JP2637202B2 - ３−トリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリド類の製造方法 - Google Patents
３−トリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリド類の製造方法Info
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は式（II） ｛式（II）中、ＸおよびＹはそれぞれ水素原子またはハ
ロゲン原子を表す。｝ で示される、３−トリフルオロメチルベンゼンスルホニ
ルクロリド類の製造方法に関する。
ロゲン原子を表す。｝ で示される、３−トリフルオロメチルベンゼンスルホニ
ルクロリド類の製造方法に関する。
３−トリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリド
類は医薬、農薬あるいは染料等の中間原料として有用な
化合物である。
類は医薬、農薬あるいは染料等の中間原料として有用な
化合物である。
従来、ベンゼン環にトリフルオロメチル基を有する化
合物のクロロスルホニル化反応は、クロロスルホン酸の
みではトリフルオロメチル基が分解する為、収率が低く
なることが知られている。
合物のクロロスルホニル化反応は、クロロスルホン酸の
みではトリフルオロメチル基が分解する為、収率が低く
なることが知られている。
その為、通常、トリフルオロメチル基を有するベンゾ
トリフルオリド類のクロロスルホン化反応に於いては、
例えば英国特許第1258557号公報では発煙硫酸存在下、
これとクロロスルホン酸との混合液中に原料のベンゾト
リフルオリド類を滴下しながら−50℃〜80℃で反応させ
た後に、多量の氷中に反応液を滴下し、過剰のクロロス
ルホン酸を加水分解した後に有機溶媒で抽出を行う方法
が開示されている。
トリフルオリド類のクロロスルホン化反応に於いては、
例えば英国特許第1258557号公報では発煙硫酸存在下、
これとクロロスルホン酸との混合液中に原料のベンゾト
リフルオリド類を滴下しながら−50℃〜80℃で反応させ
た後に、多量の氷中に反応液を滴下し、過剰のクロロス
ルホン酸を加水分解した後に有機溶媒で抽出を行う方法
が開示されている。
本発明者らは該公報に開示された実施例の方法に従い
追試した結果、目的生成物の４−クロロ−３−トリフル
オロメチルベンゼンスルホニクロリドは60〜70％の低収
率でしか得られず、さらにジフェニルスルホン類の副生
物が約７％と多量に含まれており精製工程も必要である
ことがわかった。
追試した結果、目的生成物の４−クロロ−３−トリフル
オロメチルベンゼンスルホニクロリドは60〜70％の低収
率でしか得られず、さらにジフェニルスルホン類の副生
物が約７％と多量に含まれており精製工程も必要である
ことがわかった。
その為に本発明者らは、改良方法としてベンゾトリフ
ルオリド類のスルホン化では発煙硫酸のみを用いて特定
の温度範囲でスルホン化を行い、引続きクロロスルホン
酸を添加して特定温度範囲で塩素化を行い、反応式
（Ａ） ｛反応式（Ａ）中、ＸおよびＹはそれぞれ水素原子また
はハロゲン原子を表す。｝ で示される平衡反応を有利に進め、ジフェニルスルホン
類の副生を抑制し、目的生成物を高純度で得る方法を先
に出願した（特開昭63−104952号）。
ルオリド類のスルホン化では発煙硫酸のみを用いて特定
の温度範囲でスルホン化を行い、引続きクロロスルホン
酸を添加して特定温度範囲で塩素化を行い、反応式
（Ａ） ｛反応式（Ａ）中、ＸおよびＹはそれぞれ水素原子また
はハロゲン原子を表す。｝ で示される平衡反応を有利に進め、ジフェニルスルホン
類の副生を抑制し、目的生成物を高純度で得る方法を先
に出願した（特開昭63−104952号）。
しかしながら該方法では、目的生成物のトリフルオロ
メチルベンゼンスルホニルクロリド類を得るために該英
国特許公報同様、後処理として、反応液を氷中に添加す
る為、過剰量のクロロスルホン酸の加水分解及び発煙硫
酸の希釈熱により、目的生成物の分解が生じ、収率が低
下するという技術的欠点があった。
メチルベンゼンスルホニルクロリド類を得るために該英
国特許公報同様、後処理として、反応液を氷中に添加す
る為、過剰量のクロロスルホン酸の加水分解及び発煙硫
酸の希釈熱により、目的生成物の分解が生じ、収率が低
下するという技術的欠点があった。
本発明はトリフルオロメチルゼンスルホニルクロリド
類の収率の向上を目的とするものである。
類の収率の向上を目的とするものである。
本発明者らは前記英国特許第1258557号および特開昭6
3−104952号記載の反応液を氷中排出後、抽出する後処
理方法ではなく、前記、反応式（Ａ）に示されるような
平衡反応を利用し、ハロゲノベンゾトリフルオロスルホ
ニルクロリド類の工業的製造方法を鋭意検討した。
3−104952号記載の反応液を氷中排出後、抽出する後処
理方法ではなく、前記、反応式（Ａ）に示されるような
平衡反応を利用し、ハロゲノベンゾトリフルオロスルホ
ニルクロリド類の工業的製造方法を鋭意検討した。
その結果、ベンゾトリフルオリド類を発煙硫酸でスル
ホン化を行った後、クロロスルホン酸で塩素化を行う方
法では、前記、反応式（Ａ）で示される平衡反応は約９
割が右側に傾いており、この反応液を氷中添加する際
に、その５〜20％がスルホン酸に分解し収率低下を招い
ていることを見出した。
ホン化を行った後、クロロスルホン酸で塩素化を行う方
法では、前記、反応式（Ａ）で示される平衡反応は約９
割が右側に傾いており、この反応液を氷中添加する際
に、その５〜20％がスルホン酸に分解し収率低下を招い
ていることを見出した。
また、ジフェニルスルホン類の副生成物は、発煙硫酸
とクロロスルホン酸の反応混合液には容易に溶解するが
不活性溶媒等に対する溶解度は小さいことも見出した。
さらに、ベンゾトリフルオリド類をクロロスルホン化反
応させた反応液中より、逐次、不活性溶媒等で抽出を行
う事により、その都度、前記、反応式（Ａ）で示される
反応は右側へ平衡が傾き目的化合物が生成してくること
がわかった。本発明はこれらの知見に基づきなされたも
のである。
とクロロスルホン酸の反応混合液には容易に溶解するが
不活性溶媒等に対する溶解度は小さいことも見出した。
さらに、ベンゾトリフルオリド類をクロロスルホン化反
応させた反応液中より、逐次、不活性溶媒等で抽出を行
う事により、その都度、前記、反応式（Ａ）で示される
反応は右側へ平衡が傾き目的化合物が生成してくること
がわかった。本発明はこれらの知見に基づきなされたも
のである。
すなわち本発明は式（Ｉ） ｛式（Ｉ）中、ＸおよびＹはそれぞれ水素原子またはハ
ロゲン原子を表す。｝ で示されるベンゾトリフルオリド類を発煙硫酸、および
クロロスルホン酸と反応させ、式（II） ｛式（II）中、ＸおよびＹは前記式（Ｉ）と同じ意味で
ある。｝ で示される、３−トリフルオロメチルベンゼンスルホニ
ルクロリド類を製造する方法に於て、該反応液に直接、
クロロスルホン酸に対し１重量倍以上の不活性溶媒を加
えて抽出することを特徴とする、３−トリフルオロメチ
ルベンゼンスルンホニルクロリド類の製造方法である。
ロゲン原子を表す。｝ で示されるベンゾトリフルオリド類を発煙硫酸、および
クロロスルホン酸と反応させ、式（II） ｛式（II）中、ＸおよびＹは前記式（Ｉ）と同じ意味で
ある。｝ で示される、３−トリフルオロメチルベンゼンスルホニ
ルクロリド類を製造する方法に於て、該反応液に直接、
クロロスルホン酸に対し１重量倍以上の不活性溶媒を加
えて抽出することを特徴とする、３−トリフルオロメチ
ルベンゼンスルンホニルクロリド類の製造方法である。
本発明の方法はベンゾトリフルオリド類に発煙硫酸お
よびクロロスルホン酸を添加しクロロスルホン化反応を
行い、反応溶液から直接不活性有機溶媒で繰り返し抽出
することにより前記、反応式（Ａ）で示される平衡反応
をその都度目的化合物生成の方向へと有利に進め、副生
成物の抽出、また目的化合物の分解も抑制でき高収率且
つ高純度で目的化合物を得ることができる。
よびクロロスルホン酸を添加しクロロスルホン化反応を
行い、反応溶液から直接不活性有機溶媒で繰り返し抽出
することにより前記、反応式（Ａ）で示される平衡反応
をその都度目的化合物生成の方向へと有利に進め、副生
成物の抽出、また目的化合物の分解も抑制でき高収率且
つ高純度で目的化合物を得ることができる。
本発明の一般的実施態様を示すと以下の通りである。
本発明に於ける、クロロスルホン化は次のいずれの方
法でも実施できる。
法でも実施できる。
例えば、ベンゾトリフルオリド類に対しSO3換算で1.0
〜2.0倍モルとなるように20〜80％濃度の発煙硫酸を反
応器に装入し、30〜70℃に温度を保ちながら、ベンゾト
リフルオリド類を0.5〜３時間かけて滴下したスルホン
化反応を行い、次に所定時間保温撹拌することにより得
られたスルホン化反応液に、ベンゾトリフルオリド類に
対し、２〜６倍モルのクロロスルホン酸を、反応温度20
〜60℃に維持して滴下装入し、同温度にて１〜３時間保
温撹拌して反応させる。
〜2.0倍モルとなるように20〜80％濃度の発煙硫酸を反
応器に装入し、30〜70℃に温度を保ちながら、ベンゾト
リフルオリド類を0.5〜３時間かけて滴下したスルホン
化反応を行い、次に所定時間保温撹拌することにより得
られたスルホン化反応液に、ベンゾトリフルオリド類に
対し、２〜６倍モルのクロロスルホン酸を、反応温度20
〜60℃に維持して滴下装入し、同温度にて１〜３時間保
温撹拌して反応させる。
あるいは、ベンゾトリフルオリド類に対しSO3換算で
1.0モル以上となるような発煙硫酸とベンゾトリフロリ
ド類に対して２倍モル以上のクロロスルホン酸の混合物
の中にベンゾトリフルオリド類を反応温度−50〜80℃で
滴下し、同温度で２〜15時間保温撹拌して反応させる。
1.0モル以上となるような発煙硫酸とベンゾトリフロリ
ド類に対して２倍モル以上のクロロスルホン酸の混合物
の中にベンゾトリフルオリド類を反応温度−50〜80℃で
滴下し、同温度で２〜15時間保温撹拌して反応させる。
このようにして得た、反応液中に不活性有機溶媒、好
ましくはハロゲン化炭化水素、または脂肪族炭化水素
を、反応に使用したクロロスルホン酸に対し、１〜10重
量倍、好ましくは２〜６重量倍添加し、温度を好ましく
は−10〜60℃に維持しながら、0.1時間〜３時間、好ま
しくは0.2〜１時間撹拌を行った後、0.1〜３時間、好ま
しくは0.5〜２時間静置した後、分液操作により、不活
性有機溶媒層を分離する。
ましくはハロゲン化炭化水素、または脂肪族炭化水素
を、反応に使用したクロロスルホン酸に対し、１〜10重
量倍、好ましくは２〜６重量倍添加し、温度を好ましく
は−10〜60℃に維持しながら、0.1時間〜３時間、好ま
しくは0.2〜１時間撹拌を行った後、0.1〜３時間、好ま
しくは0.5〜２時間静置した後、分液操作により、不活
性有機溶媒層を分離する。
この抽出操作を１〜８回、好ましくは２〜５回繰り返
し行う。
し行う。
本発明の方法に使用する抽出溶液としては、塩化メチ
レン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタ
ン、1,1,1−トリクロロエタン、1,1,2−トリクロロエタ
ン、1,1,2,2−テトラクロロエタン、2,2−ジクロロプロ
パン、2,3−ジクロロ−２−メチルプロパン等のハロゲ
ン化炭化水素、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、３−メ
チルペンタン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素を用いる
ことができるが、これらの溶媒に限定されるものではな
い。またこれらは一種あるいは二種以上を混合して使用
しても差支えない。
レン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタ
ン、1,1,1−トリクロロエタン、1,1,2−トリクロロエタ
ン、1,1,2,2−テトラクロロエタン、2,2−ジクロロプロ
パン、2,3−ジクロロ−２−メチルプロパン等のハロゲ
ン化炭化水素、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、３−メ
チルペンタン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素を用いる
ことができるが、これらの溶媒に限定されるものではな
い。またこれらは一種あるいは二種以上を混合して使用
しても差支えない。
抽出の際に用いる不活性溶媒の使用量は、クロロスル
ホン酸に対し、１重量倍未満では、不活性溶媒が反応液
と均一溶液になり、分液せず適当ではない。
ホン酸に対し、１重量倍未満では、不活性溶媒が反応液
と均一溶液になり、分液せず適当ではない。
また、抽出の際の温度は前記、反応式（Ａ）で示され
る反応が吸熱反応であるため、−10℃より低いと収率の
低下を招き、また60℃を超えると、過剰のクロロスルホ
ン酸によりさらにスルホン化反応を生じ、ジスルホニル
クロリドが副生する傾向となり、さらにはトリフルオロ
メチル基の分解も生じやすくなり、収率の低下を招くの
で好ましくない。
る反応が吸熱反応であるため、−10℃より低いと収率の
低下を招き、また60℃を超えると、過剰のクロロスルホ
ン酸によりさらにスルホン化反応を生じ、ジスルホニル
クロリドが副生する傾向となり、さらにはトリフルオロ
メチル基の分解も生じやすくなり、収率の低下を招くの
で好ましくない。
得られた抽出液は、少量の水で水洗し、必要に応じて
乾燥剤等で乾燥させたのち、減圧下有機溶媒を留去する
ことによって、目的生成物の３−トリフルオロベンゼン
スルホニルクロリド類が得られる。
乾燥剤等で乾燥させたのち、減圧下有機溶媒を留去する
ことによって、目的生成物の３−トリフルオロベンゼン
スルホニルクロリド類が得られる。
本発明の方法は、このようにして４−ブロモ−３−ト
リフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリド、２−ブ
ロモ−５−トリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロ
リド、４−クロロ−３−トリフルオロメチルベンゼンス
ルホニルクロリド、２−クロロ−５−トリフルオロメチ
ルベンゼンスルホニルクロリド、３−トリフルオロメチ
ルベンゼンスルホニルクロリドなどの製造方法に適用で
きるが、特に４−クロロ−３−トリフルオロメチルベン
ゼンスルホニルクロリド、２−クロロ−５−トリフルオ
ロメチルベンゼンスルホニルクロリド、３−トリフルオ
ロメチルベンゼンスルホニルクロリドの製造方法として
好ましい方法である。
リフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリド、２−ブ
ロモ−５−トリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロ
リド、４−クロロ−３−トリフルオロメチルベンゼンス
ルホニルクロリド、２−クロロ−５−トリフルオロメチ
ルベンゼンスルホニルクロリド、３−トリフルオロメチ
ルベンゼンスルホニルクロリドなどの製造方法に適用で
きるが、特に４−クロロ−３−トリフルオロメチルベン
ゼンスルホニルクロリド、２−クロロ−５−トリフルオ
ロメチルベンゼンスルホニルクロリド、３−トリフルオ
ロメチルベンゼンスルホニルクロリドの製造方法として
好ましい方法である。
次に実施例及び比較例を示し、本発明をさらに具体的
に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるも
のではない。
に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるも
のではない。
実施例−１ 60％発煙硫酸20ml（SO3量0.3モル）を500ml四ツ口フ
ラスコに装入し、液温を50℃に保ちながら２−クロロベ
ンゾトリフルオリド36.1g（0.2モル）を１時間を要し滴
下し、さらに同温度にて１時間保温撹拌を行った。
ラスコに装入し、液温を50℃に保ちながら２−クロロベ
ンゾトリフルオリド36.1g（0.2モル）を１時間を要し滴
下し、さらに同温度にて１時間保温撹拌を行った。
次に、クロロスルホン酸67ml（1.0モル）を50℃から
徐々に滴下し、室温まで冷却しながら滴下終了した。そ
の後、２時間室温で撹拌した。
徐々に滴下し、室温まで冷却しながら滴下終了した。そ
の後、２時間室温で撹拌した。
反応終了後、反応液中に200mlのクロロホルムを添加
し、室温にて0.5時間撹拌を行い、さらに0.5時間静置分
液後、上層のクロロホルム層を分取した。以上の抽出操
作を３回繰り返し行い、得られたクロロホルム層を水50
0mlで２回水洗を行い、塩化カルシウムで乾燥し、減圧
化溶媒留去後４−クロロ−３−トリフルオロメチルベン
ゼンスルホニルクロリド50.9g〔純度99.8％（ガスクロ
マトグラフィー内部標準法による測定結果）、収率91.0
％〕を得た。
し、室温にて0.5時間撹拌を行い、さらに0.5時間静置分
液後、上層のクロロホルム層を分取した。以上の抽出操
作を３回繰り返し行い、得られたクロロホルム層を水50
0mlで２回水洗を行い、塩化カルシウムで乾燥し、減圧
化溶媒留去後４−クロロ−３−トリフルオロメチルベン
ゼンスルホニルクロリド50.9g〔純度99.8％（ガスクロ
マトグラフィー内部標準法による測定結果）、収率91.0
％〕を得た。
実施例−２ 60％発煙硫酸33ml（SO3量0.5モル）を500ml四ツ口フ
ラスコに装入し、液温を30℃に保にながら４−クロロベ
ンゾトリフルオリド36.1g（0.2モル）を２時間を要し滴
下したのち、同温度で２時間保温撹拌を行った。
ラスコに装入し、液温を30℃に保にながら４−クロロベ
ンゾトリフルオリド36.1g（0.2モル）を２時間を要し滴
下したのち、同温度で２時間保温撹拌を行った。
次にクロロスルホン酸67ml（1.0モル）を30℃で滴下
し、同温度で1.5時間保温かきまぜを行った。反応終了
後、反応液中に200mlのｎ−ヘキサンを添加し、０℃に
て１時間撹拌を行い、さらに0.5時間静置分液後、上層
のｎ−ヘキサン層を分取した。以上の抽出操作を５回繰
り返し行い、得られたｎ−ヘキサン層を水600mlで２回
水洗を行い、塩化カルシウムで乾燥後、減圧下溶媒留去
し、２−クロロ−５−トリフルオロメチルベンゼンスル
ホニルクロリド50.2g（純度99.9％、収率89.9％）を得
た。
し、同温度で1.5時間保温かきまぜを行った。反応終了
後、反応液中に200mlのｎ−ヘキサンを添加し、０℃に
て１時間撹拌を行い、さらに0.5時間静置分液後、上層
のｎ−ヘキサン層を分取した。以上の抽出操作を５回繰
り返し行い、得られたｎ−ヘキサン層を水600mlで２回
水洗を行い、塩化カルシウムで乾燥後、減圧下溶媒留去
し、２−クロロ−５−トリフルオロメチルベンゼンスル
ホニルクロリド50.2g（純度99.9％、収率89.9％）を得
た。
実施例−３ 30％発煙硫酸54ml（SO3量0.4モル）を500ml四ツ口フ
ラスコに挿入し、これに15℃以下に保持しながら１時間
を要し、クロロスルホン酸67ml（1.0モル）を滴下した
のち、反応液を０℃まで冷却後ベンゾトリフルオリド2
9.2g（0.2モル）を２時間を要し滴下した後、反応液の
温度を５〜10℃に保ちながら２時間撹拌を行った。
ラスコに挿入し、これに15℃以下に保持しながら１時間
を要し、クロロスルホン酸67ml（1.0モル）を滴下した
のち、反応液を０℃まで冷却後ベンゾトリフルオリド2
9.2g（0.2モル）を２時間を要し滴下した後、反応液の
温度を５〜10℃に保ちながら２時間撹拌を行った。
反応終了後、反応液中に、塩化メチレン200mlを添加
し、40℃にて0.5時間撹拌を行い、さらに1.0時間静置分
液後、上層の塩化メチレン層を分取した。以上の抽出操
作を４回繰り返し行い、得られた塩化メチレン層を水50
0mlで２回洗浄を行った後、塩化カルシウムで乾燥し、
減圧下溶媒留去し、３−トリフルオロメチルベンゼンス
ルホンニルクロリド44.4g（純度99.7％、収率90.5％）
を得た。副生成分ジフェニルスルホンの含有量は0.1％
以下であった。
し、40℃にて0.5時間撹拌を行い、さらに1.0時間静置分
液後、上層の塩化メチレン層を分取した。以上の抽出操
作を４回繰り返し行い、得られた塩化メチレン層を水50
0mlで２回洗浄を行った後、塩化カルシウムで乾燥し、
減圧下溶媒留去し、３−トリフルオロメチルベンゼンス
ルホンニルクロリド44.4g（純度99.7％、収率90.5％）
を得た。副生成分ジフェニルスルホンの含有量は0.1％
以下であった。
比較例−１ 60％発煙硫酸40ml（SO30.6モル）を300ml、四ツ口フ
ラスコに装入し、40℃を保ちながら２−クロロベンゾト
リフルオリド72.2g（0.4モル）を１時間を要し滴下添加
し、さらに60℃にて１時間保温撹拌を行った。
ラスコに装入し、40℃を保ちながら２−クロロベンゾト
リフルオリド72.2g（0.4モル）を１時間を要し滴下添加
し、さらに60℃にて１時間保温撹拌を行った。
次に、クロロスルホン酸134ml（2.0モル）を60℃保ち
ながら添加を行い、同温にて２時間保温撹拌を行った。
ながら添加を行い、同温にて２時間保温撹拌を行った。
反応終了後、500gの氷中に反応液を滴下添加し、得ら
れた有機層をクロロホルム200mlで３回抽出を行い、さ
らにこのクロロホルム抽出層を水500mlで２回洗浄した
後、塩化カルシウムで乾燥し、減圧下、溶媒を留去して
４−クロロ−３−トリフルオロメチルベンゼンスルホニ
ルクロリド90.9g（純度99.4％、収率80.9％）を得た。
れた有機層をクロロホルム200mlで３回抽出を行い、さ
らにこのクロロホルム抽出層を水500mlで２回洗浄した
後、塩化カルシウムで乾燥し、減圧下、溶媒を留去して
４−クロロ−３−トリフルオロメチルベンゼンスルホニ
ルクロリド90.9g（純度99.4％、収率80.9％）を得た。
副生成物であるジフェニルスルホンの含有量は0.4％
であった。
であった。
比較例−２ 60％発煙硫酸20ml（SO3量0.3モル）を200ml四ツ口フ
ラスコに装入し、さらにクロロスルホン酸67ml（1.0モ
ル）を15℃以下に保持し１時間を要し滴下添加を行っ
た。さらに０℃まで冷却後、２−クロロベンゾトリフル
オリド36.1g（0.2モル）を２時間を要し滴下添加した
後、５〜10℃の温度を保ちながら２時間撹拌を行った。
ラスコに装入し、さらにクロロスルホン酸67ml（1.0モ
ル）を15℃以下に保持し１時間を要し滴下添加を行っ
た。さらに０℃まで冷却後、２−クロロベンゾトリフル
オリド36.1g（0.2モル）を２時間を要し滴下添加した
後、５〜10℃の温度を保ちながら２時間撹拌を行った。
反応終了後、反応液を500gの氷中に１時間をかけ滴下
添加を行い、得られた有機層を塩化メチレン200mlで４
回抽出した後、さらに塩化メチレン層を水500mlで洗浄
し、塩化カルシウムで乾燥させ、減圧下、溶媒を留去
し、３−トリフルオロメチルベンゼンスルホリルクロリ
ド40.2g（純度90.3％、収率65.0％）を得た。また副生
成物のジフェニルスルホンの含有量は9.2％であった。
添加を行い、得られた有機層を塩化メチレン200mlで４
回抽出した後、さらに塩化メチレン層を水500mlで洗浄
し、塩化カルシウムで乾燥させ、減圧下、溶媒を留去
し、３−トリフルオロメチルベンゼンスルホリルクロリ
ド40.2g（純度90.3％、収率65.0％）を得た。また副生
成物のジフェニルスルホンの含有量は9.2％であった。
本発明を実施することにより、副成物のジフェニルス
ルホン等の抽出の抑制および目的化合物を高純度且つ高
収率で得ることができる。
ルホン等の抽出の抑制および目的化合物を高純度且つ高
収率で得ることができる。
Claims (3)
- 【請求項１】式（Ｉ） ｛式（Ｉ）中、ＸおよびＹはそれぞれ水素原子またはハ
ロゲン原子を表す｝ で示されるベンゾトリフルオリド類を発煙硫酸およびク
ロロスルホン酸と反応させ、式（II） ｛式（II）中、ＸおよびＹはそれぞれ水素原子またはハ
ロゲン原子を表す。｝ で示される、３−トリフルオロメチルベンゼンスルホニ
ルクロリド類を製造する方法に於いて、該反応液に直
接、クロロスルホン酸に対し１重量倍以上の不活性溶媒
を加えて抽出することを特徴とする、３−トリフルオロ
メルベンゼンスルホニルクロリド類の製造方法。 - 【請求項２】不活性溶媒として、ハロゲン化炭化水素ま
たは脂肪族炭化水素を用いる請求項１記載の製造方法。 - 【請求項３】抽出を行う際の温度が−10〜60℃である請
求項１記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63307738A JP2637202B2 (ja) | 1988-12-07 | 1988-12-07 | ３−トリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリド類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63307738A JP2637202B2 (ja) | 1988-12-07 | 1988-12-07 | ３−トリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリド類の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02157257A JPH02157257A (ja) | 1990-06-18 |
| JP2637202B2 true JP2637202B2 (ja) | 1997-08-06 |
Family
ID=17972668
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63307738A Expired - Lifetime JP2637202B2 (ja) | 1988-12-07 | 1988-12-07 | ３−トリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリド類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2637202B2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57108060A (en) * | 1980-12-26 | 1982-07-05 | Sagami Chem Res Center | Preparation of 3-trifluoromethylbenzenesulfonyl chloride |
-
1988
- 1988-12-07 JP JP63307738A patent/JP2637202B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02157257A (ja) | 1990-06-18 |
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Legal Events
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