JP2017207616A - 液晶表示装置 - Google Patents
液晶表示装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017207616A JP2017207616A JP2016099665A JP2016099665A JP2017207616A JP 2017207616 A JP2017207616 A JP 2017207616A JP 2016099665 A JP2016099665 A JP 2016099665A JP 2016099665 A JP2016099665 A JP 2016099665A JP 2017207616 A JP2017207616 A JP 2017207616A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- protrusion
- liquid crystal
- display device
- crystal display
- color filter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims abstract description 48
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 115
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 40
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 44
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 44
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 20
- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 28
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 87
- 239000010408 film Substances 0.000 description 52
- 238000000034 method Methods 0.000 description 17
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 11
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 11
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 9
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 5
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 5
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 4
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 3
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001182 Mo alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 108090000699 N-Type Calcium Channels Proteins 0.000 description 1
- 102000004129 N-Type Calcium Channels Human genes 0.000 description 1
- 108010075750 P-Type Calcium Channels Proteins 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000007687 exposure technique Methods 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
- G02F1/13394—Gaskets; Spacers; Sealing of cells spacers regularly patterned on the cell subtrate, e.g. walls, pillars
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133512—Light shielding layers, e.g. black matrix
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133514—Colour filters
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/133388—Constructional arrangements; Manufacturing methods with constructional differences between the display region and the peripheral region
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133514—Colour filters
- G02F1/133519—Overcoatings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
- G02F1/1362—Active matrix addressed cells
- G02F1/136286—Wiring, e.g. gate line, drain line
- G02F1/136295—Materials; Compositions; Manufacture processes
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
Abstract
【課題】表示パネルの外周部が撓んだりしない液晶表示装置を提供する。
【解決手段】ガラス基板100と、ガラス基板100上の色層102,104と、色層102,104上のオーバーコート層106と、オーバーコート層106上の対向突起部108と対向壁突起部124とを有する対向基板3を含む液晶表示装置であって、対向突起部108は、画像表示領域に位置し、対向壁突起部124は、画像表示領域を囲う周辺領域に位置し、対向突起部108と対向壁突起部124は実質的に同じ高さを有し、ガラス基板100から対向突起部108の頂部までの第1突出距離は、ガラス基板100から対向壁突起部124の頂部までの第2突出距離よりも小さい。
【選択図】 図6
【解決手段】ガラス基板100と、ガラス基板100上の色層102,104と、色層102,104上のオーバーコート層106と、オーバーコート層106上の対向突起部108と対向壁突起部124とを有する対向基板3を含む液晶表示装置であって、対向突起部108は、画像表示領域に位置し、対向壁突起部124は、画像表示領域を囲う周辺領域に位置し、対向突起部108と対向壁突起部124は実質的に同じ高さを有し、ガラス基板100から対向突起部108の頂部までの第1突出距離は、ガラス基板100から対向壁突起部124の頂部までの第2突出距離よりも小さい。
【選択図】 図6
Description
本発明の実施形態は、液晶表示装置に関するものである。
従来の液晶表示装置においては、アレイ基板と、対向基板と、これらの間隙に保持する液晶層と、両基板の周辺同士を貼り合わせて液晶層を封止するシール部材とにより表示パネルが形成されている。そして、最近の液晶表示装置においては、そのシール部材の外周部にスペーサが設けられ、シール部材が表示パネルの外周部にはみ出ることを防止している。
上記表示パネルにおいては、シール部材の外周部にスペーサが設けられているだけでなく、画像表示領域にも液晶層の間隔を一定にするためのスペーサが設けられている。しかし、画像表示領域内にあるスペーサと外周部にあるスペーサとの高さを合わせないと表示パネルの外周部が画像表示領域の部分よりも撓んでしまうという問題点があった。
そこで本発明の実施形態は上記問題点に鑑み、表示パネルの外周部が撓んだりしない液晶表示装置を提供することを目的とする。
本発明の実施形態は、第1絶縁基板と、前記第1絶縁基板上の色層と、前記色層上のオーバーコート層と、前記オーバーコート層上の第1突起部と第2突起部とを有する対向基板を含む液晶表示装置であって、前記第1突起部は、画像表示領域に位置し、前記第2突起部は、前記画像表示領域を囲う周辺領域に位置し、前記第1突起部と前記第2突起部は実質的に同じ高さを有し、前記第1絶縁基板から前記第1突起部の頂部までの第1突出距離は、前記第1絶縁基板から前記第2突起部の頂部までの第2突出距離よりも小さい、ことを特徴とする液晶表示装置である。
また、本発明の実施形態は、第2絶縁基板と、前記第2絶縁基板上の金属線と、前記金属線を覆う第1絶縁膜と、画像表示領域と、前記画像表示領域を囲う周辺領域と、前記画像表示領域の第3突起部と、前記周辺領域の第4突起部と、を有するアレイ基板を含む液晶表示装置であって、前記第4突起部は、前記アレイ基板の外端部近傍に形成され、前記第2絶縁基板から前記第3突起部の頂部までの第3突出距離は、前記第2絶縁基板から前記第4突起部の頂部までの第4突出距離と実質的に同じである、ことを特徴とする液晶表示装置である。
本発明の一の実施形態の液晶表示装置について、図面を参照して説明する。なお、実施形態における開示はあくまで一例に過ぎず、当業者において、発明の趣旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は説明をより明確にするため、実際の対応に比べ、各部の幅、厚さ、形状などについて模式的に表される場合があるが、あくまでも一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。
本実施形態の液晶表示装置は、具体例において、IPS(In-Plane Switching)方式などと呼ばれる横電界方式のものであり、特には、IPS方式の一例としてのフリンジ電界を用いるFFS(Fringe Field Switching)方式である。
実施形態1の液晶表示装置について、図1〜図12を参照して説明する。
(1)表示パネル1の全体構成
液晶表示装置の表示パネル1は、アレイ基板2と、対向基板3と、これらの間隙に保持される液晶層4と、両基板2,3の周辺部同士を貼り合わせて液晶層4を封止するシール部材5とにより形成されている。表示パネル1は、画像を表示するための画像表示領域と、その画像表示領域を囲む周辺領域とからなる。
液晶表示装置の表示パネル1は、アレイ基板2と、対向基板3と、これらの間隙に保持される液晶層4と、両基板2,3の周辺部同士を貼り合わせて液晶層4を封止するシール部材5とにより形成されている。表示パネル1は、画像を表示するための画像表示領域と、その画像表示領域を囲む周辺領域とからなる。
(2)アレイ基板2
アレイ基板2について図1、図3、図7を参照して説明する。図7に示すようにアレイ基板2のガラス基板10の画像表示領域において、縦方向の信号線15と横方向のゲート線16とが格子状に配列され、これらの交点毎に画素6が形成されている。画素6は、スイッチング素子であるn型チャネル又はp型チャネルのTFT(薄膜トランジスタ)7、画素電極14を有し、画素6のスイッチング部32では、ゲート線16がゲート電極に接続され、信号線15がソース電極に接続され、ドレイン電極が画素電極14に接続されている。図1に示すように画素6は、信号線15の方向に沿って長く延び、その長手方向の領域の大部分が、画素開口部31に相当し、この部分にスリット14Bを有する画素電極14が配置される。また、スイッチング部32は、画素6の一端部に形成され、画素電極14から延びる画素電極延在部14Aが配置されている。
アレイ基板2について図1、図3、図7を参照して説明する。図7に示すようにアレイ基板2のガラス基板10の画像表示領域において、縦方向の信号線15と横方向のゲート線16とが格子状に配列され、これらの交点毎に画素6が形成されている。画素6は、スイッチング素子であるn型チャネル又はp型チャネルのTFT(薄膜トランジスタ)7、画素電極14を有し、画素6のスイッチング部32では、ゲート線16がゲート電極に接続され、信号線15がソース電極に接続され、ドレイン電極が画素電極14に接続されている。図1に示すように画素6は、信号線15の方向に沿って長く延び、その長手方向の領域の大部分が、画素開口部31に相当し、この部分にスリット14Bを有する画素電極14が配置される。また、スイッチング部32は、画素6の一端部に形成され、画素電極14から延びる画素電極延在部14Aが配置されている。
アレイ基板2のガラス基板10の上面にはTFT7の半導体を構成するポリシリコン配線17が形成され、その上にゲート絶縁膜16Cが形成されている。その上には、ゲート線16が所定間隔毎に平行に横方向に形成されている。ゲート線16のスイッチ部32に対応する位置には、TFT7と接続されるゲート電極用枝線16Aが縦方向に延びている。また、図9に示すように、横方向のゲート線16と直交する方向であって、縦方向の信号線15と対応する位置には、信号線15に沿って第1金属線16Bが縦方向に形成されている。第1金属線16Bは、他の導電層からフローティングの状態であり、ゲート線16と同層に同じ材料で形成された金属部であり、後から説明するアレイ突起部11の高さを高くするために設けられている。また、図7に示すように、横方向の各ゲート線16の端部で、かつ、アレイ基板2の周辺領域において、ゲート線16と連続してゲート引き出し線16Dが縦方向に形成され、図7における3辺の対向突起部124がない1辺の周辺領域まで延びている。また、この1辺はアレイ基板の端子部が形成される領域である。
アレイ基板2には、図3に示すように樹脂によって有機絶縁膜12が形成されている。画素電極14は、この有機絶縁膜12上に配置されている。信号線15及びその近傍に関しては、樹脂による有機絶縁膜12より厚く覆われて、アレイ突起部11が形成されている。アレイ突起部11の有機絶縁膜12は、画素開口領域31内の有機絶縁膜12から寸法D2(図3)だけ高く形成されている。アレイ突起部11は、信号線15の方向に沿って長い画素開口部31を左右から挟むように、連続して形成されている。
アレイ突起部11の有機絶縁膜12上に、ITOやIZO等の透明導電材料からなるコモン電極13が形成されている。
アレイ突起部11における信号線15上で、かつ、コモン電極13上に第3金属線であるコモン線20が形成され、各コモン電極13がコモン線20で電気的に接続されている。
図3〜図5に示すように、アレイ基板2における液晶層4と接する表面には配向膜18が形成されている。配向膜18は、ラビング処理もしくは光配向処理によって配向処理された水平配向膜であっても良いし、垂直配向膜であっても良い。
アレイ突起部11に関してさらに詳しく説明する。アレイ突起部11の有機絶縁膜12は、画素開口領域31内の有機絶縁膜12よりも高く形成され、かつ、信号線15の方向に沿って延びている。アレイ突起部11は、図4に示すように、ガラス基板10上に形成されたポリシリコン配線17、その上に形成されたゲート絶縁膜16C、その上に形成された第1金属線16B、その上に形成された第1層間絶縁膜15B、その上に形成された信号線15、その上に形成された有機絶縁膜12、その上に形成されたコモン電極13、その上に形成されたコモン線20、その上に形成された第2層間絶縁膜13A、その上に形成された配向膜18を有する。アレイ突起部11の高さは、他の部分の有機絶縁膜12から寸法D2だけ高く形成されている。第1層間絶縁膜15B及び第2層間絶縁膜13Aは、例えば無機材料により形成される。
(3)対向基板3
対向基板3について図2、図3を参照して説明する。対向基板3のガラス基板100には、黒色の樹脂材料により格子状に設けられたブラックマトリクス102が形成されている。図2に示すように、ブラックマトリックス102は、信号線15及びその近傍を覆うように信号線15に沿って延びる縦部分と、各スイッチング部32及びその近傍を覆う横部分とにより形成されている。図示の例においては、スイッチング部32近傍を覆う横部分が、ゲート線16に沿って連続して延びており、信号線15近傍を覆う縦部分とにより格子状に形成されている。ブラックマトリクス102の格子状の各開口部分が、画素開口部31に対応する。
対向基板3について図2、図3を参照して説明する。対向基板3のガラス基板100には、黒色の樹脂材料により格子状に設けられたブラックマトリクス102が形成されている。図2に示すように、ブラックマトリックス102は、信号線15及びその近傍を覆うように信号線15に沿って延びる縦部分と、各スイッチング部32及びその近傍を覆う横部分とにより形成されている。図示の例においては、スイッチング部32近傍を覆う横部分が、ゲート線16に沿って連続して延びており、信号線15近傍を覆う縦部分とにより格子状に形成されている。ブラックマトリクス102の格子状の各開口部分が、画素開口部31に対応する。
ブラックマトリックス102上には、図3に示すようにR(赤色),G(緑色),B(青色)からなるカラーフィルタ層104が形成されている。
カラーフィルタ層104上には、樹脂からなるオーバーコート層106が形成されている。
対向基板3には、対向突起部108を備える。対向突起部108はオーバーコート層106と異なる材料によって形成される。また、樹脂からなるオーバーコート層106の形成時にオーバーコート層106と一体に対向突起部108が形成されていても良い。対向突起部108は、図2の平面図に示すように、ゲート線16に沿って丸角の長方形をなし、信号線15からスイッチング部32にかけて設けられている。
図6に示すように、対向基板3における液晶層4と接する表面には、配向膜110が形成されている。
(4)スペーサ
図2〜図4に示すように、アレイ突起部11の頂部と対向突起部108の頂部とが当接されて、スペーサ(フォトスペーサ)としての役割を果たす。すなわち、縦方向の信号線15に沿って延びるアレイ突起部11と、横方向のゲート線16に沿って延びる対向突起部108とがクロス状に組み合わさることで、一つのスペーサを形成している。
図2〜図4に示すように、アレイ突起部11の頂部と対向突起部108の頂部とが当接されて、スペーサ(フォトスペーサ)としての役割を果たす。すなわち、縦方向の信号線15に沿って延びるアレイ突起部11と、横方向のゲート線16に沿って延びる対向突起部108とがクロス状に組み合わさることで、一つのスペーサを形成している。
このようにして形成されるスペーサは、複数の画素6に一つの割合で設けることができ、例えば4つの画素6当たり1つ、又は8つの画素6当たり1つの割合で設けることができる。
図2〜図4に示すように、アレイ突起部11と対向突起部108とからなる柱状スペーサによって液晶層4の厚みD1を維持できる。
(5)表示パネル1の周辺領域
次に、表示パネル1の周辺領域について図6〜図8を参照して説明する。なお、図6は、大型ガラス基板から表示パネル1を個々に切り分ける前の縦断面図であり、図6におけるカット線C−C線において縦方向に切断して、一枚の表示パネル1を製造する。
次に、表示パネル1の周辺領域について図6〜図8を参照して説明する。なお、図6は、大型ガラス基板から表示パネル1を個々に切り分ける前の縦断面図であり、図6におけるカット線C−C線において縦方向に切断して、一枚の表示パネル1を製造する。
まず、アレイ基板2の周辺領域について説明する。図7に示すように、アレイ基板2の外周部における3辺には線状のアレイ壁突起部40が形成されている。これらアレイ壁突起部40の内側、すなわち画像表示領域側には、3辺の線状の周囲溝42が形成されている。図6に示すように、このアレイ壁突起部40は、ガラス基板10上に設けられたゲート絶縁膜16C、第1層間絶縁膜15B、所定高さの有機絶縁膜12が形成され、有機絶縁膜12の上には、第2層間絶縁膜13A、配向膜18が積層されている。また、周囲溝42の領域には、ガラス基板10の上にゲート絶縁膜16C、第1層間絶縁膜15Bが形成されている。すなわち、周囲溝42は、有機絶縁膜12の高さの分だけアレイ壁突起部40より低く形成され、段差を有している。
次に、対向基板3の周辺領域について説明する。ガラス基板100の外周部までブラックマトリクス104が形成され、外端部には3辺の線状の対向突起部108が形成されている。対向突起部108の外周部や内側には第1ブラックマトリクス溝(以下、単に「第1BM溝」という)112が4辺に線状に形成されている。第1BM溝112の内側、すなわち画像表示領域側にも、第2ブラックマトリクス溝(以下、単に「第2BM溝」という)114が4辺に形成されている。
図6に示すように、対向突起部108に対応するブラックマトリクス104上には、第1壁カラーフィルタ層116が形成されている。第1壁カラーフィルタ層116は、一色(例えば、赤色:R)であり、図7に示すように3辺に形成されている。また、この第1壁カラーフィルタ層116には、外周部に沿って延びる複数のスリットが設けられて段差が形成されている。
図6に示すように、第1壁カラーフィルタ層116上には、第2壁カラーフィルタ層118が形成されている。第2壁カラーフィルタ層118は、第1壁カラーフィルタ層(赤色:R)とは異なる色(例えば、青色:B)であり、第1壁カラーフィルタ層116を全て覆うように、かつ、段差により生じたスリットの間にも顔料が入り込むように積層されている。これにより、この位置での第2壁カラーフィルタ層118の高さh2は、第1壁カラーフィルタ層116の高さh3より高くなるが、単に2層のカラーフィルタ層を積層したより低い。すなわち、スリットに入り込んだ顔料の量だけ第2壁カラーフィルタ層118の高さが低くなる。例えば、1つのカラーフィルタ層の高さが2.5μmとすると、これを単に2層にすると5.0μmとなるが、このように第1壁カラーフィルタ層116にスリットを設けることにより−0.8μmだけ高さを低くできる。
また、第1BM溝112の内部にはカラーフィルタ層は形成されていない。また、第2BM溝114の内部には、2層の遮光カラーフィルタ層120,122が形成されている。
上記のように形成した第1壁カラーフィルタ層116と第2壁カラーフィルタ層118の上にオーバーコート膜106が形成され、オーバーコート層106上に対向壁突起部124が形成されている。すなわち、対向基板3の外周端部に沿って3辺の対向壁突起部124を形成し、画像表示領域についてはオーバーコート層106と対向突起部108とを形成する。なお、3辺の対向壁突起部124の幅は、対向突起部108の幅よりも小さい。また、このときシール部材5のやや内側の4辺にも、シール部材5の画像表示領域側への侵入を防止する侵入防止壁126を対向壁突起部124と共に形成する。3辺の対向壁突起部124、画像表示領域内の対向突起部108の高さは同じであるが、対向壁突起部124は、第1壁カラーフィルタ層116と第2壁カラーフィルタ層118が積層された位置に設けられているため、同じ高さであっても、この積層された分だけ他の突起部よりも下方に突出する。しかし、2層のカラーフィルタ層をそのまま積層すると下方への突出長さが大きすぎる。そのため、第1壁カラーフィルタ層116にスリットを設けて、このスリットに第2壁カラーフィルタ層118の顔料を入れ込み、その分だけ下方への突出長さを小さくする。第1壁カラーフィルタ層116のスリットを設けることにより一例では−0.8μmだけ突出寸法を小さくできる。なお、ガラス基板100から対向壁突起部124の頂部までの突出距離は、例えば4.2μmである。
図6に示すように、アレイ基板2と対向基板3を貼り合わせると、3辺のアレイ壁突起部40の上に3辺の対向壁突起部124が配され、その内側にシール部材5が設けられる。また、シール部材5のさらに内側に侵入防止壁126が位置する。そして、大型基板をC−C線で切断すると、ガラス基板100の端部側面と、ブラックマトリクス102の端部側面と、対向壁突起部124の端部側面と、対向壁突起部124における第1壁カラーフィルタ層116の端部側面、第2壁カラーフィルタ層118の端部側面、対向壁突起部124の端部側面は、同一直線状になる。
また、第2BM溝114には遮光カラーフィルタ120が位置し、遮光カラーフィルタ122は遮光カラーフィルタ120に積層される。この場合、第2BM溝114が形成される領域のオーバーコート層106のガラス基板100との距離は対向壁突起部124が形成される領域のオーバーコート層120のガラス基板100との距離よりも低くなる。なお、4辺に形成される侵入防止壁126は対向壁突起部124や対向突起部108と同じ高さであっても良いし、異なっていても良い。
また、上述した2層のカラーフィルタ層の積層による高さ調整については目的とする高さに合わせてスリット幅や第1壁カラーフィルタの個数を変更するなどして調整できる。
(6)アレイ基板2の製造工程
アレイ基板2の製造工程の概略について図9〜図12について説明する。
アレイ基板2の製造工程の概略について図9〜図12について説明する。
第1工程において、図9に示すように、アレイ基板2のガラス基板10上に、画素6毎にポリシリコン配線17を縦方向に形成し、次に、各ポリシリコン配線17と共にアレイ基板2全体を酸化シリコン膜や窒化シリコン膜等からなるゲート絶縁膜16Cによって被覆する。
第2工程において、図9に示すように、モリブデン合金等の金属層により横方向にゲート線16、ゲート線16からの縦方向のゲート電極用枝線16A、ゲート線16と直交する縦方向の第1金属線16B、ゲート線16端部からの縦方向のゲート引き出し線Dとを形成し、次に、これら線と共にアレイ基板2全体を酸化シリコン膜や窒化シリコン膜等からなる第1層間絶縁膜15Bにより被覆する。
第3工程において、図10に示すように、第1層間絶縁膜15B及びゲート絶縁膜16Bを貫きポリシリコン配線17の両端部を露出させるコンタクトホール19A,19Aを形成する。
第4工程において、図10に示すように、第1層間絶縁膜15B上で、かつ、第1金属線16B上にアルミニウム、その合金等の金属によって第2金属線である信号線15を形成する。このときにスイッチング部32には、第1の島状パターン15Aを形成する。信号線15の厚みは、アレイ突起部11を比較的高く形成するためにゲート線16よりも厚く形成することが望ましい。例えば、0.1〜0.3μmである。
第5工程において、アレイ突起部11を備える透明の有機絶縁膜12を形成し、これにより信号線15及び第1の島状パターン15Aを被覆する。次に、第1の島状パターン15Aの一部を露出させるコンタクトホール19Bを形成する。平坦化膜12の厚みは、例えば、0.5〜2μm、特には、0.8〜1.2μmである。
第6工程において、図11に示すように、有機絶縁膜12上にITOやIZO等の透明導電材料からなるコモン電極13を形成する。このときにスイッチング部32には、第2の島状パターン13Aを形成する。コモン電極13の厚みは、例えば、10〜30nm(0.01〜0.0.3μm)である。
第7工程において、図11に示すように、コモン電極13上で、かつ、信号線15の上に第3金属線であるコモン線20を形成し、各コモン電極13をコモン線20で電気的に接続する。
第8工程において、図12に示すように、コモン電極13、コモン線20等を被覆するコモン電極絶縁膜13Bをアレイ基板2全体に形成し、次に、第2の島状パターン13Aの一部を露出させるコンタクトホール19Cを形成する。
第9工程において、図12に示すように、ITOやIZO等の透明導電材料からなる画素電極14を形成する。画素電極14には、スリット14Bが信号線15に沿って形成する。画素電極14の厚みは、例えば、10〜30nm(0.01〜0.03μm)である。
第10工程において、樹脂よりなる配向膜18をアレイ基板2全体に形成し、次に、紫外線照射による光配向処理を行う。
(7)対向基板3の製造工程
対向基板3の製造工程の概略について説明する。
対向基板3の製造工程の概略について説明する。
第1工程において、図2に示すように、対向基板3のガラス基板100上に、黒色顔料を分散させた樹脂層、又は、金属層からなるブラックマトリクス102を形成する。
第2工程において、赤色R、青色B及び緑色Gの顔料をそれぞれ分散させた樹脂層からなる3種のカラーフィルタ層104R,104B,104Gを、順に形成する。
第3工程において、図9に示すように、カラーフィルタ層104R,104B,104Gの間の厚みの不均一や凹凸を均等にするオーバーコート層106を形成する。このときにハーフトーン露光の技術により、オーバーコート層106と同時に対向突起部108を形成してもよい。対向突起部108を形成する位置は、図2に示すように信号線15からスイッチング部32にかけて、横方向のゲート線16に沿って形成する。オーバーコート層106の厚みは、例えば、0.5〜2μm、特には、0.8〜1.2μmである。
第4工程において、オーバーコート層106、対向突起部108に樹脂よりなる配向膜110を形成し、次に、紫外線照射による光配向処理を行う。
(8)効果
本実施形態であると、シール部材5は、アレイ壁突起部40と対向壁突起部124とによって外周部が遮断されているため、外周にはみ出すことがない。また、画像表示領域側に対しては侵入防止壁126が存在するため、画像表示領域側にもシール部材5が流れ出ない。
本実施形態であると、シール部材5は、アレイ壁突起部40と対向壁突起部124とによって外周部が遮断されているため、外周にはみ出すことがない。また、画像表示領域側に対しては侵入防止壁126が存在するため、画像表示領域側にもシール部材5が流れ出ない。
また、アレイ基板2のアレイ突起部11が、第1金属線16B、信号線15、コモン線20の3層が積層された高さを有し、外周部におけるアレイ壁突起部40がこの3層の金属線を有しない構成であるので、その分だけアレイ壁突起部40の高さ(ガラス基板10からアレイ壁突起部40の頂部までの突出距離)がアレイ隆起部11の高さ(ガラス基板10からアレイ突起部11の頂部までの突出距離)よりも低くなっている。もし、従来のように対向基板3のガラス基板100から突出している対向突起部108の頂部と対向壁突起部124の頂部が同じ高さ(突出距離)であると、表示パネル1の外周部が撓むこととなる。しかし、本実施形態では、外周部において第1壁カラーフィルタ層116と第2壁カラーフィルタ層118を積層した部分に対向壁突起部124を形成しているため、ガラス基板10から対向壁突起部124の頂部までの突出距離が、ガラス基板10から対向突起部108の頂部までの突出距離よりも大きくなり、高さの低い(突出距離が短い)アレイ壁突起部40の頂部に当接しても、表示パネル1の外周部が撓まない。
また、対向基板3の4辺には第1BM溝112、第2BM溝114が設けられているため、大型基板を各表示パネル1に切断するときに、切断時の帯電をこの第1BM溝112で防止できる。
また、第2BM溝114には、遮光カラーフィルタ層120と遮光カラーフィルタ層122が積層されているため、切断時の帯電防止に加えて、光抜けの防止ともなる。すなわち、第2BM溝114は画像表示領域に近いため光抜けが起こる可能性があるが、遮光カラーフィルタ層120と遮光カラーフィルタ層122を積層して光抜けの防止を行える。
また、信号線15の上にコモン線20を設けることにより、寄生容量を低減できる。
また、信号線15の近傍では、アレイ突起部11を設けて厚みを大きくすることにより、信号線15を確実に被覆と絶縁すると共に、有機絶縁膜12上の導電層との間の寄生容量を充分に小さくできる。
また、本実施形態はIPS方式等の横電界方式の液晶表示装置の特有の効果もある。すなわち、コモン電極13及び画素電極14の間に印加される液晶駆動電圧により、図3に示すように、アレイ基板2からループ状の電気力線8が延びる。図3中に模式的に示すように、アレイ突起部11の存在により、電気力線8が左右の信号線15近傍へと延び広がるのが抑えられる。
また、縦方向のアレイ突起部11と、横方向の対向突起部108とが、平面図においてクロス状に当接されるので、対向突起部108、又は、アレイ突起部11が、他方の基板2,3における突出部分以外の箇所に当接して傷をつけるおそれがない。また、対向突起部108は、平坦化膜106と同時に一体に形成され、かつ、液晶層4の厚みよりも小さい突出寸法で良いため、工程負担を小さくできる。
次に、実施形態2の液晶表示装置の表示パネル1について図13と図14に基づいて説明する。
本実施形態と実施形態1の異なる点は、対向基板3に設けた対向突起部108の位置にある。実施形態1では、対向突起部108を図2に示すように信号線15からスイッチング部32にかけて、横方向のゲート線16に沿って形成したが、本実施形態では図14に示すようにゲート線16の真上に対向突起部108をゲート線16の方向に沿って形成する。
本実施形態であっても信号線15に沿って設けられたアレイ突起部11と対向突起部108が直交するようにクロスで当接するため、柱状スペーサとしての役割を果たすことができる。
次に、実施形態3の液晶表示装置の表示パネル1について図15に基づいて説明する。本実施形態と実施形態1の異なる点は、表示パネル1の外周部にある。
本実施形態では、対向基板3のブラックマトリクス104には1層のカラーフィルタ層102だけを設け、ガラス基板100からの対向突起部108の突出距離と対向壁突起部124の突出距離とを同じにする。
一方、アレイ基板2においては、アレイ突起部11と同様に、アレイ壁突起部40の中に、第1金属線(ゲート線16と同層で同材料)16B、第2金属線(信号線15と同層で同材料)15、第3金属線(コモン線20と同層で同材料)20を、それぞれゲート線16、信号線15、コモン線20と同層に同じ材料で形成する。なお、これら金属線16,15,20は、他の導電層からフローティングの状態である。アレイ対向壁突起部40の端部側面とガラス基板10の端部側面は、同一直線状にある。また、第1金属線16B、第2金属線15、第3金属線20は実施形態1と同様に端子部を除くアレイ基板10の3辺に形成される。
本実施形態であると、ガラス基板10からアレイ壁突起部40の頂部までの突出距離は、ガラス基板100からアレイ突起部11の頂部までの突出距離と同じになるため、従来のように対向基板3のガラス基板100から突出している対向突起部108の頂部と対向壁突起部124の頂部の高さであっても、表示パネル1の外周部が撓まない。
次に、実施形態4の液晶表示装置の表示パネル1について図16に基づいて説明する。本実施形態と実施形態3の異なる点は、アレイ壁突起部40に設けた第1金属線16B、第2金属線15、第3金属線20の形状にある。すなわち、実施形態3におけるアレイ壁突起部40では、大型基板を切断した場合に、第1金属線16B、第2金属線15及び第3金属線(コモン線)20が外周部に露出する。
そのため、この金属部分の露出を防止するため、本実施形態では、図16に示すように切断線C−Cの位置を避けるように、平行に2本の第1金属線16B,16B、第2金属線15,15、第3金属線20,20を形成する。なお、これら金属線16,15,20は、他の導電層からフローティングの状態である。
本実施形態であると、大型基板を、個々の表示パネル1に切断しても、表示パネル1の端部に金属部分が露出しない。
次に、実施形態5の液晶表示装置の表示パネル1について図17と図18に基づいて説明する。
実施形態1では、コモン電極13の上に画素電極14を形成したが、本実施形態では図17と図18に示すように、画素電極14の上に第2層間絶縁膜13Aを形成し、その上にコモン電極13を形成する。次に、コモン電極13におけるアレイ突起部11に対応する位置にコモン線20を形成し、このコモン線20の上に配向膜18を形成する。さらに、本実施形態の場合には、画素電極14にスリット14Bを形成するのでなく、コモン電極13にスリット13Cを形成する。
本実施形態であっても、アレイ突起部11を第1金属線16B、信号線15、コモン線20の3層構造にできる。
上記の実施形態においては、液晶表示装置がIPS方式等のものであるとして説明したが、他の横電界方式のものであっても、混色防止の効果を得ることができる。また、対向基板にコモン電極(対向電極)が設けられる液晶表示装置にあっても、混色限界角を大きくすると共に、信号線近傍での液晶層の厚みを小さくすることにより、混色防止の効果を得ることができる。
また、本発明の実施形態を基にして、当業者が適宜設計変更して実施し得る全ての実施形態も、本発明の要旨を包含する限り、本発明の範囲に属する。
また、本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変更例及び修正例に想到し得るものであり、それら変更例及び修正例についても本発明の範囲に属するものと了解される。例えば、上記実施形態に対して、当業者が適宜、構成要素の追加、削除若しくは設計変更を行ったもの、又は、工程の追加、省略若しくは条件変更を行ったものも、本発明の要旨を備えている限り、本発明の範囲に含まれる。
また、本実施形態において述べた対応によりもたらされる他の作用効果について本明細書記載から明らかなもの、又は、当業者において時に想到し得るものについては、当然に発明によりもたらされるものと解される。
1・・・表示パネル、2・・・アレイ基板、3・・・対向基板、4・・・液晶層、5・・・シール部材、11・・・アレイ突起部、12・・・有機絶縁膜、13・・・コモン電極、14・・・画素電極、15・・・信号線、16・・・ゲート線、20・・・第3金属線、40・・・第1壁突起部、42・・・周囲溝、102・・・カラーフィルタ層、104・・・ブラックマトリクス、106・・・オーバーコート層、108・・・対向突起部、110・・・配向膜、112・・・第1BM溝、114・・・第2BM溝、116・・・第1壁カラーフィルタ層、118・・・第2壁カラーフィルタ層、120・・・遮光カラーフィルタ層、122・・・遮光カラーフィルタ層、124・・・対向壁突起部、126・・・侵入防止壁
Claims (13)
- 第1絶縁基板と、前記第1絶縁基板上の色層と、前記色層上のオーバーコート層と、前記オーバーコート層上の第1突起部と第2突起部とを有する対向基板を含む液晶表示装置であって、
前記第1突起部は、画像表示領域に位置し、
前記第2突起部は、前記画像表示領域を囲う周辺領域に位置し、
前記第1突起部と前記第2突起部は実質的に同じ高さを有し、
前記第1絶縁基板から前記第1突起部の頂部までの第1突出距離は、前記第1絶縁基板から前記第2突起部の頂部までの第2突出距離よりも小さい、
ことを特徴とする液晶表示装置。 - 前記第2突起部は、前記対向基板の少なくとも1辺に形成されている、
請求項1に記載の液晶表示装置。 - 前記第2突起部は、前記1辺に線状に形成されている、
ことを特徴とする請求項2に記載の液晶表示装置。 - 前記第2突起部は、前記対向基板の3辺にそれぞれ線状に形成されている、
ことを特徴とする請求項3に記載の液晶表示装置。 - 前記色層は、ブラックマトリクスとカラーフィルタ層からなり、
前記画像表示領域の前記ブラックマトリクスの厚みと、前記周辺領域の前記ブラックマトリクスの厚みが、実質的に同じであり、
前記画像表示領域の前記カラーフィルタ層の厚みは、前記周辺領域の前記カラーフィルタ層の厚みと異なる、
ことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 - 前記第2突起部が形成される位置において、前記ブラックマトリクスに積層するカラーフィルタ層は、異なる2色以上の積層構造であり、
前記第1突起部が形成される位置において、前記ブラックマトリクスに積層するカラーフィルタ層は、単色の構造である、
ことを特徴とする請求項5に記載の液晶表示装置。 - 前記第2突起部における1層目の前記カラーフィルタ層は、少なくとも一つ以上の段差を有し、2層目の前記カラーフィルタ層は、前記段差により形成された部分を含む前記1層目の前記カラーフィルタ層を覆っている、
ことを特徴とする請求項6に記載の液晶表示装置。 - 前記第1絶縁基板の端部側面と、前記ブラックマトリクスの端部側面と、前記第2突起部の端部側面と、前記第2突起部における前記カラーフィルタ層の端部側面と、前記第2突起部の端部側面は、同一直線状にある、
ことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 - 第2絶縁基板と、前記第2絶縁基板上の金属線と、前記金属線を覆う第1絶縁膜と、画像表示領域と、前記画像表示領域を囲う周辺領域と、前記画像表示領域の第3突起部と、前記周辺領域の第4突起部と、を有するアレイ基板を含む液晶表示装置であって、
前記第4突起部は、前記アレイ基板の外端部近傍に形成され、
前記第2絶縁基板から前記第3突起部の頂部までの第3突出距離は、前記第2絶縁基板から前記第4突起部の頂部までの第4突出距離と実質的に同じである、
ことを特徴とする液晶表示装置。 - 前記第4突起部の端部側面と、前記第2絶縁基板の端部側面は、同一直線状にある、
ことを特徴とする請求項9に記載の液晶表示装置。 - 前記第3突起部及び前記第4突起部は、少なくとも3つの金属線が積層されている、
ことを特徴とする請求項9に記載の液晶表示装置。 - 前記第3突起部における3層の前記金属線は、ゲート線、信号線、コモン線であり、
前記第4突起部の3つの前記金属線は、前記ゲート線と同層に形成された第1金属線と、前記信号線と同層に形成された第2金属線と、前記コモン線と同層に形成された第3金属線である、
ことを特徴とする請求項11に記載の液晶表示装置。 - 対向基板をさらに含み、
前記対向基板は、前記画像表示領域に形成された第1突起部と、前記周辺領域に形成された第2突起部とを有し、
前記第1突起部と前記第2突起部は実質的に同じ高さであり、
前記第1突起部は前記第3突起部と当接し、
前記第2突起部は前記第4突起部と当接する、
ことを特徴とする請求項9に記載の液晶表示装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016099665A JP2017207616A (ja) | 2016-05-18 | 2016-05-18 | 液晶表示装置 |
US15/589,456 US10379405B2 (en) | 2016-05-18 | 2017-05-08 | Display device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016099665A JP2017207616A (ja) | 2016-05-18 | 2016-05-18 | 液晶表示装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017207616A true JP2017207616A (ja) | 2017-11-24 |
Family
ID=60330085
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016099665A Pending JP2017207616A (ja) | 2016-05-18 | 2016-05-18 | 液晶表示装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10379405B2 (ja) |
JP (1) | JP2017207616A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108153076A (zh) * | 2018-01-16 | 2018-06-12 | 武汉华星光电技术有限公司 | 液晶显示面板 |
WO2019073966A1 (ja) | 2017-10-10 | 2019-04-18 | 株式会社Nttドコモ | ユーザ端末及び無線通信方法 |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108037609A (zh) * | 2017-11-03 | 2018-05-15 | 惠科股份有限公司 | 一种显示面板及其制作方法 |
JP2019124733A (ja) * | 2018-01-12 | 2019-07-25 | パナソニック液晶ディスプレイ株式会社 | 液晶表示装置 |
JP2019124734A (ja) | 2018-01-12 | 2019-07-25 | パナソニック液晶ディスプレイ株式会社 | 液晶表示装置の製造方法 |
CN110554530A (zh) * | 2018-06-04 | 2019-12-10 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 显示面板及显示装置 |
KR20210024345A (ko) * | 2019-08-22 | 2021-03-05 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4081643B2 (ja) * | 2001-08-01 | 2008-04-30 | 株式会社日立製作所 | 液晶表示装置 |
JP4059676B2 (ja) * | 2002-01-22 | 2008-03-12 | 株式会社日立製作所 | 液晶表示装置 |
EP2490050A1 (en) * | 2009-10-15 | 2012-08-22 | Sharp Kabushiki Kaisha | Color filter substrate and liquid crystal display device |
KR20130021160A (ko) * | 2011-08-22 | 2013-03-05 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 및 표시 장치 제조 방법 |
JP2014206596A (ja) * | 2013-04-11 | 2014-10-30 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 液晶表示装置及びその製造方法 |
JP6491825B2 (ja) | 2014-05-28 | 2019-03-27 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 液晶表示装置 |
-
2016
- 2016-05-18 JP JP2016099665A patent/JP2017207616A/ja active Pending
-
2017
- 2017-05-08 US US15/589,456 patent/US10379405B2/en active Active
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019073966A1 (ja) | 2017-10-10 | 2019-04-18 | 株式会社Nttドコモ | ユーザ端末及び無線通信方法 |
CN108153076A (zh) * | 2018-01-16 | 2018-06-12 | 武汉华星光电技术有限公司 | 液晶显示面板 |
CN108153076B (zh) * | 2018-01-16 | 2020-09-01 | 武汉华星光电技术有限公司 | 液晶显示面板 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US10379405B2 (en) | 2019-08-13 |
US20170336666A1 (en) | 2017-11-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2017207616A (ja) | 液晶表示装置 | |
JP6002478B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
CN102023409B (zh) | 显示面板和包括该显示面板的液晶显示器 | |
JP4687259B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
US10503037B2 (en) | Display device having rounded edges | |
TWI581038B (zh) | 液晶顯示面板 | |
JP5888557B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
KR101997745B1 (ko) | 액정 표시 장치 | |
JP2003215599A (ja) | 液晶表示装置 | |
JP2013037364A (ja) | 横電界型の液晶表示装置 | |
JP2012027163A (ja) | 電気泳動表示装置 | |
KR20100003564A (ko) | 색필터를 포함하는 액정 표시 장치 | |
TWI752954B (zh) | 顯示裝置及其製造方法 | |
CN104252054A (zh) | 液晶显示器 | |
JP2016142943A (ja) | 液晶表示装置 | |
US11143919B2 (en) | Liquid crystal display including spacers | |
KR20130033676A (ko) | 프린지 필드 스위칭 모드 액정표시장치 | |
JP5143664B2 (ja) | 液晶表示パネル | |
JP2012145797A (ja) | 液晶パネル | |
KR102016567B1 (ko) | 컬러 필터층을 포함하는 박막 트랜지스터 기판을 구비하는 평판 표시장치 및 그 제조 방법 | |
KR101878481B1 (ko) | 칼라 필터 층을 포함하는 고 투과율 박막 트랜지스터 기판 및 그 제조 방법 | |
JP2017187714A (ja) | 表示装置 | |
JP2014149546A (ja) | 液晶表示装置 | |
US20160195759A1 (en) | Liquid crystal display | |
JP5555649B2 (ja) | 液晶表示パネル |