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JP2523776B2 - ジルコニアセラミツク材料用組成物 - Google Patents

ジルコニアセラミツク材料用組成物

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JP2523776B2
JP2523776B2 JP63098479A JP9847988A JP2523776B2 JP 2523776 B2 JP2523776 B2 JP 2523776B2 JP 63098479 A JP63098479 A JP 63098479A JP 9847988 A JP9847988 A JP 9847988A JP 2523776 B2 JP2523776 B2 JP 2523776B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は安定化した金属酸化物に関し、特に含水金属
酸化物で被覆することにより安定化された金属酸化物に
関する。
〔従来の技術〕
ジルコニウム酸化物は、セラミック材料の製造に用い
られており、そのような製造中、酸化物は加熱され、そ
の間に酸化物の結晶形態は、酸化物が加熱される温度に
より正常な室温単斜晶系から正方晶系及び立方晶系へ変
化する。正常な条件下では、単斜晶系の純粋なジルコニ
アだけが室温で安定であり、正方晶系又は立方晶系の形
態のものを安定化する工程がとられない限り、それらは
冷却で単斜晶系へ戻る。
これらの高温正方晶系及び立方晶系の結晶形態をもつ
ものが少なくとも幾らか存在することは、セラミックに
とって一層望ましく、これらの結晶形態の室温での安定
性を改良するための工程が従来とられてきた。それらの
工程は、ジルコニアと安定化剤とを混合することを含ん
でおり、その安定化剤はそのドープした酸化物を加熱し
た時、ジルコニア中に配合されることにより、それを室
温へ冷却した時に形成される結晶に安定化効果を及ぼ
す。
そのような安定化又は部分的に安定化した組成物は、
主要なジルコニア粉末と酸化イットリウム粉末の如き安
定化剤とを混合し、その混合物をか焼し、粉砕して適当
な粒径の安定化セラミック材料を形態することにより、
ジルコニアから形成されてきた。別法として、含水ジル
コニアと含水イットリウムを水溶液から共沈させ、よく
混ざり合った含水酸化物(hydrous oxide)を形成し、
それを次にか焼してから粉砕し、混合した酸化物セラミ
ック組成物を得ることにより、ジルコニアと酸化イット
リウムとの混合物が形成されてきた。これらの安定化組
成物の製造方法は、か焼及び粉砕を必要とする点で非常
にエネルギーを消費し、更に、過度の結晶成長及び(又
は)得られた粉末の純度の低下をもたらすことがある。
もし安定化ジルコニアを、このような従来の欠点の実
質的に少なくすることができる別の方法によって得るこ
とができるならば望ましいことが認識されてきた。
〔本発明についての記述〕
本発明によれば、セラミック材料を製造するのに用い
るのに適した組成物は、チタン及び(又は)アルミニウ
ムの含水酸化物と、イットリウム、カルシウム、マグネ
シウム、ストロンチウム又はセリウムの少なくとも一種
類の含水酸化物とで被覆した粒状ジルコニアからなる。
本発明による被覆ジルコニアは、セラミック物体を形
成するための焼成で、安定化されたジルコニアへ転移す
る。
生成物を製造する方法により、チタン及び(又は)ア
ルミニウムの含水酸化物は他の含水酸化物(一種類又は
多種類)の外側層又は被覆によって取り巻かれた含水チ
タニア及び(又は)含水アルミナのばらばらな内部層と
して存在していてもよく、別法として生成物は、粒状ジ
ルコニアで、それら粒子が混合含水チタニア及び(又
は)含水アルミナと、規定した他の含水酸化物(一種類
又は多種類)との層で被覆されている粒状ジルコニアか
らなっていてもよい。
特に有用な生成物は、粒子の大部分が0.5μに等しい
か又はそれより小さな粒径、好ましくは0.2μより小さ
な直径を有するような粒径を有するジルコニアからな
る。
被覆として用いられるイットリウム、カルシウム、マ
グネシウム、ストロンチウム又はセリウムの含水酸化物
の量は、二つの因子に依存する。第一に、用いられる実
際の量は、付着される粒状金属酸化物に依存する。その
量は、焼成したジルコニアに賦与したい安定化度にも依
存する。
ある情況下では、完全安定化、即ち生成物を可能な最
高の程度まで安定化するのと同様に、ジルコニアの部分
的安定化が望ましいことは本明細書を読むことにより明
らかになるであろう。一般的に言って、部分的に安定化
した生成物のためには、被覆として存在する含水酸化物
の量は、完全に安定化された生成物のために必要な量よ
りも少なくなるであろう。特に望ましい安定化度は、ジ
ルコニアの主たる相が正方晶系である物体に相当する。
そのような生成物は正方晶系ジルコニア多結晶(TZP)
と呼ばれている。
部分的に安定化した粒状ジルコニアのためには、存在
するイットリウムの含水酸化物の量は、ジルコニアのモ
ル数に基づいてY2O3として表して1〜7モル%であるの
が有用であることが見出だされている。部分的に安定化
した生成物のために一層好ましいのは、イットリウムの
含水酸化物の量がジルコニアのモル数に基づいて1.5〜
5モル%のY2O3になっていることである。含水金属酸化
物がカルシウム、マグネシウム又はストロンチウムの含
水酸化物である場合、部分的に安定化した生成物のため
には、酸化物の量は、一般的に言って、ジルコニアのモ
ル数に基づいて酸化物として4〜14モル%であるのが好
ましい。部分的に安定化した生成物にとって好ましい、
カルシウム、マグネシウム又はストロンチウムの含水酸
化物の量は、ジルコニアのモル数に基づいて酸化物とし
て6〜12モル%である。含水金属酸化物がセリウムの含
水酸化物である場合、部分的に安定化した生成物のため
には、含水酸化物の量は一般的に言って、ジルコニアの
モル数に基づいてCeO2として表して2〜18モル%である
のが望ましい。部分的に安定化した生成物にとって好ま
しい、セリウムの含水酸化物の量は、ジルコニアのモル
数に基づいてCeO2として表して6〜12モル%である。
処理した生成物がその結晶構造に関してできるだけ完
全に安定化されているようにするためには、イットリウ
ムの含水酸化物の量はジルコニアのモル数に基づいてY2
O3として5〜10モル%であるのが望ましく、好ましくは
6〜9モル%である。同様に、完全に安定化した処理ジ
ルコニアを生成させるためにはカルシウム、マグネシウ
ム又はストロンチウムの含水酸化物の量は、ジルコニア
のモル数に基づいて酸化物として8〜25モル%、好まし
くは12〜20モル%である。セリウムの含水酸化物を、完
全に安定化したジルコニアを生成させるために用いるた
めには、セリウムの含水酸化物の量はジルコニアのモル
数に基づいてCeO2として表して14モル%より多く、好ま
しくは18モル%より多い。
勿論、含水チタニア及び(又は)含水アルミナの他
に、イットリウム、カルシウム、マグネシウム、ストロ
ンチウム又はセリウムの金属酸化物から選択された二種
類以上の異なった金属酸化物を付着させることができる
が、この場合には、付着した総計量は必ずしも個々の含
水金属酸化物のための量を越える必要はない。
チタン及び(又は)アルミニウムの含水酸化物の、ば
らばらな遊離した被覆として又は他の含水金属酸化物と
一緒に付着された量は、一般的に言って、ジルコニアの
モル数に基づいてTiO2又はAl2O3として表して0.2〜15モ
ル%、好ましくは0.3〜5モル%、最も好ましくは0.5〜
0.2モル%である。含水チタニアと含水アルミナとが両
方が存在する場合、その量はジルコニアのモル数に基づ
いてTiO2及びAl2O3として表して通常0.2〜5モル%、好
ましくは0.5〜2モル%である。
本発明に従って、セラミックとして用いるための材料
の基本組成物を形成するために用いられる粒状酸化ジル
コニウムは、蒸発させたジルコニウム化合物の蒸気相酸
化・加水分解によって形成されるのが好ましい。蒸気状
態で酸化又は加水分解することができる典型的なジルコ
ニウム化合物は、ジルコニウムハロゲン化物、特に四塩
化ジルコニウム及びジルコニウムアルコキシドである。
これは通常ジルコニウム化合物と過剰の加熱酸素又は水
蒸気とを、四塩化ジルコニウムの酸化又は加水分解が行
なわれるような条件下で混合することにより行なわれ、
ガス流から冷却及び分離することにより直線希望の粒径
のジルコニアが得られる。四塩化ジルコニウムと反応さ
せるために酸素を加熱する好ましい方法は、一般に、所
謂電気プラズマを発生するのに適当な電圧及び電流で電
力を供給した二つの電極間の電気アーク中に酸素を通す
ことである。粒状ジルコニアを製造するこの方式は、生
成物が直接酸化物形で得られること、及び、被覆で処理
する前に必要なその生成物の強力な粉砕を行なうことな
く、できるだけ結晶粒径に近い生成物の粒径が得られる
ように、酸化工程を調節することができると言う点で、
利点を有する。
本発明の組成物は、種々の含水酸化物をジルコニアの
粒子の表面に被覆として付着させるようなやり方で、粒
状ジルコニアを処理することにより得られる。被覆操作
は、最初に酸化ジルコニウム粒子を水中に分散させる湿
式処理法として行なうのが好ましい。この分散は、分散
剤を何等必要とすることなく、直接ジルコニアの粒子と
水とを混合することにより行なうことができることが判
明している。このことは、分散剤の成分による生成物の
不必要な汚染を避けることができるので、推奨できる。
一般的に言って、ジルコニウムハロゲン化物を気相酸化
することにより得られる酸化ジルコニウムは水と混合物
した時、高度に酸性であり、ジルコニアの粒子の正確な
形態により、1位の分散pHを生ずることができ、高度に
酸性の分散物であることを示している。
上述の如く、ジルコニア粒子の水中への分散は、得ら
れた分散物が400g/までの濃度でジルコニアを含有す
るような量で通常水と攪拌することにより行なわれる。
通常ジルコニアの量は50g/のジルコニア以上であり、
実際に用いるのに便利な濃度は、200g/のジルコニア
である。しかし、例えば、もし望むならば、サンドミル
(sand mill)中で粉砕することにより分散度をよくす
ることができる。
粒状ジルコニアの水性分散物に、チタン及び(又は)
アルミニウムの水溶性加水分解性塩を、被覆として必要
な量の含水酸化物を加水分解で生ずるのに充分な量で添
加する。用いることができる典型的な水溶性塩は硫酸チ
タニル、硫酸チタニルアルミニウム、硫酸アルミニウム
及び硝酸アルミニウムである。酸化ジルコニウムの粒子
上への含水酸化物の沈殿は、溶液のpHを、含水酸化物を
付着させるのに充分なアルカリ性の値まで上昇させるこ
とにより行なわれ、pHを含水酸化物を付着させるために
上昇させるこの処理は、もし望むならば、規定した他の
一種類以上の含水酸化物を付着させるのに用いられる他
の水溶性化合物を添加する前に行なってもよい。しか
し、酸化ジルコニウム粒子上への含水チタニア及び(又
は)含水アルミナ被覆の付着を、他の加水分解性金属化
合物をその水性分散物と混合してしまうまで遅らせるの
が好ましいが、含水チタニア及び(又は)含水アルミナ
の源を、酸化ジルコニウム粒子の水性分散物と、その分
散物とそれら他の加水分解性金属化合物とを混合する前
に混合するのが好ましい。
上述の如く、チタン及び(又は)アルミニウムの水溶
性加水分解性化合物と、粒状酸化ジルコニウムの水性分
散物と混合した後、その水性分散物へ、イットリウム、
カルシウム、マグネシウム、ストロンチウム又はセリウ
ムの水溶性加水分解性化合物又はそのような化合物の二
種類以上を、特別な規定した金属の含水酸化物を必要な
量導入するのに適切な量で添加する。用いることのでき
る典型的なイットリウムの加水分解性化合物は、塩化イ
ットリウム、硝酸イットリウム及び硫酸イットリウムで
ある。用いることができる他の金属の典型的な水溶性塩
は、その特定な金属に依存するが、塩化物、硝酸塩、幾
つかの硫酸塩及び酢酸塩が含まれる。用いることができ
る他のイットリウム源は、酸化イットリウムを適当な酸
に溶解することにより調製され、その溶液を分離するこ
となく用いる。
ジルコニア粒子の水性分散物と加水分解性金属化合物
とを混合する適当な手段を、種々の温度で用いることが
できるが、被覆工程は10℃〜70℃の温度で行なうのが好
ましい。
酸化ジルコニウムの水性分散物と種々の薬品を混合し
た後、分散物のpHを各含水酸化物被覆を沈殿させるのに
充分な値まで上昇させる。pHを上げなければならない実
際の水準は、付着すべき特定の含水酸化物に依存し、例
えば、酸化物がイットリウムの含水酸化物である場合に
は、水性分散物のpHを、加水分解性金属化合物からの含
水酸化物の沈殿を行なわせるための7〜9の範囲内の値
まで上昇させれば充分である。沈殿させるべき含水金属
酸化物がカルシウム、マグネシウム又はストロンチウム
である場合、これを行なうのに適当なpHは8〜12の範囲
内にあることが判明している。沈殿させるべき含水金属
酸化物がセリウムである場合、これを行なうのに適切な
pHは2〜9の範囲内にあることが判明している。
酸性水性分散物の中和及びpHの増加は、その水性分散
物に適当なアルカリを添加することにより行なわれるの
が好ましい。アルカリが水酸化アンモニウムであるのが
最も好ましい。何故ならこれは溶液中に有害な金属イオ
ンを導入することがなく、使用済みアンモニアは加熱す
ることにより除去することができるからである。チタン
及び(又は)アルミニウムの含水酸化物を付着するため
には、水酸化アンモニウムの添加が非常に適しており、
イットリウム又はセリウムの含水酸化物を約9以下のpH
で付着させる場合にも用いることができる。しかし、他
の含水金属酸化物を付着させようとする場合、一層強い
アルカリが必要であり、通常水酸化ナトリウム又は水酸
化カリウムの如き、アルカリ金属水酸化物が必要であ
る。しかしそのようなアルカリ金属水酸化物が用いられ
る場合、生成物を適切に洗浄し、汚染性アルカリ金属イ
オンを全て除去することが必要である。通常得られる生
成物は、M2Oとして表して0.01%より多くの水準のアル
カリ金属不純物を含むべきではない。
含水酸化物被覆を付着させた後、生成物をろ過により
分離し、必要に応じて洗浄し、乾燥する。もし必要なら
ば、乾燥した生成物を粉砕して処理中に生じた凝集物を
全て除くようにしてもよい。
粉末生成物は、焼成により成形セラミック物体を製造
するのに用いるのに非常に適している。
安定化剤を被覆として存在させた生成物は、安定化剤
がよく分布し且つよく混合されたものを与え、焼成によ
りジルコニア中にその安定化剤をよく配合させることが
できる。
被覆したジルコニア化合物をセラミック物体を製造す
る際に最も有用であるようにするためには、その材料中
の不純物としてのシリカの量は、粒状材料中ZrO2の重量
に基づき0.03重量%SiO2より少ないのがよいことが判明
している。
本発明を次の実施例で例示する。
実施例1 四塩化ジルコニウムの気相酸化により製造された直径
約0.1μの酸化ジルコニウム粒子を、100g/の濃度で水
中に分散させた。残留Zr−Cl基と水との反応との結果と
して、得られた分散物は1より小さいpH値をもってい
た。
分散物を50℃に加熱し、硫酸チタニルの(35g/のTi
O2に相当する量で含む)水溶液を、固形物についてTiO2
として1重量%(%w/w)の量で含水チタニアを導入す
るのに充分な量で分散物へ添加した。得られた分散物
に、次に塩化イットリウムの(186g/のY2O3に相当す
る量で含む)水溶液を、固形物について5.6重量%のY2O
3を導入するのに充分な量で添加した。10重量%の水酸
化アンモニウム溶液を用いて、pHを45分間で8.0の値ま
で上昇させ、そして次にその分散物を50℃の温度で更に
30分間攪拌した。スラリーは比較的短い時間でろ過する
ことができ、ろ滓を洗浄し、乾燥し、そして1cm×1cmの
大きさをもつ円柱状ジルコニア粉砕媒体を用いたボール
ミルで、イソプロピルアルコール中300g/の濃度とし
て18時間粉砕した。粉砕媒体を網で除去し、アルコール
を水浴上で蒸発させた。
生成物の分析により、粒子上の被覆として含水酸化物
の形で、5.3重量%のY2O3及び0.8重量%のTiO2に相当す
るものが存在していることが示された。生成物の高倍率
電子顕微鏡をとって見ると、それらは、含水酸化物の殆
んどが被覆として酸化ジルコニウムの粒子上に存在し、
粒子間の主要形態として析出したものは極めてわずかで
あったことを示していた。
生成物を成形セラミック物体へ成形し、約1450℃の温
度で焼成し、冷却した後、その物体は無傷のままである
ことが判明した。そのような酸化イットリウムの添加を
行なわないと、セラミック物体は、焼成後の冷却中、ひ
どく亀裂を生じた。
イットリア・ジルコニア被覆粉末の品質を次のように
して調べた。その粉末を30MPa(メガパスカル)で約3cm
の直径の15個の円盤へ一端閉鎖型プレスにより成形し
た。円盤を1450℃で1時間又はそれ以上焼成した。未研
摩円盤の強度(破壊モジュラス)を3点二軸試験により
測定し、それから993MPa(標準偏差15%)の平均値が導
かれた。円盤の密度を水銀気孔率測定器により測定し、
5.95g/cm3の平均値が得られた。これは理論密度の98%
である。
実施例2 実施例1に記載したのと同様なやり方で、イットリア
被覆ジルコニア粉末の試料を調製した。但し塩化イット
リウムの(186g/のY2O3に相当する量で含む)水溶液
を、固形物について4.7重量%のY2O3を導入するのに充
分な量で添加した。
生成物の分析により、粒子上の被覆として含水酸化物
の形で、4.5重量%のY2O3及び0.8重量%のTiO2が存在し
ていることが示された。
生成物を実施例1の如く試験すると、円盤は1064MPa
(標準偏差13%)の強度(破壊モジュラス)をもってい
た。
円盤の密度を測定し、5.91g/cm3であることが判明し
た。これは理論密度の98%である。
実施例3 実施例1に記載したのと同様なやり方で、イットリア
被覆ジルコニア粉末の試料を調製したが、含水チタニア
の被覆は用いなかった。その代り、ジルコニアの分散物
を50℃に加熱し、硫酸アルミニウムの(68g/のAl2O3
に相当する量で含む)水溶液を、固形物についてAl2O3
として1重量%の量で含水アルミナを導入するのに充分
な量でその分散物へ添加した。塩化イットリウムの水溶
液を添加し、被覆されたジルコニアを、実施例1に記載
の如く製造した。生成物は比較的短い時間でろ過するこ
とができた。
生成物の分析により、粒子上の被覆として含水酸化物
の形で、5.2重量%のY2O3及び0.9重量%のAl2O3が存在
していることが示された。
生成物を実施例1の如く試験すると、円盤は953MPa
(標準偏差13%)の強度(破壊モジュラス)をもってい
た。
円盤の密度を測定し、5.95g/cm3であることが分かっ
た。これは理論密度を98%である。
実施例4 実施例3に記載したのと同様なやり方で、イットリア
被覆ジルコニア粉末の試料を調製したが、但し塩化イッ
トリウムの(186g/のY2O3に相当する量で含む)水溶
液を、固形物について4.7重量%のY2O3を導入するのに
充分な量で添加した。
生成物の分析により、粒子上の被覆として含水酸化物
の形で、4.5重量%のY2O3及び0.9重量%のAl2O3が存在
していることが示された。
生成物を実施例1の如く試験すると、円盤は1022MPa
(標準偏差11%)の強度(破壊モジュラス)をもってい
た。
円盤の密度を測定し、5.85g/cm3であることが分かっ
た。これは理論密度の97%である。
実施例5 四塩化ジルコニウムの気相酸化により製造された直径
約0.1μの酸化ジルコニウム粒子を、150g/の濃度で水
中に分散させた。残留Zr−Cl基と水との反応との結果と
して、得られた分散物は1より小さいpH値をもってい
た。
硫酸チタニルの(71g/のTiO2に相当する量で含む)
水溶液を、固形物についてTiO2として1重量%(%w/
w)の量で含水チタニアを導入するのに充分な量でその
分散物へ添加した。得られた分散物に、次に硝酸第二セ
リウムアンモニウムの(8.7g/のCeO2に相当する量で
含む)水溶液を、固形物について12.3重量%のCeO2を導
入するのに充分な量で添加した。10重量%の水酸化アン
モニウム溶液を用いて、pHを、45分間で8.0の値まで上
昇させ、そして次にその分散物を50℃の温度で更に30分
間攪拌した。スラリーは比較的短い時間でろ過すること
ができ、ろ滓を洗浄し、乾燥し、そして1cm×1cmの大き
さをもつジルコニア粉砕媒体を用いたボールミルで、イ
ソプロピルアルコール中300g/の濃度として18時間粉
砕した。粉砕媒体を網で除去し、アルコールを水浴上で
蒸発させた。
生成物を実施例1の如く試験すると、円盤は812MPa
(標準偏差3%)の強度(破壊モジュラス)をもってい
た。
円盤の密度を測定し、6.01g/cm3であることが分かっ
た。これは理論密度の97%である。
上記データーは正方晶系生成物であることを強く示唆
している。このことは、生成物の97.4%が正方晶系であ
ることを示しているX線回折研究により確認されてい
る。円盤の焼結表面の電子顕微鏡検査により、平均粒径
は2μmより大きいことが示された。これは注目すべき
ことである。なぜならこれまで、上述の量(又はそれ以
上14%まで)のセリアを含むジルコニアのための正方晶
系相安定化は、せいぜい2μmの平均粒径を有する焼結
生成物についてしか得られないと考えられていたからで
ある。添加チタニアを含むイットリア安定化ジルコニア
は、イットリアだけを含むものと比較して、一層大きな
粒径をもちながら、増大した強度を持っていることが知
られている。従って、この例のセリア安定化ジルコニア
の顕著な安定化は、被覆チタニアの存在によるものと考
えられる。
実施例6 実施例5に記載したのと同様なやり方で、セリア被覆
ジルコニア粉末の試料を調製したが、含水チタニアの被
覆は用いなかった。生成物をゆっくりろ過し、実施例1
の如く試験した。円盤は312MPaの強度(破壊モジュラ
ス)をもち、標準偏差は25%であった。円盤の密度を測
定し、平均5.84g/cm3であることが分かった。これは理
論密度の94%であった。円盤の焼結表面の電子顕微鏡検
査により、平均粒径は2μmより大きいことが示され
た。X線回折研究により、それは93.7%が単斜晶系であ
ることが示された。従って、その生成物は前の知識を確
認させるものであった。被覆として含水チタニアが存在
することは有利であることは明らかであり、この例でそ
れを除いたことが、セリウムの含水酸化物の分布を悪く
する結果になったと考えられる。
実施例7 実施例1に記載したのと同様なやり方で、イットリア
被覆ジルコニア粉末の試料を調製したが、含水チタニア
の被覆は用いなかった。生成物を非常にゆっくりろ過
し、実施例1の如く試験し、円盤は645MPaの強度(破壊
モジュラス)をもっていた。円盤の密度は5.80g/cm
3で、これは理論値の95%であった。被覆として含水チ
タニアが存在することは有利であることは明らかであ
り、この例ではそれを除いたことが、イットリウムの含
水酸化物の分布を悪くする結果になったと考えられる。
実施例8 ここでは従来の方法を記述し、実施例1と実施例2の
生成物との比較を示す。
酸化ジルコニウム粒子(0.1μ)を、5重量%の酸化
イットリウムと混合し、1cm×1cmの大きさをもつジルコ
ニア粉砕媒体を用いてボールミルで、イソプロピルアル
コール中300g/の濃度として18時間粉砕した。粉砕媒
体を網で除去し、イソプロピルアルコールを水浴上で加
熱することにより蒸発させた。実施例1に記載した如
く、圧搾した円盤を作り、強度を試験し、267MPa(標準
偏差31%)の焼成強度が得られた。
円盤の密度を水銀気孔率測定器により測定し、5.47g/
cm3の平均値が得られた。これは理論密度の90%であっ
た。
実施例1〜6と、7及び8の生成物の測定値の結果の
間の差は大きく、本発明の生成物(実施例1及び2)は
従来の生成物より優れていることを示している。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 グラハム ポール ドランスフィールド イギリス国 クリーブランド,ストック トン オン ティーズ,ノートン,ウル セイ ドライブ 5 (56)参考文献 特開 昭57−140370(JP,A)

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】チタン及び(又は)アルミニウムの含水酸
    化物及び、イットリウム、カルシウム、マグネシウム、
    ストロンチウム又はセリウムの少なくとも一種類の含水
    酸化物で被覆された粒状ジルコニアからなる、セラミッ
    ク材料の製造に用いるのに適した組成物。
  2. 【請求項2】水性分散物の形の粒状ジルコニアを、チタ
    ン及び(又は)アルミニウムの水溶性加水分解性塩と混
    合し、チタン及び(又は)アルミニウムの含水酸化物を
    前記粒子上に沈殿させ、それと一緒にイットリウム、カ
    ルシウム、マグネシウム、ストロンチウム又はセリウム
    の加水分解性塩を混合し、その含水酸化物を前記ジルコ
    ニアの粒子上に沈殿させることからなる、セラミック材
    料の製造に用いるのに適した組成物の製造方法。
  3. 【請求項3】請求項1に記載の組成物、又は請求項2の
    方法により得られた組成物を焼成することによるセラミ
    ック物体の製造方法。
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