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JP2575132B2 - 浮遊または懸濁粒子を含む流体を処理するための方法および装置 - Google Patents

浮遊または懸濁粒子を含む流体を処理するための方法および装置

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JP2575132B2
JP2575132B2 JP62083692A JP8369287A JP2575132B2 JP 2575132 B2 JP2575132 B2 JP 2575132B2 JP 62083692 A JP62083692 A JP 62083692A JP 8369287 A JP8369287 A JP 8369287A JP 2575132 B2 JP2575132 B2 JP 2575132B2
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fluid
compartment
particles
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filtration device
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フェルツェル ロジェ
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TEKUNIIKU PUURU RENERUGII ATOMIIKU TEKUNIKATOOMU SOC
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    • G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21F—PROTECTION AGAINST X-RADIATION, GAMMA RADIATION, CORPUSCULAR RADIATION OR PARTICLE BOMBARDMENT; TREATING RADIOACTIVELY CONTAMINATED MATERIAL; DECONTAMINATION ARRANGEMENTS THEREFOR
    • G21F9/00—Treating radioactively contaminated material; Decontamination arrangements therefor
    • G21F9/02—Treating gases
    • G—PHYSICS
    • G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21F—PROTECTION AGAINST X-RADIATION, GAMMA RADIATION, CORPUSCULAR RADIATION OR PARTICLE BOMBARDMENT; TREATING RADIOACTIVELY CONTAMINATED MATERIAL; DECONTAMINATION ARRANGEMENTS THEREFOR
    • G21F9/00—Treating radioactively contaminated material; Decontamination arrangements therefor
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  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
  • Filtering Of Dispersed Particles In Gases (AREA)
  • Filtration Of Liquid (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、浮遊または懸濁粒子を含む流体を処理する
ための方法に関する。より詳細には本発明は、ガス中に
浮遊または液体中に懸濁された粒子を除去すること、特
に0.01μｍ程度に小さい極めて細かい粒子を除去するこ
とに関する。
流体がガスであるとき、前記粒子はエアロゾール、微
細粉体、灰等であり得る。特に、このタイプの浮遊粒子
を含むガスは、核または非核施設、例えば原子炉、プラ
ントおよび研究室の内部雰囲気内、放射性または非放射
性廃棄物を焼却するための施設内、液体乾燥施設および
すべてのほこりを含む施設内で見られる。
流体が液体であるとき、粒子は微粉状の不溶性物質、
例えば金属酸化物の粉体、コロイド状粒子等で構成され
得る。
サスペンション中のこのタイプの粒子を含む液体の例
としては、原子力発電プラント、核プラントおよび多数
の工業用施設で発生する廃液および廃棄物がある。
このタイプの流体を処理するための現在最も広く使用
されている方法は、粒子を保持するのに充分細いメッシ
ュ寸法を有するろ過エレメントに流体を通過させて流体
をろ過している。しかしながらかかる方法では、フィル
タが漸次詰まるので、このことによりろ過回路の作動特
性が変わり、詰まったろ過エレメントを定期的に交換し
たり、加圧流体を注入することにより向流の詰まり防止
段階の作動をさせる必要がある。
フィルタを交換することは、特にろ過した粒子が放射
性であるとき深刻な欠点を招く。従って、これらフィル
タに附着した放射能による汚染および照射の危険を解消
するためこれらフィルタを取扱う上での安全上の問題が
生じる。更にこれらフィルタは、長期間の貯蔵を可能に
するようコンクリート、ビチューメン、または熱硬化性
樹脂等の密な基材中に拘束しなければならないが、この
ことは極めて大きな容積の不活性材料中に放射性のほこ
りを希釈し、よって廃棄物の容積を増大させてしまう。
加圧流体を注入することによりフィルタを詰まりを除く
という別の方法はこの欠点を解消するが、複雑であり、
実施が困難である。
この状況を解消するため流体内に含まれる粒子を除く
ようサイクロン分離器または静電フィルタを使用するこ
とにより流体を処理することが考慮されてきたが、かか
る装置は、かかる粒子に対する停止力が不適当である。
本発明は特に上記欠点を解消すると共に浮遊または懸
濁した粒子を含む流体を処理するための方法に関する。
本発明によれば、処理すべき流体は、浄化された状態
にある流体の一部を抽出するようろ過する段階と、流体
中にサスペンションとして存在する粒子の一部を抽出す
る分離段階から成る処理サイクルを受ける。この処理サ
イクルは、ろ過段階または分離段階のいずれかで開始さ
れ、分離段階からの粒子が減少された流体またはろ過段
階からの粒子濃縮流体はこれら流体に処理すべき流体を
加えた後に更に処理サイクルを受ける。
処理サイクルの実施のため、第１段階としていずれを
選択するかは特に処理すべき流体の粒子濃度に応じて決
める。
従って、処理すべき流体中の粒子濃度が高い場合、分
離段階を優先してスタートする。この場合、この方法は （ａ） 処理すべき流体に存在する粒子の数を減少させ
るようこれら粒子の一部を分離し、 （ｂ） 第１区画室の出口で粒子が濃縮された流体が得
られ、浄化された流体が第２区画室へ拡散するように粒
子の大きさよりも小さい大きさの細孔を有し、内部に第
１区画室を構成する内部をミクロ多孔質の層でコーティ
ングしたマクロ多孔質の支持体を有するチューブによっ
て形成された少なくとも一つの多孔質の透過性の壁によ
り第１区画室および第２区画室に分割されたろ過装置の
第１区画室にて上記工程の結果生じた流体を循環させ、 （ｃ） 第２区画室へ拡散した浄化済み流体を回収し、 （ｄ） 第１区画室を離間する粒子の濃縮された流体が
処理すべき流体と共に更に処理サイクルを受けるようこ
の流体を循環処理する諸工程から成る処理サイクルを処
理すべき流体が受けることから成る。
逆に処理すべき流体中の粒子濃度が比較的低い場合、
ろ過段階を優先して処理サイクルをスタートさせる。こ
の場合、この方法は （ａ′） 第１区画室の出口で粒子が濃縮された流体を
得て、浄化された流体が第２区画室へ拡散するように粒
子の大きさよりも小さい大きさの細孔を有し、内部に第
１区画室を構成する内部をミクロ多孔質の層でコーティ
ングしたマクロ多孔質の支持体を有するチューブによっ
て形成された少なくとも一つの多孔質の透過性の壁によ
り第１区画室および第２区画室に分割されたろ過装置の
第１区画室にて処理すべき流体を循環させ、 （ｂ′） 第２区画室へ拡散した浄化済み流体を回収
し、 （ｃ′） 流体の粒子の減少が生じるよう第１区画室を
離間する流体中に存在する粒子の一部を分離し、 （ｄ′） よって粒子の減少した流体が処理すべき流体
と共に更に処理サイクルを受けるように粒子の減少した
流体を循環処理する諸工程から成る処理サイクルを流体
が受けることから成る。
上記処理サイクルの実施により、本発明の方法は懸濁
粒子または浮遊した粒子を含む液体またはガスの処理に
関連して多くの利点を与える。
従って、粒子濃縮段階と粒子低減段階を連続して実施
すると、ろ過装置内を循環する流体の粒子濃度が適当な
値に維持され、多孔質壁の詰まりを防止することが可能
となる。
更に前記方法は、望ましいろ過作用を得るのに多孔質
の透過性の壁の特性を選択するだけでよいので、極めて
進歩したろ過作用を得ることができる。
従って、従来の方法の欠点、すなわち放射性または有
害な浮遊または懸濁粒子を含む流体の処理にろ過エレメ
ントを使用したときろ過エレメントを交換したり、これ
らを不活性基材中に拘束しなければならないような欠点
が解消される。前記廃棄物は分離段階中では粒子濃縮物
の形態で回収されるので、処理すべき放射性または有害
な廃棄物の容積は限られる。
更にろ過装置の詰まりを防止することにより、長期間
にわたって安定した作動特性にていくつかの処理サイク
ルを実施できる。
本発明はこの方法を実施する装置にも関し、この装置
は、粒子の大きさよりも小さい大きさの細孔を有し、内
部に第１区画室を構成する内部をミクロ多孔質の層でコ
ーティングしたマクロ多孔質の支持体を有するチューブ
によって形成された少なくとも一つの多孔質の透過性の
壁により第１区画室および第２区画室に分割されたろ過
装置、ろ過装置の第１区画室の２つの端部に接続された
粒子分離装置および処理すべき流体の処理回路内での循
環を可能とする手段を連続的に含む処理回路と、 処理すべき流体を処理回路内へ導入するための手段
と、 ろ過装置の第２区画室へ拡散した流体を抽出するため
の手段と、 分離装置内で分離された粒子を収集するための手段か
ら成る。
この装置では、処理すべき流体が連続して、ろ過装置
および粒子分離装置をまたはこの逆に循環するように処
理回路内で処理すべき流体を循環させるための手段が処
理すべき流体を導入するための手段に対して配置されて
いる。
本発明で使用されるろ過装置は、液体中に存在する成
分を濃縮しかつ分離するため使用されるモジュールにお
けるように互いに平行に配置された複数の多孔質チュー
ブを有する超ろ過モジュールにより構成できる。
粒子分離装置は、従来装置、例えば静電フィルタ、イ
ンパクトすなわちバッフル作用により作動されるダスト
分離器、デカンタ等で構成できる。本発明の方法では、
好ましくはサイクロン分離器またはハイドロサイクロ
ン、例えばガスまたは流体流から粒子が濃縮された成分
を抽出するため遠心力を利用する純粋に静的な装置が使
用される。
以下限定的でない実施態様および添附図面に関連して
本発明をより詳しく説明する。
好ましい実施態様の詳細な説明 第１図を参照すると、処理回路１は、多孔質の透過性
チューブ3cにより第１区画室3aと第２区画室3bとに分割
されたろ過装置３と、バルブ９を備えたパイプ７により
第１区画室3aの両端の一方に連結されると共にバルブ13
および循環ポンプ15を備えたパイプ11により第１区画室
3aの他端に連結された分離装置５とから成ることが判
る。
処理すべき流体はバルブ19を備えたパイプ17により処
理回路１内へ導入できる。ろ過装置３内で浄化された流
体は、バルブ23を備えたパイプ21により抽出でき、分離
装置５内で分離された粒子はパイプ25により抽出でき
る。
処理すべき流体、例えばガスは稼動中にパイプ17によ
り処理回路１内へ導入される。ガスは、循環ポンプ15に
よりろ過装置３内へ吸引され、このろ過装置では区画室
3aおよび3bの間に差圧が生じさせ、このろ過装置からパ
イプ21を使って浄化したガスを抽出し、パイプ７を通し
て粒子を濃縮したガスを抽出できるようになっている。
こうして濃縮されたガスは、次に分離装置５へ導入され
る。この装置はサイクロン分離器と交換できる。この分
離装置５では、ガス流から粒子の一部を分離し、ガス流
の成分を減少させるが、パイプ11を通してろ過装置３へ
ガスを再循環させる。このガスの粒子濃度は、過大でな
いので多孔質チューブ3cの詰まりが防止される。このガ
スは、パイプ17を通して処理すべき流体に加えられた後
に更に処理サイクルを受ける。
前記処理回路の構造上の変形例として、バルブ19が備
えられたパイプ17を点線で示すようにバルブ19′が備え
られたパイプ17′と置換する。このことにより、ろ過段
階でなくて、分離段階で処理サイクルを開始するよう分
離装置５の上流に流体を導入することが可能となる。
この処理回路では、流量および圧力は、チューブ壁へ
の粒子の附着を防止するよう、チューブ3cでかなりの乱
流を伴う高速流体の流出がろ過装置３内で得られるよう
処理すべき流体の性質に応じてバルブ９、13、19および
23により調節される。バルブ19およびパイプ17により導
入される流れは、本質的には、バルブ23を備えたパイプ
21により吸引される流れに対応する。
同じように、ろ過装置内で使用される多孔質のチュー
ブ3cは、処理すべき流体の性質に応じて選択される。こ
れら多孔質チューブは、金属製材料、セラミック材料、
例えばアルミナまたはプラスチック材料から製造でき
る。更に内部をミクロ多孔質の層でコーティングしたマ
クロ多孔質の支持体を有するチューブ、例えばZrO2の層
でコーティングしたカーボンチューブを使用することも
できる。このタイプのチューブは、例えば米国特許第4,
341,631号および欧州特許第0040282号に記載されてい
る。このチューブの特性も、処理すべき流体の機能に応
じて選択する。一般に、0.01〜５μｍの平均孔径および
高透過度を有するチューブを使用する。
上記処理回路は、粒子を含む液体またはガスの処理に
使用できる。後でガス処理回路および液体処理回路の作
動条件を例示する。
粒子含有ガス用の処理回路 15mmの内径、0.25mmの厚さおよび１μｍの平均孔径を
有する多孔質の金属チューブを使用する。ろ過装置の２
つの区画室の間に10kPa（100mbdrs）の差圧を発生す
る。これら条件下では、パイプ21に吸引される拡散流
は、多孔質の壁1m2につき、10〜300m3/時間となり、パ
イプ７中の再循環流は、拡散流の約４倍となる。パイプ
17により導入される処理すべき流体のトッピング流は、
この拡散流に対応する。従って、このタイプの施設は、
多孔質の壁1m2につき10〜300m3/時の処理をするのに適
する。
粒子を含む液体用の処理回路 この場合、ミクロ多孔質のジルコニウム層をコーティ
ングした多孔質のカーボンチューブを使用する。このチ
ューブは6mmの内径、2mmの厚さを有し、ミクロ多孔質の
層の平均孔径は0.01μｍである。
超ろ過装置の２つの区画室の間に0.4μPa（4bdrs）の
差圧が生じると、パイプ21で多孔質壁・1m2あたり250
/hを吸引できる。この場合、再循環流は、パイプ21によ
り吸引される流れの10〜50倍である。
処理回路がガス用のものである場合、粒子分離装置５
はサイクロンでよいが、サイクロンにより実施される粒
子の脱濃縮は、粒子の大きさに応じて変わる。従って、
定められた作動条件下では、再循環されるガスの一定の
濃縮が行なわれる。従って、５μｍの粒子の場合、従来
のサイクロンの効率は、一般に50％であり、粒子を伴う
ガスの濃縮は、多くて回路に進入する粒子レベルの倍と
なる。浮遊粒子の大きさが約１μｍのとき、サイクロン
の効率は一般に25％で、この場合の濃縮は、処理回路進
入時の粒子の初期レベルの４倍となる。処理回路が液体
用である場合、装置５は水分離器またはハイドロサイク
ロンで構成でき、これによりパイプ25を通してスラッジ
を排出できる。
第５図に示す装置では、いくつかのろ過段を直列にし
て使用できる。分離のためいくつかの装置を直列にして
使用することもできる。
第２図は、本発明の方法を利用して放射性廃液をフラ
ッシュ（気流）乾燥するための装置を示す。この装置で
は、処理すべき廃液はタンク30内に貯蔵され、このタン
ク30には、パイプ31および循環ポンプ32、インラインpH
調節システム34および不溶化生成物注入装置36が備えら
れている。容積ポンプ40が備えられたパイプ38はタンク
30から流れた廃液をフラッシュ乾燥反応器42へ注入する
ことを可能にする。反応器42へは、ブロアー46によりフ
ィルタ44を通して吸引され、ヒータ48により加熱された
高温の空気がパイプ43により導入される。従って、フラ
ッシュ反応器42内では、廃液は、高温空気により蒸発さ
れ、希釈ボックス50内の反応器を離間する際、冷却用空
気により冷却される。この冷却用空気は、熱交換器54内
で冷却された後にパイプ52によりボックスへ導入され
る。従って、希釈ボックス50を離間する混合物は、粉体
すなわち粒子を含む空気により構成され、前記混合物は
次に回路56内で本発明に係るプロセスにより処理され
る。この回路56は、サイクロン分離器58、循環ファンす
なわちベンチレータ60およびろ過装置62を備えている。
処理回路内の循環方向は、図に示されている。従って、
ほこりおよび粉体含有空気はまずサイクロン58内へ導入
され、ここで粉体またはほこりの一部が分離され、ロッ
ク64に収集されるが、一方粒子が減少されたガスは、再
びファン60により上昇され、ろ過装置62へ導入される。
このろ過装置62からは、浄化された空気がパイプ66によ
り排出され、粒子が濃縮された空気がサイクロン58へ再
循環され、フラッシュ乾燥器42からほこりを載せた空気
のトッピングが行なわれる。パイプ66を通ってろ過装置
を離れる浄化済み空気は、ポンプ68により吸引され、安
全フィルタ70を通った後に大気中へ排出される。
従って、この装置は廃液を直接粉体へ変換し、粉体を
本発明の方法により廃棄物処理設備へ直接導入すること
を可能にする。従って、廃棄物の容積を限定することが
でき、満足できる条件下でこれらの連続的処理ができ
る。
第３図は、第２図の装置の構造上の変形例を示し、２
つの装置では同じ構成部品を示すのに同じ参照番号を使
用した。この変形例では、希釈ボックス50からの放射性
のほこりおび粉体を含む空気流がまずサイクロン57内へ
導入され、この内部で固体分の一部が59にて分離され
る。次にハイドロサイクロンを離間したガス流がパイプ
61により処理回路56内へ導入され、ファン60によりろ過
装置62およびサイクロン分離器58内を循環される。サイ
クロン分離器を離間したガス流は、ファン60によりろ過
装置62内へ再循環される。ろ過装置62からは浄化された
ガス流が抽出される。サイクロン分離器58で分離された
固体粒子は、空気流によりパイプ80を通って希釈ボック
ス50内へ再循環できる。この空気流は、冷却空気を構成
すると共にファン81によりフィルタ83を通って吸引され
る。
この装置の変形例では、乾燥用反応器42からのほとん
どの粒子を分離するための第１サイクロン57を使用し、
次に本発明の方法、すなわち、サイクロン58とガスを浄
化しかつパイプ66を通して浄化済みガスを排出するため
のろ過装置62とから成る回路56を使用する。
第４図は放射性粒子を含む液体を処理するための装置
を示す。この装置は、処理すべき液体を貯蔵するための
タンク91を含み、このタンク91は、循環ポンプ96、ろ過
装置98およびハイドロサイクロン100を含む処理回路95
にポンプ94を備えたパイプ93によって連結されている。
パイプ102は、ろ過装置98を離れる浄化済み液体を抽出
することが可能であり、２方向バルブ104を介して圧縮
空気アキュムレータ106または浄化済み液体を排出する
ためのパイプ108に連結される。ハイドロサイクロン100
で分離されるスラッジは貯蔵用容器110内に貯蔵でき、
次にバルブ114を備えたパイプ112により貯蔵タンク116
へ排出できる。貯蔵タンク116は、バルブ120を備えたパ
イプ118により廃棄物コーティングまたは乾燥装置へ連
結できる。
この装置では、処理された液体はまずろ過装置98内の
ろ過を受け、次にハイドロサイクロン100内の濃縮液に
含まれる固体粒子の分離を受ける。水サイクロン100を
離間する脱濃縮液は、ポンプ96により分離すべき液体と
共にろ過装置98内へ再循環される。バルブ104は定期的
にパイプ102と圧縮空気アキュムレータ106を連結するよ
う傾動され、これと同時にバルブ114が開けられる。こ
れにより、装置98の多孔質チューブを通る簡単な向流を
保証しかつ装置のチューブ内の流れを低速にする性質が
ある分極化層を除くことができる。極く短時間の間持続
するこの操作の後にバルブ104を元の位置へ戻すが、ア
キュムレータ106を再充填するためバルブ114を閉じてお
く。これらの操作は、タイマーにより定期的に繰返す。
第５図は、タンク91が処理回路95の一部を形成する第
５図の装置の構造上の変形例を示す。従って、タンク91
内にある処理すべき液体は、ポンプ96によりろ過装置98
次にハイドロサイクロン100へ導入されて循環される。
水サイクロンを離れる脱濃縮液は、貯蔵タンク91により
ろ過装置98へ再循環される。この場合、２方向バルブ10
4を介して浄化液のための抽出パイプ102へ連結された空
気アキュムレータ106があり、バルブ104を定期的に傾動
させかつバルブ114を開けるためのタイマーも使用さ
れ、バルブ114は再度アキュムレータの再充填をするよ
うバルブ104を傾動する直前には閉じている。
上記装置は、放射性または有害な液体およびガスを処
理するための本発明の方法の利点を明らかに示す。この
方法は、非放射性流体、特にほこりを連行したガスの処
理にも極めて有利である。
【図面の簡単な説明】
第１図は、本発明に係る処理回路の略図、第２図は乾燥
装置を離間する流体を処理するよう本発明の方法を利用
して放射性廃液を乾燥するための装置を示し第３図は第
２図の装置の構造上の変形例を示し、第４図は本発明の
方法を使用して放射性廃液を処理するための装置の略
図、第５図は第４図に示された装置の構造上の変形例を
示す。 １……処理回路 ３……ろ過装置 3a……第１区画室 3b……第２区画室 3c……多孔質の透過性チューブ ５……分離装置 15……循環ポンプ

Claims (12)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】浮遊または懸濁粒子を含む流体を処理する
    ための方法において、 （ａ） 処理すべき流体に存在する粒子の数を減少させ
    るようこれら粒子の一部を分離し、 （ｂ） 第１区画室の出口で粒子が濃縮された流体が得
    られ、浄化された流体が第２区画室へ拡散するように粒
    子の大きさよりも小さい大きさの細孔を有し、内部に第
    １区画室を構成する内部をミクロ多孔質の層でコーティ
    ングしたマクロ多孔質の支持体を有するチューブによっ
    て形成された少なくとも一つの多孔質の透過性の壁によ
    り第１区画室および第２区画室に分割されたろ過装置の
    第１区画室にて上記行程の結果生じた流体を循環させ、 （ｃ） 第２区画室へ拡散した浄化済み流体を回収し、 （ｄ） 第１区画室を離間する粒子の濃縮された流体が
    処理すべき流体と共に更に処理サイクルを受けるようこ
    の流体を循環処理する諸工程から成る処理サイクルを処
    理すべき流体が受ける、処理方法。
  2. 【請求項２】流体はガスである特許請求の範囲第１項に
    記載の方法。
  3. 【請求項３】流体は、放射性廃液乾燥装置からの粒子連
    行ガスである特許請求の範囲第１項に記載の方法。
  4. 【請求項４】流体は、液体である特許請求の範囲第１項
    に記載の方法。
  5. 【請求項５】浮遊または懸濁粒子を含む流体を処理する
    ための方法において、 （ａ′） 第１区画室の出口で粒子が濃縮された流体を
    得て、浄化された流体が第２区画室へ拡散するように粒
    子の大きさよりも小さい大きさの細孔を有し、内部に第
    １区画室を構成する内部をミクロ多孔質の層でコーティ
    ングしたマクロ多孔質の支持体を有するチューブによっ
    て形成された少なくとも一つの多孔質の透過性の壁によ
    り第１区画室および第２区画室に分割されたろ過装置の
    第１区画室にて処理すべき流体を循環させ、 （ｂ′） 第２区画室へ拡散した浄化済み流体を回収
    し、 （ｃ′） 流体の粒子の減少が生じるよう第１区画室を
    離間する流体中に存在する粒子の一部を分離し、 （ｄ′） よって粒子の減少した流体が処理すべき流体
    と共に更に処理サイクルを受けるように粒子の減少した
    流体を循環処理する諸工程から成る処理サイクルを流体
    が受ける流体処理方法。
  6. 【請求項６】流体がガスである特許請求の範囲第５項に
    記載の方法。
  7. 【請求項７】流体は、放射性廃液乾燥装置からの粒子連
    行ガスである特許請求の範囲第５項に記載の方法。
  8. 【請求項８】流体は、液体である特許請求の範囲第５項
    に記載の方法。
  9. 【請求項９】浮遊または懸濁粒子を含む流体を処理する
    ための装置であって、 粒子の大きさよりも小さい大きさの細孔を有し、内部に
    第１区画室を構成する内部をミクロ多孔質の層でコーテ
    ィングしたマクロ多孔質の支持体を有するチューブによ
    って形成された少なくとも一つの多孔質の透過性の壁に
    より第１区画室および第２区画室に分割されたろ過装
    置、ろ過装置の第１区画室の２つの端部に接続された粒
    子分離装置および処理すべき流体の処理回路内での循環
    を可能とする手段を連続的に含む処理回路と、 処理すべき流体を処理回路内へ導入するための手段と、 ろ過装置の第２区画室へ拡散した流体を抽出するための
    手段と、 分離装置内で分離された粒子を収集するための手段とか
    ら成る流体処理装置。
  10. 【請求項１０】処理回路で処理すべき流体を循環するた
    めの手段は処理すべき流体が連続してろ過装置および粒
    子分離装置へ循環するようになっている特許請求の範囲
    第９項記載の装置。
  11. 【請求項１１】処理回路内で処理すべき流体を循環する
    ための手段は、処理すべき流体が連続して粒子分離装置
    およびろ過装置へ循環するようになっている特許請求の
    範囲第９項記載の装置。
  12. 【請求項１２】粒子分離装置はサイクロン分離器である
    特許請求の範囲第９項記載の装置。
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