JP2024111456A - ウエーハの研削方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、第一の面と第二の面とを備えたウエーハの研削方法に関する。
複数のデバイスが分割予定ラインによって区画され表面に形成されたウエーハは、研削装置によって裏面が研削されて所望の厚みに形成された後、ダイシング装置によって個々のデバイスチップに分割され、携帯電話、パソコン等の電気機器に利用される。
研削装置は、ウエーハを保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持されたウエーハの裏面を研削する研削ホイールを回転可能に備えた研削手段と、を含み構成されていて、ウエーハを所望の厚みに研削することができる。(例えば特許文献1を参照)。
また、インゴットをスライスして生成されたベアウエーハの表面を研削する場合にも研削装置が用いられ、所望の精度で研削される(例えば特許文献2を参照)。
しかし、研削加工が実施される際にチャックテーブルに保持されるウエーハの保持面に異物が付着していると、該異物が付着している箇所に対応する研削面が過剰に研削されてディンプル(凹部)が生じたり、割れが生じたりするという問題がある。
本発明は、上記事実に鑑みなされたものであり、その主たる技術課題は、ウエーハの保持面に異物が付着して、ウエーハの研削面にディンプルが生じたり、ウエーハに割れが生じたりする問題を解消できるウエーハの研削方法を提供することにある。
上記主たる技術課題を解決するため、本発明によれば、第一の面と第二の面とを備えたウエーハの研削方法であって、該第一の面を洗浄する洗浄工程と、該第二の面を保持しチャックテーブルまで搬送し該第一の面を該チャックテーブルに対面させ吸引保持する保持工程と、該チャックテーブルに吸引保持された該ウエーハの第二の面を研削する研削工程と、を含み構成されるウエーハの研削方法が提供される。
該第一の面には、保護テープが配設されており、該洗浄工程において、該保護テープを洗浄するようにしてもよい。また、該第一の面は複数のデバイスが分割予定ラインによって区画されたデバイス領域を備えているものであってもよい。
本発明のウエーハの研削方法は、第一の面と第二の面とを備えたウエーハの研削方法であって、該第一の面を洗浄する洗浄工程と、該第二の面を保持しチャックテーブルまで搬送し該第一の面を該チャックテーブルに対面させ吸引保持する保持工程と、該チャックテーブルに吸引保持された該ウエーハの第二の面を研削する研削工程と、を含み構成されていることから、チャックテーブルに保持されるウエーハの第一の面側に、異物が付着していたとしても、チャックテーブルに保持される前に該第一の面が洗浄されて、異物が除去されることから、ウエーハの研削面にディンプルが生じたり、ウエーハに割れが生じたりする問題を解消することができる。
以下、本発明に基づいて構成されるウエーハの研削方法について、添付図面を参照しながら詳細に説明する。
図1には、本発明に基づくウエーハの研削方法を実施するのに好適な研削装置1が示されている。研削装置1は、略直方体状の装置ハウジング2を備えている。図1において、装置ハウジング2の後端側には、支持壁21が立設されている。この支持壁21の内側面には、上下方向(Z軸方向)に延びる2対の案内レール22、22及び23、23が設けられている。一方の案内レール22、22には粗研削手段としての粗研削ユニット3が上下方向に移動可能に装着されており、他方の案内レール23、23には仕上げ研削手段としての仕上げ研削ユニット4が上下方向に移動可能に装着されている。
粗研削ユニット3は、ユニットハウジング31と、ユニットハウジング31に回転自在に支持された回転軸32の下端に配設されたホイールマウント33と、ホイールマウント33に装着され下面に環状に複数の研削砥石35が配置された粗研削ホイール34と、ユニットハウジング31の上端に装着されホイールマウント33を矢印R1で示す方向に回転させる電動モータ36と、ユニットハウジング31を、支持部材37を介して支持する移動基台38とを備えている。
移動基台38には、上記した支持壁21に設けられた案内レール22、22に摺動可能に嵌合する被案内溝が設けられており、粗研削ユニット3が上下方向に移動可能に支持される。図示の研削装置1は、粗研削ユニット3の移動基台38を案内レール22、22に沿って昇降させる昇降手段として配設された研削送り機構39を備えている。研削送り機構39は、支持壁21に案内レール22、22と平行に上下方向に配設され回転可能に支持された雄ねじロッド391と、該雄ねじロッド391を回転駆動するためのパルスモータ392と、移動基台38に装着され雄ねじロッド391と螺合する図示しない雌ねじブロックを備えており、パルスモータ392によって雄ねじロッド391を正転及び逆転駆動することにより、粗研削ユニット3を上下方向に移動させる。
仕上げ研削ユニット4も上記粗研削ユニット3と略同様に構成されており、ユニットハウジング41と、ユニットハウジング41に回転自在に支持された回転軸42の下端に配設されたホイールマウント43と、ホイールマウント43に装着され、下面に環状に複数の研削砥石45が配置された仕上げ研削ホイール44と、ユニットハウジング41の上端に装着されホイールマウント43を矢印R2で示す方向に回転させる電動モータ46と、ユニットハウジング41を、支持部材47を介して支持する移動基台48とを備えている。
移動基台48には、上記した支持壁21に設けられた案内レール23、23に摺動可能に嵌合する被案内溝が設けられており、仕上げ研削ユニット4が上下方向に移動可能に支持される。図示の実施形態における研削装置1は、仕上げ研削ユニット4の移動基台48を案内レール23、23に沿って昇降させる昇降手段として配設された研削送り機構49を備えている。研削送り機構49は、支持壁21に案内レール23、23と平行に上下方向に配設され回転可能に支持された雄ねじロッド491と、該雄ねじロッド491を回転駆動するためのパルスモータ492と、移動基台48に装着され雄ねじロッド491と螺合する図示しない雌ねじブロックを備えており、パルスモータ492によって雄ねじロッド491を正転及び逆転駆動することにより、仕上げ研削ユニット4を上下方向に移動させる。
電動モータ36及び電動モータ46によって回転させられる回転軸32、回転軸42の回転軸端32a、42aには、研削砥石35、45と後述するチャックテーブル6に保持される被加工物とに研削水として純水Lを供給する研削水供給手段(図示は省略する)が接続されている。
研削装置1は、上記支持壁21の前側において装置ハウジング2の上面と略面一となるように配設されたターンテーブル5を備えている。このターンテーブル5は、比較的大径の円盤状に形成されており、装置ハウジング2の上面の排水パン20内において図示を省略する回転駆動機構によって矢印R3で示す方向に適宜回転させられる。ターンテーブル5には、それぞれ120度の角度をもって被加工物を保持する保持手段として配設された3個のチャックテーブル6が配設されている。各チャックテーブル6は、後述する回転駆動手段を備えて矢印R4で示す方向に回転可能に構成されている。このチャックテーブル6は、通気性を有するポーラス部材によって円盤状に形成されチャックテーブル6の保持面を形成する吸着チャック62と、吸着チャック62を囲繞する枠体61とを備えている。
ターンテーブル5に配設された3個のチャックテーブル6は、ターンテーブル5が矢印R3で示す方向に回転させられることにより、被加工物搬入・搬出域A→粗研削加工域B→仕上げ研削加工域C→被加工物搬入・搬出域Aに順次移動させられる。排水パン20内の被加工物搬入・排出域Aの近傍には、被加工物搬入・排出域Aに位置付けられたチャックテーブル6に向けて純水Lを噴射して、チャックテーブル6に保持された研削加工後のウエーハWや、吸着チャック62の上面を洗浄する洗浄水供給ノズル15が配設されている。
図示の研削装置1は、被加工物搬入・搬出域Aに対して一方側に配設され研削加工前のウエーハWを複数収容する第1のカセット7と、被加工物搬入・搬出域Aに対して他方側に配設され研削加工後のウエーハWを複数収容する第2のカセット8と、第1のカセット7と被加工物搬入・搬出域Aとの間に配設され被加工物を吸引保持して仮置きする仮置きテーブル9と、被加工物搬入・搬出域Aと第2のカセット8との間に配設された洗浄手段11と、ウエーハWを第1のカセット7から搬出し、洗浄手段11、仮置きテーブル9に搬送すると共に洗浄手段11において洗浄されたウエーハWを第2のカセット8に搬入する吸着部12aを有する第1の搬送手段12と、仮置きテーブル9において中心合わせが実施されたウエーハWを被加工物搬入・搬出域Aに位置付けられたチャックテーブル6に搬送する吸着部13aを有する第2の搬送手段13と、被加工物搬入・搬出域Aに位置付けられたチャックテーブル6上のウエーハWを洗浄手段11に搬送する吸着部14aを有する第3の搬送手段14とを備えている。第2の搬送手段13は、アーム部材を備えて矢印R5で示す方向に旋回可能であり、第3の搬送手段14は、アーム部材を備えて矢印R6で示す方向に旋回可能である。
なお、図示は省略するが、ウエーハWを、被加工物搬入・搬出域Aに位置付けられたチャックテーブル6と、仮置きテーブル9と、洗浄手段11のスピンナーテーブル11aとに搬送可能な1つの搬送手段を配設することで、第2の搬送手段13と第3の搬送手段14とを、1つの搬送手段によって兼用することも可能である。
被加工物搬出入手段12が配置された装置ハウジング2の手前側には、研削作業を指示したり、加工条件を指定したりするための操作パネルを含む制御手段100が配設されている。該制御手段100は、制御プログラムに従って演算処理する中央処理装置(CPU)と、制御プログラム等を格納するリードオンリーメモリ(ROM)と、演算結果等を記憶する記憶手段としての読み書き可能なランダムアクセスメモリ(RAM)と、入力インターフェース及び出力インターフェースを備えている(いずれも図示は省略する)。このように構成された制御手段100には、本発明に基づいて構成されるウエーハの研削方法(追って詳述する)を実施するための制御プログラムが記憶されており、上記の研削装置1の各作動部が制御されて実行される。
図示の研削装置1は、概ね上記したとおりの構成を備えており、図1に加え、図2~6を参照しながら、本実施形態のウエーハの研削方法について説明する。
図2には、図示の研削装置1によって研削される被加工物として、表面Waに、複数のデバイスDが分割予定ラインによって区画されたデバイス領域を備えるウエーハWが示されている。ウエーハWの表面Waには、ウエーハWの裏面Wbを研削する際に表面Wa側のデバイス領域を保護すべく、保護テープTが貼着されて一体とされている。本実施形態においては、保護テープTが第一の面を形成し、ウエーハWの裏面Wbが第二の面である。
研削装置1によってウエーハWを研削するに際し、上記した未加工のウエーハWを複数収容した第1のカセット7を研削装置1にセットし、ターンテーブル5を作動して、ウエーハWが保持されていないチャックテーブル6を、被加工物搬入・搬出域Aに位置付ける。仕上げ研削加工が施された後のウエーハWを保持したチャックテーブル6が被加工物搬入・搬出域Aに位置付けられた場合は、第3の搬送手段14を作動して、チャックテーブル6からウエーハWを搬出して洗浄手段11に搬送し、被加工物搬入・搬出域Aに位置付けられたチャックテーブル6にウエーハWが保持されていない状態とする。そして、吸着チャック62の内部からウエーハWの保持面に純水Lを噴出させると共に、吸着チャック62に対して、洗浄水供給ノズル15から純水を噴射して、チャックテーブル6上を清浄な状態とする。
次いで、図3に示すように、第1の搬送手段12を作動して、第1のカセット7に収容された未加工のウエーハWの裏面Wbを、該第1の搬送手段12の吸着部12aによって吸着して搬出し、第一の面である保護テープT側を上方に向けた状態で洗浄手段11の上記したスピンナーテーブル11aに載置する。そして、図示を省略する吸引手段を作動して、ウエーハWをスピンナーテーブル11aに吸引保持する。
ウエーハWを洗浄手段11のスピンナーテーブル11aに吸引保持したならば、洗浄手段11全体を下降して、ハウジング2の内部に収容する。次いで、図4に示すように、洗浄手段11のスピンナーテーブル11aに吸引保持されたウエーハWを、図示を省略する回転駆動手段によって矢印R7で示す方向に高速で回転すると共に、ウエーハWの上方に洗浄水供給ノズル11bを位置付ける。次いで、該洗浄水供給ノズル11bを矢印R8で示す方向に揺動させながら洗浄水として所定時間、純水Lを噴射し、その後、所定時間、高速でウエーハWを高速で回転させることにより保護テープTの上面を乾燥する。以上により、第一の面を構成する保護テープTの上面を洗浄する洗浄工程が完了する。この結果、研削装置1にウエーハWが搬入された際に、保護テープT側に異物が付着していたとしても、この洗浄工程において異物が除去される。
上記したように、洗浄工程が完了したならば、洗浄手段11にウエーハWを搬送した際にウエーハWを保持したのと同様に、ウエーハWの研削面となる第二の面、すなわち裏面Wbを第1の搬送手段12の吸着部12aによって吸着して、ウエーハWを洗浄手段11から搬出する。第1の搬送手段12によって洗浄手段11から搬出されたウエーハWは、図5に示すように仮置きテーブル9に搬送される。洗浄手段11から仮置きテーブル9に搬送される間に、第1の搬送手段12の吸着部12aを反転し、第一の面である保護テープT側を下方に向けて、第二の面である裏面Wbを上方に向ける。このように反転されたウエーハWは、そのまま仮置きテーブル9に載置され、仮置きテーブル9において中心合わせが実施される。
仮置きテーブル9において中心合わせが実施され、中心位置が修正されたウエーハWは、第2の搬送手段13の吸着部13aによって第二の面である裏面Wbが保持されて、被加工物搬入・搬出域Aに位置付けられたチャックテーブル6に搬送される。第2の搬送手段13によって、ウエーハWの保護テープT側をチャックテーブル6に対面させて、チャックテーブル6に載置し、図示を省略する吸引手段を作動してチャックテーブル6の吸着チャック62に負圧を生成し、ウエーハWを吸引保持する。以上により保持工程が完了する。
上記したように保持工程が完了したならば、上記したターンテーブル5を、図1中の矢印R3で示す方向に回転して、未加工のウエーハWを吸引保持したチャックテーブル6を、被加工物搬入・搬出域Aから、粗研削加工域Bに向けて移動させる。
チャックテーブル6を粗研削加工域Bに位置付けたならば、以下に説明する粗研削工程を実施する。より具体的には、図6に示すように、チャックテーブル6に保持されたウエーハWを、粗研削ホイール34の下面に環状に配設された研削砥石35がウエーハWの裏面Wb全体を通過する位置に位置付ける。次いで、チャックテーブル6を、図6において矢印R4で示す方向に例えば300rpmで回転させ、これと同時に上記した粗研削ユニット3を作動して、粗研削ホイール34を、図において矢印R1で示す方向に、例えば6000rpmで回転させる。そして、上記した研削送り機構39を作動して、粗研削ユニット3を、図6に矢印R9で示す方向に下降させて、ウエーハWの裏面Wbに研削砥石35を上方から接近、当接させて、例えば1.0μm/秒の研削送り速度で研削送りする。この際、図示を省略する研削水供給手段を作動して、粗研削ホイール34の下面から、研削砥石35とウエーハWの裏面Wbとに向けて研削水を供給する。この研削加工を、図示を省略する厚み検出手段によってウエーハWの厚みを検出しながら実施することで、所望の厚みとなるまで研削加工を実施する。ウエーハWの厚みが所望の厚みとなったならば、ウエーハWの裏面Wb(第二の面)を粗研削する研削工程が完了する。
なお、上記した研削工程を実施する際に、隣接する仕上げ研削加工域Cに、粗研削ユニット3によって粗研削が施された後のウエーハWが位置付けられている場合は、粗研削加工域Bにおいて粗研削を実施するのと同時に、仕上げ研削ユニット4を作動して、仕上げ研削ホイール44をウエーハWに当接させて仕上げ研削となる研削工程を実施する。
上記したように、粗研削加工域Bにおける粗研削、仕上げ加工域Cにおける仕上げ研削が実施されたウエーハWは、ターンテーブル5の回転により、被加工物搬入・搬出域Aに位置付けられて、第3の搬送手段14によって洗浄手段11に搬送される。洗浄手段11に搬送されたウエーハWは、洗浄手段11において、洗浄・乾燥され、第1の搬送手段12によって第2のカセット7に搬送され収容される。
上記した実施形態によれば、研削装置1にウエーハWが搬入される際に、チャックテーブル6に保持されるウエーハWの保護テープT側(第一の面)に、異物が付着していたとしても、チャックテーブル6に保持される直前に該第一の面が洗浄されて、異物が除去されることから、ウエーハの研削面にディンプルが生じたり、ウエーハに割れが生じたりする問題を解消することができる。
本発明は、上記した実施形態に限定されない。上記した実施形態では、ターンテーブル5上に3つのチャックテーブル6を備え、粗研削ユニット3、仕上げ研削ユニット4を備えていたが、本発明はこれに限定されず、チャックテーブルを1つのみ備えて、所定の粗さの研削を行う研削装置においても実施可能である。
また、上記した実施形態では、ウエーハWの表面Waに保護テープTを貼着し、保護テープT側の面を第一の面とし、研削される裏面Wbを第二の面として、上記した説明したが、本発明はこれに限定されない。例えば、インゴットをスライスして生成されたいわゆるベアウエーハの面を研削する際には、表面、裏面いずれにもデバイスが形成されておらず、上記した保護テープTを貼着することなく研削加工が実施される。より具体的には、インゴットから生成されたベアウエーハの表面(第一の面)、裏面(第二の面)を研削する際には、まず、第二の面にワックス等を塗布して剛性を有するプレートを装着し、該プレートが保持された側をチャックテーブルによって保持し、第一の面が所定の粗さになるように研削する。第一の面が研削されたならば、第二の面から上記プレートを除去し、その後、本発明に基づく該第一の面を洗浄する洗浄工程と、該第二の面を保持しチャックテーブルまで搬送し該第一の面を該チャックテーブルに対面させ吸引保持する保持工程と、該チャックテーブルに吸引保持された該ウエーハの第二の面を研削する研削工程とを実施する。このようにウエーハを研削することによっても、第二の面が研削される前に、第一の面から適切に異物が除去されることから、ウエーハの研削面にディンプルが生じたり、ウエーハに割れが生じたりする問題を解消することができる。
1:研削装置
2:装置ハウジング
20:排水パン
21:支持壁
22、23:案内レール
3:粗研削ユニット
31:ユニットハウジング
32:回転軸
33:ホイールマウント
34:粗研削ホイール
35:研削砥石
36:電動モータ
37:支持部材
38:移動基台
39:研削送り機構
4:仕上げ研削ユニット
41:ユニットハウジング
42:回転軸
43:ホイールマウント
44:仕上げ研削ホイール
45:研削砥石
46:電動モータ
47:支持部材
48:移動基台
49:研削送り機構
5:ターンテーブル
6:チャックテーブル
61:枠体
62:吸着チャック
7:第1のカセット
8:第2のカセット
9:仮置きテーブル
11:洗浄手段
12:第1の搬送手段
12a:吸着部
13:第2の搬送手段
13a:吸着部
14:第3の搬送手段
14a:吸着部
15:洗浄水供給ノズル
D:デバイス
W:ウエーハ
Wa:表面
Wb:裏面
T:保護テープ
2:装置ハウジング
20:排水パン
21:支持壁
22、23:案内レール
3:粗研削ユニット
31:ユニットハウジング
32:回転軸
33:ホイールマウント
34:粗研削ホイール
35:研削砥石
36:電動モータ
37:支持部材
38:移動基台
39:研削送り機構
4:仕上げ研削ユニット
41:ユニットハウジング
42:回転軸
43:ホイールマウント
44:仕上げ研削ホイール
45:研削砥石
46:電動モータ
47:支持部材
48:移動基台
49:研削送り機構
5:ターンテーブル
6:チャックテーブル
61:枠体
62:吸着チャック
7:第1のカセット
8:第2のカセット
9:仮置きテーブル
11:洗浄手段
12:第1の搬送手段
12a:吸着部
13:第2の搬送手段
13a:吸着部
14:第3の搬送手段
14a:吸着部
15:洗浄水供給ノズル
D:デバイス
W:ウエーハ
Wa:表面
Wb:裏面
T:保護テープ
Claims (3)
- 第一の面と第二の面とを備えたウエーハの研削方法であって、
該第一の面を洗浄する洗浄工程と、
該第二の面を保持しチャックテーブルまで搬送し該第一の面を該チャックテーブルに対面させ吸引保持する保持工程と、
該チャックテーブルに吸引保持された該ウエーハの第二の面を研削する研削工程と、
を含み構成されるウエーハの研削方法。 - 該第一の面には、保護テープが配設されており、
該洗浄工程において、該保護テープを洗浄する請求項1に記載のウエーハの研削方法。 - 該第一の面は複数のデバイスが分割予定ラインによって区画されたデバイス領域を備えている請求項2に記載の研削方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2023015975A JP2024111456A (ja) | 2023-02-06 | 2023-02-06 | ウエーハの研削方法 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2023015975A JP2024111456A (ja) | 2023-02-06 | 2023-02-06 | ウエーハの研削方法 |
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Publication Number | Publication Date |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2023015975A Pending JP2024111456A (ja) | 2023-02-06 | 2023-02-06 | ウエーハの研削方法 |
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