JP2017090585A - 広帯域波長板およびその作製方法 - Google Patents

Abstract

【課題】薄型でかつ広帯域な波長板等を提供すること。
【解決手段】ガラス基板と、液晶配向膜と重合性液晶層とを含む第１の積層体と、第１の積層体上に形成され、重合性液晶の側から順に、液晶配向膜層と重合性液晶とを含む第２の積層体とを含み、第１の重合性液晶層と第２の重合性液晶層とは、配向方向が異なり、重合性液晶層の複屈折率は、いずれも０．１以上である。
【選択図】図４

Description

本発明は、広帯域で導波路に適用可能な薄い波長板およびその作製方法に関する。

従来、光導波路の偏波を制御するために、薄い波長板が用いられることが知られている（非特許文献１）。図１は、かかる波長板を導波路に挿入した光デバイス１００を示している。この光デバイス１００では、例えば、アレイ導波路１０１の格子素子の中心対象位置に、幅が20μm幅、深さが150μmの溝１０２が形成されており、この溝１０２に、厚さが15μmのλ／２を有するポリイミド波長板１０３を挿入することで、偏波依存性を解消している。なお、図１において、符号１０４は基板を示し、符号１０５は主軸方向（光デバイス１００の厚さ方向に対して４５°の傾きを与えた軸）を示す。符号ｄ１は光入力を示し、符号ｄ２は光出力を示す。

上述した波長板１０３は、波長依存性を持ち、λ／２波長領域（複屈折光の位相差がλ／２波長となる領域）と、λ／４波長領域（複屈折光の位相差がλ／４波長となる領域）は狭い。このため、波長板１０３は、１５５０ｎｍ付近でしか所望の波長板として機能しない。

ここで、一般的な単層のλ/２波長板およびλ/４波長板についてのクロスニコル（２つの波長板を、その主断面が互いに直角になるように一直線上に並べたもの）と、平行ニコル（２つの波長板を、その主断面が互いに平行になるように一直線上に並べたもの）との波長依存性の計算結果を図２に示す。

図２（ａ）は、かかる単層１／４波長板の計算結果を示している。図２（ｂ）は、かかる単層１／２波長板の計算結果を示している。

図２（ａ）および図２（ｂ）の計算結果によれば、１／２波長板および１／４波長板として機能するのは、１．５５μｍ付近のみであることがわかる。このような狭い波長帯のみで作動する波長板の特性を改善する方法がディスプレイ分野で提案されている。

上述した１／２波長板を広帯域にするには、波長板平面内の光軸に対して遅延軸θ₂が２２.５°方向の１／２波長板と 遅延軸θ₁が６７．５°方向の１／２波長板とを積層すればよいことが知られている。一方、１／４波長板を広帯域にするには、遅延軸θ１が１５°方向の１／２波長板と、遅延軸θ２が７５°方向の１／４波長板とを積層すればよいことが知られている。このときの計算結果を図３に示す。

図３（ａ）は、かかる積層１／２波長板（θ₁＝67.5°、θ₂＝22.5°）の計算結果を示している。図３（ｂ）は、かかる積層１／４波長板（θ₁＝15°、θ₂＝75°）の計算結果を示している。図３（ａ）および図３（ｂ）の計算結果によれば、１．３μｍ〜１．９μｍの波長帯域を有することがわかる。

このような積層型波長板を用いて、液晶ディスプレイの視野角の改善や色の補正をするために、パネルに複屈折フィルムを積層して貼り合わせることが行われている。一般的に、位相差フィルムは延伸したフィルムを用いることが多い。このときの位相差フィルムの位相差Δｎは０.０１〜０.０５程度であり、１／２波長板または１／４波長板の厚さは数１０μmとなる。仮に、これらの波長板をアクリルやエポキシの接着剤で貼り合わせると、広帯域化は実現するものの、波長板全体の厚さは１００μm近くなってしまう。

T. Niwa, H. Hasegawa, K. Sato, "A 270 × 270 optical cross-connect switch utilizing wavelength routing with cascaded AWGs," Optical Fiber Communication Conference and Exposition and the National Fiber Optic Engineers Conference (OFC/NFOEC) 2013，OTh1A.3 (2013).

上記積層型波長板は、複屈折フィルムが積層される。しかしながら、複屈折フィルムが貼り合わせられると、波長板自体の膜厚が厚くなりすぎるために、光ファイバまたは導波路用の広帯域波長板として適用することができない。

例えば、30μm厚のフィルムであれば、導波路に挿入した際に0.12dBの損失が生じるのに対し、100μmの厚さのフィルムでは2.2ｄBの損失が生じてしまう。このような大きな損失を生じる波長板は実用に耐えない。

波長板の膜厚を薄くするためには、複屈折Δｎが大きい方が好ましいが、延伸フィルムのΔｎは最大でも0.01〜0.05程度にしかならない。一方、通常の市販の重合性液晶のΔｎは0.15〜0.2と延伸フィルムの数倍の複屈折を持つ。このため薄型化には適している。以下に、代表的な液晶メーカから市販されている重合性液晶のΔｎを下記表に示す。

しかし、重合性液晶は塗布形の材料であるので、基板が必要となるが、この基板が厚ければ、トータルの膜厚は厚くなってしまう。

本発明は、このような状況下においてなされたものであり、その目的は、薄型でかつ広帯域な波長板を提供することである。

上記の課題を解決するための発明は、透明材層と、前記透明材層上に形成され、第１の液晶配向膜層と第１の重合性液晶層とを含む第１の積層体と、前記第１の積層体上に形成され、前記第１の重合性液晶層の側から順に、第２の液晶配向膜層と第２の重合性液晶層とを含む第２の積層体とを含み、前記第１の重合性液晶層と前記第２の重合性液晶層とは、配向方向が異なり、前記第１の重合性液晶層および前記第２の重合性液晶層の複屈折率は、０．１以上である。

ここで、前記第１の重合性液晶層および前記第２の重合性液晶層における複屈折光の位相差は、λ／２であり、前記第１の重合性液晶層と前記第２の重合性液晶層との光軸のなす角度は、３５°以上５５°以下であるようにしてもよい。

前記第１の重合性液晶層における複屈折光の位相差は、λ／２であり、前記第２の重合性液晶層における複屈折光の位相差は、λ／４であり、前記第１の重合性液晶層と前記第２の重合性液晶層との光軸のなす角度は、５０°以上７０°以下であるようにしてもよい。

前記透明材層は、ガラスまたはポリイミドで形成されるようにしてもよい。

前記波長板の全体の厚さは、３０μｍ以下としてもよい。

上記の課題を解決するための発明は、波長板の作製方法であって、透明材層上に、第１の液晶配向膜層を塗布してラビング処理を施した後、前記第１の液晶配向膜層上に第１の重合性液晶層を塗布して硬化させるステップと、前記第１の重合性液晶層上に、当該第１の重合性液晶層の側から順に、第２の液晶配向膜層を塗布してラビング処理を施した後、前記第２の液晶配向膜層上に第２の重合性液晶層を塗布して硬化させるステップと、前記透明材層を研磨することにより前記波長板の全体の厚さを３０μｍ以下にするステップとを含む。

上記の課題を解決するための発明は、波長板の作製方法であって、Ｓｉ基板にフッ素化ポリイミドを塗布し、第１の液晶配向膜層を塗布してラビング処理を施した後、前記第１の液晶配向膜層上に第１の重合性液晶層を塗布して硬化させるステップと、前記第１の重合性液晶層上に、当該第１の重合性液晶層の側から順に、第２の液晶配向膜層を塗布してラビング処理を施した後、前記第２の液晶配向膜層上に第２の重合性液晶層を塗布して硬化させるステップと、前記Ｓｉ基板から前記フッ素化ポリイミドを剥離することにより前記波長板の全体の厚さを３０μｍ以下にするステップとを含む。

本発明によれば、従来よりも薄型でかつ広帯域な波長板が実現できる。

従来の波長板を導波路に挿入した光デバイスの構成を示す図である。 通常の単層１／２波長板および１／４波長板において、クロスニコルと平行ニコルとの波長依存性の計算結果を説明するための図である。 積層した広帯域１／２波長板および積層した広帯域１／４波長板のクロスニコルと平行ニコルとの波長依存性の計算結果を説明するための図である。 実施例１の広帯域１／４波長板の作製法を説明するための図である。 実施例１における広帯域１／２波長板の波長と透過率との関係を説明するための図である。 実施例１における広帯域１／４波長板の波長と透過率との関係を説明するための図である。 通常の１／２波長板の波長と透過率との関係を説明するための図である。 通常の１／４波長板の波長と透過率との関係を説明するための図である。 実施例２における波長板の作製工程を説明するための図である。 実施例３の波長板において、可視域での透過スペクトルを説明するための図である。 通常の１／２波長板および１／４波長板の透過スペクトルを説明するための図である。

＜実施例１＞
図４は、実施例１の広帯域１／４波長板の一例を説明するための図であって、（ａ）〜（ｅ）は広帯域１／４波長板の作製工程、（ｆ）は広帯域１／４波長板の断面図、を示す。

まず、ガラス基板（透明材層）１１にポリイミド配向膜（液晶配向膜層）１２を塗布する（図４（ａ））。ポリイミド配向膜１２は、例えば、日産化学工業株式会社の製品（製品名SE150）を用いる。図４（ａ）の例では、ポリイミド配向膜１２の短手方向に対して１５°右方向にポリイミド配向膜１２をラビングする。

ポリイミド配向膜１２上に重合性液晶１３を塗布し、重合性液晶１３にＵＶ（紫外線）を照射することより重合性液晶１３を硬化させる（図４（ｂ））。重合性液晶１３は、例えば、DIC株式会社の製品（製品名UCL017A、複屈折率=0.16）を用いる。なお、重合性液晶１３の複屈折率は、０．１以上であることが好ましい。

この実施例では、上記図４（ｂ）に示した工程（重合性液晶塗布＋ＵＶ照射硬化）を５回繰り返して、波長板全体の膜厚を約５μｍとして、１／２波長板を作製した。

この実施例の説明では、上述した１／２波長板は、ポリイミド配向膜１２および重合性液晶１３を含む積層体４０である。

次に、図４（ｂ）に示した重合性液晶１３上に、ポリイミド配向膜１４を塗布する（図４（ｃ））。ポリイミド配向膜１４は、例えば、上述したポリイミド配向膜１２と同様の製品を用いる。さらに、ポリイミド配向膜１４上に、重合性液晶１５を形成し、その重合性液晶１５にＵＶ（紫外線）を照射することより重合性液晶１５を硬化させる（図４（ｃ））。重合性液晶１５についても、例えば上述した重合性液晶１３と同様の製品を用いる。なお、重合性液晶１５の複屈折率も、０．１以上であることが好ましい。

図４（ｃ）の例では、重合性液晶１３の短手方向に対して７５°右方向にポリイミド配向膜１４をラビングする。

この実施例１では、上記図４（ｃ）に示した工程（重合性液晶塗布＋ＵＶ照射硬化）を３回繰り返して、波長板全体の膜厚を約３μｍとして、１／４波長板を作製した。

この実施例の説明では、上述した１／４波長板は、ポリイミド配向膜１４および重合性液晶１５を含む積層体４１である。

さらに、ガラス基板１１を裏返し、重合性液晶１５の裏面をワックスで固定し、ガラス基板１１のガラス面を研磨する（図４（ｄ））。この実施例では、作製された波長板全体の厚さが３０μｍ以下となるまで研磨する。その結果、研磨してもカールすることなく、広帯域１／４波長板１としてのフィルムが完成した（図４（ｅ）、図４（ｆ））。

図４（ｆ）の例では、重合性液晶１５は、遅延軸方向が７５°の１／４波長板１となっており、その厚さは３μｍである。ポリイミド配向膜１４の厚さは０．０４μｍである。重合性液晶１３は、遅延軸方向が１５°の１／２波長板となっており、その厚さは５μｍである。ポリイミド配向膜１２の厚さは０．０４μｍである。ガラス基板１１の厚さは、８μｍである。

その後、図４（ｆ）に示した波長板１をダイシングで切断した。そして、例えば図１に示したような導波路１０１の溝１０２（この実施例では、例えば、幅３０μｍ×深さ１５０μｍ）に真空ピンセットで挿入した。そして、導波路１０１に波長板１を挿入した状態で、クロスニコルおよび平行ニコルの特定を測定し、後述する図５および図６とほぼ同じスペクトルを得た。

なお、重合性液晶１３における複屈折光の位相差は、λ／２であり、重合性液晶１５における複屈折光の位相差は、λ／４であり、重合性液晶１３と重合性液晶１５との光軸のなす角度は、６０°または４５°が好適であるが、例えば、５０°以上７０°以下であってもよいし、３５°以下５５°以上であってもよい。このようにしても広帯域特性を実現できる（後記する１／２波長板についても同様）。

以上では、図４を参照して、広帯域に適用できる１／４波長板１について説明したが、広帯域に適用できる１／２波長板についても同様に作製することができる。このとき、１／２波長板の各層については、図４に示した１／２波長板のものと同様であるが、後述するように、遅延軸方向などが異なる。

すなわち、図４（ｆ）に示したものにおいて、１／２波長板では、重合性液晶１５は、遅延軸方向が６７．５°の１／２波長板となっており、その厚さは５μｍである。ポリイミド配向膜１４の厚さは０．０４μｍである。重合性液晶１３は、遅延軸方向が２２．５°の１／２波長板となっており、その厚さは５μｍである。ポリイミド配向膜１２の厚さは０．０４μｍである。ガラス基板１１の厚さは８μｍである。

上述のように作製された１／２波長板および１／４波長板について、それぞれのクロスニコルと平行ニコルとにおける分光スペクトルを測定した。その結果を図５〜図６に示す。

図５は、かかる広帯域１／２波長板の波長と透過率との関係を示してある。図６は、かかる広帯域１／４波長板の波長と透過率との関係を示してある。

図５の一例をみれば、１／２波長板のクロスニコルおよび平行ニコルは、１３００ｎｍ〜１８００ｎｍの波長において、フラットな透過率となることがわかる。

図６の一例をみれば、１／４波長板のクロスニコルおよび平行ニコルは、１４００ｎｍ〜１７００ｎｍの波長において、ほぼフラットな透過率となることがわかる。

上述した図５〜図６と比較するために、通常の単層１／２波長板および通常の単層１／４波長板のスペクトルを図７〜８に示す。

図７は、通常の単層１／２波長板の波長と透過率との関係を示してある。図８は、通常の単層１／４波長板の波長と透過率との関係を示してある。

図７に示したものは、図２（ｂ）に示した１／２波長板の計算結果とほぼ一致し、図８に示したものは、図２（ａ）に示した１／４波長板の計算結果とほぼ一致している。図７〜８において、１５６０ｎｍ付近でのみ、１／２波長板および１／４波長板として機能することがわかる。すなわち、図５〜６に示したものと異なり、波長帯域が狭い。

以上説明したように、この実施例の波長板は、ポリイミド配向膜１２および重合性液晶１３を含む積層体４０と、ポリイミド配向膜１４および重合性液晶１５を含む積層体４１とを含む。ここで、重合性液晶１３と重合性液晶１５とは、配向方向が異なり、重合性液晶１３および重合性液晶１５の複屈折率は、０．１以上である。このため、薄型で、かつ広帯域の波長板が実現できる。

＜実施例２＞
実施例１では、図４を参照して、ガラス基板を用いて波長板を作製する工程について説明した。これとは別に、ガラス基板を用いるのではなく、ポリイミド膜／Ｓｉ基板を用いて作製するようにしてもよい。

図９は、実施例２の波長板の一例を説明するための図であって、（ａ）〜（ｆ）は広帯域波長板の作製工程、（ｇ）は広帯域波長板の断面図、を示す。

まず、Ｓｉ基板２１上に、フッ素化ポリイミド（ルクスビア）２２を塗布して、３４０℃でアニールする（図９（ａ））。フッ素化ポリイミド２２は、例えば、日揮触媒化成株式会社のルクスビアＰＦシリーズを用いる。フッ素化ポリイミド２２は複屈折性を持たず、透明で強固な５〜１０μm厚程度の膜となる。

次に、フッ素化ポリイミド２２上に、ポリイミド配向膜（液晶配向膜層）２３を塗布する。ポリイミド配向膜２３は、実施例２においても、例えば、日産化学工業株式会社の製品（製品名SE150）を用いる。そして、ポリイミド配向膜２３の短手方向に対して１５°右方向にポリイミド配向膜２３をラビングする（図９（ｂ））。

次に、ポリイミド配向膜２３上に、重合性液晶２４を塗布し、重合性液晶２４にＵＶを照射することより重合性液晶２４を硬化させる（図９（ｃ））。重合性液晶２４は、例えば、DIC株式会社の製品（例えば、製品名UCL017A、複屈折率=0.16）を用いる。重合性液晶２４の複屈折率は、０．１以上であることが好ましい。

この実施例では、１／２波長板とするために、図９（ｃ）に示した工程（重合性液晶塗布＋ＵＶ照射硬化）を５回繰り返して、波長板全体の膜厚を調整した。この実施例の１／２波長板は、上述した１／２波長板は、ポリイミド配向膜２３および重合性液晶２４を含む積層体５０を備える。

図９（ｃ）に示した重合性液晶２４上に、ポリイミド配向膜２５を塗布する（図９（ｄ））。ポリイミド配向膜２５も、例えば、上述した製品（日産化学工業SE150）を用いる。図９（ｄ）の例では、重合性液晶２４の直径方向に対して７５°右方向にポリイミド配向膜２５をラビングする。

さらに、ポリイミド配向膜２５上に、重合性液晶２６（例えば、上述したUCL017Aの製品）を塗布し、UV照射により重合性液晶２６を硬化させる（図９（ｅ））。重合性液晶２６の複屈折率は、０．１以上であることが好ましい。

この実施例では、１／４波長板とするために、図９（ｄ）および図９（ｅ）に示した工程（重合性液晶塗布、UV硬化）を３回繰り返して、波長板全体の膜厚を調整した。

この実施例の説明では、上述した１／４波長板は、ポリイミド配向膜２５および重合性液晶２６を含む積層体５１である。

その後、図９（ｅ）に示したＳｉ基板２１を含む積層体を水に浸して側面に対してカッターで傷を入れると、Ｓｉ基板２１が積層体（この実施例では、膜２２〜２６）から剥がれる（図９（ｆ）：波長板の全体の厚さを３０μｍ以下にする工程）。このとき、積層体全体（すなわち、膜２２〜２６）の厚さは１５μｍである。この積層体を所望の方向に切り出して、実施例１と同様にして導波路の溝に挿入する。このようにしても、実施例１と同様に、１／２波長板、１／４波長板を広帯域化することができる。

図４（ｇ）に示した波長板１Ａの例では、重合性液晶２６は、遅延軸方向が７５°のλ／４波長板となっており、その厚さは３μｍである。ポリイミド配向膜２５の厚さは０．０４μｍである。重合性液晶２４は、遅延軸方向が１５°のλ/２波長板となっており、その厚さは５μｍである。ポリイミド配向膜２３の厚さは０．０４μｍである。フッ素化ポリイミド２２の厚さは５−１０μｍである。

なお、重合性液晶２４における複屈折光の位相差は、λ／２であり、重合性液晶２６における複屈折光の位相差は、λ／４であり、重合性液晶２４と重合性液晶２６との光軸のなす角度は、６０°または４５°が好適であるが、例えば、５０°以上７０°以下であってもよいし、３５°以下５５°以上であってもよい。このようにしても広帯域特性を実現できる。

以上説明したように、この実施例の波長板は、ポリイミド配向膜２３および重合性液晶２４を含む積層体５０と、ポリイミド配向膜２５および重合性液晶２６を含む積層体５１とを含む。ここで、重合性液晶２４と重合性液晶２６とは、配向方向が異なり、重合性液晶２４および重合性液晶２６の複屈折率は、０．１以上である。また、基板となるフッ素化ポリイミドは、５〜１０μｍの厚さである。このため、薄型で、かつ広帯域の波長板が実現できる。

＜実施例３＞
以上では、可視域用の光ファイバ、および光導波路の広帯域化、すなわち青色から赤色の波長域（４５０ｎｍ〜６５０ｎｍ）について言及しなかったが、上述した広帯域波長板によって、広帯域化を実現することができる。

例えば、５５０ｎｍ用の１／２波長板および１／４波長板として、上述したDIC株式会社の製品（例えば、製品名UCL017A、複屈折率=0.16）を用いる場合、１／２波長板の厚さは約４μｍ、１／４波長板の厚さは約１μｍとなる。この場合、実施例１で示したガラス基板を用いて作製して、ガラス基板の厚さを８μｍとしても、１／２波長板全体の厚さは、１２μｍ、１／４波長板全体の厚さは１１μｍとなる。

図１０（ａ）は、かかる１／２波長板における可視域での透過スペクトルを例示している。図１０（ｂ）は、かかる１／４波長板における可視域での透過スペクトルを例示している。

図１０（ａ）および図１０（ｂ）をみれば、１／２波長板および１／４波長板は、４５０ｎｍ（青）〜６５０ｎｍ（赤）の波長にわたって、波長板としての機能を果たすことがわかる。

上述した図１０と比較するために、膜の積層を有していない通常の単層１／２波長板および通常の単層１／４波長板の透過スペクトルを図１１に示す。

図１１（ａ）は、通常の単層１／２波長板の透過スペクトルを示してある。図１１（ｂ）は、通常の単層１／４波長板の透過スペクトルを示してある。

図１１（ａ）および図１１（ｂ）において、波長板として機能するのは、図１０（ａ）および図１０（ｂ）のものと異なり、５５０ｎｍの１０μｍ前後のみに制限されることがわかる。

各実施例を詳述してきたが、具体的な層の材料等は各実施例に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計変更なども含まれる。

例えば、図４に示したものにおいて、重合性液晶１３および重合性液晶１５における複屈折光の位相差をλ／２とし、重合性液晶１３と重合性液晶１５との光軸のなす角度を３５°以上５５°以下とするようにしてもよい。あるいは、図９に示したものにおいて、重合性液晶２４および重合性液晶２６における複屈折光の位相差をλ／２とし、重合性液晶２４と重合性液晶２６との光軸のなす角度を３５°以上５５°以下とするようにしてもよい。

１，１Ａ 波長板
１１ ガラス基板
１２，１４，２３，２５ ポリイミド配向膜
１３，１５，２４，２６ 重合性液晶
２１ Ｓｉ基板
２２ フッ素化ポリイミド

Claims (7)

1. 透明材層と、
   前記透明材層上に形成され、第１の液晶配向膜層と第１の重合性液晶層とを含む第１の積層体と、
   前記第１の積層体上に形成され、前記第１の重合性液晶層の側から順に、第２の液晶配向膜層と第２の重合性液晶層とを含む第２の積層体と
   を含み、
   前記第１の重合性液晶層と前記第２の重合性液晶層とは、配向方向が異なり、
   前記第１の重合性液晶層および前記第２の重合性液晶層の複屈折率は、０．１以上であることを特徴とする波長板。
2. 前記第１の重合性液晶層および前記第２の重合性液晶層における複屈折光の位相差は、λ／２であり、前記第１の重合性液晶層と前記第２の重合性液晶層との光軸のなす角度は、３５°以上５５°以下であることを特徴とする請求項１に記載の波長板。
3. 前記第１の重合性液晶層における複屈折光の位相差は、λ／２であり、前記第２の重合性液晶層における複屈折光の位相差は、λ／４であり、前記第１の重合性液晶層と前記第２の重合性液晶層との光軸のなす角度は、５０°以上７０°以下であることを特徴とする請求項１に記載の波長板。
4. 前記透明材層は、ガラスまたはポリイミドで形成されていることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の波長板。
5. 前記波長板の全体の厚さは、３０μｍ以下であることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項に記載の波長板。
6. 波長板の作製方法であって、
   透明材層上に、第１の液晶配向膜層を塗布してラビング処理を施した後、前記第１の液晶配向膜層上に第１の重合性液晶層を塗布して硬化させるステップと、
   前記第１の重合性液晶層上に、当該第１の重合性液晶層の側から順に、第２の液晶配向膜層を塗布してラビング処理を施した後、前記第２の液晶配向膜層上に第２の重合性液晶層を塗布して硬化させるステップと、
   前記透明材層を研磨することにより前記波長板の全体の厚さを３０μｍ以下にするステップと
   を含むことを特徴とする波長板の作製方法。
7. 波長板の作製方法であって、
   Ｓｉ基板にフッ素化ポリイミドを塗布し、第１の液晶配向膜層を塗布してラビング処理を施した後、前記第１の液晶配向膜層上に第１の重合性液晶層を塗布して硬化させるステップと、
   前記第１の重合性液晶層上に、当該第１の重合性液晶層の側から順に、第２の液晶配向膜層を塗布してラビング処理を施した後、前記第２の液晶配向膜層上に第２の重合性液晶層を塗布して硬化させるステップと、
   前記Ｓｉ基板から前記フッ素化ポリイミドを剥離することにより前記波長板の全体の厚さを３０μｍ以下にするステップと
   を含むことを特徴とする波長板の作製方法。