネート(II;R1=R2=H,R3=O
Ts)の合成 前実施例で合成したジオール(XV)740mgをピリジン8
mlに溶解し塩化・p−トルエンスルホニル635mgを加え
室温で6時間反応させた。氷水中に反応液を注ぎクロロ
ホルムで抽出しクロロホルム層を水洗、乾燥後溶媒を留
去した残留物をシリカゲルカラム(EtOAc:ヘキサン:ク
ロロホルム3:50:50)にて精製し23,24−ジノル−5,7−
コラジエン−3β,22−ジオール・22−p−トルエンル
ホネート(II;R1=R2=H,R3=OTs)650mg(収率60%)
を得た。
無色針状結晶 融点141〜143℃(EtOAc−ヘキサン) MS 484(M+)466、451、426、312、279、197、155、9
1、54 NMR(重クロロホルム)δ 0.58(3H,s,18−メチル)、0.92(3H,s,19−メチ
ル)、1.01(3H,d,J=6.5Hz,21−メチル)、2.45(3H,
s,トシル−メチル)、3.64(1H,m,3α−H)、3.81(1
H,m,22−H)、3.97(1H,m,22−H)、5.38(1H,m,6−
H)、5.56(1H,m,7−H)、7.34(2H,d,J=8.4Hz,アリ
ール)、7.79(2H,d,J=8.4Hz,アリール) 実施例 19 3β−テトラヒドロピラニルオキシ−23,24−ジノル−
5,7−コラジエン−22−オール・p−トルエンスルホネ
ート(II;R1=H,R2=THP,R3=OTs)の合成 前実施例で合成したトシレート600mgを塩化メチレン9
mlに溶解し、ジヒドロピラン155mg、ピリジニウム・p
−トルエンスルホネート30mgを加え室温で4時間反応さ
せた。この塩化メチレン溶液を水で2回、飽和食塩水で
洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し減圧下溶媒を濃縮
した残留物をメタノールより結晶化させ3β−テタロヒ
ドロピラニルオキシ−23,24−ジノル−5,7−コラジエン
−22−オール・p−トルエンスルホネート(II;R1=H,R
2=THP,R3=OTs)470mg(収率66.8%)を得た。
無色針状結晶 融点147.3〜148.5℃(EtOAc−ヘキサ
ン) MS 568(M+)484、464、451、425、312、294、279、19
7、143、84、54 NMR(重クロロホルム)δ 0.58(3H,s,18−メチル)、0.92(3H,s,19−メチ
ル)、1.14(3H,d,J=6.6Hz,21−メチル)、2.45(3H,
s,トシル−メチル)、3.50(1H,m,THP−メチレン)、3.
64(1H,m,3α−H)、3.70(1H,m,THP−メチレン)、3.
82(1H,m,22−メチレン)、3.90(1H,m,22−メチレ
ン)、4.70(1H,m,THP2−メチン)、5.35(1H,m,6−
H)、5.55(1H,m,7−H)、7.34(2H,d,J=8.4Hz,アリ
ール)、7.79(2H,d,J=8.4Hz,アリール) 実施例 20 22−ブロモ−3β−テトラヒドロピラニルオキシ−5,7
−コラジエン(II;R1=H,R2=THP,R3=Br)の合成 実施例17で合成したTHP−トシレート470mgをDMF5mlに
溶解し炭酸リチウム58mg、臭化リチウム330mgを加え70
℃で1時間反応させ、反応液を冷却後氷水中に注ぎクロ
ロホルムで抽出し、水で2回、飽和食塩水で洗浄後、無
水硫酸ナトリウムで乾燥し減圧下溶媒を濃縮した残留物
をシリカゲルカラム(5%EtOAc−ヘキサン)にて精製
し22−ブロモ−3β−テトラヒドロピラニルオキシ−5,
7−コラジエン(II;R1=H,R2=THP,R3=Br)305mg(収
率77%)を得た。
針状結晶 145.3〜149.6℃(EtOAc) NMR(重クロロホルム)δ 0.64(3H,s,18−メチル)、0.94(3H,s,19−メチ
ル)、1.12(3H,d,J=6.4Hz,21−メチル)、3.36(dd,J
=5.9,9.8Hz,22−メチレン)、3.52(2H,m,22−メチレ
ンおよびTHP−メチレン)、3.63(1H,m,3α−H)、3.8
1(1H,m,THP−メチレン)、4.75(1H,m,THP−メチ
ン)、5.37(1H,m,6−H)、5.55(1H,m,7−H) 実施例 21 23−フェニルスルホニル−3β,25−ビス(テトラヒド
ロピラニルオキシ)−5,7−コレスタジエン(I;R1=H,R
2=R4=THP)の合成 アルゴン気流下、スルホン体(III,R4=THP)213mgを
無水THF1mlに溶解、−20℃に冷却しn−ブチルリチウム
10%−ヘキサン溶液(約1.6規定)0.41mlを滴下し、そ
のまま−20℃で1時間反応させ実施例18で合成したブロ
マイド65mg、HMPA0.1ml、THF0.5mlの混合物を滴下し、
−20℃で3時間反応させた。反応を停止させるため飽和
塩化アンモニウム溶液を加えクロロホルムで抽出しクロ
ロホルム層を水洗、乾燥後溶媒を留去した残留物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(10〜15%EtOAc−ヘ
キサン)にて精製した後、縮合体23−フェニルスルホニ
ル−3β,25−ビス(テトラヒドロピラニルオキシ)−
5,7−コレスタジエン(I;R1=H,R2=R4=THP)をこれ以
上精製することなく次の反応に用いた。
実施例 22 23−フェニルスルホニル−5,7−コレスタジエン−3β,
25−ジオール(I;R1=R2=R4=H)の合成 実施例21で得た23−スルホン誘導体200mgをエタノー
ル5mlに溶解してピリジニウム・p−トルエンスルホネ
ート16mgを加え50℃で3時間反応させた。反応液をクロ
ロホルムで希釈し水洗、無水硫酸ナトリウムで乾燥し減
圧下溶媒を濃縮した残留物をシリカゲルカラム(20〜25
%EtOAc−ヘキサン)にて精製し、23−フェニルスルホ
ニル−5,7−コレスタジエン−3β,25−ジオール(I;R1
=R2=R4=H)38mgを得た(縮合反応より51%)。
MS 540(M+)、507、482、410、381、340、253、211、
143、77、59 アモルファス NMR(重クロロホルム)δ 0.45(3H,s,18−メチル)、0.88(3H,d,J=6.1Hz,21
−メチル)、0.92(3H,s,19−メチル)、1.23,1.25(6
H,各々s,26,27−メチル)、3.45〜3.70(2H,m,23−メチ
ンおよび3α−H)、5.35(1H,m,6−H)、5.57(1H,
m,7−H)、7.54〜7.70(3H,m,フェニル)、7.91〜7.95
(2H,m,フェニル) 実施例 23 5,7−コレスタジエン−3β,25−ジオール(IV;R1
H)の合成 実施例22で合成したスルホン体38mgをリン酸一水素ナ
トリウムを飽和させたメタノール溶液15ml、5%−ナト
リウムアマルガム2.5gを加え35℃で4時間撹拌させ、水
銀を分離しメタノール溶液を水中に注ぎクロロホルムで
2回抽出しクロロホルム層を水洗、乾燥後溶媒を留去し
た残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(25%
EtOAc−ヘキサン)にて精製し、5,7−コレスタジエン−
3β,25−ジオール(IV;R1=H)22mgを得た。クロロホ
ルム−ヘキサンより結晶化、14mgの無色針状結晶(融点
182.2〜183.6℃)を得た。
NMR(重メタノール)δ 0.62(3H,s,18−メチル)、0.95(3H,s,19−メチ
ル)、0.96(3H,d,21−メチル)、1.22(6H,s,26,27−
メチル)、3.64(1H,m,3α−H)、5.40(1H,m,6−
H)、5.58(1H,m,7−H) UV(1mg/100ml EtOH中) 293nm ε=6980 281nm ε=11868 271nm ε=11296

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】次式: (式中、R1は水素原子またはOR2を表わし、R2は水素原
    子または保護基を表わし、R4は水素原子または保護基を
    表わす) で示される23−フェニルスルホニル−コレスタ−5,7−
    ジエン−1α,3β,25−トリオール誘導体、または23−
    フェニルスルホニル−コレスタ−5,7−ジエン−3β,25
    −ジオール誘導体。
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