JP2018178153A - Ｃｕ−Ｓｉ合金粒子を製造する方法、Ｃｕ−Ｓｉ合金粒子、Ｎｉ−Ｓｉ合金粒子を製造する方法、Ｎｉ−Ｓｉ合金粒子、Ｔｉ−Ｓｉ合金粒子を製造する方法、Ｔｉ−Ｓｉ合金粒子、Ｆｅ−Ｓｉ合金粒子を製造する方法、及びＦｅ−Ｓｉ合金粒子 - Google Patents
Ｃｕ−Ｓｉ合金粒子を製造する方法、Ｃｕ−Ｓｉ合金粒子、Ｎｉ−Ｓｉ合金粒子を製造する方法、Ｎｉ−Ｓｉ合金粒子、Ｔｉ−Ｓｉ合金粒子を製造する方法、Ｔｉ−Ｓｉ合金粒子、Ｆｅ−Ｓｉ合金粒子を製造する方法、及びＦｅ−Ｓｉ合金粒子 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2018178153A JP2018178153A JP2017074861A JP2017074861A JP2018178153A JP 2018178153 A JP2018178153 A JP 2018178153A JP 2017074861 A JP2017074861 A JP 2017074861A JP 2017074861 A JP2017074861 A JP 2017074861A JP 2018178153 A JP2018178153 A JP 2018178153A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- powder
- sample powder
- obtained sample
- pattern
- shows
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000002245 particle Substances 0.000 title claims abstract description 175
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 57
- 239000000956 alloy Substances 0.000 title claims abstract description 57
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 46
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 18
- 229910017758 Cu-Si Inorganic materials 0.000 title claims description 16
- 229910017931 Cu—Si Inorganic materials 0.000 title claims description 16
- 229910017082 Fe-Si Inorganic materials 0.000 title claims description 16
- 229910017133 Fe—Si Inorganic materials 0.000 title claims description 16
- 229910004339 Ti-Si Inorganic materials 0.000 title claims description 16
- 229910010978 Ti—Si Inorganic materials 0.000 title claims description 16
- 229910021484 silicon-nickel alloy Inorganic materials 0.000 title claims description 13
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 558
- 239000011863 silicon-based powder Substances 0.000 claims abstract description 115
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 50
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 28
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 24
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims abstract description 24
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims abstract description 24
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 190
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 107
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 105
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 claims description 95
- 229910001508 alkali metal halide Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 150000008045 alkali metal halides Chemical class 0.000 claims description 15
- 229910000676 Si alloy Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 abstract description 153
- 229910021332 silicide Inorganic materials 0.000 abstract description 33
- FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N silicide(4-) Chemical compound [Si-4] FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 33
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 23
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 23
- 238000002844 melting Methods 0.000 abstract description 6
- 230000008018 melting Effects 0.000 abstract description 6
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 370
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 126
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 126
- 239000011812 mixed powder Substances 0.000 description 122
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 75
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 75
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 75
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 64
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 62
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 55
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 48
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 42
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 32
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 32
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 32
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 30
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 27
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 27
- 229910005347 FeSi Inorganic materials 0.000 description 25
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 25
- 229910052774 Proactinium Inorganic materials 0.000 description 24
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 24
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 24
- 229910005331 FeSi2 Inorganic materials 0.000 description 22
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 19
- 229910008479 TiSi2 Inorganic materials 0.000 description 16
- DFJQEGUNXWZVAH-UHFFFAOYSA-N bis($l^{2}-silanylidene)titanium Chemical compound [Si]=[Ti]=[Si] DFJQEGUNXWZVAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 16
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 16
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 16
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 16
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 16
- JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M sodium bromide Chemical compound [Na+].[Br-] JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 16
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 16
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 16
- 229910015364 Fe5Si3 Inorganic materials 0.000 description 15
- 229910008484 TiSi Inorganic materials 0.000 description 15
- 229910009871 Ti5Si3 Inorganic materials 0.000 description 12
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 11
- 229910005329 FeSi 2 Inorganic materials 0.000 description 7
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 7
- 229910005883 NiSi Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 6
- 239000011856 silicon-based particle Substances 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- JUZTWRXHHZRLED-UHFFFAOYSA-N [Si].[Cu].[Cu].[Cu].[Cu].[Cu] Chemical compound [Si].[Cu].[Cu].[Cu].[Cu].[Cu] JUZTWRXHHZRLED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910021360 copper silicide Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 5
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 4
- 229910018098 Ni-Si Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910018529 Ni—Si Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 3
- 229910021334 nickel silicide Inorganic materials 0.000 description 3
- RUFLMLWJRZAWLJ-UHFFFAOYSA-N nickel silicide Chemical compound [Ni]=[Si]=[Ni] RUFLMLWJRZAWLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910021341 titanium silicide Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910003217 Ni3Si Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910012990 NiSi2 Inorganic materials 0.000 description 2
- BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N copper(I) oxide Inorganic materials [Cu]O[Cu] BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRFJLUBVMFXRPN-UHFFFAOYSA-N cuprous oxide Chemical compound [O-2].[Cu+].[Cu+] KRFJLUBVMFXRPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 2
- 210000001787 dendrite Anatomy 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 210000004884 grey matter Anatomy 0.000 description 2
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 description 2
- 238000003746 solid phase reaction Methods 0.000 description 2
- 238000009827 uniform distribution Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004283 SiO 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000001413 cellular effect Effects 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 229910052840 fayalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 238000005551 mechanical alloying Methods 0.000 description 1
- 230000000877 morphologic effect Effects 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000013618 particulate matter Substances 0.000 description 1
- 238000010587 phase diagram Methods 0.000 description 1
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 238000004626 scanning electron microscopy Methods 0.000 description 1
- 238000005204 segregation Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical class [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005211 surface analysis Methods 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 229910006585 β-FeSi Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Silicon Compounds (AREA)
- Powder Metallurgy (AREA)
Abstract
【課題】均一な組成の金属シリサイド合金を製造する方法を提供する。また、均一な組成の金属シリサイド合金粒子を提供する。【解決手段】金属粉末とＳｉ粉末とを均一に混合した混合物を反応助剤としてのアルカリ金属のハロゲン化物の粉末とともにるつぼ内に収納し、真空排気後に、原料の融点以下の温度で熱処理して、金属シリサイド合金粒子を製造する。【選択図】 図１
Description
本発明は、Ｃｕ−Ｓｉ合金粒子、Ｎｉ−Ｓｉ合金粒子、Ｔｉ−Ｓｉ合金粒子、及びＦｅ−Ｓｉ合金粒子の金属シリサイド合金粒子を製造する方法に関し、また、Ｃｕ−Ｓｉ合金粒子、Ｎｉ−Ｓｉ合金粒子、Ｔｉ−Ｓｉ合金粒子、及びＦｅ−Ｓｉ合金粒子の金属シリサイド合金粒子に関する。
金属シリサイド合金を製造する方法として、溶製法が知られており、金属原料とＳｉとを融点以上の高温に加熱し溶融した後に、室温まで冷却して、金属とＳｉのシリサイド合金を製造する。
しかしながら、高温での金属の蒸気圧が大きい場合には、金属原料の蒸発を抑制するために、高圧容器内で溶融する必要がある。また、状態図にも依るが、種々の組成の合金が混在し、偏析が生ずるおそれがある。
しかしながら、高温での金属の蒸気圧が大きい場合には、金属原料の蒸発を抑制するために、高圧容器内で溶融する必要がある。また、状態図にも依るが、種々の組成の合金が混在し、偏析が生ずるおそれがある。
最近では、高エネルギーボールミルを用いて、金属原料粒子とＳｉ粒子を粉砕混合することにより、機械的に合金化するメカニカルアロイイング法も検討されている。
微細粒子の原料を用い、微細粒子表面を活性化して、それぞれの原料の融点以下の温度で、材料間の接触面積を大きくすることによって、固相−固相間で互いの元素の熱拡散によって、均一な組成のＣｕ−Ｓｉ、Ｎｉ−Ｓｉ、Ｔｉ−Ｓｉ、Ｆｅ−Ｓｉの金属シリサイド合金を製造する方法を提供することが課題である。また、均一な組成の金属シリサイド合金粒子を提供することも課題である。
そのために、金属原料粉末とＳｉ粉末を比較的低温で固相−固相反応によって均質な組成の金属シリサイド合金粉末を製造するための製造条件を見出すべく鋭意研究した。
そのために、金属原料粉末とＳｉ粉末を比較的低温で固相−固相反応によって均質な組成の金属シリサイド合金粉末を製造するための製造条件を見出すべく鋭意研究した。
当該課題は、請求項１に記載の第１の本発明、すなわち、Ｃｕ粉末とＳｉ粉末とを均一に混合した混合物を反応助剤としてのアルカリ金属のハロゲン化物の粉末とともにるつぼ内に収納し、真空排気後に、８００〜９００℃の温度で３〜２０時間保持し熱処理して、Ｃｕ−Ｓｉ合金粒子を製造する方法によって、達成される。なお、「アルカリ金属のハロゲン化物」の例として、塩化ナトリウムＮａＣｌ、塩化カリウムＫＣｌ、臭化ナトリウムＮａＢｒ、臭化カリウムＫＢｒを挙げることができる。
また、当該課題は、請求項５に記載の第２の本発明、すなわち、粒度分布が０．１〜５０μｍであり、平均粒子径Ｄ５０が１〜５μｍであり、かさ密度が２．０〜３．０ｇ／ｃｍ３である、球状のＣｕ−Ｓｉ合金粒子によっても、達成される。
また、当該課題は、請求項６に記載の第３の本発明、すなわち、Ｎｉ粉末とＳｉ粉末とを均一に混合した混合物を反応助剤としてのアルカリ金属のハロゲン化物の粉末とともにるつぼ内に収納し、真空排気後に、９００〜１１００℃の温度で３〜２０時間保持し熱処理して、Ｎｉ−Ｓｉ合金粒子を製造する方法によっても、達成される。なお、「アルカリ金属のハロゲン化物」の例として、塩化ナトリウムＮａＣｌ、塩化カリウムＫＣｌ、臭化ナトリウムＮａＢｒ、臭化カリウムＫＢｒを挙げることができる。
また、当該課題は、請求項１０に記載の第４の本発明、すなわち、粒度分布が０．１〜１００μｍであり、平均粒子径Ｄ５０が１〜３０μｍであり、かさ密度が０．７〜０．９ｇ／ｃｍ３であるＮｉ−Ｓｉ合金粒子によっても、達成される。
また、当該課題は、請求項１１に記載の第５の本発明、すなわち、Ｔｉ粉末とＳｉ粉末とを均一に混合した混合物を反応助剤としてのアルカリ金属のハロゲン化物の粉末とともにるつぼ内に収納し、真空排気後に、９５０〜１１５０℃の温度で３〜２０時間保持し熱処理して、Ｔｉ−Ｓｉ合金粒子を製造する方法によっても、達成される。なお、「アルカリ金属のハロゲン化物」の例として、塩化ナトリウムＮａＣｌ、塩化カリウムＫＣｌ、臭化ナトリウムＮａＢｒ、臭化カリウムＫＢｒを挙げることができる。
また、当該課題は、請求項１５に記載の第６の本発明、すなわち、粒度分布が０．１〜５０μｍであり、平均粒子径Ｄ５０が２０〜４０μｍであり、かさ密度が０．２〜０．４ｇ／ｃｍ３であり、気孔率が８０％以上である、Ｔｉ−Ｓｉ合金粒子によっても、達成される。
また、当該課題は、請求項１６に記載の第７の本発明、すなわち、Ｆｅ粉末とＳｉ粉末とを均一に混合した混合物を反応助剤としてのアルカリ金属のハロゲン化物の粉末とともにるつぼ内に収納し、真空排気後に、９００〜１２００℃の温度で３〜２０時間保持し熱処理して、Ｆｅ−Ｓｉ合金粒子を製造する方法によっても、達成される。なお、「アルカリ金属のハロゲン化物」の例として、塩化ナトリウムＮａＣｌ、塩化カリウムＫＣｌ、臭化ナトリウムＮａＢｒ、臭化カリウムＫＢｒを挙げることができる。
また、当該課題は、請求項２０に記載の第８の本発明、すなわち、粒度分布が０．１〜１００μｍであり、平均粒子径Ｄ５０が１〜２０μｍであり、かさ密度が０．５〜０．７ｇ／ｃｍ３である、Ｆｅ−Ｓｉ合金粒子によっても、達成される。
反応助剤としてのアルカリ金属のハロゲン化物の粉末を加えることによって、金属原料やＳｉの溶融温度よりはるかに低い温度において金属原料粉末とＳｉ粉末の固相−固相状態で原子拡散によって金属シリサイド合金粒子を生成することができることを本願発明者は見出した。
しかも、原料純度、原料平均粒子径、配合比、真空度、加熱温度、保持時間など製造条件によって、得られた粒子中の組成等を制御することができることを本願発明者は見出した。また、得られたＣｕ−Ｓｉ粒子は、粒子間の凝集結合・増大や分離・減少はほぼ生じないことも見出し、得られたＮｉ−Ｓｉ粒子は、球状化した粒子や不定形粒子が凝集した微粉体であることを見出し、得られたＴｉ−Ｓｉ粒子は、１次粒子径が１μｍ程度の粒状体が凝集した多孔体であることを見出し、得られたＦｅ−Ｓｉ粒子は、粒状物の凝集体であることを見出した。
原料として高純度の粉末を用い、真空排気した直後に熱拡散処理しているので、原料粉末の表面が活性化される。そのため、熱拡散速度が遅くならず、金属とＳｉの固相−固相反応が促進され、さらに、反応助剤としてのアルカリ金属のハロゲン化物の粉末を用いているので、飛躍的に低温度かつ比較的短時間で原料金属粉末の中心部まで、加熱によってＳｉとシリサイド合金を生成する金属の相互拡散を均等に行うことができたと考える。その結果、本発明によって、均一な組成の金属シリサイド合金粉末を製造することができた。
（Ａ）Ｃｕ−Ｓｉ合金粒子についての実施例
固相−固相反応によってＣｕ粉末とＳｉ粉末からＣｕ−Ｓｉ合金粒子を製造する実施例について比較例とともに説明する。
固相−固相反応によってＣｕ粉末とＳｉ粉末からＣｕ−Ｓｉ合金粒子を製造する実施例について比較例とともに説明する。
比較例Ａ−１
原料として、Ｃｕ粉末とＳｉ粉末を使用し、反応助剤を使用しなかった。
原料として、Ｃｕ粉末とＳｉ粉末を使用し、反応助剤を使用しなかった。
試料粉末の作成
高純度化学品のＣｕ粉末の純度は９９．９％であり、粒子径は４５μｍ以下であった。
また、Ｓｉ粉末（東京印刷機材トレーディング（株）製）の純度は９９．９９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０は１〜３μｍであった。
高純度化学品のＣｕ粉末の純度は９９．９％であり、粒子径は４５μｍ以下であった。
また、Ｓｉ粉末（東京印刷機材トレーディング（株）製）の純度は９９．９９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０は１〜３μｍであった。
上記のＣｕ粉末５０．０ｇと上記のＳｉ粉末１９．９ｇを容器内に秤量して、振とうしたところ、Ｃｕ粉末とＳｉ粉末は均一に混合され原料混合粉末を得た。配合モル比はＣｕ：Ｓｉ＝１：１である。
図１は使用した製造装置の概略図である。黒鉛るつぼ１は内径φ７０ｍｍ×高さ１２５ｍｍであり、上面の中央にガス抜き穴１１が設けられている。原料混合粉末２を黒鉛るつぼ１内に収納した後に、高周波加熱装置４を備えた真空容器３内に水平に配置した。
そして、原料混合粉末２が飛散しないように注意しながら、配管５を通じて真空ポンプ６を用いて真空容器３内を８Ｐａまで真空排気した。
８Ｐａまで真空排気した直後に、図２に示す熱処理パターンのように、室温（Ｔｒ）から７５０℃（Ｔｍａｘ）まで１時間（０〜ｔ１）かけて昇温し、７５０℃（Ｔｍａｘ）で５時間（ｔ１〜ｔ２）保持し、その後、加熱電源をＯＦＦして、自然冷却した。昇温、保持、冷却の間も真空ポンプ６を用いて真空排気を続けた。
原料混合粉末２を十分に冷却した後、真空ポンプ６を停止し大気圧に戻し、黒鉛るつぼ１を取り出し、試料粉末を得た。
得られた試料粉末は銅色が残っていた。
得られた試料粉末は銅色が残っていた。
試料粉末の測定
断面を作成し、得られた試料粉末の断面について、日本電子製ＪＸＡ−８５３０Ｆを用いて、走査電子顕微鏡によるＣＯＭＰ：反射電子組成像を観察した。図３、図４は得られた試料粉末の断面の走査電子顕微鏡観察写真である。なお、図４の（ｂ）は図３の部分拡大写真であり、図４の（ａ）は拡大位置を示している。
形態観察の結果、明度の高い樹状結晶物や球状物及び明度の低い棒状物や粉状物が散在していることが認められ、また、樹状物を拡大すると、表層近傍に明度のやや低い球状物が認められる。
断面を作成し、得られた試料粉末の断面について、日本電子製ＪＸＡ−８５３０Ｆを用いて、走査電子顕微鏡によるＣＯＭＰ：反射電子組成像を観察した。図３、図４は得られた試料粉末の断面の走査電子顕微鏡観察写真である。なお、図４の（ｂ）は図３の部分拡大写真であり、図４の（ａ）は拡大位置を示している。
形態観察の結果、明度の高い樹状結晶物や球状物及び明度の低い棒状物や粉状物が散在していることが認められ、また、樹状物を拡大すると、表層近傍に明度のやや低い球状物が認められる。
さらに、得られた試料粉末の断面を観察し、Ｃｕ分布、Ｓｉ分布、Ｏ分布を測定した。図５は得られた試料粉末の断面のカラーマップデータであり、（ａ）は断面のＳＥＭ像、（ｂ）はＣｕ分布、（ｃ）はＳｉ分布、（ｄ）はＯ分布を示している。
樹状結晶物にＣｕが認められ、棒状物にＳｉ及びわずかなＯが認められる。表層近傍の球状物にＣｕ及びわずかなＳｉの分布が認められる。なお、Ｏは包埋樹脂の成分からも検出される。
樹状結晶物にＣｕが認められ、棒状物にＳｉ及びわずかなＯが認められる。表層近傍の球状物にＣｕ及びわずかなＳｉの分布が認められる。なお、Ｏは包埋樹脂の成分からも検出される。
得られた試料粉末について、リガク製Ｘ線回折装置ＲＩＮＴ ２２００ＶＫ／ＰＣを用いてＸ線回析分析を行った。図６の（ａ）は試料粉末のＸ線回折プロファイルであり、（ｂ）はＣｕの標準ピークパターンであり、（ｃ）はＳｉの標準ピークパターンであり、（ｄ）はＣｕ０．８７５Ｓｉ０．１２５の標準ピークパターンであり、（ｅ）はＣｕ３．１７Ｓｉの標準ピークパターンである。
Ｘ線回折プロファイルから、非常に強いＣｕの回折パターンと強いＳｉの回折パターンが認められ、Ｃｕ及びＳｉの存在が認められる。ケイ化銅が存在する可能性があるが、ピーク強度が低く特定が困難である。
比較例Ａ−２
原料として、Ｃｕ粉末とＳｉ粉末を使用し、反応助剤を使用しなかった。
原料として、Ｃｕ粉末とＳｉ粉末を使用し、反応助剤を使用しなかった。
試料粉末の作成
高純度化学品のＣｕ粉末の純度は９９．９％であり、粒子径は４５μｍ以下であった。
また、Ｓｉ粉末（東京印刷機材トレーディング（株）製）の純度は９９．９９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０は１〜３μｍであった。
高純度化学品のＣｕ粉末の純度は９９．９％であり、粒子径は４５μｍ以下であった。
また、Ｓｉ粉末（東京印刷機材トレーディング（株）製）の純度は９９．９９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０は１〜３μｍであった。
上記のＣｕ粉末５０．０ｇと上記のＳｉ粉末１９．９ｇを容器内に秤量して、振とうしたところ、Ｃｕ粉末とＳｉ粉末は均一に混合され原料混合粉末を得た。配合モル比はＣｕ：Ｓｉ＝１：１である。
図１は使用した製造装置の概略図である。黒鉛るつぼ１は内径φ７０ｍｍ×高さ１２５ｍｍであり、上面の中央にガス抜き穴１１が設けられている。原料混合粉末２を黒鉛るつぼ１内に収納した後に、高周波加熱装置４を備えた真空容器３内に水平に配置した。
そして、原料混合粉末２が飛散しないように注意しながら、配管５を通じて真空ポンプ６を用いて真空容器３内を８Ｐａまで真空排気した。
８Ｐａまで真空排気した直後に、図２に示す熱処理パターンのように、室温（Ｔｒ）から１０００℃（Ｔｍａｘ）まで１時間（０〜ｔ１）かけて昇温し、１０００℃（Ｔｍａｘ）で５時間（ｔ１〜ｔ２）保持し、その後、加熱電源をＯＦＦして、自然冷却した。昇温、保持、冷却の間も真空ポンプ６を用いて真空排気を続けた。
原料混合粉末２を十分に冷却した後、真空ポンプ６を停止し大気圧に戻し、黒鉛るつぼ１を取り出し、試料粉末を得た。
得られた試料粉末は黒色になっていたが、わずかに未反応のＳｉが残っていた。
得られた試料粉末は黒色になっていたが、わずかに未反応のＳｉが残っていた。
試料粉末の測定
試料粉末の断面を作成し、得られた試料粉末のミクロ観察を、ニコン製金属顕微鏡エクリプスＬＶ１００を用いて行った。図７、図８は、得られた試料の断面の金属顕微鏡ミクロ観察写真である。
灰色物を内包する淡褐色の球状物、微小な灰色棒状物及び粒状物、灰色物を内包しない淡褐色の球状物が認められる。
試料粉末の断面を作成し、得られた試料粉末のミクロ観察を、ニコン製金属顕微鏡エクリプスＬＶ１００を用いて行った。図７、図８は、得られた試料の断面の金属顕微鏡ミクロ観察写真である。
灰色物を内包する淡褐色の球状物、微小な灰色棒状物及び粒状物、灰色物を内包しない淡褐色の球状物が認められる。
得られた試料粉末の形態観察として、日本電子製ＪＸＡ−８５３０Ｆを用いて、走査電子顕微鏡による二次電子像（ＳＥＩ）及び走査電子顕微鏡による反射電子組成像（ＣＯＭＰ）を観察した。図９、図１０は得られた試料粉末の表面の走査電子顕微鏡観察写真である。なお、図９の（ａ）は二次電子像であり、（ｂ）は同一位置の反射電子像である。同様に、図１０の（ａ）は二次電子像であり、（ｂ）は同一位置の反射電子像である。
表面の形態観察の結果、明度の高い球状物及び明度の低い球状物が認められる。また、明度の低い粒状物を内包する明度の高い球状物及び明度の低い物質と明度の高い物質が融合したような球状物が認められる。その他、微小な球状物や粉状物が認められる。
表面の形態観察の結果、明度の高い球状物及び明度の低い球状物が認められる。また、明度の低い粒状物を内包する明度の高い球状物及び明度の低い物質と明度の高い物質が融合したような球状物が認められる。その他、微小な球状物や粉状物が認められる。
さらに、断面を作成し、得られた試料粉末の断面を観察し、Ｃｕ分布、Ｓｉ分布、Ｏ分布を測定した。図１１、図１２は得られた試料粉末の断面の走査電子顕微鏡観察写真である。なお、図１１の（ｂ）は図７の部分拡大写真であり、図１１の（ａ）は拡大位置を示している。また、図１２の（ｂ）は図１１の（ｂ）の部分拡大写真であり、図１２の（ａ）は拡大位置を示している。
明度の低い塊状物を内包する明度の高い球状物について、詳しく断面観察を行った。この視野１についての断面観察の結果、球状物表層部を拡大すると、棒状物から球状物内部へ向かう線状模様が認められる。
明度の低い塊状物を内包する明度の高い球状物について、詳しく断面観察を行った。この視野１についての断面観察の結果、球状物表層部を拡大すると、棒状物から球状物内部へ向かう線状模様が認められる。
図１５は得られた試料粉末の断面のカラーマップデータであり、（ａ）は断面のＳＥＭ像、（ｂ）はＣｕ分布、（ｃ）はＳｉ分布、（ｄ）はＯ分布を示している。
面分析の結果、明度の高い領域にＣｕ及びＳｉの分布が認められ、明度の低い内包物及び粒状物にＳｉの分布が認められる。Ｏは球状物の表面にＳｉとともにわずかに分布している。
面分析の結果、明度の高い領域にＣｕ及びＳｉの分布が認められ、明度の低い内包物及び粒状物にＳｉの分布が認められる。Ｏは球状物の表面にＳｉとともにわずかに分布している。
また、視野２について、得られた試料粉末の断面を観察し、Ｃｕ分布、Ｓｉ分布、Ｏ分布を測定した。図１３、図１４は得られた試料粉末の断面の走査電子顕微鏡観察写真である。なお、図１３の（ｂ）は図８の部分拡大写真であり、図１３の（ａ）は拡大位置を示している。また、図１４の（ｂ）は図１３の（ｂ）の部分拡大写真であり、図１４の（ａ）は拡大位置を示している。
視野２では明度のほぼ均一な明度の高い球状物を観察した。球状物表面を覆うように明度の低い針状物が認められる。
視野２では明度のほぼ均一な明度の高い球状物を観察した。球状物表面を覆うように明度の低い針状物が認められる。
図１６は得られた試料粉末の断面のカラーマップデータであり、（ａ）は断面のＳＥＭ像、（ｂ）はＣｕ分布、（ｃ）はＳｉ分布、（ｄ）はＯ分布を示している。
面分析の結果、球状物にＣｕ及びＳｉの均一な分布が見られる。球状物を覆っている針状物に、Ｓｉ及びＯの分布が認められる。なお、Ｏは包埋樹脂の成分からも検出される。
面分析の結果、球状物にＣｕ及びＳｉの均一な分布が見られる。球状物を覆っている針状物に、Ｓｉ及びＯの分布が認められる。なお、Ｏは包埋樹脂の成分からも検出される。
得られた試料粉末について、リガク製Ｘ線回折装置ＲＩＮＴ ２２００ＶＫ／ＰＣを用いてＸ線回析分析を行った。図１７の（ａ）は試料粉末のＸ線回折プロファイルであり、（ｂ）はη−Ｃｕ３．１７Ｓｉ、Ｃｕ３．１７Ｓｉの標準ピークパターンであり、（ｃ）はＳｉの標準ピークパターンであり、（ｄ）はＣｕＯの標準ピークパターンであり、（ｅ）はＳｉＯ２の標準ピークパターンである。
Ｘ線回折プロファイルから、非常に強いη−Ｃｕ３．１７Ｓｉの回折パターンと強いＳｉの回折パターンが認められ、ケイ化銅及びケイ素が検出された。
銅の酸化物及びケイ素の酸化物が存在する可能性があるが、ピーク強度が低く、特定が困難であった。
銅の酸化物及びケイ素の酸化物が存在する可能性があるが、ピーク強度が低く、特定が困難であった。
実施例Ａ−３
原料として、Ｃｕ粉末とＳｉ粉末を使用し、反応助剤としてＮａＣｌを使用した。
アルカリ金属のハロゲン化物として、実施例Ａ−３ではＮａＣｌを用いた。
塩化ナトリウムの蒸気圧表は表１のとおりである。
原料として、Ｃｕ粉末とＳｉ粉末を使用し、反応助剤としてＮａＣｌを使用した。
アルカリ金属のハロゲン化物として、実施例Ａ−３ではＮａＣｌを用いた。
塩化ナトリウムの蒸気圧表は表１のとおりである。
試料粉末の作成
高純度化学品のＣｕ粉末の純度は９９．９％であり、粒子径は４５μｍ以下であった。
また、Ｓｉ粉末（東京印刷機材トレーディング（株）製）の純度は９９．９９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０は１〜３μｍであった。
高純度化学品のＮａＣｌ粉末の純度は９９．９％であり、パウダー状であった。
高純度化学品のＣｕ粉末の純度は９９．９％であり、粒子径は４５μｍ以下であった。
また、Ｓｉ粉末（東京印刷機材トレーディング（株）製）の純度は９９．９９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０は１〜３μｍであった。
高純度化学品のＮａＣｌ粉末の純度は９９．９％であり、パウダー状であった。
上記のＣｕ粉末５０．０ｇと上記のＳｉ粉末７．４ｇと反応助剤としてＮａＣｌ５．１ｇを容器内に秤量して、振とうしたところ、Ｃｕ粉末とＳｉ粉末とＮａＣｌ粉末は均一に混合され原料混合粉末を得た。配合モル比はＣｕ：Ｓｉ＝３：１である。
図１は使用した製造装置の概略図である。黒鉛るつぼ１は内径φ７０ｍｍ×高さ１２５ｍｍであり、上面の中央にガス抜き穴１１が設けられている。原料混合粉末２を黒鉛るつぼ１内に収納した後に、高周波加熱装置４を備えた真空容器３内に水平に配置した。
そして、原料混合粉末２が飛散しないように注意しながら、配管５を通じて真空ポンプ６を用いて真空容器３内を８Ｐａまで真空排気した。
８Ｐａまで真空排気した直後に、図２に示す熱処理パターンのように、室温（Ｔｒ）から７５０℃（Ｔｍａｘ）まで１時間（０〜ｔ１）かけて昇温し、７５０℃（Ｔｍａｘ）で５時間（ｔ１〜ｔ２）保持し、その後、加熱電源をＯＦＦして、自然冷却した。昇温、保持、冷却の間も真空ポンプ６を用いて真空排気を続けた。
原料混合粉末２を十分に冷却した後、真空ポンプ６を停止し大気圧に戻し、黒鉛るつぼ１を取り出し、試料粉末を得た。
得られた試料粉末は、原料混合粉末の色とも違い、比較例Ａ−２での黒色とも違い、緑茶色であった。未反応のＳｉが残っていなかった。
得られた試料粉末は、原料混合粉末の色とも違い、比較例Ａ−２での黒色とも違い、緑茶色であった。未反応のＳｉが残っていなかった。
試料粉末の測定
得られた試料粉末の形態観察として、日本電子製ＪＸＡ−８５３０Ｆを用いて、走査電子顕微鏡による二次電子像（ＳＥＩ）を観察した。図１８、図１９は得られた試料粉末の表面の走査電子顕微鏡観察写真である。なお、図１９の（ｂ）は図１８の部分拡大写真であり、図１９の（ａ）は拡大位置を示している。
表面の形態観察の結果、比較的大きな塊状物と、棒状物が凝集し、一部が融合した形態が認められた。
得られた試料粉末の形態観察として、日本電子製ＪＸＡ−８５３０Ｆを用いて、走査電子顕微鏡による二次電子像（ＳＥＩ）を観察した。図１８、図１９は得られた試料粉末の表面の走査電子顕微鏡観察写真である。なお、図１９の（ｂ）は図１８の部分拡大写真であり、図１９の（ａ）は拡大位置を示している。
表面の形態観察の結果、比較的大きな塊状物と、棒状物が凝集し、一部が融合した形態が認められた。
得られた試料粉末について、リガク製Ｘ線回折装置ＲＩＮＴ ２２００ＶＫ／ＰＣを用いてＸ線回析分析を行った。図２０の（ａ）は試料粉末のＸ線回折プロファイルであり、（ｂ）はＣｕ０．８７５Ｓｉ０．１２５の標準ピークパターンであり、（ｃ）はＣｕ０．８３Ｓｉ０．１７の標準ピークパターンである。
Ｘ線回折プロファイルから、非常に強いＣｕ０．８７５Ｓｉ０．１２５の回折パターンと強いＣｕ０．８３Ｓｉ０．１７の回折パターンが認められ、得られた試料粉末の主成分は銅シリサイドであると推定される。
実施例Ａ−４
原料として、Ｃｕ粉末とＳｉ粉末を使用し、反応助剤としてＮａＣｌを使用した。
アルカリ金属のハロゲン化物として、実施例Ａ−４ではＮａＣｌを用いた。
原料として、Ｃｕ粉末とＳｉ粉末を使用し、反応助剤としてＮａＣｌを使用した。
アルカリ金属のハロゲン化物として、実施例Ａ−４ではＮａＣｌを用いた。
試料粉末の作成
高純度化学品のＣｕ粉末の純度は９９．９％であり、粒子径は４５μｍ以下であった。
また、Ｓｉ粉末（東京印刷機材トレーディング（株）製）の純度は９９．９９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０は１〜３μｍであった。
高純度化学品のＮａＣｌ粉末の純度は９９．９％であり、パウダー状であった。
高純度化学品のＣｕ粉末の純度は９９．９％であり、粒子径は４５μｍ以下であった。
また、Ｓｉ粉末（東京印刷機材トレーディング（株）製）の純度は９９．９９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０は１〜３μｍであった。
高純度化学品のＮａＣｌ粉末の純度は９９．９％であり、パウダー状であった。
上記のＣｕ粉末５０．０ｇと上記のＳｉ粉末７．４ｇと反応助剤としてＮａＣｌ５．１ｇを容器内に秤量して、振とうしたところ、Ｃｕ粉末とＳｉ粉末とＮａＣｌ粉末は均一に混合され原料混合粉末を得た。配合モル比はＣｕ：Ｓｉ＝３：１である。
図１は使用した製造装置の概略図である。黒鉛るつぼ１は内径φ７０ｍｍ×高さ１２５ｍｍであり、上面の中央にガス抜き穴１１が設けられている。原料混合粉末２を黒鉛るつぼ１内に収納した後に、高周波加熱装置４を備えた真空容器３内に水平に配置した。
そして、原料混合粉末２が飛散しないように注意しながら、配管５を通じて真空ポンプ６を用いて真空容器３内を８Ｐａまで真空排気した。
８Ｐａまで真空排気した直後に、図２に示す熱処理パターンのように、室温（Ｔｒ）から８５０℃（Ｔｍａｘ）まで１時間（０〜ｔ１）かけて昇温し、８５０℃（Ｔｍａｘ）で５時間（ｔ１〜ｔ２）保持し、その後、加熱電源をＯＦＦして、自然冷却した。昇温、保持、冷却の間も真空ポンプ６を用いて真空排気を続けた。
原料混合粉末２を十分に冷却した後、真空ポンプ６を停止し大気圧に戻し、黒鉛るつぼ１を取り出し、試料粉末を得た。
得られた試料粉末は、実施例Ａ−３で得られた試料粉末よりサラサラしていた。色は黄土色に近かった。水洗すると凝集物ができた。
得られた試料粉末は、実施例Ａ−３で得られた試料粉末よりサラサラしていた。色は黄土色に近かった。水洗すると凝集物ができた。
試料粉末の測定
得られた試料粉末の形態観察として、日本電子製ＪＸＡ−８５３０Ｆを用いて、走査電子顕微鏡による二次電子像（ＳＥＩ）を観察した。図２１、図２２は得られた試料粉末の表面の走査電子顕微鏡観察写真である。なお、図２２の（ｂ）は図２１の部分拡大写真であり、図２２の（ａ）は拡大位置を示している。
表面の形態観察の結果、大きさの異なる球状物が認められた。球状物をさらに拡大すると、粉状物や微小な球状物の付着が認められた。
得られた試料粉末の形態観察として、日本電子製ＪＸＡ−８５３０Ｆを用いて、走査電子顕微鏡による二次電子像（ＳＥＩ）を観察した。図２１、図２２は得られた試料粉末の表面の走査電子顕微鏡観察写真である。なお、図２２の（ｂ）は図２１の部分拡大写真であり、図２２の（ａ）は拡大位置を示している。
表面の形態観察の結果、大きさの異なる球状物が認められた。球状物をさらに拡大すると、粉状物や微小な球状物の付着が認められた。
得られた試料粉末について、リガク製Ｘ線回折装置ＲＩＮＴ ２２００ＶＫ／ＰＣを用いてＸ線回析分析を行った。図２３の（ａ）は試料粉末のＸ線回折プロファイルであり、（ｂ）はη−Ｃｕ３．１７Ｓｉ、Ｃｕ３．１７Ｓｉの標準ピークパターンであり、（ｃ）はＳｉＯ２の標準ピークパターンであり、（ｄ）はＣｕ０．８７５Ｓｉ０．１２５の標準ピークパターンであり、（ｅ）はＣｕ２Ｏの標準ピークパターンである。
Ｘ線回折プロファイルから、非常に強いη−Ｃｕ３．１７Ｓｉの回折パターンと強いＳｉＯ２の回折パターンと強いＣｕ０．８７５Ｓｉ０．１２５の回折パターンと弱いＣｕ２Ｏの回折パターンが認められたが、ＳｉＯ２は原料の酸化あるいは熱処理中のリークが原因であると考えられる。したがって、得られた試料粉末の主成分は銅シリサイドであると推定される。
実施例Ａ−５
原料として、Ｃｕ粉末とＳｉ粉末を使用し、反応助剤としてＮａＣｌを使用した。
アルカリ金属のハロゲン化物として、実施例Ａ−５ではＮａＣｌを用いた。
原料として、Ｃｕ粉末とＳｉ粉末を使用し、反応助剤としてＮａＣｌを使用した。
アルカリ金属のハロゲン化物として、実施例Ａ−５ではＮａＣｌを用いた。
試料粉末の作成
高純度化学品のＣｕ粉末の純度は９９．９％であり、粒子径は４５μｍ以下であった。
また、Ｓｉ粉末（東京印刷機材トレーディング（株）製）の純度は９９．９９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０は１〜３μｍであった。
高純度化学品のＮａＣｌ粉末の純度は９９．９％であり、パウダー状であった。
高純度化学品のＣｕ粉末の純度は９９．９％であり、粒子径は４５μｍ以下であった。
また、Ｓｉ粉末（東京印刷機材トレーディング（株）製）の純度は９９．９９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０は１〜３μｍであった。
高純度化学品のＮａＣｌ粉末の純度は９９．９％であり、パウダー状であった。
上記のＣｕ粉末５０．０ｇと上記のＳｉ粉末７．４ｇと反応助剤としてＮａＣｌ５．１ｇを容器内に秤量して、振とうしたところ、Ｃｕ粉末とＳｉ粉末とＮａＣｌ粉末は均一に混合され原料混合粉末を得た。配合モル比はＣｕ：Ｓｉ＝３：１である。
図１は使用した製造装置の概略図である。黒鉛るつぼ１は内径φ７０ｍｍ×高さ１２５ｍｍであり、上面の中央にガス抜き穴１１が設けられている。原料混合粉末２を黒鉛るつぼ１内に収納した後に、高周波加熱装置４を備えた真空容器３内に水平に配置した。
そして、原料混合粉末２が飛散しないように注意しながら、配管５を通じて真空ポンプ６を用いて真空容器３内を８Ｐａまで真空排気した。
８Ｐａまで真空排気した直後に、図２に示す熱処理パターンのように、室温（Ｔｒ）から８７５℃（Ｔｍａｘ）まで１時間（０〜ｔ１）かけて昇温し、８７５℃（Ｔｍａｘ）で５時間（ｔ１〜ｔ２）保持し、その後、加熱電源をＯＦＦして、自然冷却した。昇温、保持、冷却の間も真空ポンプ６を用いて真空排気を続けた。
原料混合粉末２を十分に冷却した後、真空ポンプ６を停止し大気圧に戻し、黒鉛るつぼ１を取り出し、試料粉末を得た。
得られた試料粉末は、大きな溶融物もなく、全体的にきれいな球状物が得られた。
得られた試料粉末は、大きな溶融物もなく、全体的にきれいな球状物が得られた。
試料粉末の測定
得られた試料粉末の形態観察として、日本電子製ＪＸＡ−８５３０Ｆを用いて、走査電子顕微鏡による二次電子像（ＳＥＩ）を観察した。図２４、図２５は得られた試料粉末の表面の走査電子顕微鏡観察写真である。
表面の形態観察の結果、粉状体や大きさの異なる球状物が認められた。
得られた試料粉末の形態観察として、日本電子製ＪＸＡ−８５３０Ｆを用いて、走査電子顕微鏡による二次電子像（ＳＥＩ）を観察した。図２４、図２５は得られた試料粉末の表面の走査電子顕微鏡観察写真である。
表面の形態観察の結果、粉状体や大きさの異なる球状物が認められた。
さらに、断面を作成し、得られた試料粉末の断面について、日本電子製ＪＸＡ−８５３０Ｆを用いて、走査電子顕微鏡によるＳＥＩ：二次電子像を観察した。図２６、図２７は得られた試料粉末の断面の走査電子顕微鏡観察写真である。なお、図２７の（ｂ）は図２６の部分拡大写真であり、図２７の（ａ）は拡大位置を示している。
図２８は得られた試料粉末の断面のカラーマップデータであり、（ａ）は断面のＳＥＭ像、（ｂ）はＣｕ分布、（ｃ）はＳｉ分布を示している。
面分析の結果、球状物にＣｕ及びＳｉの均一な分布が見られる。
面分析の結果、球状物にＣｕ及びＳｉの均一な分布が見られる。
得られた試料粉末について、リガク製Ｘ線回折装置ＲＩＮＴ ２２００ＶＫ／ＰＣを用いてＸ線回析分析を行った。図２９の（ａ）は試料粉末のＸ線回折プロファイルであり、（ｂ）はη−Ｃｕ３．１７Ｓｉ、Ｃｕ３．１７Ｓｉの標準ピークパターンであり、（ｃ）はＣｕ２Ｏの標準ピークパターンであり、（ｄ）はＣｕの標準ピークパターンであり、（ｅ）はＣｕＯの標準ピークパターンである。
Ｘ線回折プロファイルから、非常に強いη−Ｃｕ３．１７Ｓｉの回折パターンと弱いＣｕ２Ｏの回折パターンと弱いＣｕの回折パターンと弱いＣｕＯの回折パターンと弱いＳｉの回折パターンと弱いＳｉＯ２の回折パターンが認められ、得られた試料粉末の主成分は銅シリサイドであると推定される。
得られた試料粉末について、島津製作所製粒度測定装置ＳＡＬＤ−３１００を用いて粒度分布を測定した。
図１１１は得られた試料粉末の粒度分布を示すグラフである。測定結果から、得られた試料粉末の粒度分布は０．１〜５０μｍ程度であり、平均粒子径Ｄ５０は１〜５μｍ程度であった。
図１１１は得られた試料粉末の粒度分布を示すグラフである。測定結果から、得られた試料粉末の粒度分布は０．１〜５０μｍ程度であり、平均粒子径Ｄ５０は１〜５μｍ程度であった。
得られた試料粉末について、体積−重量法によって、かさ密度を測定した。かさ密度は２．２０ｇ／ｃｍ３であった。
（Ｂ）Ｎｉ−Ｓｉ合金粒子についての実施例
固相−固相反応によってＮｉ粉末とＳｉ粉末からＮｉ−Ｓｉ合金粒子を製造する実施例について比較例とともに説明する。
固相−固相反応によってＮｉ粉末とＳｉ粉末からＮｉ−Ｓｉ合金粒子を製造する実施例について比較例とともに説明する。
実施例Ｂ−１
原料として、Ｎｉ粉末とＳｉ粉末を使用し、反応助剤としてＮａＣｌを使用した。
アルカリ金属のハロゲン化物として、実施例Ｂ−１ではＮａＣｌを用いた。
原料として、Ｎｉ粉末とＳｉ粉末を使用し、反応助剤としてＮａＣｌを使用した。
アルカリ金属のハロゲン化物として、実施例Ｂ−１ではＮａＣｌを用いた。
試料粉末の作成
高純度化学品のＮｉ粉末の純度は９９．９％であり、粒子径は３〜５μｍであった。
また、Ｓｉ粉末（東京印刷機材トレーディング（株）製）の純度は９９．９９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０は１〜３μｍであった。
高純度化学品のＮａＣｌ粉末の純度は９９．９％であり、パウダー状であった。
高純度化学品のＮｉ粉末の純度は９９．９％であり、粒子径は３〜５μｍであった。
また、Ｓｉ粉末（東京印刷機材トレーディング（株）製）の純度は９９．９９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０は１〜３μｍであった。
高純度化学品のＮａＣｌ粉末の純度は９９．９％であり、パウダー状であった。
上記のＮｉ粉末３１．４ｇと上記のＳｉ粉末３０．０ｇと反応助剤としてＮａＣｌ２０．８ｇを容器内に秤量して、振とうしたところ、Ｎｉ粉末とＳｉ粉末とＮａＣｌ粉末は均一に混合され原料混合粉末を得た。配合モル比はＮｉ：Ｓｉ＝１：２である。
図１は使用した製造装置の概略図である。黒鉛るつぼ１は内径φ７０ｍｍ×高さ１２５ｍｍであり、上面の中央にガス抜き穴１１が設けられている。原料混合粉末２を黒鉛るつぼ１内に収納した後に、高周波加熱装置４を備えた真空容器３内に水平に配置した。
そして、原料混合粉末２が飛散しないように注意しながら、配管５を通じて真空ポンプ６を用いて真空容器３内を８Ｐａまで真空排気した。
８Ｐａまで真空排気した直後に、図２に示す熱処理パターンのように、室温（Ｔｒ）から９００℃（Ｔｍａｘ）まで１時間（０〜ｔ１）かけて昇温し、９００℃（Ｔｍａｘ）で５時間（ｔ１〜ｔ２）保持し、その後、加熱電源をＯＦＦして、自然冷却した。昇温、保持、冷却の間も真空ポンプ６を用いて真空排気を続けた。
原料混合粉末２を十分に冷却した後、真空ポンプ６を停止し大気圧に戻し、黒鉛るつぼ１を取り出し、試料粉末を得た。
得られた試料粉末はサラサラしており、色は薄緑色系であった。
得られた試料粉末はサラサラしており、色は薄緑色系であった。
試料粉末の測定
得られた試料粉末の形態観察として、日本電子製ＪＸＡ−８５３０Ｆを用いて、走査電子顕微鏡による二次電子像（ＳＥＩ）を観察した。図３０、図３１は得られた試料粉末の表面の走査電子顕微鏡観察写真である。なお、図３１の（ｂ）は図３０の部分拡大写真であり、図３１の（ａ）は拡大位置を示している。
表面の形態観察の結果、大きさの異なる塊状物や球状物が認められた。さらに拡大すると、微粉末が塊状物や粉状物に付着していることが認められた。
得られた試料粉末の形態観察として、日本電子製ＪＸＡ−８５３０Ｆを用いて、走査電子顕微鏡による二次電子像（ＳＥＩ）を観察した。図３０、図３１は得られた試料粉末の表面の走査電子顕微鏡観察写真である。なお、図３１の（ｂ）は図３０の部分拡大写真であり、図３１の（ａ）は拡大位置を示している。
表面の形態観察の結果、大きさの異なる塊状物や球状物が認められた。さらに拡大すると、微粉末が塊状物や粉状物に付着していることが認められた。
得られた試料粉末について、リガク製Ｘ線回折装置ＲＩＮＴ ２２００ＶＫ／ＰＣを用いてＸ線回析分析を行った。図３２の（ａ）は試料粉末のＸ線回折プロファイルであり、（ｂ）はＮｉＳｉの標準ピークパターンであり、（ｃ）はＳｉの標準ピークパターンであり、（ｄ）はα−ＳｉＯ２の標準ピークパターンである。
Ｘ線回折プロファイルから、非常に強いＮｉＳｉの回折パターンと強いＳｉの回折パターンと弱いＳｉＯ２の回折パターンが認められたが、ＳｉＯ２は原料の酸化あるいは熱処理中のリークが原因であると考えられる。したがって、得られた試料粉末の主成分はニッケルシリサイドであると推定される。
実施例Ｂ−２
原料として、Ｎｉ粉末とＳｉ粉末を使用し、反応助剤としてＮａＣｌを使用した。
アルカリ金属のハロゲン化物として、実施例Ｂ−２ではＮａＣｌを用いた。
原料として、Ｎｉ粉末とＳｉ粉末を使用し、反応助剤としてＮａＣｌを使用した。
アルカリ金属のハロゲン化物として、実施例Ｂ−２ではＮａＣｌを用いた。
試料粉末の作成
高純度化学品のＮｉ粉末の純度は９９．９％であり、粒子径は３〜５μｍであった。
また、Ｓｉ粉末（東京印刷機材トレーディング（株）製）の純度は９９．９９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０は１〜３μｍであった。
高純度化学品のＮａＣｌ粉末の純度は９９．９％であり、パウダー状であった。
高純度化学品のＮｉ粉末の純度は９９．９％であり、粒子径は３〜５μｍであった。
また、Ｓｉ粉末（東京印刷機材トレーディング（株）製）の純度は９９．９９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０は１〜３μｍであった。
高純度化学品のＮａＣｌ粉末の純度は９９．９％であり、パウダー状であった。
上記のＮｉ粉末３１．４ｇと上記のＳｉ粉末１５．０ｇと反応助剤としてＮａＣｌ２０．８ｇを容器内に秤量して、振とうしたところ、Ｎｉ粉末とＳｉ粉末とＮａＣｌ粉末は均一に混合され原料混合粉末を得た。配合モル比はＮｉ：Ｓｉ＝１：１である。
図１は使用した製造装置の概略図である。黒鉛るつぼ１は内径φ７０ｍｍ×高さ１２５ｍｍであり、上面の中央にガス抜き穴１１が設けられている。原料混合粉末２を黒鉛るつぼ１内に収納した後に、高周波加熱装置４を備えた真空容器３内に水平に配置した。
そして、原料混合粉末２が飛散しないように注意しながら、配管５を通じて真空ポンプ６を用いて真空容器３内を８Ｐａまで真空排気した。
８Ｐａまで真空排気した直後に、図２に示す熱処理パターンのように、室温（Ｔｒ）から９００℃（Ｔｍａｘ）まで１時間（０〜ｔ１）かけて昇温し、９００℃（Ｔｍａｘ）で５時間（ｔ１〜ｔ２）保持し、その後、加熱電源をＯＦＦして、自然冷却した。昇温、保持、冷却の間も真空ポンプ６を用いて真空排気を続けた。
原料混合粉末２を十分に冷却した後、真空ポンプ６を停止し大気圧に戻し、黒鉛るつぼ１を取り出し、試料粉末を得た。
得られた試料粉末には目視で一部分に小さな球状溶融物が見られた。
得られた試料粉末には目視で一部分に小さな球状溶融物が見られた。
試料粉末の測定
得られた試料粉末の形態観察として、日本電子製ＪＸＡ−８５３０Ｆを用いて、走査電子顕微鏡による二次電子像（ＳＥＩ）を観察した。図３３、図３４は得られた試料粉末の表面の走査電子顕微鏡観察写真である。なお、図３４の（ｂ）は図３３の部分拡大写真であり、図３４の（ａ）は拡大位置を示している。
表面の形態観察の結果、不定形や球状の塊状物が認められた。
得られた試料粉末の形態観察として、日本電子製ＪＸＡ−８５３０Ｆを用いて、走査電子顕微鏡による二次電子像（ＳＥＩ）を観察した。図３３、図３４は得られた試料粉末の表面の走査電子顕微鏡観察写真である。なお、図３４の（ｂ）は図３３の部分拡大写真であり、図３４の（ａ）は拡大位置を示している。
表面の形態観察の結果、不定形や球状の塊状物が認められた。
得られた試料粉末について、リガク製Ｘ線回折装置ＲＩＮＴ ２２００ＶＫ／ＰＣを用いてＸ線回析分析を行った。図３５の（ａ）は試料粉末のＸ線回折プロファイルであり、（ｂ）はＮｉＳｉの標準ピークパターンであり、（ｃ）はＮｉ３Ｓｉの標準ピークパターンであり、（ｄ）はＳｉＯ２の標準ピークパターンであり、（ｅ）はＳｉの標準ピークパターンである。
Ｘ線回折プロファイルから、非常に強いＮｉＳｉの回折パターンと非常に強いＮｉ３Ｓｉの回折パターンと強いＳｉＯ２の回折パターンと弱いＳｉの回折パターンが認められ、得られた試料粉末の主成分はニッケルシリサイドであると推定される。
実施例Ｂ−３
原料として、Ｎｉ粉末とＳｉ粉末を使用し、反応助剤としてＮａＣｌを使用した。
アルカリ金属のハロゲン化物として、実施例Ｂ−３ではＮａＣｌを用いた。
原料として、Ｎｉ粉末とＳｉ粉末を使用し、反応助剤としてＮａＣｌを使用した。
アルカリ金属のハロゲン化物として、実施例Ｂ−３ではＮａＣｌを用いた。
試料粉末の作成
高純度化学品のＮｉ粉末の純度は９９．９％であり、粒子径は３〜５μｍであった。
また、Ｓｉ粉末（東京印刷機材トレーディング（株）製）の純度は９９．９９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０は１〜３μｍであった。
高純度化学品のＮａＣｌ粉末の純度は９９．９％であり、パウダー状であった。
高純度化学品のＮｉ粉末の純度は９９．９％であり、粒子径は３〜５μｍであった。
また、Ｓｉ粉末（東京印刷機材トレーディング（株）製）の純度は９９．９９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０は１〜３μｍであった。
高純度化学品のＮａＣｌ粉末の純度は９９．９％であり、パウダー状であった。
上記のＮｉ粉末３１．４ｇと上記のＳｉ粉末３０．０ｇと反応助剤としてＮａＣｌ２０．８ｇを容器内に秤量して、振とうしたところ、Ｎｉ粉末とＳｉ粉末とＮａＣｌ粉末は均一に混合され原料混合粉末を得た。配合モル比はＮｉ：Ｓｉ＝１：２である。
図１は使用した製造装置の概略図である。黒鉛るつぼ１は内径φ７０ｍｍ×高さ１２５ｍｍであり、上面の中央にガス抜き穴１１が設けられている。原料混合粉末２を黒鉛るつぼ１内に収納した後に、高周波加熱装置４を備えた真空容器３内に水平に配置した。
そして、原料混合粉末２が飛散しないように注意しながら、配管５を通じて真空ポンプ６を用いて真空容器３内を８Ｐａまで真空排気した。
８Ｐａまで真空排気した直後に、図２に示す熱処理パターンのように、室温（Ｔｒ）から１０００℃（Ｔｍａｘ）まで１時間（０〜ｔ１）かけて昇温し、１０００℃（Ｔｍａｘ）で５時間（ｔ１〜ｔ２）保持し、その後、加熱電源をＯＦＦして、自然冷却した。昇温、保持、冷却の間も真空ポンプ６を用いて真空排気を続けた。
原料混合粉末２を十分に冷却した後、真空ポンプ６を停止し大気圧に戻し、黒鉛るつぼ１を取り出し、試料粉末を得た。
得られた試料粉末には目視で一部分に小さな球状溶融物が見られた。
得られた試料粉末には目視で一部分に小さな球状溶融物が見られた。
試料粉末の測定
得られた試料粉末の形態観察として、日本電子製ＪＸＡ−８５３０Ｆを用いて、走査電子顕微鏡による二次電子像（ＳＥＩ）を観察した。図３６、図３７は得られた試料粉末の表面の走査電子顕微鏡観察写真である。なお、図３７の（ｂ）は図３６の部分拡大写真であり、図３７の（ａ）は拡大位置を示している。
表面の形態観察の結果、粉状体や不定形や球状の塊状物が認められた。
得られた試料粉末の形態観察として、日本電子製ＪＸＡ−８５３０Ｆを用いて、走査電子顕微鏡による二次電子像（ＳＥＩ）を観察した。図３６、図３７は得られた試料粉末の表面の走査電子顕微鏡観察写真である。なお、図３７の（ｂ）は図３６の部分拡大写真であり、図３７の（ａ）は拡大位置を示している。
表面の形態観察の結果、粉状体や不定形や球状の塊状物が認められた。
得られた試料粉末について、リガク製Ｘ線回折装置ＲＩＮＴ ２２００ＶＫ／ＰＣを用いてＸ線回析分析を行った。図３８の（ａ）は試料粉末のＸ線回折プロファイルであり、（ｂ）はＮｉＳｉの標準ピークパターンであり、（ｃ）はＮｉＳｉ２の標準ピークパターンであり、（ｄ）はＳｉの標準ピークパターンである。
Ｘ線回折プロファイルから、非常に強いＮｉＳｉの回折パターンと非常に強いＮｉＳｉ２の回折パターンと強いＳｉの回折パターンが認められ、得られた試料粉末の主成分はニッケルシリサイドであると推定される。
実施例Ｂ−４
原料として、Ｎｉ粉末とＳｉ粉末を使用し、反応助剤としてＮａＣｌを使用した。
アルカリ金属のハロゲン化物として、実施例Ｂ−４ではＮａＣｌを用いた。
原料として、Ｎｉ粉末とＳｉ粉末を使用し、反応助剤としてＮａＣｌを使用した。
アルカリ金属のハロゲン化物として、実施例Ｂ−４ではＮａＣｌを用いた。
試料粉末の作成
高純度化学品のＮｉ粉末の純度は９９．９％であり、粒子径は３〜５μｍであった。
また、Ｓｉ粉末（東京印刷機材トレーディング（株）製）の純度は９９．９９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０は１〜３μｍであった。
高純度化学品のＮａＣｌ粉末の純度は９９．９％であり、パウダー状であった。
高純度化学品のＮｉ粉末の純度は９９．９％であり、粒子径は３〜５μｍであった。
また、Ｓｉ粉末（東京印刷機材トレーディング（株）製）の純度は９９．９９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０は１〜３μｍであった。
高純度化学品のＮａＣｌ粉末の純度は９９．９％であり、パウダー状であった。
上記のＮｉ粉末１５．０ｇと上記のＳｉ粉末１５．０ｇと反応助剤としてＮａＣｌ１５．７ｇを容器内に秤量して、振とうしたところ、Ｎｉ粉末とＳｉ粉末とＮａＣｌ粉末は均一に混合され原料混合粉末を得た。
図１は使用した製造装置の概略図である。黒鉛るつぼ１は内径φ７０ｍｍ×高さ１２５ｍｍであり、上面の中央にガス抜き穴１１が設けられている。原料混合粉末２を黒鉛るつぼ１内に収納した後に、高周波加熱装置４を備えた真空容器３内に水平に配置した。
そして、原料混合粉末２が飛散しないように注意しながら、配管５を通じて真空ポンプ６を用いて真空容器３内を８Ｐａまで真空排気した。
８Ｐａまで真空排気した直後に、図２に示す熱処理パターンのように、室温（Ｔｒ）から１１００℃（Ｔｍａｘ）まで１時間（０〜ｔ１）かけて昇温し、１１００℃（Ｔｍａｘ）で５時間（ｔ１〜ｔ２）保持し、その後、加熱電源をＯＦＦして、自然冷却した。昇温、保持、冷却の間も真空ポンプ６を用いて真空排気を続けた。
原料混合粉末２を十分に冷却した後、真空ポンプ６を停止し大気圧に戻し、黒鉛るつぼ１を取り出し、試料粉末を得た。
試料粉末の測定
得られた試料粉末について、島津製作所製粒度測定装置ＳＡＬＤ−３１００を用いて粒度分布を測定した。
図１１２は得られた試料粉末の粒度分布を示すグラフである。測定結果から、得られた試料粒子の粒度分布は０．１〜５０μｍ程度であり、得られた試料粉末の平均粒子径Ｄ５０は１〜２０μｍであった。
得られた試料粉末について、島津製作所製粒度測定装置ＳＡＬＤ−３１００を用いて粒度分布を測定した。
図１１２は得られた試料粉末の粒度分布を示すグラフである。測定結果から、得られた試料粒子の粒度分布は０．１〜５０μｍ程度であり、得られた試料粉末の平均粒子径Ｄ５０は１〜２０μｍであった。
得られた試料粉末について、体積−重量法によって、かさ密度を測定した。かさ密度は０．７９ｇ／ｃｍ３であった。
（Ｃ）Ｔｉ−Ｓｉ合金粒子についての実施例
固相−固相反応によってＴｉ粉末とＳｉ粉末からＴｉ−Ｓｉ合金粒子を製造する実施例について比較例とともに説明する。
固相−固相反応によってＴｉ粉末とＳｉ粉末からＴｉ−Ｓｉ合金粒子を製造する実施例について比較例とともに説明する。
比較例Ｃ−１、２、３、４
原料として、Ｔｉ粉末とＳｉ粉末を使用し、反応助剤を使用しなかった。
原料として、Ｔｉ粉末とＳｉ粉末を使用し、反応助剤を使用しなかった。
試料粉末の作成
トーホーテック製のＴｉ粉末の純度は９９．８％であり、粒子径は１０〜４５μｍであった。
また、Ｓｉ粉末（東京印刷機材トレーディング（株）製）の純度は９９．９９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０は１〜３μｍであった。
トーホーテック製のＴｉ粉末の純度は９９．８％であり、粒子径は１０〜４５μｍであった。
また、Ｓｉ粉末（東京印刷機材トレーディング（株）製）の純度は９９．９９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０は１〜３μｍであった。
上記のＴｉ粉末２０．０ｇと上記のＳｉ粉末２３．５ｇを容器内に秤量して、振とうしたところ、Ｔｉ粉末とＳｉ粉末は均一に混合され原料混合粉末を得た。配合モル比はＴｉ：Ｓｉ＝１：２である。
図１は使用した製造装置の概略図である。黒鉛るつぼ１は内径φ７０ｍｍ×高さ１２５ｍｍであり、上面の中央にガス抜き穴１１が設けられている。原料混合粉末２を黒鉛るつぼ１内に収納した後に、高周波加熱装置４を備えた真空容器３内に水平に配置した。
そして、原料混合粉末２が飛散しないように注意しながら、配管５を通じて真空ポンプ６を用いて真空容器３内を８Ｐａまで真空排気した。
８Ｐａまで真空排気した直後に、図２に示す熱処理パターンのように、室温（Ｔｒ）から１１５０℃（Ｔｍａｘ）まで１時間（０〜ｔ１）かけて昇温し、１１５０℃（Ｔｍａｘ）で５時間（ｔ１〜ｔ２）保持し、その後、加熱電源をＯＦＦして、自然冷却した。昇温、保持、冷却の間も真空ポンプ６を用いて真空排気を続けた。
原料混合粉末２を十分に冷却した後、真空ポンプ６を停止し大気圧に戻し、黒鉛るつぼ１を取り出し、試料粉末を得た。
得られた試料粉末は色の異なる４種類の部分に分かれていた。
比較例Ｃ−１はるつぼ内の上部から採取し、図３９に示すように黄褐色であった。
比較例Ｃ−２はるつぼ内の中央上部から採取し、図４１に示すように黒褐色であった。
比較例Ｃ−３はるつぼ内の中央下部から採取し、図４３に示すように黒褐色であった。
比較例Ｃ−４はるつぼ内の下部から採取した。図４５に示すように茶褐色であった。
得られた試料粉末は色の異なる４種類の部分に分かれていた。
比較例Ｃ−１はるつぼ内の上部から採取し、図３９に示すように黄褐色であった。
比較例Ｃ−２はるつぼ内の中央上部から採取し、図４１に示すように黒褐色であった。
比較例Ｃ−３はるつぼ内の中央下部から採取し、図４３に示すように黒褐色であった。
比較例Ｃ−４はるつぼ内の下部から採取した。図４５に示すように茶褐色であった。
試料粉末の測定
得られた試料粉末（比較例Ｃ−１）について、リガク製Ｘ線回折装置ＲＩＮＴ ２２００ＶＫ／ＰＣを用いてＸ線回析分析を行った。図４０の（ａ）は試料粉末のＸ線回折プロファイルであり、（ｂ）はＳｉの標準ピークパターンであり、（ｃ）はＴｉＳｉの標準ピークパターンであり、（ｄ）はＴｉＳｉ２の標準ピークパターンであり、（ｅ）はＴｉ５Ｓｉ３の標準ピークパターンである。
得られた試料粉末（比較例Ｃ−１）について、リガク製Ｘ線回折装置ＲＩＮＴ ２２００ＶＫ／ＰＣを用いてＸ線回析分析を行った。図４０の（ａ）は試料粉末のＸ線回折プロファイルであり、（ｂ）はＳｉの標準ピークパターンであり、（ｃ）はＴｉＳｉの標準ピークパターンであり、（ｄ）はＴｉＳｉ２の標準ピークパターンであり、（ｅ）はＴｉ５Ｓｉ３の標準ピークパターンである。
比較例Ｃ−１についてのＸ線回折プロファイルから、非常に強いＳｉの回折パターンと強いＴｉＳｉの回折パターンと強いＴｉＳｉ２の回折パターンと弱いＴｉ５Ｓｉ３の回折パターンが認められた。
得られた試料粉末（比較例Ｃ−２）について、リガク製Ｘ線回折装置ＲＩＮＴ ２２００ＶＫ／ＰＣを用いてＸ線回析分析を行った。図４２の（ａ）は試料粉末のＸ線回折プロファイルであり、（ｂ）はＴｉＳｉ２の標準ピークパターンであり、（ｃ）はＴｉＳｉの標準ピークパターンであり、（ｄ）はＳｉの標準ピークパターンであり、（ｅ）はＴｉ５Ｓｉ３の標準ピークパターンである。
比較例Ｃ−２についてのＸ線回折プロファイルから、非常に強いＴｉＳｉ２の回折パターンと強いＴｉＳｉの回折パターンと強いＴｉの回折パターンと弱いＴｉ５Ｓｉ３の回折パターンが認められた。
得られた試料粉末（比較例Ｃ−３）について、リガク製Ｘ線回折装置ＲＩＮＴ ２２００ＶＫ／ＰＣを用いてＸ線回析分析を行った。図４４の（ａ）は試料粉末のＸ線回折プロファイルであり、（ｂ）はＴｉＳｉ２の標準ピークパターンであり、（ｃ）はＳｉの標準ピークパターンであり、（ｄ）はＴｉＳｉの標準ピークパターンであり、（ｅ）はＴｉ５Ｓｉ３の標準ピークパターンである。
比較例Ｃ−３についてのＸ線回折プロファイルから、非常に強いＴｉＳｉ２の回折パターンと非常に強いＳｉの回折パターンと強いＴｉＳｉの回折パターンと弱いＴｉ５Ｓｉ３の回折パターンが認められた。
得られた試料粉末（比較例Ｃ−４）について、リガク製Ｘ線回折装置ＲＩＮＴ ２２００ＶＫ／ＰＣを用いてＸ線回析分析を行った。図４６の（ａ）は試料粉末のＸ線回折プロファイルであり、（ｂ）はＳｉの標準ピークパターンであり、（ｃ）はＴｉＳｉの標準ピークパターンであり、（ｄ）はＴｉＳｉ２の標準ピークパターンであり、（ｅ）はＴｉ５Ｓｉ３の標準ピークパターンである。
比較例Ｃ−４についてのＸ線回折プロファイルから、非常に強いＳｉの回折パターンと強いＴｉＳｉの回折パターンと強いＴｉＳｉ２の回折パターンと弱いＴｉ５Ｓｉ３の回折パターンが認められた。
実施例Ｃ−５
原料として、Ｔｉ粉末とＳｉ粉末を使用し、反応助剤としてＫＣｌを使用した。
アルカリ金属のハロゲン化物として、実施例Ｃ−５ではＫＣｌを用いた。
原料として、Ｔｉ粉末とＳｉ粉末を使用し、反応助剤としてＫＣｌを使用した。
アルカリ金属のハロゲン化物として、実施例Ｃ−５ではＫＣｌを用いた。
アルカリ金属のハロゲン化物として、ＫＣｌがあるが、その蒸気圧表は表２のとおりである。
試料粉末の作成
トーホーテック製のＴｉ粉末の純度は９９．８％であり、粒子径は１０〜４５μｍであった。
また、Ｓｉ粉末（東京印刷機材トレーディング（株）製）の純度は９９．９９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０は１〜３μｍであった。
また、高純度化学品のＫＣｌ粉末を使用した。
トーホーテック製のＴｉ粉末の純度は９９．８％であり、粒子径は１０〜４５μｍであった。
また、Ｓｉ粉末（東京印刷機材トレーディング（株）製）の純度は９９．９９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０は１〜３μｍであった。
また、高純度化学品のＫＣｌ粉末を使用した。
上記のＴｉ粉末２７．６ｇと上記のＳｉ粉末３２．４ｇと上記のＫＣｌ粉末６．０ｇを容器内に秤量して、振とうしたところ、Ｔｉ粉末とＳｉ粉末とＫＣｌ粉末は均一に混合され原料混合粉末を得た。配合モル比はＴｉ：Ｓｉ＝１：２である。
図１は使用した製造装置の概略図である。黒鉛るつぼ１は内径φ７０ｍｍ×高さ１２５ｍｍであり、上面の中央にガス抜き穴１１が設けられている。原料混合粉末２を黒鉛るつぼ１内に収納した後に、高周波加熱装置４を備えた真空容器３内に水平に配置した。
そして、原料混合粉末２が飛散しないように注意しながら、配管５を通じて真空ポンプ６を用いて真空容器３内を８Ｐａまで真空排気した。
８Ｐａまで真空排気した直後に、図２に示す熱処理パターンのように、室温（Ｔｒ）から１１５０℃（Ｔｍａｘ）まで１時間（０〜ｔ１）かけて昇温し、１１５０℃（Ｔｍａｘ）で５時間（ｔ１〜ｔ２）保持し、その後、加熱電源をＯＦＦして、自然冷却した。昇温、保持、冷却の間も真空ポンプ６を用いて真空排気を続けた。
原料混合粉末２を十分に冷却した後、真空ポンプ６を停止し大気圧に戻し、黒鉛るつぼ１を取り出し、試料粉末を得た。
黒鉛るつぼのガス抜き穴の断熱材は黄色に変色していた。
得られた試料粉末の中には金属色の粒子が認められた。
黒鉛るつぼのガス抜き穴の断熱材は黄色に変色していた。
得られた試料粉末の中には金属色の粒子が認められた。
試料粉末の測定
得られた試料粉末の形態観察として、日本電子製ＪＸＡ−８５３０Ｆを用いて、走査電子顕微鏡による二次電子像（ＳＥＩ）を観察した。図４７、図４８は得られた試料粉末の表面の走査電子顕微鏡観察写真である。なお、図４８の（ｂ）は図４７の部分拡大写真であり、図４８の（ａ）は拡大位置を示している。
表面の形態観察の結果、表面の滑らかな塊状物及び粉状物等が見られた。塊状物を拡大すると、一部に粒状物同士が溶融して成長したような形態が認められた。
得られた試料粉末の形態観察として、日本電子製ＪＸＡ−８５３０Ｆを用いて、走査電子顕微鏡による二次電子像（ＳＥＩ）を観察した。図４７、図４８は得られた試料粉末の表面の走査電子顕微鏡観察写真である。なお、図４８の（ｂ）は図４７の部分拡大写真であり、図４８の（ａ）は拡大位置を示している。
表面の形態観察の結果、表面の滑らかな塊状物及び粉状物等が見られた。塊状物を拡大すると、一部に粒状物同士が溶融して成長したような形態が認められた。
得られた試料粉末について、リガク製Ｘ線回折装置ＲＩＮＴ ２２００ＶＫ／ＰＣを用いてＸ線回析分析を行った。図４９の（ａ）は試料粉末のＸ線回折プロファイルであり、（ｂ）はＴｉＳｉ２の標準ピークパターンであり、（ｃ）はＴｉＳｉの標準ピークパターンであり、（ｄ）はＳｉの標準ピークパターンであり、（ｅ）はＳｉＯ２の標準ピークパターンである。
Ｘ線回折プロファイルから、非常に強いＴｉＳｉ２の回折パターンと強いＴｉＳｉの回折パターンと強いＳｉの回折パターンが認められ、得られた試料粉末の主成分はケイ素とチタンシリサイドであると推定される。
実施例Ｃ−６
原料として、Ｔｉ粉末とＳｉ粉末を使用し、反応助剤としてＮａＣｌを使用した。
アルカリ金属のハロゲン化物として、実施例Ｃ−６ではＮａＣｌを用いた。
原料として、Ｔｉ粉末とＳｉ粉末を使用し、反応助剤としてＮａＣｌを使用した。
アルカリ金属のハロゲン化物として、実施例Ｃ−６ではＮａＣｌを用いた。
試料粉末の作成
トーホーテック製のＴｉ粉末の純度は９９．８％であり、粒子径は１０〜４５μｍであった。
また、Ｓｉ粉末（東京印刷機材トレーディング（株）製）の純度は９９．９９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０は１〜３μｍであった。
また、高純度化学品のＮａＣｌ粉末の純度は９９．９％であり、パウダー状であった。
トーホーテック製のＴｉ粉末の純度は９９．８％であり、粒子径は１０〜４５μｍであった。
また、Ｓｉ粉末（東京印刷機材トレーディング（株）製）の純度は９９．９９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０は１〜３μｍであった。
また、高純度化学品のＮａＣｌ粉末の純度は９９．９％であり、パウダー状であった。
上記のＴｉ粉末２５．７ｇと上記のＳｉ粉末３０．０ｇと上記のＮａＣｌ粉末２０．８ｇを容器内に秤量して、振とうしたところ、Ｔｉ粉末とＳｉ粉末とＮａＣｌ粉末は均一に混合され原料混合粉末を得た。配合モル比はＴｉ：Ｓｉ＝１：２である。
図１は使用した製造装置の概略図である。黒鉛るつぼ１は内径φ７０ｍｍ×高さ１２５ｍｍであり、上面の中央にガス抜き穴１１が設けられている。原料混合粉末２を黒鉛るつぼ１内に収納した後に、高周波加熱装置４を備えた真空容器３内に水平に配置した。
そして、原料混合粉末２が飛散しないように注意しながら、配管５を通じて真空ポンプ６を用いて真空容器３内を８Ｐａまで真空排気した。
８Ｐａまで真空排気した直後に、図２に示す熱処理パターンのように、室温（Ｔｒ）から１０５０℃（Ｔｍａｘ）まで１時間（０〜ｔ１）かけて昇温し、１０５０℃（Ｔｍａｘ）で２０時間（ｔ１〜ｔ２）保持し、その後、加熱電源をＯＦＦして、自然冷却した。昇温、保持、冷却の間も真空ポンプ６を用いて真空排気を続けた。
原料混合粉末２を十分に冷却した後、真空ポンプ６を停止し大気圧に戻し、黒鉛るつぼ１を取り出し、試料粉末を得た。
得られた試料粉末は均一な濃い灰色であった。
得られた試料粉末は均一な濃い灰色であった。
試料粉末の測定
得られた試料粉末の形態観察として、日本電子製ＪＸＡ−８５３０Ｆを用いて、走査電子顕微鏡による二次電子像（ＳＥＩ）を観察した。図５０、図５１は得られた試料粉末の表面の走査電子顕微鏡観察写真である。なお、図５１の（ｂ）は図５０の部分拡大写真であり、図５１の（ａ）は拡大位置を示している。
表面の形態観察の結果、粒状物が互いに半溶融化状態で凝集し、一体化した多孔体の形態が認められた。
得られた試料粉末の形態観察として、日本電子製ＪＸＡ−８５３０Ｆを用いて、走査電子顕微鏡による二次電子像（ＳＥＩ）を観察した。図５０、図５１は得られた試料粉末の表面の走査電子顕微鏡観察写真である。なお、図５１の（ｂ）は図５０の部分拡大写真であり、図５１の（ａ）は拡大位置を示している。
表面の形態観察の結果、粒状物が互いに半溶融化状態で凝集し、一体化した多孔体の形態が認められた。
得られた試料粉末について、リガク製Ｘ線回折装置ＲＩＮＴ ２２００ＶＫ／ＰＣを用いてＸ線回析分析を行った。図５２の（ａ）は試料粉末のＸ線回折プロファイルであり、（ｂ）はＴｉＳｉ２の標準ピークパターンであり、（ｃ）はＴｉＳｉの標準ピークパターンであり、（ｄ）はＴｉ５Ｓｉ３の標準ピークパターンであり、（ｅ）はＳｉＯ２の標準ピークパターンである。
Ｘ線回折プロファイルから、非常に強いＴｉＳｉ２の回折パターンと強いＴｉＳｉの回折パターンと強いＴｉ５Ｓｉ３の回折パターンと強いＳｉＯ２の回折パターンが認められ、得られた試料粉末の主成分はチタンシリサイドであると推定される。
さらに、断面を作成し、得られた試料粉末の断面のミクロ観察を、ニコン製金属顕微鏡エクリプスＬＶ１００を用いて行った。図５３、図５４、図５５は、得られた試料の断面の金属顕微鏡ミクロ観察写真である。なお、図５４の（ｂ）は図５３の部分拡大写真であり、図５４の（ａ）は拡大位置を示している。また、図５５の（ｂ）は図５４の（ｂ）の部分拡大写真であり、図５５の（ａ）は拡大位置を示している。
断面のミクロ観察の結果、白色の粒状物が半溶融して連なり、多孔質体となっている状態が認められる。
断面のミクロ観察の結果、白色の粒状物が半溶融して連なり、多孔質体となっている状態が認められる。
図５６は得られた試料粉末の断面のカラーマップデータであり、（ａ）は断面のＳＥＭ像、（ｂ）はＴｉ分布、（ｃ）はＳｉ分布、（ｄ）はＯ分布を示している。
面分析の結果、明度が異なる塊状物等が、大きく分類して４相認められる。
カラーマップデータを考慮すると、Ｔｉ５Ｓｉ３がリッチな相とＴｉＳｉ２がリッチな相とＴｉＳｉがリッチな相とＳｉＯ２がリッチな相が見られる。
面分析の結果、明度が異なる塊状物等が、大きく分類して４相認められる。
カラーマップデータを考慮すると、Ｔｉ５Ｓｉ３がリッチな相とＴｉＳｉ２がリッチな相とＴｉＳｉがリッチな相とＳｉＯ２がリッチな相が見られる。
実施例Ｃ−７
原料として、Ｔｉ粉末とＳｉ粉末を使用し、反応助剤としてＮａＣｌを使用した。
アルカリ金属のハロゲン化物として、実施例Ｃ−７ではＮａＣｌを用いた。
原料として、Ｔｉ粉末とＳｉ粉末を使用し、反応助剤としてＮａＣｌを使用した。
アルカリ金属のハロゲン化物として、実施例Ｃ−７ではＮａＣｌを用いた。
試料粉末の作成
トーホーテック製のＴｉ粉末の純度は９９．８％であり、粒子径は１０〜４５μｍであった。
また、Ｓｉ粉末（東京印刷機材トレーディング（株）製）の純度は９９．９９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０は１〜３μｍであった。
また、高純度化学品のＮａＣｌ粉末の純度は９９．９％であり、パウダー状であった。
トーホーテック製のＴｉ粉末の純度は９９．８％であり、粒子径は１０〜４５μｍであった。
また、Ｓｉ粉末（東京印刷機材トレーディング（株）製）の純度は９９．９９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０は１〜３μｍであった。
また、高純度化学品のＮａＣｌ粉末の純度は９９．９％であり、パウダー状であった。
上記のＴｉ粉末１２．９ｇと上記のＳｉ粉末１５．０ｇと上記のＮａＣｌ粉末１０．４ｇを容器内に秤量して、振とうしたところ、Ｔｉ粉末とＳｉ粉末とＮａＣｌ粉末は均一に混合され原料混合粉末を得た。配合モル比はＴｉ：Ｓｉ＝１：２である。
図１は使用した製造装置の概略図である。黒鉛るつぼ１は内径φ７０ｍｍ×高さ１２５ｍｍであり、上面の中央にガス抜き穴１１が設けられている。原料混合粉末２を黒鉛るつぼ１内に収納した後に、高周波加熱装置４を備えた真空容器３内に水平に配置した。
そして、原料混合粉末２が飛散しないように注意しながら、配管５を通じて真空ポンプ６を用いて真空容器３内を８Ｐａまで真空排気した。
８Ｐａまで真空排気した直後に、図２に示す熱処理パターンのように、室温（Ｔｒ）から９５０℃（Ｔｍａｘ）まで１時間（０〜ｔ１）かけて昇温し、９５０℃（Ｔｍａｘ）で２０時間（ｔ１〜ｔ２）保持し、その後、加熱電源をＯＦＦして、自然冷却した。昇温、保持、冷却の間も真空ポンプ６を用いて真空排気を続けた。
原料混合粉末２を十分に冷却した後、真空ポンプ６を停止し大気圧に戻し、黒鉛るつぼ１を取り出し、試料粉末を得た。
得られた試料粉末は黒色の粉体であった。
得られた試料粉末は黒色の粉体であった。
試料粉末の測定
得られた試料粉末の形態観察として、日本電子製ＪＸＡ−８５３０Ｆを用いて、走査電子顕微鏡による二次電子像（ＳＥＩ）を観察した。図５７、図５８は得られた試料粉末の表面の走査電子顕微鏡観察写真である。なお、図５８の（ｂ）は図５７の部分拡大写真であり、図５８の（ａ）は拡大位置を示している。
表面の形態観察の結果、粒状物が半溶融化状態で互いに凝集し、一体化した多孔体の形態が認められた。
得られた試料粉末の形態観察として、日本電子製ＪＸＡ−８５３０Ｆを用いて、走査電子顕微鏡による二次電子像（ＳＥＩ）を観察した。図５７、図５８は得られた試料粉末の表面の走査電子顕微鏡観察写真である。なお、図５８の（ｂ）は図５７の部分拡大写真であり、図５８の（ａ）は拡大位置を示している。
表面の形態観察の結果、粒状物が半溶融化状態で互いに凝集し、一体化した多孔体の形態が認められた。
得られた試料粉末について、リガク製Ｘ線回折装置ＲＩＮＴ ２２００ＶＫ／ＰＣを用いてＸ線回析分析を行った。図５９の（ａ）は試料粉末のＸ線回折プロファイルであり、（ｂ）はＴｉＳｉ２の標準ピークパターンであり、（ｃ）はＴｉＳｉの標準ピークパターンである。
Ｘ線回折プロファイルから、非常に強いＴｉＳｉ２の回折パターンと強いＴｉＳｉの回折パターンと強いＴｉ５Ｓｉ３の回折パターンと弱いＴｉＳｉの回折パターンが認められ、得られた試料粉末の主成分はチタンシリサイドであると推定される。
さらに、断面を作成し、得られた試料粉末の断面のミクロ観察を、ニコン製金属顕微鏡エクリプスＬＶ１００を用いて行った。図６０、図６１は、得られた試料の断面の金属顕微鏡ミクロ観察写真である。なお、図６１の（ｂ）は図６０の部分拡大写真であり、図６１の（ａ）は拡大位置を示している。
図６２は得られた試料粉末の断面のカラーマップデータであり、（ａ）は断面のＳＥＭ像、（ｂ）はＴｉ分布、（ｃ）はＳｉ分布を示している。
得られた試料粉末について、島津製作所製粒度測定装置ＳＡＬＤ−３１００を用いて粒度分布を測定した。
図１１３は得られた試料粉末の粒度分布を示すグラフである。測定結果から、得られた試料粉末の粒度分布は０．５〜５０μｍであり、平均粒子径Ｄ５０は２５μｍ程度であった。
図１１３は得られた試料粉末の粒度分布を示すグラフである。測定結果から、得られた試料粉末の粒度分布は０．５〜５０μｍであり、平均粒子径Ｄ５０は２５μｍ程度であった。
得られた試料粉末について、体積−重量法によって、かさ密度を測定した。かさ密度は０．３２ｇ／ｃｍ３であった。
また、得られた試料粉末について、島津製作所製マクロメリテックス細孔分布測定装置オートポア９５２０形を用いて細孔分布を測定した。図１１５は得られた試料粉末の細孔分布測定結果を示すグラフである。＋印の点をプロットした曲線は積算細孔容積分布を表し、左軸の目盛に対応している。また、○印の点をプロットした曲線はログ微分細孔容積分布を表し、右軸の目盛に対応している。気孔率は８１．７％であった。
（Ｄ）Ｆｅ−Ｓｉ合金粒子についての実施例
固相−固相反応によってＦｅ粉末とＳｉ粉末からＦｅ−Ｓｉ合金粒子を製造する実施例について比較例とともに説明する。
固相−固相反応によってＦｅ粉末とＳｉ粉末からＦｅ−Ｓｉ合金粒子を製造する実施例について比較例とともに説明する。
比較例Ｄ−１、Ｄ−２
原料として、Ｆｅ粉末とＳｉ粉末を使用し、反応助剤を使用しなかった。
原料として、Ｆｅ粉末とＳｉ粉末を使用し、反応助剤を使用しなかった。
試料粉末の作成
東邦亜鉛製のＦｅ粉末の純度は９９．５％であり、粒子径は約７５μｍであった。
また、Ｓｉ粉末（東京印刷機材トレーディング（株）製）の純度は９９．９９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０は１〜３μｍであった。
東邦亜鉛製のＦｅ粉末の純度は９９．５％であり、粒子径は約７５μｍであった。
また、Ｓｉ粉末（東京印刷機材トレーディング（株）製）の純度は９９．９９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０は１〜３μｍであった。
上記のＦｅ粉末１５．０ｇと上記のＳｉ粉末１５．１ｇを容器内に秤量して、振とうしたところ、Ｆｅ粉末とＳｉ粉末は均一に混合され原料混合粉末を得た。配合モル比はＦｅ：Ｓｉ＝１：２である。
図１は使用した製造装置の概略図である。黒鉛るつぼ１は内径φ７０ｍｍ×高さ１２５ｍｍであり、上面の中央にガス抜き穴１１が設けられている。原料混合粉末２を黒鉛るつぼ１内に収納した後に、高周波加熱装置４を備えた真空容器３内に水平に配置した。
そして、原料混合粉末２が飛散しないように注意しながら、配管５を通じて真空ポンプ６を用いて真空容器３内を８Ｐａまで真空排気した。
８Ｐａまで真空排気した直後に、図２に示す熱処理パターンのように、室温（Ｔｒ）から８５０℃（Ｔｍａｘ）まで１時間（０〜ｔ１）かけて昇温し、８５０℃（Ｔｍａｘ）で１４時間（ｔ１〜ｔ２）保持し、その後、加熱電源をＯＦＦして、自然冷却した。昇温、保持、冷却の間も真空ポンプ６を用いて真空排気を続けた。
原料混合粉末２を十分に冷却した後、真空ポンプ６を停止し大気圧に戻し、黒鉛るつぼ１を取り出し、試料粉末を得た。
得られた試料粉末はフェライト色であった。得られた試料粉末について、磁石を用いて分離し、非磁性のものを比較例Ｄ−１とし、磁性のものを比較例Ｄ−２とした。
得られた試料粉末はフェライト色であった。得られた試料粉末について、磁石を用いて分離し、非磁性のものを比較例Ｄ−１とし、磁性のものを比較例Ｄ−２とした。
試料粉末の測定
得られた試料粉末の形態観察として、日本電子製ＪＸＡ−８５３０Ｆを用いて、走査電子顕微鏡による二次電子像（ＳＥＩ）を観察した。
図６３、図６４、図６５は比較例Ｄ−１について得られた試料粉末の表面の走査電子顕微鏡観察写真である。なお、図６４の（ｂ）は図６３の部分拡大写真であり、図６４の（ａ）は拡大位置を示している。また、図６５の（ｂ）は図６４の（ｂ）の部分拡大写真であり、図６５の（ａ）は拡大位置を示している。
図６７、図６８、図６９は比較例Ｄ−２について得られた試料粉末の表面の走査電子顕微鏡観察写真である。なお、図６８の（ｂ）は図６７の部分拡大写真であり、図６８の（ａ）は拡大位置を示している。また、図６９の（ｂ）は図６８の（ｂ）の部分拡大写真であり、図６９の（ａ）は拡大位置を示している。
比較例Ｄ−１及び比較例Ｄ−２について表面の形態観察の結果、塊状物及び粒状物等が見え、それらの表面に微小な球状物が複数付着した形態が認められる。
得られた試料粉末の形態観察として、日本電子製ＪＸＡ−８５３０Ｆを用いて、走査電子顕微鏡による二次電子像（ＳＥＩ）を観察した。
図６３、図６４、図６５は比較例Ｄ−１について得られた試料粉末の表面の走査電子顕微鏡観察写真である。なお、図６４の（ｂ）は図６３の部分拡大写真であり、図６４の（ａ）は拡大位置を示している。また、図６５の（ｂ）は図６４の（ｂ）の部分拡大写真であり、図６５の（ａ）は拡大位置を示している。
図６７、図６８、図６９は比較例Ｄ−２について得られた試料粉末の表面の走査電子顕微鏡観察写真である。なお、図６８の（ｂ）は図６７の部分拡大写真であり、図６８の（ａ）は拡大位置を示している。また、図６９の（ｂ）は図６８の（ｂ）の部分拡大写真であり、図６９の（ａ）は拡大位置を示している。
比較例Ｄ−１及び比較例Ｄ−２について表面の形態観察の結果、塊状物及び粒状物等が見え、それらの表面に微小な球状物が複数付着した形態が認められる。
比較例Ｄ−１及び比較例Ｄ−２について得られた試料粉末について、リガク製Ｘ線回折装置ＲＩＮＴ ２２００ＶＫ／ＰＣを用いてＸ線回析分析を行った。
比較例Ｄ−１について、図６６の（ａ）は試料粉末のＸ線回折プロファイルであり、（ｂ）はＳｉの標準ピークパターンであり、（ｃ）はＦｅの標準ピークパターンであり、（ｄ）はＦｅ２ＳｉＯ４の標準ピークパターンである。
比較例Ｄ−１について、Ｘ線回折プロファイルから、非常に強いＳｉの回折パターンと非常に強いＦｅの回折パターンと弱いＦｅ２ＳｉＯ４の回折パターンが認められ、得られた試料粉末の主成分はケイ素と鉄であると推定される。
比較例Ｄ−２について、図７０の（ａ）は試料粉末のＸ線回折プロファイルであり、（ｂ）はＳｉの標準ピークパターンであり、（ｃ）はＦｅの標準ピークパターンである。
比較例Ｄ−２について、Ｘ線回折プロファイルから、非常に強いＳｉの回折パターンと弱いＦｅの回折パターンが認められ、得られた試料粉末の主成分はケイ素と鉄であると推定される。
比較例Ｄ−１について、図６６の（ａ）は試料粉末のＸ線回折プロファイルであり、（ｂ）はＳｉの標準ピークパターンであり、（ｃ）はＦｅの標準ピークパターンであり、（ｄ）はＦｅ２ＳｉＯ４の標準ピークパターンである。
比較例Ｄ−１について、Ｘ線回折プロファイルから、非常に強いＳｉの回折パターンと非常に強いＦｅの回折パターンと弱いＦｅ２ＳｉＯ４の回折パターンが認められ、得られた試料粉末の主成分はケイ素と鉄であると推定される。
比較例Ｄ−２について、図７０の（ａ）は試料粉末のＸ線回折プロファイルであり、（ｂ）はＳｉの標準ピークパターンであり、（ｃ）はＦｅの標準ピークパターンである。
比較例Ｄ−２について、Ｘ線回折プロファイルから、非常に強いＳｉの回折パターンと弱いＦｅの回折パターンが認められ、得られた試料粉末の主成分はケイ素と鉄であると推定される。
比較例Ｄ−３、Ｄ−４
原料として、Ｆｅ粉末とＳｉ粉末を使用し、反応助剤を使用しなかった。
原料として、Ｆｅ粉末とＳｉ粉末を使用し、反応助剤を使用しなかった。
試料粉末の作成
東邦亜鉛製のＦｅ粉末の純度は９９．５％であり、粒子径は約７５μｍであった。
また、Ｓｉ粉末（東京印刷機材トレーディング（株）製）の純度は９９．９９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０は１〜３μｍであった。
東邦亜鉛製のＦｅ粉末の純度は９９．５％であり、粒子径は約７５μｍであった。
また、Ｓｉ粉末（東京印刷機材トレーディング（株）製）の純度は９９．９９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０は１〜３μｍであった。
上記のＦｅ粉末１５．０ｇと上記のＳｉ粉末１５．１ｇを容器内に秤量して、振とうしたところ、Ｆｅ粉末とＳｉ粉末は均一に混合され原料混合粉末を得た。配合モル比はＦｅ：Ｓｉ＝１：２である。
図１は使用した製造装置の概略図である。黒鉛るつぼ１は内径φ７０ｍｍ×高さ１２５ｍｍであり、上面の中央にガス抜き穴１１が設けられている。原料混合粉末２を黒鉛るつぼ１内に収納した後に、高周波加熱装置４を備えた真空容器３内に水平に配置した。
そして、原料混合粉末２が飛散しないように注意しながら、配管５を通じて真空ポンプ６を用いて真空容器３内を８Ｐａまで真空排気した。
８Ｐａまで真空排気した直後に、図２に示す熱処理パターンのように、室温（Ｔｒ）から８５０℃（Ｔｍａｘ）まで１時間（０〜ｔ１）かけて昇温し、８５０℃（Ｔｍａｘ）で１０時間（ｔ１〜ｔ２）保持し、さらに、１１５０℃で１０時間保持し、その後、加熱電源をＯＦＦして、自然冷却した。昇温、保持、冷却の間も真空ポンプ６を用いて真空排気を続けた。
原料混合粉末２を十分に冷却した後、真空ポンプ６を停止し大気圧に戻し、黒鉛るつぼ１を取り出し、試料粉末を得た。
得られた試料粉末について、磁石を用いて分離し、非磁性のものを比較例Ｄ−３とし、磁性のものを比較例Ｄ−４とした。
得られた試料粉末について、磁石を用いて分離し、非磁性のものを比較例Ｄ−３とし、磁性のものを比較例Ｄ−４とした。
試料粉末の測定
得られた試料粉末の形態観察として、日本電子製ＪＸＡ−８５３０Ｆを用いて、走査電子顕微鏡による二次電子像（ＳＥＩ）を観察した。
得られた試料粉末の形態観察として、日本電子製ＪＸＡ−８５３０Ｆを用いて、走査電子顕微鏡による二次電子像（ＳＥＩ）を観察した。
図７１、図７２、図７３は比較例Ｄ−３について得られた試料粉末の表面の走査電子顕微鏡観察写真である。なお、図７２の（ｂ）は図７１の部分拡大写真であり、図７２の（ａ）は拡大位置を示している。また、図７３の（ｂ）は図７２の（ｂ）の部分拡大写真であり、図７３の（ａ）は拡大位置を示している。
また、図７６、図７７は比較例Ｄ−３について得られた試料粉末の表面の走査電子顕微鏡観察写真である。なお、図７７の（ｂ）は図７６の部分拡大写真であり、図７７の（ａ）は拡大位置を示している。
また、図７６、図７７は比較例Ｄ−３について得られた試料粉末の表面の走査電子顕微鏡観察写真である。なお、図７７の（ｂ）は図７６の部分拡大写真であり、図７７の（ａ）は拡大位置を示している。
図８９、図９０、図９１は比較例Ｄ−４について得られた試料粉末の表面の走査電子顕微鏡観察写真である。なお、図９０の（ｂ）は図８９の部分拡大写真であり、図９０の（ａ）は拡大位置を示している。また、図９１の（ｂ）は図９０の（ｂ）の部分拡大写真であり、図９１の（ａ）は拡大位置を示している。
比較例Ｄ−３及び比較例Ｄ−４について表面の形態観察の結果、塊状物及び数珠状に連なる球状物が認められる。
比較例Ｄ−３及び比較例Ｄ−４について得られた試料粉末について、リガク製Ｘ線回折装置ＲＩＮＴ ２２００ＶＫ／ＰＣを用いてＸ線回析分析を行った。
比較例Ｄ−３について、図８８の（ａ）は試料粉末のＸ線回折プロファイルであり、（ｂ）はＳｉの標準ピークパターンであり、（ｃ）はε−ＦｅＳｉの標準ピークパターンであり、（ｄ）はＦｅＳｉ２の標準ピークパターンであり、（ｅ）はα−Ｆｅの標準ピークパターンであり、（ｆ）はＦｅ５Ｓｉ３の標準ピークパターンであり、（ｇ）はＳｉＯ２の標準ピークパターンである。
比較例Ｄ−３について、Ｘ線回折プロファイルから、非常に強いＳｉの回折パターンと強いε−ＦｅＳｉの回折パターンと強いＦｅＳｉ２の回折パターンと強いα−Ｆｅの回折パターンと弱いＦｅ５Ｓｉ３の回折パターンと弱いＳｉＯ２の回折パターンが認められ、得られた試料粉末の主成分はケイ素と鉄ケイ化物であると推定される。
比較例Ｄ−３について、図８８の（ａ）は試料粉末のＸ線回折プロファイルであり、（ｂ）はＳｉの標準ピークパターンであり、（ｃ）はε−ＦｅＳｉの標準ピークパターンであり、（ｄ）はＦｅＳｉ２の標準ピークパターンであり、（ｅ）はα−Ｆｅの標準ピークパターンであり、（ｆ）はＦｅ５Ｓｉ３の標準ピークパターンであり、（ｇ）はＳｉＯ２の標準ピークパターンである。
比較例Ｄ−３について、Ｘ線回折プロファイルから、非常に強いＳｉの回折パターンと強いε−ＦｅＳｉの回折パターンと強いＦｅＳｉ２の回折パターンと強いα−Ｆｅの回折パターンと弱いＦｅ５Ｓｉ３の回折パターンと弱いＳｉＯ２の回折パターンが認められ、得られた試料粉末の主成分はケイ素と鉄ケイ化物であると推定される。
また、比較例Ｄ−４について、図９２の（ａ）は試料粉末のＸ線回折プロファイルであり、（ｂ）はＳｉの標準ピークパターンであり、（ｃ）はＦｅＳｉ２の標準ピークパターンであり、（ｄ）はε−ＦｅＳｉの標準ピークパターンである。
比較例Ｄ−４について、Ｘ線回折プロファイルから、非常に強いＳｉの回折パターンと強いＦｅＳｉ２の回折パターンと強いε−ＦｅＳｉの回折パターンが認められ、得られた試料粉末の主成分はケイ素及び鉄ケイ化物であると推定される。
比較例Ｄ−４について、Ｘ線回折プロファイルから、非常に強いＳｉの回折パターンと強いＦｅＳｉ２の回折パターンと強いε−ＦｅＳｉの回折パターンが認められ、得られた試料粉末の主成分はケイ素及び鉄ケイ化物であると推定される。
さらに、比較例Ｄ−３について、断面を作成し、得られた試料粉末の断面のミクロ観察を、ニコン製金属顕微鏡エクリプスＬＶ１００を用いて行った。図７４、図７５は、得られた試料の断面の金属顕微鏡ミクロ観察写真である。
断面のミクロ観察の結果、塊状物や粒状物、及び塊状物を覆う粉状物が認められる。多くの塊状物の内部に、色調の異なる相が見える。
断面のミクロ観察の結果、塊状物や粒状物、及び塊状物を覆う粉状物が認められる。多くの塊状物の内部に、色調の異なる相が見える。
さらに、比較例Ｄ−３について、得られた試料粉末の表面の面分析を、日本電子製のフィールドエミッション電子プローブマイクロアナライザーＪＸＡ−８５３０Ｆを用いて行った。測定位置は図７７（ｂ）で示す表面である。
図７８は得られた試料粉末の表面のカラーマップデータであり、（ａ）は断面のＳＥＭ像、（ｂ）はＦｅ分布、（ｃ）はＳｉ分布、（ｄ）はＯ分布を示している。濃度分布（ｍａｓｓ％）で示す。
面分析の結果、塊状物にＦｅ、Ｓｉの分布が見られる。異なる相で覆われた領域にＦｅ、Ｓｉ及びＯが検出された。また、表面に見られる球状の突起物（明度の高い箇所）にＳｉ、Ｏの分布が見られる。
面分析の結果、塊状物にＦｅ、Ｓｉの分布が見られる。異なる相で覆われた領域にＦｅ、Ｓｉ及びＯが検出された。また、表面に見られる球状の突起物（明度の高い箇所）にＳｉ、Ｏの分布が見られる。
比較例Ｄ−４について断面を作成し、試料粉末の断面観察を日本電子製ＪＸＡ−８５３０Ｆを用いて、走査電子顕微鏡による反射電子組成像（ＣＯＭＰ）を観察した。
図７５に示す断面の一部の視野１における反射電子組成像を図７９の（ｂ）に示し、図７９の（ａ）に測定位置を示す。図８０は図７９の反射電子組成像の拡大写真であり、図８０の（ｂ）は図７９の（ｂ）の拡大写真であり、図８０の（ａ）は測定位置を示す。
図８１は得られた試料粉末の断面のカラーマップデータであり、（ａ）は断面のＳＥＭ像、（ｂ）はＦｅ分布、（ｃ）はＳｉ分布、（ｄ）はＯ分布を示している。
カラーマップデータから、塊状物は明度の異なる領域において、ＦｅとＳｉの検出強度が異なることが認められる。塊状体を覆っている粉状物にはＳｉ及びＯの分布が認められる。塊状物と同様に、検出強度の異なる領域が認められる。
カラーマップデータから、塊状物は明度の異なる領域において、ＦｅとＳｉの検出強度が異なることが認められる。塊状体を覆っている粉状物にはＳｉ及びＯの分布が認められる。塊状物と同様に、検出強度の異なる領域が認められる。
図７５に示す断面の一部の視野２における反射電子組成像を図８２の（ｂ）に示し、図８２の（ａ）に測定位置を示す。図８４は図８２の反射電子組成像の拡大写真であり、図８４の（ｂ）は図８２の（ｂ）の拡大写真であり、図８４の（ａ）は測定位置を示す。
図８３は得られた試料粉末の断面のカラーマップデータであり、（ａ）は断面のＳＥＭ像、（ｂ）はＦｅ分布、（ｃ）はＳｉ分布、（ｄ）はＯ分布を示している。
カラーマップデータから、塊状物は，周囲に存在する明度の低い粉状物にＳｉの分布が見られ、明度のやや高い塊状物にＦｅとＳｉの分布が見られる。
後述するＸＲＤ分析結果も考慮すると、中央に位置する明度の高い領域には、全体としてＦｅ５Ｓｉ３等が分布するとともに、明度の高い微細粒子としてＦｅが点在し、その下方及びその右下に位置するやや明度の高い領域にはＦｅＳｉ２が分布していると考えられる。
カラーマップデータから、塊状物は，周囲に存在する明度の低い粉状物にＳｉの分布が見られ、明度のやや高い塊状物にＦｅとＳｉの分布が見られる。
後述するＸＲＤ分析結果も考慮すると、中央に位置する明度の高い領域には、全体としてＦｅ５Ｓｉ３等が分布するとともに、明度の高い微細粒子としてＦｅが点在し、その下方及びその右下に位置するやや明度の高い領域にはＦｅＳｉ２が分布していると考えられる。
図７５に示す断面の一部の視野３における反射電子組成像を図８５の（ｂ）に示し、図８５の（ａ）に測定位置を示す。図８７は図８５の反射電子組成像の拡大写真であり、図８７の（ｂ）は図８５の（ｂ）の拡大写真であり、図８７の（ａ）は測定位置を示す。
図８６は得られた試料粉末の断面のカラーマップデータであり、（ａ）は断面のＳＥＭ像、（ｂ）はＦｅ分布、（ｃ）はＳｉ分布、（ｄ）はＯ分布を示している。
カラーマップデータから、断面がハート形の塊状物の左部分にはＦｅＳｉが分布し、右部分にはＦｅ５Ｓｉ３等が分布していると推測される。
カラーマップデータから、断面がハート形の塊状物の左部分にはＦｅＳｉが分布し、右部分にはＦｅ５Ｓｉ３等が分布していると推測される。
実施例Ｄ−５
原料として、Ｆｅ粉末とＳｉ粉末を使用し、反応助剤としてＫＣｌを使用した。
アルカリ金属のハロゲン化物として、実施例Ｄ−５ではＫＣｌを用いた。
原料として、Ｆｅ粉末とＳｉ粉末を使用し、反応助剤としてＫＣｌを使用した。
アルカリ金属のハロゲン化物として、実施例Ｄ−５ではＫＣｌを用いた。
試料粉末の作成
東邦亜鉛製のＦｅ粉末の純度は９９．５％であり、粒子径は約７５μｍであった。
また、Ｓｉ粉末（東京印刷機材トレーディング（株）製）の純度は９９．９９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０は１〜３μｍであった。
高純度化学品のＫＣｌ粉末を用いた。
東邦亜鉛製のＦｅ粉末の純度は９９．５％であり、粒子径は約７５μｍであった。
また、Ｓｉ粉末（東京印刷機材トレーディング（株）製）の純度は９９．９９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０は１〜３μｍであった。
高純度化学品のＫＣｌ粉末を用いた。
上記のＦｅ粉末３０．０ｇと上記のＳｉ粉末３０．２ｇと上記のＫＣｌ粉末６．０ｇを容器内に秤量して、振とうしたところ、Ｆｅ粉末とＳｉ粉末とＫＣｌ粉末は均一に混合され原料混合粉末を得た。配合モル比はＦｅ：Ｓｉ＝１：２である。
図１は使用した製造装置の概略図である。黒鉛るつぼ１は内径φ７０ｍｍ×高さ１２５ｍｍであり、上面の中央にガス抜き穴１１が設けられている。原料混合粉末２を黒鉛るつぼ１内に収納した後に、高周波加熱装置４を備えた真空容器３内に水平に配置した。
そして、原料混合粉末２が飛散しないように注意しながら、配管５を通じて真空ポンプ６を用いて真空容器３内を８Ｐａまで真空排気した。
８Ｐａまで真空排気した直後に、図２に示す熱処理パターンのように、室温（Ｔｒ）から９００℃（Ｔｍａｘ）まで１時間（０〜ｔ１）かけて昇温し、１１５０℃（Ｔｍａｘ）で５時間（ｔ１〜ｔ２）保持し、その後、加熱電源をＯＦＦして、自然冷却した。昇温、保持、冷却の間も真空ポンプ６を用いて真空排気を続けた。
原料混合粉末２を十分に冷却した後、真空ポンプ６を停止し大気圧に戻し、黒鉛るつぼ１を取り出し、試料粉末を得た。
黒鉛るつぼのガス抜き穴に蒸発した後凝固したＫＣｌが付着していた。得られた試料粉末の約１／３は非磁性であった。
黒鉛るつぼのガス抜き穴に蒸発した後凝固したＫＣｌが付着していた。得られた試料粉末の約１／３は非磁性であった。
試料粉末の測定
実施例Ｄ−５について得られた試料粉末の形態観察として、日本電子製ＪＸＡ−８５３０Ｆを用いて、走査電子顕微鏡による二次電子像（ＳＥＩ）を観察した。
実施例Ｄ−５について得られた試料粉末の形態観察として、日本電子製ＪＸＡ−８５３０Ｆを用いて、走査電子顕微鏡による二次電子像（ＳＥＩ）を観察した。
図９３、図９４は実施例Ｄ−５について得られた試料粉末の表面の走査電子顕微鏡観察写真である。なお、図９４の（ｂ）は図９３の部分拡大写真であり、図９４の（ａ）は拡大位置を示している。
実施例Ｄ−５について表面の形態観察の結果、表面の滑らかな塊状物及び粉状物等が認められ、塊状物を拡大すると、一部にセル状の形態が認められる。
実施例Ｄ−５について得られた試料粉末について、リガク製Ｘ線回折装置ＲＩＮＴ ２２００ＶＫ／ＰＣを用いてＸ線回析分析を行った。
実施例Ｄ−５について、図９５の（ａ）は試料粉末のＸ線回折プロファイルであり、（ｂ）はε−ＦｅＳｉの標準ピークパターンであり、（ｃ）はＳｉの標準ピークパターンであり、（ｄ）はＦｅＳｉ２の標準ピークパターンであり、（ｅ）はＳｉＯ２の標準ピークパターンである。
実施例Ｄ−５について、Ｘ線回折プロファイルから、非常に強いε−ＦｅＳｉの回折パターンと非常に強いＳｉの回折パターンと強いＦｅＳｉ２の回折パターンが認められ、得られた試料粉末の主成分はケイ素と鉄シリサイドであると推定される。
実施例Ｄ−５について、図９５の（ａ）は試料粉末のＸ線回折プロファイルであり、（ｂ）はε−ＦｅＳｉの標準ピークパターンであり、（ｃ）はＳｉの標準ピークパターンであり、（ｄ）はＦｅＳｉ２の標準ピークパターンであり、（ｅ）はＳｉＯ２の標準ピークパターンである。
実施例Ｄ−５について、Ｘ線回折プロファイルから、非常に強いε−ＦｅＳｉの回折パターンと非常に強いＳｉの回折パターンと強いＦｅＳｉ２の回折パターンが認められ、得られた試料粉末の主成分はケイ素と鉄シリサイドであると推定される。
実施例Ｄ−６
原料として、Ｆｅ粉末とＳｉ粉末を使用し、反応助剤としてＫＣｌを使用した。
アルカリ金属のハロゲン化物として、実施例Ｄ−６ではＫＣｌを用いた。
原料として、Ｆｅ粉末とＳｉ粉末を使用し、反応助剤としてＫＣｌを使用した。
アルカリ金属のハロゲン化物として、実施例Ｄ−６ではＫＣｌを用いた。
試料粉末の作成
東邦亜鉛製のＦｅ粉末の純度は９９．５％であり、粒子径は約７５μｍであった。
また、Ｓｉ粉末（東京印刷機材トレーディング（株）製）の純度は９９．９９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０は１〜３μｍであった。
高純度化学品のＫＣｌ粉末を用いた。
東邦亜鉛製のＦｅ粉末の純度は９９．５％であり、粒子径は約７５μｍであった。
また、Ｓｉ粉末（東京印刷機材トレーディング（株）製）の純度は９９．９９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０は１〜３μｍであった。
高純度化学品のＫＣｌ粉末を用いた。
上記のＦｅ粉末２６．５ｇと上記のＳｉ粉末３０．０ｇと上記のＫＣｌ粉末８．５ｇを容器内に秤量して、振とうしたところ、Ｆｅ粉末とＳｉ粉末とＫＣｌ粉末は均一に混合され原料混合粉末を得た。配合モル比はＦｅ：Ｓｉ：ＫＣｌ＝１：２．２５：０．２である。
図１は使用した製造装置の概略図である。黒鉛るつぼ１は内径φ７０ｍｍ×高さ１２５ｍｍであり、上面の中央にガス抜き穴１１が設けられている。原料混合粉末２を黒鉛るつぼ１内に収納した後に、高周波加熱装置４を備えた真空容器３内に水平に配置した。
そして、原料混合粉末２が飛散しないように注意しながら、配管５を通じて真空ポンプ６を用いて真空容器３内を８Ｐａまで真空排気した。
８Ｐａまで真空排気した直後に、図２に示す熱処理パターンのように、室温（Ｔｒ）から１１５０℃（Ｔｍａｘ）まで１時間（０〜ｔ１）かけて昇温し、１１５０℃（Ｔｍａｘ）で５時間（ｔ１〜ｔ２）保持し、その後、加熱電源をＯＦＦして、自然冷却した。昇温、保持、冷却の間も真空ポンプ６を用いて真空排気を続けた。
原料混合粉末２を十分に冷却した後、真空ポンプ６を停止し大気圧に戻し、黒鉛るつぼ１を取り出し、試料粉末を得た。
一部溶融した大きな球状バルクが目視で観察された。Ｓｉとの反応は進んでいる様子が推測できる。
一部溶融した大きな球状バルクが目視で観察された。Ｓｉとの反応は進んでいる様子が推測できる。
試料粉末の測定
実施例Ｄ−６について得られた試料粉末の形態観察として、日本電子製ＪＸＡ−８５３０Ｆを用いて、走査電子顕微鏡による二次電子像（ＳＥＩ）を観察した。
実施例Ｄ−６について得られた試料粉末の形態観察として、日本電子製ＪＸＡ−８５３０Ｆを用いて、走査電子顕微鏡による二次電子像（ＳＥＩ）を観察した。
図９６、図９７は実施例Ｄ−６について得られた試料粉末の表面の走査電子顕微鏡観察写真である。なお、図９７の（ｂ）は図９６の部分拡大写真であり、図９７の（ａ）は拡大位置を示している。
実施例Ｄ−６について表面の形態観察の結果、表面が多孔質の塊状物と表面が滑らかな球状物及び塊状物が認められる。
実施例Ｄ−６について得られた試料粉末について、リガク製Ｘ線回折装置ＲＩＮＴ ２２００ＶＫ／ＰＣを用いてＸ線回析分析を行った。
実施例Ｄ−６について、図９８の（ａ）は試料粉末のＸ線回折プロファイルであり、（ｂ）はε−ＦｅＳｉの標準ピークパターンであり、（ｃ）はＦｅＳｉ２の標準ピークパターンであり、（ｄ）はＳｉの標準ピークパターンである。
実施例Ｄ−６について、Ｘ線回折プロファイルから、非常に強いε−ＦｅＳｉの回折パターンと強いＦｅＳｉ２の回折パターンと強いＳｉの回折パターンが認められ、得られた試料粉末の主成分はケイ素と鉄シリサイドであると推定される。なお、鉄シリサイドのＸ線回析線強度がケイ素のＸ線回析線強度よりも強い。
実施例Ｄ−６について、図９８の（ａ）は試料粉末のＸ線回折プロファイルであり、（ｂ）はε−ＦｅＳｉの標準ピークパターンであり、（ｃ）はＦｅＳｉ２の標準ピークパターンであり、（ｄ）はＳｉの標準ピークパターンである。
実施例Ｄ−６について、Ｘ線回折プロファイルから、非常に強いε−ＦｅＳｉの回折パターンと強いＦｅＳｉ２の回折パターンと強いＳｉの回折パターンが認められ、得られた試料粉末の主成分はケイ素と鉄シリサイドであると推定される。なお、鉄シリサイドのＸ線回析線強度がケイ素のＸ線回析線強度よりも強い。
実施例Ｄ−７
原料として、Ｆｅ粉末とＳｉ粉末を使用し、反応助剤としてＮａＣｌを使用した。
アルカリ金属のハロゲン化物として、実施例Ｄ−７ではＮａＣｌを用いた。
原料として、Ｆｅ粉末とＳｉ粉末を使用し、反応助剤としてＮａＣｌを使用した。
アルカリ金属のハロゲン化物として、実施例Ｄ−７ではＮａＣｌを用いた。
試料粉末の作成
東邦亜鉛製のＦｅ粉末の純度は９９．５％であり、粒子径は約７５μｍであった。
また、Ｓｉ粉末（東京印刷機材トレーディング（株）製）の純度は９９．９９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０は１〜３μｍであった。
高純度化学品のＮａＣｌ粉末の純度は９９．９であり、パウダー状であった。
東邦亜鉛製のＦｅ粉末の純度は９９．５％であり、粒子径は約７５μｍであった。
また、Ｓｉ粉末（東京印刷機材トレーディング（株）製）の純度は９９．９９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０は１〜３μｍであった。
高純度化学品のＮａＣｌ粉末の純度は９９．９であり、パウダー状であった。
上記のＦｅ粉末２６．５ｇと上記のＳｉ粉末３０．０ｇと上記のＮａＣｌ粉末２０．８ｇを容器内に秤量して、振とうしたところ、Ｆｅ粉末とＳｉ粉末とＮａＣｌ粉末は均一に混合され原料混合粉末を得た。配合モル比はＦｅ：Ｓｉ：ＮａＣｌ＝１：２．２５：０．７４である。
図１は使用した製造装置の概略図である。黒鉛るつぼ１は内径φ７０ｍｍ×高さ１２５ｍｍであり、上面の中央にガス抜き穴１１が設けられている。原料混合粉末２を黒鉛るつぼ１内に収納した後に、高周波加熱装置４を備えた真空容器３内に水平に配置した。
そして、原料混合粉末２が飛散しないように注意しながら、配管５を通じて真空ポンプ６を用いて真空容器３内を８Ｐａまで真空排気した。
８Ｐａまで真空排気した直後に、図２に示す熱処理パターンのように、室温（Ｔｒ）から９００℃（Ｔｍａｘ）まで１時間（０〜ｔ１）かけて昇温し、９００℃（Ｔｍａｘ）で５時間（ｔ１〜ｔ２）保持し、その後、加熱電源をＯＦＦして、自然冷却した。昇温、保持、冷却の間も真空ポンプ６を用いて真空排気を続けた。
原料混合粉末２を十分に冷却した後、真空ポンプ６を停止し大気圧に戻し、黒鉛るつぼ１を取り出し、試料粉末を得た。
得られた試料粉末は磁性を持った生成物の割合が多かった。
得られた試料粉末は磁性を持った生成物の割合が多かった。
試料粉末の測定
実施例Ｄ−７について得られた試料粉末の形態観察として、日本電子製ＪＸＡ−８５３０Ｆを用いて、走査電子顕微鏡による二次電子像（ＳＥＩ）を観察した。
実施例Ｄ−７について得られた試料粉末の形態観察として、日本電子製ＪＸＡ−８５３０Ｆを用いて、走査電子顕微鏡による二次電子像（ＳＥＩ）を観察した。
図９９、図１００は実施例Ｄ−７について得られた試料粉末の表面の走査電子顕微鏡観察写真である。なお、図１００の（ｂ）は図９９の部分拡大写真であり、図１００の（ａ）は拡大位置を示している。
実施例Ｄ−７について表面の形態観察の結果、微小な粉状体が凝集した形態が認められた。
実施例Ｄ−７について得られた試料粉末について、リガク製Ｘ線回折装置ＲＩＮＴ ２２００ＶＫ／ＰＣを用いてＸ線回析分析を行った。
実施例Ｄ−７について、図１０１の（ａ）は試料粉末のＸ線回折プロファイルであり、（ｂ）はＳｉの標準ピークパターンであり、（ｃ）はε−ＦｅＳｉの標準ピークパターンであり、（ｄ）はＦｅＳｉ２（Iron Silicide）の標準ピークパターンであり、（ｅ）はＦｅ５Ｓｉ３の標準ピークパターンであり、（ｆ）はＦｅＳｉ２（Linzhiite）の標準ピークパターンであり、（ｇ）はＦｅ１１Ｓｉ５の標準ピークパターンである。
実施例Ｄ−７について、Ｘ線回折プロファイルから、非常に強いＳｉの回折パターンと強いε−ＦｅＳｉの回折パターンと弱いＦｅＳｉ２（Iron Silicide）の回折パターンと弱いＦｅ５Ｓｉ３の回折パターンと弱いＦｅＳｉ２（Linzhiite）の回折パターンが認められ、得られた試料粉末の主成分はケイ素と鉄シリサイドであると推定される。なお、鉄シリサイドのＸ線回析線強度がケイ素のＸ線回析線強度よりも強い。
実施例Ｄ−７について、図１０１の（ａ）は試料粉末のＸ線回折プロファイルであり、（ｂ）はＳｉの標準ピークパターンであり、（ｃ）はε−ＦｅＳｉの標準ピークパターンであり、（ｄ）はＦｅＳｉ２（Iron Silicide）の標準ピークパターンであり、（ｅ）はＦｅ５Ｓｉ３の標準ピークパターンであり、（ｆ）はＦｅＳｉ２（Linzhiite）の標準ピークパターンであり、（ｇ）はＦｅ１１Ｓｉ５の標準ピークパターンである。
実施例Ｄ−７について、Ｘ線回折プロファイルから、非常に強いＳｉの回折パターンと強いε−ＦｅＳｉの回折パターンと弱いＦｅＳｉ２（Iron Silicide）の回折パターンと弱いＦｅ５Ｓｉ３の回折パターンと弱いＦｅＳｉ２（Linzhiite）の回折パターンが認められ、得られた試料粉末の主成分はケイ素と鉄シリサイドであると推定される。なお、鉄シリサイドのＸ線回析線強度がケイ素のＸ線回析線強度よりも強い。
実施例Ｄ−８
実施例Ｄ−８においては実施例Ｄ−７において得られた試料粉末を水洗して試料粉末を得た。
実施例Ｄ−８においては実施例Ｄ−７において得られた試料粉末を水洗して試料粉末を得た。
試料粉末の測定
実施例Ｄ−８について得られた試料粉末の形態観察として、日本電子製ＪＸＡ−８５３０Ｆを用いて、走査電子顕微鏡による二次電子像（ＳＥＩ）を観察した。
実施例Ｄ−８について得られた試料粉末の形態観察として、日本電子製ＪＸＡ−８５３０Ｆを用いて、走査電子顕微鏡による二次電子像（ＳＥＩ）を観察した。
図１０２、図１０３は実施例Ｄ−８について得られた試料粉末の表面の走査電子顕微鏡観察写真である。なお、図１０３の（ｂ）は図１０２の部分拡大写真であり、図１０３の（ａ）は拡大位置を示している。
実施例Ｄ−８について表面の形態観察の結果、実施例Ｄ−７の表面と類似した形態であるが、表面がより多孔質となっていることが認められた。
実施例Ｄ−８について得られた試料粉末について、リガク製Ｘ線回折装置ＲＩＮＴ ２２００ＶＫ／ＰＣを用いてＸ線回析分析を行った。
実施例Ｄ−８について、図１０４の（ａ）は試料粉末のＸ線回折プロファイルであり、（ｂ）はＳｉの標準ピークパターンであり、（ｃ）はε−ＦｅＳｉの標準ピークパターンであり、（ｄ）はＦｅＳｉ２（Iron Silicide）の標準ピークパターンであり、（ｅ）はＦｅ５Ｓｉ３の標準ピークパターンであり、（ｆ）はＦｅＳｉ２（Linzhiite）の標準ピークパターンである。
実施例Ｄ−８について、Ｘ線回折プロファイルから、非常に強いＳｉの回折パターンと強いε−ＦｅＳｉの回折パターンと弱いＦｅＳｉ２（Iron Silicide）の回折パターンと弱いＦｅ５Ｓｉ３の回折パターンと弱いＦｅＳｉ２（Linzhiite）の回折パターンが認められ、得られた試料粉末の主成分はケイ素と鉄シリサイドであると推定される。なお、ケイ素のＸ線回析線強度が鉄シリサイドのＸ線回析線強度よりも強い。
実施例Ｄ−８について、図１０４の（ａ）は試料粉末のＸ線回折プロファイルであり、（ｂ）はＳｉの標準ピークパターンであり、（ｃ）はε−ＦｅＳｉの標準ピークパターンであり、（ｄ）はＦｅＳｉ２（Iron Silicide）の標準ピークパターンであり、（ｅ）はＦｅ５Ｓｉ３の標準ピークパターンであり、（ｆ）はＦｅＳｉ２（Linzhiite）の標準ピークパターンである。
実施例Ｄ−８について、Ｘ線回折プロファイルから、非常に強いＳｉの回折パターンと強いε−ＦｅＳｉの回折パターンと弱いＦｅＳｉ２（Iron Silicide）の回折パターンと弱いＦｅ５Ｓｉ３の回折パターンと弱いＦｅＳｉ２（Linzhiite）の回折パターンが認められ、得られた試料粉末の主成分はケイ素と鉄シリサイドであると推定される。なお、ケイ素のＸ線回析線強度が鉄シリサイドのＸ線回析線強度よりも強い。
実施例Ｄ−９
原料として、Ｆｅ粉末とＳｉ粉末を使用し、反応助剤としてＫＣｌを使用した。
アルカリ金属のハロゲン化物として、実施例Ｄ−９ではＫＣｌを用いた。
原料として、Ｆｅ粉末とＳｉ粉末を使用し、反応助剤としてＫＣｌを使用した。
アルカリ金属のハロゲン化物として、実施例Ｄ−９ではＫＣｌを用いた。
試料粉末の作成
東邦亜鉛製のＦｅ粉末の純度は９９．５％であり、粒子径は約７５μｍであった。
また、Ｓｉ粉末（東京印刷機材トレーディング（株）製）の純度は９９．９９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０は１〜３μｍであった。
高純度化学品のＫＣｌ粉末を用いた。
東邦亜鉛製のＦｅ粉末の純度は９９．５％であり、粒子径は約７５μｍであった。
また、Ｓｉ粉末（東京印刷機材トレーディング（株）製）の純度は９９．９９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０は１〜３μｍであった。
高純度化学品のＫＣｌ粉末を用いた。
上記のＦｅ粉末２８．５ｇと上記のＳｉ粉末３０．０ｇと上記のＫＣｌ粉末８．５ｇを容器内に秤量して、振とうしたところ、Ｆｅ粉末とＳｉ粉末とＫＣｌ粉末は均一に混合され原料混合粉末を得た。配合モル比はＦｅ：Ｓｉ：ＫＣｌ＝１：２．２５：０．２である。
図１は使用した製造装置の概略図である。黒鉛るつぼ１は内径φ７０ｍｍ×高さ１２５ｍｍであり、上面の中央にガス抜き穴１１が設けられている。原料混合粉末２を黒鉛るつぼ１内に収納した後に、高周波加熱装置４を備えた真空容器３内に水平に配置した。
そして、原料混合粉末２が飛散しないように注意しながら、配管５を通じて真空ポンプ６を用いて真空容器３内を８Ｐａまで真空排気した。
８Ｐａまで真空排気した直後に、図２に示す熱処理パターンのように、室温（Ｔｒ）から１０５０℃（Ｔｍａｘ）まで１時間（０〜ｔ１）かけて昇温し、１０５０℃（Ｔｍａｘ）で５時間（ｔ１〜ｔ２）保持し、その後、加熱電源をＯＦＦして、自然冷却した。昇温、保持、冷却の間も真空ポンプ６を用いて真空排気を続けた。
原料混合粉末２を十分に冷却した後、真空ポンプ６を停止し大気圧に戻し、黒鉛るつぼ１を取り出し、試料粉末を得た。
得られた試料粉末は、大きな溶融物がなかったが、磁性を持った生成物の割合が多かった。
得られた試料粉末は、大きな溶融物がなかったが、磁性を持った生成物の割合が多かった。
試料粉末の測定
実施例Ｄ−９について得られた試料粉末について、リガク製Ｘ線回折装置ＲＩＮＴ ２２００ＶＫ／ＰＣを用いてＸ線回析分析を行った。
実施例Ｄ−９について、図１０５の（ａ）は試料粉末のＸ線回折プロファイルであり、（ｂ）はＳｉの標準ピークパターンであり、（ｃ）はε−ＦｅＳｉの標準ピークパターンであり、（ｄ）はＦｅＳｉ２（Linzhiite）の標準ピークパターンであり、（ｅ）はＦｅ５Ｓｉ３の標準ピークパターンであり、（ｆ）はＳｉＯ２の標準ピークパターンである。
実施例Ｄ−９について、Ｘ線回折プロファイルから、非常に強いＳｉの回折パターンと強いε−ＦｅＳｉの回折パターンと弱いＦｅＳｉ２（Linzhiite）の回折パターンと弱いＦｅ５Ｓｉ３の回折パターンが認められ、得られた試料粉末の主成分はケイ素と鉄シリサイドであると推定される。
実施例Ｄ−９について、図１０５の（ａ）は試料粉末のＸ線回折プロファイルであり、（ｂ）はＳｉの標準ピークパターンであり、（ｃ）はε−ＦｅＳｉの標準ピークパターンであり、（ｄ）はＦｅＳｉ２（Linzhiite）の標準ピークパターンであり、（ｅ）はＦｅ５Ｓｉ３の標準ピークパターンであり、（ｆ）はＳｉＯ２の標準ピークパターンである。
実施例Ｄ−９について、Ｘ線回折プロファイルから、非常に強いＳｉの回折パターンと強いε−ＦｅＳｉの回折パターンと弱いＦｅＳｉ２（Linzhiite）の回折パターンと弱いＦｅ５Ｓｉ３の回折パターンが認められ、得られた試料粉末の主成分はケイ素と鉄シリサイドであると推定される。
実施例Ｄ−１０
原料として、Ｆｅ粉末とＳｉ粉末を使用し、反応助剤としてＮａＣｌを使用した。
アルカリ金属のハロゲン化物として、実施例Ｄ−１０ではＮａＣｌを用いた。
原料として、Ｆｅ粉末とＳｉ粉末を使用し、反応助剤としてＮａＣｌを使用した。
アルカリ金属のハロゲン化物として、実施例Ｄ−１０ではＮａＣｌを用いた。
試料粉末の作成
東邦亜鉛製のＦｅ粉末の純度は９９．５％であり、粒子径は約７５μｍであった。
また、Ｓｉ粉末（東京印刷機材トレーディング（株）製）の純度は９９．９９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０は１〜３μｍであった。
高純度化学品のＮａＣｌ粉末の純度は９９．９％であり、パウダー状であった。
東邦亜鉛製のＦｅ粉末の純度は９９．５％であり、粒子径は約７５μｍであった。
また、Ｓｉ粉末（東京印刷機材トレーディング（株）製）の純度は９９．９９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０は１〜３μｍであった。
高純度化学品のＮａＣｌ粉末の純度は９９．９％であり、パウダー状であった。
上記のＦｅ粉末２８．５ｇと上記のＳｉ粉末３０．０ｇと上記のＮａＣｌ粉末２０．８ｇを容器内に秤量して、振とうしたところ、Ｆｅ粉末とＳｉ粉末とＮａＣｌ粉末は均一に混合され原料混合粉末を得た。配合モル比はＦｅ：Ｓｉ：ＮａＣｌ＝１：２．２５：０．７４である。
図１は使用した製造装置の概略図である。黒鉛るつぼ１は内径φ７０ｍｍ×高さ１２５ｍｍであり、上面の中央にガス抜き穴１１が設けられている。原料混合粉末２を黒鉛るつぼ１内に収納した後に、高周波加熱装置４を備えた真空容器３内に水平に配置した。
そして、原料混合粉末２が飛散しないように注意しながら、配管５を通じて真空ポンプ６を用いて真空容器３内を８Ｐａまで真空排気した。
８Ｐａまで真空排気した直後に、図２に示す熱処理パターンのように、室温（Ｔｒ）から１０５０℃（Ｔｍａｘ）まで１時間（０〜ｔ１）かけて昇温し、１０５０℃（Ｔｍａｘ）で５時間（ｔ１〜ｔ２）保持し、その後、加熱電源をＯＦＦして、自然冷却した。昇温、保持、冷却の間も真空ポンプ６を用いて真空排気を続けた。
原料混合粉末２を十分に冷却した後、真空ポンプ６を停止し大気圧に戻し、黒鉛るつぼ１を取り出し、試料粉末を得た。
試料粉末の測定
実施例Ｄ−１０について得られた試料粉末について、リガク製Ｘ線回折装置ＲＩＮＴ ２２００ＶＫ／ＰＣを用いてＸ線回析分析を行った。
実施例Ｄ−１０について、図１０６の（ａ）は試料粉末のＸ線回折プロファイルであり、（ｂ）はＳｉの標準ピークパターンであり、（ｃ）はε−ＦｅＳｉの標準ピークパターンであり、（ｄ）はＦｅＳｉ２（Linzhiite）の標準ピークパターンであり、（ｅ）はＦｅ５Ｓｉ３の標準ピークパターンであり、（ｆ）はＳｉＯ２の標準ピークパターンである。
実施例Ｄ−１０について、Ｘ線回折プロファイルから、非常に強いＳｉの回折パターンと強いε−ＦｅＳｉの回折パターンと弱いＦｅＳｉ２（Linzhiite）の回折パターンと弱いＦｅ５Ｓｉ３の回折パターンが認められ、得られた試料粉末の主成分はケイ素と鉄シリサイドであると推定される。
実施例Ｄ−１０について、図１０６の（ａ）は試料粉末のＸ線回折プロファイルであり、（ｂ）はＳｉの標準ピークパターンであり、（ｃ）はε−ＦｅＳｉの標準ピークパターンであり、（ｄ）はＦｅＳｉ２（Linzhiite）の標準ピークパターンであり、（ｅ）はＦｅ５Ｓｉ３の標準ピークパターンであり、（ｆ）はＳｉＯ２の標準ピークパターンである。
実施例Ｄ−１０について、Ｘ線回折プロファイルから、非常に強いＳｉの回折パターンと強いε−ＦｅＳｉの回折パターンと弱いＦｅＳｉ２（Linzhiite）の回折パターンと弱いＦｅ５Ｓｉ３の回折パターンが認められ、得られた試料粉末の主成分はケイ素と鉄シリサイドであると推定される。
実施例Ｄ−１１
原料として、Ｆｅ粉末とＳｉ粉末を使用し、反応助剤としてＮａＣｌを使用した。
アルカリ金属のハロゲン化物として、実施例Ｄ−１１ではＮａＣｌを用いた。
原料として、Ｆｅ粉末とＳｉ粉末を使用し、反応助剤としてＮａＣｌを使用した。
アルカリ金属のハロゲン化物として、実施例Ｄ−１１ではＮａＣｌを用いた。
試料粉末の作成
東邦亜鉛製のＦｅ粉末の純度は９９．５％であり、粒子径は約７５μｍであった。
また、Ｓｉ粉末（東京印刷機材トレーディング（株）製）の純度は９９．９９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０は１〜３μｍであった。
高純度化学品のＮａＣｌ粉末の純度は９９．９％であり、パウダー状であった。
東邦亜鉛製のＦｅ粉末の純度は９９．５％であり、粒子径は約７５μｍであった。
また、Ｓｉ粉末（東京印刷機材トレーディング（株）製）の純度は９９．９９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０は１〜３μｍであった。
高純度化学品のＮａＣｌ粉末の純度は９９．９％であり、パウダー状であった。
上記のＦｅ粉末２９．８ｇと上記のＳｉ粉末１５．０ｇと上記のＮａＣｌ粉末２０．８ｇを容器内に秤量して、振とうしたところ、Ｆｅ粉末とＳｉ粉末とＮａＣｌ粉末は均一に混合され原料混合粉末を得た。配合モル比はＦｅ：Ｓｉ：ＮａＣｌ＝１：１：０．３６である。
図１は使用した製造装置の概略図である。黒鉛るつぼ１は内径φ７０ｍｍ×高さ１２５ｍｍであり、上面の中央にガス抜き穴１１が設けられている。原料混合粉末２を黒鉛るつぼ１内に収納した後に、高周波加熱装置４を備えた真空容器３内に水平に配置した。
そして、原料混合粉末２が飛散しないように注意しながら、配管５を通じて真空ポンプ６を用いて真空容器３内を８Ｐａまで真空排気した。
８Ｐａまで真空排気した直後に、図２に示す熱処理パターンのように、室温（Ｔｒ）から１０５０℃（Ｔｍａｘ）まで１時間（０〜ｔ１）かけて昇温し、１０５０℃（Ｔｍａｘ）で５時間（ｔ１〜ｔ２）保持し、その後、加熱電源をＯＦＦして、自然冷却した。昇温、保持、冷却の間も真空ポンプ６を用いて真空排気を続けた。
原料混合粉末２を十分に冷却した後、真空ポンプ６を停止し大気圧に戻し、黒鉛るつぼ１を取り出し、試料粉末を得た。
得られた試料粉末は、他の試料粉末よりも磁性が強い。
得られた試料粉末は、他の試料粉末よりも磁性が強い。
試料粉末の測定
実施例Ｄ−１１について得られた試料粉末について、リガク製Ｘ線回折装置ＲＩＮＴ ２２００ＶＫ／ＰＣを用いてＸ線回析分析を行った。
実施例Ｄ−１１について、図１０７の（ａ）は試料粉末のＸ線回折プロファイルであり、（ｂ）はε−ＦｅＳｉの標準ピークパターンであり、（ｃ）はＳｉの標準ピークパターンであり、（ｄ）はＦｅ５Ｓｉ３の標準ピークパターンであり、（ｅ）はＦｅＳｉ２（Linzhiite）の標準ピークパターンであり、（ｆ）はＳｉＯ２の標準ピークパターンであり、（ｇ）はＦｅの標準ピークパターンであり、（ｈ）はＦｅ２．６０３Ｓｉの標準ピークパターンである。
実施例Ｄ−１１について、Ｘ線回折プロファイルから、非常に強いε−ＦｅＳｉの回折パターンと弱いＳｉの回折パターンと弱いＦｅ５Ｓｉ３の回折パターンと弱いＦｅＳｉ２（Linzhiite）の回折パターンが認められ、得られた試料粉末の主成分はケイ素と鉄シリサイドであると推定される。
実施例Ｄ−１１について、図１０７の（ａ）は試料粉末のＸ線回折プロファイルであり、（ｂ）はε−ＦｅＳｉの標準ピークパターンであり、（ｃ）はＳｉの標準ピークパターンであり、（ｄ）はＦｅ５Ｓｉ３の標準ピークパターンであり、（ｅ）はＦｅＳｉ２（Linzhiite）の標準ピークパターンであり、（ｆ）はＳｉＯ２の標準ピークパターンであり、（ｇ）はＦｅの標準ピークパターンであり、（ｈ）はＦｅ２．６０３Ｓｉの標準ピークパターンである。
実施例Ｄ−１１について、Ｘ線回折プロファイルから、非常に強いε−ＦｅＳｉの回折パターンと弱いＳｉの回折パターンと弱いＦｅ５Ｓｉ３の回折パターンと弱いＦｅＳｉ２（Linzhiite）の回折パターンが認められ、得られた試料粉末の主成分はケイ素と鉄シリサイドであると推定される。
実施例Ｄ−１２
原料として、Ｆｅ粉末とＳｉ粉末を使用し、反応助剤としてＮａＣｌを使用した。
アルカリ金属のハロゲン化物として、実施例Ｄ−１２ではＮａＣｌを用いた。
原料として、Ｆｅ粉末とＳｉ粉末を使用し、反応助剤としてＮａＣｌを使用した。
アルカリ金属のハロゲン化物として、実施例Ｄ−１２ではＮａＣｌを用いた。
試料粉末の作成
東邦亜鉛製のＦｅ粉末の純度は９９．５％であり、粒子径は約７５μｍであった。
また、Ｓｉ粉末（東京印刷機材トレーディング（株）製）の純度は９９．９９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０は１〜３μｍであった。
高純度化学品のＮａＣｌ粉末の純度は９９．９％であり、パウダー状であった。
東邦亜鉛製のＦｅ粉末の純度は９９．５％であり、粒子径は約７５μｍであった。
また、Ｓｉ粉末（東京印刷機材トレーディング（株）製）の純度は９９．９９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０は１〜３μｍであった。
高純度化学品のＮａＣｌ粉末の純度は９９．９％であり、パウダー状であった。
上記のＦｅ粉末２９．８ｇと上記のＳｉ粉末３０．０ｇと上記のＮａＣｌ粉末４１．６ｇを容器内に秤量して、振とうしたところ、Ｆｅ粉末とＳｉ粉末とＮａＣｌ粉末は均一に混合され原料混合粉末を得た。配合モル比はＦｅ：Ｓｉ：ＮａＣｌ＝１：２：０．７４である。
図１は使用した製造装置の概略図である。黒鉛るつぼ１は内径φ７０ｍｍ×高さ１２５ｍｍであり、上面の中央にガス抜き穴１１が設けられている。原料混合粉末２を黒鉛るつぼ１内に収納した後に、高周波加熱装置４を備えた真空容器３内に水平に配置した。
そして、原料混合粉末２が飛散しないように注意しながら、配管５を通じて真空ポンプ６を用いて真空容器３内を８Ｐａまで真空排気した。
８Ｐａまで真空排気した直後に、図２に示す熱処理パターンのように、室温（Ｔｒ）から１０５０℃（Ｔｍａｘ）まで１時間（０〜ｔ１）かけて昇温し、１０５０℃（Ｔｍａｘ）で５時間（ｔ１〜ｔ２）保持し、その後、加熱電源をＯＦＦして、自然冷却した。昇温、保持、冷却の間も真空ポンプ６を用いて真空排気を続けた。
原料混合粉末２を十分に冷却した後、真空ポンプ６を停止し大気圧に戻し、黒鉛るつぼ１を取り出し、試料粉末を得た。
反応助剤としてのＮａＣｌを増量することによって、ＦｅとＳｉの反応が多少進むことを確認した。
反応助剤としてのＮａＣｌを増量することによって、ＦｅとＳｉの反応が多少進むことを確認した。
試料粉末の測定
実施例Ｄ−１２について得られた試料粉末について、リガク製Ｘ線回折装置ＲＩＮＴ ２２００ＶＫ／ＰＣを用いてＸ線回析分析を行った。
実施例Ｄ−１２について、図１０８の（ａ）は試料粉末のＸ線回折プロファイルであり、（ｂ）はＳｉの標準ピークパターンであり、（ｃ）はε−ＦｅＳｉであり、（ｄ）はＦｅＳｉ２（Linzhiite）の標準ピークパターンであり、（ｅ）はＦｅ５Ｓｉ３の標準ピークパターンであり、（ｆ）はＳｉＯ２の標準ピークパターンである。
実施例Ｄ−１２について、Ｘ線回折プロファイルから、非常に強いε−ＦｅＳｉの回折パターンと弱いＳｉの回折パターンと弱いＦｅ５Ｓｉ３の回折パターンと弱いＦｅＳｉ２（Linzhiite）の回折パターンが認められ、得られた試料粉末の主成分はケイ素と鉄シリサイドであると推定される。
実施例Ｄ−１２について、図１０８の（ａ）は試料粉末のＸ線回折プロファイルであり、（ｂ）はＳｉの標準ピークパターンであり、（ｃ）はε−ＦｅＳｉであり、（ｄ）はＦｅＳｉ２（Linzhiite）の標準ピークパターンであり、（ｅ）はＦｅ５Ｓｉ３の標準ピークパターンであり、（ｆ）はＳｉＯ２の標準ピークパターンである。
実施例Ｄ−１２について、Ｘ線回折プロファイルから、非常に強いε−ＦｅＳｉの回折パターンと弱いＳｉの回折パターンと弱いＦｅ５Ｓｉ３の回折パターンと弱いＦｅＳｉ２（Linzhiite）の回折パターンが認められ、得られた試料粉末の主成分はケイ素と鉄シリサイドであると推定される。
実施例Ｄ−１３
原料として、Ｆｅ粉末とＳｉ粉末を使用し、反応助剤としてＮａＣｌを使用した。
アルカリ金属のハロゲン化物として、実施例Ｄ−１３ではＮａＣｌを用いた。
原料として、Ｆｅ粉末とＳｉ粉末を使用し、反応助剤としてＮａＣｌを使用した。
アルカリ金属のハロゲン化物として、実施例Ｄ−１３ではＮａＣｌを用いた。
試料粉末の作成
東邦亜鉛製のＦｅ粉末の純度は９９．５％であり、粒子径は約７５μｍであった。
また、Ｓｉ粉末（東京印刷機材トレーディング（株）製）の純度は９９．９９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０は１〜３μｍであった。
高純度化学品のＮａＣｌ粉末の純度は９９．９％であり、パウダー状であった。
東邦亜鉛製のＦｅ粉末の純度は９９．５％であり、粒子径は約７５μｍであった。
また、Ｓｉ粉末（東京印刷機材トレーディング（株）製）の純度は９９．９９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０は１〜３μｍであった。
高純度化学品のＮａＣｌ粉末の純度は９９．９％であり、パウダー状であった。
上記のＦｅ粉末２９．８ｇと上記のＳｉ粉末３０．０ｇと上記のＮａＣｌ粉末２０．８ｇを容器内に秤量して、振とうしたところ、Ｆｅ粉末とＳｉ粉末とＮａＣｌ粉末は均一に混合され原料混合粉末を得た。配合モル比はＦｅ：Ｓｉ：ＮａＣｌ＝１：２：０．３６である。
図１は使用した製造装置の概略図である。黒鉛るつぼ１は内径φ７０ｍｍ×高さ１２５ｍｍであり、上面の中央にガス抜き穴１１が設けられている。原料混合粉末２を黒鉛るつぼ１内に収納した後に、高周波加熱装置４を備えた真空容器３内に水平に配置した。
そして、原料混合粉末２が飛散しないように注意しながら、配管５を通じて真空ポンプ６を用いて真空容器３内を８Ｐａまで真空排気した。
８Ｐａまで真空排気した直後に、図２に示す熱処理パターンのように、室温（Ｔｒ）から１０５０℃（Ｔｍａｘ）まで１時間（０〜ｔ１）かけて昇温し、１０５０℃（Ｔｍａｘ）で１０時間（ｔ１〜ｔ２）保持し、その後、加熱電源をＯＦＦして、自然冷却した。昇温、保持、冷却の間も真空ポンプ６を用いて真空排気を続けた。
原料混合粉末２を十分に冷却した後、真空ポンプ６を停止し大気圧に戻し、黒鉛るつぼ１を取り出し、試料粉末を得た。
加熱保持時間を長く（２倍）することによって、ＦｅとＳｉの反応が多少進むことを確認した。
加熱保持時間を長く（２倍）することによって、ＦｅとＳｉの反応が多少進むことを確認した。
試料粉末の測定
実施例Ｄ−１３について得られた試料粉末について、リガク製Ｘ線回折装置ＲＩＮＴ ２２００ＶＫ／ＰＣを用いてＸ線回析分析を行った。
実施例Ｄ−１３について、図１０９の（ａ）は試料粉末のＸ線回折プロファイルであり、（ｂ）はε−ＦｅＳｉの標準ピークパターンであり、（ｃ）はＳｉの標準ピークパターンであり、（ｄ）はＦｅＳｉ２（Linzhiite）の標準ピークパターンであり、（ｅ）はＦｅ５Ｓｉ３の標準ピークパターンであり、（ｆ）はＳｉＯ２の標準ピークパターンである。
実施例Ｄ−１３について、Ｘ線回折プロファイルから、非常に強いε−ＦｅＳｉの回折パターンと非常に強いＳｉの回折パターンと強いＦｅＳｉ２（Linzhiite）の回折パターンと弱いＦｅ５Ｓｉ３の回折パターンが認められ、得られた試料粉末の主成分はケイ素と鉄シリサイドであると推定される。
実施例Ｄ−１３について、図１０９の（ａ）は試料粉末のＸ線回折プロファイルであり、（ｂ）はε−ＦｅＳｉの標準ピークパターンであり、（ｃ）はＳｉの標準ピークパターンであり、（ｄ）はＦｅＳｉ２（Linzhiite）の標準ピークパターンであり、（ｅ）はＦｅ５Ｓｉ３の標準ピークパターンであり、（ｆ）はＳｉＯ２の標準ピークパターンである。
実施例Ｄ−１３について、Ｘ線回折プロファイルから、非常に強いε−ＦｅＳｉの回折パターンと非常に強いＳｉの回折パターンと強いＦｅＳｉ２（Linzhiite）の回折パターンと弱いＦｅ５Ｓｉ３の回折パターンが認められ、得られた試料粉末の主成分はケイ素と鉄シリサイドであると推定される。
実施例Ｄ−１４
原料として、Ｆｅ粉末とＳｉ粉末を使用し、反応助剤としてＮａＣｌを使用した。
アルカリ金属のハロゲン化物として、実施例Ｄ−１４ではＮａＣｌを用いた。
原料として、Ｆｅ粉末とＳｉ粉末を使用し、反応助剤としてＮａＣｌを使用した。
アルカリ金属のハロゲン化物として、実施例Ｄ−１４ではＮａＣｌを用いた。
試料粉末の作成
東邦亜鉛製のＦｅ粉末の純度は９９．５％であり、粒子径は約７５μｍであった。
また、Ｓｉ粉末（東京印刷機材トレーディング（株）製）の純度は９９．９９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０は１〜３μｍであった。
高純度化学品のＮａＣｌ粉末の純度は９９．９％であり、パウダー状であった。
東邦亜鉛製のＦｅ粉末の純度は９９．５％であり、粒子径は約７５μｍであった。
また、Ｓｉ粉末（東京印刷機材トレーディング（株）製）の純度は９９．９９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０は１〜３μｍであった。
高純度化学品のＮａＣｌ粉末の純度は９９．９％であり、パウダー状であった。
上記のＦｅ粉末２９．８ｇと上記のＳｉ粉末３０．０ｇと上記のＮａＣｌ粉末２０．８ｇを容器内に秤量して、振とうしたところ、Ｆｅ粉末とＳｉ粉末とＮａＣｌ粉末は均一に混合され原料混合粉末を得た。配合モル比はＦｅ：Ｓｉ：ＮａＣｌ＝１：２：０．３６である。
図１は使用した製造装置の概略図である。黒鉛るつぼ１は内径φ７０ｍｍ×高さ１２５ｍｍであり、上面の中央にガス抜き穴１１が設けられている。原料混合粉末２を黒鉛るつぼ１内に収納した後に、高周波加熱装置４を備えた真空容器３内に水平に配置した。
そして、原料混合粉末２が飛散しないように注意しながら、配管５を通じて真空ポンプ６を用いて真空容器３内を８Ｐａまで真空排気した。
８Ｐａまで真空排気した直後に、図２に示す熱処理パターンのように、室温（Ｔｒ）から１１００℃（Ｔｍａｘ）まで１時間（０〜ｔ１）かけて昇温し、１１００℃（Ｔｍａｘ）で５時間（ｔ１〜ｔ２）保持し、その後、加熱電源をＯＦＦして、自然冷却した。昇温、保持、冷却の間も真空ポンプ６を用いて真空排気を続けた。
原料混合粉末２を十分に冷却した後、真空ポンプ６を停止し大気圧に戻し、黒鉛るつぼ１を取り出し、試料粉末を得た。
表面の一部が微妙に溶融していることを確認した。得られた試料粉末の２／５は非磁性であった。
表面の一部が微妙に溶融していることを確認した。得られた試料粉末の２／５は非磁性であった。
試料粉末の測定
実施例Ｄ−１４について得られた試料粉末について、リガク製Ｘ線回折装置ＲＩＮＴ ２２００ＶＫ／ＰＣを用いてＸ線回析分析を行った。
実施例Ｄ−１４について、図１１０の（ａ）は試料粉末のＸ線回折プロファイルであり、（ｂ）はε−ＦｅＳｉの標準ピークパターンであり、（ｃ）はＳｉの標準ピークパターンであり、（ｄ）はＦｅＳｉ２（Linzhiite）の標準ピークパターンであり、（ｅ）はＦｅ５Ｓｉ３の標準ピークパターンであり、（ｆ）はＳｉＯ２の標準ピークパターンである。
実施例Ｄ−１４について、Ｘ線回折プロファイルから、非常に強いε−ＦｅＳｉの回折パターンと強いＳｉの回折パターンと強いＦｅＳｉ２（Linzhiite）の回折パターンと弱いＦｅ５Ｓｉ３の回折パターンが認められ、得られた試料粉末の主成分はケイ素と鉄シリサイドであると推定される。
実施例Ｄ−１４について、図１１０の（ａ）は試料粉末のＸ線回折プロファイルであり、（ｂ）はε−ＦｅＳｉの標準ピークパターンであり、（ｃ）はＳｉの標準ピークパターンであり、（ｄ）はＦｅＳｉ２（Linzhiite）の標準ピークパターンであり、（ｅ）はＦｅ５Ｓｉ３の標準ピークパターンであり、（ｆ）はＳｉＯ２の標準ピークパターンである。
実施例Ｄ−１４について、Ｘ線回折プロファイルから、非常に強いε−ＦｅＳｉの回折パターンと強いＳｉの回折パターンと強いＦｅＳｉ２（Linzhiite）の回折パターンと弱いＦｅ５Ｓｉ３の回折パターンが認められ、得られた試料粉末の主成分はケイ素と鉄シリサイドであると推定される。
得られた試料粉末について、島津製作所製粒度測定装置ＳＡＬＤ−３１００を用いて粒度分布を測定した。
図１１４は得られた試料粉末の粒度分布を示すグラフである。測定結果から、得られた試料粉末の粒度分布は０．１〜１００μｍであり、平均粒子径Ｄ５０は１〜２０μｍ程度であった。
図１１４は得られた試料粉末の粒度分布を示すグラフである。測定結果から、得られた試料粉末の粒度分布は０．１〜１００μｍであり、平均粒子径Ｄ５０は１〜２０μｍ程度であった。
得られた試料粉末について、体積−重量法によって、かさ密度を測定した。かさ密度は０．５９ｇ／ｃｍ３であった。
本発明のＣｕ−Ｓｉ合金粒子、Ｎｉ−Ｓｉ合金粒子、Ｔｉ−Ｓｉ合金粒子、Ｆｅ−Ｓｉ合金粒子は、各粒子の組成が均一であるため、粒子を焼結加工やプラズマジェット溶射加工することにより、組成が均一なバルクや被膜を形成することができる。
本発明のＦｅ−Ｓｉ合金粒子、特にβ−ＦｅＳｉ２は熱電材料としての利用が期待される。
１ 黒鉛るつぼ
２ 原料混合粉末
３ 真空容器
４ 高周波加熱装置
５ 配管
６ 真空ポンプ
１１ ガス抜き穴
２ 原料混合粉末
３ 真空容器
４ 高周波加熱装置
５ 配管
６ 真空ポンプ
１１ ガス抜き穴
Claims (20)
- Ｃｕ粉末とＳｉ粉末とを均一に混合した混合物を反応助剤としてのアルカリ金属のハロゲン化物の粉末とともにるつぼ内に収納し、真空排気後に、８００〜９００℃の温度で３〜２０時間保持し熱処理して、Ｃｕ−Ｓｉ合金粒子を製造する方法。
- アルカリ金属のハロゲン化物がＮａＣｌであることを特徴とする請求項１に記載のＣｕ−Ｓｉ合金粒子を製造する方法。
- Ｃｕ粉末の純度が９９．９％であり、平均粒子径Ｄ５０が４５μｍ以下であり、Ｓｉ粉末の純度が９９．９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０が１〜３μｍであることを特徴とする請求項１または２に記載のＣｕ−Ｓｉ合金粒子を製造する方法。
- １０Ｐａ以下の真空度まで真空排気することを特徴とする請求項１から３までのいずれか１項に記載のＣｕ−Ｓｉ合金粒子を製造する方法。
- 粒度分布が０．１〜５０μｍであり、平均粒子径Ｄ５０が１〜５μｍであり、かさ密度が２．０〜３．０ｇ／ｃｍ３である、球状のＣｕ−Ｓｉ合金粒子。
- Ｎｉ粉末とＳｉ粉末とを均一に混合した混合物を反応助剤としてのアルカリ金属のハロゲン化物の粉末とともにるつぼ内に収納し、真空排気後に、９００〜１１００℃の温度で３〜２０時間保持し熱処理して、Ｎｉ−Ｓｉ合金粒子を製造する方法。
- アルカリ金属のハロゲン化物がＮａＣｌであることを特徴とする請求項６に記載のＮｉ−Ｓｉ合金粒子を製造する方法。
- Ｎｉ粉末の純度が９９．９％であり、平均粒子径Ｄ５０が１０μｍ以下であり、Ｓｉ粉末の純度が９９．９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０が１〜３μｍであることを特徴とする請求項６または７に記載のＮｉ−Ｓｉ合金粒子を製造する方法。
- １０Ｐａ以下の真空度まで真空排気することを特徴とする請求項６から８までのいずれか１項に記載のＮｉ−Ｓｉ合金粒子を製造する方法。
- 粒度分布が０．１〜１００μｍであり、平均粒子径Ｄ５０が１〜３０μｍであり、かさ密度が０．７〜０．９ｇ／ｃｍ３であるＮｉ−Ｓｉ合金粒子。
- Ｔｉ粉末とＳｉ粉末とを均一に混合した混合物を反応助剤としてのアルカリ金属のハロゲン化物の粉末とともにるつぼ内に収納し、真空排気後に、９５０〜１１５０℃の温度で３〜２０時間保持し熱処理して、Ｔｉ−Ｓｉ合金粒子を製造する方法。
- アルカリ金属のハロゲン化物がＮａＣｌまたはＫＣｌであることを特徴とする請求項１１に記載のＴｉ−Ｓｉ合金粒子を製造する方法。
- Ｔｉ粉末の純度が９９．８％であり、平均粒子径Ｄ５０が４５μｍ以下であり、Ｓｉ粉末の純度が９９．９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０が１〜３μｍであることを特徴とする請求項１１または１２に記載のＴｉ−Ｓｉ合金粒子を製造する方法。
- １０Ｐａ以下の真空度まで真空排気することを特徴とする請求項１１から１３までのいずれか１項に記載のＴｉ−Ｓｉ合金粒子を製造する方法。
- 粒度分布が０．１〜５０μｍであり、平均粒子径Ｄ５０が２０〜４０μｍであり、かさ密度が０．２〜０．４ｇ／ｃｍ３であり、気孔率が８０％以上である、Ｔｉ−Ｓｉ合金粒子。
- Ｆｅ粉末とＳｉ粉末とを均一に混合した混合物を反応助剤としてのアルカリ金属のハロゲン化物の粉末とともにるつぼ内に収納し、真空排気後に、９００〜１２００℃の温度で３〜２０時間保持し熱処理して、Ｆｅ−Ｓｉ合金粒子を製造する方法。
- アルカリ金属のハロゲン化物がＮａＣｌまたはＫＣｌであることを特徴とする請求項１６に記載のＦｅ−Ｓｉ合金粒子を製造する方法。
- Ｆｅ粉末の純度が９９．５％であり、平均粒子径Ｄ５０が１００μｍ以下であり、Ｓｉ粉末の純度が９９．９９９％以上であり、平均粒子径Ｄ５０が１〜３μｍであることを特徴とする請求項１６または１７に記載のＦｅ−Ｓｉ合金粒子を製造する方法。
- １０Ｐａ以下の真空度まで真空排気することを特徴とする請求項１６から１８までのいずれか１項に記載のＦｅ−Ｓｉ合金粒子を製造する方法。
- 粒度分布が０．１〜１００μｍであり、平均粒子径Ｄ５０が１〜２０μｍであり、かさ密度が０．５〜０．７ｇ／ｃｍ３である、Ｆｅ−Ｓｉ合金粒子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017074861A JP2018178153A (ja) | 2017-04-04 | 2017-04-04 | Ｃｕ−Ｓｉ合金粒子を製造する方法、Ｃｕ−Ｓｉ合金粒子、Ｎｉ−Ｓｉ合金粒子を製造する方法、Ｎｉ−Ｓｉ合金粒子、Ｔｉ−Ｓｉ合金粒子を製造する方法、Ｔｉ−Ｓｉ合金粒子、Ｆｅ−Ｓｉ合金粒子を製造する方法、及びＦｅ−Ｓｉ合金粒子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017074861A JP2018178153A (ja) | 2017-04-04 | 2017-04-04 | Ｃｕ−Ｓｉ合金粒子を製造する方法、Ｃｕ−Ｓｉ合金粒子、Ｎｉ−Ｓｉ合金粒子を製造する方法、Ｎｉ−Ｓｉ合金粒子、Ｔｉ−Ｓｉ合金粒子を製造する方法、Ｔｉ−Ｓｉ合金粒子、Ｆｅ−Ｓｉ合金粒子を製造する方法、及びＦｅ−Ｓｉ合金粒子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2018178153A true JP2018178153A (ja) | 2018-11-15 |
Family
ID=64282591
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2017074861A Pending JP2018178153A (ja) | 2017-04-04 | 2017-04-04 | Ｃｕ−Ｓｉ合金粒子を製造する方法、Ｃｕ−Ｓｉ合金粒子、Ｎｉ−Ｓｉ合金粒子を製造する方法、Ｎｉ−Ｓｉ合金粒子、Ｔｉ−Ｓｉ合金粒子を製造する方法、Ｔｉ−Ｓｉ合金粒子、Ｆｅ−Ｓｉ合金粒子を製造する方法、及びＦｅ−Ｓｉ合金粒子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2018178153A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN116618642A (zh) * | 2023-07-13 | 2023-08-22 | 长沙立优金属材料有限公司 | 一种大颗粒低松装密度的镍粉及其制备方法与用途 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10317086A (ja) * | 1997-05-15 | 1998-12-02 | Hitachi Ltd | β−ＦｅＳｉ２材料およびその作製方法 |
| JPH1111926A (ja) * | 1997-06-20 | 1999-01-19 | Mitsui Chem Inc | 銅−珪素合金が珪素粉末表面に高度に分散した珪素粉末及びその製造方法 |
| JP2000012089A (ja) * | 1998-06-19 | 2000-01-14 | Kao Corp | 非水系二次電池 |
| JP2005263562A (ja) * | 2004-03-18 | 2005-09-29 | Tama Tlo Kk | β−ＦｅＳｉ２の製造方法 |
| JP2015089969A (ja) * | 2013-11-07 | 2015-05-11 | 株式会社豊田中央研究所 | Ｎｉ−Ｓｉ合金微粒子及びその製造方法 |
| JP2016169413A (ja) * | 2015-03-12 | 2016-09-23 | 日本新金属株式会社 | 粗粒であり、かつ、均粒、球状のチタンシリサイド粉末およびその製造方法 |
-
2017
- 2017-04-04 JP JP2017074861A patent/JP2018178153A/ja active Pending
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10317086A (ja) * | 1997-05-15 | 1998-12-02 | Hitachi Ltd | β−ＦｅＳｉ２材料およびその作製方法 |
| JPH1111926A (ja) * | 1997-06-20 | 1999-01-19 | Mitsui Chem Inc | 銅−珪素合金が珪素粉末表面に高度に分散した珪素粉末及びその製造方法 |
| JP2000012089A (ja) * | 1998-06-19 | 2000-01-14 | Kao Corp | 非水系二次電池 |
| JP2005263562A (ja) * | 2004-03-18 | 2005-09-29 | Tama Tlo Kk | β−ＦｅＳｉ２の製造方法 |
| JP2015089969A (ja) * | 2013-11-07 | 2015-05-11 | 株式会社豊田中央研究所 | Ｎｉ−Ｓｉ合金微粒子及びその製造方法 |
| JP2016169413A (ja) * | 2015-03-12 | 2016-09-23 | 日本新金属株式会社 | 粗粒であり、かつ、均粒、球状のチタンシリサイド粉末およびその製造方法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN116618642A (zh) * | 2023-07-13 | 2023-08-22 | 长沙立优金属材料有限公司 | 一种大颗粒低松装密度的镍粉及其制备方法与用途 |
| CN116618642B (zh) * | 2023-07-13 | 2023-10-10 | 长沙立优金属材料有限公司 | 一种大颗粒低松装密度的镍粉及其制备方法与用途 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Ding et al. | Ultrafine Co and Ni particles prepared by mechanochemical processing | |
| JP6851448B2 (ja) | 軟磁性粉末の熱処理方法 | |
| JP6712655B2 (ja) | 軟磁性粉末、軟磁性材料、並びに圧粉磁心の製造方法 | |
| JP7137830B2 (ja) | 合金粒子の製造方法および合金粒子 | |
| KR20190077414A (ko) | 무화 기술을 위한 용융물의 처리 | |
| JP6511832B2 (ja) | 軟磁性金属粉末、およびその粉末を用いた軟磁性金属圧粉コア | |
| JP6845491B2 (ja) | サマリウム−鉄−窒素磁石粉末及びその製造方法 | |
| JP6828027B2 (ja) | ＰｒとＷを複合含有するＲ−Ｆｅ−Ｂ系希土類焼結磁石の製造方法 | |
| CN116083772B (zh) | 一种具有900k高温抗性软磁高熵合金 | |
| JP2015233118A (ja) | 軟磁性金属粉末、およびその粉末を用いた軟磁性金属圧粉コア | |
| JP2017179388A (ja) | 焼結用粉末および焼結体 | |
| US2167240A (en) | Magnet material | |
| JP2014231624A (ja) | Ｆｅ−Ｎｉ合金粉末の製造方法およびＦｅ−Ｎｉ合金粉末並びに磁石 | |
| Tahir et al. | Hierachical Ni@ Fe 2 O 3 superparticles through epitaxial growth of γ-Fe 2 O 3 nanorods on in situ formed Ni nanoplates | |
| Saito | Magnetic properties of Mn–Al system alloys produced by mechanical alloying | |
| JP2018178153A (ja) | Ｃｕ−Ｓｉ合金粒子を製造する方法、Ｃｕ−Ｓｉ合金粒子、Ｎｉ−Ｓｉ合金粒子を製造する方法、Ｎｉ−Ｓｉ合金粒子、Ｔｉ−Ｓｉ合金粒子を製造する方法、Ｔｉ−Ｓｉ合金粒子、Ｆｅ−Ｓｉ合金粒子を製造する方法、及びＦｅ−Ｓｉ合金粒子 | |
| CN105385966B (zh) | 一种铝基非晶态合金及其制备方法和应用 | |
| JP4433743B2 (ja) | 銅微粒子の製造方法 | |
| JP2004259807A (ja) | 圧粉磁芯用磁性粉末、および圧粉磁芯 | |
| Hsiao et al. | Revealing the nucleation and growth mechanism of a novel solder developed from Sn-3.5 Ag-0.5 Cu nanoparticles by a chemical reduction method | |
| CN107186211B (zh) | 一种硅烷偶联剂对雾化球形铝镁合金粉的包覆方法 | |
| JP2020139192A (ja) | 鉄基金属ガラス合金粉末 | |
| JP2011050829A (ja) | 微粒子の製造方法及びその製造装置 | |
| JP2019218611A (ja) | リン酸表面処理軟磁性粉末の製造方法、及びリン酸表面処理軟磁性粉末 | |
| JP6936950B2 (ja) | 過共晶Ａｌ−Ｓｉ合金粒子を製造する方法及び過共晶Ａｌ−Ｓｉ合金粒子 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20200326 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200402 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210121 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210302 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210426 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210824 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20220322 |