JP2611031B2 - レジストパターンの形成方法 - Google Patents
レジストパターンの形成方法Info
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- JP2611031B2 JP2611031B2 JP14763790A JP14763790A JP2611031B2 JP 2611031 B2 JP2611031 B2 JP 2611031B2 JP 14763790 A JP14763790 A JP 14763790A JP 14763790 A JP14763790 A JP 14763790A JP 2611031 B2 JP2611031 B2 JP 2611031B2
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Description
【発明の詳細な説明】 《産業上の利用分野》 本発明はレジストパターンの形成方法に関し、特にプ
リント基板作製時に使用するフォトマスクフィルムとし
て透明感熱記録材料を使用するレジストパターンの形成
方法に関する。
リント基板作製時に使用するフォトマスクフィルムとし
て透明感熱記録材料を使用するレジストパターンの形成
方法に関する。
《従来の技術》 基板上に感光性樹脂層を設け、該層上に回路パターン
を有するフォトマスクを通して露光現像及びエッチング
処理等を行うことによりプリント基板を作製する方法は
良く知られている。この場合に使用するフォトマスクを
製造する方法としては写真の原理を用いた方法が一般的
である。すなわち、回路パターンの原画を形成し、この
原画をマスクの本体であるフィルムに結像させ、露光す
る。その後、露光済みのフィルムを現像し、これを定着
するという過程を経て最終的にマスクが形成される。
を有するフォトマスクを通して露光現像及びエッチング
処理等を行うことによりプリント基板を作製する方法は
良く知られている。この場合に使用するフォトマスクを
製造する方法としては写真の原理を用いた方法が一般的
である。すなわち、回路パターンの原画を形成し、この
原画をマスクの本体であるフィルムに結像させ、露光す
る。その後、露光済みのフィルムを現像し、これを定着
するという過程を経て最終的にマスクが形成される。
《発明が解決しようとする課題》 しかしながら、上記フォトマスクの作製は露光現像に
時間、手間がかかる上、湿式処理である為作業環境に問
題があるのみならず、CAD等のデジタル信号から直接パ
ターンを形成する事ができないという欠点があった。
時間、手間がかかる上、湿式処理である為作業環境に問
題があるのみならず、CAD等のデジタル信号から直接パ
ターンを形成する事ができないという欠点があった。
係る欠点は加熱後の急冷又は徐冷によって夫々光透過
率が低下又は向上する熱反応部材と熱吸収率に優れた透
明な熱吸収部材を一体的に形成せしめた光マスク材料
(特開昭63−177138号)によって解決され得るが、係る
材料は感度の点及び画像持続時間の点で難点があった。
率が低下又は向上する熱反応部材と熱吸収率に優れた透
明な熱吸収部材を一体的に形成せしめた光マスク材料
(特開昭63−177138号)によって解決され得るが、係る
材料は感度の点及び画像持続時間の点で難点があった。
本発明者等は上記の欠点を解決すべく鋭意検討した結
果、透明性に優れた感熱記録材料がフォトマスクフィル
ムの代わりになり得ること、又、それを用いることによ
り、フォトマスクの作製工程をすべて乾式で行うことが
可能となる上デジタル信号を用いて直接パターンを形成
することができるので、レジストパターン作成工程を大
巾に改善することができ、回路の設計から最終のプリン
ト基板迄を一貫工程とすることもできることを見出し本
発明に到達した。
果、透明性に優れた感熱記録材料がフォトマスクフィル
ムの代わりになり得ること、又、それを用いることによ
り、フォトマスクの作製工程をすべて乾式で行うことが
可能となる上デジタル信号を用いて直接パターンを形成
することができるので、レジストパターン作成工程を大
巾に改善することができ、回路の設計から最終のプリン
ト基板迄を一貫工程とすることもできることを見出し本
発明に到達した。
従って本発明の第1の目的は、改善されたレジストパ
ターン形成方法を提供することにある。
ターン形成方法を提供することにある。
本発明の第2の目的は、フォトマスク作製時の湿式処
理が不要であると共に、デジタル信号を用いて作製する
ことのできるフォトマスクフィルムを提供することにあ
る。
理が不要であると共に、デジタル信号を用いて作製する
ことのできるフォトマスクフィルムを提供することにあ
る。
《課題を解決するための手段》 本発明の上記の諸目的はプリント基板用基板上に感光
性樹脂層を形成せしめた後、該樹脂層上にフォトマスク
フィルムを載置して露光、現像するレジストパターンの
形成方法において、前記フォトマスクフィルムが加熱に
より発色画像を形成せしめた透明感熱記録材料であるこ
とを特徴とするレジストパターンの形成方法によって達
成された。
性樹脂層を形成せしめた後、該樹脂層上にフォトマスク
フィルムを載置して露光、現像するレジストパターンの
形成方法において、前記フォトマスクフィルムが加熱に
より発色画像を形成せしめた透明感熱記録材料であるこ
とを特徴とするレジストパターンの形成方法によって達
成された。
本発明で使用する透明感熱記録材料は、透明支持体上
に加熱により発色する透明感熱層を有する記録材料であ
る。
に加熱により発色する透明感熱層を有する記録材料であ
る。
本発明においては、加熱により発色する発色剤として
電子供与性染料前駆体と顕色剤の組合せ又はジアゾ化合
物とカプラーの組合せを使用することができる。
電子供与性染料前駆体と顕色剤の組合せ又はジアゾ化合
物とカプラーの組合せを使用することができる。
本発明で使用する電子供与性染料前駆体としては、電
子を供与して、又は酸等のプロトンを受容して発色する
公知の化合物の中から無色又は淡色のものを適宜選択す
る。このような化合物は、ラクトン、ラクタム、サルト
ン、スピロピラン、エステル、アミド等の部分骨格を有
し、顕色剤と接触してこれらの部分骨格が開環若しくは
開裂するものであり、好ましい化合物としては、例えば
トリアリールメタン系化合物、ジフェニルメタン系化合
物、キサンテン系化合物、チアジン系化合物、スピロピ
ラン系化合物等を挙げることができる。
子を供与して、又は酸等のプロトンを受容して発色する
公知の化合物の中から無色又は淡色のものを適宜選択す
る。このような化合物は、ラクトン、ラクタム、サルト
ン、スピロピラン、エステル、アミド等の部分骨格を有
し、顕色剤と接触してこれらの部分骨格が開環若しくは
開裂するものであり、好ましい化合物としては、例えば
トリアリールメタン系化合物、ジフェニルメタン系化合
物、キサンテン系化合物、チアジン系化合物、スピロピ
ラン系化合物等を挙げることができる。
特に好ましい化合物は、次の一般式で表わされる化合
物である。
物である。
式中、R1は炭素原子数1〜8のアルキル基、R2は炭素
原子数4〜18のアルキル基又はアルコキシル基若しくは
テトラヒドロフルフリル基、R3は水素原子又は炭素原子
数1〜15のアルキル基若しくはハロゲン原子、R4は炭素
数6〜20の置換又は無置換のアリール基を表わす。R4の
置換基としては、炭素原子数1〜5のアルキル基、アル
コキシ基、ハロゲン化アルキル基及びハロゲン原子が好
ましい。
原子数4〜18のアルキル基又はアルコキシル基若しくは
テトラヒドロフルフリル基、R3は水素原子又は炭素原子
数1〜15のアルキル基若しくはハロゲン原子、R4は炭素
数6〜20の置換又は無置換のアリール基を表わす。R4の
置換基としては、炭素原子数1〜5のアルキル基、アル
コキシ基、ハロゲン化アルキル基及びハロゲン原子が好
ましい。
本発明で使用するところの電子供与性染料前駆体との
熱溶融において発色反応を起こす顕色剤は公知のものの
中から適宜使用することができる。例えば、ロイコ染料
に対する顕色剤としては、フェノール化合物、トリフェ
ニルメタン系化合物、含硫フェノール系化合物、カルボ
ン酸系化合物、スルホン系化合物、尿素系又はチオ尿素
系化合物等が挙げられ、その詳細は、例えば、紙パルプ
技術タイムス(1985年)49−54頁及び65−70頁に記載さ
れている。これらの中でも、特に融点が50℃〜250℃の
物が好ましく、中でも60℃〜200℃の、水に難溶性のフ
ェノール及び有機酸が望ましい。顕色剤を2種以上併用
した場合には溶解性が増加するので好ましい。
熱溶融において発色反応を起こす顕色剤は公知のものの
中から適宜使用することができる。例えば、ロイコ染料
に対する顕色剤としては、フェノール化合物、トリフェ
ニルメタン系化合物、含硫フェノール系化合物、カルボ
ン酸系化合物、スルホン系化合物、尿素系又はチオ尿素
系化合物等が挙げられ、その詳細は、例えば、紙パルプ
技術タイムス(1985年)49−54頁及び65−70頁に記載さ
れている。これらの中でも、特に融点が50℃〜250℃の
物が好ましく、中でも60℃〜200℃の、水に難溶性のフ
ェノール及び有機酸が望ましい。顕色剤を2種以上併用
した場合には溶解性が増加するので好ましい。
顕色剤の使用量は通常電子供与性染料前駆体1重量部
に対して0.3〜160重量部、好ましくは0.3〜80重量部で
ある。
に対して0.3〜160重量部、好ましくは0.3〜80重量部で
ある。
本発明で使用する顕色剤のうち特に好ましいものは、
下記一般式〔I〕〜〔IV〕で表される。
下記一般式〔I〕〜〔IV〕で表される。
R1はアルキル基、アリール基又はアラルキル基であり
特にメチル基、エチル基及びブチル基が好ましい。
特にメチル基、エチル基及びブチル基が好ましい。
R2はアルキル基であり、特にブチル基、ペンチル基、
ヘプチル基及びオクチル基が好ましい。
ヘプチル基及びオクチル基が好ましい。
R3はアルキル基又はアラルキル基である。
本発明に係る感熱発色素材の他の組合せに使用するジ
アゾ化合物とは、後述するカプラーと反応して所望の色
相に発色するものであり、特に、反応前に特定の波長の
光を受けると分解し、もはやカプラーが作用しても発色
能力を持たなくなる光分解性のジアゾ化合物を使用する
ことが光定着が可能となるので好ましい。この発色系に
おける色相は、主としてジアゾ化合物とカプラーが反応
し生成したジアゾ色素により決定される。従って良く知
られているように、ジアゾ化合物の化学構造を変更する
か、カプラーの化学構造を変更すれば容易に発色色相を
変えることができ、組み合わせ次第で略任意の発色色相
を得ることができる。
アゾ化合物とは、後述するカプラーと反応して所望の色
相に発色するものであり、特に、反応前に特定の波長の
光を受けると分解し、もはやカプラーが作用しても発色
能力を持たなくなる光分解性のジアゾ化合物を使用する
ことが光定着が可能となるので好ましい。この発色系に
おける色相は、主としてジアゾ化合物とカプラーが反応
し生成したジアゾ色素により決定される。従って良く知
られているように、ジアゾ化合物の化学構造を変更する
か、カプラーの化学構造を変更すれば容易に発色色相を
変えることができ、組み合わせ次第で略任意の発色色相
を得ることができる。
本発明で言う光分解性のジアゾ化合物とは主として芳
香族ジアゾ化合物を意味する。具体的には芳香族ジアゾ
ニウム塩、ジアゾスルホネート化合物、ジアゾアミノ化
合物等を指す。
香族ジアゾ化合物を意味する。具体的には芳香族ジアゾ
ニウム塩、ジアゾスルホネート化合物、ジアゾアミノ化
合物等を指す。
本発明に溶いられるジアゾ化合物と組み合わせて用い
られるカプラーは、ジアゾ化合物(ジアゾニウム塩)と
カップリングして色素を形成する化合物である。
られるカプラーは、ジアゾ化合物(ジアゾニウム塩)と
カップリングして色素を形成する化合物である。
その具体例としては、例えば、2−ヒドロキシ−3−
ナフトエ酸アニリドの他、レゾルシンを初めとし特開昭
62−146678号に記載されているものを挙げることができ
る。
ナフトエ酸アニリドの他、レゾルシンを初めとし特開昭
62−146678号に記載されているものを挙げることができ
る。
更にこれらのカプラーを2種以上併用することによっ
て任意の色調の画像を得ることができる。これらのジア
ゾ化合物とカプラーとのカップリング反応は塩基性雰囲
気下で起こり易い為、層内に塩基性物質を添加してもよ
い。
て任意の色調の画像を得ることができる。これらのジア
ゾ化合物とカプラーとのカップリング反応は塩基性雰囲
気下で起こり易い為、層内に塩基性物質を添加してもよ
い。
塩基性物質としては、水難溶性ないしは水不溶性の塩
基性物質や加熱によりアルカリを発生する物質が用いら
れる。それらの例としては無機及び有機アンモニウム
塩、有機アミン、アミド、尿素やチオ尿素及びその誘導
体、チアゾール類、ピロール類、ピリミジン類、ピペラ
ジン類、グアニジン類、インドール類、イミダゾール
類、イミダゾリン類、トリアゾール類、モルホリン類、
ピペリジン類、アミジン類、フォルムアジン類、ピリジ
ン類等の含窒素化合物が挙げられる。これらの具体例
は、例えば特開昭61−291183号に記載されている。
基性物質や加熱によりアルカリを発生する物質が用いら
れる。それらの例としては無機及び有機アンモニウム
塩、有機アミン、アミド、尿素やチオ尿素及びその誘導
体、チアゾール類、ピロール類、ピリミジン類、ピペラ
ジン類、グアニジン類、インドール類、イミダゾール
類、イミダゾリン類、トリアゾール類、モルホリン類、
ピペリジン類、アミジン類、フォルムアジン類、ピリジ
ン類等の含窒素化合物が挙げられる。これらの具体例
は、例えば特開昭61−291183号に記載されている。
塩基性物質は2種以上併用してもよい。
本発明においては、発色に関与する素材の常温での接
触を防止するといった生保存性の観点(カブリ防止)、
及び希望の印加熱エネルギーで発色させるというような
発色感度の制御の観点等から、発色に必須な成分の一部
をカプセル化して用いることが好ましい。
触を防止するといった生保存性の観点(カブリ防止)、
及び希望の印加熱エネルギーで発色させるというような
発色感度の制御の観点等から、発色に必須な成分の一部
をカプセル化して用いることが好ましい。
この場合に使用するマイクロカプセルの種類は特に限
定されるものではないが、特に本発明において好ましい
マイクロカプセルは、常温はマイクロカプセル壁の物質
隔離作用によりカプセル内外の物質の接触を妨げ、ある
温度以上に加熱されている間にのみ物質の透過性が上が
るものが好ましい。この場合、カプセル壁材、カプセル
芯物質、添加剤等を適宜選ぶことにより、その透過開始
温度を自由にコントロールすることができる。この場合
の透過開始温度はカプセル壁のガラス転移温度に相当す
るものである(例;特開昭59−91438号)。
定されるものではないが、特に本発明において好ましい
マイクロカプセルは、常温はマイクロカプセル壁の物質
隔離作用によりカプセル内外の物質の接触を妨げ、ある
温度以上に加熱されている間にのみ物質の透過性が上が
るものが好ましい。この場合、カプセル壁材、カプセル
芯物質、添加剤等を適宜選ぶことにより、その透過開始
温度を自由にコントロールすることができる。この場合
の透過開始温度はカプセル壁のガラス転移温度に相当す
るものである(例;特開昭59−91438号)。
カプセル壁固有のガラス転移点を制御するにはカプセ
ル壁形成剤の種類を変えることが必要である。
ル壁形成剤の種類を変えることが必要である。
マイクロカプセルの壁材料としては、ポリウレタン、
ポリウレア、ポリエステル、ポリカーボネート、尿素−
ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ポリスチレン、
スチレンメタクリレート共重合体、スチレン−アクリレ
ート共重合体、ゼラチン、ポリビニルピロリドン、ポリ
ビニルアルコール等が挙げられ、これらの高分子物質を
2種以上併用することもできる。
ポリウレア、ポリエステル、ポリカーボネート、尿素−
ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ポリスチレン、
スチレンメタクリレート共重合体、スチレン−アクリレ
ート共重合体、ゼラチン、ポリビニルピロリドン、ポリ
ビニルアルコール等が挙げられ、これらの高分子物質を
2種以上併用することもできる。
本発明においては、上記の高分子物質のうちポリウレ
タン、ポリウレア、ポリアミド、ポリエステル、ポリカ
ーボネート等が好ましく、特にポリウレタン及びポリウ
レアが好ましい。
タン、ポリウレア、ポリアミド、ポリエステル、ポリカ
ーボネート等が好ましく、特にポリウレタン及びポリウ
レアが好ましい。
本発明で使用するマイクロカプセルは、発色反応に直
接関与する成分(以下発色剤と総称する)の一方を含有
した芯物質を乳化した後、その油滴の周囲に高分子物質
の壁を形成してマイクロカプセル化することが好まし
く、この場合高分子物質を形成するリアクタントを油滴
の内部及び/又は油滴の外部に添加する。
接関与する成分(以下発色剤と総称する)の一方を含有
した芯物質を乳化した後、その油滴の周囲に高分子物質
の壁を形成してマイクロカプセル化することが好まし
く、この場合高分子物質を形成するリアクタントを油滴
の内部及び/又は油滴の外部に添加する。
ここで、油滴を形成するための有機溶剤は、一般に高
沸点オイルの中から適宜選択することができるが、特
に、発色剤に対する溶解性が優れた有機溶剤を使用した
場合には、熱印字の際の発色濃度と発色速度を増大せし
め、又、カプリも少なくすることができるので好まし
い。
沸点オイルの中から適宜選択することができるが、特
に、発色剤に対する溶解性が優れた有機溶剤を使用した
場合には、熱印字の際の発色濃度と発色速度を増大せし
め、又、カプリも少なくすることができるので好まし
い。
マイクロカプセルを作る時、マイクロカプセル化すべ
き成分を0.2重量%以上含有した乳化液から作ることが
できる。
き成分を0.2重量%以上含有した乳化液から作ることが
できる。
ジアゾ化合物1重量部に対してカプラーは0.1〜10重
量部、塩基性物質は0.1〜20重量部の割合で使用するこ
とが好ましい。一方、電子供与性染料前駆体1重量部に
対しては、顕色剤を0.3〜160重量部、好ましくは0.3〜8
0重量部使用することが好ましい。
量部、塩基性物質は0.1〜20重量部の割合で使用するこ
とが好ましい。一方、電子供与性染料前駆体1重量部に
対しては、顕色剤を0.3〜160重量部、好ましくは0.3〜8
0重量部使用することが好ましい。
上記の如く製造される好ましいマイクロカプセルを使
用した場合には、マイクロカプセルの芯及び外に含有さ
れている反応性物質は加熱印字時にのみマイクロカプセ
ル壁を透過して反応し染料を形成することができる。
用した場合には、マイクロカプセルの芯及び外に含有さ
れている反応性物質は加熱印字時にのみマイクロカプセ
ル壁を透過して反応し染料を形成することができる。
本発明では発色助剤を用いることも可能である。
本発明で用ることのできる発色助剤とは、加熱印字時
の発色濃度を高くする、もしくは最低発色温度を低くす
る物質であり、塩基性物質や発色剤の融点を下げたり、
カプセル壁の軟化点を低下せしめる作用により、ジアゾ
化合物、塩基性物質、カプラー、電子供与性染料前駆
体、顕色剤等が反応し易い状況を作るためのものであ
る。
の発色濃度を高くする、もしくは最低発色温度を低くす
る物質であり、塩基性物質や発色剤の融点を下げたり、
カプセル壁の軟化点を低下せしめる作用により、ジアゾ
化合物、塩基性物質、カプラー、電子供与性染料前駆
体、顕色剤等が反応し易い状況を作るためのものであ
る。
発色助剤としては、フェノール化合物、アルコール性
化合物、アミド化合物、スルホンアミド化合物等があ
り、具体例としては、p−tert−オクチルフェノール、
p−ベンジルオキシフェノール、p−オキシ安息香酸フ
ェニル、カルバニル酸ベンジル、カルバニル酸フェネチ
ル、ハイドロキノン、ジヒドロキシエチルエーテル、キ
シリレンジオール、N−ヒドロキシエチル−メタンスル
ホン酸アミド、N−フェニル−メタンスルホン酸アミド
等の化合物を挙げることができる。これらは、芯物質中
に含有させてもよいし、分散物としてマイクロカプセル
外に添加してもよい。
化合物、アミド化合物、スルホンアミド化合物等があ
り、具体例としては、p−tert−オクチルフェノール、
p−ベンジルオキシフェノール、p−オキシ安息香酸フ
ェニル、カルバニル酸ベンジル、カルバニル酸フェネチ
ル、ハイドロキノン、ジヒドロキシエチルエーテル、キ
シリレンジオール、N−ヒドロキシエチル−メタンスル
ホン酸アミド、N−フェニル−メタンスルホン酸アミド
等の化合物を挙げることができる。これらは、芯物質中
に含有させてもよいし、分散物としてマイクロカプセル
外に添加してもよい。
本発明では、以上の素材の他に酸安定剤としてクエン
酸、酒石酸、シュウ酸、ホウ酸、リン酸、ピロリン酸等
を添加することができる。
酸、酒石酸、シュウ酸、ホウ酸、リン酸、ピロリン酸等
を添加することができる。
本発明においては、感熱記録層を透明にするために顕
色剤又はカプラーを水に難溶又は不溶性の有機溶剤に溶
解せしめた後、これを界面活性剤を含有し水溶性高分子
を保護コロイドとして有する水相と混合して乳化分散し
た分散物を使用する(例えば特開昭63−392489号)。
色剤又はカプラーを水に難溶又は不溶性の有機溶剤に溶
解せしめた後、これを界面活性剤を含有し水溶性高分子
を保護コロイドとして有する水相と混合して乳化分散し
た分散物を使用する(例えば特開昭63−392489号)。
顕色剤又はカプラーを溶解する有機溶剤は、高沸点の
オイルの中から適宜選択することができる。中でも好ま
しいオイルとしては、エステル類の他、下記一般式
(V)〜(VII)で表される化合物及びトリアリルメタ
ン(例えば、トリトルイルメタン,トルイルジフエニー
ルメタン)、ターフエニル化合物(例えば、ターフエニ
ル)、アルキル化ジフエニルエーテル(例えば、プロピ
ルジフエニルエーテル、水添ターフエニル(例えば、ヘ
キサヒドロターフエニル)、ジフエニルエーテル等が挙
げられる。
オイルの中から適宜選択することができる。中でも好ま
しいオイルとしては、エステル類の他、下記一般式
(V)〜(VII)で表される化合物及びトリアリルメタ
ン(例えば、トリトルイルメタン,トルイルジフエニー
ルメタン)、ターフエニル化合物(例えば、ターフエニ
ル)、アルキル化ジフエニルエーテル(例えば、プロピ
ルジフエニルエーテル、水添ターフエニル(例えば、ヘ
キサヒドロターフエニル)、ジフエニルエーテル等が挙
げられる。
本発明においては、これらの中でもエステル類を使用
することが、顕色剤の溶解性及び顕色剤の乳化分散物の
乳化安定性の観点から特に好ましい。
することが、顕色剤の溶解性及び顕色剤の乳化分散物の
乳化安定性の観点から特に好ましい。
式中、R1は水素又は炭素数1〜18のアルキル基を、R2
は炭素数1〜18のアルキル基を表わす。p1及びq1は1〜
4の整数を表し、且つアルキル基の総和は4個以内とす
る。
は炭素数1〜18のアルキル基を表わす。p1及びq1は1〜
4の整数を表し、且つアルキル基の総和は4個以内とす
る。
なお、R1及びR2のアルキル基は炭素数1〜8のアルキ
ル基であることが好ましい。
ル基であることが好ましい。
式中、R3は水素原子又は炭素数1〜12のアルキル基、
R4は炭素数1〜12のアルキル基、nは1又は2を表わ
す。
R4は炭素数1〜12のアルキル基、nは1又は2を表わ
す。
p2及びq21〜4の整数を表わす。n=1の場合には、
アルキル基の総和は4個以内であり、n=2のときアル
キル基の総和は6個以内である。
アルキル基の総和は4個以内であり、n=2のときアル
キル基の総和は6個以内である。
式中、R5及びR6は水素原子又は、炭素数1〜18の、同
種もしくは異種のアルキル基を表わす。mは1〜13の整
数を表わす。p3及びq3は1〜3の整数を表し、かつアル
キル基の総和は3個以内である。
種もしくは異種のアルキル基を表わす。mは1〜13の整
数を表わす。p3及びq3は1〜3の整数を表し、かつアル
キル基の総和は3個以内である。
なお、R5及びR6のアルキル基は炭素数2〜4のアルキ
ル基であることが特に好ましい。
ル基であることが特に好ましい。
式、(V)で表わされる化合物例としては、ジメチル
ナフタレン、ジエチルナフタレン、ジイソプロピルナフ
タレンが挙げられる。
ナフタレン、ジエチルナフタレン、ジイソプロピルナフ
タレンが挙げられる。
式(VI)で表される化合物例としては、ジメチルビフ
エニル、ジエチルビフエニル、ジイソプロピルビフエニ
ル、ジイソブチルビフエニルが挙げられる。
エニル、ジエチルビフエニル、ジイソプロピルビフエニ
ル、ジイソブチルビフエニルが挙げられる。
式(VII)で表わされる化合物例としては、1−メチ
ル−1−ジメチルフエニル−1−フエニルメタン、1−
エチル−1−ジメチルフエニル−1−フエニルメタン、
1−プロピル−1−ジメチルフエニル−1−フエニルメ
タンが挙げられる。
ル−1−ジメチルフエニル−1−フエニルメタン、1−
エチル−1−ジメチルフエニル−1−フエニルメタン、
1−プロピル−1−ジメチルフエニル−1−フエニルメ
タンが挙げられる。
エステル類としては、燐酸エステル類(例えば、燐酸
トリフェニル、燐酸トリクレジル、燐酸ブチル、燐酸オ
クチル、燐酸クレジルジフェニル)、フタル酸エステル
(フタル酸ジブチル、フタル酸−2−エチルヘキシル、
フタル酸エチル、フタル酸オクチル、フタル酸ブチルベ
ンジル)テトラヒドロフタル酸ジオクチル、安息香酸エ
ステル(安息香酸エステル、安息香酸プロピル、安息香
酸ブチル、安息香酸イソペンチル、安息香酸ベンジ
ル)、アビエチン酸エステル(アビエチン酸エチル、ア
ビエチン酸ベンジル)、アジピン酸ジオクチル、コハク
酸イソデシル、アゼライン酸ジオクチル、シュウ酸エス
テル(シュウ酸ジブチル、シュウ酸ジペンチル)、マロ
ン酸ジエチル、マレイン酸エステル(マレイン酸ジメチ
ル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジブチル)、クエ
ン酸トリブチル、ソルビン酸エステル(ソルビン酸メチ
ル、ソルビン酸エチル、ソルビン酸ブチル)、セバシン
酸エステル(セバシン酸ジブチル、セバシン酸ジオクチ
ル)、エチレングリコールエステル類(ギ酸モノエステ
ル及びジエステル、酪酸モノエステル及びジエステル、
ラウリン酸モノエステル及びジエステル、パルミチン酸
モノエステル及びジエステル、ステアリン酸モノエステ
ル及びジエステル、オレイン酸モノエステル及びジエス
テル)、トリアセチン、炭酸ジエチル、炭酸ジフェニ
ル、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、ホウ酸エステル
(ホウ酸トリブチル、ホウ酸トリペンチル)等が挙げら
れる。これらの中でも、燐酸トリクレジルを単独又は混
合して使用した場合には顕色剤又はカプラーの乳化分散
安定性が特に良好であり好ましい。
トリフェニル、燐酸トリクレジル、燐酸ブチル、燐酸オ
クチル、燐酸クレジルジフェニル)、フタル酸エステル
(フタル酸ジブチル、フタル酸−2−エチルヘキシル、
フタル酸エチル、フタル酸オクチル、フタル酸ブチルベ
ンジル)テトラヒドロフタル酸ジオクチル、安息香酸エ
ステル(安息香酸エステル、安息香酸プロピル、安息香
酸ブチル、安息香酸イソペンチル、安息香酸ベンジ
ル)、アビエチン酸エステル(アビエチン酸エチル、ア
ビエチン酸ベンジル)、アジピン酸ジオクチル、コハク
酸イソデシル、アゼライン酸ジオクチル、シュウ酸エス
テル(シュウ酸ジブチル、シュウ酸ジペンチル)、マロ
ン酸ジエチル、マレイン酸エステル(マレイン酸ジメチ
ル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジブチル)、クエ
ン酸トリブチル、ソルビン酸エステル(ソルビン酸メチ
ル、ソルビン酸エチル、ソルビン酸ブチル)、セバシン
酸エステル(セバシン酸ジブチル、セバシン酸ジオクチ
ル)、エチレングリコールエステル類(ギ酸モノエステ
ル及びジエステル、酪酸モノエステル及びジエステル、
ラウリン酸モノエステル及びジエステル、パルミチン酸
モノエステル及びジエステル、ステアリン酸モノエステ
ル及びジエステル、オレイン酸モノエステル及びジエス
テル)、トリアセチン、炭酸ジエチル、炭酸ジフェニ
ル、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、ホウ酸エステル
(ホウ酸トリブチル、ホウ酸トリペンチル)等が挙げら
れる。これらの中でも、燐酸トリクレジルを単独又は混
合して使用した場合には顕色剤又はカプラーの乳化分散
安定性が特に良好であり好ましい。
本発明においては、上記の有機溶剤に、更に、低沸点
の溶解助剤として補助溶剤を加えることもできる。この
ような補助溶剤として、例えば酢酸エチル、酢酸イソプ
ロピル、酢酸ブチル及びメチレンクロライド等を特に好
ましいものとして挙げることができる。
の溶解助剤として補助溶剤を加えることもできる。この
ような補助溶剤として、例えば酢酸エチル、酢酸イソプ
ロピル、酢酸ブチル及びメチレンクロライド等を特に好
ましいものとして挙げることができる。
顕色剤又はカプラーを溶解した油相と混合する水相
に、保護コロイドとして含有せしめる水溶性高分子は、
公知のアニオン性高分子、ノニオン性高分子、両性高分
子の中から適宜選択することができるが、ポリビニルア
ルコール、ゼラチン、セルロース誘導体等が好ましい。
に、保護コロイドとして含有せしめる水溶性高分子は、
公知のアニオン性高分子、ノニオン性高分子、両性高分
子の中から適宜選択することができるが、ポリビニルア
ルコール、ゼラチン、セルロース誘導体等が好ましい。
又、水相に含有せしめる界面活性剤としては、アニオ
ン性、ノニオン性又は両性の界面活性剤の中から、上記
保護コロイドと作用して沈澱や凝集を起こさないものを
適宜選択して使用することができる。好ましい界面活性
剤としては、アルキルベンゼンスルホン酸ソーダ(例え
ば、ドデシルベンゼンスルホン酸ソーダ)、アルキル硫
酸ナトリウム、スルホコハク酸ジオクチルナトリウム
塩、ポリアルキレングリコール(例えば、ポリオキシエ
チレンノニルフェニルエーテル)等を挙げることができ
る。
ン性、ノニオン性又は両性の界面活性剤の中から、上記
保護コロイドと作用して沈澱や凝集を起こさないものを
適宜選択して使用することができる。好ましい界面活性
剤としては、アルキルベンゼンスルホン酸ソーダ(例え
ば、ドデシルベンゼンスルホン酸ソーダ)、アルキル硫
酸ナトリウム、スルホコハク酸ジオクチルナトリウム
塩、ポリアルキレングリコール(例えば、ポリオキシエ
チレンノニルフェニルエーテル)等を挙げることができ
る。
本発明における顕色剤又はカプラーの乳化分散物は、
顕色剤又はカプラーを含有する油相と保護コロイド及び
界面活性剤を含有する水相を、高速攪拌、超音波分散
等、通常の微粒子乳化に用いられる手段を使用して混合
分散せしめ容易に得ることができる。
顕色剤又はカプラーを含有する油相と保護コロイド及び
界面活性剤を含有する水相を、高速攪拌、超音波分散
等、通常の微粒子乳化に用いられる手段を使用して混合
分散せしめ容易に得ることができる。
この乳化分散物には、適宜顕色剤やカプラーの融点降
下剤を添加することもできる。このような融点降下剤の
中の一部は前記カプセル壁のガラス転移点調節剤の機能
をも有する。このような化合物としては、例えば、ヒド
ロキシ化合物、カルバミン酸エステル化合物、スルホン
アミド化合物、芳香族メトキシ化合物等があり、それら
の詳細は、例えば特願昭59−244190号に記載されてい
る。
下剤を添加することもできる。このような融点降下剤の
中の一部は前記カプセル壁のガラス転移点調節剤の機能
をも有する。このような化合物としては、例えば、ヒド
ロキシ化合物、カルバミン酸エステル化合物、スルホン
アミド化合物、芳香族メトキシ化合物等があり、それら
の詳細は、例えば特願昭59−244190号に記載されてい
る。
これらの融点降下剤は、融点を降下せしめる顕色剤1
重量部に対し0.1〜2重量部、好ましくは0.5〜1重量部
の範囲で適宜使用することができるが、融点降下剤とそ
れによって融点が降下する顕色剤やカプラー等は同一の
箇所に使用することが好ましい。異なった個所に添加す
る場合には、上記の添加量の1〜3倍量を添加すること
が好ましい。
重量部に対し0.1〜2重量部、好ましくは0.5〜1重量部
の範囲で適宜使用することができるが、融点降下剤とそ
れによって融点が降下する顕色剤やカプラー等は同一の
箇所に使用することが好ましい。異なった個所に添加す
る場合には、上記の添加量の1〜3倍量を添加すること
が好ましい。
本発明の感熱記録材料は適当なバインダーを用いて塗
工することができる。
工することができる。
バインザーとしてはポリビニルアルコール、メチルセ
ルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシプ
ロピルセルロース、アラビヤゴム、ゼラチン、ポリビニ
ルピロリドン、カゼイン、スチレン−ブタジエンラテッ
クス、アクリロニトリル−ブタジエンラテックス、ポリ
酢酸ビニル、ポリアクリル酸エステル、エチレン−酢酸
ビニル共重合体等の各種エマルジョンを用いることがで
きる。使用量は固形分として0.5〜5g/m2である。
ルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシプ
ロピルセルロース、アラビヤゴム、ゼラチン、ポリビニ
ルピロリドン、カゼイン、スチレン−ブタジエンラテッ
クス、アクリロニトリル−ブタジエンラテックス、ポリ
酢酸ビニル、ポリアクリル酸エステル、エチレン−酢酸
ビニル共重合体等の各種エマルジョンを用いることがで
きる。使用量は固形分として0.5〜5g/m2である。
本発明の感熱記録材料は、電子供与性染料前駆体又は
ジアゾ化合物を内包したマイクロカプセル及び少なくと
も顕色剤又はカプラーを乳化分散した分散物、バインダ
ー等その他の添加物を含有し塗布液を作り、透明な合成
樹脂フイルム支持体の上にバー塗布、ブレード塗布、エ
アナイフ塗布、グラビア塗布、ロールコーティング塗
布、スプレー塗布、ディップ塗布等の塗布法により塗布
乾燥して、固形分が2.5〜25g/m2の感熱層を設けること
によって製造される。
ジアゾ化合物を内包したマイクロカプセル及び少なくと
も顕色剤又はカプラーを乳化分散した分散物、バインダ
ー等その他の添加物を含有し塗布液を作り、透明な合成
樹脂フイルム支持体の上にバー塗布、ブレード塗布、エ
アナイフ塗布、グラビア塗布、ロールコーティング塗
布、スプレー塗布、ディップ塗布等の塗布法により塗布
乾燥して、固形分が2.5〜25g/m2の感熱層を設けること
によって製造される。
このようにして製造した感熱材料の感熱層は、極めて
良好な透明性を有する。
良好な透明性を有する。
本発明においては透明感熱層の上部に、更に、該感熱
層で使用した電子供与性染料前駆体又はジアゾ化合物を
含有するマイクロカプセルを含む層を設けても良い。こ
の場合更に顕色剤又はカプラーの乳化分散物を必要に応
じて含有せしめることができるが、その量は該層全重量
の20重量%以下とすることが必要である。このように顕
色剤乳化分散物の量が少ない層を設けることにより、本
感熱記録材料の接着性を低下せしめることができる上、
この層に含有されている電子供与性染料前駆体も発色に
寄与し得るのでこの層を設けることによって熱感度が低
下することはない。
層で使用した電子供与性染料前駆体又はジアゾ化合物を
含有するマイクロカプセルを含む層を設けても良い。こ
の場合更に顕色剤又はカプラーの乳化分散物を必要に応
じて含有せしめることができるが、その量は該層全重量
の20重量%以下とすることが必要である。このように顕
色剤乳化分散物の量が少ない層を設けることにより、本
感熱記録材料の接着性を低下せしめることができる上、
この層に含有されている電子供与性染料前駆体も発色に
寄与し得るのでこの層を設けることによって熱感度が低
下することはない。
本発明においては、感熱層の中に、熱ヘッドに対する
スティッキングの防止や筆記性を改良する目的で、シリ
カ、硫酸バリウム、酸化チタン、水酸化アルミニウム、
酸化亜鉛、炭酸カルシウム等の顔料や、スチレンビー
ズ、尿素−メラミン樹脂等の微粉末を添加することがで
きるが、感熱層の透明性を維持するために、感熱層の上
に主として保存性と安全性を目的とする保護層を公知の
方法により設け、この保護層に添加することが好まし
い。保護層についての詳細は、例えば「紙パルプ技術タ
イムス」(1985年、9月号)、2〜4頁に記載されてい
る。
スティッキングの防止や筆記性を改良する目的で、シリ
カ、硫酸バリウム、酸化チタン、水酸化アルミニウム、
酸化亜鉛、炭酸カルシウム等の顔料や、スチレンビー
ズ、尿素−メラミン樹脂等の微粉末を添加することがで
きるが、感熱層の透明性を維持するために、感熱層の上
に主として保存性と安全性を目的とする保護層を公知の
方法により設け、この保護層に添加することが好まし
い。保護層についての詳細は、例えば「紙パルプ技術タ
イムス」(1985年、9月号)、2〜4頁に記載されてい
る。
特に、ケイ素変性ポリビニルアルコールとコロイダル
シリカの組合せを主成分とする保護層を使用した場合に
は、保護層の透明性が極めて良好となり、ひいては感熱
記録材料の透明性を著しく改善することができるので好
ましい。
シリカの組合せを主成分とする保護層を使用した場合に
は、保護層の透明性が極めて良好となり、ひいては感熱
記録材料の透明性を著しく改善することができるので好
ましい。
保護層中にはスティッキング防止のためにワックス類
や金属石鹸類を添加することもできる。これらの使用量
は0.2〜7g/m2である。
や金属石鹸類を添加することもできる。これらの使用量
は0.2〜7g/m2である。
ワックス類としては、パラフィンワックス、カルナバ
ロウワックス、マイクロクリスタリンワックス、ポリエ
チレンワックスの他、高級脂肪酸アミド、例えば、ステ
アリン酸アミド、エチレンビスステアロアミド、高級脂
肪酸エステル等が挙げられる。
ロウワックス、マイクロクリスタリンワックス、ポリエ
チレンワックスの他、高級脂肪酸アミド、例えば、ステ
アリン酸アミド、エチレンビスステアロアミド、高級脂
肪酸エステル等が挙げられる。
金属石鹸としては、高級脂肪酸多価金属塩、例えばス
テアリン酸亜鉛、ステアリン酸アルミニウム、ステアリ
ン酸カルシウム、オレイン酸亜鉛等が挙げられる。
テアリン酸亜鉛、ステアリン酸アルミニウム、ステアリ
ン酸カルシウム、オレイン酸亜鉛等が挙げられる。
又、感熱層の塗布量は3g/m2〜20g/m2、特に5g/m2〜15
g/m2の間にあることが好ましい。3g/m2以下では十分な
感度が得られず、20g/m2以上塗布しても品質の向上は見
られないのでコスト的に不利になる。
g/m2の間にあることが好ましい。3g/m2以下では十分な
感度が得られず、20g/m2以上塗布しても品質の向上は見
られないのでコスト的に不利になる。
支持体となる透明な合成樹脂フィルムは、耐摩耗性、
耐水性、耐薬品性に優れ、感熱層の塗布によってカール
を生じない程度の厚み及び/又は剛性を有し、現像過程
での加熱等に対しても変形せず、寸法安定性を有する公
知の材料の中から任意に選択することができる。このよ
うなフィルムとしてはポリエチレンテレフタレートやポ
リブチレンテレフタレート等のポリエステルフィルム、
三酢酸セルロースフィルム等のセルロース誘導体フィル
ム、ポリスチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、
ポリエチレン等のポリオレフィンフィルム等が挙げら
れ、これらを単体で或いは貼り合わせて用いることがで
きる。
耐水性、耐薬品性に優れ、感熱層の塗布によってカール
を生じない程度の厚み及び/又は剛性を有し、現像過程
での加熱等に対しても変形せず、寸法安定性を有する公
知の材料の中から任意に選択することができる。このよ
うなフィルムとしてはポリエチレンテレフタレートやポ
リブチレンテレフタレート等のポリエステルフィルム、
三酢酸セルロースフィルム等のセルロース誘導体フィル
ム、ポリスチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、
ポリエチレン等のポリオレフィンフィルム等が挙げら
れ、これらを単体で或いは貼り合わせて用いることがで
きる。
支持体の厚みとしては20〜200μmのものが好まし
く、特に約50〜100μmのものが好ましい。
く、特に約50〜100μmのものが好ましい。
本発明においては、プラスチックフィルムと感熱層の
接着を高めるために両層の間に下塗層を設けることがで
きる。下塗層の素材としては、ゼラチンや剛性高分子ラ
テックス、ニトロセルロース等が用いられる。下塗層の
塗布量は0.1g/m2〜2.0g/m2の範囲にあることが好まし
く、特に0.2g/m2〜1.0g/m2の範囲が好ましい。0.1g/m2
より少ないとフィルムと感熱層との接着が十分でなく、
又2.0g/m2以上にふやしてもフィルムと感熱層との接着
力は飽和に達しているのでコスト的に不利となる。
接着を高めるために両層の間に下塗層を設けることがで
きる。下塗層の素材としては、ゼラチンや剛性高分子ラ
テックス、ニトロセルロース等が用いられる。下塗層の
塗布量は0.1g/m2〜2.0g/m2の範囲にあることが好まし
く、特に0.2g/m2〜1.0g/m2の範囲が好ましい。0.1g/m2
より少ないとフィルムと感熱層との接着が十分でなく、
又2.0g/m2以上にふやしてもフィルムと感熱層との接着
力は飽和に達しているのでコスト的に不利となる。
下塗層は、感熱層がその上に塗布された時に感熱層中
に含まれる水により下塗層が膨潤することがあるので、
硬膜剤を用いて硬化させることが望ましい。
に含まれる水により下塗層が膨潤することがあるので、
硬膜剤を用いて硬化させることが望ましい。
硬膜剤としては、グルタルアルデヒド、2,3−ジヒド
ロキシ−1,4−ジオキサン等のジアルデヒド類及びホウ
酸が好ましい。
ロキシ−1,4−ジオキサン等のジアルデヒド類及びホウ
酸が好ましい。
これらの硬膜剤の添加量は、下塗素材の重量に対し
て、0.20重量%から3.0重量%の範囲で、塗布方法や希
望の硬化度に合わせて適切な添加量を選ぶことができ
る。
て、0.20重量%から3.0重量%の範囲で、塗布方法や希
望の硬化度に合わせて適切な添加量を選ぶことができ
る。
又、塗布時に発生する泡を消すために、消泡剤を添加
する事も、或いは、液のレベリングを良くして塗布筋の
発生を防止するために活性剤を添加する事も可能であ
る。
する事も、或いは、液のレベリングを良くして塗布筋の
発生を防止するために活性剤を添加する事も可能であ
る。
又、必要に応じて帯電防止剤を添加することも可能で
ある。
ある。
更に、下塗層を塗布する前には、フィルムの表面を公
知の方法により活性化処理する事が望ましい。活性化処
理の方法としては、酸によるエッチング処理、ガスバー
ナーによる火焔処理、或いはコロナ処理、グロー放電処
理等が用いられるが、コストの面或いは簡便さの点か
ら、米国特許第2,715,075号、同第2,846,727号、同第3,
549,406号、同第3,590,107号等に記載されたコロナ放電
処理が最も好んで用いられる。
知の方法により活性化処理する事が望ましい。活性化処
理の方法としては、酸によるエッチング処理、ガスバー
ナーによる火焔処理、或いはコロナ処理、グロー放電処
理等が用いられるが、コストの面或いは簡便さの点か
ら、米国特許第2,715,075号、同第2,846,727号、同第3,
549,406号、同第3,590,107号等に記載されたコロナ放電
処理が最も好んで用いられる。
本発明において、カール矯正、帯電防止、滑り性改善
を目的として支持体の裏面にバック層を設けても良い。
バック層の構成成分としては、保護層のものと同様の成
分を用いるのが好ましい。
を目的として支持体の裏面にバック層を設けても良い。
バック層の構成成分としては、保護層のものと同様の成
分を用いるのが好ましい。
本発明に係る塗布液は、一般によく知られた塗布方
法、例えばディップコート法、エアーナイフコート法、
カーテンコート法、ローラーコート法、ドクターコート
法、ワイヤーバーコート法、スライドコート法、グラビ
アコート法、或いは米国特許第2,681,294号明細書に記
載のホッパーを使用するエクストルージョンコート法等
により塗布することが出来る。必要に応じて、米国特許
第2,761,791号、同第3,508,947号、同第2,941,898号、
及び同第3,526,528号明細書、原崎勇次著「コーティン
グ工学」253頁(1973年朝倉書店発行)等に記載された
方法等により2層以上に分けて、同時に塗布することも
可能であり、塗布量、塗布速度等に応じて適切な方法を
選ぶことができる。
法、例えばディップコート法、エアーナイフコート法、
カーテンコート法、ローラーコート法、ドクターコート
法、ワイヤーバーコート法、スライドコート法、グラビ
アコート法、或いは米国特許第2,681,294号明細書に記
載のホッパーを使用するエクストルージョンコート法等
により塗布することが出来る。必要に応じて、米国特許
第2,761,791号、同第3,508,947号、同第2,941,898号、
及び同第3,526,528号明細書、原崎勇次著「コーティン
グ工学」253頁(1973年朝倉書店発行)等に記載された
方法等により2層以上に分けて、同時に塗布することも
可能であり、塗布量、塗布速度等に応じて適切な方法を
選ぶことができる。
更に、塗液中に、顔料分散剤、増粘剤、流動変性剤、
消泡剤、抑泡剤、離型剤、着色剤を必要に応じて適宜配
合することができる。
消泡剤、抑泡剤、離型剤、着色剤を必要に応じて適宜配
合することができる。
本発明においては、以上の如くして得られた透明感熱
記録材料に、サーマルヘッドやレーザービーム等によっ
て回路パターンを形成せしめる。特に発色剤としてジア
ゾ化合物とカプラーの組合せを採用している場合には、
パターン作成後、感熱記録材料全面に紫外線を照射し
て、非画像部のジアゾ化合物を分解し、これによって回
路パターンを定着せしめることが好ましい。
記録材料に、サーマルヘッドやレーザービーム等によっ
て回路パターンを形成せしめる。特に発色剤としてジア
ゾ化合物とカプラーの組合せを採用している場合には、
パターン作成後、感熱記録材料全面に紫外線を照射し
て、非画像部のジアゾ化合物を分解し、これによって回
路パターンを定着せしめることが好ましい。
上記の如くして得られた透明感熱記録材料の回路パタ
ーンをフォトマスクとして使用し、常法に従ってレジス
トパターンを作成することができる。
ーンをフォトマスクとして使用し、常法に従ってレジス
トパターンを作成することができる。
《発明の効果》 以上詳述した如く、本発明で使用するフォトマスクは
感熱記録材料であるので、マスクの作成はすべて乾式で
行うことができるのみならず、デジタル信号から直接パ
ターンを作成することができる。従って、従来のフォト
マスク作成工程における湿式作業を不要とする観点から
のみならず、フォトマスク作成を大巾に簡単化されるの
で、レジストパターンの形成方法自体も大巾に改善され
る。
感熱記録材料であるので、マスクの作成はすべて乾式で
行うことができるのみならず、デジタル信号から直接パ
ターンを作成することができる。従って、従来のフォト
マスク作成工程における湿式作業を不要とする観点から
のみならず、フォトマスク作成を大巾に簡単化されるの
で、レジストパターンの形成方法自体も大巾に改善され
る。
《実施例》 以下本発明を実施例によって更に詳述するが、本発明
はこれによって限定されるものではない。
はこれによって限定されるものではない。
実施例1. スルホールメッキが施された銅張り積層板に感光性樹
脂フィルム(富士写真フイルム(株)製 VANXA450)を
貼り合わせ、以下の方法により作製した透明感熱フィル
ムにCAD用コンピューターにて作成した画像をプリント
アウトしフォトマスクとして重ね合わせ、露光、現像に
よりエッチングレジストパターンを形成し、次いでエッ
チングにより回路を形成した。
脂フィルム(富士写真フイルム(株)製 VANXA450)を
貼り合わせ、以下の方法により作製した透明感熱フィル
ムにCAD用コンピューターにて作成した画像をプリント
アウトしフォトマスクとして重ね合わせ、露光、現像に
よりエッチングレジストパターンを形成し、次いでエッ
チングにより回路を形成した。
得られた回路は断線、導通もなく良好な品質であっ
た。
た。
下記構造式で表されるロイコ色素 タケネートD−110N(武田薬品(株)製カプセル壁
材)20gを1−フェニル−1−キシリルエタン12gと、メ
チレンクロライド20gの混合溶媒に添加し、溶解した。
このロイコ染料の溶液を、PVA217C(クラレ(株)製)
及びイオン交換水を用いた8%のポリビニルアルコール
水溶液60gとイオン交換水20gの水溶液に混合し、日本精
機(株)製のエースホモジナイザーで10,000rpmで5分
間乳化し、更にイオン交換水120gを加えて、40℃で3時
間反応させてカプセルサイズ1.0μのカプセル液を製造
した。尚、上記のクラレPVA217Cはナトリウムイオン量
を低減させたものである。
材)20gを1−フェニル−1−キシリルエタン12gと、メ
チレンクロライド20gの混合溶媒に添加し、溶解した。
このロイコ染料の溶液を、PVA217C(クラレ(株)製)
及びイオン交換水を用いた8%のポリビニルアルコール
水溶液60gとイオン交換水20gの水溶液に混合し、日本精
機(株)製のエースホモジナイザーで10,000rpmで5分
間乳化し、更にイオン交換水120gを加えて、40℃で3時
間反応させてカプセルサイズ1.0μのカプセル液を製造
した。尚、上記のクラレPVA217Cはナトリウムイオン量
を低減させたものである。
下記構造式で表わされる顕色剤(a)5g、(b)2g及
び(c)8gを1−フェニル−1−キシリルエタン1gと酢
酸エチル7gに溶解した。得られた顕色剤の溶液を、PVA2
17C及びイオン交換水を用いた8%のポリビニルアルコ
ール水溶液37gとイオン交換水35g、及びドデシルベンゼ
ンスルホン酸トリエタノールアミン酸(界面活性剤)0.
2gの水溶液に混合し、日本精機(株)製のエースホモジ
ナイザーを用いて、10,000rpm常温で5分間乳化し、粒
子サイズ1.5μの乳化分散物を得た。
び(c)8gを1−フェニル−1−キシリルエタン1gと酢
酸エチル7gに溶解した。得られた顕色剤の溶液を、PVA2
17C及びイオン交換水を用いた8%のポリビニルアルコ
ール水溶液37gとイオン交換水35g、及びドデシルベンゼ
ンスルホン酸トリエタノールアミン酸(界面活性剤)0.
2gの水溶液に混合し、日本精機(株)製のエースホモジ
ナイザーを用いて、10,000rpm常温で5分間乳化し、粒
子サイズ1.5μの乳化分散物を得た。
〔感熱記録材料の作製〕 上記カプセル液5.0g、顕色剤乳化分散物10.0g、及び
イオン交換水5.0gを攪拌混合し、厚さ75μの透明なポリ
エチレンテレフタレート(PET)支持体の片面に、固形
分が6g/m2になるように塗布し乾燥して感熱層を形成
し、次いで下記の組成の保護層を、イオン交換水を用い
て感熱記録層の上に固形分が2.5g/m2となるように塗布
した。尚、カオブライトはその水分散液をイオン交換樹
脂アーバンライトMB3(オルガノ(株)製)によりイオ
ン交換処理した。
イオン交換水5.0gを攪拌混合し、厚さ75μの透明なポリ
エチレンテレフタレート(PET)支持体の片面に、固形
分が6g/m2になるように塗布し乾燥して感熱層を形成
し、次いで下記の組成の保護層を、イオン交換水を用い
て感熱記録層の上に固形分が2.5g/m2となるように塗布
した。尚、カオブライトはその水分散液をイオン交換樹
脂アーバンライトMB3(オルガノ(株)製)によりイオ
ン交換処理した。
ポリビニルアルコール(クラレ(株)製PVA217C) 2重量部 カオブライト(Thiele社) 4重量部 ホウ酸 0.1重量部 ステアリン酸Zn分散物(中京油脂(株)製) 0.2重量部 ラウリル硫酸アンモニウム 0.05重量部 得られた透明感熱記録材料をマクベス透明濃度計(可
視域)で測定したところ、波長360nmにおける透過率が9
0%であり、最大発色濃度は1.53であった。
視域)で測定したところ、波長360nmにおける透過率が9
0%であり、最大発色濃度は1.53であった。
Claims (2)
- 【請求項1】プリント基板用基板上に感光性樹脂層を形
成せしめた後、該樹脂層上にフォトマスクフィルムを載
置して露光、現像するレジストパターンの形成方法にお
いて、前記フォトマスクフィルムが加熱により発色画像
を形成せしめた透明感熱記録材料であることを特徴とす
るレジストパターンの形成方法。 - 【請求項2】透明感熱記録材料の波長360nmにおける透
過率が70%以上で、最大発色濃度が1.0以上である請求
項1に記載のレジストパターンの形成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14763790A JP2611031B2 (ja) | 1990-06-06 | 1990-06-06 | レジストパターンの形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14763790A JP2611031B2 (ja) | 1990-06-06 | 1990-06-06 | レジストパターンの形成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0440454A JPH0440454A (ja) | 1992-02-10 |
JP2611031B2 true JP2611031B2 (ja) | 1997-05-21 |
Family
ID=15434840
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14763790A Expired - Fee Related JP2611031B2 (ja) | 1990-06-06 | 1990-06-06 | レジストパターンの形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2611031B2 (ja) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5742042A (en) * | 1980-08-27 | 1982-03-09 | Ricoh Co Ltd | Heat development type diazo copying material |
JPS61116587A (ja) * | 1984-11-12 | 1986-06-04 | Ricoh Co Ltd | 第2原図用に好適な透明性感熱記録材料 |
JPS6370859A (ja) * | 1986-09-13 | 1988-03-31 | Toyota Autom Loom Works Ltd | 熱転写方式による回路基板用パタ−ンマスクの作成方法及びその装置 |
JPH01229662A (ja) * | 1988-03-10 | 1989-09-13 | Brother Ind Ltd | 画像記録装置 |
JPH021388A (ja) * | 1988-06-09 | 1990-01-05 | Ricoh Co Ltd | カラー熱転写記録媒体 |
-
1990
- 1990-06-06 JP JP14763790A patent/JP2611031B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5742042A (en) * | 1980-08-27 | 1982-03-09 | Ricoh Co Ltd | Heat development type diazo copying material |
JPS61116587A (ja) * | 1984-11-12 | 1986-06-04 | Ricoh Co Ltd | 第2原図用に好適な透明性感熱記録材料 |
JPS6370859A (ja) * | 1986-09-13 | 1988-03-31 | Toyota Autom Loom Works Ltd | 熱転写方式による回路基板用パタ−ンマスクの作成方法及びその装置 |
JPH01229662A (ja) * | 1988-03-10 | 1989-09-13 | Brother Ind Ltd | 画像記録装置 |
JPH021388A (ja) * | 1988-06-09 | 1990-01-05 | Ricoh Co Ltd | カラー熱転写記録媒体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0440454A (ja) | 1992-02-10 |
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