JP2016036943A - 積層体の製造方法 - Google Patents
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1つの実施形態においては、上記ポリビニルアルコール系樹脂膜の形成と上記積層とを連続して行う。
1つの実施形態においては、上記ポリビニルアルコール系樹脂膜の厚みが15μm以下である。
1つの実施形態においては、上記樹脂基材のガラス転移温度(Tg)が100℃以下である。
1つの実施形態においては、上記樹脂基材がポリエチレンテレフタレート系樹脂で構成されている。
1つの実施形態においては、上記塗布液がポリビニルアルコール系樹脂溶液である。
1つの実施形態においては、上記塗布液の温度が上記樹脂基材のガラス転移温度(Tg)以上である。
1つの実施形態においては、上記ポリビニルアルコール系樹脂膜を、その塗布面とは反対側が上記樹脂基材側となるように積層する。
1つの実施形態においては、上記塗布面が金属面である。
1つの実施形態においては、上記金属面がロールの周面である。
1つの実施形態においては、上記樹脂基材を積層する前に、上記ポリビニルアルコール系樹脂膜を熱ロールに接触させる。
本発明の別の局面によれば、偏光膜の製造方法が提供される。この偏光膜の製造方法は、上記製造方法により得られた積層体を用いる。
1つの実施形態においては、上記積層体を水中延伸する工程を含む。
本発明のさらに別の局面によれば、偏光板の製造方法が提供される。この偏光板の製造方法は、上記製造方法により得られた偏光膜に保護フィルムを積層する工程を含む。
図1は、本発明の1つの実施形態による積層体の概略断面図である。積層体10は、樹脂基材11にポリビニルアルコール系樹脂(以下、「PVA系樹脂」と称する)膜12を積層することにより得られる。
上記PVA系樹脂膜を形成するPVA系樹脂としては、任意の適切な樹脂が採用され得る。例えば、ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体が挙げられる。ポリビニルアルコールは、ポリ酢酸ビニルをケン化することにより得られる。エチレン−ビニルアルコール共重合体は、エチレン−酢酸ビニル共重合体をケン化することにより得られる。PVA系樹脂のケン化度は、通常85モル%〜100モル%であり、好ましくは95.0モル%〜99.95モル%、さらに好ましくは99.0モル%〜99.93モル%である。ケン化度は、JIS K 6726−1994に準じて求めることができる。このようなケン化度のPVA系樹脂を用いることによって、耐久性に優れた偏光膜が得られ得る。ケン化度が高すぎる場合には、ゲル化してしまうおそれがある。
上記樹脂基材の構成材料としては、任意の適切な材料が採用され得る。例えば、ポリエチレンテレフタレート系樹脂等のエステル系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリプロピレン等のオレフィン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、これらの共重合体樹脂が挙げられる。好ましくは、ポリエチレンテレフタレート系樹脂が用いられる。中でも、非晶質のポリエチレンテレフタレート系樹脂が好ましく用いられる。非晶質のポリエチレンテレフタレート系樹脂の具体例としては、ジカルボン酸としてイソフタル酸をさらに含む共重合体や、グリコールとしてシクロヘキサンジメタノールをさらに含む共重合体が挙げられる。
上記PVA系樹脂膜は、上記樹脂基材に積層される。図2は、本発明の積層体の製造方法の一例を示す概略図である。図示例では、ダイから吐出させた塗布液を、所定の温度に加熱されたロール(熱ロール)R1の周面(金属面)に塗布してPVA系樹脂膜12を形成し、このPVA系樹脂膜12を、別途、ロールR2から繰り出された樹脂基材11にロールR3,R4で搬送しながら積層し、積層体10を製造する。塗布液を塗布するロールR1の直径は、代表的には0.5m〜2.0mである。ロールR1の幅は、代表的には2m〜5mである。図示しないが、積層体10は乾燥処理に供され得る。積層体の乾燥温度は、好ましくは50℃以上である。
本発明の偏光膜は、上記積層体のPVA系樹脂膜を偏光膜とするための処理を施すことにより作製される。
上記染色処理は、代表的には、PVA系樹脂膜を二色性物質で染色することにより行う。好ましくは、PVA系樹脂膜に二色性物質を吸着させることにより行う。当該吸着方法としては、例えば、二色性物質を含む染色液にPVA系樹脂膜(積層体)を浸漬させる方法、PVA系樹脂膜に当該染色液を塗工する方法、当該染色液をPVA系樹脂膜に噴霧する方法等が挙げられる。好ましくは、染色液に積層体を浸漬させる方法である。二色性物質が良好に吸着し得るからである。
積層体の延伸方法としては、任意の適切な方法を採用することができる。具体的には、固定端延伸(例えば、テンター延伸機を用いる方法)でもよいし、自由端延伸(例えば、周速の異なるロール間に積層体を通して一軸延伸する方法)でもよい。また、同時二軸延伸(例えば、同時二軸延伸機を用いる方法)でもよいし、逐次二軸延伸でもよい。積層体の延伸は、一段階で行ってもよいし、多段階で行ってもよい。多段階で行う場合、後述の積層体の延伸倍率(最大延伸倍率)は、各段階の延伸倍率の積である。
上記不溶化処理は、代表的には、ホウ酸水溶液にPVA系樹脂膜を浸漬させることにより行う。特に水中延伸方式を採用する場合、不溶化処理を施すことにより、PVA系樹脂膜に耐水性を付与することができる。当該ホウ酸水溶液の濃度は、水100重量部に対して、好ましくは1重量部〜4重量部である。不溶化浴(ホウ酸水溶液)の液温は、好ましくは20℃〜40℃である。好ましくは、不溶化処理は、積層体作製後、染色処理や水中延伸処理の前に行う。
上記架橋処理は、代表的には、ホウ酸水溶液にPVA系樹脂膜を浸漬させることにより行う。架橋処理を施すことにより、PVA系樹脂膜に耐水性を付与することができる。当該ホウ酸水溶液の濃度は、水100重量部に対して、好ましくは1重量部〜4重量部である。また、上記染色処理後に架橋処理を行う場合、さらに、ヨウ化物を配合することが好ましい。ヨウ化物を配合することにより、PVA系樹脂膜に吸着させたヨウ素の溶出を抑制することができる。ヨウ化物の配合量は、水100重量部に対して、好ましくは1重量部〜5重量部である。ヨウ化物の具体例は、上述のとおりである。架橋浴(ホウ酸水溶液)の液温は、好ましくは20℃〜50℃である。好ましくは、架橋処理は水中延伸処理の前に行う。好ましい実施形態においては、染色処理、架橋処理および水中延伸処理をこの順で行う。
上記洗浄処理は、代表的には、ヨウ化カリウム水溶液にPVA系樹脂膜を浸漬させることにより行う。
乾燥処理における乾燥温度は、好ましくは30℃〜100℃である。
本発明の偏光板は、上記偏光膜を有する。好ましくは、偏光板は、上記偏光膜と、この偏光膜の少なくとも片側に配置された保護フィルムとを有する。この保護フィルムとしては、上記樹脂基材をそのまま用いてもよいし、上記樹脂基材とは別のフィルムを用いてもよい。保護フィルムの形成材料としては、例えば、(メタ)アクリル系樹脂、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリプロピレン等のオレフィン系樹脂、ポリエチレンテレフタレート系樹脂等のエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、これらの共重合体樹脂等が挙げられる。保護フィルムの厚みは、好ましくは10μm〜100μmである。
(積層体の作製)
ポリビニルアルコール(重合度4200、ケン化度99.2モル%)およびアセトアセチル変性PVA(重合度1200、アセトアセチル変性度4.6%、ケン化度99.0モル%以上、日本合成化学工業社製、商品名「ゴーセファイマーZ200」)を9:1の比で含む水溶液(23℃)を、80℃に加熱された金属製のロール上に、乾燥後の厚みが10μmとなるように、60℃雰囲気下で塗布した。
続いて、片面にコロナ処理を施した長尺状の樹脂基材のコロナ処理面に、上記塗布により得られたPVA系樹脂膜を金属製のロールの周面から転写し、60℃に保たれたオーブン内で乾燥して、樹脂基材上に厚み10μmのPVA系樹脂膜が形成された積層体を作製した。ここでは、樹脂基材として、厚み100μmで、吸水率0.75%、Tg75℃の非晶質のイソフタル酸共重合ポリエチレンテレフタレート(IPA共重合PET)フィルムを用いた。
得られた積層体を、120℃のオーブン内で周速の異なるロール間で長手方向に2.0倍に自由端一軸延伸した(空中補助延伸)。
次いで、積層体を、液温30℃の不溶化浴(水100重量部に対してホウ酸を4重量部配合して得られたホウ酸水溶液)に30秒間浸漬させた(不溶化処理)。
次いで、液温30℃の染色浴に、得られる偏光板が所定の透過率となるようにヨウ素濃度、浸漬時間を調整しながら浸漬させた。本実施例では、水100重量部に対して、ヨウ素を0.2重量部配合し、ヨウ化カリウムを1.0重量部配合して得られたヨウ素水溶液に60秒間浸漬させた(染色処理)。
次いで、液温30℃の架橋浴(水100重量部に対して、ヨウ化カリウムを3重量部配合し、ホウ酸を3重量部配合して得られたホウ酸水溶液)に30秒間浸漬させた(架橋処理)。
その後、積層体を、液温70℃のホウ酸水溶液(水100重量部に対して、ホウ酸を4重量部配合し、ヨウ化カリウムを5重量部配合して得られた水溶液)に浸漬させながら、周速の異なるロール間で長手方向に総延伸倍率が5.5倍となるように一軸延伸を行った(水中延伸)。
その後、積層体を液温30℃の洗浄浴(水100重量部に対して、ヨウ化カリウムを4重量部配合して得られた水溶液)に浸漬させた(洗浄処理)。
続いて、積層体のPVA系樹脂膜表面に、PVA系樹脂水溶液(日本合成化学工業社製、商品名「ゴーセファイマー(登録商標)Z−200」、樹脂濃度:3重量%)を塗布し、トリアセチルセルロースフィルム(コニカミノルタ社製、商品名「KC4UY」、厚み40μm)を60℃に維持したオーブンで5分間加熱した。
その後、樹脂基材を剥離して、厚み5μmの偏光膜の片側に保護フィルムが配置された偏光板を得た。
積層体の作製に際し、水溶液を塗布するロールの温度を100℃としたこと以外は実施例1と同様にして、偏光板を作製した。
積層体の作製に際し、塗布する水溶液の温度を80℃としたこと以外は実施例1と同様にして、偏光板を作製した。
水溶液を樹脂基材に直接塗布して積層体を作製したこと以外は実施例1と同様にして、偏光板を作製した。塗布は、水溶液の温度を23℃、樹脂基材の温度を60℃とし、60℃雰囲気下で行った。
水溶液を樹脂基材に直接塗布して積層体を作製したこと以外は実施例1と同様にして、偏光板を作製した。塗布は、水溶液の温度を23℃、樹脂基材の温度を60℃とし、80℃雰囲気下で行った。
水溶液を樹脂基材に直接塗布して積層体を作製したこと以外は実施例1と同様にして、偏光板を作製した。塗布は、水溶液の温度を23℃、樹脂基材の温度を80℃とし、60℃雰囲気下で行った。
水溶液を樹脂基材に直接塗布して積層体を作製したこと以外は実施例1と同様にして、偏光板を作製した。塗布は、水溶液の温度を23℃、樹脂基材の温度を100℃とし、60℃雰囲気下で行った。
水溶液を樹脂基材に直接塗布して積層体を作製したこと以外は実施例1と同様にして、偏光板を作製した。塗布は、水溶液の温度を80℃、樹脂基材の温度を60℃とし、60℃雰囲気下で行った。
水溶液を樹脂基材に直接塗布して積層体を作製したこと、および、樹脂基材としてTg120℃のノルボルネン系樹脂フィルム(日本ゼオン社製、商品名「Zeonor」、厚み100μm)を用いたこと以外は実施例1と同様にして、偏光膜の作製を試みた。塗布は、水溶液の温度を80℃、樹脂基材の温度を100℃とし、80℃雰囲気下で行った。
ポリビニルアルコール(重合度4200、ケン化度99.2モル%)およびアセトアセチル変性PVA(重合度1200、アセトアセチル変性度4.6%、ケン化度99.0モル%以上、日本合成化学工業社製、商品名「ゴーセファイマーZ200」)を9:1の比で含む水溶液(80℃)を、80℃に加熱された金属製のロール上に、乾燥後の厚みが10μmとなるように、80℃雰囲気下で塗布した。得られたPVA系樹脂膜を樹脂基材に転写せずに、各種処理を施して偏光膜の作製を試みた。
各実施例および比較例について、以下の評価を行った。
1.製膜性
水溶液の塗布および樹脂基材への転写に際し、樹脂基材の変形や、この変形に伴うウェーブカールやシワの発生を目視にて観察した。
2.乾燥時間
水溶液の塗布からPVA系樹脂膜表面のべたつきがなくなるまでの時間を計測し、比較例1の乾燥時間を100としたときの乾燥に要する時間の割合を算出した。なお、べたつきの有無は官能評価により確認した。
3.延伸性(水中延伸)
水中延伸により総延伸倍率5.5倍まで延伸できるか否かを確認した。
11 樹脂基材
12 ポリビニルアルコール(PVA)系樹脂膜
Claims (14)
- ポリビニルアルコール系樹脂を含む塗布液を塗布面に塗布してポリビニルアルコール系樹脂膜を形成する工程と、
前記ポリビニルアルコール系樹脂膜を樹脂基材に積層する工程とを含み、
前記塗布面の温度が前記樹脂基材のガラス転移温度(Tg)以上であり、
延伸処理に供される積層体の製造方法。 - 前記ポリビニルアルコール系樹脂膜の形成と前記積層とを連続して行う、請求項1に記載の製造方法。
- 前記ポリビニルアルコール系樹脂膜の厚みが15μm以下である、請求項1または2に記載の製造方法。
- 前記樹脂基材のガラス転移温度(Tg)が100℃以下である、請求項1から3のいずれかに記載の製造方法。
- 前記樹脂基材がポリエチレンテレフタレート系樹脂で構成されている、請求項1から4のいずれかに記載の製造方法。
- 前記塗布液がポリビニルアルコール系樹脂溶液である、請求項1から5のいずれかに記載の製造方法。
- 前記塗布液の温度が前記樹脂基材のガラス転移温度(Tg)以上である、請求項1から6のいずれかに記載の製造方法。
- 前記ポリビニルアルコール系樹脂膜を、その塗布面とは反対側が前記樹脂基材側となるように積層する、請求項1から7のいずれかに記載の製造方法。
- 前記塗布面が金属面である、請求項1から8のいずれかに記載の製造方法。
- 前記塗布面がロールの周面である、請求項1から9のいずれかに記載の製造方法。
- 前記樹脂基材に積層する前に、前記ポリビニルアルコール系樹脂膜を熱ロールに接触させる、請求項1から10のいずれに記載の製造方法。
- 請求項1から11のいずれかに記載の製造方法により得られた積層体を用いる、偏光膜の製造方法。
- 前記積層体を水中延伸する工程を含む、請求項12に記載の偏光膜の製造方法。
- 請求項12または13に記載の製造方法により得られた偏光膜に保護フィルムを積層する工程を含む、偏光板の製造方法。
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