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JP2018072398A - Photosensitive composition, and method for forming cured film - Google Patents

Photosensitive composition, and method for forming cured film Download PDF

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JP2018072398A
JP2018072398A JP2016208090A JP2016208090A JP2018072398A JP 2018072398 A JP2018072398 A JP 2018072398A JP 2016208090 A JP2016208090 A JP 2016208090A JP 2016208090 A JP2016208090 A JP 2016208090A JP 2018072398 A JP2018072398 A JP 2018072398A
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尚人 山口
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昌宏 竹川
陽介 伊藤
Yosuke Ito
陽介 伊藤
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photosensitive composition which suppresses occurrence of a foreign matter in the photosensitive composition and can satisfactorily resolve a fine pattern, and to provide a method for forming a cured film using the photosensitive composition.SOLUTION: Amine (E) is blended with a photosensitive composition containing an alkali-soluble resin (A), a photopolymerizable compound (B), a photopolymerization initiator (C) and a solvent (S), and an amount of chloride ions in the photosensitive composition is set at 1,000 mass ppm or less using an oxime ester compound (C1) and a compound (C2) other than the oxime ester compound in combination as the photopolymerization initiator (C).SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、感光性組成物、及び硬化膜の形成方法に関する。   The present invention relates to a photosensitive composition and a method for forming a cured film.

液晶表示装置のような表示装置では、絶縁膜のような材料が、バックライトのような光源から発せられる光を効率よく透過させる必要がある。このため、絶縁膜を形成するためには、透明性に優れる膜を形成できる材料が求められる。   In a display device such as a liquid crystal display device, a material such as an insulating film needs to efficiently transmit light emitted from a light source such as a backlight. For this reason, in order to form an insulating film, the material which can form the film | membrane excellent in transparency is calculated | required.

このような透明絶縁膜は通常、基板上でパターン化されている。パターン化された透明絶縁膜を形成する方法としては、例えば、オキセタン環を有するアルカリ可溶性樹脂と、重合性多官能化合物と、α−アミノアルキルフェノン系の光重合開始剤とを含むネガ型感光性組成物を用いる方法（特許文献１を参照。）が知られている。   Such a transparent insulating film is usually patterned on a substrate. As a method for forming a patterned transparent insulating film, for example, a negative photosensitive resin containing an alkali-soluble resin having an oxetane ring, a polymerizable polyfunctional compound, and an α-aminoalkylphenone photopolymerization initiator. A method using a composition (see Patent Document 1) is known.

ところで、近年、液晶表示ディスプレイの生産台数が増大するのに合わせてカラーフィルタの生産量も増大しており、より一層の生産性向上の観点から、低露光量でパターンを形成することのできる高感度の感光性組成物が要望されている。
しかし、カラーフィルタに含まれる種々の機能性膜には着色剤が含まれるところ、感光性組成物に着色剤が含まれる場合、特許文献１に記載されるα−アミノアルキルフェノン系の光重合開始剤を用いると十分に高い感度を得にくい問題がある。
このような状況において、本出願人は、高感度の感光性組成物として、特定の構造のオキシムエステル化合物を光重合開始剤として含む高感度の感光性組成物を提案している（特許文献２及び３を参照。）。 By the way, in recent years, as the number of liquid crystal display displays produced increases, the production amount of color filters also increases. From the viewpoint of further improving productivity, it is possible to form a pattern with a low exposure amount. There is a need for sensitive photosensitive compositions.
However, various functional films included in the color filter contain a colorant. When the photosensitive composition contains a colorant, the α-aminoalkylphenone-based photopolymerization described in Patent Document 1 is started. When an agent is used, there is a problem that it is difficult to obtain sufficiently high sensitivity.
Under such circumstances, the present applicant has proposed a highly sensitive photosensitive composition containing an oxime ester compound having a specific structure as a photopolymerization initiator as a highly sensitive photosensitive composition (Patent Document 2). And 3).

特開２０１２−１７３６７８号公報JP 2012-173678 A 特開２０１２−１８９９９６号公報JP 2012-189996 A 特開２０１２−１８９９９７号公報JP 2012-189997 A

しかし、オキシムエステル化合物を光重合開始剤として含む感光性組成物においては、
感度が良好である一方で、感光性組成物中で異物が発生しやすかったり、現像時に微細なパターンを解像しにくかったりする問題がある。 However, in a photosensitive composition containing an oxime ester compound as a photopolymerization initiator,
While the sensitivity is good, there are problems that foreign matters are easily generated in the photosensitive composition and that it is difficult to resolve a fine pattern during development.

本発明は、以上の状況に鑑みてなされたものであり、感光性組成物中での異物の発生が抑制され、微細なパターンを良好に解像できる感光性組成物と、当該感光性組成物を用いる硬化膜の形成方法とを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above situation, and a photosensitive composition capable of satisfactorily resolving a fine pattern by suppressing generation of foreign matters in the photosensitive composition, and the photosensitive composition. An object of the present invention is to provide a cured film forming method using

本発明者らは、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）と、光重合性化合物（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）と、溶剤（Ｓ）とを含む感光性組成物に、アミン（Ｅ）を配合し、光重合開始剤（Ｃ）として、オキシムエステル化合物（Ｃ１）と、オキシムエステル化合物以外の化合物（Ｃ２）とを組み合わせて用い、感光性組成物中の塩化物イオン量を１０００質量ｐｐｍ以下とすることにより上記の課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。具体的には、本発明は以下のものを提供する。   The present inventors added amine (E) to a photosensitive composition containing an alkali-soluble resin (A), a photopolymerizable compound (B), a photopolymerization initiator (C), and a solvent (S). It mix | blends and uses as a photoinitiator (C) oxime ester compound (C1) and compound (C2) other than an oxime ester compound, and the amount of chloride ion in a photosensitive composition is 1000 mass ppm or less. As a result, the inventors have found that the above problems can be solved, and have completed the present invention. Specifically, the present invention provides the following.

本発明の第１の態様は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）と、光重合性化合物（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）と、溶剤（Ｓ）と、アミン（Ｅ）とを含む感光性組成物であって、
光重合開始剤（Ｃ）が、オキシムエステル化合物（Ｃ１）と、オキシムエステル化合物以外の化合物（Ｃ２）とを含み、
感光性組成物中の塩化物イオン量が、１０００質量ｐｐｍ以下である、感光性組成物である。 1st aspect of this invention is photosensitivity containing alkali-soluble resin (A), a photopolymerizable compound (B), a photoinitiator (C), a solvent (S), and an amine (E). A composition comprising:
The photopolymerization initiator (C) includes an oxime ester compound (C1) and a compound (C2) other than the oxime ester compound,
It is a photosensitive composition whose chloride ion amount in a photosensitive composition is 1000 mass ppm or less.

本発明の第２の態様は、第１の態様にかかる感光性組成物を基板上に塗布して、塗布膜を形成することと、
塗布膜を露光することと、を含む、硬化膜の形成方法である。 According to a second aspect of the present invention, a photosensitive film according to the first aspect is applied on a substrate to form a coating film;
Exposing a coating film, and forming a cured film.

本発明によれば、感光性組成物中での異物の発生が抑制され、微細なパターンを良好に解像できる感光性組成物と、当該感光性組成物を用いる硬化膜の形成方法とを提供することができる。   According to the present invention, there are provided a photosensitive composition capable of resolving fine patterns satisfactorily, and a method for forming a cured film using the photosensitive composition, in which generation of foreign matters in the photosensitive composition is suppressed. can do.

≪感光性組成物≫
感光性組成物は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）と、光重合性化合物（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）と、溶剤（Ｓ）と、アミン（Ｅ）とを含む。
光重合開始剤（Ｃ）は、オキシムエステル化合物（Ｃ１）と、オキシムエステル化合物以外の化合物（Ｃ２）とを含む。
また、感光性組成物中の塩化物イオン量は、１０００質量ｐｐｍ以下である。
塩化物イオン量は、以下の方法に従って、イオンクロマトグラフィーにより測定できる。
（イオンクロマトグラフィー測定条件）
カラム：ＩｏｎＰａｃ ＡＳ１７−Ｃ（Ｔｈｅｒｍｏ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ Ｄｉｏｎｅｘ社製）
溶離液：水とアセトニトリルの混合溶液
注入量：１μＬ ≪Photosensitive composition≫
The photosensitive composition contains an alkali-soluble resin (A), a photopolymerizable compound (B), a photopolymerization initiator (C), a solvent (S), and an amine (E).
The photopolymerization initiator (C) includes an oxime ester compound (C1) and a compound (C2) other than the oxime ester compound.
Moreover, the chloride ion amount in a photosensitive composition is 1000 mass ppm or less.
The amount of chloride ions can be measured by ion chromatography according to the following method.
(Ion chromatography measurement conditions)
Column: IonPac AS17-C (manufactured by Thermo Scientific Dionex)
Eluent: Water and acetonitrile mixed solution injection volume: 1 μL

従来知られる、オキシムエステル化合物（Ｃ１）を含む感光性組成物は、オキシムエスエル化合物（Ｃ１）に主に由来する塩化物イオンを含んでいた。このため、従来の感光性組成物における塩化物イオンの含有量は１０００質量ｐｐｍを超える多量であることが多かった。
そこで、本発明者が検討を行ったところ、感光性組成物の高い塩化物イオン量が、感光性組成物中での異物の発生に関与していることが見出された。 The conventionally known photosensitive composition containing the oxime ester compound (C1) contained chloride ions mainly derived from the oxime ester compound (C1). For this reason, the content of chloride ions in the conventional photosensitive composition is often a large amount exceeding 1000 mass ppm.
Therefore, as a result of investigation by the present inventors, it was found that a high chloride ion amount of the photosensitive composition is involved in the generation of foreign matters in the photosensitive composition.

また、オキシムエステル化合物（Ｃ１）のみを光重合開始剤（Ｃ）として含む感光性組成物は、感度が良好である反面、露光後の現像時に微細なパターンを解像しにくかった。
この点についても本発明者が検討したところ、光重合開始剤（Ｃ）について、オキシムエステル化合物（Ｃ１）を、オキシムエステル化合物（Ｃ１）以外の化合物と併用することにより、感光性組成物を用いて微細なパターンを解像できることが見出された。 Further, the photosensitive composition containing only the oxime ester compound (C1) as the photopolymerization initiator (C) has good sensitivity, but it is difficult to resolve a fine pattern during development after exposure.
The present inventors also examined this point, and as a photopolymerization initiator (C), the photosensitive composition was used by combining the oxime ester compound (C1) with a compound other than the oxime ester compound (C1). It has been found that fine patterns can be resolved.

以上の通り、上記の感光性組成物は、感光性組成物中での異物の発生が抑制され、微細なパターンを良好に解像できる。   As described above, the photosensitive composition described above can suppress the generation of foreign matters in the photosensitive composition and can satisfactorily resolve a fine pattern.

以下、感光性組成物に含まれる必須、又は任意の成分について説明する。   Hereinafter, essential or optional components contained in the photosensitive composition will be described.

＜アルカリ可溶性樹脂（Ａ）＞
アルカリ可溶性樹脂とは、樹脂濃度２０質量％の樹脂溶液（溶媒：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）により、膜厚１μｍの樹脂膜を基板上に形成し、濃度０．０５質量％のＫＯＨ水溶液に１分間浸漬した際に、膜厚０．０１μｍ以上溶解するものをいう。 <Alkali-soluble resin (A)>
The alkali-soluble resin is a resin film having a resin concentration of 20% by mass (solvent: propylene glycol monomethyl ether acetate), and a 1 μm-thick resin film is formed on the substrate and placed in a 0.05% by mass KOH aqueous solution for 1 minute. When immersed, it means a film that dissolves 0.01 μm or more in thickness.

アルカリ可溶性樹脂（Ａ）の好適な例としては、カルド構造を有する樹脂（Ａ１）が挙げられる。カルド構造を有する樹脂（Ａ１）をアルカリ可溶性樹脂（Ａ）として含有する感光性組成物を用いることにより、耐熱性、機械的特性、耐溶剤性、耐化学薬品性等がバランスよく優れる硬化膜を形成しやすい。   Preferable examples of the alkali-soluble resin (A) include a resin (A1) having a cardo structure. By using a photosensitive composition containing a resin (A1) having a cardo structure as an alkali-soluble resin (A), a cured film having excellent balance of heat resistance, mechanical properties, solvent resistance, chemical resistance, etc. Easy to form.

カルド構造を有する樹脂（Ａ１）としては、特に限定されるものではなく、従来公知の樹脂を用いることができる。その中でも、下記式（ａ−１）で表される樹脂が好ましい。   The resin (A1) having a cardo structure is not particularly limited, and conventionally known resins can be used. Among these, the resin represented by the following formula (a-1) is preferable.

Figure 2018072398
Figure 2018072398

上記式（ａ−１）中、Ｘａは、下記式（ａ−２）で表される基を示す。 In the formula (a-1), X a represents a group represented by the following formula (a-2).

Figure 2018072398
Figure 2018072398

上記式（ａ−２）中、Ｒａ１は、それぞれ独立に水素原子、炭素原子数１〜６の炭化水素基、又はハロゲン原子を示し、Ｒａ２は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、Ｗａは、単結合又は下記式（ａ−３）で表される基を示す。 In the formula (a-2), R a1 independently represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, or a halogen atom, and R a2 independently represents a hydrogen atom or a methyl group. , W a represents a single bond or a group represented by the following formula (a-3).

Figure 2018072398
Figure 2018072398

また、上記式（ａ−１）中、Ｙａは、ジカルボン酸無水物から酸無水物基（−ＣＯ−Ｏ−ＣＯ−）を除いた残基を示す。ジカルボン酸無水物の例としては、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸、無水クロレンド酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水グルタル酸等が挙げられる。 In the formula (a-1), Y a represents a residue obtained by removing an acid anhydride group (—CO—O—CO—) from a dicarboxylic acid anhydride. Examples of dicarboxylic acid anhydrides include maleic anhydride, succinic anhydride, itaconic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylendomethylenetetrahydrophthalic anhydride, chlorendic anhydride, methyltetrahydro Examples thereof include phthalic anhydride and glutaric anhydride.

また、上記式（ａ−１）中、Ｚａは、テトラカルボン酸二無水物から２個の酸無水物基を除いた残基を示す。テトラカルボン酸二無水物の例としては、ピロメリット酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。
また、上記式（ａ−１）中、ｍは、０〜２０の整数を示す。 Further, in the above formula (a-1), Z a represents a residue obtained by removing two acid anhydride groups from a tetracarboxylic acid dianhydride. Examples of tetracarboxylic dianhydrides include pyromellitic dianhydride, benzophenone tetracarboxylic dianhydride, biphenyl tetracarboxylic dianhydride, biphenyl ether tetracarboxylic dianhydride, and the like.
Moreover, in said formula (a-1), m shows the integer of 0-20.

カルド構造を有する樹脂（Ａ１）の質量平均分子量（Ｍｗ：ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）のポリスチレン換算による測定値。本明細書において同じ。）は、１０００〜４００００であることが好ましく、２０００〜３００００であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、良好な現像性を得ながら、十分な耐熱性、膜強度を得ることができる。   The mass average molecular weight of the resin (A1) having a cardo structure (Mw: measured value by gel permeation chromatography (GPC) in terms of polystyrene. The same applies in the present specification) is preferably 1000 to 40000, and preferably 2000 to 30000. It is more preferable that By setting it as the above range, sufficient heat resistance and film strength can be obtained while obtaining good developability.

機械的強度や基板への密着性に優れる膜を形成しやすいことから、不飽和カルボン酸（ａ１）を少なくとも重合させた共重合体（Ａ２）も、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）として好適に使用することができる。   Since it is easy to form a film having excellent mechanical strength and adhesion to the substrate, the copolymer (A2) obtained by polymerizing at least the unsaturated carboxylic acid (a1) is also preferably used as the alkali-soluble resin (A). be able to.

不飽和カルボン酸（ａ１）としては、（メタ）アクリル酸、クロトン酸等のモノカルボン酸；マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸等のジカルボン酸；これらジカルボン酸の無水物；等が挙げられる。これらの中でも、共重合反応性、得られる樹脂のアルカリ溶解性、入手の容易性等の点から、（メタ）アクリル酸及び無水マレイン酸が好ましい。これらの不飽和カルボン酸（ａ１）は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。   As the unsaturated carboxylic acid (a1), monocarboxylic acids such as (meth) acrylic acid and crotonic acid; dicarboxylic acids such as maleic acid, fumaric acid, citraconic acid, mesaconic acid and itaconic acid; anhydrides of these dicarboxylic acids; Etc. Among these, (meth) acrylic acid and maleic anhydride are preferable in terms of copolymerization reactivity, alkali solubility of the resulting resin, availability, and the like. These unsaturated carboxylic acids (a1) can be used alone or in combination of two or more.

共重合体（Ａ２）は、不飽和カルボン酸（ａ１）と脂環式エポキシ基含有不飽和化合物（ａ２）との共重合体であってもよい。脂環式エポキシ基含有不飽和化合物（ａ２）としては、脂環式エポキシ基を有する不飽和化合物であれば特に限定されない。脂環式エポキシ基を構成する脂環式基は、単環であっても多環であってもよい。単環の脂環式基としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。また、多環の脂環式基としては、ノルボルニル基、イソボルニル基、トリシクロノニル基、トリシクロデシル基、テトラシクロドデシル基等が挙げられる。これらの脂環式エポキシ基含有不飽和化合物（ａ２）は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。   The copolymer (A2) may be a copolymer of an unsaturated carboxylic acid (a1) and an alicyclic epoxy group-containing unsaturated compound (a2). The alicyclic epoxy group-containing unsaturated compound (a2) is not particularly limited as long as it is an unsaturated compound having an alicyclic epoxy group. The alicyclic group constituting the alicyclic epoxy group may be monocyclic or polycyclic. Examples of the monocyclic alicyclic group include a cyclopentyl group and a cyclohexyl group. Examples of the polycyclic alicyclic group include a norbornyl group, an isobornyl group, a tricyclononyl group, a tricyclodecyl group, and a tetracyclododecyl group. These alicyclic epoxy group-containing unsaturated compounds (a2) can be used alone or in combination of two or more.

具体的に、脂環式エポキシ基含有不飽和化合物（ａ２）としては、例えば下記式（ａ２−１）〜（ａ２−１５）で表される化合物が挙げられる。これらの中でも、現像性を適度なものするためには、下記式（ａ２−１）〜（ａ２−５）で表される化合物が好ましく、下記式（ａ２−１）〜（ａ２−３）で表される化合物がより好ましい。   Specifically, examples of the alicyclic epoxy group-containing unsaturated compound (a2) include compounds represented by the following formulas (a2-1) to (a2-15). Among these, in order to moderate developability, compounds represented by the following formulas (a2-1) to (a2-5) are preferable, and in the following formulas (a2-1) to (a2-3) The compounds represented are more preferred.

Figure 2018072398
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Figure 2018072398
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上記式中、Ｒａ２０は水素原子又はメチル基を示し、Ｒａ２１は炭素原子数１〜６の２価の脂肪族飽和炭化水素基を示し、Ｒａ２２は炭素原子数１〜１０の２価の炭化水素基を示し、ｔは０〜１０の整数を示す。Ｒａ２１としては、直鎖状又は分枝鎖状のアルキレン基、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、エチルエチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基が好ましい。Ｒａ２２としては、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、エチルエチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、フェニレン基、シクロヘキシレン基、−ＣＨ２−Ｐｈ−ＣＨ２−（Ｐｈはフェニレン基を示す）が好ましい。 In the above formula, R a20 represents a hydrogen atom or a methyl group, R a21 represents a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and R a22 represents a divalent having 1 to 10 carbon atoms. A hydrocarbon group is shown, t shows the integer of 0-10. R a21 is preferably a linear or branched alkylene group such as a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a tetramethylene group, an ethylethylene group, a pentamethylene group, or a hexamethylene group. As R a22 , for example, a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a tetramethylene group, an ethylethylene group, a pentamethylene group, a hexamethylene group, a phenylene group, a cyclohexylene group, —CH 2 —Ph—CH 2 — (Ph is A phenylene group) is preferred.

共重合体（Ａ２）は、上記不飽和カルボン酸（ａ１）及び上記脂環式エポキシ基含有不飽和化合物（ａ２）とともに、エポキシ基を有さない脂環式基含有不飽和化合物（ａ３）を共重合させたものであってもよい。
脂環式基含有不飽和化合物（ａ３）としては、脂環式基を有する不飽和化合物であれば特に限定されない。脂環式基は、単環であっても多環であってもよい。単環の脂環式基としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。また、多環の脂環式基としては、アダマンチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、トリシクロノニル基、トリシクロデシル基、テトラシクロドデシル基等が挙げられる。これらの脂環式基含有不飽和化合物（ａ３）は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。 The copolymer (A2) comprises an alicyclic group-containing unsaturated compound (a3) having no epoxy group, together with the unsaturated carboxylic acid (a1) and the alicyclic epoxy group-containing unsaturated compound (a2). It may be copolymerized.
The alicyclic group-containing unsaturated compound (a3) is not particularly limited as long as it is an unsaturated compound having an alicyclic group. The alicyclic group may be monocyclic or polycyclic. Examples of the monocyclic alicyclic group include a cyclopentyl group and a cyclohexyl group. Examples of the polycyclic alicyclic group include an adamantyl group, a norbornyl group, an isobornyl group, a tricyclononyl group, a tricyclodecyl group, and a tetracyclododecyl group. These alicyclic group-containing unsaturated compounds (a3) can be used alone or in combination of two or more.

具体的に、脂環式基含有不飽和化合物（ａ３）としては、例えば下記式（ａ３−１）〜（ａ３−７）で表される化合物が挙げられる。これらの中でも、現像性を適度なものするためには、下記式（ａ３−３）〜（ａ３−８）で表される化合物が好ましく、下記式（ａ３−３），（ａ３−４）で表される化合物がより好ましい。   Specifically, examples of the alicyclic group-containing unsaturated compound (a3) include compounds represented by the following formulas (a3-1) to (a3-7). Among these, in order to moderate developability, compounds represented by the following formulas (a3-3) to (a3-8) are preferable, and in the following formulas (a3-3) and (a3-4) The compounds represented are more preferred.

Figure 2018072398
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上記式中、Ｒａ２３は水素原子又はメチル基を示し、Ｒａ２４は単結合又は炭素原子数１〜６の２価の脂肪族飽和炭化水素基を示し、Ｒａ２５は水素原子又は炭素原子数１〜５のアルキル基を示す。Ｒａ２４としては、単結合、直鎖状又は分枝鎖状のアルキレン基、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、エチルエチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基が好ましい。Ｒａ２５としては、例えばメチル基、エチル基が好ましい。 In the above formula, R a23 represents a hydrogen atom or a methyl group, R a24 represents a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and R a25 represents a hydrogen atom or 1 carbon atom. Represents an alkyl group of ~ 5. R a24 is preferably a single bond or a linear or branched alkylene group such as a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a tetramethylene group, an ethylethylene group, a pentamethylene group, or a hexamethylene group. As R a25 , for example, a methyl group and an ethyl group are preferable.

また、共重合体（Ａ２）は、上記不飽和カルボン酸（ａ１）及び上記脂環式エポキシ基含有不飽和化合物（ａ２）、さらには上記脂環式基含有不飽和化合物（ａ３）とともに、脂環式基を有さないエポキシ基含有不飽和化合物（ａ４）を重合させたものであってもよい。   In addition, the copolymer (A2) is composed of the unsaturated carboxylic acid (a1), the alicyclic epoxy group-containing unsaturated compound (a2), and the alicyclic group-containing unsaturated compound (a3). It may be obtained by polymerizing an epoxy group-containing unsaturated compound (a4) having no cyclic group.

エポキシ基含有不飽和化合物（ａ４）としては、グリシジル（メタ）アクリレート、２−メチルグリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシブチル（メタ）アクリレート、６，７−エポキシヘプチル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エポキシアルキルエステル類；α−エチルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−プロピルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−ブチルアクリル酸グリシジル、α−エチルアクリル酸６，７−エポキシヘプチル等のα−アルキルアクリル酸エポキシアルキルエステル類；等が挙げられる。これらの中でも、共重合反応性、硬化後の樹脂の強度等の点から、グリシジル（メタ）アクリレート、２−メチルグリシジル（メタ）アクリレート、及び６，７−エポキシヘプチル（メタ）アクリレートが好ましい。これらのエポキシ基含有不飽和化合物（ａ４）は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。   Examples of the epoxy group-containing unsaturated compound (a4) include glycidyl (meth) acrylate, 2-methylglycidyl (meth) acrylate, 3,4-epoxybutyl (meth) acrylate, and 6,7-epoxyheptyl (meth) acrylate. (Meth) acrylic acid epoxy alkyl esters; α-ethyl glycidyl acrylate, α-n-propyl acrylate glycidyl, α-n-butyl acrylate glycidyl, α-ethyl acrylate 6,7-epoxyheptyl, etc. And alkylacrylic acid epoxy alkyl esters. Among these, glycidyl (meth) acrylate, 2-methylglycidyl (meth) acrylate, and 6,7-epoxyheptyl (meth) acrylate are preferable from the viewpoint of copolymerization reactivity and the strength of the cured resin. These epoxy group-containing unsaturated compounds (a4) can be used alone or in combination of two or more.

また、共重合体（Ａ２）は、上記以外の他の化合物をさらに重合させたものであってもよい。このような他の化合物としては、（メタ）アクリル酸エステル類、（メタ）アクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、スチレン類等が挙げられる。これらの化合物は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。   Further, the copolymer (A2) may be obtained by further polymerizing other compounds than the above. Examples of such other compounds include (meth) acrylic acid esters, (meth) acrylamides, allyl compounds, vinyl ethers, vinyl esters, styrenes, and the like. These compounds can be used alone or in combination of two or more.

（メタ）アクリル酸エステル類としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレート、ｔ−オクチル（メタ）アクリレート等の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル（メタ）アクリレート；クロロエチル（メタ）アクリレート、２，２−ジメチルヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンモノ（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フルフリル（メタ）アクリレート；等が挙げられる。   As (meth) acrylic acid esters, linear or branched chain such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, amyl (meth) acrylate, t-octyl (meth) acrylate, etc. Alkyl (meth) acrylates; chloroethyl (meth) acrylate, 2,2-dimethylhydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, trimethylolpropane mono (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, furfuryl (Meth) acrylate; etc. are mentioned.

（メタ）アクリルアミド類としては、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−アルキル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−アリール（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアルキル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−アリール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。   (Meth) acrylamides include (meth) acrylamide, N-alkyl (meth) acrylamide, N-aryl (meth) acrylamide, N, N-dialkyl (meth) acrylamide, N, N-aryl (meth) acrylamide, N -Methyl-N-phenyl (meth) acrylamide, N-hydroxyethyl-N-methyl (meth) acrylamide and the like.

アリル化合物としては、酢酸アリル、カプロン酸アリル、カプリル酸アリル、ラウリン酸アリル、パルミチン酸アリル、ステアリン酸アリル、安息香酸アリル、アセト酢酸アリル、乳酸アリル等のアリルエステル類；アリルオキシエタノール；等が挙げられる。   Examples of the allyl compound include allyl acetate, allyl caproate, allyl caprylate, allyl laurate, allyl palmitate, allyl stearate, allyl benzoate, allyl acetoacetate, allyl lactate, etc .; allyloxyethanol; Can be mentioned.

ビニルエーテル類としては、ヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、デシルビニルエーテル、エチルヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、クロロエチルビニルエーテル、１−メチル−２，２−ジメチルプロピルビニルエーテル、２−エチルブチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ジエチレングリコールビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテル、ジエチルアミノエチルビニルエーテル、ブチルアミノエチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテル；ビニルフェニルエーテル、ビニルトリルエーテル、ビニルクロロフェニルエーテル、ビニル−２，４−ジクロロフェニルエーテル、ビニルナフチルエーテル、ビニルアントラニルエーテル等のビニルアリールエーテル；等が挙げられる。   Examples of vinyl ethers include hexyl vinyl ether, octyl vinyl ether, decyl vinyl ether, ethyl hexyl vinyl ether, methoxyethyl vinyl ether, ethoxyethyl vinyl ether, chloroethyl vinyl ether, 1-methyl-2,2-dimethylpropyl vinyl ether, 2-ethylbutyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether. Alkyl vinyl ethers such as diethylene glycol vinyl ether, dimethylaminoethyl vinyl ether, diethylaminoethyl vinyl ether, butylaminoethyl vinyl ether, benzyl vinyl ether, tetrahydrofurfuryl vinyl ether; vinyl phenyl ether, vinyl tolyl ether, vinyl chlorophenyl ether, vinyl-2,4-dichloropheny And the like; ethers, vinyl naphthyl ether, vinyl aryl ethers such as vinyl anthranyl ether.

ビニルエステル類としては、ビニルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニルトリメチルアセテート、ビニルジエチルアセテート、ビニルバレレート、ビニルカプロエート、ビニルクロロアセテート、ビニルジクロロアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルブトキシアセテート、ビニルフエニルアセテート、ビニルアセトアセテート、ビニルラクテート、ビニル−β−フェニルブチレート、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、クロロ安息香酸ビニル、テトラクロロ安息香酸ビニル、ナフトエ酸ビニル等が挙げられる。   Vinyl esters include vinyl butyrate, vinyl isobutyrate, vinyl trimethyl acetate, vinyl diethyl acetate, vinyl valerate, vinyl caproate, vinyl chloroacetate, vinyl dichloroacetate, vinyl methoxyacetate, vinyl butoxyacetate, vinyl vinyl. Examples include enil acetate, vinyl acetoacetate, vinyl lactate, vinyl-β-phenylbutyrate, vinyl benzoate, vinyl salicylate, vinyl chlorobenzoate, vinyl tetrachlorobenzoate, and vinyl naphthoate.

スチレン類としては、スチレン；メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロヘキシルスチレン、デシルスチレン、ベンジルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロメチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレン等のアルキルスチレン；メトキシスチレン、４−メトキシ−３−メチルスチレン、ジメトキシスチレン等のアルコキシスチレン；クロロスチレン、ジクロロスチレン、トリクロロスチレン、テトラクロロスチレン、ペンタクロロスチレン、ブロモスチレン、ジブロモスチレン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、トリフルオロスチレン、２−ブロモ−４−トリフルオロメチルスチレン、４−フルオロ−３−トリフルオロメチルスチレン等のハロスチレン；等が挙げられる。   Styrenes include: styrene; methyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, diethyl styrene, isopropyl styrene, butyl styrene, hexyl styrene, cyclohexyl styrene, decyl styrene, benzyl styrene, chloromethyl styrene, trifluoromethyl styrene, ethoxy Alkyl styrene such as methyl styrene and acetoxymethyl styrene; alkoxy styrene such as methoxy styrene, 4-methoxy-3-methyl styrene and dimethoxy styrene; chlorostyrene, dichlorostyrene, trichlorostyrene, tetrachlorostyrene, pentachlorostyrene, bromostyrene, Dibromostyrene, iodostyrene, fluorostyrene, trifluorostyrene, 2-bromo-4-trifluoromethyl Styrene, halostyrenes such as 4-fluoro-3-trifluoromethyl styrene; and the like.

共重合体（Ａ２）に占める上記不飽和カルボン酸（ａ１）由来の構成単位の割合は、１〜５０質量％であることが好ましく、５〜４５質量％であることがより好ましい。
また、共重合体（Ａ２）が、上記脂環式エポキシ基含有不飽和化合物（ａ２）由来の構成単位と上記エポキシ基含有不飽和化合物（ａ４）由来の構成単位とを含有する場合、共重合体（Ａ２）に占める脂環式エポキシ基含有不飽和化合物（ａ２）由来の構成単位の割合と上記エポキシ基含有不飽和化合物（ａ４）由来の構成単位の割合との合計は、２０質量％以上であることが好ましく、４０〜９５質量％であることがより好ましく、５０〜８０質量％であることがさらに好ましい。特に、共重合体（Ａ２）に占める上記脂環式エポキシ基含有不飽和化合物（ａ２）由来の構成単位の割合が単独で１０質量％以上であることが好ましく、２０〜８０質量％であることがより好ましい。上記脂環式エポキシ基含有不飽和化合物（ａ２）由来の構成単位の割合を上記の範囲にすることにより、感光性組成物の経時安定性をより向上させることができる。
また、共重合体（Ａ２）が、脂環式基含有不飽和化合物（ａ３）由来の構成単位を含有する場合、共重合体（Ａ２）に占める上記脂環式基含有不飽和化合物（ａ３）由来の構成単位の割合は、１〜３０質量％であることが好ましく、５〜２０質量％であることがより好ましい。 The proportion of the structural unit derived from the unsaturated carboxylic acid (a1) in the copolymer (A2) is preferably 1 to 50% by mass, and more preferably 5 to 45% by mass.
When the copolymer (A2) contains a structural unit derived from the alicyclic epoxy group-containing unsaturated compound (a2) and a structural unit derived from the epoxy group-containing unsaturated compound (a4), The total of the proportion of the structural unit derived from the alicyclic epoxy group-containing unsaturated compound (a2) in the coalescence (A2) and the proportion of the structural unit derived from the epoxy group-containing unsaturated compound (a4) is 20% by mass or more. It is preferable that it is 40-95 mass%, It is more preferable that it is 50-80 mass%. In particular, the proportion of the structural unit derived from the alicyclic epoxy group-containing unsaturated compound (a2) in the copolymer (A2) is preferably 10% by mass or more, and preferably 20 to 80% by mass. Is more preferable. By setting the proportion of the structural unit derived from the alicyclic epoxy group-containing unsaturated compound (a2) within the above range, the temporal stability of the photosensitive composition can be further improved.
Moreover, when a copolymer (A2) contains the structural unit derived from an alicyclic group containing unsaturated compound (a3), the said alicyclic group containing unsaturated compound (a3) which occupies for a copolymer (A2). The proportion of the derived structural unit is preferably 1 to 30% by mass, and more preferably 5 to 20% by mass.

共重合体（Ａ２）の質量平均分子量は、２０００〜２０００００であることが好ましく、３０００〜３００００であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、感光性組成物の膜形成能、露光後の現像性のバランスがとりやすい傾向がある。   The mass average molecular weight of the copolymer (A2) is preferably 2000 to 200000, and more preferably 3000 to 30000. By setting it as the above range, there is a tendency that the film forming ability of the photosensitive composition and the developability after exposure are easily balanced.

また、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）としては、上記不飽和カルボン酸（ａ１）に由来する構成単位と、後述する光重合性化合物（Ｂ）との重合可能部位を有する構成単位とを少なくとも有する共重合体（Ａ３）、又は上記不飽和カルボン酸（ａ１）に由来する構成単位と、上記脂環式エポキシ基含有不飽和化合物（ａ２）及び／又はエポキシ基含有不飽和化合物（ａ４）に由来する構成単位と、後述する光重合性化合物（Ｂ）との重合可能部位を有する構成単位とを少なくとも有する共重合体（Ａ４）を含む樹脂も好適に使用できる。アルカリ可溶性樹脂（Ａ）が共重合体（Ａ３）、又は共重合体（Ａ４）を含む場合、感光性組成物を用いて形成される膜の基板への密着性や、感光性組成物を用いて得られる硬化膜の機械的強度を高めることができる。   Moreover, as alkali-soluble resin (A), the copolymer which has at least the structural unit derived from the said unsaturated carboxylic acid (a1), and the structural unit which has a superposition | polymerization site | part with the photopolymerizable compound (B) mentioned later. Composition derived from the union (A3) or the structural unit derived from the unsaturated carboxylic acid (a1) and the alicyclic epoxy group-containing unsaturated compound (a2) and / or the epoxy group-containing unsaturated compound (a4) A resin containing a copolymer (A4) having at least a unit and a structural unit having a polymerizable portion with the photopolymerizable compound (B) described later can also be used suitably. When alkali-soluble resin (A) contains a copolymer (A3) or a copolymer (A4), the adhesiveness to the board | substrate of the film | membrane formed using a photosensitive composition, or a photosensitive composition is used. The mechanical strength of the cured film obtained in this way can be increased.

共重合体（Ａ３）、及び共重合体（Ａ４）は、共重合体（Ａ２）について他の化合物として記載される、（メタ）アクリル酸エステル類、（メタ）アクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、スチレン類等をさらに共重合させたものであってもよい。   Copolymer (A3) and copolymer (A4) are described as other compounds for copolymer (A2), (meth) acrylic acid esters, (meth) acrylamides, allyl compounds, vinyl ethers , Vinyl esters, styrenes and the like may be further copolymerized.

光重合性化合物（Ｂ）との重合可能部位を有する構成単位は、光重合性化合物（Ｂ）との重合可能部位としてエチレン性不飽和基を有するものが好ましい。このような構成単位を有する共重合体化は、共重合体（Ａ３）については、上記不飽和カルボン酸（ａ１）に由来する構成単位を含む重合体に含まれるカルボキシル基の少なくとも一部と、上記脂環式エポキシ基含有不飽和化合物（ａ２）及び／又はエポキシ基含有不飽和化合物（ａ４）とを反応させることにより、調製することができる。また、共重合体（Ａ４）は、上記不飽和カルボン酸（ａ１）に由来する構成単位と、脂環式エポキシ基含有不飽和化合物（ａ２）及び／又はエポキシ基含有不飽和化合物（ａ４）に由来する構成単位とを有する共重合体におけるエポキシ基の少なくとも一部と、不飽和カルボン酸（ａ１）とを反応させることにより、調製することができる。   The structural unit having a site that can be polymerized with the photopolymerizable compound (B) preferably has an ethylenically unsaturated group as a site that can be polymerized with the photopolymerizable compound (B). In the copolymerization having such a structural unit, for the copolymer (A3), at least a part of the carboxyl group contained in the polymer containing the structural unit derived from the unsaturated carboxylic acid (a1), It can be prepared by reacting the alicyclic epoxy group-containing unsaturated compound (a2) and / or the epoxy group-containing unsaturated compound (a4). Further, the copolymer (A4) is composed of the structural unit derived from the unsaturated carboxylic acid (a1), the alicyclic epoxy group-containing unsaturated compound (a2) and / or the epoxy group-containing unsaturated compound (a4). It can be prepared by reacting at least part of the epoxy group in the copolymer having the derived structural unit with the unsaturated carboxylic acid (a1).

共重合体（Ａ３）における、不飽和カルボン酸（ａ１）に由来する構成単位の占める割合は、１〜５０質量％が好ましく、５〜４５質量％がより好ましい。共重合体（Ａ３）における、光重合性化合物（Ｂ）との重合可能部位を有する構成単位の占める割合は、１〜４５質量％が好ましく、５〜４０質量％がより好ましい。共重合体（Ａ３）がこのような比率で各構成単位を含む場合、基板との密着性に優れる膜を形成可能な感光性組成物を得やすい。   The proportion of the structural unit derived from the unsaturated carboxylic acid (a1) in the copolymer (A3) is preferably 1 to 50% by mass, and more preferably 5 to 45% by mass. In the copolymer (A3), the proportion of the structural unit having a site polymerizable with the photopolymerizable compound (B) is preferably 1 to 45% by mass, and more preferably 5 to 40% by mass. When a copolymer (A3) contains each structural unit in such a ratio, it is easy to obtain the photosensitive composition which can form the film | membrane excellent in adhesiveness with a board | substrate.

共重合体（Ａ４）における、不飽和カルボン酸（ａ１）に由来する構成単位の占める割合は、１〜５０質量％が好ましく、５〜４５質量％がより好ましい。共重合体（Ａ４）における、脂環式エポキシ基含有不飽和化合物（ａ２）及び／又はエポキシ基含有不飽和化合物（ａ４）に由来する構成単位の占める割合は、２０質量％以上であることが好ましく、５０〜９５質量％であることがより好ましく、６０〜８０質量％であることがさらに好ましい。
共重合体（Ａ４）における、光重合性化合物（Ｂ）との重合可能部位を有する構成単位の占める割合は、１〜４５質量％が好ましく、５〜４０質量％がより好ましい。共重合体（Ａ４）がこのような比率で各構成単位を含む場合、基板との密着性に優れる膜を形成可能な感光性組成物を得やすい。 The proportion of the structural unit derived from the unsaturated carboxylic acid (a1) in the copolymer (A4) is preferably 1 to 50 mass%, more preferably 5 to 45 mass%. The proportion of the structural unit derived from the alicyclic epoxy group-containing unsaturated compound (a2) and / or the epoxy group-containing unsaturated compound (a4) in the copolymer (A4) may be 20% by mass or more. Preferably, it is 50-95 mass%, More preferably, it is 60-80 mass%.
In the copolymer (A4), the proportion of the structural unit having a site polymerizable with the photopolymerizable compound (B) is preferably 1 to 45% by mass, and more preferably 5 to 40% by mass. When a copolymer (A4) contains each structural unit in such a ratio, it is easy to obtain the photosensitive composition which can form the film | membrane excellent in adhesiveness with a board | substrate.

共重合体（Ａ３）、及び共重合体（Ａ４）の質量平均分子量は、２０００〜５００００であることが好ましく、５０００〜３００００であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、感光性組成物の膜形成能、露光後の現像性のバランスがとりやすい傾向がある。   The mass average molecular weight of the copolymer (A3) and the copolymer (A4) is preferably 2000 to 50000, and more preferably 5000 to 30000. By setting it as the above range, there is a tendency that the film forming ability of the photosensitive composition and the developability after exposure are easily balanced.

アルカリ可溶性樹脂（Ａ）の含有量は、後述する溶剤（Ｓ）の質量を除いた感光性組成物の質量に対して４０〜８５質量％であることが好ましく、４５〜７５質量％であることがより好ましい。また、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）は、アルカリ可溶性樹（Ａ）の含有量と、光重合性化合物（Ｂ）の含有量と、光重合開始剤（Ｃ）の含有量との合計量を１００質量部とする場合に、感光性組成物中の光重合性化合物（Ｂ）の含有量が５〜５０質量部となるように、感光性組成物に配合されるのが好ましい。   It is preferable that content of alkali-soluble resin (A) is 40-85 mass% with respect to the mass of the photosensitive composition except the mass of the solvent (S) mentioned later, and it is 45-75 mass%. Is more preferable. Further, the alkali-soluble resin (A) has a total amount of 100 mass of the content of the alkali-soluble tree (A), the content of the photopolymerizable compound (B), and the content of the photopolymerization initiator (C). It is preferable to mix | blend with a photosensitive composition so that content of the photopolymerizable compound (B) in a photosensitive composition may be 5-50 mass parts.

前述の通り、感光性組成物中の塩化物イオン量は、１０００質量ｐｐｍ以下である。このため、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）中の塩化物イオン量もある程度低減されている必要がある。
アルカリ可溶性樹脂（Ａ）中の塩化物イオン量を低減する方法としては、水、有機溶剤、有機溶剤の水溶液等による洗浄や、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）の溶液を調製した後、得られた溶液を陰イオン交換樹脂と接触させる方法等が挙げられる。 As described above, the amount of chloride ions in the photosensitive composition is 1000 mass ppm or less. For this reason, the amount of chloride ions in the alkali-soluble resin (A) needs to be reduced to some extent.
As a method for reducing the amount of chloride ions in the alkali-soluble resin (A), a solution obtained after washing with water, an organic solvent, an aqueous solution of an organic solvent or the like, or preparing a solution of the alkali-soluble resin (A) And a method of bringing the anion exchange resin into contact.

＜光重合性化合物（Ｂ）＞
光重合性化合物（Ｂ）としては、エチレン性不飽和基を有するモノマーを好ましく用いることができる。このエチレン性不飽和基を有するモノマーには、単官能モノマーと多官能モノマーとがある。 <Photopolymerizable compound (B)>
As the photopolymerizable compound (B), a monomer having an ethylenically unsaturated group can be preferably used. Monomers having an ethylenically unsaturated group include monofunctional monomers and polyfunctional monomers.

単官能モノマーとしては、（メタ）アクリルアミド、メチロール（メタ）アクリルアミド、メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、エトキシメチル（メタ）アクリルアミド、プロポキシメチル（メタ）アクリルアミド、ブトキシメトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリル酸、フマル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコン酸、クロトン酸、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、ｔｅｒｔ−ブチルアクリルアミドスルホン酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピルフタレート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、フタル酸誘導体のハーフ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらの単官能モノマーは、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。   Monofunctional monomers include (meth) acrylamide, methylol (meth) acrylamide, methoxymethyl (meth) acrylamide, ethoxymethyl (meth) acrylamide, propoxymethyl (meth) acrylamide, butoxymethoxymethyl (meth) acrylamide, N-methylol ( (Meth) acrylamide, N-hydroxymethyl (meth) acrylamide, (meth) acrylic acid, fumaric acid, maleic acid, maleic anhydride, itaconic acid, itaconic anhydride, citraconic acid, citraconic anhydride, crotonic acid, 2-acrylamide- 2-methylpropane sulfonic acid, tert-butylacrylamide sulfonic acid, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate Cyclohexyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-phenoxy-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2- (Meth) acryloyloxy-2-hydroxypropyl phthalate, glycerin mono (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl Examples include (meth) acrylate, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl (meth) acrylate, and half (meth) acrylate of a phthalic acid derivative. These monofunctional monomers can be used alone or in combination of two or more.

一方、多官能モノマーとしては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロキシジエトキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、フタル酸ジグリシジルエステルジ（メタ）アクリレート、グリセリントリアクリレート、グリセリンポリグリシジルエーテルポリ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート（すなわち、トリレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、又はヘキサメチレンジイソシアネート等と２−ビドロキシエチル（メタ）アクリレートとの反応物）、メチレンビス（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリルアミドメチレンエーテル、多価アルコールとＮ−メチロール（メタ）アクリルアミドとの縮合物等の多官能モノマーや、トリアクリルホルマール等が挙げられる。これらの多官能モノマーは、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。   On the other hand, as the polyfunctional monomer, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, butylene glycol Di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexane glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol Tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, pentaerythritol di (meta Acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 2,2-bis (4- (meth) acryloxydi Ethoxyphenyl) propane, 2,2-bis (4- (meth) acryloxypolyethoxyphenyl) propane, 2-hydroxy-3- (meth) acryloyloxypropyl (meth) acrylate, ethylene glycol diglycidyl ether di (meth) Acrylate, diethylene glycol diglycidyl ether di (meth) acrylate, diglycidyl phthalate ester di (meth) acrylate, glycerin triacrylate, glycerin polyglycidyl ether poly (Meth) acrylate, urethane (meth) acrylate (that is, a reaction product of tolylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate or hexamethylene diisocyanate and 2-bidoxyethyl (meth) acrylate), methylenebis (meth) acrylamide, (meth) acrylamide Examples thereof include polyfunctional monomers such as methylene ether, a condensate of polyhydric alcohol and N-methylol (meth) acrylamide, and triacryl formal. These polyfunctional monomers can be used alone or in combination of two or more.

これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの中でも、感光性組成物の基板への密着性、感光性組成物の硬化後の強度を高める傾向にある点から、３官能以上の多官能モノマーが好ましく、４官能以上の多官能モノマーがより好ましく、５官能以上の多官能モノマーがさらに好ましい。   Among these monomers having an ethylenically unsaturated group, a trifunctional or higher polyfunctional monomer is preferable from the viewpoint of increasing the adhesion of the photosensitive composition to the substrate and the strength of the photosensitive composition after curing. A polyfunctional monomer having 4 or more functional groups is more preferable, and a polyfunctional monomer having 5 or more functional groups is more preferable.

光重合性化合物（Ｂ）の組成物中の含有量は、後述する溶剤（Ｓ）の質量を除いた感光性組成物の質量に対して１〜５０質量％が好ましく、５〜４０質量％がより好ましい。上記の範囲とすることにより、感度、現像性、解像性のバランスがとりやすい傾向がある。   1-50 mass% is preferable with respect to the mass of the photosensitive composition except the mass of the solvent (S) mentioned later, and content in the composition of a photopolymerizable compound (B) is 5-40 mass%. More preferred. By setting it as the above range, it tends to be easy to balance sensitivity, developability, and resolution.

前述の通り、感光性組成物中の塩化物イオン量は、１０００質量ｐｐｍ以下である。このため、光重合性化合物（Ｂ）中の塩化物イオン量もある程度低減されている必要がある。
光重合性化合物（Ｂ）中の塩化物イオン量を低減する方法としては、水、有機溶剤、有機溶剤の水溶液等による洗浄や、蒸留、再結晶、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）の溶液を調製した後、得られた溶液を陰イオン交換樹脂と接触させる方法等が挙げられる。 As described above, the amount of chloride ions in the photosensitive composition is 1000 mass ppm or less. For this reason, the amount of chloride ions in the photopolymerizable compound (B) also needs to be reduced to some extent.
As a method of reducing the amount of chloride ions in the photopolymerizable compound (B), washing with water, an organic solvent, an aqueous solution of an organic solvent, distillation, recrystallization, or a solution of an alkali-soluble resin (A) was prepared. Thereafter, a method of bringing the obtained solution into contact with an anion exchange resin can be mentioned.

＜光重合開始剤（Ｃ）＞
感光性組成物は光重合開始剤（Ｃ）を含む。光重合開始剤（Ｃ）は、オキシムエステル化合物（Ｃ１）と、オキシムエステル化合物以外の化合物（Ｃ２）とを組み合わせて含む。以下、オキシムエステル化合物（Ｃ１）と、化合物（Ｃ２）とについて説明する。 <Photopolymerization initiator (C)>
The photosensitive composition contains a photopolymerization initiator (C). The photopolymerization initiator (C) contains an oxime ester compound (C1) and a compound (C2) other than the oxime ester compound in combination. Hereinafter, the oxime ester compound (C1) and the compound (C2) will be described.

（オキシムエステル化合物（Ｃ１））
感光性組成物は、光重合開始剤としてオキシムエステル化合物（Ｃ１）を必須に含む。オキシムエステル化合物（Ｃ１）としては、光重合開始剤として作用する化合物であって、エステル化されたオキシム基を含み、且つ光重合開始剤として作用する化合物であれば特に限定されない。 (Oxime ester compound (C1))
The photosensitive composition essentially contains an oxime ester compound (C1) as a photopolymerization initiator. The oxime ester compound (C1) is not particularly limited as long as it is a compound that acts as a photopolymerization initiator and contains an esterified oxime group and acts as a photopolymerization initiator.

典型的には、オキシムエステル化合物（Ｃ１）としては、下記式（１）で表される化合物が好適に用いられる。

Figure 2018072398
（式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３は、それぞれ独立に、炭素原子に結合する結合手を有する１価の有機基である。ｎ０は、０又は１である。）
で表される化合物を含む。このため、感光性組成物は感度に優れる。 Typically, as the oxime ester compound (C1), a compound represented by the following formula (1) is preferably used.
Figure 2018072398
 (In Formula (1), R 1 , R 2 , and R 3 are each independently a monovalent organic group having a bond bonded to a carbon atom. N0 is 0 or 1.)
The compound represented by these is included. For this reason, the photosensitive composition is excellent in sensitivity.

しかし、光重合開始剤（Ｃ）としてオキシムエステル化合物（Ｃ１）のみを用いると、微細なパターンを解像しにくい。これに対して、光重合開始剤（Ｃ）として、オキシムエステル化合物（Ｃ１）と、オキシムエステル化合物以外の化合物（Ｃ２）とを併用すると、良好な感度を有しつつ、現像により微細なパターンを改造しやすい。   However, when only the oxime ester compound (C1) is used as the photopolymerization initiator (C), it is difficult to resolve a fine pattern. On the other hand, when the oxime ester compound (C1) and the compound (C2) other than the oxime ester compound are used in combination as the photopolymerization initiator (C), a fine pattern can be formed by development while having good sensitivity. Easy to modify.

光重合開始剤（Ｃ）は、オキシムエステル化合物（Ｃ１）を２種以上組み合わせて含んでいてもよい。   The photopolymerization initiator (C) may contain a combination of two or more oxime ester compounds (C1).

式（１）中、Ｒ１として好適な有機基の例としては、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、アルコキシカルボニル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基、１、又は２の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン−１−イル基、及びピペラジン−１−イル基等が挙げられる。
また、Ｒ１としてはシクロアルキルアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェノキシアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基、も好ましい。フェノキシアルキル基、及びフェニルチオアルキル基が有していてもよい置換基は、Ｒ１に含まれるフェニル基が有していてもよい置換基と同様である。 In the formula (1), examples of the organic group suitable as R 1 include an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, an alkoxycarbonyl group, a saturated aliphatic acyloxy group, and a substituent. A phenyl group which may have a substituent, a phenoxy group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenoxycarbonyl group which may have a substituent, and a substituent A good benzoyloxy group, a phenylalkyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthoxy group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, An optionally substituted naphthoxycarbonyl group, an optionally substituted naphthoyloxy group, an optionally substituted naphthylalkyl group, and an optionally substituted heterocyclyl group , An optionally substituted heterocyclylcarbonyl group, an amino group substituted with one or two organic groups, a morpholin-1-yl group, and a piperazin-1-yl group.
R 1 is also preferably a cycloalkylalkyl group, a phenoxyalkyl group optionally having a substituent on the aromatic ring, or a phenylthioalkyl group optionally having a substituent on the aromatic ring. The substituent that the phenoxyalkyl group and the phenylthioalkyl group may have is the same as the substituent that the phenyl group contained in R 1 may have.

Ｒ１がアルキル基である場合、アルキル基の炭素原子数は、１〜２０が好ましく、１〜６がより好ましい。また、Ｒ１がアルキル基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。Ｒ１がアルキル基である場合の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ−ペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、ｎ−ノニル基、イソノニル基、ｎ−デシル基、及びイソデシル基等が挙げられる。また、Ｒ１がアルキル基である場合、アルキル基は炭素鎖中にエーテル結合（−Ｏ−）を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルキル基の例としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロピルオキシエトキシエチル基、及びメトキシプロピル基等が挙げられる。 When R 1 is an alkyl group, number of carbon atoms in the alkyl group is preferably from 1 to 20, 1 to 6 is more preferable. Further, when R 1 is an alkyl group, it may be linear or branched. Specific examples in the case where R 1 is an alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, and an n-pentyl group. , Isopentyl group, sec-pentyl group, tert-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, isononyl group, An n-decyl group, an isodecyl group, etc. are mentioned. When R 1 is an alkyl group, the alkyl group may include an ether bond (—O—) in the carbon chain. Examples of the alkyl group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group, a methoxyethoxyethyl group, an ethoxyethoxyethyl group, a propyloxyethoxyethyl group, and a methoxypropyl group.

Ｒ１がアルコキシ基である場合、アルコキシ基の炭素原子数は、１〜２０が好ましく、１〜６がより好ましい。また、Ｒ１がアルコキシ基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。Ｒ１がアルコキシ基である場合の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ｎ−ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、ｓｅｃ−ブチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルオキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ｓｅｃ−ペンチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、ｓｅｃ−オクチルオキシ基、ｔｅｒｔ−オクチルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基、イソノニルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基、及びイソデシルオキシ基等が挙げられる。また、Ｒ１がアルコキシ基である場合、アルコキシ基は炭素鎖中にエーテル結合（−Ｏ−）を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルコキシ基の例としては、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、プロピルオキシエトキシエトキシ基、及びメトキシプロピルオキシ基等が挙げられる。 If R 1 is an alkoxy group, number of carbon atoms in the alkoxy group is preferably from 1 to 20, 1 to 6 is more preferable. Further, when R 1 is an alkoxy group, it may be linear or branched. Specific examples when R 1 is an alkoxy group include methoxy, ethoxy, n-propyloxy, isopropyloxy, n-butyloxy, isobutyloxy, sec-butyloxy, tert-butyloxy, n -Pentyloxy group, isopentyloxy group, sec-pentyloxy group, tert-pentyloxy group, n-hexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, isooctyloxy group, sec-octyloxy group Tert-octyloxy group, n-nonyloxy group, isononyloxy group, n-decyloxy group, and isodecyloxy group. When R 1 is an alkoxy group, the alkoxy group may contain an ether bond (—O—) in the carbon chain. Examples of the alkoxy group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethoxy group, an ethoxyethoxy group, a methoxyethoxyethoxy group, an ethoxyethoxyethoxy group, a propyloxyethoxyethoxy group, and a methoxypropyloxy group.

Ｒ１がシクロアルキル基又はシクロアルコキシ基である場合、シクロアルキル基又はシクロアルコキシ基の炭素原子数は、３〜１０が好ましく、３〜６がより好ましい。Ｒ１がシクロアルキル基である場合の具体例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、及びシクロオクチル基等が挙げられる。Ｒ１がシクロアルコキシ基である場合の具体例としては、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロヘプチルオキシ基、及びシクロオクチルオキシ基等が挙げられる。 When R 1 is a cycloalkyl group or a cycloalkoxy group, the number of carbon atoms of the cycloalkyl group or the cycloalkoxy group is preferably 3 to 10, and more preferably 3 to 6. Specific examples of when R 1 is a cycloalkyl group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group. Specific examples when R 1 is a cycloalkoxy group include a cyclopropyloxy group, a cyclobutyloxy group, a cyclopentyloxy group, a cyclohexyloxy group, a cycloheptyloxy group, and a cyclooctyloxy group.

Ｒ１が飽和脂肪族アシル基又は飽和脂肪族アシルオキシ基である場合、飽和脂肪族アシル基又は飽和脂肪族アシルオキシ基の炭素原子数は、２〜２１が好ましく、２〜７がより好ましい。Ｒ１が飽和脂肪族アシル基である場合の具体例としては、アセチル基、プロパノイル基、ｎ−ブタノイル基、２−メチルプロパノイル基、ｎ−ペンタノイル基、２，２−ジメチルプロパノイル基、ｎ−ヘキサノイル基、ｎ−ヘプタノイル基、ｎ−オクタノイル基、ｎ−ノナノイル基、ｎ−デカノイル基、ｎ−ウンデカノイル基、ｎ−ドデカノイル基、ｎ−トリデカノイル基、ｎ−テトラデカノイル基、ｎ−ペンタデカノイル基、及びｎ−ヘキサデカノイル基等が挙げられる。Ｒ１が飽和脂肪族アシルオキシ基である場合の具体例としては、アセチルオキシ基、プロパノイルオキシ基、ｎ−ブタノイルオキシ基、２−メチルプロパノイルオキシ基、ｎ−ペンタノイルオキシ基、２，２−ジメチルプロパノイルオキシ基、ｎ−ヘキサノイルオキシ基、ｎ−ヘプタノイルオキシ基、ｎ−オクタノイルオキシ基、ｎ−ノナノイルオキシ基、ｎ−デカノイルオキシ基、ｎ−ウンデカノイルオキシ基、ｎ−ドデカノイルオキシ基、ｎ−トリデカノイルオキシ基、ｎ−テトラデカノイルオキシ基、ｎ−ペンタデカノイルオキシ基、及びｎ−ヘキサデカノイルオキシ基等が挙げられる。 When R 1 is a saturated aliphatic acyl group or a saturated aliphatic acyloxy group, the number of carbon atoms of the saturated aliphatic acyl group or the saturated aliphatic acyloxy group is preferably 2 to 21, and more preferably 2 to 7. Specific examples when R 1 is a saturated aliphatic acyl group include acetyl group, propanoyl group, n-butanoyl group, 2-methylpropanoyl group, n-pentanoyl group, 2,2-dimethylpropanoyl group, n -Hexanoyl group, n-heptanoyl group, n-octanoyl group, n-nonanoyl group, n-decanoyl group, n-undecanoyl group, n-dodecanoyl group, n-tridecanoyl group, n-tetradecanoyl group, n-pentadecane Examples include a noyl group and an n-hexadecanoyl group. Specific examples when R 1 is a saturated aliphatic acyloxy group include acetyloxy group, propanoyloxy group, n-butanoyloxy group, 2-methylpropanoyloxy group, n-pentanoyloxy group, 2, 2-dimethylpropanoyloxy group, n-hexanoyloxy group, n-heptanoyloxy group, n-octanoyloxy group, n-nonanoyloxy group, n-decanoyloxy group, n-undecanoyloxy group, n -Dodecanoyloxy group, n-tridecanoyloxy group, n-tetradecanoyloxy group, n-pentadecanoyloxy group, n-hexadecanoyloxy group and the like.

Ｒ１がアルコキシカルボニル基である場合、アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、２〜２０が好ましく、２〜７がより好ましい。Ｒ１がアルコキシカルボニル基である場合の具体例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロピルオキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基、ｎ−ブチルオキシカルボニル基、イソブチルオキシカルボニル基、ｓｅｃ−ブチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル基、ｎ−ペンチルオキシカルボニル基、イソペンチルオキシカルボニル基、ｓｅｃ−ペンチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ペンチルオキシカルボニル基、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル基、ｎ−ヘプチルオキシカルボニル基、ｎ−オクチルオキシカルボニル基、イソオクチルオキシカルボニル基、ｓｅｃ−オクチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−オクチルオキシカルボニル基、ｎ−ノニルオキシカルボニル基、イソノニルオキシカルボニル基、ｎ−デシルオキシカルボニル基、及びイソデシルオキシカルボニル基等が挙げられる。 When R 1 is an alkoxycarbonyl group, the number of carbon atoms of the alkoxycarbonyl group is preferably 2-20, and more preferably 2-7. Specific examples in the case where R 1 is an alkoxycarbonyl group include methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, n-propyloxycarbonyl group, isopropyloxycarbonyl group, n-butyloxycarbonyl group, isobutyloxycarbonyl group, sec-butyl. Oxycarbonyl group, tert-butyloxycarbonyl group, n-pentyloxycarbonyl group, isopentyloxycarbonyl group, sec-pentyloxycarbonyl group, tert-pentyloxycarbonyl group, n-hexyloxycarbonyl group, n-heptyloxycarbonyl Group, n-octyloxycarbonyl group, isooctyloxycarbonyl group, sec-octyloxycarbonyl group, tert-octyloxycarbonyl group, n-nonyloxycarbonyl group, i Examples include a sononyloxycarbonyl group, an n-decyloxycarbonyl group, and an isodecyloxycarbonyl group.

Ｒ１がフェニルアルキル基である場合、フェニルアルキル基の炭素原子数は、７〜２０が好ましく、７〜１０がより好ましい。また、Ｒ１がナフチルアルキル基である場合、ナフチルアルキル基の炭素原子数は、１１〜２０が好ましく、１１〜１４がより好ましい。Ｒ１がフェニルアルキル基である場合の具体例としては、ベンジル基、２−フェニルエチル基、３−フェニルプロピル基、及び４−フェニルブチル基が挙げられる。Ｒ１がナフチルアルキル基である場合の具体例としては、α−ナフチルメチル基、β−ナフチルメチル基、２−（α−ナフチル）エチル基、及び２−（β−ナフチル）エチル基が挙げられる。Ｒ１が、フェニルアルキル基、又はナフチルアルキル基である場合、Ｒ１は、フェニル基、又はナフチル基上にさらに置換基を有していてもよい。 When R 1 is a phenylalkyl group, the number of carbon atoms of the phenylalkyl group is preferably 7 to 20, and more preferably 7 to 10. Moreover, when R < 1 > is a naphthyl alkyl group, 11-20 are preferable and, as for the carbon atom number of a naphthyl alkyl group, 11-14 are more preferable. Specific examples when R 1 is a phenylalkyl group include a benzyl group, a 2-phenylethyl group, a 3-phenylpropyl group, and a 4-phenylbutyl group. Specific examples in the case where R 1 is a naphthylalkyl group include an α-naphthylmethyl group, a β-naphthylmethyl group, a 2- (α-naphthyl) ethyl group, and a 2- (β-naphthyl) ethyl group. . When R 1 is a phenylalkyl group or a naphthylalkyl group, R 1 may further have a substituent on the phenyl group or naphthyl group.

Ｒ１がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基は、１以上のＮ、Ｓ、Ｏを含む５員又は６員の単環であるか、かかる単環同士、又はかかる単環とベンゼン環とが縮合したヘテロシクリル基である。ヘテロシクリル基が縮合環である場合は、環数３までのものとする。ヘテロシクリル基は、芳香族基（ヘテロアリール基）であっても、非芳香族基であってもよい。かかるヘテロシクリル基を構成する複素環としては、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、チアジアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、カルバゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、フタラジン、シンノリン、キノキサリン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、ピペリジン、テトラヒドロピラン、及びテトラヒドロフラン等が挙げられる。Ｒ１がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基はさらに置換基を有していてもよい。 When R 1 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group is a 5-membered or 6-membered monocycle containing one or more N, S, and O, such monocycles, or such monocycles and benzene rings are condensed. Heterocyclyl group. When the heterocyclyl group is a condensed ring, the ring number is up to 3. The heterocyclyl group may be an aromatic group (heteroaryl group) or a non-aromatic group. Examples of the heterocyclic ring constituting the heterocyclyl group include furan, thiophene, pyrrole, oxazole, isoxazole, thiazole, thiadiazole, isothiazole, imidazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, benzofuran, benzothiophene, indole, Examples include isoindole, indolizine, benzimidazole, benzotriazole, benzoxazole, benzothiazole, carbazole, purine, quinoline, isoquinoline, quinazoline, phthalazine, cinnoline, quinoxaline, piperidine, piperazine, morpholine, piperidine, tetrahydropyran, and tetrahydrofuran. It is done. When R 1 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group may further have a substituent.

Ｒ１がヘテロシクリルカルボニル基である場合、ヘテロシクリルカルボニル基に含まれるヘテロシクリル基は、Ｒ１がヘテロシクリル基である場合と同様である。 When R 1 is a heterocyclylcarbonyl group, the heterocyclyl group contained in the heterocyclylcarbonyl group is the same as when R 1 is a heterocyclyl group.

Ｒ１が１又は２の有機基で置換されたアミノ基である場合、有機基の好適な例は、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜１０のシクロアルキル基、炭素原子数２〜２１の飽和脂肪族アシル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよい炭素原子数７〜２０のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよい炭素原子数１１〜２０のナフチルアルキル基、及びヘテロシクリル基等が挙げられる。これらの好適な有機基の具体例は、Ｒ１と同様である。１、又は２の有機基で置換されたアミノ基の具体例としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ｎ−プロピルアミノ基、ジ−ｎ−プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ｎ−ブチルアミノ基、ジ−ｎ−ブチルアミノ基、ｎ−ペンチルアミノ基、ｎ−ヘキシルアミノ基、ｎ−ヘプチルアミノ基、ｎ−オクチルアミノ基、ｎ−ノニルアミノ基、ｎ−デシルアミノ基、フェニルアミノ基、ナフチルアミノ基、アセチルアミノ基、プロパノイルアミノ基、ｎ−ブタノイルアミノ基、ｎ−ペンタノイルアミノ基、ｎ−ヘキサノイルアミノ基、ｎ−ヘプタノイルアミノ基、ｎ−オクタノイルアミノ基、ｎ−デカノイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、α−ナフトイルアミノ基、及びβ−ナフトイルアミノ基等が挙げられる。 When R 1 is an amino group substituted with an organic group having 1 or 2, suitable examples of the organic group include alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms, cycloalkyl groups having 3 to 10 carbon atoms, and carbon atoms. A saturated aliphatic acyl group having 2 to 21 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenylalkyl having 7 to 20 carbon atoms which may have a substituent A naphthyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthylalkyl group having 11 to 20 carbon atoms which may have a substituent, a heterocyclyl group, and the like. . Specific examples of these suitable organic groups are the same as those for R 1 . Specific examples of the amino group substituted with 1 or 2 organic groups include methylamino group, ethylamino group, diethylamino group, n-propylamino group, di-n-propylamino group, isopropylamino group, n- Butylamino group, di-n-butylamino group, n-pentylamino group, n-hexylamino group, n-heptylamino group, n-octylamino group, n-nonylamino group, n-decylamino group, phenylamino group, Naphthylamino group, acetylamino group, propanoylamino group, n-butanoylamino group, n-pentanoylamino group, n-hexanoylamino group, n-heptanoylamino group, n-octanoylamino group, n- Examples include a decanoylamino group, a benzoylamino group, an α-naphthoylamino group, and a β-naphthoylamino group.

Ｒ１に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合の置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいフェニルチオ基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基、アミノ基、１又は２の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン−１−イル基、ピペラジン−１−イル基、ハロゲン原子、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。 In the case where the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R 1 further have a substituent, examples of the substituent include an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, a saturated fat Group acyloxy group, alkoxycarbonyl group, phenyl group which may have a substituent, phenoxy group which may have a substituent, phenylthio group which may have a substituent, benzoyl which may have a substituent Group, phenoxycarbonyl group which may have a substituent, benzoyloxy group which may have a substituent, phenylalkyl group which may have a substituent, naphthyl group which may have a substituent, substituted A naphthoxy group that may have a group, a naphthoyl group that may have a substituent, a naphthoxycarbonyl group that may have a substituent, and a naphthoxy group that may have a substituent Substituted with a toyloxy group, an optionally substituted naphthylalkyl group, an optionally substituted heterocyclyl group, an optionally substituted heterocyclylcarbonyl group, an amino group, 1 or 2 organic groups And amino group, morpholin-1-yl group, piperazin-1-yl group, halogen atom, nitro group, cyano group and the like.

Ｒ１に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されないが、１〜４が好ましい。Ｒ１に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。 When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R 1 further have a substituent, the number of the substituent is not limited as long as the object of the present invention is not impaired, but 1 to 4 is preferable. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R 1 have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.

置換基がアルキル基である場合、炭素原子数１〜２０が好ましく、炭素原子数１〜６がより好ましい。置換基がアルキル基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。置換基がアルキル基である場合の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ−ペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、ｎ−ノニル基、イソノニル基、ｎ−デシル基、及びイソデシル基等が挙げられる。また、置換基がアルキル基である場合、アルキル基は炭素鎖中にエーテル結合（−Ｏ−）を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルキル基の例としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロピルオキシエトキシエチル基、及びメトキシプロピル基等が挙げられる。   When a substituent is an alkyl group, C1-C20 is preferable and C1-C6 is more preferable. When the substituent is an alkyl group, it may be linear or branched. Specific examples when the substituent is an alkyl group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, and n-pentyl group. , Isopentyl group, sec-pentyl group, tert-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, isononyl group, An n-decyl group, an isodecyl group, etc. are mentioned. When the substituent is an alkyl group, the alkyl group may include an ether bond (—O—) in the carbon chain. Examples of the alkyl group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group, a methoxyethoxyethyl group, an ethoxyethoxyethyl group, a propyloxyethoxyethyl group, and a methoxypropyl group.

置換基がアルコキシ基である場合、炭素原子数１〜２０が好ましく、炭素原子数１〜６がより好ましい。また、置換基がアルコキシ基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。置換基がアルコキシ基である場合の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ｎ−ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、ｓｅｃ−ブチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルオキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ｓｅｃ−ペンチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、ｓｅｃ−オクチオキシル基、ｔｅｒｔ−オクチルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基、イソノニルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基、及びイソデシルオキシ基等が挙げられる。また、置換基がアルコキシ基である場合、アルコキシ基は炭素鎖中にエーテル結合（−Ｏ−）を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルコキシ基の例としては、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、プロピルオキシエトキシエトキシ基、及びメトキシプロピルオキシ基等が挙げられる。   When a substituent is an alkoxy group, C1-C20 is preferable and C1-C6 is more preferable. Moreover, when a substituent is an alkoxy group, it may be linear or branched. Specific examples in the case where the substituent is an alkoxy group include methoxy group, ethoxy group, n-propyloxy group, isopropyloxy group, n-butyloxy group, isobutyloxy group, sec-butyloxy group, tert-butyloxy group, n -Pentyloxy group, isopentyloxy group, sec-pentyloxy group, tert-pentyloxy group, n-hexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, isooctyloxy group, sec-octoxyl group, Examples thereof include a tert-octyloxy group, an n-nonyloxy group, an isononyloxy group, an n-decyloxy group, and an isodecyloxy group. When the substituent is an alkoxy group, the alkoxy group may include an ether bond (—O—) in the carbon chain. Examples of the alkoxy group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethoxy group, an ethoxyethoxy group, a methoxyethoxyethoxy group, an ethoxyethoxyethoxy group, a propyloxyethoxyethoxy group, and a methoxypropyloxy group.

置換基がシクロアルキル基又はシクロアルコキシ基である場合、炭素原子数３〜１０が好ましく、炭素原子数３〜６がより好ましい。置換基がシクロアルキル基である場合の具体例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、及びシクロオクチル基等が挙げられる。置換基がシクロアルコキシ基である場合の具体例としては、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロヘプチルオキシ基、及びシクロオクチルオキシ基等が挙げられる。   When the substituent is a cycloalkyl group or a cycloalkoxy group, 3 to 10 carbon atoms are preferable, and 3 to 6 carbon atoms are more preferable. Specific examples in the case where the substituent is a cycloalkyl group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group. Specific examples in the case where the substituent is a cycloalkoxy group include a cyclopropyloxy group, a cyclobutyloxy group, a cyclopentyloxy group, a cyclohexyloxy group, a cycloheptyloxy group, and a cyclooctyloxy group.

置換基が飽和脂肪族アシル基又は飽和脂肪族アシルオキシ基である場合、炭素原子数２〜２０が好ましく、炭素原子数２〜７がより好ましい。置換基が飽和脂肪族アシル基である場合の具体例としては、アセチル基、プロパノイル基、ｎ−ブタノイル基、２−メチルプロパノイル基、ｎ−ペンタノイル基、２，２−ジメチルプロパノイル基、ｎ−ヘキサノイル基、ｎ−ヘプタノイル基、ｎ−オクタノイル基、ｎ−ノナノイル基、ｎ−デカノイル基、ｎ−ウンデカノイル基、ｎ−ドデカノイル基、ｎ−トリデカノイル基、ｎ−テトラデカノイル基、ｎ−ペンタデカノイル基、及びｎ−ヘキサデカノイル基等が挙げられる。置換基が飽和脂肪族アシルオキシ基である場合の具体例としては、アセチルオキシ基、プロパノイルオキシ基、ｎ−ブタノイルオキシ基、２−メチルプロパノイルオキシ基、ｎ−ペンタノイルオキシ基、２，２−ジメチルプロパノイルオキシ基、ｎ−ヘキサノイルオキシ基、ｎ−ヘプタノイルオキシ基、ｎ−オクタノイルオキシ基、ｎ−ノナノイルオキシ基、ｎ−デカノイルオキシ基、ｎ−ウンデカノイルオキシ基、ｎ−ドデカノイルオキシ基、ｎ−トリデカノイルオキシ基、ｎ−テトラデカノイルオキシ基、ｎ−ペンタデカノイルオキシ基、及びｎ−ヘキサデカノイルオキシ基等が挙げられる。   When the substituent is a saturated aliphatic acyl group or a saturated aliphatic acyloxy group, 2 to 20 carbon atoms are preferable, and 2 to 7 carbon atoms are more preferable. Specific examples when the substituent is a saturated aliphatic acyl group include acetyl group, propanoyl group, n-butanoyl group, 2-methylpropanoyl group, n-pentanoyl group, 2,2-dimethylpropanoyl group, n -Hexanoyl group, n-heptanoyl group, n-octanoyl group, n-nonanoyl group, n-decanoyl group, n-undecanoyl group, n-dodecanoyl group, n-tridecanoyl group, n-tetradecanoyl group, n-pentadecane Examples include a noyl group and an n-hexadecanoyl group. Specific examples when the substituent is a saturated aliphatic acyloxy group include acetyloxy group, propanoyloxy group, n-butanoyloxy group, 2-methylpropanoyloxy group, n-pentanoyloxy group, 2, 2-dimethylpropanoyloxy group, n-hexanoyloxy group, n-heptanoyloxy group, n-octanoyloxy group, n-nonanoyloxy group, n-decanoyloxy group, n-undecanoyloxy group, n -Dodecanoyloxy group, n-tridecanoyloxy group, n-tetradecanoyloxy group, n-pentadecanoyloxy group, n-hexadecanoyloxy group and the like.

置換基がアルコキシカルボニル基である場合、炭素原子数２〜２０が好ましく、炭素原子数２〜７がより好ましい。置換基がアルコキシカルボニル基である場合の具体例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロピルオキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基、ｎ−ブチルオキシカルボニル基、イソブチルオキシカルボニル基、ｓｅｃ−ブチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル基、ｎ−ペンチルオキシカルボニル基、イソペンチルオキシカルボニル基、ｓｅｃ−ペンチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ペンチルオキシカルボニル基、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル基、ｎ−ヘプチルオキシカルボニル基、ｎ−オクチルオキシカルボニル基、イソオクチルオキシカルボニル基、ｓｅｃ−オクチオキシルカルボニル基、ｔｅｒｔ−オクチルオキシカルボニル基、ｎ−ノニルオキシカルボニル基、イソノニルオキシカルボニル基、ｎ−デシルオキシカルボニル基、及びイソデシルオキシカルボニル基等が挙げられる。   When the substituent is an alkoxycarbonyl group, the number of carbon atoms is preferably 2 to 20, and more preferably 2 to 7 carbon atoms. Specific examples when the substituent is an alkoxycarbonyl group include methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, n-propyloxycarbonyl group, isopropyloxycarbonyl group, n-butyloxycarbonyl group, isobutyloxycarbonyl group, sec-butyl. Oxycarbonyl group, tert-butyloxycarbonyl group, n-pentyloxycarbonyl group, isopentyloxycarbonyl group, sec-pentyloxycarbonyl group, tert-pentyloxycarbonyl group, n-hexyloxycarbonyl group, n-heptyloxycarbonyl Group, n-octyloxycarbonyl group, isooctyloxycarbonyl group, sec-octyloxycarbonyl group, tert-octyloxycarbonyl group, n-nonyloxycarbonyl group, Seo nonyloxycarbonyl group, n- decyl oxycarbonyl group, and the like isodecyl oxycarbonyl group.

置換基が置換基を有してもよいフェニルアルキル基である場合、炭素原子数７〜２０が好ましく、炭素原子数７〜１０がより好ましい。また、置換基が置換基を有してもよいナフチルアルキル基である場合、炭素原子数１１〜２０が好ましく、炭素原子数１１〜１４がより好ましい。置換基が置換基を有してもよいフェニルアルキル基である場合の具体例としては、ベンジル基、２−フェニルエチル基、３−フェニルプロピル基、及び４−フェニルブチル基が挙げられる。置換基が置換基を有してもよいナフチルアルキル基である場合の具体例としては、α−ナフチルメチル基、β−ナフチルメチル基、２−（α−ナフチル）エチル基、及び２−（β−ナフチル）エチル基が挙げられる。   When the substituent is a phenylalkyl group which may have a substituent, the number of carbon atoms is preferably 7 to 20, and more preferably 7 to 10 carbon atoms. Moreover, when a substituent is a naphthyl alkyl group which may have a substituent, C1-C20 is preferable and C1-C14 is more preferable. Specific examples in the case where the substituent is a phenylalkyl group which may have a substituent include a benzyl group, a 2-phenylethyl group, a 3-phenylpropyl group, and a 4-phenylbutyl group. Specific examples in the case where the substituent is an optionally substituted naphthylalkyl group include α-naphthylmethyl group, β-naphthylmethyl group, 2- (α-naphthyl) ethyl group, and 2- (β -Naphthyl) ethyl group.

置換基が置換基を有してもよいヘテロシクリル基である場合、上記ヘテロシクリル基は、１以上のＮ、Ｓ、Ｏを含む５員又は６員の単環であるか、かかる単環同士、又はかかる単環とベンゼン環とが縮合したヘテロシクリル基である。上記ヘテロシクリル基が縮合環である場合は、環数３までのものとする。かかるヘテロシクリル基を構成する複素環としては、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、チアジアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、カルバゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、フタラジン、シンノリン、及びキノキサリン等が挙げられる。   When the substituent is a heterocyclyl group which may have a substituent, the heterocyclyl group is a 5-membered or 6-membered monocycle containing one or more N, S, O, such monocycles, or This is a heterocyclyl group in which a single ring and a benzene ring are condensed. In the case where the heterocyclyl group is a condensed ring, the number is 3. Examples of the heterocyclic ring constituting the heterocyclyl group include furan, thiophene, pyrrole, oxazole, isoxazole, thiazole, thiadiazole, isothiazole, imidazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, benzofuran, benzothiophene, indole, Examples include isoindole, indolizine, benzimidazole, benzotriazole, benzoxazole, benzothiazole, carbazole, purine, quinoline, isoquinoline, quinazoline, phthalazine, cinnoline, and quinoxaline.

置換基が１又は２の有機基で置換されたアミノ基である場合、有機基の好適な例としては、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜１０のシクロアルキル基、炭素原子数２〜２０の飽和脂肪族アシル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよい炭素原子数７〜２０のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよい炭素原子数１１〜２０のナフチルアルキル基、及びヘテロシクリル基等が挙げられる。これらの好適な有機基の具体例は、上記で置換基について例示したものと同様である。１又は２の有機基で置換されたアミノ基の具体例としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ｎ−プロピルアミノ基、ジ−ｎ−プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ｎ−ブチルアミノ基、ジ−ｎ−ブチルアミノ基、ｎ−ペンチルアミノ基、ｎ−ヘキシルアミノ基、ｎ−ヘプチルアミノ基、ｎ−オクチルアミノ基、ｎ−ノニルアミノ基、ｎ−デシルアミノ基、フェニルアミノ基、ナフチルアミノ基、アセチルアミノ基、プロパノイルアミノ基、ｎ−ブタノイルアミノ基、ｎ−ペンタノイルアミノ基、ｎ−ヘキサノイルアミノ基、ｎ−ヘプタノイルアミノ基、ｎ−オクタノイルアミノ基、ｎ−デカノイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、α−ナフトイルアミノ基、及びβ−ナフトイルアミノ基等が挙げられる。   When the substituent is an amino group substituted with 1 or 2 organic groups, suitable examples of organic groups include alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms, cycloalkyl groups having 3 to 10 carbon atoms, carbon A saturated aliphatic acyl group having 2 to 20 atoms, a phenyl group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenyl having 7 to 20 carbon atoms which may have a substituent Examples thereof include an alkyl group, an optionally substituted naphthyl group, an optionally substituted naphthoyl group, an optionally substituted naphthylalkyl group having 11 to 20 carbon atoms, and a heterocyclyl group. It is done. Specific examples of these suitable organic groups are the same as those exemplified above for the substituent. Specific examples of the amino group substituted with one or two organic groups include methylamino group, ethylamino group, diethylamino group, n-propylamino group, di-n-propylamino group, isopropylamino group, and n-butyl. Amino group, di-n-butylamino group, n-pentylamino group, n-hexylamino group, n-heptylamino group, n-octylamino group, n-nonylamino group, n-decylamino group, phenylamino group, naphthyl Amino group, acetylamino group, propanoylamino group, n-butanoylamino group, n-pentanoylamino group, n-hexanoylamino group, n-heptanoylamino group, n-octanoylamino group, n-deca Examples thereof include a noylamino group, a benzoylamino group, an α-naphthoylamino group, and a β-naphthoylamino group.

上記置換基において、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基等がさらに置換基を有する場合の置換基の例としては、炭素原子数１〜６のアルキル基；炭素原子数１〜６のアルコキシ基；炭素原子数２〜７の飽和脂肪族アシル基；炭素原子数２〜７のアルコキシカルボニル基；炭素原子数２〜７の飽和脂肪族アシルオキシ基；フェニル基；ナフチル基；ベンゾイル基；ナフトイル基；炭素原子数１〜６のアルキル基、モルホリン−１−イル基、ピペラジン−１−イル基、及びフェニル基からなる群より選択される基により置換されたベンゾイル基；炭素原子数１〜６のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基；炭素原子数１〜６のアルキル基を有するジアルキルアミノ基；モルホリン−１−イル基；ピペラジン−１−イル基；ハロゲン原子；ニトロ基；シアノ基が挙げられる。上記置換基に含まれるフェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基等がさらに置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されないが、１〜４が好ましい。フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基等が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。   Examples of the substituent in the case where the phenyl group, naphthyl group, heterocyclyl group and the like further have a substituent in the above substituent include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms; A saturated aliphatic acyl group having 2 to 7 carbon atoms; an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms; a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms; a phenyl group; a naphthyl group; a benzoyl group; A benzoyl group substituted by a group selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 6 atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, and a phenyl group; an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; A monoalkylamino group having 1 to 6 carbon atoms; a morpholin-1-yl group; a piperazin-1-yl group; a halo Emissions atom; a nitro group; a cyano group. When the phenyl group, naphthyl group, heterocyclyl group and the like contained in the above substituent further have a substituent, the number of the substituent is not limited as long as the object of the present invention is not impaired, but 1 to 4 is preferable. When a phenyl group, a naphthyl group, a heterocyclyl group, and the like have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.

有機基の中でも、Ｒ１としては、アルキル基、シクロアルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、又はシクロアルキルアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基が好ましい。アルキル基としては、炭素原子数１〜２０のアルキル基が好ましく、炭素原子数１〜８のアルキル基がより好ましく、炭素原子数１〜４のアルキル基が特に好ましく、メチル基が最も好ましい。置換基を有していてもよいフェニル基の中では、メチルフェニル基が好ましく、２−メチルフェニル基がより好ましい。シクロアルキルアルキル基に含まれるシクロアルキル基の炭素原子数は、５〜１０が好ましく、５〜８がより好ましく、５又は６が特に好ましい。シクロアルキルアルキル基に含まれるアルキレン基の炭素原子数は、１〜８が好ましく、１〜４がより好ましく、２が特に好ましい。シクロアルキルアルキル基の中では、シクロペンチルエチル基が好ましい。芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基に含まれるアルキレン基の炭素原子数は、１〜８が好ましく、１〜４がより好ましく、２が特に好ましい。芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基の中では、２−（４−クロロフェニルチオ）エチル基が好ましい。 Among organic groups, R 1 is an alkyl group, a cycloalkyl group, a phenyl group which may have a substituent, or a cycloalkylalkyl group, or a phenylthio which may have a substituent on an aromatic ring. Alkyl groups are preferred. As the alkyl group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferable, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is more preferable, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is particularly preferable, and a methyl group is most preferable. Among the phenyl groups that may have a substituent, a methylphenyl group is preferable, and a 2-methylphenyl group is more preferable. The number of carbon atoms of the cycloalkyl group contained in the cycloalkylalkyl group is preferably 5 to 10, more preferably 5 to 8, and particularly preferably 5 or 6. 1-8 are preferable, as for the carbon atom number of the alkylene group contained in a cycloalkylalkyl group, 1-4 are more preferable, and 2 is especially preferable. Of the cycloalkylalkyl groups, a cyclopentylethyl group is preferred. 1-8 are preferable, as for the carbon atom number of the alkylene group contained in the phenylthioalkyl group which may have a substituent on an aromatic ring, 1-4 are more preferable, and 2 is especially preferable. Among the phenylthioalkyl groups which may have a substituent on the aromatic ring, a 2- (4-chlorophenylthio) ethyl group is preferable.

また、Ｒ１としては、−Ａｃ１−ＣＯ−Ｏ−Ａｃ２で表される基も好ましい。Ａｃ１は、２価の有機基であり、２価の炭化水素基であるのが好ましく、アルキレン基であるのが好ましい。Ａｂ２は、１価の有機基であり、１価の炭化水素基であるのが好ましい。 As the R 1, the groups represented by -A c1 -CO-O-A c2 is also preferred. Ac1 is a divalent organic group, preferably a divalent hydrocarbon group, and preferably an alkylene group. A b2 is a monovalent organic group, and is preferably a monovalent hydrocarbon group.

Ａｃ１がアルキレン基である場合、アルキレン基は直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。Ａｃ１がアルキレン基である場合、アルキレン基の炭素原子数は１〜１０が好ましく、１〜６がより好ましく、１〜４が特に好ましい。 When A c1 is an alkylene group, the alkylene group may be linear or branched, and is preferably linear. When Ac1 is an alkylene group, the number of carbon atoms of the alkylene group is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 6, and particularly preferably 1 to 4.

Ａｃ２の好適な例としては、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数７〜２０のアラルキル基、及び炭素原子数６〜２０の芳香族炭化水素基が挙げられる。Ａｃ２の好適な具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、フェニル基、ナフチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−ナフチルメチル基、及びβ−ナフチルメチル基等が挙げられる。 Preferred examples of A c2 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, and an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms. Preferred examples of Ac2 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, and n-hexyl. Group, phenyl group, naphthyl group, benzyl group, phenethyl group, α-naphthylmethyl group, β-naphthylmethyl group and the like.

−Ａｃ１−ＣＯ−Ｏ−Ａｃ２で表される基の好適な具体例としては、２−メトキシカルボニルエチル基、２−エトキシカルボニルエチル基、２−ｎ−プロピルオキシカルボニルエチル基、２−ｎ−ブチルオキシカルボニルエチル基、２−ｎ−ペンチルオキシカルボニルエチル基、２−ｎ−ヘキシルオキシカルボニルエチル基、２−ベンジルオキシカルボニルエチル基、２−フェノキシカルボニルエチル基、３−メトキシカルボニル−ｎ−プロピル基、３−エトキシカルボニル−ｎ−プロピル基、３−ｎ−プロピルオキシカルボニル−ｎ−プロピル基、３−ｎ−ブチルオキシカルボニル−ｎ−プロピル基、３−ｎ−ペンチルオキシカルボニル−ｎ−プロピル基、３−ｎ−ヘキシルオキシカルボニル−ｎ−プロピル基、３−ベンジルオキシカルボニル−ｎ−プロピル基、及び３−フェノキシカルボニル−ｎ−プロピル基等が挙げられる。 Preferable specific examples of the group represented by —A c1 —CO—O—A c2 include 2-methoxycarbonylethyl group, 2-ethoxycarbonylethyl group, 2-n-propyloxycarbonylethyl group, 2-n -Butyloxycarbonylethyl group, 2-n-pentyloxycarbonylethyl group, 2-n-hexyloxycarbonylethyl group, 2-benzyloxycarbonylethyl group, 2-phenoxycarbonylethyl group, 3-methoxycarbonyl-n-propyl Group, 3-ethoxycarbonyl-n-propyl group, 3-n-propyloxycarbonyl-n-propyl group, 3-n-butyloxycarbonyl-n-propyl group, 3-n-pentyloxycarbonyl-n-propyl group 3-n-hexyloxycarbonyl-n-propyl group, 3-benzyloxycal Alkylsulfonyl -n- propyl group, and 3-phenoxycarbonyl -n- propyl group and the like.

以上、Ｒ１について説明したが、Ｒ１としては、下記式（ｃ１ａ）又は（ｃ１ｂ）で表される基が好ましい。

Figure 2018072398
（式（ｃ１ａ）及び（ｃ１ｂ）中、Ｒ７及びＲ８はそれぞれ有機基であり、ｐは０〜４の整数であり、Ｒ７及びＲ８がベンゼン環上の隣接する位置に存在する場合、Ｒ７とＲ８とが互いに結合して環を形成してもよく、ｑは１〜８の整数であり、ｒは１〜５の整数であり、ｓは０〜（ｒ＋３）の整数であり、Ｒ９は有機基である。） Having described R 1, as the R 1, preferably a group represented by the following formula (c1a) or (c1b).
Figure 2018072398
 (In the formulas (c1a) and (c1b), R 7 and R 8 are each an organic group, p is an integer of 0 to 4, and R 7 and R 8 are present at adjacent positions on the benzene ring. , R 7 and R 8 may be bonded to each other to form a ring, q is an integer of 1 to 8, r is an integer of 1 to 5, and s is an integer of 0 to (r + 3). And R 9 is an organic group.)

式（ｃ１ａ）中のＲ７及びＲ８についての有機基の例は、Ｒ１と同様である。Ｒ７としては、アルキル基又はフェニル基が好ましい。Ｒ７がアルキル基である場合、その炭素原子数は、１〜１０が好ましく、１〜５がより好ましく、１〜３が特に好ましく、１が最も好ましい。つまり、Ｒ７はメチル基であるのが最も好ましい。
Ｒ７とＲ８とが結合して環を形成する場合、当該環は、芳香族環でもよく、脂肪族環でもよい。式（ｃ１ａ）で表される基であって、Ｒ７とＲ８とが環を形成している基の好適な例としては、ナフタレン−１−イル基や、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−５−イル基等が挙げられる。上記式（ｃ１ａ）中、ｐは０〜４の整数であり、０又は１であるのが好ましく、０であるのがより好ましい。 Examples of the organic group for R 7 and R 8 in formula (c1a) are the same as those for R 1 . R 7 is preferably an alkyl group or a phenyl group. When R 7 is an alkyl group, the number of carbon atoms is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 5, particularly preferably 1 to 3, and most preferably 1. That is, R 7 is most preferably a methyl group.
When R 7 and R 8 are combined to form a ring, the ring may be an aromatic ring or an aliphatic ring. Preferable examples of the group represented by the formula (c1a) in which R 7 and R 8 form a ring include a naphthalen-1-yl group, 1,2,3,4- And tetrahydronaphthalen-5-yl group. In said formula (c1a), p is an integer of 0-4, it is preferable that it is 0 or 1, and it is more preferable that it is 0.

上記式（ｃ１ｂ）中、Ｒ９は有機基である。有機基としては、Ｒ１について説明した有機基と同様の基が挙げられる。
Ｒ９としての有機基の中では、アルキル基が好ましい。アルキル基は直鎖状でも分岐鎖状でもよい。アルキル基の炭素原子数は１〜１０が好ましく、１〜５がより好ましく、１〜３が特に好ましい。Ｒ９としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等が好ましく例示され、これらの中でも、メチル基であることがより好ましい。 In the above formula (c1b), R 9 is an organic group. Examples of the organic group include the same groups as those described for R 1 .
Among the organic groups as R 9 , an alkyl group is preferable. The alkyl group may be linear or branched. 1-10 are preferable, as for the carbon atom number of an alkyl group, 1-5 are more preferable, and 1-3 are especially preferable. R 9 is preferably exemplified by a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, and among these, a methyl group is more preferable.

上記式（ｃ１ｂ）中、ｒは１〜５の整数であり、１〜３の整数が好ましく、１又は２がより好ましい。上記式（ｃ１ｂ）中、ｓは０〜（ｒ＋３）であり、０〜３の整数が好ましく、０〜２の整数がより好ましく、０が特に好ましい。上記式（ｃ１ｂ）中、ｑは１〜８の整数であり、１〜５の整数が好ましく、１〜３の整数がより好ましく、１又は２が特に好ましい。   In said formula (c1b), r is an integer of 1-5, the integer of 1-3 is preferable and 1 or 2 is more preferable. In said formula (c1b), s is 0- (r + 3), the integer of 0-3 is preferable, the integer of 0-2 is more preferable, and 0 is especially preferable. In said formula (c1b), q is an integer of 1-8, the integer of 1-5 is preferable, the integer of 1-3 is more preferable, and 1 or 2 is especially preferable.

式（１）中、Ｒ２は有機基である。かかる有機基としては、置換基を有してもよいアリール基、又は置換基を有してもよいヘテロアリール基が好ましい。置換基を有してもよいアリール基としては、例えば、置換基を有してもよいフェニル基が挙げられる。置換基を有してもよいヘテロアリール基としては、例えば、置換基を有してもよいカルバゾリル基が挙げられる。 In formula (1), R 2 is an organic group. As such an organic group, an aryl group which may have a substituent or a heteroaryl group which may have a substituent is preferable. Examples of the aryl group that may have a substituent include a phenyl group that may have a substituent. Examples of the heteroaryl group which may have a substituent include a carbazolyl group which may have a substituent.

Ｒ２において、アリール基、ヘテロアリール基、フェニル基、又はカルバゾリル基が有してもよい置換基は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。アリール基、ヘテロアリール基、フェニル基、又はカルバゾリル基が、炭素原子上に有してもよい好適な置換基の例としては、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいフェニルチオ基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基、アミノ基、１又は２の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン−１−イル基、ピペラジン−１−イル基、ハロゲン原子、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。 In R 2 , the substituent that the aryl group, heteroaryl group, phenyl group, or carbazolyl group may have is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired. Examples of suitable substituents that the aryl group, heteroaryl group, phenyl group, or carbazolyl group may have on the carbon atom include an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, and a saturated aliphatic group. An acyl group, a saturated aliphatic acyloxy group, an alkoxycarbonyl group, a phenyl group which may have a substituent, a phenoxy group which may have a substituent, a phenylthio group which may have a substituent, and a substituent. A benzoyl group which may have a substituent, a phenoxycarbonyl group which may have a substituent, a benzoyloxy group which may have a substituent, a phenylalkyl group which may have a substituent, and a substituent A good naphthyl group, a naphthoxy group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, a naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, and a substituent Good naphthoyloxy group, optionally substituted naphthylalkyl group, optionally substituted heterocyclyl group, optionally substituted heterocyclylcarbonyl group, amino group, 1 or 2 organic groups And an amino group, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, a halogen atom, a nitro group and a cyano group substituted with

Ｒ２がヘテロアリール基又はカルバゾリル基である場合、ヘテロアリール基が窒素原子等のヘテロ原子上に有してもよい好適な置換基、及び、カルバゾリル基が窒素原子上に有してもよい好適な置換基の例としては、アルキル基、シクロアルキル基、飽和脂肪族アシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、及び置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基等が挙げられる。これらの置換基の中では、アルキル基が好ましく、炭素原子数１〜２０のアルキル基がより好ましく、炭素原子数１〜６のアルキル基がさらにより好ましく、エチル基が特に好ましい。 When R 2 is a heteroaryl group or a carbazolyl group, a suitable substituent that the heteroaryl group may have on a heteroatom such as a nitrogen atom, and a preferred case that the carbazolyl group may have on a nitrogen atom Examples of such substituents include alkyl groups, cycloalkyl groups, saturated aliphatic acyl groups, alkoxycarbonyl groups, phenyl groups that may have substituents, benzoyl groups that may have substituents, and substituents. Phenoxycarbonyl group which may have, phenylalkyl group which may have substituent, naphthyl group which may have substituent, naphthoyl group which may have substituent, And a good naphthoxycarbonyl group, an optionally substituted naphthylalkyl group, an optionally substituted heterocyclyl group, an optionally substituted heterocyclylcarbonyl group, and the like. It is. Among these substituents, an alkyl group is preferable, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is more preferable, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is still more preferable, and an ethyl group is particularly preferable.

アリール基、ヘテロアリール基、フェニル基、又はカルバゾリル基が有してもよい置換基の具体例について、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、及び１又は２の有機基で置換されたアミノ基に関しては、Ｒ１について説明したのと同様である。 Specific examples of the substituent that the aryl group, heteroaryl group, phenyl group, or carbazolyl group may have include an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, and a saturated aliphatic acyloxy group. Substituted with a group, an alkoxycarbonyl group, an optionally substituted phenylalkyl group, an optionally substituted naphthylalkyl group, an optionally substituted heterocyclyl group, and 1 or 2 organic groups The amino group thus prepared is the same as that described for R 1 .

上記置換基において、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基等がさらに置換基を有する場合の置換基に関しては、Ｒ１について説明したのと同様である。 In the above substituent, the substituent in the case where the phenyl group, naphthyl group, heterocyclyl group and the like further have a substituent is the same as that described for R 1 .

Ｒ２の中では、感光性組成物が感度に優れる点から、下記式（１−１）又は（１−２）で表される基が好ましく、下記式（１−１）で表される基がより好ましく、下記式（１−１）で表される基であって、ＡがＳである基が特に好ましい。 Among R 2 , a group represented by the following formula (1-1) or (1-2) is preferable because the photosensitive composition is excellent in sensitivity, and a group represented by the following formula (1-1). Are more preferable, and a group represented by the following formula (1-1), in which A is S, is particularly preferable.

Figure 2018072398
（Ｒ４は、１価の有機基、アミノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、及びシアノ基からなる群より選択される基であり、ＡはＳ又はＯであり、ｎは、０〜４の整数である。）
Figure 2018072398
 (R 4 is a group selected from the group consisting of a monovalent organic group, amino group, halogen atom, nitro group, and cyano group, A is S or O, and n is an integer of 0-4. .)

Figure 2018072398
（Ｒ５及びＲ６は、それぞれ、１価の有機基である。）
Figure 2018072398
 (R 5 and R 6 are each a monovalent organic group.)

感光性組成物を用いてパターンを形成する場合、パターン形成時のポストベークの工程での加熱によって、パターンに着色が生じやすい。しかし、感光性組成物において、光重合開始剤として、Ｒ２が上記式（１−１）で表される基であって、ＡがＳである基である、式（１）で表されるオキシムエステル化合物を用いる場合、加熱によるパターンの着色を抑制しやすい。 When a pattern is formed using the photosensitive composition, the pattern is likely to be colored by heating in the post-baking step during pattern formation. However, in the photosensitive composition, as a photopolymerization initiator, R 2 is a group represented by the above formula (1-1), and A is a group in which S is represented by the formula (1). When using an oxime ester compound, it is easy to suppress coloring of the pattern by heating.

式（１−１）におけるＲ４が有機基である場合、本発明の目的を阻害しない範囲で、種々の有機基から選択できる。式（１−１）においてＲ４が有機基である場合の好適な例としては、炭素原子数１〜６のアルキル基；炭素原子数１〜６のアルコキシ基；炭素原子数２〜７の飽和脂肪族アシル基；炭素原子数２〜７のアルコキシカルボニル基；炭素原子数２〜７の飽和脂肪族アシルオキシ基；フェニル基；ナフチル基；ベンゾイル基；ナフトイル基；炭素原子数１〜６のアルキル基、モルホリン−１−イル基、ピペラジン−１−イル基、及びフェニル基からなる群より選択される基により置換されたベンゾイル基；炭素原子数１〜６のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基；炭素原子数１〜６のアルキル基を有するジアルキルアミノ基；モルホリン−１−イル基；ピペラジン−１−イル基；ハロゲン；ニトロ基；シアノ基が挙げられる。 When R 4 in Formula (1-1) is an organic group, it can be selected from various organic groups as long as the object of the present invention is not impaired. Preferable examples in the case where R 4 is an organic group in formula (1-1) include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms; and a saturation having 2 to 7 carbon atoms. Aliphatic acyl group; alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms; saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms; phenyl group; naphthyl group; benzoyl group; naphthoyl group; alkyl group having 1 to 6 carbon atoms , A benzoyl group substituted by a group selected from the group consisting of morpholin-1-yl group, piperazin-1-yl group, and phenyl group; a monoalkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; carbon A dialkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 atoms; a morpholin-1-yl group; a piperazin-1-yl group; a halogen; a nitro group; and a cyano group.

Ｒ４の中では、ベンゾイル基；ナフトイル基；炭素原子数１〜６のアルキル基、モルホリン−１−イル基、ピペラジン−１−イル基、及びフェニル基からなる群より選択される基により置換されたベンゾイル基；ニトロ基が好ましく、ベンゾイル基；ナフトイル基；２−メチルフェニルカルボニル基；４−（ピペラジン−１−イル）フェニルカルボニル基；４−（フェニル）フェニルカルボニル基がより好ましい。 In R 4 , substituted by a group selected from the group consisting of a benzoyl group; a naphthoyl group; an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, and a phenyl group Benzoyl group; nitro group is preferred, benzoyl group; naphthoyl group; 2-methylphenylcarbonyl group; 4- (piperazin-1-yl) phenylcarbonyl group; 4- (phenyl) phenylcarbonyl group is more preferred.

また、式（１−１）において、ｎは、０〜３の整数が好ましく、０〜２の整数がより好ましく、０又は１であるのが特に好ましい。ｎが１である場合、Ｒ４の結合する位置は、Ｒ４が結合するフェニル基が原子Ａと結合する結合手に対して、パラ位であるのが好ましい。 In formula (1-1), n is preferably an integer of 0 to 3, more preferably an integer of 0 to 2, and particularly preferably 0 or 1. when n is 1, the binding position of R 4 is, relative to the bond to the phenyl group R 4 is bonded is bonded to the atom A, it is preferably in the para position.

式（１−２）におけるＲ５は、本発明の目的を阻害しない範囲で、種々の有機基から選択できる。Ｒ５の好適な例としては、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜１０のシクロアルキル基、炭素原子数２〜２０の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数２〜２０のアルコキシアルキル基、炭素原子数２〜２０のアルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよい炭素原子数７〜２０のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよい炭素原子数１１〜２０のナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、及び置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基等が挙げられる。 R 5 in the formula (1-2) can be selected from various organic groups as long as the object of the present invention is not impaired. Preferred examples of R 5 include alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms, cycloalkyl groups having 3 to 10 carbon atoms, saturated aliphatic acyl groups having 2 to 20 carbon atoms, and 2 to 20 carbon atoms. Alkoxyalkyl group, C2-C20 alkoxycarbonyl group, optionally substituted phenyl group, optionally substituted benzoyl group, optionally substituted phenoxycarbonyl group, substituted A phenylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a group, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, and a naphthoxy which may have a substituent Examples thereof include a carbonyl group, an optionally substituted naphthylalkyl group having 11 to 20 carbon atoms, an optionally substituted heterocyclyl group, and an optionally substituted heterocyclylcarbonyl group.

Ｒ５の中では、炭素原子数１〜２０のアルキル基、及び炭素原子数２〜２０のアルコキシアルキル基が好ましく、炭素原子数１〜６、及び炭素原子数２〜６のアルコキシアルキル基のアルキル基がより好ましく、エチル基、及びエトキシエチル基が特に好ましい。 Among R 5 , an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and an alkoxyalkyl group having 2 to 20 carbon atoms are preferable, and an alkyl of an alkoxyalkyl group having 1 to 6 carbon atoms and 2 to 6 carbon atoms is preferable. A group is more preferable, and an ethyl group and an ethoxyethyl group are particularly preferable.

式（１−２）におけるＲ６は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されず、種々の有機基から選択できる。Ｒ６として好適な基の具体例としては、炭素原子数１〜２０のアルキル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいナフチル基、及び置換基を有してもよいヘテロシクリル基が挙げられる。Ｒ６として、これらの基の中では置換基を有してもよいフェニル基、又は置換基を有してもよいチエニル基がより好ましく、２−メチルフェニル基、又はチエニル基が特に好ましい。 R 6 in formula (1-2) is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired, and can be selected from various organic groups. Specific examples of the group suitable as R 6 include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, and a substituent. The heterocyclyl group which may be sufficient is mentioned. Among these groups, R 6 is preferably a phenyl group which may have a substituent, or a thienyl group which may have a substituent, and particularly preferably a 2-methylphenyl group or a thienyl group.

Ｒ４、Ｒ５、又はＲ６に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合の置換基としては、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜７の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数２〜７のアルコキシカルボニル基、炭素原子数２〜７の飽和脂肪族アシルオキシ基、炭素原子数１〜６のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基を有するジアルキルアミノ基、モルホリン−１−イル基、ピペラジン−１−イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。Ｒ４、Ｒ５、又はＲ６に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されないが、１〜４が好ましい。Ｒ４、Ｒ５、又はＲ６に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。 Examples of the substituent in the case where the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R 4 , R 5 , or R 6 further have a substituent include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and 1 to 1 carbon atom. 6 alkoxy groups, saturated aliphatic acyl groups having 2 to 7 carbon atoms, alkoxycarbonyl groups having 2 to 7 carbon atoms, saturated aliphatic acyloxy groups having 2 to 7 carbon atoms, alkyl having 1 to 6 carbon atoms And a monoalkylamino group having a group, a dialkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, a halogen, a nitro group, and a cyano group. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R 4 , R 5 , or R 6 further have a substituent, the number of the substituent is not limited as long as the object of the present invention is not impaired, 1-4 are preferable. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R 4 , R 5 , or R 6 have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.

式（１）中、Ｒ３は有機基である。有機基としては特に限定されないが、アルキル基、アリール基が好ましい。アルキル基としては炭素原子数１〜１１のアルキル基が好ましい。アリール基としては、置換基を有してもよいフェニル基である。置換基を有してもよいフェニル基における置換基は、Ｒ１について説明した置換基と同様である。
Ｒ３としては炭素原子数１〜６のアルキル基、及びフェニル基がより好ましく、メチル基、エチル基、及びフェニル基が特に好ましく、メチル基、及びエチル基が最も好ましい。 In formula (1), R 3 is an organic group. Although it does not specifically limit as an organic group, An alkyl group and an aryl group are preferable. As the alkyl group, an alkyl group having 1 to 11 carbon atoms is preferable. The aryl group is a phenyl group which may have a substituent. The substituent in the phenyl group which may have a substituent is the same as the substituent described for R 1 .
R 3 is more preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and a phenyl group, particularly preferably a methyl group, an ethyl group and a phenyl group, and most preferably a methyl group and an ethyl group.

以上説明した、式（１）で表されるオキシムエステル化合物の好適な具体例としては、以下の化合物が挙げられる。

Figure 2018072398
Preferable specific examples of the oxime ester compound represented by the formula (1) described above include the following compounds.
Figure 2018072398

式（１）で表される化合物としては、下記式（ｃ１）で表されるオキシムエステル化合物を用いることも好ましい。

Figure 2018072398
（Ｒｃ１は、１価の有機基、アミノ基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基からなる群より選択される基であり、
ｎ１は０〜４の整数であり、
ｎ２は０、又は１であり、
Ｒｃ２は、置換基を有してもよいフェニル基、又は置換基を有してもよいカルバゾリル基であり、
Ｒｃ３は、炭素原子数１〜６のアルキル基である。） As the compound represented by the formula (1), it is also preferable to use an oxime ester compound represented by the following formula (c1).
Figure 2018072398
 (R c1 is a group selected from the group consisting of a monovalent organic group, an amino group, a halogen, a nitro group, and a cyano group;
n1 is an integer of 0 to 4,
n2 is 0 or 1,
R c2 is a phenyl group which may have a substituent, or a carbazolyl group which may have a substituent,
R c3 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. )

式（ｃ１）中、Ｒｃ１は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されず、種々の有機基から適宜選択される。Ｒｃ１が有機基である場合の好適な例としては、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、アミノ基、１、又は２の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン−１−イル基、及びピペラジン−１−イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。ｎ１が２〜４の整数である場合、Ｒｃ１は同一であっても異なっていてもよい。また、置換基の炭素原子数には、置換基がさらに有する置換基の炭素原子数を含まない。 In formula (c1), R c1 is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired, and is appropriately selected from various organic groups. Preferred examples when R c1 is an organic group include an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, a saturated aliphatic acyloxy group, an alkoxycarbonyl group, and a substituent. An optionally substituted phenyl group, an optionally substituted phenoxy group, an optionally substituted benzoyl group, an optionally substituted phenoxycarbonyl group, an optionally substituted benzoyloxy A group, a phenylalkyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthoxy group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, a substituent A naphthoxycarbonyl group which may have a naphthyloxy group which may have a substituent, a naphthylalkyl group which may have a substituent, a heterocyclyl group which may have a substituent, Examples include an amino group substituted with an mino group, 1 or 2 organic groups, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, a halogen, a nitro group, and a cyano group. When n1 is an integer of 2 to 4, R c1 may be the same or different. Further, the number of carbon atoms of the substituent does not include the number of carbon atoms of the substituent that the substituent further has.

Ｒｃ１がアルキル基である場合、炭素原子数１〜２０が好ましく、炭素原子数１〜６がより好ましい。また、Ｒｃ１がアルキル基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。Ｒｃ１がアルキル基である場合の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ−ペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、ｎ−ノニル基、イソノニル基、ｎ−デシル基、及びイソデシル基等が挙げられる。また、Ｒｃ１がアルキル基である場合、アルキル基は炭素鎖中にエーテル結合（−Ｏ−）を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルキル基の例としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロピルオキシエトキシエチル基、及びメトキシプロピル基等が挙げられる。 When R c1 is an alkyl group, 1 to 20 carbon atoms are preferable, and 1 to 6 carbon atoms are more preferable. Further, when R c1 is an alkyl group, it may be linear or branched. Specific examples when R c1 is an alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, and an n-pentyl group. , Isopentyl group, sec-pentyl group, tert-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, isononyl group, An n-decyl group, an isodecyl group, etc. are mentioned. When R c1 is an alkyl group, the alkyl group may include an ether bond (—O—) in the carbon chain. Examples of the alkyl group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group, a methoxyethoxyethyl group, an ethoxyethoxyethyl group, a propyloxyethoxyethyl group, and a methoxypropyl group.

Ｒｃ１がアルコキシ基である場合、炭素原子数１〜２０が好ましく、炭素原子数１〜６がより好ましい。また、Ｒｃ１がアルコキシ基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。Ｒｃ１がアルコキシ基である場合の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ｎ−ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、ｓｅｃ−ブチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルオキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ｓｅｃ−ペンチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、ｓｅｃ−オクチルオキシ基、ｔｅｒｔ−オクチルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基、イソノニルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基、及びイソデシルオキシ基等が挙げられる。また、Ｒｃ１がアルコキシ基である場合、アルコキシ基は炭素鎖中にエーテル結合（−Ｏ−）を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルコキシ基の例としては、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、プロピルオキシエトキシエトキシ基、及びメトキシプロピルオキシ基等が挙げられる。 When R c1 is an alkoxy group, 1 to 20 carbon atoms are preferable, and 1 to 6 carbon atoms are more preferable. Further, when R c1 is an alkoxy group, it may be linear or branched. Specific examples when R c1 is an alkoxy group include methoxy group, ethoxy group, n-propyloxy group, isopropyloxy group, n-butyloxy group, isobutyloxy group, sec-butyloxy group, tert-butyloxy group, n -Pentyloxy group, isopentyloxy group, sec-pentyloxy group, tert-pentyloxy group, n-hexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, isooctyloxy group, sec-octyloxy group Tert-octyloxy group, n-nonyloxy group, isononyloxy group, n-decyloxy group, and isodecyloxy group. When R c1 is an alkoxy group, the alkoxy group may include an ether bond (—O—) in the carbon chain. Examples of the alkoxy group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethoxy group, an ethoxyethoxy group, a methoxyethoxyethoxy group, an ethoxyethoxyethoxy group, a propyloxyethoxyethoxy group, and a methoxypropyloxy group.

Ｒｃ１がシクロアルキル基、又はシクロアルコキシ基である場合、炭素原子数３〜１０が好ましく、炭素原子数３〜６がより好ましい。Ｒｃ１がシクロアルキル基である場合の具体例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、及びシクロオクチル基等が挙げられる。Ｒｃ１がシクロアルコキシ基である場合の具体例としては、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロヘプチルオキシ基、及びシクロオクチルオキシ基等が挙げられる。 When R c1 is a cycloalkyl group or a cycloalkoxy group, 3 to 10 carbon atoms are preferable, and 3 to 6 carbon atoms are more preferable. Specific examples in the case where R c1 is a cycloalkyl group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group. Specific examples in the case where R c1 is a cycloalkoxy group include a cyclopropyloxy group, a cyclobutyloxy group, a cyclopentyloxy group, a cyclohexyloxy group, a cycloheptyloxy group, and a cyclooctyloxy group.

Ｒｃ１が飽和脂肪族アシル基、又は飽和脂肪族アシルオキシ基である場合、炭素原子数２〜２０が好ましく、炭素原子数２〜７がより好ましい。Ｒｃ１が飽和脂肪族アシル基である場合の具体例としては、アセチル基、プロパノイル基、ｎ−ブタノイル基、２−メチルプロパノイル基、ｎ−ペンタノイル基、２，２−ジメチルプロパノイル基、ｎ−ヘキサノイル基、ｎ−ヘプタノイル基、ｎ−オクタノイル基、ｎ−ノナノイル基、ｎ−デカノイル基、ｎ−ウンデカノイル基、ｎ−ドデカノイル基、ｎ−トリデカノイル基、ｎ−テトラデカノイル基、ｎ−ペンタデカノイル基、及びｎ−ヘキサデカノイル基等が挙げられる。Ｒｃ１が飽和脂肪族アシルオキシ基である場合の具体例としては、アセチルオキシ基、プロパノイルオキシ基、ｎ−ブタノイルオキシ基、２−メチルプロパノイルオキシ基、ｎ−ペンタノイルオキシ基、２，２−ジメチルプロパノイルオキシ基、ｎ−ヘキサノイルオキシ基、ｎ−ヘプタノイルオキシ基、ｎ−オクタノイルオキシ基、ｎ−ノナノイルオキシ基、ｎ−デカノイルオキシ基、ｎ−ウンデカノイルオキシ基、ｎ−ドデカノイルオキシ基、ｎ−トリデカノイルオキシ基、ｎ−テトラデカノイルオキシ基、ｎ−ペンタデカノイルオキシ基、及びｎ−ヘキサデカノイルオキシ基等が挙げられる。 When R c1 is a saturated aliphatic acyl group or a saturated aliphatic acyloxy group, 2 to 20 carbon atoms are preferable, and 2 to 7 carbon atoms are more preferable. Specific examples when R c1 is a saturated aliphatic acyl group include acetyl group, propanoyl group, n-butanoyl group, 2-methylpropanoyl group, n-pentanoyl group, 2,2-dimethylpropanoyl group, n -Hexanoyl group, n-heptanoyl group, n-octanoyl group, n-nonanoyl group, n-decanoyl group, n-undecanoyl group, n-dodecanoyl group, n-tridecanoyl group, n-tetradecanoyl group, n-pentadecanyl group Examples include a noyl group and an n-hexadecanoyl group. Specific examples when R c1 is a saturated aliphatic acyloxy group include acetyloxy group, propanoyloxy group, n-butanoyloxy group, 2-methylpropanoyloxy group, n-pentanoyloxy group, 2, 2-dimethylpropanoyloxy group, n-hexanoyloxy group, n-heptanoyloxy group, n-octanoyloxy group, n-nonanoyloxy group, n-decanoyloxy group, n-undecanoyloxy group, n -Dodecanoyloxy group, n-tridecanoyloxy group, n-tetradecanoyloxy group, n-pentadecanoyloxy group, n-hexadecanoyloxy group and the like.

Ｒｃ１がアルコキシカルボニル基である場合、炭素原子数２〜２０が好ましく、炭素原子数２〜７がより好ましい。Ｒｃ１がアルコキシカルボニル基である場合の具体例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロピルオキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基、ｎ−ブチルオキシカルボニル基、イソブチルオキシカルボニル基、ｓｅｃ−ブチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル基、ｎ−ペンチルオキシカルボニル基、イソペンチルオキシカルボニル基、ｓｅｃ−ペンチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ペンチルオキシカルボニル基、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル基、ｎ−ヘプチルオキシカルボニル基、ｎ−オクチルオキシカルボニル基、イソオクチルオキシカルボニル基、ｓｅｃ−オクチルオキシルカルボニル基、ｔｅｒｔ−オクチルオキシカルボニル基、ｎ−ノニルオキシカルボニル基、イソノニルオキシカルボニル基、ｎ−デシルオキシカルボニル基、及びイソデシルオキシカルボニル基等が挙げられる。 When R c1 is an alkoxycarbonyl group, 2 to 20 carbon atoms are preferable, and 2 to 7 carbon atoms are more preferable. Specific examples when R c1 is an alkoxycarbonyl group include methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, n-propyloxycarbonyl group, isopropyloxycarbonyl group, n-butyloxycarbonyl group, isobutyloxycarbonyl group, sec-butyl. Oxycarbonyl group, tert-butyloxycarbonyl group, n-pentyloxycarbonyl group, isopentyloxycarbonyl group, sec-pentyloxycarbonyl group, tert-pentyloxycarbonyl group, n-hexyloxycarbonyl group, n-heptyloxycarbonyl Group, n-octyloxycarbonyl group, isooctyloxycarbonyl group, sec-octyloxylcarbonyl group, tert-octyloxycarbonyl group, n-nonyloxycarbonyl group , Isononyloxycarbonyl group, n-decyloxycarbonyl group, isodecyloxycarbonyl group and the like.

Ｒｃ１がフェニルアルキル基である場合、炭素原子数７〜２０が好ましく、炭素原子数７〜１０がより好ましい。またＲｃ１がナフチルアルキル基である場合、炭素原子数１１〜２０が好ましく、炭素原子数１１〜１４がより好ましい。Ｒｃ１がフェニルアルキル基である場合の具体例としては、ベンジル基、２−フェニルエチル基、３−フェニルプロピル基、及び４−フェニルブチル基が挙げられる。Ｒｃ１がナフチルアルキル基である場合の具体例としては、α−ナフチルメチル基、β−ナフチルメチル基、２−（α−ナフチル）エチル基、及び２−（β−ナフチル）エチル基が挙げられる。Ｒｃ１が、フェニルアルキル基、又はナフチルアルキル基である場合、Ｒｃ１は、フェニル基、又はナフチル基上にさらに置換基を有していてもよい。 When R c1 is a phenylalkyl group, 7 to 20 carbon atoms are preferable, and 7 to 10 carbon atoms are more preferable. Further, when R c1 is a naphthylalkyl group, the number of carbon atoms is preferably 11 to 20, and more preferably 11 to 14 carbon atoms. Specific examples when R c1 is a phenylalkyl group include a benzyl group, a 2-phenylethyl group, a 3-phenylpropyl group, and a 4-phenylbutyl group. Specific examples of when R c1 is a naphthylalkyl group include an α-naphthylmethyl group, a β-naphthylmethyl group, a 2- (α-naphthyl) ethyl group, and a 2- (β-naphthyl) ethyl group. . When R c1 is a phenylalkyl group or a naphthylalkyl group, R c1 may further have a substituent on the phenyl group or naphthyl group.

Ｒｃ１がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基は、１以上のＮ、Ｓ、Ｏを含む５員又は６員の単環であるか、かかる単環同士、又はかかる単環とベンゼン環とが縮合したヘテロシクリル基である。ヘテロシクリル基が縮合環である場合は、環数３までのものとする。かかるヘテロシクリル基を構成する複素環としては、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、チアジアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、カルバゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、フタラジン、シンノリン、及びキノキサリン等が挙げられる。Ｒｃ１がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基はさらに置換基を有していてもよい。 When R c1 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group is a 5-membered or 6-membered monocycle containing 1 or more of N, S, and O, or such monocycles or such monocycles and a benzene ring are condensed. Heterocyclyl group. When the heterocyclyl group is a condensed ring, the ring number is up to 3. Examples of the heterocyclic ring constituting the heterocyclyl group include furan, thiophene, pyrrole, oxazole, isoxazole, thiazole, thiadiazole, isothiazole, imidazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, benzofuran, benzothiophene, indole, Examples include isoindole, indolizine, benzimidazole, benzotriazole, benzoxazole, benzothiazole, carbazole, purine, quinoline, isoquinoline, quinazoline, phthalazine, cinnoline, and quinoxaline. When R c1 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group may further have a substituent.

Ｒｃ１が１、又は２の有機基で置換されたアミノ基である場合、有機基の好適な例は、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜１０のシクロアルキル基、炭素原子数２〜２０の飽和脂肪族アシル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよい炭素原子数７〜２０のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよい炭素原子数１１〜２０のナフチルアルキル基、及びヘテロシクリル基等が挙げられる。これらの好適な有機基の具体例は、Ｒｃ１と同様である。１、又は２の有機基で置換されたアミノ基の具体例としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ｎ−プロピルアミノ基、ジ−ｎ−プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ｎ−ブチルアミノ基、ジ−ｎ−ブチルアミノ基、ｎ−ペンチルアミノ基、ｎ−ヘキシルアミノ基、ｎ−ヘプチルアミノ基、ｎ−オクチルアミノ基、ｎ−ノニルアミノ基、ｎ−デシルアミノ基、フェニルアミノ基、ナフチルアミノ基、アセチルアミノ基、プロパノイルアミノ基、ｎ−ブタノイルアミノ基、ｎ−ペンタノイルアミノ基、ｎ−ヘキサノイルアミノ基、ｎ−ヘプタノイルアミノ基、ｎ−オクタノイルアミノ基、ｎ−デカノイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、α−ナフトイルアミノ基、及びβ−ナフトイルアミノ基等が挙げられる。 When R c1 is an amino group substituted with an organic group of 1 or 2, suitable examples of the organic group include alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms, cycloalkyl groups having 3 to 10 carbon atoms, carbon A saturated aliphatic acyl group having 2 to 20 atoms, a phenyl group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenyl having 7 to 20 carbon atoms which may have a substituent Examples thereof include an alkyl group, an optionally substituted naphthyl group, an optionally substituted naphthoyl group, an optionally substituted naphthylalkyl group having 11 to 20 carbon atoms, and a heterocyclyl group. It is done. Specific examples of these suitable organic groups are the same as those for R c1 . Specific examples of the amino group substituted with 1 or 2 organic groups include methylamino group, ethylamino group, diethylamino group, n-propylamino group, di-n-propylamino group, isopropylamino group, n- Butylamino group, di-n-butylamino group, n-pentylamino group, n-hexylamino group, n-heptylamino group, n-octylamino group, n-nonylamino group, n-decylamino group, phenylamino group, Naphthylamino group, acetylamino group, propanoylamino group, n-butanoylamino group, n-pentanoylamino group, n-hexanoylamino group, n-heptanoylamino group, n-octanoylamino group, n- Examples include a decanoylamino group, a benzoylamino group, an α-naphthoylamino group, and a β-naphthoylamino group.

Ｒｃ１に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合の置換基としては、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜７の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数２〜７のアルコキシカルボニル基、炭素原子数２〜７の飽和脂肪族アシルオキシ基、炭素原子数１〜６のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基を有するジアルキルアミノ基、モルホリン−１−イル基、ピペラジン−１−イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。Ｒｃ１に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されないが、１〜４が好ましい。Ｒｃ１に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。 In the case where the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R c1 further have a substituent, the substituent is as follows: an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a carbon atom A monoalkylamino group having a saturated aliphatic acyl group having 2 to 7 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms, a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms And a dialkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, a halogen, a nitro group, and a cyano group. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group included in R c1 further have a substituent, the number of the substituent is not limited as long as the object of the present invention is not impaired, but 1 to 4 is preferable. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group included in R c1 have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.

Ｒｃ１の中では、化学的に安定であることや、立体的な障害が少なく、オキシムエステル化合物の合成が容易であること等から、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、及び炭素原子数２〜７の飽和脂肪族アシル基からなる群より選択される基が好ましく、炭素原子数１〜６のアルキルがより好ましく、メチル基が特に好ましい。 Among R c1 , since it is chemically stable, has few steric hindrances, and is easy to synthesize an oxime ester compound, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, 1 to 1 carbon atoms, and the like. A group selected from the group consisting of 6 alkoxy groups and saturated aliphatic acyl groups having 2 to 7 carbon atoms is preferred, alkyls having 1 to 6 carbon atoms are more preferred, and methyl groups are particularly preferred.

Ｒｃ１がフェニル基に結合する位置は、Ｒｃ１が結合するフェニル基について、フェニル基とオキシムエステル化合物の主骨格との結合手の位置を１位とし、メチル基の位置を２位とする場合に、４位、又は５位が好ましく、５位がよりに好ましい。また、ｎ１は、０〜３の整数が好ましく、０〜２の整数がより好ましく、０、又は１が特に好ましい。 Position R c1 is bonded to the phenyl group, the phenyl group R c1 are attached the position of the bond to the main chain of the phenyl group and the oxime ester compound as a 1-position, if the 2-position of the position of the methyl group 4th or 5th is preferable, and 5th is more preferable. N1 is preferably an integer of 0 to 3, more preferably an integer of 0 to 2, and particularly preferably 0 or 1.

Ｒｃ２は、置換基を有してもよいフェニル基、又は置換基を有してもよいカルバゾリル基である。また、Ｒｃ２が置換基を有してもよいカルバゾリル基である場合、カルバゾリル基上の窒素原子は、炭素原子数１〜６のアルキル基で置換されていてもよい。 R c2 is a phenyl group which may have a substituent, or a carbazolyl group which may have a substituent. When R c2 is a carbazolyl group that may have a substituent, the nitrogen atom on the carbazolyl group may be substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.

Ｒｃ２において、フェニル基、又はカルバゾリル基が有する置換基は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。フェニル基、又はカルバゾリル基が、炭素原子上に有してもよい好適な置換基の例としては、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、炭素原子数３〜１０のシクロアルキル基、炭素原子数３〜１０のシクロアルコキシ基、炭素原子数２〜２０の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数２〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素原子数２〜２０の飽和脂肪族アシルオキシ基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいフェニルチオ基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよい炭素原子数７〜２０のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよい炭素原子数１１〜２０のナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基、アミノ基、１、又は２の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン−１−イル基、及びピペラジン−１−イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。 In R c2 , the substituent that the phenyl group or carbazolyl group has is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired. Examples of suitable substituents that the phenyl group or carbazolyl group may have on the carbon atom include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, and 3 carbon atoms. -10 cycloalkyl group, C3-C10 cycloalkoxy group, C2-C20 saturated aliphatic acyl group, C2-C20 alkoxycarbonyl group, C2-C20 saturated Aliphatic acyloxy group, optionally substituted phenyl group, optionally substituted phenoxy group, optionally substituted phenylthio group, optionally substituted benzoyl group, substituted A phenoxycarbonyl group which may have a group, a benzoyloxy group which may have a substituent, a phenylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a substituent, and a substituent. Naphthyl A naphthoxy group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, a naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, a naphthoyloxy group which may have a substituent, a substituent A naphthylalkyl group having 11 to 20 carbon atoms which may have a group, a heterocyclyl group which may have a substituent, a heterocyclylcarbonyl group which may have a substituent, an amino group, 1 or 2 organic groups Examples include an amino group substituted with a group, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, a halogen, a nitro group, and a cyano group.

Ｒｃ２がカルバゾリル基である場合、カルバゾリル基が窒素原子上に有してもよい好適な置換基の例としては、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜１０のシクロアルキル基、炭素原子数２〜２０の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数２〜２０のアルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよい炭素原子数７〜２０のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよい炭素原子数１１〜２０のナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、及び置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基等が挙げられる。これらの置換基の中では、炭素原子数１〜２０のアルキル基が好ましく、炭素原子数１〜６のアルキル基がより好ましく、エチル基が特に好ましい。 When R c2 is a carbazolyl group, examples of suitable substituents that the carbazolyl group may have on the nitrogen atom include alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms and cycloalkyl groups having 3 to 10 carbon atoms. A saturated aliphatic acyl group having 2 to 20 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, and a substituent. A phenoxycarbonyl group which may have, a phenylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, A naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, a naphthylalkyl group having 11 to 20 carbon atoms which may have a substituent, a heterocyclyl group which may have a substituent, and a substituent; Heterogeneity And a krylcarbonyl group. Among these substituents, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferable, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is more preferable, and an ethyl group is particularly preferable.

フェニル基、又はカルバゾリル基が有してもよい置換基の具体例について、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、アルコキシカルボニル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、及び１、又は２の有機基で置換されたアミノ基に関しては、Ｒｃ１と同様である。 Specific examples of the substituent that the phenyl group or carbazolyl group may have include an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, an alkoxycarbonyl group, a saturated aliphatic acyloxy group, and a substituent. With respect to an optionally substituted phenylalkyl group, an optionally substituted naphthylalkyl group, an optionally substituted heterocyclyl group, and an amino group substituted with one or two organic groups , R c1 .

Ｒｃ２において、フェニル基、又はカルバゾリル基が有する置換基に含まれるフェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合の置換基の例としては、炭素原子数１〜６のアルキル基；炭素原子数１〜６のアルコキシ基；炭素原子数２〜７の飽和脂肪族アシル基；炭素原子数２〜７のアルコキシカルボニル基；炭素原子数２〜７の飽和脂肪族アシルオキシ基；フェニル基；ナフチル基；ベンゾイル基；ナフトイル基；炭素原子数１〜６のアルキル基、モルホリン−１−イル基、ピペラジン−１−イル基、及びフェニル基からなる群より選択される基により置換されたベンゾイル基；炭素原子数１〜６のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基；炭素原子数１〜６のアルキル基を有するジアルキルアミノ基；モルホリン−１−イル基；ピペラジン−１−イル基；ハロゲン；ニトロ基；シアノ基が挙げられる。フェニル基、又はカルバゾリル基が有する置換基に含まれるフェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されないが、１〜４が好ましい。フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。 Examples of the substituent in the case where the phenyl group, the naphthyl group, and the heterocyclyl group included in the substituent that the phenyl group or the carbazolyl group has in R c2 further have a substituent include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms An alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms; a saturated aliphatic acyl group having 2 to 7 carbon atoms; an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms; a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms; a phenyl group; Benzoyl group; benzoyl group; benzoyl substituted by a group selected from the group consisting of alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms, morpholin-1-yl group, piperazin-1-yl group, and phenyl group; A monoalkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; a dialkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; Examples include a holin-1-yl group; a piperazin-1-yl group; a halogen; a nitro group; and a cyano group. When the phenyl group, the naphthyl group, and the heterocyclyl group included in the substituent of the phenyl group or carbazolyl group further have a substituent, the number of the substituent is not limited as long as the object of the present invention is not impaired. 1-4 are preferable. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.

Ｒｃ２の中では、感度に優れる光重合開始剤を得やすい点から、下記式（ｃ２）、又は（ｃ３）で表される基が好ましく、下記式（ｃ２）で表される基がより好ましく、下記式（ｃ２）で表される基であって、ＡがＳである基が特に好ましい。 Among R c2 , a group represented by the following formula (c2) or (c3) is preferable, and a group represented by the following formula (c2) is more preferable from the viewpoint of easily obtaining a photopolymerization initiator having excellent sensitivity. A group represented by the following formula (c2) in which A is S is particularly preferable.

Figure 2018072398
（Ｒｃ４は、１価の有機基、アミノ基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基からなる群より選択される基であり、ＡはＳ又はＯであり、ｎ３は、０〜４の整数である。）
Figure 2018072398
 (R c4 is a group selected from the group consisting of a monovalent organic group, amino group, halogen, nitro group, and cyano group, A is S or O, and n3 is an integer of 0 to 4. is there.)

Figure 2018072398
（Ｒｃ５及びＲｃ６は、それぞれ、１価の有機基である。）
Figure 2018072398
 (R c5 and R c6 are each a monovalent organic group.)

式（ｃ２）におけるＲｃ４が有機基である場合、本発明の目的を阻害しない範囲で、種々の有機基から選択できる。式（ｃ２）においてＲｃ４が有機基である場合の好適な例としては、炭素原子数１〜６のアルキル基；炭素原子数１〜６のアルコキシ基；炭素原子数２〜７の飽和脂肪族アシル基；炭素原子数２〜７のアルコキシカルボニル基；炭素原子数２〜７の飽和脂肪族アシルオキシ基；フェニル基；ナフチル基；ベンゾイル基；ナフトイル基；炭素原子数１〜６のアルキル基、モルホリン−１−イル基、ピペラジン−１−イル基、及びフェニル基からなる群より選択される基により置換されたベンゾイル基；炭素原子数１〜６のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基；炭素原子数１〜６のアルキル基を有するジアルキルアミノ基；モルホリン−１−イル基；ピペラジン−１−イル基；ハロゲン；ニトロ基；シアノ基が挙げられる。 When R c4 in formula (c2) is an organic group, it can be selected from various organic groups as long as the object of the present invention is not impaired. In the formula (c2), when R c4 is an organic group, preferred examples include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms; and a saturated aliphatic group having 2 to 7 carbon atoms. Acyl group; alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms; saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms; phenyl group; naphthyl group; benzoyl group; naphthoyl group; alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; A benzoyl group substituted by a group selected from the group consisting of a -1-yl group, a piperazin-1-yl group, and a phenyl group; a monoalkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; A dialkylamino group having 1 to 6 alkyl groups; a morpholin-1-yl group; a piperazin-1-yl group; a halogen; a nitro group; and a cyano group.

Ｒｃ４の中では、ベンゾイル基；ナフトイル基；炭素原子数１〜６のアルキル基、モルホリン−１−イル基、ピペラジン−１−イル基、及びフェニル基からなる群より選択される基により置換されたベンゾイル基；ニトロ基が好ましく、ベンゾイル基；ナフトイル基；２−メチルフェニルカルボニル基；４−（ピペラジン−１−イル）フェニルカルボニル基；４−（フェニル）フェニルカルボニル基がより好ましい。 In Rc4 , substituted with a group selected from the group consisting of a benzoyl group; a naphthoyl group; an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, and a phenyl group Benzoyl group; nitro group is preferred, benzoyl group; naphthoyl group; 2-methylphenylcarbonyl group; 4- (piperazin-1-yl) phenylcarbonyl group; 4- (phenyl) phenylcarbonyl group is more preferred.

また、式（ｃ２）において、ｎ３は、０〜３の整数が好ましく、０〜２の整数がより好ましく、０、又は１であるのが特に好ましい。ｎ３が１である場合、Ｒｃ４の結合する位置は、Ｒｃ４が結合するフェニル基が酸素原子又は硫黄原子と結合する結合手に対して、パラ位であるのが好ましい。 In formula (c2), n3 is preferably an integer of 0 to 3, more preferably an integer of 0 to 2, and particularly preferably 0 or 1. If n3 is 1, binding position of R c4, to the bond to the phenyl group R c4 is bonded is bonded to an oxygen atom or a sulfur atom, it is preferably in the para position.

式（ｃ３）におけるＲｃ５は、本発明の目的を阻害しない範囲で、種々の有機基から選択できる。Ｒｃ５の好適な例としては、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜１０のシクロアルキル基、炭素原子数２〜２０の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数２〜２０のアルコキシアルキル基、炭素原子数２〜２０のアルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよい炭素原子数７〜２０のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよい炭素原子数１１〜２０のナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、及び置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基等が挙げられる。 R c5 in formula (c3) can be selected from various organic groups as long as the object of the present invention is not impaired . Preferable examples of R c5 include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a saturated aliphatic acyl group having 2 to 20 carbon atoms, and 2 to 20 carbon atoms. Alkoxyalkyl group, C2-C20 alkoxycarbonyl group, optionally substituted phenyl group, optionally substituted benzoyl group, optionally substituted phenoxycarbonyl group, substituted A phenylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a group, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, and a naphthoxy which may have a substituent Examples thereof include a carbonyl group, an optionally substituted naphthylalkyl group having 11 to 20 carbon atoms, an optionally substituted heterocyclyl group, and an optionally substituted heterocyclylcarbonyl group. .

Ｒｃ５の中では、炭素原子数１〜２０のアルキル基又は炭素原子数２〜２０のアルコキシアルキル基が好ましく、炭素原子数１〜６のアルキル基、又は炭素原子数２〜６のアルコキシアルキル基がより好ましく、エチル基、又はエトキシエチル基が特に好ましい。 Among R c5 , an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or an alkoxyalkyl group having 2 to 20 carbon atoms is preferable, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkoxyalkyl group having 2 to 6 carbon atoms. Are more preferable, and an ethyl group or an ethoxyethyl group is particularly preferable.

式（ｃ３）におけるＲｃ６は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されず、種々の有機基から選択できる。Ｒｃ６として好適な基の具体例としては、炭素原子数１〜２０のアルキル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいナフチル基、及び置換基を有してもよいヘテロシクリル基が挙げられる。Ｒｃ６として、これらの基の中では置換基を有してもよいフェニル基、又は置換基を有してもよいチエニル基がより好ましく、２−メチルフェニル基、又はチエニル基が特に好ましい。 R c6 in formula (c3) is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired, and can be selected from various organic groups. Specific examples of the group suitable as R c6 include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, and a substituent. The heterocyclyl group which may be sufficient is mentioned. Among these groups, R c6 is preferably a phenyl group which may have a substituent or a thienyl group which may have a substituent, and particularly preferably a 2-methylphenyl group or a thienyl group.

Ｒｃ４、Ｒｃ５、又はＲｃ６に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合の置換基としては、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜７の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数２〜７のアルコキシカルボニル基、炭素原子数２〜７の飽和脂肪族アシルオキシ基、炭素原子数１〜６のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基を有するジアルキルアミノ基、モルホリン−１−イル基、ピペラジン−１−イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。Ｒｃ４、Ｒｃ５、又はＲｃ６に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されないが、１〜４が好ましい。Ｒｃ４、Ｒｃ５、又はＲｃ６に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。 Examples of the substituent when the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R c4 , R c5 , or R c6 further have a substituent include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and 1 to 1 carbon atom. 6 alkoxy groups, saturated aliphatic acyl groups having 2 to 7 carbon atoms, alkoxycarbonyl groups having 2 to 7 carbon atoms, saturated aliphatic acyloxy groups having 2 to 7 carbon atoms, alkyl having 1 to 6 carbon atoms And a monoalkylamino group having a group, a dialkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, a halogen, a nitro group, and a cyano group. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R c4 , R c5 , or R c6 further have a substituent, the number of the substituent is not limited as long as the object of the present invention is not impaired, 1-4 are preferable. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R c4 , R c5 , or R c6 have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.

式（ｃ１）におけるＲｃ３は、炭素原子数１〜６のアルキル基である。Ｒｃ３としては、メチル基、又はエチル基が好ましく、メチル基がより好ましい。 R c3 in formula (c1) is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. R c3 is preferably a methyl group or an ethyl group, and more preferably a methyl group.

式（ｃ１）で表されるオキシムエステル化合物は、ｐが０である場合、例えば、下記スキーム１に従って合成することができる。具体的には、下記式（ｃ１−１）で表される芳香族化合物を、下記式（ｃ１−２）で表されるハロカルボニル化合物を用いて、フリーデルクラフツ反応によりアシル化して、下記式（ｃ１−３）で表されるケトン化合物を得、得られたケトン化合物（ｃ１−３）を、ヒドロキシルアミンによりオキシム化して下記式（ｃ１−４）で表されるオキシム化合物を得、次いで式（ｃ１−４）のオキシム化合物中のヒドロキシ基をアシル化して、下記式（ｃ１−７）で表されるオキシムエステル化合物を得ることができる。アシル化剤としては、下記式（ｃ１−５）で表される酸無水物（（Ｒｃ３ＣＯ）２Ｏ）、又は下記式（ｃ１−６）で表される酸ハライド（Ｒｃ３ＣＯＨａｌ、Ｈａｌはハロゲン。）を用いるのが好ましい。なお、下記式（ｃ１−２）において、Ｈａｌはハロゲンであり、下記式（ｃ１−１）、（ｃ１−２）、（ｃ１−３）、（ｃ１−４）、及び（ｃ１−７）において、Ｒｃ１、Ｒｃ２、Ｒｃ３、及びｎ１は、式（ｃ１）と同様である。 When p is 0, the oxime ester compound represented by the formula (c1) can be synthesized according to the following scheme 1, for example. Specifically, an aromatic compound represented by the following formula (c1-1) is acylated by a Friedel-Crafts reaction using a halocarbonyl compound represented by the following formula (c1-2), and the following formula: A ketone compound represented by (c1-3) is obtained, and the resulting ketone compound (c1-3) is oximed with hydroxylamine to obtain an oxime compound represented by the following formula (c1-4), and then the formula The hydroxy group in the oxime compound of (c1-4) can be acylated to obtain an oxime ester compound represented by the following formula (c1-7). As an acylating agent, an acid anhydride (R c3 COHal, Hal represented by the following formula (c 1-6) or an acid anhydride ((R c3 CO) 2 O) represented by the following formula (c 1-5) Is preferably halogen.). In the following formula (c1-2), Hal is halogen, and in the following formulas (c1-1), (c1-2), (c1-3), (c1-4), and (c1-7) , R c1 , R c2 , R c3 , and n1 are the same as those in the formula (c1).

＜スキーム１＞

Figure 2018072398
<Scheme 1>
Figure 2018072398

式（ｃ１）で表されるオキシムエステル化合物は、ｎ２が１である場合、例えば、下記スキーム２に従って合成することができる。具体的には、下記式（ｃ２−１）で表されるケトン化合物に、塩酸の存在下に下記式（ｃ２−２）で表される亜硝酸エステル（ＲＯＮＯ、Ｒは炭素原子数１〜６のアルキル基。）を反応させて、下記式（ｃ２−３）で表されるケトオキシム化合物を得、次いで、下記式（ｃ２−３）で表されるケトオキシム化合物中のヒドロキシ基をアシル化して、下記式（ｃ２−６）で表されるオキシムエステル化合物を得ることができる。アシル化剤としては、下記式（ｃ２−４）で表される酸無水物（（Ｒｃ３ＣＯ）２Ｏ）、又は下記式（ｃ２−５）で表される酸ハライド（Ｒｃ３ＣＯＨａｌ、Ｈａｌはハロゲン。）を用いるのが好ましい。なお、下記式（ｃ２−１）、（ｃ２−３）、（ｃ２−４）、（ｃ２−５）、及び（ｃ２−６）において、Ｒｃ１、Ｒｃ２、Ｒｃ３、及びｎ１は、式（ｃ１）と同様である。 When n2 is 1, the oxime ester compound represented by the formula (c1) can be synthesized according to the following scheme 2, for example. Specifically, a ketone compound represented by the following formula (c2-1) is added to a nitrite ester (RONO, R is represented by 1 to 6 carbon atoms) represented by the following formula (c2-2) in the presence of hydrochloric acid. To obtain a ketoxime compound represented by the following formula (c2-3), and then acylate the hydroxy group in the ketoxime compound represented by the following formula (c2-3). An oxime ester compound represented by the following formula (c2-6) can be obtained. As an acylating agent, an acid anhydride (R c3 COHal, Hal represented by the following formula ( c 2-5) or an acid anhydride (R c3 CO) 2 O represented by the following formula (c2-4) Is preferably halogen.). In the following formulas (c2-1), (c2-3), (c2-4), (c2-5), and (c2-6), R c1 , R c2 , R c3 , and n1 are formulas Same as (c1).

＜スキーム２＞

Figure 2018072398
<Scheme 2>
Figure 2018072398

また、式（ｃ１）で表されるオキシムエステル化合物は、ｎ２が１であり、Ｒｃ１がメチル基であって、Ｒｃ１が結合するベンゼン環に結合するメチル基に対して、Ｒｃ１がパラ位に結合する場合、例えば、下記式（ｃ２−７）で表される化合物を、スキーム１と同様の方法で、オキシム化、及びアシル化することによって合成することもできる。なお、下記式（ｃ２−７）において、Ｒｃ２は、式（ｃ１）と同様である。 Further, the oxime ester compound represented by the formula (c1) is, n2 is 1, and R c1 is a methyl group, with respect to methyl groups attached to the benzene ring to which R c1 are attached, R c1 para In the case of bonding to a position, for example, a compound represented by the following formula (c2-7) can be synthesized by oximation and acylation in the same manner as in Scheme 1. In the following formula (c2-7), R c2 is the same as in formula (c1).

Figure 2018072398
Figure 2018072398

式（ｃ１）で表されるオキシムエステル化合物の中でも特に好適な化合物としては、下記のＰＩ−１〜ＰＩ−４２が挙げられる。

Figure 2018072398
Among the oxime ester compounds represented by the formula (c1), particularly preferred compounds include the following PI-1 to PI-42.
Figure 2018072398

Figure 2018072398
Figure 2018072398

Figure 2018072398
Figure 2018072398

Figure 2018072398
Figure 2018072398

Figure 2018072398
Figure 2018072398

Figure 2018072398
Figure 2018072398

また、下記式（ｃ４）で表されるオキシムエステル化合物も、光重合開始剤として好ましい。   Moreover, the oxime ester compound represented by a following formula (c4) is also preferable as a photoinitiator.

Figure 2018072398
（Ｒｃ７は水素原子、ニトロ基又は１価の有機基であり、Ｒｃ８及びＲｃ９は、それぞれ、置換基を有してもよい鎖状アルキル基、置換基を有してもよい環状有機基、又は水素原子であり、Ｒｃ８とＲｃ９とは相互に結合して環を形成してもよく、Ｒｃ１０は１価の有機基であり、Ｒｃ１１は、置換基を有してもよい炭素原子数１〜１１のアルキル基、又は置換基を有してもよいアリール基であり、ｎ４は０〜４の整数であり、ｎ５は０又は１である。）
Figure 2018072398
 (R c7 is a hydrogen atom, a nitro group or a monovalent organic group, and R c8 and R c9 are each a chain alkyl group which may have a substituent, or a cyclic organic which may have a substituent. R c8 and R c9 may be bonded to each other to form a ring, R c10 is a monovalent organic group, and R c11 may have a substituent. A good alkyl group having 1 to 11 carbon atoms, or an aryl group which may have a substituent, n4 is an integer of 0 to 4, and n5 is 0 or 1.)

ここで、式（ｃ４）のオキシムエステル化合物を製造するためのオキシム化合物としては、下式（ｃ５）で表される化合物が好適である。   Here, as the oxime compound for producing the oxime ester compound of the formula (c4), a compound represented by the following formula (c5) is suitable.

Figure 2018072398
（Ｒｃ７、Ｒｃ８、Ｒｃ９、Ｒｃ１０、ｎ４、及びｎ５は、式（ｃ４）と同様である。）
Figure 2018072398
 (R c7 , R c8 , R c9 , R c10 , n4, and n5 are the same as in formula (c4).)

式（ｃ４）及び（ｃ５）中、Ｒｃ７は、水素原子、ニトロ基又は１価の有機基である。Ｒｃ７は、式（ｃ４）中のフルオレン環上で、−（ＣＯ）ｎ５−で表される基に結合する６員芳香環とは、異なる６員芳香環に結合する。式（ｃ４）中、Ｒｃ７のフルオレン環に対する結合位置は特に限定されない。式（ｃ４）で表される化合物が１以上のＲｃ７を有する場合、式（ｃ４）で表される化合物の合成が容易であること等から、１以上のＲｃ７のうちの１つがフルオレン環中の２位に結合するのが好ましい。Ｒｃ７が複数である場合、複数のＲｃ７は同一であっても異なっていてもよい。 In formulas (c4) and (c5), R c7 is a hydrogen atom, a nitro group, or a monovalent organic group. R c7 is bonded to a 6-membered aromatic ring different from the 6-membered aromatic ring bonded to the group represented by — (CO) n5 — on the fluorene ring in the formula (c4). In formula (c4), the bonding position of R c7 to the fluorene ring is not particularly limited. When the compound represented by the formula (c4) has one or more R c7 , one of the one or more R c7 is a fluorene ring because synthesis of the compound represented by the formula (c4) is easy. Bonding at the 2-position is preferable. If R c7 is more, a plurality of R c7 is independently in may be the same or different.

Ｒｃ７が有機基である場合、Ｒｃ７は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されず、種々の有機基から適宜選択される。Ｒｃ７が有機基である場合の好適な例としては、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基、１、又は２の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン−１−イル基、及びピペラジン−１−イル基等が挙げられる。 When R c7 is an organic group, R c7 is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired, and is appropriately selected from various organic groups. Preferred examples when R c7 is an organic group include an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, a saturated aliphatic acyloxy group, an alkoxycarbonyl group, and a substituent. An optionally substituted phenyl group, an optionally substituted phenoxy group, an optionally substituted benzoyl group, an optionally substituted phenoxycarbonyl group, an optionally substituted benzoyloxy A group, a phenylalkyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthoxy group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, a substituent An optionally substituted naphthoxycarbonyl group, an optionally substituted naphthoyloxy group, an optionally substituted naphthylalkyl group, an optionally substituted heterocyclyl group, Examples include a heterocyclylcarbonyl group which may have a substituent, an amino group substituted with 1 or 2 organic groups, a morpholin-1-yl group, and a piperazin-1-yl group.

Ｒｃ７がアルキル基である場合、アルキル基の炭素原子数は、１〜２０が好ましく、１〜６がより好ましい。また、Ｒｃ７がアルキル基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。Ｒｃ７がアルキル基である場合の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ−ペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、ｎ−ノニル基、イソノニル基、ｎ−デシル基、及びイソデシル基等が挙げられる。また、Ｒｃ７がアルキル基である場合、アルキル基は炭素鎖中にエーテル結合（−Ｏ−）を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルキル基の例としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロピルオキシエトキシエチル基、及びメトキシプロピル基等が挙げられる。 When R c7 is an alkyl group, the number of carbon atoms of the alkyl group is preferably 1-20, and more preferably 1-6. Further, when R c7 is an alkyl group, it may be linear or branched. Specific examples when R c7 is an alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, and an n-pentyl group. , Isopentyl group, sec-pentyl group, tert-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, isononyl group, An n-decyl group, an isodecyl group, etc. are mentioned. When R c7 is an alkyl group, the alkyl group may include an ether bond (—O—) in the carbon chain. Examples of the alkyl group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group, a methoxyethoxyethyl group, an ethoxyethoxyethyl group, a propyloxyethoxyethyl group, and a methoxypropyl group.

Ｒｃ７がアルコキシ基である場合、アルコキシ基の炭素原子数は、１〜２０が好ましく、１〜６がより好ましい。また、Ｒｃ７がアルコキシ基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。Ｒｃ７がアルコキシ基である場合の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ｎ−ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、ｓｅｃ−ブチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルオキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ｓｅｃ−ペンチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、ｓｅｃ−オクチルオキシ基、ｔｅｒｔ−オクチルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基、イソノニルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基、及びイソデシルオキシ基等が挙げられる。また、Ｒｃ７がアルコキシ基である場合、アルコキシ基は炭素鎖中にエーテル結合（−Ｏ−）を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルコキシ基の例としては、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、プロピルオキシエトキシエトキシ基、及びメトキシプロピルオキシ基等が挙げられる。 When R c7 is an alkoxy group, the alkoxy group preferably has 1 to 20 carbon atoms, and more preferably 1 to 6 carbon atoms. Further, when R c7 is an alkoxy group, it may be linear or branched. Specific examples when R c7 is an alkoxy group include methoxy group, ethoxy group, n-propyloxy group, isopropyloxy group, n-butyloxy group, isobutyloxy group, sec-butyloxy group, tert-butyloxy group, n -Pentyloxy group, isopentyloxy group, sec-pentyloxy group, tert-pentyloxy group, n-hexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, isooctyloxy group, sec-octyloxy group Tert-octyloxy group, n-nonyloxy group, isononyloxy group, n-decyloxy group, and isodecyloxy group. When R c7 is an alkoxy group, the alkoxy group may include an ether bond (—O—) in the carbon chain. Examples of the alkoxy group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethoxy group, an ethoxyethoxy group, a methoxyethoxyethoxy group, an ethoxyethoxyethoxy group, a propyloxyethoxyethoxy group, and a methoxypropyloxy group.

Ｒｃ７がシクロアルキル基又はシクロアルコキシ基である場合、シクロアルキル基又はシクロアルコキシ基の炭素原子数は、３〜１０が好ましく、３〜６がより好ましい。Ｒｃ７がシクロアルキル基である場合の具体例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、及びシクロオクチル基等が挙げられる。Ｒｃ７がシクロアルコキシ基である場合の具体例としては、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロヘプチルオキシ基、及びシクロオクチルオキシ基等が挙げられる。 When R c7 is a cycloalkyl group or a cycloalkoxy group, the number of carbon atoms of the cycloalkyl group or the cycloalkoxy group is preferably 3 to 10, and more preferably 3 to 6. Specific examples when R c7 is a cycloalkyl group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group. Specific examples when R c7 is a cycloalkoxy group include a cyclopropyloxy group, a cyclobutyloxy group, a cyclopentyloxy group, a cyclohexyloxy group, a cycloheptyloxy group, and a cyclooctyloxy group.

Ｒｃ７が飽和脂肪族アシル基又は飽和脂肪族アシルオキシ基である場合、飽和脂肪族アシル基又は飽和脂肪族アシルオキシ基の炭素原子数は、２〜２１が好ましく、２〜７がより好ましい。Ｒｃ７が飽和脂肪族アシル基である場合の具体例としては、アセチル基、プロパノイル基、ｎ−ブタノイル基、２−メチルプロパノイル基、ｎ−ペンタノイル基、２，２−ジメチルプロパノイル基、ｎ−ヘキサノイル基、ｎ−ヘプタノイル基、ｎ−オクタノイル基、ｎ−ノナノイル基、ｎ−デカノイル基、ｎ−ウンデカノイル基、ｎ−ドデカノイル基、ｎ−トリデカノイル基、ｎ−テトラデカノイル基、ｎ−ペンタデカノイル基、及びｎ−ヘキサデカノイル基等が挙げられる。Ｒｃ７が飽和脂肪族アシルオキシ基である場合の具体例としては、アセチルオキシ基、プロパノイルオキシ基、ｎ−ブタノイルオキシ基、２−メチルプロパノイルオキシ基、ｎ−ペンタノイルオキシ基、２，２−ジメチルプロパノイルオキシ基、ｎ−ヘキサノイルオキシ基、ｎ−ヘプタノイルオキシ基、ｎ−オクタノイルオキシ基、ｎ−ノナノイルオキシ基、ｎ−デカノイルオキシ基、ｎ−ウンデカノイルオキシ基、ｎ−ドデカノイルオキシ基、ｎ−トリデカノイルオキシ基、ｎ−テトラデカノイルオキシ基、ｎ−ペンタデカノイルオキシ基、及びｎ−ヘキサデカノイルオキシ基等が挙げられる。 When R c7 is a saturated aliphatic acyl group or a saturated aliphatic acyloxy group, the number of carbon atoms of the saturated aliphatic acyl group or the saturated aliphatic acyloxy group is preferably 2 to 21, and more preferably 2 to 7. Specific examples when R c7 is a saturated aliphatic acyl group include acetyl group, propanoyl group, n-butanoyl group, 2-methylpropanoyl group, n-pentanoyl group, 2,2-dimethylpropanoyl group, n -Hexanoyl group, n-heptanoyl group, n-octanoyl group, n-nonanoyl group, n-decanoyl group, n-undecanoyl group, n-dodecanoyl group, n-tridecanoyl group, n-tetradecanoyl group, n-pentadecane Examples include a noyl group and an n-hexadecanoyl group. Specific examples when R c7 is a saturated aliphatic acyloxy group include acetyloxy group, propanoyloxy group, n-butanoyloxy group, 2-methylpropanoyloxy group, n-pentanoyloxy group, 2, 2-dimethylpropanoyloxy group, n-hexanoyloxy group, n-heptanoyloxy group, n-octanoyloxy group, n-nonanoyloxy group, n-decanoyloxy group, n-undecanoyloxy group, n -Dodecanoyloxy group, n-tridecanoyloxy group, n-tetradecanoyloxy group, n-pentadecanoyloxy group, n-hexadecanoyloxy group and the like.

Ｒｃ７がアルコキシカルボニル基である場合、アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、２〜２０が好ましく、２〜７がより好ましい。Ｒｃ７がアルコキシカルボニル基である場合の具体例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロピルオキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基、ｎ−ブチルオキシカルボニル基、イソブチルオキシカルボニル基、ｓｅｃ−ブチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル基、ｎ−ペンチルオキシカルボニル基、イソペンチルオキシカルボニル基、ｓｅｃ−ペンチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ペンチルオキシカルボニル基、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル基、ｎ−ヘプチルオキシカルボニル基、ｎ−オクチルオキシカルボニル基、イソオクチルオキシカルボニル基、ｓｅｃ−オクチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−オクチルオキシカルボニル基、ｎ−ノニルオキシカルボニル基、イソノニルオキシカルボニル基、ｎ−デシルオキシカルボニル基、及びイソデシルオキシカルボニル基等が挙げられる。 When R c7 is an alkoxycarbonyl group, the number of carbon atoms of the alkoxycarbonyl group is preferably 2-20, and more preferably 2-7. Specific examples when R c7 is an alkoxycarbonyl group include methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, n-propyloxycarbonyl group, isopropyloxycarbonyl group, n-butyloxycarbonyl group, isobutyloxycarbonyl group, sec-butyl. Oxycarbonyl group, tert-butyloxycarbonyl group, n-pentyloxycarbonyl group, isopentyloxycarbonyl group, sec-pentyloxycarbonyl group, tert-pentyloxycarbonyl group, n-hexyloxycarbonyl group, n-heptyloxycarbonyl Group, n-octyloxycarbonyl group, isooctyloxycarbonyl group, sec-octyloxycarbonyl group, tert-octyloxycarbonyl group, n-nonyloxycarbonyl group, Examples include an isononyloxycarbonyl group, an n-decyloxycarbonyl group, and an isodecyloxycarbonyl group.

Ｒｃ７がフェニルアルキル基である場合、フェニルアルキル基の炭素原子数は、７〜２０が好ましく、７〜１０がより好ましい。また、Ｒｃ７がナフチルアルキル基である場合、ナフチルアルキル基の炭素原子数は、１１〜２０が好ましく、１１〜１４がより好ましい。Ｒｃ７がフェニルアルキル基である場合の具体例としては、ベンジル基、２−フェニルエチル基、３−フェニルプロピル基、及び４−フェニルブチル基が挙げられる。Ｒｃ７がナフチルアルキル基である場合の具体例としては、α−ナフチルメチル基、β−ナフチルメチル基、２−（α−ナフチル）エチル基、及び２−（β−ナフチル）エチル基が挙げられる。Ｒｃ７が、フェニルアルキル基、又はナフチルアルキル基である場合、Ｒｃ７は、フェニル基、又はナフチル基上にさらに置換基を有していてもよい。 When R c7 is a phenylalkyl group, the number of carbon atoms of the phenylalkyl group is preferably 7 to 20, and more preferably 7 to 10. Further, when R c7 is a naphthylalkyl group, the number of carbon atoms of the naphthylalkyl group is preferably 11-20, and more preferably 11-14. Specific examples when R c7 is a phenylalkyl group include a benzyl group, a 2-phenylethyl group, a 3-phenylpropyl group, and a 4-phenylbutyl group. Specific examples in the case where R c7 is a naphthylalkyl group include an α-naphthylmethyl group, a β-naphthylmethyl group, a 2- (α-naphthyl) ethyl group, and a 2- (β-naphthyl) ethyl group. . When R c7 is a phenylalkyl group or a naphthylalkyl group, R c7 may further have a substituent on the phenyl group or naphthyl group.

Ｒｃ７がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基は、１以上のＮ、Ｓ、Ｏを含む５員又は６員の単環であるか、かかる単環同士、又はかかる単環とベンゼン環とが縮合したヘテロシクリル基である。ヘテロシクリル基が縮合環である場合は、環数３までのものとする。ヘテロシクリル基は、芳香族基（ヘテロアリール基）であっても、非芳香族基であってもよい。かかるヘテロシクリル基を構成する複素環としては、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、チアジアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、カルバゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、フタラジン、シンノリン、キノキサリン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、ピペリジン、テトラヒドロピラン、及びテトラヒドロフラン等が挙げられる。Ｒｃ７がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基はさらに置換基を有していてもよい。 When R c7 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group is a 5-membered or 6-membered monocycle containing 1 or more of N, S, and O, or such monocycles or such monocycles and a benzene ring are condensed. Heterocyclyl group. When the heterocyclyl group is a condensed ring, the ring number is up to 3. The heterocyclyl group may be an aromatic group (heteroaryl group) or a non-aromatic group. Examples of the heterocyclic ring constituting the heterocyclyl group include furan, thiophene, pyrrole, oxazole, isoxazole, thiazole, thiadiazole, isothiazole, imidazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, benzofuran, benzothiophene, indole, Examples include isoindole, indolizine, benzimidazole, benzotriazole, benzoxazole, benzothiazole, carbazole, purine, quinoline, isoquinoline, quinazoline, phthalazine, cinnoline, quinoxaline, piperidine, piperazine, morpholine, piperidine, tetrahydropyran, and tetrahydrofuran. It is done. When R c7 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group may further have a substituent.

Ｒｃ７がヘテロシクリルカルボニル基である場合、ヘテロシクリルカルボニル基に含まれるヘテロシクリル基は、Ｒｃ７がヘテロシクリル基である場合と同様である。 When R c7 is a heterocyclylcarbonyl group, the heterocyclyl group contained in the heterocyclylcarbonyl group is the same as when R c7 is a heterocyclyl group.

Ｒｃ７が１又は２の有機基で置換されたアミノ基である場合、有機基の好適な例は、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜１０のシクロアルキル基、炭素原子数２〜２１の飽和脂肪族アシル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよい炭素原子数７〜２０のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよい炭素原子数１１〜２０のナフチルアルキル基、及びヘテロシクリル基等が挙げられる。これらの好適な有機基の具体例は、Ｒｃ７と同様である。１、又は２の有機基で置換されたアミノ基の具体例としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ｎ−プロピルアミノ基、ジ−ｎ−プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ｎ−ブチルアミノ基、ジ−ｎ−ブチルアミノ基、ｎ−ペンチルアミノ基、ｎ−ヘキシルアミノ基、ｎ−ヘプチルアミノ基、ｎ−オクチルアミノ基、ｎ−ノニルアミノ基、ｎ−デシルアミノ基、フェニルアミノ基、ナフチルアミノ基、アセチルアミノ基、プロパノイルアミノ基、ｎ−ブタノイルアミノ基、ｎ−ペンタノイルアミノ基、ｎ−ヘキサノイルアミノ基、ｎ−ヘプタノイルアミノ基、ｎ−オクタノイルアミノ基、ｎ−デカノイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、α−ナフトイルアミノ基、及びβ−ナフトイルアミノ基等が挙げられる。 When R c7 is an amino group substituted with 1 or 2 organic groups, suitable examples of the organic group include alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms, cycloalkyl groups having 3 to 10 carbon atoms, and carbon atoms. A saturated aliphatic acyl group having 2 to 21 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenylalkyl having 7 to 20 carbon atoms which may have a substituent A naphthyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthylalkyl group having 11 to 20 carbon atoms which may have a substituent, a heterocyclyl group, and the like. . Specific examples of these suitable organic groups are the same as those for R c7 . Specific examples of the amino group substituted with 1 or 2 organic groups include methylamino group, ethylamino group, diethylamino group, n-propylamino group, di-n-propylamino group, isopropylamino group, n- Butylamino group, di-n-butylamino group, n-pentylamino group, n-hexylamino group, n-heptylamino group, n-octylamino group, n-nonylamino group, n-decylamino group, phenylamino group, Naphthylamino group, acetylamino group, propanoylamino group, n-butanoylamino group, n-pentanoylamino group, n-hexanoylamino group, n-heptanoylamino group, n-octanoylamino group, n- Examples include a decanoylamino group, a benzoylamino group, an α-naphthoylamino group, and a β-naphthoylamino group.

Ｒｃ７に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合の置換基としては、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜７の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数２〜７のアルコキシカルボニル基、炭素原子数２〜７の飽和脂肪族アシルオキシ基、炭素原子数１〜６のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基を有するジアルキルアミノ基、モルホリン−１−イル基、ピペラジン−１−イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。Ｒｃ７に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されないが、１〜４が好ましい。Ｒｃ７に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。 In the case where the phenyl group, the naphthyl group, and the heterocyclyl group included in R c7 further have a substituent, the substituent includes an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and a carbon atom. A monoalkylamino group having a saturated aliphatic acyl group having 2 to 7 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms, a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms And a dialkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, a halogen, a nitro group, and a cyano group. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R c7 further have a substituent, the number of the substituent is not limited as long as the object of the present invention is not impaired, but 1 to 4 is preferable. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group included in R c7 have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.

以上説明した基の中でも、Ｒｃ７としては、ニトロ基、又はＲｃ１２−ＣＯ−で表される基であると、感度が向上する傾向があり好ましい。Ｒｃ１２は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されず、種々の有機基から選択できる。Ｒｃ１２として好適な基の例としては、炭素原子数１〜２０のアルキル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいナフチル基、及び置換基を有してもよいヘテロシクリル基が挙げられる。Ｒｃ１２として、これらの基の中では、２−メチルフェニル基、チオフェン−２−イル基、及びα−ナフチル基が特に好ましい。
また、Ｒｃ７が水素原子であると、透明性が良好となる傾向があり好ましい。なお、Ｒｃ７が水素原子であり且つＲｃ１０が後述の式（ｃ４ａ）又は（ｃ４ｂ）で表される基であると透明性はより良好となる傾向がある。 Among the groups described above, R c7 is preferably a nitro group or a group represented by R c12 —CO— because the sensitivity tends to be improved. R c12 is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired , and can be selected from various organic groups. Examples of groups suitable as R c12 include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, and a substituent. Or a heterocyclyl group that may be used. As R c12 , among these groups, a 2-methylphenyl group, a thiophen-2-yl group, and an α-naphthyl group are particularly preferable.
Moreover, it is preferable that R c7 is a hydrogen atom because transparency tends to be good. When R c7 is a hydrogen atom and R c10 is a group represented by the following formula (c4a) or (c4b), the transparency tends to be better.

式（ｃ４）中、Ｒｃ８及びＲｃ９は、それぞれ、置換基を有してもよい鎖状アルキル基、置換基を有してもよい環状有機基、又は水素原子である。Ｒｃ８とＲｃ９とは相互に結合して環を形成してもよい。これらの基の中では、Ｒｃ８及びＲｃ９として、置換基を有してもよい鎖状アルキル基が好ましい。Ｒｃ８及びＲｃ９が置換基を有してもよい鎖状アルキル基である場合、鎖状アルキル基は直鎖アルキル基でも分岐鎖アルキル基でもよい。 In formula (c4), R c8 and R c9 each represent a chain alkyl group that may have a substituent, a cyclic organic group that may have a substituent, or a hydrogen atom. R c8 and R c9 may be bonded to each other to form a ring. Among these groups, as R c8 and R c9 , a chain alkyl group which may have a substituent is preferable. When R c8 and R c9 are chain alkyl groups which may have a substituent, the chain alkyl group may be a straight chain alkyl group or a branched chain alkyl group.

Ｒｃ８及びＲｃ９が置換基を持たない鎖状アルキル基である場合、鎖状アルキル基の炭素原子数は、１〜２０が好ましく、１〜１０がより好ましく、１〜６が特に好ましい。Ｒｃ８及びＲｃ９が鎖状アルキル基である場合の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ−ペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、ｎ−ノニル基、イソノニル基、ｎ−デシル基、及びイソデシル基等が挙げられる。また、Ｒｃ８及びＲｃ９がアルキル基である場合、アルキル基は炭素鎖中にエーテル結合（−Ｏ−）を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルキル基の例としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロピルオキシエトキシエチル基、及びメトキシプロピル基等が挙げられる。 When R c8 and R c9 are chain alkyl groups having no substituent, the number of carbon atoms of the chain alkyl group is preferably 1-20, more preferably 1-10, and particularly preferably 1-6. Specific examples when R c8 and R c9 are chain alkyl groups include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, and tert-butyl group. N-pentyl group, isopentyl group, sec-pentyl group, tert-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl Group, isononyl group, n-decyl group, isodecyl group and the like. When R c8 and R c9 are alkyl groups, the alkyl group may contain an ether bond (—O—) in the carbon chain. Examples of the alkyl group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group, a methoxyethoxyethyl group, an ethoxyethoxyethyl group, a propyloxyethoxyethyl group, and a methoxypropyl group.

Ｒｃ８及びＲｃ９が置換基を有する鎖状アルキル基である場合、鎖状アルキル基の炭素原子数は、１〜２０が好ましく、１〜１０がより好ましく、１〜６が特に好ましい。この場合、置換基の炭素原子数は、鎖状アルキル基の炭素原子数に含まれない。置換基を有する鎖状アルキル基は、直鎖状であるのが好ましい。
アルキル基が有してもよい置換基は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。置換基の好適な例としては、シアノ基、ハロゲン原子、環状有機基、及びアルコキシカルボニル基が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。これらの中では、フッ素原子、塩素原子、臭素原子が好ましい。環状有機基としては、シクロアルキル基、芳香族炭化水素基、ヘテロシクリル基が挙げられる。シクロアルキル基の具体例としては、Ｒｃ７がシクロアルキル基である場合の好適な例と同様である。芳香族炭化水素基の具体例としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、アントリル基、及びフェナントリル基等が挙げられる。ヘテロシクリル基の具体例としては、Ｒｃ７がヘテロシクリル基である場合の好適な例と同様である。Ｒｃ７がアルコキシカルボニル基である場合、アルコキシカルボニル基に含まれるアルコキシ基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。アルコキシカルボニル基に含まれるアルコキシ基の炭素原子数は、１〜１０が好ましく、１〜６がより好ましい。 When R c8 and R c9 are chain alkyl groups having a substituent, the number of carbon atoms of the chain alkyl group is preferably 1-20, more preferably 1-10, and particularly preferably 1-6. In this case, the number of carbon atoms of the substituent is not included in the number of carbon atoms of the chain alkyl group. The chain alkyl group having a substituent is preferably linear.
The substituent that the alkyl group may have is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired. Preferable examples of the substituent include a cyano group, a halogen atom, a cyclic organic group, and an alkoxycarbonyl group. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. In these, a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom are preferable. Examples of the cyclic organic group include a cycloalkyl group, an aromatic hydrocarbon group, and a heterocyclyl group. Specific examples of the cycloalkyl group are the same as the preferred examples in the case where R c7 is a cycloalkyl group. Specific examples of the aromatic hydrocarbon group include a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, an anthryl group, and a phenanthryl group. Specific examples of the heterocyclyl group are the same as the preferred examples when R c7 is a heterocyclyl group. When R c7 is an alkoxycarbonyl group, the alkoxy group contained in the alkoxycarbonyl group may be linear or branched, and is preferably linear. 1-10 are preferable and, as for the carbon atom number of the alkoxy group contained in an alkoxycarbonyl group, 1-6 are more preferable.

鎖状アルキル基が置換基を有する場合、置換基の数は特に限定されない。好ましい置換基の数は鎖状アルキル基の炭素原子数に応じて変わる。置換基の数は、典型的には、１〜２０であり、１〜１０が好ましく、１〜６がより好ましい。   When the chain alkyl group has a substituent, the number of substituents is not particularly limited. The number of preferred substituents varies depending on the number of carbon atoms in the chain alkyl group. The number of substituents is typically 1-20, preferably 1-10, and more preferably 1-6.

Ｒｃ８及びＲｃ９が環状有機基である場合、環状有機基は、脂環式基であっても、芳香族基であってもよい。環状有機基としては、脂肪族環状炭化水素基、芳香族炭化水素基、ヘテロシクリル基が挙げられる。Ｒｃ８及びＲｃ９が環状有機基である場合に、環状有機基が有してもよい置換基は、Ｒｃ８及びＲｃ９が鎖状アルキル基である場合と同様である。 When R c8 and R c9 are cyclic organic groups, the cyclic organic group may be an alicyclic group or an aromatic group. Examples of the cyclic organic group include an aliphatic cyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, and a heterocyclyl group. When R c8 and R c9 are cyclic organic groups, the substituent that the cyclic organic group may have is the same as when R c8 and R c9 are chain alkyl groups.

Ｒｃ８及びＲｃ９が芳香族炭化水素基である場合、芳香族炭化水素基は、フェニル基であるか、複数のベンゼン環が炭素−炭素結合を介して結合して形成される基であるか、複数のベンゼン環が縮合して形成される基であるのが好ましい。芳香族炭化水素基が、フェニル基であるか、複数のベンゼン環が結合又は縮合して形成される基である場合、芳香族炭化水素基に含まれるベンゼン環の環数は特に限定されず、３以下が好ましく、２以下がより好ましく、１が特に好ましい。芳香族炭化水素基の好ましい具体例としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、アントリル基、及びフェナントリル基等が挙げられる。 When R c8 and R c9 are aromatic hydrocarbon groups, is the aromatic hydrocarbon group a phenyl group or a group formed by bonding a plurality of benzene rings via a carbon-carbon bond? A group formed by condensation of a plurality of benzene rings is preferred. When the aromatic hydrocarbon group is a phenyl group or a group formed by combining or condensing a plurality of benzene rings, the number of benzene rings contained in the aromatic hydrocarbon group is not particularly limited, 3 or less is preferable, 2 or less is more preferable, and 1 is particularly preferable. Preferable specific examples of the aromatic hydrocarbon group include a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, an anthryl group, and a phenanthryl group.

Ｒｃ８及びＲｃ９が脂肪族環状炭化水素基である場合、脂肪族環状炭化水素基は、単環式であっても多環式であってもよい。脂肪族環状炭化水素基の炭素原子数は特に限定されないが、３〜２０が好ましく、３〜１０がより好ましい。単環式の環状炭化水素基の例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、トリシクロノニル基、トリシクロデシル基、テトラシクロドデシル基、及びアダマンチル基等が挙げられる。 When R c8 and R c9 are aliphatic cyclic hydrocarbon groups, the aliphatic cyclic hydrocarbon group may be monocyclic or polycyclic. Although the carbon atom number of an aliphatic cyclic hydrocarbon group is not specifically limited, 3-20 are preferable and 3-10 are more preferable. Examples of monocyclic cyclic hydrocarbon groups are cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, cyclooctyl, norbornyl, isobornyl, tricyclononyl, tricyclodecyl, Examples include a tetracyclododecyl group and an adamantyl group.

Ｒｃ８及びＲｃ９がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基は、１以上のＮ、Ｓ、Ｏを含む５員又は６員の単環であるか、かかる単環同士、又はかかる単環とベンゼン環とが縮合したヘテロシクリル基である。ヘテロシクリル基が縮合環である場合は、環数３までのものとする。ヘテロシクリル基は、芳香族基（ヘテロアリール基）であっても、非芳香族基であってもよい。かかるヘテロシクリル基を構成する複素環としては、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、チアジアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、カルバゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、フタラジン、シンノリン、キノキサリン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、ピペリジン、テトラヒドロピラン、及びテトラヒドロフラン等が挙げられる。 When R c8 and R c9 are a heterocyclyl group, the heterocyclyl group is a 5-membered or 6-membered monocycle containing one or more N, S, O, such monocycles, or such monocycles and a benzene ring. And a condensed heterocyclyl group. When the heterocyclyl group is a condensed ring, the ring number is up to 3. The heterocyclyl group may be an aromatic group (heteroaryl group) or a non-aromatic group. Examples of the heterocyclic ring constituting the heterocyclyl group include furan, thiophene, pyrrole, oxazole, isoxazole, thiazole, thiadiazole, isothiazole, imidazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, benzofuran, benzothiophene, indole, Examples include isoindole, indolizine, benzimidazole, benzotriazole, benzoxazole, benzothiazole, carbazole, purine, quinoline, isoquinoline, quinazoline, phthalazine, cinnoline, quinoxaline, piperidine, piperazine, morpholine, piperidine, tetrahydropyran, and tetrahydrofuran. It is done.

Ｒｃ８とＲｃ９とは相互に結合して環を形成してもよい。Ｒｃ８とＲｃ９とが形成する環からなる基は、シクロアルキリデン基であるのが好ましい。Ｒｃ８とＲｃ９とが結合してシクロアルキリデン基を形成する場合、シクロアルキリデン基を構成する環は、５員環〜６員環であるのが好ましく、５員環であるのがより好ましい。 R c8 and R c9 may be bonded to each other to form a ring. The group formed by the ring formed by R c8 and R c9 is preferably a cycloalkylidene group. When R c8 and R c9 are bonded to form a cycloalkylidene group, the ring constituting the cycloalkylidene group is preferably a 5-membered to 6-membered ring, and more preferably a 5-membered ring.

Ｒｃ８とＲｃ９とが結合して形成する基がシクロアルキリデン基である場合、シクロアルキリデン基は、１以上の他の環と縮合していてもよい。シクロアルキリデン基と縮合していてもよい環の例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、ピリジン環、ピラジン環、及びピリミジン環等が挙げられる。 When the group formed by combining R c8 and R c9 is a cycloalkylidene group, the cycloalkylidene group may be condensed with one or more other rings. Examples of the ring that may be condensed with the cycloalkylidene group include benzene ring, naphthalene ring, cyclobutane ring, cyclopentane ring, cyclohexane ring, cycloheptane ring, cyclooctane ring, furan ring, thiophene ring, pyrrole ring, pyridine A ring, a pyrazine ring, and a pyrimidine ring.

以上説明したＲｃ８及びＲｃ９の中でも好適な基の例としては、式−Ａ１−Ａ２で表される基が挙げられる。式中、Ａ１は直鎖アルキレン基であり、Ａ２は、アルコキシ基、シアノ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、環状有機基、又はアルコキシカルボニル基である挙げられる。 Examples of suitable groups among R c8 and R c9 described above include groups represented by the formula -A 1 -A 2 . In the formula, A 1 is a linear alkylene group, and A 2 is an alkoxy group, a cyano group, a halogen atom, a halogenated alkyl group, a cyclic organic group, or an alkoxycarbonyl group.

Ａ１の直鎖アルキレン基の炭素原子数は、１〜１０が好ましく、１〜６がより好ましい。Ａ２がアルコキシ基である場合、アルコキシ基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。アルコキシ基の炭素原子数は、１〜１０が好ましく、１〜６がより好ましい。Ａ２がハロゲン原子である場合、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が好ましく、フッ素原子、塩素原子、臭素原子がより好ましい。Ａ２がハロゲン化アルキル基である場合、ハロゲン化アルキル基に含まれるハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が好ましく、フッ素原子、塩素原子、臭素原子がより好ましい。ハロゲン化アルキル基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。Ａ２が環状有機基である場合、環状有機基の例は、Ｒｃ８及びＲｃ９が置換基として有する環状有機基と同様である。Ａ２がアルコキシカルボニル基である場合、アルコキシカルボニル基の例は、Ｒｃ８及びＲｃ９が置換基として有するアルコキシカルボニル基と同様である。 The number of carbon atoms in a straight chain alkylene group A 1 is 1 to 10 preferably 1 to 6 is more preferable. When A 2 is an alkoxy group, the alkoxy group may be linear or branched, and is preferably linear. 1-10 are preferable and, as for the carbon atom number of an alkoxy group, 1-6 are more preferable. When A 2 is a halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom are preferable, and a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom are more preferable. When A 2 is a halogenated alkyl group, the halogen atom contained in the halogenated alkyl group is preferably a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom, and more preferably a fluorine atom, a chlorine atom, or a bromine atom. The halogenated alkyl group may be linear or branched, and is preferably linear. When A 2 is a cyclic organic group, examples of the cyclic organic group are the same as the cyclic organic group that R c8 and R c9 have as a substituent. When A 2 is an alkoxycarbonyl group, examples of the alkoxycarbonyl group are the same as the alkoxycarbonyl group that R c8 and R c9 have as a substituent.

Ｒｃ８及びＲｃ９の好適な具体例としては、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、及びｎ−オクチル基等のアルキル基；２−メトキシエチル基、３−メトキシ−ｎ−プロピル基、４−メトキシ−ｎ−ブチル基、５−メトキシ−ｎ−ペンチル基、６−メトキシ−ｎ−ヘキシル基、７−メトキシ−ｎ−ヘプチル基、８−メトキシ−ｎ−オクチル基、２−エトキシエチル基、３−エトキシ−ｎ−プロピル基、４−エトキシ−ｎ−ブチル基、５−エトキシ−ｎ−ペンチル基、６−エトキシ−ｎ−ヘキシル基、７−エトキシ−ｎ−ヘプチル基、及び８−エトキシ−ｎ−オクチル基等のアルコキシアルキル基；２−シアノエチル基、３−シアノ−ｎ−プロピル基、４−シアノ−ｎ−ブチル基、５−シアノ−ｎ−ペンチル基、６−シアノ−ｎ−ヘキシル基、７−シアノ−ｎ−ヘプチル基、及び８−シアノ−ｎ−オクチル基等のシアノアルキル基；２−フェニルエチル基、３−フェニル−ｎ−プロピル基、４−フェニル−ｎ−ブチル基、５−フェニル−ｎ−ペンチル基、６−フェニル−ｎ−ヘキシル基、７−フェニル−ｎ−ヘプチル基、及び８−フェニル−ｎ−オクチル基等のフェニルアルキル基；２−シクロヘキシルエチル基、３−シクロヘキシル−ｎ−プロピル基、４−シクロヘキシル−ｎ−ブチル基、５−シクロヘキシル−ｎ−ペンチル基、６−シクロヘキシル−ｎ−ヘキシル基、７−シクロヘキシル−ｎ−ヘプチル基、８−シクロヘキシル−ｎ−オクチル基、２−シクロペンチルエチル基、３−シクロペンチル−ｎ−プロピル基、４−シクロペンチル−ｎ−ブチル基、５−シクロペンチル−ｎ−ペンチル基、６−シクロペンチル−ｎ−ヘキシル基、７−シクロペンチル−ｎ−ヘプチル基、及び８−シクロペンチル−ｎ−オクチル基等のシクロアルキルアルキル基；２−メトキシカルボニルエチル基、３−メトキシカルボニル−ｎ−プロピル基、４−メトキシカルボニル−ｎ−ブチル基、５−メトキシカルボニル−ｎ−ペンチル基、６−メトキシカルボニル−ｎ−ヘキシル基、７−メトキシカルボニル−ｎ−ヘプチル基、８−メトキシカルボニル−ｎ−オクチル基、２−エトキシカルボニルエチル基、３−エトキシカルボニル−ｎ−プロピル基、４−エトキシカルボニル−ｎ−ブチル基、５−エトキシカルボニル−ｎ−ペンチル基、６−エトキシカルボニル−ｎ−ヘキシル基、７−エトキシカルボニル−ｎ−ヘプチル基、及び８−エトキシカルボニル−ｎ−オクチル基等のアルコキシカルボニルアルキル基；２−クロロエチル基、３−クロロ−ｎ−プロピル基、４−クロロ−ｎ−ブチル基、５−クロロ−ｎ−ペンチル基、６−クロロ−ｎ−ヘキシル基、７−クロロ−ｎ−ヘプチル基、８−クロロ−ｎ−オクチル基、２−ブロモエチル基、３−ブロモ−ｎ−プロピル基、４−ブロモ−ｎ−ブチル基、５−ブロモ−ｎ−ペンチル基、６−ブロモ−ｎ−ヘキシル基、７−ブロモ−ｎ−ヘプチル基、８−ブロモ−ｎ−オクチル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、及び３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロ−ｎ−ペンチル基等のハロゲン化アルキル基が挙げられる。 Preferable specific examples of R c8 and R c9 include alkyl groups such as ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, and n-octyl group; 2-methoxyethyl Group, 3-methoxy-n-propyl group, 4-methoxy-n-butyl group, 5-methoxy-n-pentyl group, 6-methoxy-n-hexyl group, 7-methoxy-n-heptyl group, 8-methoxy -N-octyl group, 2-ethoxyethyl group, 3-ethoxy-n-propyl group, 4-ethoxy-n-butyl group, 5-ethoxy-n-pentyl group, 6-ethoxy-n-hexyl group, 7- Alkoxyalkyl groups such as ethoxy-n-heptyl group and 8-ethoxy-n-octyl group; 2-cyanoethyl group, 3-cyano-n-propyl group, 4-cyano-n-butyl group, 5-cyano-n − Cyanoalkyl groups such as an nyl group, a 6-cyano-n-hexyl group, a 7-cyano-n-heptyl group, and an 8-cyano-n-octyl group; a 2-phenylethyl group, a 3-phenyl-n-propyl group Phenylalkyl such as 4-phenyl-n-butyl group, 5-phenyl-n-pentyl group, 6-phenyl-n-hexyl group, 7-phenyl-n-heptyl group, and 8-phenyl-n-octyl group Groups: 2-cyclohexylethyl group, 3-cyclohexyl-n-propyl group, 4-cyclohexyl-n-butyl group, 5-cyclohexyl-n-pentyl group, 6-cyclohexyl-n-hexyl group, 7-cyclohexyl-n- Heptyl, 8-cyclohexyl-n-octyl, 2-cyclopentylethyl, 3-cyclopentyl-n-propyl, 4-cyclopent Cycloalkylalkyl groups such as ru-n-butyl, 5-cyclopentyl-n-pentyl, 6-cyclopentyl-n-hexyl, 7-cyclopentyl-n-heptyl, and 8-cyclopentyl-n-octyl; 2-methoxycarbonylethyl group, 3-methoxycarbonyl-n-propyl group, 4-methoxycarbonyl-n-butyl group, 5-methoxycarbonyl-n-pentyl group, 6-methoxycarbonyl-n-hexyl group, 7-methoxy Carbonyl-n-heptyl group, 8-methoxycarbonyl-n-octyl group, 2-ethoxycarbonylethyl group, 3-ethoxycarbonyl-n-propyl group, 4-ethoxycarbonyl-n-butyl group, 5-ethoxycarbonyl-n -Pentyl group, 6-ethoxycarbonyl-n-hexyl group, 7-ethoxy Alkoxycarbonylalkyl groups such as rubonyl-n-heptyl and 8-ethoxycarbonyl-n-octyl; 2-chloroethyl, 3-chloro-n-propyl, 4-chloro-n-butyl, 5-chloro -N-pentyl group, 6-chloro-n-hexyl group, 7-chloro-n-heptyl group, 8-chloro-n-octyl group, 2-bromoethyl group, 3-bromo-n-propyl group, 4-bromo -N-butyl group, 5-bromo-n-pentyl group, 6-bromo-n-hexyl group, 7-bromo-n-heptyl group, 8-bromo-n-octyl group, 3,3,3-trifluoro Examples thereof include a propyl group and a halogenated alkyl group such as 3,3,4,4,5,5,5-heptafluoro-n-pentyl group.

Ｒｃ８及びＲｃ９として、上記の中でも好適な基は、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、２−メトキシエチル基、２−シアノエチル基、２−フェニルエチル基、２−シクロヘキシルエチル基、２−メトキシカルボニルエチル基、２−クロロエチル基、２−ブロモエチル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、及び３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロ−ｎ−ペンチル基である。 Among R c8 and R c9 , preferred groups among the above are ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-pentyl group, 2-methoxyethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-phenylethyl group, 2-cyclohexylethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, and 3,3,4,4,5,5,5-hepta A fluoro-n-pentyl group;

Ｒｃ１０の好適な有機基の例としては、Ｒｃ７と同様に、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、アルコキシカルボニル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基、１、又は２の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン−１−イル基、及びピペラジン−１−イル基等が挙げられる。これらの基の具体例は、Ｒｃ７について説明したものと同様である。また、Ｒｃ１０としてはシクロアルキルアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェノキシアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基、も好ましい。フェノキシアルキル基、及びフェニルチオアルキル基が有していてもよい置換基は、Ｒｃ７に含まれるフェニル基が有していてもよい置換基と同様である。 Examples of suitable organic groups for R c10 are the same as for R c7 , alkyl groups, alkoxy groups, cycloalkyl groups, cycloalkoxy groups, saturated aliphatic acyl groups, alkoxycarbonyl groups, saturated aliphatic acyloxy groups, substituents. A phenyl group which may have a substituent, a phenoxy group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenoxycarbonyl group which may have a substituent, and a substituent A good benzoyloxy group, a phenylalkyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthoxy group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, A naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, a naphthoyloxy group which may have a substituent, a naphthylalkyl group which may have a substituent, a heterocycle which may have a substituent Group, an optionally substituted heterocyclyl group, 1, or an amino group substituted with two organic groups, morpholin-1-yl group, and piperazine-1-yl group. Specific examples of these groups are the same as those described for R c7 . R c10 is also preferably a cycloalkylalkyl group, a phenoxyalkyl group which may have a substituent on the aromatic ring, or a phenylthioalkyl group which may have a substituent on the aromatic ring. The substituent that the phenoxyalkyl group and the phenylthioalkyl group may have is the same as the substituent that the phenyl group contained in R c7 may have.

有機基の中でも、Ｒｃ１０としては、アルキル基、シクロアルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、又はシクロアルキルアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基が好ましい。アルキル基としては、炭素原子数１〜２０のアルキル基が好ましく、炭素原子数１〜８のアルキル基がより好ましく、炭素原子数１〜４のアルキル基が特に好ましく、メチル基が最も好ましい。置換基を有していてもよいフェニル基の中では、メチルフェニル基が好ましく、２−メチルフェニル基がより好ましい。シクロアルキルアルキル基に含まれるシクロアルキル基の炭素原子数は、５〜１０が好ましく、５〜８がより好ましく、５又は６が特に好ましい。シクロアルキルアルキル基に含まれるアルキレン基の炭素原子数は、１〜８が好ましく、１〜４がより好ましく、２が特に好ましい。シクロアルキルアルキル基の中では、シクロペンチルエチル基が好ましい。芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基に含まれるアルキレン基の炭素原子数は、１〜８が好ましく、１〜４がより好ましく、２が特に好ましい。芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基の中では、２−（４−クロロフェニルチオ）エチル基が好ましい。 Among organic groups, as R c10 , an alkyl group, a cycloalkyl group, a phenyl group which may have a substituent, a cycloalkylalkyl group, or a phenylthio which may have a substituent on an aromatic ring. Alkyl groups are preferred. As the alkyl group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferable, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is more preferable, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is particularly preferable, and a methyl group is most preferable. Among the phenyl groups that may have a substituent, a methylphenyl group is preferable, and a 2-methylphenyl group is more preferable. The number of carbon atoms of the cycloalkyl group contained in the cycloalkylalkyl group is preferably 5 to 10, more preferably 5 to 8, and particularly preferably 5 or 6. 1-8 are preferable, as for the carbon atom number of the alkylene group contained in a cycloalkylalkyl group, 1-4 are more preferable, and 2 is especially preferable. Of the cycloalkylalkyl groups, a cyclopentylethyl group is preferred. 1-8 are preferable, as for the carbon atom number of the alkylene group contained in the phenylthioalkyl group which may have a substituent on an aromatic ring, 1-4 are more preferable, and 2 is especially preferable. Among the phenylthioalkyl groups which may have a substituent on the aromatic ring, a 2- (4-chlorophenylthio) ethyl group is preferable.

また、Ｒｃ１０としては、−Ａ３−ＣＯ−Ｏ−Ａ４で表される基も好ましい。Ａ３は、２価の有機基であり、２価の炭化水素基であるのが好ましく、アルキレン基であるのが好ましい。Ａ４は、１価の有機基であり、１価の炭化水素基であるのが好ましい。 In addition, as R c10 , a group represented by —A 3 —CO—O—A 4 is also preferable. A 3 is a divalent organic group, preferably a divalent hydrocarbon group, and preferably an alkylene group. A 4 is a monovalent organic group, and is preferably a monovalent hydrocarbon group.

Ａ３がアルキレン基である場合、アルキレン基は直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。Ａ３がアルキレン基である場合、アルキレン基の炭素原子数は１〜１０が好ましく、１〜６がより好ましく、１〜４が特に好ましい。 When A 3 is an alkylene group, the alkylene group may be linear or branched, and is preferably linear. If A 3 is an alkylene group, number of carbon atoms in the alkylene group is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 6, 1 to 4 are particularly preferred.

Ａ４の好適な例としては、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数７〜２０のアラルキル基、及び炭素原子数６〜２０の芳香族炭化水素基が挙げられる。Ａ４の好適な具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、フェニル基、ナフチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−ナフチルメチル基、及びβ−ナフチルメチル基等が挙げられる。 Preferable examples of A 4 include an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, and an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms. Preferred examples of A 4 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, and n-hexyl. Group, phenyl group, naphthyl group, benzyl group, phenethyl group, α-naphthylmethyl group, β-naphthylmethyl group and the like.

−Ａ３−ＣＯ−Ｏ−Ａ４で表される基の好適な具体例としては、２−メトキシカルボニルエチル基、２−エトキシカルボニルエチル基、２−ｎ−プロピルオキシカルボニルエチル基、２−ｎ−ブチルオキシカルボニルエチル基、２−ｎ−ペンチルオキシカルボニルエチル基、２−ｎ−ヘキシルオキシカルボニルエチル基、２−ベンジルオキシカルボニルエチル基、２−フェノキシカルボニルエチル基、３−メトキシカルボニル−ｎ−プロピル基、３−エトキシカルボニル−ｎ−プロピル基、３−ｎ−プロピルオキシカルボニル−ｎ−プロピル基、３−ｎ−ブチルオキシカルボニル−ｎ−プロピル基、３−ｎ−ペンチルオキシカルボニル−ｎ−プロピル基、３−ｎ−ヘキシルオキシカルボニル−ｎ−プロピル基、３−ベンジルオキシカルボニル−ｎ−プロピル基、及び３−フェノキシカルボニル−ｎ−プロピル基等が挙げられる。 Preferred examples of the group represented by —A 3 —CO—O—A 4 include 2-methoxycarbonylethyl group, 2-ethoxycarbonylethyl group, 2-n-propyloxycarbonylethyl group, 2-n -Butyloxycarbonylethyl group, 2-n-pentyloxycarbonylethyl group, 2-n-hexyloxycarbonylethyl group, 2-benzyloxycarbonylethyl group, 2-phenoxycarbonylethyl group, 3-methoxycarbonyl-n-propyl Group, 3-ethoxycarbonyl-n-propyl group, 3-n-propyloxycarbonyl-n-propyl group, 3-n-butyloxycarbonyl-n-propyl group, 3-n-pentyloxycarbonyl-n-propyl group , 3-n-hexyloxycarbonyl-n-propyl group, 3-benzyloxycarbonyl -n- propyl group, and 3-phenoxycarbonyl -n- propyl group and the like.

以上、Ｒｃ１０について説明したが、Ｒｃ１０としては、下記式（ｃ４ａ）又は（ｃ４ｂ）で表される基が好ましい。

Figure 2018072398
（式（ｃ４ａ）及び（ｃ４ｂ）中、Ｒｃ１３及びＲｃ１４はそれぞれ有機基であり、ｎ６は０〜４の整数であり、Ｒｃ１３及びＲ８がベンゼン環上の隣接する位置に存在する場合、Ｒｃ１３とＲｃ１４とが互いに結合して環を形成してもよく、ｎ７は１〜８の整数であり、ｎ８は１〜５の整数であり、ｎ９は０〜（ｎ８＋３）の整数であり、Ｒｃ１５は有機基である。） Having described R c10, as the R c10, preferably a group represented by the following formula (C4a) or (C4b).
Figure 2018072398
 (In the formulas (c4a) and (c4b), R c13 and R c14 are each an organic group, n6 is an integer of 0 to 4, and R c13 and R 8 are present at adjacent positions on the benzene ring. R c13 and R c14 may be bonded to each other to form a ring, n7 is an integer of 1 to 8, n8 is an integer of 1 to 5, and n9 is an integer of 0 to (n8 + 3). And R c15 is an organic group.)

式（ｃ４ａ）中のＲｃ１３及びＲｃ１４についての有機基の例は、Ｒｃ７と同様である。Ｒｃ１３としては、アルキル基又はフェニル基が好ましい。Ｒｃ１３がアルキル基である場合、その炭素原子数は、１〜１０が好ましく、１〜５がより好ましく、１〜３が特に好ましく、１が最も好ましい。つまり、Ｒｃ１３はメチル基であるのが最も好ましい。Ｒｃ１３とＲｃ１４とが結合して環を形成する場合、当該環は、芳香族環でもよく、脂肪族環でもよい。式（ｃ４ａ）で表される基であって、Ｒｃ１３とＲｃ１４とが環を形成している基の好適な例としては、ナフタレン−１−イル基や、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−５−イル基等が挙げられる。上記式（ｃ４ａ）中、ｎ６は０〜４の整数であり、０又は１であるのが好ましく、０であるのがより好ましい。 Examples of the organic group for R c13 and R c14 in formula (c4a) are the same as those for R c7 . R c13 is preferably an alkyl group or a phenyl group. When R c13 is an alkyl group, the number of carbon atoms is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 5, particularly preferably 1 to 3, and most preferably 1. That is, R c13 is most preferably a methyl group. When R c13 and R c14 combine to form a ring, the ring may be an aromatic ring or an aliphatic ring. Preferred examples of the group represented by the formula (c4a) in which R c13 and R c14 form a ring include a naphthalen-1-yl group, 1,2,3,4- And tetrahydronaphthalen-5-yl group. In said formula (c4a), n6 is an integer of 0-4, It is preferable that it is 0 or 1, and it is more preferable that it is 0.

上記式（ｃ４ｂ）中、Ｒｃ１５は有機基である。有機基としては、Ｒｃ７について説明した有機基と同様の基が挙げられる。有機基の中では、アルキル基が好ましい。アルキル基は直鎖状でも分岐鎖状でもよい。アルキル基の炭素原子数は１〜１０が好ましく、１〜５がより好ましく、１〜３が特に好ましい。Ｒｃ１５としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等が好ましく例示され、これらの中でも、メチル基であることがより好ましい。 In the above formula (c4b), R c15 is an organic group. Examples of the organic group include the same groups as those described for R c7 . Of the organic groups, an alkyl group is preferred. The alkyl group may be linear or branched. 1-10 are preferable, as for the carbon atom number of an alkyl group, 1-5 are more preferable, and 1-3 are especially preferable. As R c15 , a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group and the like are preferably exemplified, and among these, a methyl group is more preferable.

上記式（ｃ４ｂ）中、ｎ８は１〜５の整数であり、１〜３の整数が好ましく、１又は２がより好ましい。上記式（ｃ４ｂ）中、ｎ９は０〜（ｎ８＋３）であり、０〜３の整数が好ましく、０〜２の整数がより好ましく、０が特に好ましい。上記式（ｃ４ｂ）中、ｎ７は１〜８の整数であり、１〜５の整数が好ましく、１〜３の整数がより好ましく、１又は２が特に好ましい。   In said formula (c4b), n8 is an integer of 1-5, the integer of 1-3 is preferable and 1 or 2 is more preferable. In said formula (c4b), n9 is 0- (n8 + 3), the integer of 0-3 is preferable, the integer of 0-2 is more preferable, and 0 is especially preferable. In said formula (c4b), n7 is an integer of 1-8, the integer of 1-5 is preferable, the integer of 1-3 is more preferable, and 1 or 2 is especially preferable.

式（ｃ４）中、Ｒｃ１１は、水素原子、置換基を有してもよい炭素原子数１〜１１のアルキル基、又は置換基を有してもよいアリール基である。Ｒｃ１１がアルキル基である場合に有してもよい置換基としては、フェニル基、ナフチル基等が好ましく例示される。また、Ｒｃ７がアリール基である場合に有してもよい置換基としては、炭素原子数１〜５のアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子等が好ましく例示される。 In formula (c4), R c11 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 11 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent. Preferred examples of the substituent that may be present when R c11 is an alkyl group include a phenyl group and a naphthyl group. In addition, preferred examples of the substituent that may be present when R c7 is an aryl group include an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group, and a halogen atom.

式（ｃ４）中、Ｒｃ１１としては、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、フェニル基、ベンジル基、メチルフェニル基、ナフチル基等が好ましく例示され、これらの中でも、メチル基又はフェニル基がより好ましい。 In formula (c4), R c11 is preferably a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a phenyl group, a benzyl group, a methylphenyl group, a naphthyl group, or the like. Among these, a methyl group or a phenyl group is more preferable.

式（ｃ４）で表される化合物は、前述の式（ｃ５）で表される化合物に含まれるオキシム基（＞Ｃ＝Ｎ−ＯＨ）を、＞Ｃ＝Ｎ−Ｏ−ＣＯＲｃ１１で表されるオキシムエステル基に変換する工程を含む方法により製造される。Ｒｃ１１は、式（ｃ４）中のＲｃ１１と同様である。 The compound represented by the formula (c4) represents an oxime group (> C═N—OH) contained in the compound represented by the above formula (c5) by> C═N—O—COR c11. It is produced by a method including a step of converting to an oxime ester group. R c11 are the same as R c11 in formula (c4).

オキシム基（＞Ｃ＝Ｎ−ＯＨ）の、＞Ｃ＝Ｎ−Ｏ−ＣＯＲｃ１１で表されるオキシムエステル基への変換は、前述の式（ｃ５）で表される化合物と、アシル化剤とを反応させることにより行われる。
−ＣＯＲｃ１１で表されるアシル基を与えるアシル化剤としては、（Ｒｃ１１ＣＯ）２Ｏで表される酸無水物や、Ｒｃ１１ＣＯＨａｌ（Ｈａｌはハロゲン原子）で表される酸ハライドが挙げられる。 The conversion of the oxime group (> C═N—OH) to the oxime ester group represented by> C═N—O—COR c11 involves conversion of the compound represented by the above formula (c5), an acylating agent, It is performed by reacting.
The acylating agent to give the acyl group represented by -COR c11, (R c11 CO) or an acid anhydride represented by 2 O, R c11 COHal (Hal is a halogen atom) include acid halide represented by It is done.

一般式（ｃ４）で表される化合物は、ｎ５が０である場合、例えば、下記スキーム３に従って合成することができる。スキーム３では、下記式（ｃ３−１）で表されるフルオレン誘導体を原料として用いる。Ｒｃ７がニトロ基又は１価の有機基である場合、式（ｃ３−１）で表されるフルオレン誘導体は、９位をＲｃ８及びＲｃ９で置換されたフルオレン誘導体に、周知の方法によって、置換基Ｒｃ７を導入して得ることができる。９位をＲｃ８及びＲｃ９で置換されたフルオレン誘導体は、例えば、Ｒｃ８及びＲｃ９がアルキル基である場合、特開平０６−２３４６６８号公報に記載されるように、アルカリ金属水酸化物の存在下に、非プロトン性極性有機溶媒中で、フルオレンとアルキル化剤とを反応させて得ることができる。また、フルオレンの有機溶媒溶液中に、ハロゲン化アルキルのようなアルキル化剤と、アルカリ金属水酸化物の水溶液と、ヨウ化テトラブチルアンモニウムやカリウムｔｅｒｔ−ブトキシドのような相間移動触媒とを添加してアルキル化反応を行うことで、９，９−アルキル置換フルオレンを得ることができる。 When n5 is 0, the compound represented by the general formula (c4) can be synthesized according to the following scheme 3, for example. In Scheme 3, a fluorene derivative represented by the following formula (c3-1) is used as a raw material. When R c7 is a nitro group or a monovalent organic group, the fluorene derivative represented by the formula (c3-1) is converted into a fluorene derivative substituted at the 9-position with R c8 and R c9 by a known method. It can be obtained by introducing the substituent R c7 . The fluorene derivative substituted at the 9-position with R c8 and R c9 is, for example, an alkali metal hydroxide as described in JP-A No. 06-234668 when R c8 and R c9 are alkyl groups. It can be obtained by reacting fluorene with an alkylating agent in the presence of an aprotic polar organic solvent. In addition, an alkylating agent such as an alkyl halide, an aqueous solution of an alkali metal hydroxide, and a phase transfer catalyst such as tetrabutylammonium iodide or potassium tert-butoxide are added to an organic solvent solution of fluorene. By performing the alkylation reaction, 9,9-alkyl-substituted fluorene can be obtained.

式（ｃ３−１）で表されるフルオレン誘導体に、フリーデルクラフツアシル化反応により、−ＣＯ−Ｒｃ１０で表されるアシル基を導入し、式（ｃ３−３）で表されるフルオレン誘導体が得られる。を、−ＣＯ−Ｒｃ１０で表されるアシル基を導入するためのアシル化剤は、ハロカルボニル化合物であってもよく、酸無水物であってもよい。アシル化剤としては、式（ｃ３−２）で表されるハロカルボニル化合物が好ましい。式（ｃ３−２）中、Ｈａｌはハロゲン原子である。フルオレン環上にアシル基が導入される位置は、フリーデルクラフツ反応の条件を適宜変更したり、アシル化される位置の他の位置に保護及び脱保護を施したりする方法で、選択することができる。 An acyl group represented by —CO—R c10 is introduced into the fluorene derivative represented by the formula (c3-1) by Friedel-Crafts acylation reaction, and the fluorene derivative represented by the formula (c3-3) can get. The acylating agent for introducing an acyl group represented by —CO—R c10 may be a halocarbonyl compound or an acid anhydride. As the acylating agent, a halocarbonyl compound represented by the formula (c3-2) is preferable. In formula (c3-2), Hal is a halogen atom. The position at which the acyl group is introduced on the fluorene ring can be selected by changing the Friedel-Crafts reaction conditions as appropriate, or by performing protection and deprotection at other positions where acylation is performed. it can.

次いで、得られる式（ｃ３−３）で表されるフルオレン誘導体中の−ＣＯ−Ｒｃ１０で表される基を、−Ｃ（＝Ｎ−ＯＨ）−Ｒｃ１０で表される基に変換し、式（ｃ３−４）で表されるオキシム化合物を得る。−ＣＯ−Ｒｃ１０で表される基を、−Ｃ（＝Ｎ−ＯＨ）−Ｒｃ１０で表される基に変換する方法は特に限定されないが、ヒドロキシルアミンによるオキシム化が好ましい。式（ｃ３−４）のオキシム化合物と、下式（ｃ３−５）で表される酸無水物（（Ｒｃ１１ＣＯ）２Ｏ）、又は下記式（ｃ３−６）で表される酸ハライド（Ｒｃ１１ＣＯＨａｌ、Ｈａｌはハロゲン原子。）とを反応させて、下記式（ｃ３−７）で表される化合物を得ることができる。 Next, the group represented by —CO—R c10 in the fluorene derivative represented by the formula (c3-3) to be obtained is converted into a group represented by —C (═N—OH) —R c10 , An oxime compound represented by the formula (c3-4) is obtained. The method for converting the group represented by —CO—R c10 to the group represented by —C (═N—OH) —R c10 is not particularly limited, but oximation with hydroxylamine is preferred. An oxime compound of the formula (c3-4) and an acid anhydride ((R c11 CO) 2 O) represented by the following formula (c3-5) or an acid halide represented by the following formula (c3-6) ( R c11 COHal, Hal is a halogen atom) and a compound represented by the following formula (c3-7) can be obtained.

なお、式（ｃ３−１）、（ｃ３−２）、（ｃ３−３）、（ｃ３−４）、（ｃ３−５）、（ｃ３−６）、及び（ｃ３−７）において、Ｒｃ７、Ｒｃ８、Ｒｃ９、Ｒｃ１０、及びＲｃ１１は、式（ｃ４）と同様である。 In formulas (c3-1), (c3-2), (c3-3), (c3-4), (c3-5), (c3-6), and (c3-7), R c7 , R c8 , R c9 , R c10 , and R c11 are the same as those in formula (c4).

また、スキーム３において、式（ｃ３−２）、式（ｃ３−３）、及び式（ｃ３−４）それぞれに含まれるＲｃ１０は、同一であっても異なってもいてもよい。つまり、式（ｃ３−２）、式（ｃ３−３）、及び式（ｃ３−４）中のＲｃ１０は、スキーム３として示される合成過程において、化学修飾を受けてもよい。化学修飾の例としては、エステル化、エーテル化、アシル化、アミド化、ハロゲン化、アミノ基中の水素原子の有機基による置換等が挙げられる。Ｒｃ１０が受けてもよい化学修飾はこれらに限定されない。 In Scheme 3, R c10 contained in each of formula (c3-2), formula (c3-3), and formula (c3-4) may be the same or different. That is, R c10 in formula (c3-2), formula (c3-3), and formula (c3-4) may undergo chemical modification in the synthesis process shown as Scheme 3. Examples of chemical modification include esterification, etherification, acylation, amidation, halogenation, substitution of a hydrogen atom in an amino group with an organic group, and the like. The chemical modification that R c10 may undergo is not limited thereto.

＜スキーム３＞

Figure 2018072398
<Scheme 3>
Figure 2018072398

式（ｃ４）で表される化合物は、ｎ５が１である場合、例えば、下記スキーム４に従って合成することができる。スキーム４では、下記式（ｃ４−１）で表されるフルオレン誘導体を原料として用いる。式（ｃ４−１）で表されるフルオレン誘導体は、スキーム３と同様の方法によって、式（ｃ３−１）で表される化合物に、フリーデルクラフツ反応によって−ＣＯ−ＣＨ２−Ｒｃ１０で表されるアシル基を導入して得られる。アシル化剤としては、式（ｃ３−８）：Ｈａｌ−ＣＯ−ＣＨ２−Ｒｃ１０で表されるカルボン酸ハライドが好ましい。次いで、式（ｃ４−１）で表される化合物中の、Ｒｃ１０とカルボニル基との間に存在するメチレン基をオキシム化して、下式（ｃ４−３）で表されるケトオキシム化合物を得る。メチレン基をオキシム化する方法は特に限定されないが、塩酸の存在下に下記一般式（ｃ４−２）で表される亜硝酸エステル（ＲＯＮＯ、Ｒは炭素原子数１〜６のアルキル基。）を反応させる方法が好ましい。次いで、下記式（ｃ４−３）で表されるケトオキシム化合物と、下記式（ｃ４−４）で表される酸無水物（Ｒｃ１１ＣＯ）２Ｏ）、又は下記式（ｃ４−５）で表される酸ハライド（Ｒｃ１１ＣＯＨａｌ、Ｈａｌはハロゲン原子。）とを反応させて、下記式（ｃ４−６）で表される化合物を得ることができる。なお、下記式（ｃ４−１）、（ｃ４−３）、（ｃ４−４）、（ｃ４−５）、及び（ｃ４−６）において、Ｒｃ７、Ｒｃ８、Ｒｃ９、Ｒｃ１０、及びＲｃ１１は、式（ｃ４）と同様である。
ｎ５が１である場合、式（ｃ４）で表される化合物を含有する感光性組成物を用いて形成されるパターン中での異物の発生をより低減できる傾向がある。 When n5 is 1, the compound represented by the formula (c4) can be synthesized according to the following scheme 4, for example. In Scheme 4, a fluorene derivative represented by the following formula (c4-1) is used as a raw material. The fluorene derivative represented by the formula (c4-1) is represented by —CO—CH 2 —R c10 by a Friedel-Crafts reaction to a compound represented by the formula (c3-1) by the same method as in Scheme 3. It is obtained by introducing an acyl group. The acylating agent of the formula (C3-8): carboxylic acid halide is preferably represented by Hal-CO-CH 2 -R c10 . Subsequently, the methylene group present between R c10 and the carbonyl group in the compound represented by the formula (c4-1) is oximed to obtain a ketoxime compound represented by the following formula (c4-3). The method for oximation of the methylene group is not particularly limited, but a nitrite ester (RONO, R is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms) represented by the following general formula (c4-2) in the presence of hydrochloric acid. A reaction method is preferred. Next, a ketoxime compound represented by the following formula (c4-3) and an acid anhydride (R c11 CO) 2 O) represented by the following formula (c4-4) or the following formula (c4-5) The compound represented by the following formula (c4-6) can be obtained by reacting with an acid halide (R c11 COHal, Hal is a halogen atom). In the following formulas (c4-1), (c4-3), (c4-4), (c4-5), and (c4-6), R c7 , R c8 , R c9 , R c10 , and R c11 is the same as that of Formula (c4).
When n5 is 1, there exists a tendency which can reduce more the generation | occurrence | production of the foreign material in the pattern formed using the photosensitive composition containing the compound represented by Formula (c4).

また、スキーム４において、式（ｃ３−８）、式（ｃ４−１）、及び式（ｃ４−３）それぞれに含まれるＲｃ１０は、同一であっても異なってもいてもよい。つまり、式（ｃ３−８）、式（ｃ４−１）、及び式（ｃ４−３）中のＲｃ１０は、スキーム４として示される合成過程において、化学修飾を受けてもよい。化学修飾の例としては、エステル化、エーテル化、アシル化、アミド化、ハロゲン化、アミノ基中の水素原子の有機基による置換等が挙げられる。Ｒｃ１０が受けてもよい化学修飾はこれらに限定されない。 In scheme 4, R c10 contained in each of formula (c3-8), formula (c4-1), and formula (c4-3) may be the same or different. That is, R c10 in formula (c3-8), formula (c4-1), and formula (c4-3) may undergo chemical modification in the synthesis process shown as Scheme 4. Examples of chemical modification include esterification, etherification, acylation, amidation, halogenation, substitution of a hydrogen atom in an amino group with an organic group, and the like. The chemical modification that R c10 may undergo is not limited thereto.

＜スキーム４＞

Figure 2018072398
<Scheme 4>
Figure 2018072398

式（ｃ４）で表される化合物の好適な具体例としては、以下のＰＩ−４３〜ＰＩ−８３が挙げられる。

Figure 2018072398
Preferable specific examples of the compound represented by the formula (c4) include the following PI-43 to PI-83.
Figure 2018072398

Figure 2018072398
Figure 2018072398

前述の通り、感光性組成物中の塩化物イオン量は、１０００質量ｐｐｍ以下である。このため、光重合開始剤（Ｃ）中の塩化物イオン量もある程度低減されている必要がある。
この点、オキシムエステル化合物（Ｃ１）は、その製造方法に起因して特に塩化物イオンを含みやすい。このためオキシムエステル化合物（Ｃ１）の精製は重要である。
オキシムエステル化合物（Ｃ１）中の塩化物イオン量を低減する方法としては、
１）塩化アルミニウムを用いてフリーデルクラフツ反応を行う工程を含む方法によりオキシムエステル化合物（Ｃ１）を合成し、且つ、オキシムエステル化合物の塩化物イオンの含有量が極力低減されるように、塩化アルミニウムの使用量を調整する方法、
２）オキシムエステル化合物（Ｃ１）で表される化合物の合成において、塩素原子を含まない酸を用いる方法、
３）オキシムエステル化合物（Ｃ１）で表される化合物の合成において、フリーデルクラフツアシル化反応又はオキシム基のアシル化にて、アシル化剤として酸無水物を用いる方法、
４）オキシムエステル化合物（Ｃ１）で表される化合物の粗精製品を、蒸留、再結晶、水洗、及びカラムクロマトグラフィーからなる群より選択される１以上の方法により精製する方法、
５）オキシムエステル化合物（Ｃ１）で表される化合物の粗精製品を疎水性有機溶剤に溶かした溶液を水洗した後に、洗浄された溶液からオキシムエステル化合物（Ｃ１）で表される化合物を回収する方法、及び
６）オキシムエステル化合物（Ｃ１）で表される化合物の粗精製品を疎水性有機溶剤に溶かした溶液を陰イオン交換樹脂により処理した後、オキシムエステル化合物（Ｃ１）を回収する方法が挙げられる。 As described above, the amount of chloride ions in the photosensitive composition is 1000 mass ppm or less. For this reason, the amount of chloride ions in the photopolymerization initiator (C) needs to be reduced to some extent.
In this respect, the oxime ester compound (C1) is particularly likely to contain chloride ions due to its production method. Therefore, purification of the oxime ester compound (C1) is important.
As a method of reducing the amount of chloride ions in the oxime ester compound (C1),
1) Aluminum chloride is synthesized so that the oxime ester compound (C1) is synthesized by a method including a step of performing a Friedel-Crafts reaction using aluminum chloride, and the chloride ion content of the oxime ester compound is reduced as much as possible. How to adjust the usage of
2) A method of using an acid containing no chlorine atom in the synthesis of the compound represented by the oxime ester compound (C1),
3) In the synthesis of the compound represented by the oxime ester compound (C1), a method of using an acid anhydride as an acylating agent in Friedel-Crafts acylation reaction or acylation of an oxime group,
4) A method for purifying a crude product of the compound represented by the oxime ester compound (C1) by one or more methods selected from the group consisting of distillation, recrystallization, washing with water, and column chromatography,
5) After washing a solution obtained by dissolving a crude product of the compound represented by the oxime ester compound (C1) in a hydrophobic organic solvent, the compound represented by the oxime ester compound (C1) is recovered from the washed solution. And 6) a method in which a crude product of the compound represented by the oxime ester compound (C1) is dissolved in a hydrophobic organic solvent, treated with an anion exchange resin, and then the oxime ester compound (C1) is recovered. Can be mentioned.

（化合物（Ｃ２）） (Compound (C2))

感光性組成物は、光重合開始剤（Ｃ）として、前述のオキシムエステル化合物（Ｃ１）とともに、オキシムエステル化合物以外の化合物（Ｃ２）とを含む。化合物（Ｃ２）の種類は、オキシムエステル化合物ではなく、光重合開始剤として作用し得る限り特に限定されない。   A photosensitive composition contains compounds (C2) other than an oxime ester compound with the above-mentioned oxime ester compound (C1) as a photoinitiator (C). The type of compound (C2) is not particularly limited as long as it is not an oxime ester compound and can act as a photopolymerization initiator.

化合物（Ｃ２）として具体的には、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル〕−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ケトン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、２−（ベンゾイルオキシイミノ）−１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−１−オクタノン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、４−ベンゾイル−４’−メチルジメチルスルフィド、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸ブチル、４−ジメチルアミノ−２−エチルヘキシル安息香酸、４−ジメチルアミノ−２−イソアミル安息香酸、ベンジル−β−メトキシエチルアセタール、ベンジルジメチルケタール、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、２，４−ジエチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン、チオキサンテン、２−クロロチオキサンテン、２，４−ジエチルチオキサンテン、２−メチルチオキサンテン、２−イソプロピルチオキサンテン、２−エチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，２−ベンズアントラキノン、２，３−ジフェニルアントラキノン、アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイルパーオキシド、クメンヒドロペルオキシド、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（ｍ−メトキシフェニル）−イミダゾリル二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾリル二量体、ベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、ｐ，ｐ’−ビスジメチルアミノベンゾフェノン、４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、３，３−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、ジクロロアセトフェノン、トリクロロアセトフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルトリクロロアセトフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、α，α−ジクロロ−４−フェノキシアセトフェノン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ジベンゾスベロン、ペンチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、９−フェニルアクリジン、１，７−ビス−（９−アクリジニル）ヘプタン、１，５−ビス−（９−アクリジニル）ペンタン、１，３−ビス−（９−アクリジニル）プロパン、ｐ−メトキシトリアジン、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（フラン−２−イル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（３，４−ジメトキシフェニル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−エトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−ｎ−ブトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス−トリクロロメチル−６−（３−ブロモ−４−メトキシ）フェニル−ｓ−トリアジン、２，４−ビス−トリクロロメチル−６−（２−ブロモ−４−メトキシ）フェニル−ｓ−トリアジン、２，４−ビス−トリクロロメチル−６−（３−ブロモ−４−メトキシ）スチリルフェニル−ｓ−トリアジン、２，４−ビス−トリクロロメチル−６−（２−ブロモ−４−メトキシ）スチリルフェニル−ｓ−トリアジン等が挙げられる。これらの光重合開始剤は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。   Specific examples of the compound (C2) include 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -2- Hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 1- (4-dodecylphenyl) -2-hydroxy-2 -Methylpropan-1-one, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, bis (4-dimethylaminophenyl) ketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl]- 2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one, 2- ( Nzoyloxyimino) -1- [4- (phenylthio) phenyl] -1-octanone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 4-benzoyl-4′-methyldimethylsulfide, 4-dimethylaminobenzoic acid Methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, butyl 4-dimethylaminobenzoate, 4-dimethylamino-2-ethylhexylbenzoic acid, 4-dimethylamino-2-isoamylbenzoic acid, benzyl-β -Methoxyethyl acetal, benzyldimethyl ketal, methyl o-benzoylbenzoate, 2,4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 1-chloro-4-propoxythioxanthone, thioxanthene, 2-chlorothi Oxanthene, 2,4-diethylthioxanthene, 2-methylthioxanthene, 2-isopropylthioxanthene, 2-ethylanthraquinone, octamethylanthraquinone, 1,2-benzanthraquinone, 2,3-diphenylanthraquinone, azobisisobutyronitrile , Benzoyl peroxide, cumene hydroperoxide, 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2- (o-chlorophenyl) -4,5-di (m-methoxyphenyl) -imidazolyl dimer 2- (o-chlorophenyl) -4,5-diphenylimidazolyl dimer, benzophenone, 2-chlorobenzophenone, p, p'-bisdimethylaminobenzophenone, 4,4'-bisdiethylaminobenzene Zophenone, 4,4′-dichlorobenzophenone, 3,3-dimethyl-4-methoxybenzophenone, benzyl, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin-n-butyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin butyl ether, Acetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, p-dimethylaminopropiophenone, dichloroacetophenone, trichloroacetophenone, p-tert-butylacetophenone, p-dimethylaminoacetophenone, p-tert-butyltrichloroacetophenone, p-tert-butyldichloroacetophenone, α, α-dichloro-4-phenoxyacetophenone, thioxa , 2-methylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, dibenzosuberone, pentyl-4-dimethylaminobenzoate, 9-phenylacridine, 1,7-bis- (9-acridinyl) heptane, 1,5-bis- (9 -Acridinyl) pentane, 1,3-bis- (9-acridinyl) propane, p-methoxytriazine, 2,4,6-tris (trichloromethyl) -s-triazine, 2-methyl-4,6-bis (trichloro Methyl) -s-triazine, 2- [2- (5-methylfuran-2-yl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (furan-2-yl) ) Ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (4-diethylamino-2-methylpheny) ) Ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-ethoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-n -Butoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2,4-bis-trichloromethyl-6- (3-bromo-4-methoxy) phenyl-s-triazine, 2,4-bis -Trichloromethyl-6- (2-bromo-4-methoxy) phenyl-s-triazine, 2,4-bis-trichloromethyl-6- (3-bromo-4-methoxy) styrylfe And nyl-s-triazine, 2,4-bis-trichloromethyl-6- (2-bromo-4-methoxy) styrylphenyl-s-triazine, and the like. These photopolymerization initiators can be used alone or in combination of two or more.

これらの中では、良好な感度を保ちつつ、解像性を向上させやすいことから、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（ｍ−メトキシフェニル）−イミダゾリル二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾリル二量体等のイミダゾール化合物や、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン等のアルキルフェノン化合物が好ましい。アルキルフェノン化合物の中では、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン等のα−アミノアルキルフェノン化合物が好ましい。   Among these, since it is easy to improve the resolution while maintaining good sensitivity, 2- (o-chlorophenyl) -4,5-di (m-methoxyphenyl) -imidazolyl dimer, 2- ( imidazole compounds such as o-chlorophenyl) -4,5-diphenylimidazolyl dimer, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2- Alkylphenone compounds such as morpholinopropan-1-one and 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one are preferred. Among the alkylphenone compounds, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) Α-Aminoalkylphenone compounds such as -butan-1-one are preferred.

化合物（Ｃ２）について、オキシムエステル化合物（Ｃ１）と同様に精製され、塩化物イオンが低減されるのが好ましい。   The compound (C2) is preferably purified in the same manner as the oxime ester compound (C1), and chloride ions are preferably reduced.

光重合開始剤（Ｃ）の含有量は、後述する溶剤（Ｓ）の質量を除いた感光性組成物の質量に対して０．５〜３０質量％であることが好ましく、１〜２０質量％であることがより好ましい。光重合開始剤（Ｃ）の含有量を上記の範囲とすることにより、パターン形状の不良が生じにくい感光性組成物を得ることができる。   It is preferable that content of a photoinitiator (C) is 0.5-30 mass% with respect to the mass of the photosensitive composition except the mass of the solvent (S) mentioned later, and 1-20 mass%. It is more preferable that By making content of a photoinitiator (C) into said range, the photosensitive composition which cannot produce the defect of a pattern shape easily can be obtained.

光重合開始剤（Ｃ）中のオキシムエステル化合物（Ｃ１）の含有量は、良好な感度と良好な解像性とを両立させやすい点から、光重合開始剤（Ｃ）の質量に対して、１０〜９９．５質量％が好ましく、３０〜９７質量％がより好ましく、５０〜９５質量％が特に好ましい。光重合開始剤（Ｃ）中の化合物（Ｃ２）の含有量は、０．５〜９０質量％が好ましく、１〜６０質量％がより好ましく、１０〜４０質量％が特に好ましい   The content of the oxime ester compound (C1) in the photopolymerization initiator (C) is easy to achieve both good sensitivity and good resolution, with respect to the mass of the photopolymerization initiator (C). 10-99.5 mass% is preferable, 30-97 mass% is more preferable, 50-95 mass% is especially preferable. 0.5-90 mass% is preferable, as for content of the compound (C2) in a photoinitiator (C), 1-60 mass% is more preferable, and 10-40 mass% is especially preferable.

また、光重合開始剤（Ｃ）に、光開始助剤を組み合わせてもよい。光開始助剤としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル、安息香酸２−ジメチルアミノエチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルパラトルイジン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、９，１０−ジメトキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジメトキシアントラセン、９，１０−ジエトキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジエトキシアントラセン、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２−メルカプト−５−メトキシベンゾチアゾール、３−メルカプトプロピオン酸、３−メルカプトプロピオン酸メチル、ペンタエリストールテトラメルカプトアセテート、３−メルカプトプロピオネート等のチオール化合物等が挙げられる。これらの光開始助剤は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。   Moreover, you may combine a photoinitiator adjuvant with a photoinitiator (C). Examples of the photoinitiator include triethanolamine, methyldiethanolamine, triisopropanolamine, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, 2-dimethylaminobenzoic acid 2- Ethylhexyl, 2-dimethylaminoethyl benzoate, N, N-dimethylparatoluidine, 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, 9,10-dimethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene, 9, 10-diethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-diethoxyanthracene, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercapto-5-methoxybenzothiazole 3-mercaptopropionic acid, 3-mercaptopropionic acid methyl, pentaerythritol tetra-mercapto acetate, thiol compounds such as 3-mercapto propionate. These photoinitiation assistants can be used alone or in combination of two or more.

＜着色剤（Ｄ）＞
感光性組成物は着色剤（Ｄ）を含んでいてもよい。着色剤（Ｄ）としては、特に限定されないが、例えば、カラーインデックス（Ｃ．Ｉ．；Ｔｈｅ Ｓｏｃｉｅｔｙ ｏｆ Ｄｙｅｒｓ ａｎｄ Ｃｏｌｏｕｒｉｓｔｓ社発行）において、ピグメント（Ｐｉｇｍｅｎｔ）に分類されている化合物、具体的には、下記のようなカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）番号が付されているものを用いるのが好ましい。 <Colorant (D)>
The photosensitive composition may contain the coloring agent (D). Although it does not specifically limit as a coloring agent (D), For example, in the color index (CI; issue | issued by The Society of Dyers and Colorists), the compound classified into the pigment (Pigment), specifically, It is preferable to use one having a color index (CI) number as shown below.

好適に使用できる黄色顔料の例としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１（以下、「Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー」は同様であり、番号のみを記載する。）、３、１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、２０、２４、３１、５３、５５、６０、６１、６５、７１、７３，７４、８１、８３、８６、９３、９５、９７、９８、９９、１００、１０１、１０４、１０６、１０８、１０９、１１０、１１３、１１４、１１６、１１７、１１９、１２０、１２５、１２６、１２７、１２８、１２９、１３７、１３８、１３９、１４７、１４８、１５０、１５１、１５２、１５３、１５４、１５５、１５６、１６６、１６７、１６８、１７５、１８０、及び１８５が挙げられる。   Examples of yellow pigments that can be suitably used include C.I. I. Pigment Yellow 1 (hereinafter, “CI Pigment Yellow” is the same, and only the number is described) 3, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 20, 24, 31, 53 55, 60, 61, 65, 71, 73, 74, 81, 83, 86, 93, 95, 97, 98, 99, 100, 101, 104, 106, 108, 109, 110, 113, 114, 116 117, 119, 120, 125, 126, 127, 128, 129, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 155, 156, 166, 167, 168, 175, 180 , And 185.

好適に使用できる橙色顔料の例としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ１（以下、「Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ」は同様であり、番号のみを記載する。）、５、１３、１４、１６、１７、２４、３４、３６、３８、４０、４３、４６、４９、５１、５５、５９、６１、６３、６４、７１、及び７３が挙げられる。   Examples of orange pigments that can be suitably used include C.I. I. Pigment Orange 1 (hereinafter, “CI Pigment Orange” is the same, and only the number is described) 5, 13, 14, 16, 17, 24, 34, 36, 38, 40, 43, 46 49, 51, 55, 59, 61, 63, 64, 71, and 73.

好適に使用できる紫色顔料の例としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１（以下、「Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット」は同様であり、番号のみを記載する。）、１９、２３、２９、３０、３２、３６、３７、３８、３９、４０、及び５０が挙げられる。   Examples of purple pigments that can be suitably used include C.I. I. Pigment Violet 1 (hereinafter, “CI Pigment Violet” is the same, and only the numbers are described), 19, 23, 29, 30, 32, 36, 37, 38, 39, 40, and 50 Can be mentioned.

好適に使用できる赤色顔料の例としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１（以下、「Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド」は同様であり、番号のみを記載する。）２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２１、２２、２３、３０、３１、３２、３７、３８、４０、４１、４２、４８：１、４８：２、４８：３、４８：４、４９：１、４９：２、５０：１、５２：１、５３：１、５７、５７：１、５７：２、５８：２、５８：４、６０：１、６３：１、６３：２、６４：１、８１：１、８３、８８、９０：１、９７、１０１、１０２、１０４、１０５、１０６、１０８、１１２、１１３、１１４、１２２、１２３、１４４、１４６、１４９、１５０、１５１、１５５、１６６、１６８、１７０、１７１、１７２、１７４、１７５、１７６、１７７、１７８、１７９、１８０、１８５、１８７、１８８、１９０、１９２、１９３、１９４、２０２、２０６、２０７、２０８、２０９、２１５、２１６、２１７、２２０、２２３、２２４、２２６、２２７、２２８、２４０、２４２、２４３、２４５、２５４、２５５、２６４、及び２６５が挙げられる。   Examples of red pigments that can be suitably used include C.I. I. Pigment Red 1 (hereinafter, “CI Pigment Red” is the same, and only the number is described) 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 21, 22, 23, 30, 31, 32, 37, 38, 40, 41, 42, 48: 1, 48: 2, 48: 3, 48: 4, 49: 1, 49: 2, 50: 1, 52: 1, 53: 1, 57: 1, 57: 1, 57: 2, 58: 2, 58: 4, 60: 1, 63: 1, 63: 2, 64: 1, 81: 1, 83, 88, 90: 1, 97, 101, 102, 104, 105, 106, 108, 112, 113, 114, 122, 123, 144, 146, 149, 150, 151, 155, 166, 168, 170, 171, 172, 174, 175, 176, 177, 1 8, 179, 180, 185, 187, 188, 190, 192, 193, 194, 202, 206, 207, 208, 209, 215, 216, 217, 220, 223, 224, 226, 227, 228, 240, 242, 243, 245, 254, 255, 264, and 265.

好適に使用できる青色顔料の例としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１（以下、「Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー」は同様であり、番号のみを記載する。）、２、１５、１５：３、１５：４、１５：６、１６、２２、６０、６４、及び６６が挙げられる。   Examples of blue pigments that can be suitably used include C.I. I. Pigment Blue 1 (hereinafter, “CI Pigment Blue” is the same, and only the number is described) 2, 15, 15: 3, 15: 4, 15: 6, 16, 22, 60, 64 , And 66.

好適に使用できる、上記の他の色相の顔料の例としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３７等の緑色顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２５、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２６、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２８等の茶色顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック１、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック７等の黒色顔料が挙げられる。   Examples of pigments of other hues that can be suitably used include C.I. I. Pigment green 7, C.I. I. Pigment green 36, C.I. I. Pigment Green 37 and other green pigments, C.I. I. Pigment brown 23, C.I. I. Pigment brown 25, C.I. I. Pigment brown 26, C.I. I. Pigments such as CI Pigment Brown 28, C.I. I. Pigment black 1, C.I. I. And black pigments such as CI Pigment Black 7.

また、感光性組成物は、着色剤（Ｄ）として遮光剤を含んでいてもよい。遮光剤を含む感光性組成物は、液晶表示パネルにおけるブラックマトリックス又はブラックカラムスペーサの形成や、有機ＥＬ素子における発光層の区画用のバンクの形成に好適に用いられる。   Moreover, the photosensitive composition may contain the light-shielding agent as a coloring agent (D). The photosensitive composition containing a light-shielding agent is suitably used for forming a black matrix or a black column spacer in a liquid crystal display panel or forming a bank for partitioning a light emitting layer in an organic EL element.

着色剤（Ｄ）を遮光剤とする場合、遮光剤としては黒色顔料や紫顔料を用いることが好ましい。黒色顔料や紫顔料の例としては、カーボンブラック、ペリレン系顔料、ラクタム系顔料、チタンブラック、銅、鉄、マンガン、コバルト、クロム、ニッケル、亜鉛、カルシウム、銀等の金属酸化物、複合酸化物、金属硫化物、金属硫酸塩又は金属炭酸塩等、有機物、無機物を問わず各種の顔料を挙げることができる。   When the colorant (D) is a light-shielding agent, it is preferable to use a black pigment or a purple pigment as the light-shielding agent. Examples of black pigments and purple pigments include carbon black, perylene pigments, lactam pigments, titanium black, copper, iron, manganese, cobalt, chromium, nickel, zinc, calcium, silver and other metal oxides and composite oxides. In addition, various pigments may be mentioned regardless of organic matter or inorganic matter such as metal sulfide, metal sulfate or metal carbonate.

カーボンブラックとしては、チャンネルブラック、ファーネスブラック、サーマルブラック、ランプブラック等の公知のカーボンブラックを用いることができる。また、樹脂被覆カーボンブラックを使用してもよい。   As the carbon black, known carbon black such as channel black, furnace black, thermal black, lamp black and the like can be used. Resin-coated carbon black may also be used.

カーボンブラックとしては、酸性基を導入する処理を施されたカーボンブラックも好ましい。カーボンブラックに導入される酸性基は、ブレンステッドの定義による酸性を示す官能基である。酸性基の具体例としては、カルボキシ基、スルホン酸基、リン酸基等が挙げられる。カーボンブラックに導入された酸性基は、塩を形成していてもよい。酸性基と塩を形成するカチオンは、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。カチオンの例としては、種々の金属イオン、含窒素化合物のカチオン、アンモニウムイオン等が挙げられ、ナトリウムイオン、カリウムイオン、リチウムイオン等のアルカリ金属イオンや、アンモニウムイオンが好ましい。   As the carbon black, carbon black subjected to a treatment for introducing an acidic group is also preferable. The acidic group introduced into carbon black is a functional group that exhibits acidity according to the Bronsted definition. Specific examples of the acidic group include a carboxy group, a sulfonic acid group, and a phosphoric acid group. The acidic group introduced into the carbon black may form a salt. The cation that forms a salt with the acidic group is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired. Examples of the cation include various metal ions, cations of nitrogen-containing compounds, ammonium ions, and the like, and alkali metal ions such as sodium ion, potassium ion, lithium ion, and ammonium ion are preferable.

以上説明した酸性基を導入する処理を施されたカーボンブラックの中では、感光性組成物を用いて形成される遮光性の硬化膜の高抵抗を達成する観点で、カルボン酸基、カルボン酸塩基、スルホン酸基、及びスルホン酸塩基からなる群より選択される１種以上の官能基を有するカーボンブラックが好ましい。   Among the carbon blacks that have been treated to introduce acidic groups as described above, in view of achieving high resistance of a light-shielding cured film formed using the photosensitive composition, a carboxylic acid group or a carboxylic acid group is used. Carbon black having at least one functional group selected from the group consisting of sulfonic acid groups and sulfonic acid groups is preferred.

カーボンブラックに酸性基を導入する方法は特に限定されない。酸性基を導入する方法としては、例えば以下の方法が挙げられる。
１）濃硫酸、発煙硫酸、クロロスルホン酸等を用いる直接置換法や、亜硫酸塩、亜硫酸水素塩等を用いる間接置換法により、カーボンブラックにスルホン酸基を導入する方法。
２）アミノ基と酸性基とを有する有機化合物と、カーボンブラックとをジアゾカップリングさせる方法。
３）ハロゲン原子と酸性基とを有する有機化合物と、水酸基を有するカーボンブラックとをウィリアムソンのエーテル化法により反応させる方法。
４）ハロカルボニル基と保護基により保護された酸性基とを有する有機化合物と、水酸基を有するカーボンブラックとを反応させる方法。
５）ハロカルボニル基と保護基により保護された酸性基とを有する有機化合物を用いて、カーボンブラックに対してフリーデルクラフツ反応を行った後、脱保護する方法。 The method for introducing an acidic group into carbon black is not particularly limited. Examples of the method for introducing an acidic group include the following methods.
1) A method of introducing a sulfonic acid group into carbon black by a direct substitution method using concentrated sulfuric acid, fuming sulfuric acid, chlorosulfonic acid, or the like, or an indirect substitution method using sulfite, bisulfite, or the like.
2) A method of diazo coupling an organic compound having an amino group and an acidic group with carbon black.
3) A method of reacting an organic compound having a halogen atom and an acidic group with carbon black having a hydroxyl group by Williamson's etherification method.
4) A method of reacting an organic compound having a halocarbonyl group and an acidic group protected by a protecting group with carbon black having a hydroxyl group.
5) A method of performing deprotection after performing a Friedel-Crafts reaction on carbon black using an organic compound having a halocarbonyl group and an acidic group protected by a protecting group.

これらの方法の中では、酸性基の導入処理が、容易且つ安全であることから、方法２）が好ましい。方法２）で使用されるアミノ基と酸性基とを有する有機化合物としては、芳香族基にアミノ基と酸性基とが結合した化合物が好ましい。このような化合物の例としては、スルファニル酸のようなアミノベンゼンスルホン酸や、４−アミノ安息香酸のようなアミノ安息香酸が挙げられる。   Among these methods, the method 2) is preferred because the acidic group introduction treatment is easy and safe. As the organic compound having an amino group and an acidic group used in the method 2), a compound in which an amino group and an acidic group are bonded to an aromatic group is preferable. Examples of such compounds include aminobenzene sulfonic acids such as sulfanilic acid and aminobenzoic acids such as 4-aminobenzoic acid.

カーボンブラックに導入される酸性基のモル数は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。カーボンブラックに導入される酸性基のモル数は、カーボンブラック１００ｇに対して、１〜２００ｍｍｏｌが好ましく、５〜１００ｍｍｏｌがより好ましい。   The number of moles of acidic groups introduced into carbon black is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired. 1-200 mmol is preferable with respect to 100 g of carbon black, and, as for the number of moles of the acidic group introduce | transduced into carbon black, 5-100 mmol is more preferable.

酸性基を導入されたカーボンブラックは、樹脂による被覆処理を施されていてもよい。
樹脂により被覆されたカーボンブラックを含む感光性組成物を用いる場合、遮光性及び絶縁性に優れ、表面反射率が低い遮光性の硬化膜を形成しやすい。なお、樹脂による被覆処理によって、感光性組成物を用いて形成される遮光性の硬化膜の誘電率に対する悪影響は特段生じない。カーボンブラックの被覆に使用できる樹脂の例としては、フェノール樹脂、メラミン樹脂、キシレン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、グリプタル樹脂、エポキシ樹脂、アルキルベンゼン樹脂等の熱硬化性樹脂や、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、変性ポリフェニレンオキサイド、ポリスルフォン、ポリパラフェニレンテレフタルアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリアミノビスマレイミド、ポリエーテルスルフォポリフェニレンスルフォン、ポリアリレート、ポリエーテルエーテルケトン等の熱可塑性樹脂が挙げられる。カーボンブラックに対する樹脂の被覆量は、カーボンブラックの質量と樹脂の質量の合計に対して、１〜３０質量％が好ましい。 Carbon black introduced with acidic groups may be coated with a resin.
When a photosensitive composition containing carbon black coated with a resin is used, it is easy to form a light-shielding cured film having excellent light-shielding properties and insulating properties and low surface reflectance. In addition, the bad influence with respect to the dielectric constant of the light-shielding cured film formed using a photosensitive composition does not produce especially by the coating process by resin. Examples of resins that can be used to coat carbon black include thermosetting resins such as phenolic resin, melamine resin, xylene resin, diallyl phthalate resin, glyphtal resin, epoxy resin, alkylbenzene resin, polystyrene, polycarbonate, polyethylene terephthalate, poly Examples thereof include thermoplastic resins such as butylene terephthalate, modified polyphenylene oxide, polysulfone, polyparaphenylene terephthalamide, polyamideimide, polyimide, polyamino bismaleimide, polyether sulfopolyphenylene sulfone, polyarylate, and polyether ether ketone. The coating amount of the resin on the carbon black is preferably 1 to 30% by mass with respect to the total mass of the carbon black and the mass of the resin.

また、遮光剤としてはペリレン系顔料も好ましい。ペリレン系顔料の具体例としては、下記式（ｄ−１）で表されるペリレン系顔料、下記式（ｄ−２）で表されるペリレン系顔料、及び下記式（ｄ−３）で表されるペリレン系顔料が挙げられる。市販品では、ＢＡＳＦ社製の製品名Ｋ００８４、及びＫ００８６や、ピグメントブラック２１、３０、３１、３２、３３、及び３４等を、ペリレン系顔料として好ましく用いることができる。   A perylene pigment is also preferable as the light-shielding agent. Specific examples of the perylene pigment include the perylene pigment represented by the following formula (d-1), the perylene pigment represented by the following formula (d-2), and the following formula (d-3). Perylene pigments. As commercial products, product names K0084 and K0086 manufactured by BASF, Pigment Black 21, 30, 31, 32, 33, 34, and the like can be preferably used as perylene pigments.

Figure 2018072398
式（ｄ−１）中、Ｒｄ１及びＲｄ２は、それぞれ独立に炭素原子数１〜３のアルキレン基を表し、Ｒｄ３及びＲｄ４は、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、メトキシ基、又はアセチル基を表す。
Figure 2018072398
 In formula (d-1), R d1 and R d2 each independently represent an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms, and R d3 and R d4 each independently represent a hydrogen atom, a hydroxyl group, a methoxy group, or Represents an acetyl group.

Figure 2018072398
式（ｄ−２）中、Ｒｄ５及びＲｄ６は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜７のアルキレン基を表す。
Figure 2018072398
 In formula (d-2), R d5 and R d6 each independently represent an alkylene group having 1 to 7 carbon atoms.

Figure 2018072398
式（ｄ−３）中、Ｒｄ７及びＲｄ８は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１〜２２のアルキル基であり、Ｎ，Ｏ、Ｓ、又はＰのヘテロ原子を含んでいてもよい。Ｒｄ７及びＲｄ８がアルキル基である場合、当該アルキル基は、直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよい。
Figure 2018072398
 In formula (d-3), R d7 and R d8 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 22 carbon atoms, and may contain N, O, S, or P heteroatoms. Good. When R d7 and R d8 are alkyl groups, the alkyl group may be linear or branched.

上記の式（ｄ−１）で表される化合物、式（ｄ−２）で表される化合物、及び式（ｄ−３）で表される化合物は、例えば、特開昭６２−１７５３号公報、特公昭６３−２６７８４号公報に記載の方法を用いて合成することができる。すなわち、ペリレン−３，５，９，１０−テトラカルボン酸又はその二無水物とアミン類とを原料とし、水又は有機溶媒中で加熱反応を行う。そして、得られた粗製物を硫酸中で再沈殿させるか、又は、水、有機溶媒あるいはこれらの混合溶媒中で再結晶させることによって目的物を得ることができる。   Examples of the compound represented by the formula (d-1), the compound represented by the formula (d-2), and the compound represented by the formula (d-3) include, for example, JP-A-62-17353. Can be synthesized using the method described in JP-B 63-26784. That is, perylene-3,5,9,10-tetracarboxylic acid or a dianhydride thereof and an amine are used as raw materials, and a heating reaction is performed in water or an organic solvent. The target product can be obtained by reprecipitation of the obtained crude product in sulfuric acid or recrystallization in water, an organic solvent or a mixed solvent thereof.

感光性組成物中においてペリレン系顔料を良好に分散させるためには、ペリレン系顔料の平均粒子径は１０〜１０００ｎｍであるのが好ましい。   In order to satisfactorily disperse the perylene pigment in the photosensitive composition, the average particle size of the perylene pigment is preferably 10 to 1000 nm.

また、遮光剤としては、ラクタム系顔料を含ませることもできる。ラクタム系顔料としては、例えば、下記式（ｄ−４）で表される化合物が挙げられる。   Moreover, a lactam pigment can also be included as a light-shielding agent. As a lactam pigment, the compound represented by a following formula (d-4) is mentioned, for example.

Figure 2018072398
Figure 2018072398

式（ｄ−４）中、Ｘｄは二重結合を示し、幾何異性体としてそれぞれ独立にＥ体又はＺ体であり、Ｒｄ９は、それぞれ独立に、水素原子、メチル基、ニトロ基、メトキシ基、臭素原子、塩素原子、フッ素原子、カルボキシ基、又はスルホ基を示し、Ｒｄ１０は、それぞれ独立に、水素原子、メチル基、又はフェニル基を示し、Ｒｄ１１は、各々独立に、水素原子、メチル基、又は塩素原子を示す。
式（ｄ−４）で表される化合物は、単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
Ｒｄ９は、式（ｄ−４）で表される化合物の製造が容易である点から、ジヒドロインドロン環の６位に結合するのが好ましく、Ｒｄ１１はジヒドロインドロン環の４位に結合するのが好ましい。同様の観点から、Ｒｄ９、Ｒｄ１０、及びＲｄ１１は、好ましくは水素原子である。
式（ｄ−４）で表される化合物は、幾何異性体としてＥＥ体、ＺＺ体、ＥＺ体を有するが、これらのいずれかの単一の化合物であってもよいし、これらの幾何異性体の混合物であってもよい。
式（ｄ−４）で表される化合物は、例えば、国際公開第２０００／２４７３６号，国際公開第２０１０／０８１６２４号に記載された方法により製造することができる。 In formula (d-4), X d represents a double bond, and each independently represents an E-form or a Z-form as a geometric isomer, and R d9 each independently represents a hydrogen atom, a methyl group, a nitro group, methoxy Group, bromine atom, chlorine atom, fluorine atom, carboxy group, or sulfo group, R d10 independently represents a hydrogen atom, a methyl group, or a phenyl group, and R d11 each independently represents a hydrogen atom. Represents a methyl group or a chlorine atom.
The compound represented by Formula (d-4) can be used alone or in combination of two or more.
R d9 is preferably bonded to the 6-position of the dihydroindolone ring from the viewpoint of easy production of the compound represented by formula (d-4), and R d11 is bonded to the 4-position of the dihydroindolone ring. It is preferable to do this. From the same viewpoint, R d9 , R d10 , and R d11 are preferably hydrogen atoms.
The compound represented by the formula (d-4) has EE, ZZ, and EZ isomers as geometric isomers, and may be any one of these compounds, or these geometric isomers. It may be a mixture of
The compound represented by the formula (d-4) can be produced, for example, by the method described in International Publication No. 2000/24736 and International Publication No. 2010/081624.

組成物中においてラクタム系顔料を良好に分散させるためには、ラクタム系顔料の平均粒子径は１０〜１０００ｎｍであるのが好ましい。   In order to satisfactorily disperse the lactam pigment in the composition, the average particle size of the lactam pigment is preferably 10 to 1000 nm.

さらに、銀錫（ＡｇＳｎ）合金を主成分とする微粒子（以下、「ＡｇＳｎ合金微粒子」という。）も遮光剤として好ましく用いられる。このＡｇＳｎ合金微粒子は、ＡｇＳｎ合金が主成分であればよく、他の金属成分として、例えば、Ｎｉ、Ｐｄ、Ａｕ等が含まれていてもよい。
このＡｇＳｎ合金微粒子の平均粒子径は、１〜３００ｎｍが好ましい。 Further, fine particles mainly composed of a silver tin (AgSn) alloy (hereinafter referred to as “AgSn alloy fine particles”) are also preferably used as a light shielding agent. The AgSn alloy fine particles may be composed mainly of an AgSn alloy, and may contain, for example, Ni, Pd, Au, etc. as other metal components.
The average particle diameter of the AgSn alloy fine particles is preferably 1 to 300 nm.

ＡｇＳｎ合金は、化学式ＡｇｘＳｎにて表した場合、化学的に安定したＡｇＳｎ合金が得られるｘの範囲は１≦ｘ≦１０であり、化学的安定性と黒色度とが同時に得られるｘの範囲は３≦ｘ≦４である。
ここで、上記ｘの範囲でＡｇＳｎ合金中のＡｇの質量比を求めると、
ｘ＝１の場合、 Ａｇ／ＡｇＳｎ＝０．４７６２
ｘ＝３の場合、 ３・Ａｇ／Ａｇ３Ｓｎ＝０．７３１７
ｘ＝４の場合、 ４・Ａｇ／Ａｇ４Ｓｎ＝０．７８４３
ｘ＝１０の場合、１０・Ａｇ／Ａｇ１０Ｓｎ＝０．９００８
となる。
従って、このＡｇＳｎ合金は、Ａｇを４７．６〜９０質量％含有した場合に化学的に安定なものとなり、Ａｇを７３．１７〜７８．４３重量％含有した場合にＡｇ量に対し効果的に化学的安定性と黒色度とを得ることができる。 When the AgSn alloy is represented by the chemical formula AgxSn, the x range in which a chemically stable AgSn alloy is obtained is 1 ≦ x ≦ 10, and the x range in which chemical stability and blackness are simultaneously obtained is 3 ≦ x ≦ 4.
Here, when the mass ratio of Ag in the AgSn alloy is determined in the range of x,
When x = 1, Ag / AgSn = 0.4762
In the case of x = 3, 3 · Ag / Ag3Sn = 0.7317
When x = 4, 4 · Ag / Ag4Sn = 0.7843
When x = 10, 10 · Ag / Ag10Sn = 0.008
It becomes.
Therefore, this AgSn alloy becomes chemically stable when Ag is contained in an amount of 47.6 to 90% by mass, and effective when Ag is contained in an amount of 73.17 to 78.43% by mass. Chemical stability and blackness can be obtained.

このＡｇＳｎ合金微粒子は、通常の微粒子合成法を用いて作製することができる。微粒子合成法としては、気相反応法、噴霧熱分解法、アトマイズ法、液相反応法、凍結乾燥法、水熱合成法等が挙げられる。   The AgSn alloy fine particles can be produced using a normal fine particle synthesis method. Examples of the fine particle synthesis method include a gas phase reaction method, a spray pyrolysis method, an atomization method, a liquid phase reaction method, a freeze drying method, and a hydrothermal synthesis method.

ＡｇＳｎ合金微粒子は絶縁性の高いものであるが、感光性組成物の用途によっては、さらに絶縁性を高めるため、表面を絶縁膜で覆うようにしても構わない。このような絶縁膜の材料としては、金属酸化物又は有機高分子化合物が好適である。
金属酸化物としては、絶縁性を有する金属酸化物、例えば、酸化ケイ素（シリカ）、酸化アルミニウム（アルミナ）、酸化ジルコニウム（ジルコニア）、酸化イットリウム（イットリア）、酸化チタン（チタニア）等が好適に用いられる。
また、有機高分子化合物としては、絶縁性を有する樹脂、例えば、ポリイミド、ポリエーテル、ポリアクリレート、ポリアミン化合物等が好適に用いられる。 The AgSn alloy fine particles have high insulating properties, but depending on the application of the photosensitive composition, the surface may be covered with an insulating film in order to further improve the insulating properties. As a material for such an insulating film, a metal oxide or an organic polymer compound is suitable.
As the metal oxide, an insulating metal oxide such as silicon oxide (silica), aluminum oxide (alumina), zirconium oxide (zirconia), yttrium oxide (yttria), titanium oxide (titania), etc. is preferably used. It is done.
In addition, as the organic polymer compound, an insulating resin such as polyimide, polyether, polyacrylate, polyamine compound, or the like is preferably used.

絶縁膜の膜厚は、ＡｇＳｎ合金微粒子の表面の絶縁性を十分に高めるためには１〜１００ｎｍの厚みが好ましく、より好ましくは５〜５０ｎｍである。
絶縁膜は、表面改質技術あるいは表面のコーティング技術により容易に形成することができる。特に、テトラエトキシシラン、アルミニウムトリエトキシド等のアルコキシドを用いれば、比較的低温で膜厚の均一な絶縁膜を形成することができるので好ましい。 The thickness of the insulating film is preferably 1 to 100 nm, and more preferably 5 to 50 nm, in order to sufficiently enhance the surface insulation of the AgSn alloy fine particles.
The insulating film can be easily formed by a surface modification technique or a surface coating technique. In particular, use of an alkoxide such as tetraethoxysilane or aluminum triethoxide is preferable because an insulating film having a uniform thickness can be formed at a relatively low temperature.

遮光剤としては、上述のペリレン系顔料、ラクタム系顔料、ＡｇＳｎ合金微粒子単独でも用いてもよいし、これらを組み合わせて用いてもよい。
その他、遮光剤は、色調の調整の目的等で、上記の黒色顔料や紫顔料とともに、赤、青、緑、黄等の色相の色素を含んでいてもよい。黒色顔料や紫顔料の他の色相の色素は、公知の色素から適宜選択することができる。例えば、黒色顔料や紫顔料の他の色相の色素としては、上記の種々の顔料を用いることができる。黒色顔料や紫顔料以外の他の色相の色素の使用量は、遮光剤の全質量に対して、１５質量％以下が好ましく、１０質量％以下がより好ましい。 As the light-shielding agent, the above-mentioned perylene pigment, lactam pigment, AgSn alloy fine particles may be used alone, or a combination thereof may be used.
In addition, the light-shielding agent may contain a dye having a hue such as red, blue, green, and yellow together with the black pigment and the purple pigment for the purpose of adjusting the color tone. The pigment of other hues of the black pigment and the purple pigment can be appropriately selected from known pigments. For example, the above-mentioned various pigments can be used as the coloring matter of other hues of black pigments and purple pigments. The amount of the dye having a hue other than the black pigment or the purple pigment is preferably 15% by mass or less and more preferably 10% by mass or less with respect to the total mass of the light shielding agent.

上記の着色剤を組成物において均一に分散させるために、さらに分散剤を使用してもよい。このような分散剤としては、ポリエチレンイミン系、ウレタン樹脂系、アクリル樹脂系の高分子分散剤を用いることが好ましい。特に、着色剤として、カーボンブラックを用いる場合には、分散剤としてアクリル樹脂系の分散剤を用いることが好ましい。
なお、分散剤の分解に起因して、感光性組成物の硬化膜から腐食性のガスが発生する場合がある。このため、着色剤が、分散剤を用いることなく分散処理されるのも好ましい。 In order to uniformly disperse the colorant in the composition, a dispersant may be further used. As such a dispersant, it is preferable to use a polyethyleneimine-based, urethane resin-based, or acrylic resin-based polymer dispersant. In particular, when carbon black is used as the colorant, it is preferable to use an acrylic resin-based dispersant as the dispersant.
Note that corrosive gas may be generated from the cured film of the photosensitive composition due to decomposition of the dispersant. For this reason, it is also preferable that the colorant is dispersed without using a dispersant.

また、無機顔料と有機顔料はそれぞれ単独又は２種以上併用してもよいが、併用する場合には、無機顔料と有機顔料との総量１００質量部に対して、有機顔料を１０〜８０質量部の範囲で用いることが好ましく、２０〜４０質量部の範囲で用いることがより好ましい。   In addition, the inorganic pigment and the organic pigment may be used alone or in combination of two or more, but when used in combination, the organic pigment is used in an amount of 10 to 80 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the inorganic pigment and the organic pigment Preferably, it is used in the range of 20 to 40 parts by mass.

なお、感光性組成物は、着色剤（Ｄ）として顔料以外にも染料を用いることができる。この染料は公知の材料のなかから適宜選択すればよい。
本実施形態の感光性組成物に適用可能な染料としては、例えば、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、アントラキノン染料、トリフェニルメタン染料、キサンテン染料、シアニン染料、ナフトキノン染料、キノンイミン染料、メチン染料、フタロシアニン染料等を挙げることができる。
また、これら染料については、レーキ化（造塩化）することで有機溶剤等に分散させ、これを着色剤（Ｄ）として用いることができる。
これらの染料以外にも、例えば、特開２０１３−２２５１３２号公報、特開２０１４−１７８４７７号公報、特開２０１３−１３７５４３号公報、特開２０１１−３８０８５号公報、特開２０１４−１９７２０６号公報等に記載の染料等も好ましく用いることができる。
これら染料もまた、前述の顔料（例えば、ペリレン系顔料、ラクタム系顔料、ＡｇＳｎ合金微粒子等）と組み合わせて使用することもできる。 In addition, the photosensitive composition can use dye other than a pigment as a coloring agent (D). This dye may be appropriately selected from known materials.
Examples of the dye that can be applied to the photosensitive composition of the present embodiment include azo dyes, metal complex azo dyes, anthraquinone dyes, triphenylmethane dyes, xanthene dyes, cyanine dyes, naphthoquinone dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, and phthalocyanines. And dyes.
Moreover, about these dyes, it can disperse | distribute to an organic solvent etc. by rake-forming (chlorination), and this can be used as a coloring agent (D).
In addition to these dyes, for example, JP 2013-225132 A, JP 2014-178477 A, JP 2013-137543 A, JP 2011-38085 A, JP 2014-197206 A, and the like. The dyes described can also be preferably used.
These dyes can also be used in combination with the aforementioned pigments (for example, perylene pigments, lactam pigments, AgSn alloy fine particles, etc.).

感光性組成物における着色剤（Ｄ）の使用量は、本発明の目的を阻害しない範囲で適宜選択でき、典型的には、感光性組成物の固形分全体の質量に対して、５〜７０質量％が好ましく、２５〜６０質量％がより好ましい。   The usage-amount of the coloring agent (D) in a photosensitive composition can be suitably selected in the range which does not inhibit the objective of this invention. % By mass is preferable, and 25 to 60% by mass is more preferable.

着色剤（Ｄ）は分散剤の存在下又は不存在下に適当な濃度で分散させた分散液とした後、感光性組成物に添加することが好ましい。
尚、本明細書においては、上述の着色剤（Ｄ）の使用量について、この存在する分散剤も含む値として定義することができる。 The colorant (D) is preferably added to the photosensitive composition after making it into a dispersion liquid dispersed at an appropriate concentration in the presence or absence of a dispersant.
In the present specification, the amount of the colorant (D) used can be defined as a value including the existing dispersant.

前述の通り、感光性組成物中の塩化物イオン量は、１０００質量ｐｐｍ以下である。このため、着色剤（Ｄ）中の塩化物イオン量もある程度低減されている必要がある。
着色剤（Ｄ）中の塩化物イオン量を低減する方法としては、水、有機溶剤、有機溶剤の水溶液等による洗浄が挙げられる。着色剤が染料である場合、染料の溶液を調製した後、得られた溶液を陰イオン交換樹脂と接触させた後、溶液から染料を回収することでも塩化物イオン量を低減することができる。 As described above, the amount of chloride ions in the photosensitive composition is 1000 mass ppm or less. For this reason, the amount of chloride ions in the colorant (D) needs to be reduced to some extent.
Examples of the method for reducing the amount of chloride ions in the colorant (D) include washing with water, an organic solvent, an aqueous solution of an organic solvent, and the like. When the colorant is a dye, the amount of chloride ions can also be reduced by preparing the dye solution, contacting the resulting solution with an anion exchange resin, and then collecting the dye from the solution.

＜アミン（Ｅ）＞
感光性組成物は、アミン（Ｅ）を含む。感光性組成物がアミン（Ｅ）を含むことにより、微細なパターンを解像できる良好な解像性を有する感光性組成物を調製しやすい。 <Amine (E)>
The photosensitive composition contains an amine (E). When the photosensitive composition contains the amine (E), it is easy to prepare a photosensitive composition having good resolution capable of resolving a fine pattern.

アミン（Ｅ）は、感光性組成物に単独で配合されてもよく、アミン（Ｅ）以外の他の成分に含まれる不純物として感光性組成物に配合されてもよい。
アミン（Ｅ）を含む不純物としては、例えば、アミド結合のような形態で窒素原子を含むアルカリ可溶性樹脂（Ａ）、含窒素化合物を含む光重合性化合物（Ｂ）、含窒素化合物を含む光重合開始剤（Ｃ）、窒素を含有する化合物を含む着色剤（Ｄ）、アミド結合（−ＣＯ−ＮＨ−）、ウレタン結合（−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−）、ウレイド結合（−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−）等を含む樹脂等の着色剤（Ｄ）用の分散剤又は分散助剤等の添加剤、及び含窒素極性有機溶剤を含む溶剤（Ｓ）等が挙げられる。
アミン（Ｅ）を、光重合開始剤（Ｃ）に含まれる不純物として感光性組成物に配合する場合、化合物（Ｃ２）として、イミダゾール化合物や、アルキルフェノン化合物であるα−アミノアルキルフェノン化合物を用いるのが好ましい。 An amine (E) may be mix | blended independently with the photosensitive composition, and may be mix | blended with the photosensitive composition as an impurity contained in other components other than an amine (E).
Examples of the impurities containing amine (E) include alkali-soluble resins (A) containing nitrogen atoms in the form of amide bonds, photopolymerizable compounds (B) containing nitrogen-containing compounds, and photopolymerizations containing nitrogen-containing compounds. Initiator (C), colorant containing nitrogen-containing compound (D), amide bond (—CO—NH—), urethane bond (—O—CO—NH—), ureido bond (—NH—CO—NH) -) Etc. Additives such as dispersants or dispersion aids for colorants (D) such as resins, and solvents (S) containing nitrogen-containing polar organic solvents.
When the amine (E) is blended in the photosensitive composition as an impurity contained in the photopolymerization initiator (C), an imidazole compound or an α-aminoalkylphenone compound that is an alkylphenone compound is used as the compound (C2). Is preferred.

アミン（Ｅ）の好適な具体例としては、アンモニア、メチルアミン、エチルアミン、エタノールアミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、ｎ−ペンチルアミン、ｎ−ヘキシルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジエタノールアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジ−ｎ−ブチルアミン、ジ−ｎ−ペンチルアミン、ジ−ｎ−ヘキシルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、トリ−ｎ−ペンチルアミン、トリ−ｎ−ヘキシルアミント、エチレンジアミン、１，３−プロパンジアミン、１，４−ブタンジアミン、１，５−ペンタンジアミン、及び１，６−ヘキサンジアミン等の鎖状脂肪族アミン；ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、ピロール、及びイミダゾール等の乾式アミン；アニリン、トルイジン、及びフェニレンジアミン等の芳香族アミン等が挙げられる。   Preferable specific examples of amine (E) include ammonia, methylamine, ethylamine, ethanolamine, propylamine, isopropylamine, n-butylamine, n-pentylamine, n-hexylamine, dimethylamine, diethylamine, diethanolamine, diethanolamine, -N-propylamine, diisopropylamine, di-n-butylamine, di-n-pentylamine, di-n-hexylamine, trimethylamine, triethylamine, triethanolamine, tri-n-propylamine, triisopropylamine, tri- n-butylamine, tri-n-pentylamine, tri-n-hexylamine, ethylenediamine, 1,3-propanediamine, 1,4-butanediamine, 1,5-pentanediamine, 1,6-hexanediamine, and the like Chain aliphatic amines; pyrrolidine, piperidine, piperazine, morpholine, pyrrole, and dry amine such as imidazole; aniline, toluidine, and aromatic amines such as phenylenediamine.

感光性組成物中のアミン（Ｅ）の含有量は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。
感光性組成物中のアミン（Ｅ）の含有量は、５０００質量ｐｐｍ以下が好ましく、３０００質量ｐｐｍ以下がより好ましい。感光性組成物中のアミン（Ｅ）の含有量は２０００質量ｐｐｍ以下であってもよく、１０００質量ｐｐｍ以下であってもよく、５００質量ｐｐｍ以下であってもよい。
感光性組成物中のアミン（Ｅ）の含有量は、所望する効果を得やすい点から、５０質量ｐｐｍ以上が好ましく、１００質量ｐｐｍ以上がより好ましく２００質量ｐｐｍ以上が特に好ましい。
感光性組成物中のアミン（Ｅ）の含有量が５０００質量ｐｐｍ以下であると、感光性組成物を用いて塗布膜を形成する際の塗布膜の膜厚のばらつきを小さくしやすい。 Content of the amine (E) in a photosensitive composition is not specifically limited in the range which does not inhibit the objective of this invention.
The content of amine (E) in the photosensitive composition is preferably 5000 ppm by mass or less, and more preferably 3000 ppm by mass or less. The content of the amine (E) in the photosensitive composition may be 2000 mass ppm or less, 1000 mass ppm or less, or 500 mass ppm or less.
The content of the amine (E) in the photosensitive composition is preferably 50 ppm by mass or more, more preferably 100 ppm by mass or more, and particularly preferably 200 ppm by mass or more from the viewpoint of easily obtaining a desired effect.
When the content of amine (E) in the photosensitive composition is 5000 ppm by mass or less, it is easy to reduce the variation in the thickness of the coating film when the coating film is formed using the photosensitive composition.

感光性組成物中のアミン（Ｅ）の含有量は、イオンクロマトグラフィーにより測定することができる。   The content of amine (E) in the photosensitive composition can be measured by ion chromatography.

＜溶剤（Ｓ）＞
感光性組成物は、塗布性の改善や、粘度調整の目的で溶剤（Ｓ）を含む。なお、溶剤（Ｓ）には、液状のアミン化合物は含まれない。 <Solvent (S)>
The photosensitive composition contains a solvent (S) for the purpose of improving applicability and adjusting the viscosity. The solvent (S) does not contain a liquid amine compound.

溶剤（Ｓ）として具体的には、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル等の（ポリ）アルキレングリコールモノアルキルエーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の（ポリ）アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の他のエーテル類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン等のケトン類；２−ヒドロキシプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル等の乳酸アルキルエステル類；２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルプロピオネート、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸ｉ−プロピル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｉ−ブチル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸ｉ−ペンチル、プロピオン酸ｎ−ブチル、酪酸エチル、酪酸ｎ−プロピル、酪酸ｉ−プロピル、酪酸ｎ−ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸ｎ−プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸エチル等の他のエステル類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルイソブチルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、Ｎ−メチルカプロラクタム、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ピリジン、及びＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウレア等含窒素極性有機溶剤；等が挙げられる。   Specific examples of the solvent (S) include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono-n-propyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol mono- n-propyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono-n-propyl ether, propylene glycol mono-n -Butyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether (Poly) alkylene glycol monoalkyl ethers such as dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol mono-n-propyl ether, dipropylene glycol mono-n-butyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, tripropylene glycol monoethyl ether; (Poly) alkylene glycol monoalkyl ether acetates such as ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA), propylene glycol monoethyl ether acetate Kind; Other ethers such as glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, and tetrahydrofuran; ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, and 3-heptanone; methyl 2-hydroxypropionate, ethyl 2-hydroxypropionate, etc. Alkyl 2-lactic acid esters; ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl ethoxyacetate, hydroxy Ethyl acetate, methyl 2-hydroxy-3-methylbutanoate, 3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3 -Methoxybutylpropionate, ethyl acetate, n-propyl acetate, i-propyl acetate, n-butyl acetate, i-butyl acetate, n-pentyl formate, i-pentyl acetate, n-butyl propionate, ethyl butyrate, butyric acid other esters such as n-propyl, i-propyl butyrate, n-butyl butyrate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, n-propyl pyruvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, ethyl 2-oxobutanoate; toluene, Aromatic hydrocarbons such as xylene; N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylisobutyramide, N, N-diethylacetamide, N, N- Diethylformamide, N-methylcaprolactam, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, pyridine Jin, and N, N, N ', N'- tetramethylurea nitrogen-containing polar organic solvent; and the like.

これらの中でも、アルキレングリコールモノアルキルエーテル類、アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、上述した他のエーテル類、乳酸アルキルエステル類、上述した他のエステル類が好ましく、アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、上述した他のエーテル類、上述した他のエステル類がより好ましい。
また、各成分の溶解性や、着色剤（Ｄ）の分散性等の点で、溶剤（Ｓ）が、含窒素極性有機溶剤を含むのも好ましい。含窒素極性有機溶剤としては、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウレアが好ましい。
これらの溶剤は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。 Among these, alkylene glycol monoalkyl ethers, alkylene glycol monoalkyl ether acetates, other ethers described above, alkyl lactate esters, and other esters described above are preferable, alkylene glycol monoalkyl ether acetates described above. Other ethers and other esters described above are more preferred.
Moreover, it is also preferable that a solvent (S) contains a nitrogen-containing polar organic solvent at points, such as the solubility of each component and the dispersibility of a coloring agent (D). As the nitrogen-containing polar organic solvent, N, N, N ′, N′-tetramethylurea is preferable.
These solvents can be used alone or in combination of two or more.

上記溶剤の中でも、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、シクロヘキサノン、３−メトキシブチルアセテートが好ましく、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メトキシブチルアセテートを用いることが特に好ましい。   Among the above solvents, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, cyclohexanone and 3-methoxybutyl acetate are preferred, and propylene glycol monomethyl It is particularly preferable to use ether acetate or 3-methoxybutyl acetate.

溶剤（Ｓ）の含有量は、感光性組成物の固形分濃度が５〜９９質量％である量が好ましく、１５〜５０質量％である量がより好ましい。   The content of the solvent (S) is preferably such that the solid content concentration of the photosensitive composition is 5 to 99% by mass, and more preferably 15 to 50% by mass.

前述の通り、感光性組成物中の塩化物イオン量は、１０００質量ｐｐｍ以下である。このため、溶剤（Ｓ）中の塩化物イオン量もある程度低減されている必要がある。
溶剤（Ｓ）中の塩化物イオン量を低減する方法としては、蒸留、陰イオン交換樹脂による処理等が挙げられる。 As described above, the amount of chloride ions in the photosensitive composition is 1000 mass ppm or less. For this reason, the amount of chloride ions in the solvent (S) needs to be reduced to some extent.
Examples of the method for reducing the amount of chloride ions in the solvent (S) include distillation, treatment with an anion exchange resin, and the like.

＜その他の成分＞
感光性組成物には、必要に応じて、界面活性剤、密着性向上剤、熱重合禁止剤、消泡剤、シランカップリング剤等の添加剤を含有させることができる。いずれの添加剤も、従来公知のものを用いることができる。
感光性組成物は、形状が良好で、基板への密着性に優れる硬化膜を形成しやすいことから、シランカップリング剤を含むものが好ましい。シランカップリング剤としては、従来知られるものを特に制限なく使用することができる。
界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系等の化合物が挙げられ、熱重合禁止剤としては、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノエチルエーテル等が挙げられ、消泡剤としては、シリコーン系、フッ素系化合物等が挙げられる。 <Other ingredients>
The photosensitive composition may contain additives such as a surfactant, an adhesion improver, a thermal polymerization inhibitor, an antifoaming agent, and a silane coupling agent as necessary. Any additive can be used as the additive.
The photosensitive composition preferably contains a silane coupling agent because it is easy to form a cured film having a good shape and excellent adhesion to the substrate. A conventionally known silane coupling agent can be used without particular limitation.
Examples of the surfactant include anionic, cationic, and nonionic compounds, examples of the thermal polymerization inhibitor include hydroquinone and hydroquinone monoethyl ether, and examples of the antifoaming agent include silicone and fluorine. Compounds and the like.

＜感光性組成物の調製方法＞
以上説明した感光性組成物は、上記各成分を、それぞれ所定量混合した後、撹拌機で均一に混合することにより得られる。なお、得られた混合物がより均一なものとなるようフィルタを用いて濾過してもよい。
また、感光性組成物の塩化物イオン含有量を所望する値まで低減する目的で、感光性組成物を陰イオン交換樹脂により処理してもよい。 <Method for preparing photosensitive composition>
The photosensitive composition demonstrated above is obtained by mixing each said component each predetermined amount, and mixing uniformly with a stirrer. In addition, you may filter using a filter so that the obtained mixture may become a more uniform thing.
Further, the photosensitive composition may be treated with an anion exchange resin for the purpose of reducing the chloride ion content of the photosensitive composition to a desired value.

≪感光性組成物を用いて形成さる膜における異物を抑制する方法≫
感光性組成物を用いて形成される膜における異物を抑制する方法において用いられる感光性組成物は、それぞれ前述の、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）と、光重合性化合物（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）と、溶剤（Ｓ）と、アミン（Ｅ）とを含む。感光性組成物は、着色剤（Ｄ）等の任意成分をさらに含んでいてもよい。
かかる感光性組成物中の塩化物イオンを量を１０００質量％以下とすることにより、感光性組成物を用いて形成される膜における異物の発生が抑制される。 <Method for suppressing foreign matter in a film formed using a photosensitive composition>
The photosensitive composition used in the method for suppressing foreign matter in a film formed using the photosensitive composition is the above-mentioned alkali-soluble resin (A), photopolymerizable compound (B), and photopolymerization start, respectively. An agent (C), a solvent (S), and an amine (E) are included. The photosensitive composition may further contain optional components such as a colorant (D).
By setting the amount of chloride ions in the photosensitive composition to 1000% by mass or less, generation of foreign matters in the film formed using the photosensitive composition is suppressed.

異物の数は、感光性組成物を１０ｃｍ×１０ｃｍの基板上にスピン塗布した後に乾燥した膜厚１μｍの膜において、異物検知器により検知される異物の数である。
上記方法によれば、以上説明した異物の数が１０００未満に抑制される。 The number of foreign matters is the number of foreign matters detected by a foreign matter detector in a film having a thickness of 1 μm dried after spin coating of the photosensitive composition on a 10 cm × 10 cm substrate.
According to the above method, the number of foreign substances described above is suppressed to less than 1000.

≪硬化膜の形成方法≫
以上説明した、感光性組成物を用いて形成された薄膜を、露光により硬化させることにより、硬化膜が形成される。
硬化膜の用途としては、絶縁膜が挙げられる。感光性組成物が着色剤（Ｄ）を含まない場合には、透明絶縁膜が形成される。感光性樹脂組成物が着色剤（Ｄ）を含む場合には、着色された絶縁膜が形成される。特に、着色剤（Ｄ）が遮光剤である場合、遮光性の絶縁膜が形成される。
遮光性の黒色絶縁膜の好適な例としては、種々の画像表示装置用のパネルが備える、ブラックマトリクス中の黒色の隔壁や、ブラックカラムスペーサが挙げられる。
また、感光性樹脂組成物がＲＧＢ等の有彩色の着色剤（Ｄ）を含む場合、ブラックマトリクスにより区画された領域に着色された硬化膜を形成してカラーフィルタを製造することができる。
例えば、上記のブラックマトリクスや、有彩色の硬化膜を含むカラーフィルタは、種々の表示装置において好適に使用される。 ≪Method of forming cured film≫
A cured film is formed by curing the thin film formed using the photosensitive composition described above by exposure.
As an application of the cured film, an insulating film can be used. When the photosensitive composition does not contain the colorant (D), a transparent insulating film is formed. When the photosensitive resin composition contains a colorant (D), a colored insulating film is formed. In particular, when the colorant (D) is a light shielding agent, a light shielding insulating film is formed.
Preferable examples of the light-shielding black insulating film include black partition walls and black column spacers in a black matrix provided in various image display device panels.
Further, when the photosensitive resin composition contains a chromatic colorant (D) such as RGB, a color filter can be produced by forming a colored cured film in a region partitioned by a black matrix.
For example, the above-described black matrix and a color filter including a chromatic color cured film are preferably used in various display devices.

硬化膜の好適な製造方法としては、
前述の感光性組成物を基板上に塗布して、塗布膜を形成することと、
塗布膜を露光することと、を含む方法が挙げられる。 As a suitable manufacturing method of the cured film,
Applying the photosensitive composition described above onto a substrate to form a coating film;
Exposing the coating film.

感光性組成物を用いて硬化膜を形成するには、感光性組成物を、硬化膜の用途に応じて選択された基板上に塗布して塗布膜を形成する。塗布膜の形成方法は特に限定されないが、例えば、ロールコータ、リバースコータ、バーコータ等の接触転写型塗布装置やスピンナー（回転式塗布装置）、カーテンフローコータ等の非接触型塗布装置を用いて行われる。   In order to form a cured film using the photosensitive composition, the photosensitive composition is applied onto a substrate selected according to the use of the cured film to form a coated film. The method for forming the coating film is not particularly limited. For example, the coating film is formed using a contact transfer type coating device such as a roll coater, a reverse coater, or a bar coater, or a non-contact type coating device such as a spinner (rotary coating device) or a curtain flow coater. Is called.

塗布された感光性組成物は、必要に応じて乾燥され、塗布膜を構成する。乾燥方法は、特に限定されず、例えば、（１）ホットプレートにて８０〜１２０℃、好ましくは９０〜１００℃の温度にて６０〜１２０秒間乾燥させる方法、（２）室温にて数時間〜数日間放置する方法、（３）温風ヒータや赤外線ヒータ中に数十分間〜数時間入れて溶剤を除去する方法等が挙げられる。   The applied photosensitive composition is dried as necessary to form a coating film. The drying method is not particularly limited. For example, (1) a method of drying on a hot plate at 80 to 120 ° C., preferably 90 to 100 ° C. for 60 to 120 seconds, (2) several hours at room temperature Examples include a method of leaving for several days, and (3) a method of removing the solvent by putting it in a warm air heater or an infrared heater for several tens of minutes to several hours.

次いで塗布膜に対する露光が行われる。露光は、紫外線、エキシマレーザー光等の活性エネルギー線を照射して行われる。露光は、例えば、ネガ型のマスクを介して露光を行う方法等により、位置選択的に行われてもよい。照射するエネルギー線量は、感光性樹脂組成物の組成によっても異なるが、例えば４０〜２００ｍＪ／ｃｍ２程度が好ましい。 Next, the coating film is exposed. The exposure is performed by irradiating active energy rays such as ultraviolet rays and excimer laser light. The exposure may be performed position-selectively by, for example, a method of performing exposure through a negative mask. Although the energy dose to be irradiated varies depending on the composition of the photosensitive resin composition, for example, about 40 to 200 mJ / cm 2 is preferable.

塗布膜が位置選択的に露光された場合、露光後の膜を、現像液により現像することによって所望の形状にパターニングする。現像方法は、特に限定されず、例えば、浸漬法、スプレー法等を用いることができる。現像液は、感光性組成物の組成に応じて適宜選択される。現像液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、アンモニア、４級アンモニウム塩等の塩基性の水溶液を用いることができる。   When the coating film is exposed in a position-selective manner, the exposed film is patterned into a desired shape by developing with a developer. The development method is not particularly limited, and for example, an immersion method, a spray method, or the like can be used. The developer is appropriately selected according to the composition of the photosensitive composition. As the developer, for example, a basic aqueous solution such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, ammonia, or a quaternary ammonium salt can be used.

全面露光により形成された硬化膜、又は現像されたパターン化された硬化膜は、必要に応じて１２０〜２５０℃の温度でポストベークされる。   The cured film formed by the whole surface exposure or the developed patterned cured film is post-baked at a temperature of 120 to 250 ° C. as necessary.

以上のようにして形成される硬化膜は、異物の含有量が少なく、また微細にパターン化され得るため、種々の用途に好適に使用される。   Since the cured film formed as described above has a low content of foreign matter and can be finely patterned, it is suitably used for various applications.

以下、実施例を示して本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲は、これらの実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the scope of the present invention is not limited to these examples.

〔実施例〕
実施例、及び比較例において、表１に記載の種類のオキシムエステル化合物（Ｃ１）を１００質量部、表１に記載の種類の化合物（Ｃ２）を２５質量部、アルカリ可溶性樹脂（固形分５５質量％、溶剤３−メトキシブチルアセテート）３１０質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）１７５質量部、及びカーボンブラック分散液（ＣＦブラック、御国色素（株）製）４５０質量部の混合物に、固形分が１５質量％となるように、３−メトキシブチルアセテートを加え、均一になるまで撹拌して、感光性組成物を得た。
アルカリ可溶性樹脂は、特開２０１０−３２９４０号公報の段落［００６３］〜［００６４］に記載荒れた樹脂Ａ−１と同じ樹脂を用いた。 〔Example〕
In Examples and Comparative Examples, 100 parts by mass of the oxime ester compound (C1) of the type shown in Table 1, 25 parts by mass of the compound (C2) of the type shown in Table 1, and alkali-soluble resin (55 mass of solid content) %, Solvent 3-methoxybutyl acetate) 310 parts by mass, dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, Nippon Kayaku Co., Ltd.) 175 parts by mass, and carbon black dispersion (CF black, produced by Gokoku Dye Co., Ltd.) 450 3-Methoxybutyl acetate was added to the mixture of parts by mass so that the solid content was 15% by mass, and the mixture was stirred until uniform to obtain a photosensitive composition.
As the alkali-soluble resin, the same resin as the rough resin A-1 described in paragraphs [0063] to [0064] of JP 2010-32940 A was used.

得られた感光性組成物について、イオンクロマトグラフィーによりアミンの含有量を測定し、イオンクロマトグラフィーにより塩化物イオンの含有量を測定した。各感光性組成物のアミンの含有量と、塩化物イオンの含有量とを表１に記す。
表１中のアミンの種類Ｅ１、Ｅ２、及びＥ３は以下の通りである。
Ｅ１：モルホリン
Ｅ２：トリエチルアミン
Ｅ３：イミダゾール About the obtained photosensitive composition, content of the amine was measured by ion chromatography and content of chloride ion was measured by ion chromatography. Table 1 shows the amine content and chloride ion content of each photosensitive composition.
The types of amines E1, E2, and E3 in Table 1 are as follows.
E1: Morpholine E2: Triethylamine E3: Imidazole

なお、実施例１〜３、実施例６〜１１、比較例１〜６、及び比較例８〜１２の感光性組成物中のアミン含有量は、化合物（Ｃ２）の精製の程度により調整した。
実施例４、実施例５、比較例７の感光性組成物中のアミン含有量は、実質的にアミンを含まない化合物（Ｃ２）を用いたうえで、トリエチルアミンを所定量感光性組成物に加えることにより調整した。
また、各感光性組成物中の塩化物イオン含有量は、オキシムエステル化合物（Ｃ１）の精製の程度により調整した。 In addition, the amine content in the photosensitive composition of Examples 1-3, Examples 6-11, Comparative Examples 1-6, and Comparative Examples 8-12 was adjusted with the grade of the refinement | purification of a compound (C2).
Regarding the amine content in the photosensitive compositions of Example 4, Example 5, and Comparative Example 7, triethylamine was added to the photosensitive composition in a predetermined amount after using the compound (C2) substantially free of amine. Was adjusted accordingly.
The chloride ion content in each photosensitive composition was adjusted depending on the degree of purification of the oxime ester compound (C1).

実施例及び比較例において、オキシムエステル化合物（Ｃ１）としては、下記Ｃ１ａ及び下記Ｃ１ｂを用いた。

Figure 2018072398
In Examples and Comparative Examples, the following C1a and C1b were used as the oxime ester compound (C1).
Figure 2018072398

実施例及び比較例において、化合物（Ｃ２）として、以下のＣ２ａ、Ｃ２ｂ、及びＣ２ｃを用いた。
Ｃ２ａ：２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン
Ｃ２ｂ：２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノプロパン−１−オン
Ｃ２ｃ：２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾリル二量体 In Examples and Comparative Examples, the following C2a, C2b, and C2c were used as the compound (C2).
C2a: 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one C2b: 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1 -On C2c: 2- (o-chlorophenyl) -4,5-diphenylimidazolyl dimer

得られた感光性組成物について、以下の方法に従って、異物と、解像性と、感度と、塗布性とについて評価を行った。これらの評価結果を表１に記す。   About the obtained photosensitive composition, it evaluated about the foreign material, the resolution, the sensitivity, and the applicability | paintability in accordance with the following method. These evaluation results are shown in Table 1.

（異物評価）
スピンコーターを用いて、１０ｃｍ×１０ｃｍのガラスに、感光性樹脂組成物を塗布して塗布膜を形成した。次いで、１００℃で１２０秒間ホットプレートにより塗布膜を加熱して塗布膜から溶剤を除去し、膜厚１μｍの塗布膜を得た。
得られた塗布膜中の異物数を、異物検知器により計測し、異物数１０００以上を×と判定し、異物数１００未満を○と判定した。 (Foreign substance evaluation)
Using a spin coater, the photosensitive resin composition was applied to 10 cm × 10 cm glass to form a coating film. Next, the coating film was heated with a hot plate at 100 ° C. for 120 seconds to remove the solvent from the coating film, thereby obtaining a coating film having a thickness of 1 μm.
The number of foreign matters in the obtained coating film was measured by a foreign matter detector, and the number of foreign matters 1000 or more was judged as x, and the number of foreign matters 100 was judged as o.

（解像性評価）
スピンコーターを用いて、１０ｃｍ×１０ｃｍのガラスに、感光性樹脂組成物を塗布して塗布膜を形成した。次いで、１００℃で１２０秒間ホットプレートにより塗布膜を加熱して塗布膜から溶剤を除去し、膜厚１μｍの塗布膜を得た。
得られた塗布膜に、線幅、２、４、６、８、１０、１２、１４、１６、１８、及び２０μｍの線が描かれたフォトマスクを介して、露光量５０ｍＪ／ｃｍ２で露光を行った。
露光後、塗布膜を濃度０．０５質量％のＫＯＨ水溶液を用いて６０秒間現像し、描かれたパターン中の最小の線幅を確認した。
最小の線幅が１０μｍ以上である場合を×と判定し、最小の線幅が１０μｍ未満である場合を○と判定した。 (Resolution evaluation)
Using a spin coater, the photosensitive resin composition was applied to 10 cm × 10 cm glass to form a coating film. Next, the coating film was heated with a hot plate at 100 ° C. for 120 seconds to remove the solvent from the coating film, thereby obtaining a coating film having a thickness of 1 μm.
The obtained coating film is exposed at an exposure amount of 50 mJ / cm 2 through a photomask on which lines having line widths of 2, 4, 6, 8, 10, 12, 14, 16, 18, and 20 μm are drawn. Went.
After the exposure, the coated film was developed for 60 seconds using a 0.05% by weight aqueous KOH solution to confirm the minimum line width in the drawn pattern.
The case where the minimum line width was 10 μm or more was determined as x, and the case where the minimum line width was less than 10 μm was determined as ◯.

（感度評価）
スピンコーターを用いて、１０ｃｍ×１０ｃｍのガラスに、感光性樹脂組成物を塗布して塗布膜を形成した。次いで、１００℃で１２０秒間ホットプレートにより塗布膜を加熱して塗布膜から溶剤を除去し、膜厚１μｍの塗布膜を得た。
得られた塗布膜に、線幅２０μｍの線が描かれたフォトマスクを介して、露光量５０ｍＪ／ｃｍ２で露光を行った。
露光後、塗布膜を濃度０．０５質量％のＫＯＨ水溶液を用いて６０秒間現像し、描かれたパターンを確認した。
同様の操作を、露光量２５ｍＪ／ｃｍ２、７５ｍＪ／ｃｍ２、１００ｍＪ／ｃｍ２で行った。
７５ｍＪ／ｃｍ２以上の露光量で所望する寸法のパターンが得られた場合を×と判定し、５０ｍＪ／ｃｍ２以下の露光量で所望する寸法のパターンが得られた場合を○と判定した。 (Sensitivity evaluation)
Using a spin coater, the photosensitive resin composition was applied to 10 cm × 10 cm glass to form a coating film. Next, the coating film was heated with a hot plate at 100 ° C. for 120 seconds to remove the solvent from the coating film, thereby obtaining a coating film having a thickness of 1 μm.
The obtained coating film was exposed at an exposure amount of 50 mJ / cm 2 through a photomask on which a line having a line width of 20 μm was drawn.
After the exposure, the coating film was developed for 60 seconds using an aqueous KOH solution having a concentration of 0.05% by mass, and the drawn pattern was confirmed.
The same operation was conducted with an exposure dose 25mJ / cm 2, 75mJ / cm 2, 100mJ / cm 2.
The case where the pattern of the desired dimension was obtained with the exposure amount of 75 mJ / cm 2 or more was determined as x, and the case where the pattern of the desired dimension was obtained with the exposure amount of 50 mJ / cm 2 or less was determined as ◯.

（塗布性評価）
異物測定に用いた塗布膜の膜厚を１０点測定し、最大膜厚と最小膜厚との差を算出した。なお、いずれの感光性組成物についても塗布性は問題のない水準であり、この評価は問題のないでの塗布性の優劣を比較するものである。
膜厚差が０．１μｍ以上である場合を○と判定し、膜厚差が０．１μｍ未満である場合を◎と判定した。 (Applicability evaluation)
The film thickness of the coating film used for the foreign matter measurement was measured at 10 points, and the difference between the maximum film thickness and the minimum film thickness was calculated. In addition, about any photosensitive composition, applicability | paintability is a level which does not have a problem, and this evaluation compares the superiority of the applicability | paintability without a problem.
The case where the film thickness difference was 0.1 μm or more was determined as “◯”, and the case where the film thickness difference was less than 0.1 μm was determined as “◎”.

Figure 2018072398
Figure 2018072398

表１によれば、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）と、光重合性化合物（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）と、溶剤（Ｓ）と、アミン（Ｅ）とを含む感光性組成物であって、光重合開始剤（Ｃ）が、オキシムエステル化合物（Ｃ１）と、オキシムエステル化合物以外の化合物（Ｃ２）とを含み、感光性組成物中の塩化物イオン量が、１０００質量ｐｐｍ以下である、実施例の感光性組成物では、異物の抑制と、良好な解像性とが両立されていることが分かる。   According to Table 1, the photosensitive composition containing an alkali-soluble resin (A), a photopolymerizable compound (B), a photopolymerization initiator (C), a solvent (S), and an amine (E). The photopolymerization initiator (C) includes an oxime ester compound (C1) and a compound (C2) other than the oxime ester compound, and the amount of chloride ions in the photosensitive composition is 1000 mass ppm or less. It can be seen that the photosensitive composition of an example achieves both suppression of foreign matters and good resolution.

Claims (6)

アルカリ可溶性樹脂（Ａ）と、光重合性化合物（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）と、溶剤（Ｓ）と、アミン（Ｅ）とを含む感光性組成物であって、
前記光重合開始剤（Ｃ）が、オキシムエステル化合物（Ｃ１）と、前記オキシムエステル化合物以外の化合物（Ｃ２）とを含み、
前記感光性組成物中の塩化物イオン量が、１０００質量ｐｐｍ以下である、感光性組成物。 A photosensitive composition comprising an alkali-soluble resin (A), a photopolymerizable compound (B), a photopolymerization initiator (C), a solvent (S), and an amine (E),
The photopolymerization initiator (C) includes an oxime ester compound (C1) and a compound (C2) other than the oxime ester compound,
The photosensitive composition whose chloride ion amount in the said photosensitive composition is 1000 mass ppm or less. さらに、着色剤（Ｄ）を含む、請求項１に記載の感光性組成物。   Furthermore, the photosensitive composition of Claim 1 containing a coloring agent (D). 前記感光性組成物中の前記アミン（Ｅ）の含有量が、５０００質量ｐｐｍ以下である、請求項１又は２に記載の感光性組成物。   The photosensitive composition of Claim 1 or 2 whose content of the said amine (E) in the said photosensitive composition is 5000 mass ppm or less. 前記化合物（Ｃ２）が、アルキルフェノン化合物、及びイミダゾール化合物からなる群より選択される１種以上である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の感光性組成物。   The photosensitive composition of any one of Claims 1-3 whose said compound (C2) is 1 or more types selected from the group which consists of an alkylphenone compound and an imidazole compound. 請求項１〜４のいずれか１項に記載の感光性組成物を基板上に塗布して、塗布膜を形成することと、
前記塗布膜を露光することと、を含む、硬化膜の形成方法。 Applying the photosensitive composition according to any one of claims 1 to 4 on a substrate to form a coating film;
Exposing the coating film, and forming a cured film. 前記塗布膜が位置選択的に露光され、
さらに、露光された前記塗布膜を現像することを含む、請求項５に記載の硬化膜の形成方法。 The coating film is exposed position-selectively,
The method for forming a cured film according to claim 5, further comprising developing the exposed coating film.
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