JP2014520949A - 銅含有錯体、その錯体を含有する縮合反応組成物、並びにその組成物の調製及び使用のための方法 - Google Patents

Abstract

組成物は、縮合反応を介して硬化することができる。この組成物は、新しい縮合反応触媒を使用する。この新しい塩縮合反応触媒は、従来のスズ触媒に代わるものとして使用される。この組成物は反応してガム、ゲル、ゴム、又は樹脂を生成する可能性がある。

Description

スズ化合物は、接着剤、封止剤、及び低透過性製品（断熱ガラス用途、コーティング、及びシリコーンエラストマーラテックスにおいて有用であるものなどの）を含む、多くのポリオルガノシロキサン組成物の縮合硬化のための触媒として有用である。縮合反応触媒としての有機スズ化合物は、スズの価数が＋４又は＋２のいずれかであるもの、すなわち、スズ（ＩＶ）化合物又はスズ（ＩＩ）化合物である。スズ（ＩＶ）化合物の例としては、カルボン酸の第二スズ塩（二ラウリン酸ジブチルスズ、二ラウリン酸ジメチルスズ、ジ−（ｎ−ブチル）スズビス−ケトネート、二酢酸ジブチルスズ、マレイン酸ジブチルスズ、ジブチルスズジアセチルアセトネート、ジブチルスズジメトキシド、カルボメトキシフェニルスズトリス−ウベレート、ジブチルスズジオクタノエート、二ギ酸ジブチルスズ、イソブチルスズトリセロエート、ジメチルスズジブチレート、ジメチルスズジ−ネオデコノエート、ジブチルスズジ−ネオデコノエート、酒石酸トリエチルスズ、二安息香酸ジブチルスズ、ブチルスズトリ−２−ヘキサン酸エチル、二酢酸ジオクチルスズ、オクチル酸スズ、オレイン酸スズ、酪酸スズ、ナフテン酸スズ、二塩化ジメチルスズなどの）、これらの組み合わせ、かつ／又はこれらの部分加水分解生成物が挙げられる。スズ（ＩＶ）化合物は当該技術分野において既知であり、例えば、Ｄｏｗ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙの事業部門であるＡｃｉｍａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ（欧州、スイス）からのＭｅｔａｔｉｎ（登録商標）７４０及びＦａｓｃａｔ（登録商標）４２０２といったように、市販されている。スズ（ＩＩ）化合物の例としては、有機カルボン酸のスズ（ＩＩ）塩（二酢酸スズ（ＩＩ）、ジオクタン酸スズ（ＩＩ）、ジエチルヘキサン酸スズ（ＩＩ）、二ラウリン酸スズ（ＩＩ）などの）、カルボン酸の第一スズ塩（オクチル酸スズ、オレイン酸スズ、酢酸スズ、ラウリン酸スズ、ステアリン酸スズ、ナフテン酸スズ、ヘキサン酸スズ、コハク酸スズ、カプリル酸スズなどの）、及びこれらの組み合わせが挙げられる。

ＲＥＡＣＨ（化学物質の登録、評価、許可、及び制限）は、ヒトの健康及び環境を守ることを支援し、化学産業の将来性及び競争を改善するのを意図した欧州連合一次法である。この一次法により、封止剤及びコーティングのような多くの縮合反応硬化性ポリオルガノシロキサン製品において使用されているスズ系触媒は、使用が禁止されることになっている。それゆえに、縮合反応硬化性組成物において従来のスズ触媒を置き換えることが産業上必要とされている。

銅前駆体（Ｃｕ前駆体）を含む成分と配位子との反応生成物、及び反応生成物の調製方法が開示される。縮合反応を介して生成物形成することができる組成物は、反応生成物及びケイ素含有ベースポリマーを含む。

全ての量、比率、及びパーセンテージは、特に記載のない限り、重量である。組成物中の全ての成分の量は、合計１００重量％である。課題を解決するための手段及び要約書は、参照により本明細書に含まれる。冠詞「ａ」、「ａｎ」、及び「ｔｈｅ」はそれぞれ、明細書の文脈により特に示されない限り、一つ以上を指す。範囲の開示には、範囲それ自体と、その中に包含される任意の数、並びに端点が含まれる。例えば、２．０〜４．０の範囲の開示には、２．０〜４．０の範囲だけでなく、２．１、２．３、３．４、３．５、及び４．０の個々の数、並びにその範囲に包含される任意の他の数も含まれる。更に、例えば２．０〜４．０の範囲の開示には、例えば２．１〜３．５、２．３〜３．４、２．６〜３．７、及び３．８〜４．０の部分集合、並びにその範囲に包含される任意の他の部分集合も含まれる。同様に、マーカッシュ群の開示には、群全体と、その中に包含される任意の個々の要素及び部分集合も含まれる。例えば、マーカッシュ群の水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基の開示は、個々のアルキルメンバー、アルキル及びアリールのサブグループ、並びにその中に包含される任意の他の個々のメンバー及びサブグループを含む。

「アルキル」は、少なくとも一つのへテロ原子をも含む非環状、分枝状又は無分枝状、飽和一価の炭化水素基を意味する。アルキルは、メチル、エチル、プロピル、１−メチルエチル、ブチル、１−メチルプロピル、２−メチルプロピル、１，１−ジメチルエチル、ペンチル、１−メチルブチル、１−エチルプロピル、２−メチルブチル、３−メチルブチル、１，２−ジメチルプロピル、２，２−ジメチルプロピル、並びにヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、及びデシル、加えて分枝状飽和一価の炭化水素基、６個以上の炭素原子の群によって例示されるがこれに限らない。

「アラルキル」は、側枝かつ／又は末端アリール基を有するアルキル基又は側枝アルキル基を有するアリール基を意味する。代表的なアラルキル基としては、ベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピル、及びフェニルブチルが挙げられる。

「炭素環」及び「炭素環式」は、それぞれに炭化水素環を意味する。炭素環は、単環式であってもよく、又は、あるいは縮合環、架橋環、又はスピロ多環式環であってもよい。単環式炭素環は、３〜９個の炭素原子、あるいは４〜７個の炭素原子、及びあるいは５〜６個の炭素原子を有してもよい。多環式炭素環は、７〜１７個の炭素原子、あるいは７〜１４個の炭素原子、及び、あるいは９〜１０個の炭素原子を有してもよい。炭素環は、飽和であっても又は部分不飽和であってもよい。

「シクロアルキル」は、飽和炭素環を意味する。単環式シクロアルキル基は、シクロブチル、シクロペンチル、及びシクロヘキシルによって例示される。

「ハロゲン化炭化水素」は、炭素原子に結合する一つ以上の水素原子が形式的にハロゲン原子で置き換えられた炭化水素を意味する。ハロゲン化炭化水素基は、ハロアルキル基、ハロゲン化炭素環状基、及びハロアルケニル基を含む。ハロアルキル基としては、フッ化アルキル基（トリフルオロメチル、フルオロメチル、トリフルオロエチル、２−フルオロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、４，４，４−トリフルオロブチル、４，４，４，３，３−ペンタフルオロブチル、５，５，５，４，４，３，３−ヘプタフルオロペンチル、６，６，６，５，５，４，４，３，３−ノナフルオロヘキシル（nonafluorohexyl）、及び８，８，８，７，７−ペンタフルオロオクチルなどの）、並びに塩化アルキル基（塩素メチル及び３−クロロプロピルなどの）が挙げられる。ハロゲン化炭素環式基としては、フッ化シクロアルキル基（２，２−ジフルオロシクロプロピル、２，３−ジフルオロシクロブチル、３，４−ジフルオロシクロヘキシル、及び３，４−ジフルオロ−５−メチルシクロヘプチルなどの）、並びに塩化シクロアルキル基（２，２−ジクロロシクロプロピル、２，３−ジクロロシクロペンチルなどの）が挙げられる。ハロアルケニル基としては、塩化アリールが挙げられる。

「へテロ原子」は、炭素を除く、ＩＵＰＡＣ元素周期表（ｈｔｔｐ：／／ｗｗｗ．ｉｕｐａｃ．ｏｒｇ／ｆｉｌｅａｄｍｉｎ／ｕｓｅｒ＿ｕｐｌｏａｄ／ｎｅｗｓ／ＩＵＰＡＣ＿Ｐｅｒｉｏｄｉｃ＿Ｔａｂｌｅ−１Ｊｕｎ１２．ｐｄｆ）の１３〜１７族の元素を意味する。「へテロ原子」としては、例えば、Ｎ、Ｏ、Ｐ、Ｓ、Ｂｒ、Ｃｌ、Ｆ、及びＩが挙げられる。

「ヘテロ原子含有基」は、水素原子及び炭素原子からなり、かつ少なくとも一つのへテロ原子も含む有機基を意味する。ヘテロ原子含有基は、例えば、一つ以上のアシル、アミド、アミン、カルボキシル、シアノ、エポキシ、ハロゲン、ヒドロカーボンオキシ、イミノ、ケトオキシム、メルカプト、オキソ、酸素、オキシム、かつ／又はチオールを含む場合がある。例えば、ヘテロ原子含有基が一つ以上のハロゲン原子を含有するとき、ヘテロ原子含有基は、上記のようにハロゲン化炭化水素基であってもよい。あるいは、へテロ原子が酸素である時、ヘテロ原子含有基は、ヒドロカーボンオキシ基（アルコキシ基又はアルキルアルコキシ基などの）であってもよい。

「ヘテロアルキル」基は、少なくとも一つのへテロ原子をも含む非環式、分枝状又は無分枝状、飽和一価の炭化水素基を意味する。「ヘテロアルキル」は、少なくとも一つの炭素原子が、Ｎ、Ｏ、Ｐ、又はＳなどのへテロ原子と置き換えられたハロアルキル基及びアルキル基を含み、例えば、へテロ原子がＯのとき、ヘテロアルキル基は、アルコキシ基となる場合がある。

「複素環」及び「複素環式」は、それぞれ、環状の炭素原子及び一つ以上のへテロ原子からなる環式基を意味する。複素環のへテロ原子は、Ｎ、Ｏ、Ｐ、Ｓ、又はこれらの組み合わせであってもよい。複素環は、単環式であってもよく、又は、あるいは縮合環、架橋環、又はスピロ多環式環であってもよい。単環式複素環は、環内に３〜９個の構成原子を有してもよく、あるいは４〜７個の構成原子を有してもよく、かつ、あるいは５〜６個の構成原子を有してもよい。多環式複素環は、７〜１７個の構成原子を有してもよく、あるいは７〜１４個の構成原子を有してもよく、かつ、あるいは９〜１０個の構成原子を有してもよい。複素環は、飽和であっても又は部分不飽和であってもよい。

「複素環式芳香族」は、環状の炭素原子及び一つ以上のへテロ原子からなる完全に不飽和な環含有基を意味する。複素環式芳香族は、ピリジルなどのヘテロアリール基を含む。複素環式芳香族は、ヘテロアラルキル、すなわち、側枝かつ／又は末端ヘテロアリール基を有するアルキル基、又はペンダントアルキル基を有するヘテロアリール基を含む。例示のヘテロアラルキル基は、メチルピリジルそしてジメチルピリジルを含む。

「〜を含まない」とは、組成物が感知不可能な量でしか含有しない、又はその成分を含まない同じ組成物と比較したときに、実施例の項に記載される方法により測定される、視覚的な粘度が変化させるのに不十分な量でしか組成物がその成分を含有しないことを意味する。例えば、本明細書に記載の組成物は、スズ触媒を含まないものであり得る。「スズ触媒を含まない」とは、組成物が、組成物中の他の成分の加水分解性基との縮合反応を触媒することができるスズ触媒を感知不可能な量でしか含有しない、又はスズ触媒を含まない同じ組成物と比較したときに、実施例の項に記載される方法により測定される、視覚的な粘度を変化させるのに不十分な量でしか組成物がスズ触媒を含有しないことを意味する。組成物は、チタン触媒を含まないものであり得る。「チタン触媒を含まない」とは、組成物が、組成物中の他の成分の加水分解性基との縮合反応を触媒することができるチタン触媒を感知不可能な量でしか含有しない、又はチタン触媒を含まない同じ組成物と比較したときに、実施例に記載される方法により測定される視覚的な粘度を変化させるのに不十分な量でしか組成物がチタン触媒を含有しないことを意味する。あるいは、本明細書に記載される組成物は、金属縮合反応触媒（すなわち、本明細書に記載される成分（Ａ）以外）を含まない場合がある。「縮合反応触媒を含まない」は、組成物が、感知不可能な量の、Ａｌ、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｔｉ、かつ／又はＺｒの化合物などの縮合反応を触媒することができる、周期表（ＣＲＣ Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｐｈｙｓｉｃｓ，６５^ｔｈ ｅｄ．、ＣＲＣ Ｐｒｅｓｓ、Ｉｎｃ．、Ｂｏｃａ Ｒａｔｏｎ、Ｆｌｏｒｉｄａ、１９８４の表表紙の見返しに見られるように）の３ａ、４ａ、５ａ、又は４ｂ族の金属化合物を含有する、又は金属縮合反応触媒を含まない同じ組成物と比較したときに、かかる金属縮合反応触媒を、実施例に記載される方法により測定される視覚的な粘度を変化させるのに不十分な量しか含有しないことを意味する。本定義の目的では、「感知不可能な量」は、例えば、ＡＳＴＭ Ｄ７１５１−０５ Ｓｔａｎｄａｒｄ Ｔｅｓｔ Ｍｅｔｈｏｄ ｆｏｒ Ｄｅｔｅｒｍｉｎａｔｉｏｎ ｏｆ Ｅｌｅｍｅｎｔｓ ｉｎ Ｉｎｓｕｌａｔｉｎｇ Ｏｉｌｓ ｂｙ Ｉｎｄｕｃｔｉｖｅｌｙ Ｃｏｕｐｌｅｄ Ｐｌａｓｍａ Ａｔｏｍｉｃ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ（ＩＣＰ−ＡＥＳ）の方法により測定されてもよい。

「非官能性」は、成分、例えば、ポリオルガノシロキサン、が縮合反応に関与する加水分解基を有しないことを意味する。

本明細書で使用される略語は、以下のように定義される。略語「ｃＰ」は、センチポアズを意味する。「ＤＰ」は、ポリマーの重合度を意味する。「ＦＴＩＲ」は、フーリエ変換赤外分光法を意味する。「ＧＰＣ」は、ゲル透過クロマトグラフィーを意味する。「Ｍｎ」は、数平均分子量を意味する。Ｍｎは、ＧＰＣを使用して測定され得る。「Ｍｗ」は、重量平均分子量を意味する。「ＮＭＲ」は、核磁気共鳴を意味する。「Ｍｅ」は、メチルを意味する。「Ｅｔ」は、エチルを意味する。「Ｐｈ」は、フェニルを意味する。「Ｐｒ」は、プロピルを意味し、かつｉＰｒ及びｎＰｒなどの様々な構造を含む「ｉＰｒ」は、イソプロピルを意味する。「ｎＰｒ」は、ノルマルプロピルを意味する。「Ｂｕ」は、ブチルを意味し、ｎＢｕ、ｓｅｃ−ｂｕｔｙｌ、ｔＢｕ、及びｉＢｕを含む様々な構造を含む。「ｉＢｕ」は、イソブチルを意味する。「ｎＢｕ」は、ノルマルブチルを意味する。「ｔＢｕ」は、第三級−ブチルを意味する。

縮合反応（組成物）によって反応することができる少なくとも一つの成分を有する組成物は、
（Ａ）銅を含有する縮合反応触媒と、
（Ｂ）分子１個当たり、平均一つ以上の加水分解性置換基を有するケイ素含有ベースポリマー（ベースポリマー）と、を含む。理論に束縛されるものではないが、Ｃｕ含有縮合反応触媒は、ベースポリマーの縮合反応を触媒するために有効であると特徴付けることができると考えられる。ベースポリマーは、縮合反応によって反応することができる、加水分解置換基を有する。ベースポリマーの縮合反応は、反応生成物を調製する。この組成物は、場合により、一つ以上の追加成分を更に含み得る。一つ以上の追加成分は、成分（Ａ）及び（Ｂ）とは異なる。適切な追加成分は、（Ｃ）架橋剤；（Ｄ）乾燥剤；（Ｅ）増量剤、可塑剤又はこれらの組み合わせ；（Ｆ）充填剤；（Ｇ）充填剤処理剤；（Ｈ）殺生物剤；（Ｊ）難燃剤；（Ｋ）表面改質剤；（Ｌ）鎖延長剤；（Ｍ）末端封鎖剤；（Ｎ）非反応性結合剤；（Ｏ）老化防止添加剤；（Ｐ）水放出剤；（Ｑ）顔料；（Ｒ）レオロジー添加剤；（Ｓ）ビヒクル（溶媒かつ／又は希釈剤などの）；（Ｔ）粘着付与剤；（Ｕ）腐食防止剤；並びにこれらの組み合わせによって例示される。

成分（Ａ）は、触媒的に有効な量のＣｕ含有縮合反応触媒を含む。Ｃｕ含有縮合反応触媒は、Ｃｕ前駆体及び配位子の反応生成物を含む。理論に束縛されるものではないが、この反応生成物はＣｕ−配位子錯体を含むと考えられる。Ｃｕ前駆体は、Ｍ前駆体及び配位子の反応生成物とは異なる。Ｃｕ前駆体は、一般式（ｉ）：Ｃｕ−Ａ_ａを有するＣｕの有機化合物であり、式中、Ａはそれぞれ独立して一価の有機基、及び下付き文字ａは１〜２の範囲の値を有する。Ａに対する一価の有機基の例としては、一価の炭化水素基、アミノ基、シラザン基、カルボキシルエステル基、並びにヒドロカーボンオキシ基が挙げられる。

Ａに対する一価の炭化水素基の例としては、アルキル（メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、エチルヘキシル、オクチル、デシル、ドデシル、ウンデシル、及びオクタデシルなどの）；アルケニル（ビニル、アリール、プロペニル、及びヘキセニルなどの）；飽和炭素環式基によって例示される炭素環式基、例えば、シクロアルキル（シクロペンチルそしてシクロヘキシルなどの）、又は不飽和炭素環式基（シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニルなどの）；アリール（フェニルなどの）、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチル；並びにアラルキル（ベンジル又は２−フェニルエチルなどの）が挙げられるがこれに限定されない。

Ａに対するアミノ基の例は、式−ＮＡ’_２を有し、式中、Ａ’は、それぞれ独立して水素原子又は一価の炭化水素基である。Ａ’に対する例示の一価の炭化水素基としては、アルキル（メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、エチルヘキシル、オクチル、デシル、ドデシル、ウンデシル、及びオクタデシルなどの）；アルケニル（ビニル、アリール、プロペニル、及びヘキセニルなどの）；飽和炭素環式基によって例示される炭素環式基、例えば、シクロアルキル（シクロペンチル及びシクロヘキシルなどの）、又は不飽和炭素環式基（シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニル；アリール（フェニル、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチルなどの）；並びにアラルキル（ベンジル又は２−フェニルエチルなどの）が挙げられるがこれに限定されない。あるいは、各Ａ’は、水素原子又は１〜４個の炭素原子のアルキル基（メチル又はエチルなどの）であってもよい。

あるいは、一般式（ｉ）の各Ａは、シラザン基であってもよい。

あるいは、一般式（ｉ）の各Ａは、カルボキシルエステル基であってもよい。Ａに対する適切なカルボキシルエステル基の例としては、ヘキサン酸エチル（２−ヘキサン酸エチルなどの）、ネオデカン酸、オクタノエート、及びステアレートが挙げられるがこれに限定されない。

Ａに対する一価のヒドロカーボンオキシ基の例は、式−Ｏ−Ａ”を有してもよく、式中Ａ”は、一価の炭化水素基である。Ａ”に対する一価の炭化水素基の例としては、アルキル（メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、エチルヘキシル、オクチル、デシル、ドデシル、ウンデシル、及びオクタデシルなどの）；アルケニル（ビニル、アリール、プロペニル、及びヘキセニルなどの）；シクロアルキル（シクロペンチル及びシクロヘキシルなどの）；アリール（フェニル、トリル、キシリル、及びナフチルなどの）；アラルキル（ベンジル又は２−フェニルエチルなどの）が挙げられるがこれに限定されない。あるいは、各Ａ”は、アルキル基（メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソ−プロピル、ｎ−ブチル、イソ−ブチル、又はｔ−ブチルなどの）であってもよい。あるいは、各Ａ”は、アルキル基であってもよく、かつ、代替的に各Ａ”は、エチル、プロピル（イソ−プロピル又はｎ−プロピルなどの）、又はブチルであってもよい。

あるいは、上記式（ｉ）のＡはそれぞれアルキル基（メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソ−プロピル、ｎ−ブチル、イソ−ブチル、又はｔ−ブチルなどの）であってもよい。あるいは、各Ａは、エチル、ベンジル、メシチル、フェニル、−ＮＥｔ_２、シクロオクタジエン、エトキシド、イソ−プロポキシド、ブトキシド、２−ヘキサン酸エチル、ネオデカン酸、オクタノエート、及びステアレート、から成る群から選択されてもよい。あるいは、Ａはそれぞれ一価の炭化水素基又は一価のエステル基であってもよい。あるいは、Ａはメシチルなどのアリール基であってもよい。Ａに対する一価のエステル基の例としては、エチルヘキサノエート及びオクタノエートが挙げられるが、これに限定されない。あるいは、Ａはそれぞれエチルヘキサノエートであってもよい。

前駆体としての使用に対して適切なＣｕの有機化合物が市販されている。例えば、Ｃｕ前駆体は、銅（２−エチルヘキサノエート）_２又はメシチル銅であってもよい。これらの銅前駆体は、どちらもＳｔｒｅｍ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｉｎｃ．（米国、マサチューセッツ州、Ｎｅｗｂｕｒｙｐｏｒｔ）から市販されている。

配位子は、Ｃｕと配位する有機化合物である。有機化合物は、中性及び共役塩基の形態を含む。理論に束縛されるものではないが、成分（Ａ）の反応生成物を形成するために、配位子が上記の一般式（ｉ）のＭ前駆体内の交換可能な置換基Ａの一つ以上のインスタンスを置き換えると考えられる。

配位子は、一般式（ｉｉ）：
を有してもよい。

一般式（ｉｉ）では、下付き文字は０〜４、あるいは０〜３、あるいは０〜２、及びあるいは０〜１である。Ｑ^１はＮ、Ｏ、Ｐ、及びＳ、あるいはＯ及びＳ、あるいはＯから選択されるへテロ原子である。

Ａ^１はそれぞれフェニル環の炭素原子に共有結合する置換基である。Ａ^１はそれぞれ一価の炭化水素基、又は一価のハロゲン化炭化水素基から独立して選択される。Ａ^１に対する一価の炭化水素基の例としては、アルキル（Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシルなどの）；アルケニル（ビニル、アリール、プロペニル、及びヘキセニルなどの）；飽和炭素環式基によって例示される炭素環式基、例えば、シクロアルキル（シクロペンチル及びシクロヘキシルなどの）、又は不飽和炭素環式基（シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニルなどの）；アリール（Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチルなどの）；アラルキル（ベンジル又は２−フェニルエチルなどの）が挙げられるがこれに限定されない。あるいは、Ａ^１はアルキル基（１〜４個の炭素原子のアルキル基などの）であってもよい。別の方法としては、Ａ^１はＢｕ（ｔＢｕなどの）であってもよい。

Ａ^１に対する一価の炭化水素基の例としては、ハロアルキル基（フッ素化アルキル基、例えば、ＣＦ_３、フルオロメチル、トリフルオロエチル、２−フルオロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、及び４，４，４−トリフルオロブチルなどの）；並びに塩素化アルキル基（クロロメチルなどの）が挙げられるがこれに限定されない。あるいは、Ａ^１はＣＦ_３などのフッ素化アルキル基であってもよい。

一般式（ｉｉ）では、Ａ^２はそれぞれ独立して水素原子、一価の炭化水素基、又は一価のハロゲン化炭化水素基から選択される。Ａ^２に対する一価の炭化水素基の例としては、アルキル（Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシルなどの）；アルケニル（ビニル、アリール、プロペニル、及びヘキセニルなどの）；飽和炭素環式基によって例示される炭素環式基、例えば、シクロアルキル（シクロペンチル及びシクロヘキシルなどの）、又は不飽和炭素環式基（シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニルなどの）；アリール（Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチルなどの）；アラルキル（ベンジル又は２−フェニルエチルなどの）が挙げられるがこれに限定されない。あるいは、Ａ^２はアルキル基（１〜４個の炭素原子のアルキル基などの）であってもよい。あるいは、Ａ^２はＭｅであってもよい。

Ａ^２に対する一価の炭化水素基の例としては、ハロアルキル基（フッ素化アルキル基、例えば、ＣＦ_３、フルオロメチル、トリフルオロエチル、２−フルオロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、及び４，４，４−トリフルオロブチルなどの）；並びに塩素化アルキル基（クロロメチルなどの）が挙げられるがこれに限定されない。あるいは、Ａ^２はＣＦ_３などのフッ素化アルキル基であってもよい。あるいは、Ａ^２は水素原子又はアルキルなどの一価の炭化水素基（例えば、Ｍｅ）であってもよい。

Ａ^３はそれぞれ独立して水素原子、一価の炭化水素基、又は一価のハロゲン化炭化水素基から選択される。Ａ^３に対する一価の炭化水素基の例としては、アルキル（Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシルなどの）；アルケニル（ビニル、アリール、プロペニル、及びヘキセニルなどの）；飽和炭素環式基によって例示される炭素環式基、例えば、シクロアルキル（シクロペンチル及びシクロヘキシルなどの）、又は不飽和炭素環式基（シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニルなどの）；アリール（Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチルなどの）；アラルキル（ベンジル又は２−フェニルエチルなどの）が挙げられるがこれに限定されない。あるいは、Ａ^３はアルキル基（１〜４個の炭素原子のアルキル基などの）であってもよい。あるいは、Ａ^３はＭｅであってもよい。

Ａ^３に対する一価の炭化水素基の例としては、ハロアルキル基（フッ素化アルキル基、例えば、ＣＦ_３、フルオロメチル、トリフルオロエチル、２−フルオロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、及び４，４，４−トリフルオロブチルなどの）；並びに塩素化アルキル基（クロロメチルなどの）が挙げられるがこれに限定されない。あるいは、Ａ^３はＣＦ_３などのフッ素化アルキル基であってもよい。あるいは、Ａ^３は水素原子又はアルキルなどの一価の炭化水素基（例えば、Ｍｅ）であってもよい。

あるいは、Ａ^３はＡ^４の環状構造に結合されてもよい。例えば、Ａ^３及びＡ^４はアリール基、アラルキル基、炭素環式基、複素環式基、又は複素環式芳香族基を形成するようにともに結合されてもよい。あるいは、Ａ^３及びＡ^４はアリール基（Ｐｈ、トリル、又はキシリルなどの）；あるいはＰｈを形成するようにともに結合されてもよい。

あるいは、Ａ^４が環状構造に結合しないとき、Ａ^４は独立して水素原子、一価の炭化水素基、又は一価のハロゲン化炭化水素基から選択されてもよい。Ａ^４に対する一価の炭化水素基の例としては、アルキル（Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシルなどの）；アルケニル（ビニル、アリール、プロペニル、及びヘキセニルなどの）；飽和炭素環式基によって例示される炭素環式基、例えば、シクロアルキル（シクロペンチル及びシクロヘキシルなどの）、又は不飽和炭素環式基（シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニルなどの）；アリール（Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチルなどの）；アラルキル（ベンジル又は２−フェニルエチルなどの）が挙げられるがこれに限定されない。あるいは、Ａ^４はアルキル基（１〜４個の炭素原子のアルキル基などの）であってもよい。あるいは、Ａ^４はＭｅであってもよい。

Ａ^４に対する一価のハロゲン化炭化水素基の例としては、ハロアルキル基（フッ素化アルキル基、例えば、ＣＦ_３、フルオロメチル、トリフルオロエチル、２−フルオロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、及び４，４，４−トリフルオロブチルなどの）；並びに塩素化アルキル基（クロロメチルなどの）が挙げられるがこれに限定されない。あるいは、Ａ^４はＣＦ_３などのフッ素化アルキル基であってもよい。あるいは、Ａ^４は水素原子又はアルキルなどの一価の炭化水素基（例えば、Ｍｅ）であってもよい。

あるいは、Ａ^４がＡ^３と環状構造に結合されないとき、Ａ^４はＱ^１及びＡ^５と環状構造に結合されてもよい。環は、複素環式又は複素環式芳香族であってもよく、また、環内に５個又は６個の構成原子を有してもよい。あるいは、環は、５個又は６個の構成原子、あるいは５個の構成原子をともなう複素環式基であってもよい。複素環式基は、環内の構成原子として０〜２個のへテロ原子を有してもよい、すなわち、Ｑ^１に加えて、複素環式基は、環内に構成原子として０又は１個のへテロ原子を有してもよい。追加的なへテロ原子は、Ｎ、Ｏ、Ｐ、及びＳ；あるいはＯ及びＳ、並びにあるいはＯから選択される。追加的なへテロ原子は、Ｑ^１と同じであってもよく、又は異なっていてもよい。あるいは、更なるへテロ原子は、Ｑ^１と同じであってもよい。あるいは、環は、飽和複素環式基であってもよい。

あるいは、Ａ^５が環状構造に結合しないとき、Ａ^５は、一価の炭化水素基であってもよい。Ａ^５に対する一価の炭化水素基の例としては、アルキル（Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシルなどの）；アルケニル（ビニル、アリール、プロペニル、及びヘキセニルなどの）；飽和炭素環式基によって例示される炭素環式基、例えば、シクロアルキル（シクロペンチル及びシクロヘキシルなどの）、又は不飽和炭素環式基（シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニルなどの）；アリール（Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチルなどの）；アラルキル（ベンジル又は２−フェニルエチルなどの）が挙げられるがこれに限定されない。あるいは、Ａ^５はアルキル基（１〜４個の炭素原子のアルキル基などの）であってもよい。あるいは、Ａ^５はＭｅであってもよい。

Ａ^５に対する一価のハロゲン化炭化水素基の例としては、ハロアルキル基（フッ素化アルキル基、例えば、ＣＦ_３、フルオロメチル、トリフルオロエチル、２−フルオロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、及び４，４，４−トリフルオロブチルなどの）；並びに塩素化アルキル基（クロロメチルなどの）が挙げられるがこれに限定されない。あるいは、Ａ^５はＣＦ_３などのフッ素化アルキル基であってもよい。一般式（ｉｉ）の配位子の例としては、表１に示される、配位子１、２、３、及び９が挙げられる。

あるいは、配位子は、一般式（ｉｉｉ）：
を有してもよい。

一般式（ｉｉｉ）では、下付き文字ｂは０〜４、あるいは０〜３、あるいは０〜２、及びあるいは０〜１である。各Ａ^６はフェニル環の炭素原子に共有結合する置換基である。

一般式（ｉｉｉ）では、Ａ^６はハロゲン原子、一価の炭化水素基、及び一価のへテロ原子含有基からそれぞれ独立して選択されてもよい。Ａ^６に対するハロゲン原子の例としては、Ｂｒ、Ｃｌ、又はＦ；あるいはＣｌ又はＦが挙げられる。Ａ^６に対する一価の炭化水素基の例としては、アルキル（Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシルなどの）；アルケニル（ビニル、アリール、プロペニル、及びヘキセニルなどの）；飽和炭素環式基によって例示される炭素環式基、例えば、シクロアルキル（シクロペンチル及びシクロヘキシルなどの）、又は不飽和炭素環式基（シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニルなどの）；アリール（Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチルなどの）；アラルキル（ベンジル又は２−フェニルエチルなどの）が挙げられるがこれに限定されない。あるいは、Ａ^６はアルキル基（１〜４個の炭素原子のアルキル基などの）であってもよい。あるいは、Ａ^６はＭｅ又はｔＢｕなどのＢｕであってもよい。あるいは、Ａ^６はＰｈなどのアリール基であってもよい。あるいは、各Ａ^６はハロゲン原子、アルキル基、又はアリール基であってもよい。

あるいは、各Ａ^６はハロゲン化炭化水素基又はヒドロカーボンオキシ基などの一価のへテロ原子含有基であってもよい。Ａ^６に対する一価のハロゲン化炭化水素基の例としては、ハロアルキル基（フッ素化アルキル基、例えば、ＣＦ_３、フルオロメチル、トリフルオロエチル、２−フルオロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、及び４，４，４−トリフルオロブチルなどの）；並びに塩素化アルキル基（クロロメチルなどの）が挙げられるがこれに限定されない。Ａ^６に対するヒドロカーボンオキシ基の例としては、アルコキシ（ＯＭｅ、ＯＥｔ、ＯＰｒ、及びＯＢｕ；あるいはＯＭｅなどの）が挙げられる。

あるいは、下付き文字ｂ≧２のとき、二つ以上のＡ^６はともに環状基内に結合されてもよい、すなわちＡ^６が結合されるフェニル基で縮合環を形成してもよい。例えば、二つ以上のＡ^６はアリール基、アラルキル基、炭素環式基、複素環式基、又は複素環式芳香族基を形成するようにともに結合されてもよい。あるいは、二つ以上のＡ^６はＰｈ、トリル、又はキシリル；あるいはＰｈなどのアリール基を形成するようにともに結合されてもよい。

一般式（ｉｉｉ）では、Ａ^７は水素原子、一価の炭化水素基、又は一価のハロゲン化炭化水素基からそれぞれ独立して選択される。Ａ^７に対する一価の炭化水素基の例としては、アルキル（Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシルなどの）；アルケニル（ビニル、アリール、プロペニル、及びヘキセニルなどの）；飽和炭素環式基によって例示される炭素環式基、例えば、シクロアルキル（シクロペンチル及びシクロヘキシルなどの）、又は不飽和炭素環式基（シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニルなどの）；アリール（Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチルなどの）；アラルキル（ベンジル又は２−フェニルエチルなどの）が挙げられるがこれに限定されない。あるいは、Ａ^７はアルキル基（１〜４個の炭素原子のアルキル基などの）であってもよい。あるいは、Ａ^７はＭｅであってもよい。

Ａ^７に対する一価のハロゲン化炭化水素基の例としては、ハロアルキル基（フッ素化アルキル基、例えば、ＣＦ_３、フルオロメチル、トリフルオロエチル、２−フルオロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、及び４，４，４−トリフルオロブチルなどの）；並びに塩素化アルキル基（クロロメチルなどの）が挙げられるがこれに限定されない。あるいは、Ａ^７はＣＦ_３などのフッ素化アルキル基であってもよい。あるいは、Ａ^７は水素原子又はアルキルなどの一価の炭化水素基（例えば、Ｍｅ）であってもよい。

一般式（ｉｉｉ）では、Ａ^８は少なくとも一つの完全な不飽和環（アリール基、アラルキル基、複素環式芳香族基、又は式（ｉｖ）：
の一価の有機基などの）を含む一価の芳香族基であり、式中、^＊は、連結点を表し、また、下付き文字ｂ及びＡ^６は、上記に定義される通りである。一般式（ｉｉｉ）の代表的な配位子としては、表１の配位子４、６、７、１３、１４、１７、１８、及び１９が挙げられる。

あるいは、配位子は、一般式（ｖ）：
を有してもよい。

一般式（ｖ）では、下付き文字ｃは０〜４、あるいは０〜３、あるいは０〜２、及びあるいは０〜１である。下付き文字ｄは０〜５、あるいは０〜４、あるいは０〜３、あるいは０〜２、及びあるいは０〜１である。下付き文字ｅは０〜５、あるいは０〜４、あるいは０〜３、あるいは０〜２、及びあるいは０〜１である。しかしながら、ｃ＞０のとき、（ｄ＋ｅ）の量＝０であり、かつｄ＞０又はｅ＞０のいずれかのとき、下付き文字ｃ＝０である。Ｑ^２はＮ、Ｏ、Ｐ、又はＳから選択されるへテロ原子であり、あるいは、Ｑ^２はＯ又はＳから選択されてもよい。

一般式（ｖ）では、Ａ^９は一価の炭化水素基である。Ａ^９に対する一価の炭化水素基の例としては、アルキル（Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシルなどの）；アルケニル（ビニル、アリール、プロペニル、及びヘキセニルなどの）；飽和炭素環式基によって例示される炭素環式基、例えば、シクロアルキル（シクロペンチル及びシクロヘキシルなどの）、又は不飽和炭素環式基（シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニルなどの）；アリール（Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチルなどの）；アラルキル（ベンジル又は２−フェニルエチルなどの）が挙げられるがこれに限定されない。あるいは、Ａ^９はアルキル基（１〜４個の炭素原子のアルキル基などの）であってもよい。あるいは、Ａ^９はＭｅであってもよい。

一般式（ｖ）では、Ａ^１０及びＡ^１１はフェニル環内に共有結合する置換基である。各Ａ^１０又はＡ^１１はそれぞれ独立してハロゲン原子、一価の炭化水素基、及び一価のへテロ原子含有基から選択されてもよい。Ａ^１０及びＡ^１１に対するハロゲン原子の例は、Ｂｒ、Ｃｌ、及びＦ；あるいはＦによって例示される。Ａ^１０及びＡ^１１に対する一価の炭化水素基の例としては、アルキル（Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシルなどの）；アルケニル（ビニル、アリール、プロペニル、及びヘキセニルなどの）；飽和炭素環式基によって例示される炭素環式基、例えば、シクロアルキル（シクロペンチル及びシクロヘキシルなどの）、又は不飽和炭素環式基（シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニルなどの）；アリール（Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチルなどの）；アラルキル（ベンジル又は２−フェニルエチルなどの）が挙げられるがこれに限定されない。あるいは、Ａ^１０かつ／又はＡ^１１はアルキル基（１〜４個の炭素原子のアルキル基などの）であってもよい。あるいは、Ａ^１０かつ／又はＡ^１１はＭｅ又はｔＢｕなどのＢｕであってもよい。Ａ^１０及びＡ^１１に対する適切な一価のへテロ原子含有基の例としては、例えば、ハロゲン化炭化水素基又はヒドロカーボンオキシ基が挙げられる。Ａ^１０及びＡ^１１に対する一価のハロゲン化炭化水素基の例としては、ハロアルキル基（フッ素化アルキル基、例えば、ＣＦ_３、フルオロメチル、トリフルオロエチル、２−フルオロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、及び４，４，４−トリフルオロブチルなどの）；並びに塩素化アルキル基（クロロメチルなどの）が挙げられるがこれに限定されない。Ａ^１０及びＡ^１１に対する一価のヒドロカーボンオキシ基の例としては、アルコキシ（ＯＭｅ、ＯＥｔ、ＯＰｒ、及びＯＢｕ；あるいはＯＭｅなどの）が挙げられる。一般式（ｖ）の配位子の例としては、表１の配位子１１及び１２が挙げられる。

あるいは、配位子は、一般式（ｖｉ）：
を有してもよい。

一般式（ｖｉ）では、Ｑ^３はＯ、Ｐ、及びＳ；あるいはＯ及びＳ；かつあるいはＳから選択されてもよいへテロ原子である。下付き文字ｆは０〜４、あるいは０〜３、あるいは０〜２、及びあるいは０〜１である。Ａ^１２はそれぞれフェニル環の炭素原子に共有結合する置換基である。Ａ^１２はそれぞれ独立してハロゲン原子、一価の炭化水素基、及び一価のへテロ原子含有基から選択されてもよい。Ａ^１２のハロゲン原子に対する例としては、Ｂｒ、Ｃｌ、及びＦ；あるいはＣｌ又はＦ；かつあるいはＣｌが挙げられる。Ａ^１２に対する一価の炭化水素基の例としては、アルキル（Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシルなどの）；アルケニル（ビニル、アリール、プロペニル、及びヘキセニルなどの）；飽和炭素環式基によって例示される炭素環式基、例えば、シクロアルキル（シクロペンチル及びシクロヘキシルなどの）、又は不飽和炭素環式基（シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニルなどの）；アリール（Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチルなどの）；アラルキル（ベンジル又は２−フェニルエチルなどの）が挙げられるがこれに限定されない。あるいは、Ａ^１２はアルキル基（１〜４個の炭素原子のアルキル基などの）であってもよい。あるいは、Ａ^１２はＭｅ又はｔＢｕなどのＢｕであってもよい。あるいは、Ａ^１２はＰｈなどのアリール基であってもよい。あるいは、各Ａ^１２はハロゲン原子、アルキル基、又はアリール基であってもよい。Ａ^１２に対する一価のへテロ原子含有基の例としては、ハロゲン化炭化水素基又はヒドロカーボンオキシ基が挙げられる。Ａ^１２に対する一価のハロゲン化炭化水素基の例としては、ハロアルキル基（フッ素化アルキル基、例えば、ＣＦ_３、フルオロメチル、トリフルオロエチル、２−フルオロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、及び４，４，４−トリフルオロブチルなどの）；並びに塩素化アルキル基（クロロメチルなどの）が挙げられるがこれに限定されない。Ａ^１２に対するヒドロカーボンオキシ基の例としては、アルコキシ（ＯＭｅ、ＯＥｔ、ＯＰｒ、及びＯＢｕ；あるいはＯＭｅなどの）が挙げられる。

一般式（ｖｉ）では、Ａ^１３は水素原子又は一価の炭化水素基であってもよい。Ａ^１３に対する一価の炭化水素基の例としては、アルキル（Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシルなどの）；アルケニル（ビニル、アリール、プロペニル、及びヘキセニルなどの）；飽和炭素環式基によって例示される炭素環式基、例えば、シクロアルキル（シクロペンチル及びシクロヘキシルなどの）、又は不飽和炭素環式基（シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニルなどの）；アリール（Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチルなどの）；アラルキル（ベンジル又は２−フェニルエチルなどの）が挙げられるがこれに限定されない。あるいは、Ａ^１３はアルキル基（１〜４個の炭素原子のアルキル基などの）であってもよい。あるいは、Ａ^１３はＭｅ又はｔＢｕなどのＢｕであってもよい。あるいは、Ａ^１３はＰｈなどのアリール基であってもよい。あるいは、各Ａ^１３はハロゲン原子、アルキル基、又はアリール基であってもよい。

一般式（ｖｉ）では、Ａ^１４は水素原子又は一価の炭化水素基であってもよい。Ａ^１４に対する一価の炭化水素基の例としては、アルキル（Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシルなどの）；アルケニル（ビニル、アリール、プロペニル、及びヘキセニルなどの）；飽和炭素環式基によって例示される炭素環式基、例えば、シクロアルキル（シクロペンチル及びシクロヘキシルなどの）、又は不飽和炭素環式基（シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニルなどの）；アリール（Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチルなどの）；アラルキル（ベンジル又は２−フェニルエチルなどの）が挙げられるがこれに限定されない。あるいは、Ａ^１４はアルキル基（１〜４個の炭素原子のアルキル基などの）であってもよい。あるいは、Ａ^１４はＭｅ又はｔＢｕなどのＢｕであってもよい。あるいは、Ａ^１４はＰｈなどのアリール基、又はベンジルなどのアラルキル基であってもよい。あるいは、各Ａ^１４はアルキル基、アリール基、又はアラルキル基であってもよい。

あるいは、Ｑ^３、Ａ^１３及びＡ^１４は環状基にともに結合されてもよい。環状基は、複素環式基又は複素環式基芳香族基であってもよい。環状基は、５個又は６個の構成原子をその環内に有する単環式基であってもよい。あるいは、環状基は８個から１０個の構成原子をその環内に有する縮合二環式基であってもよい。環状基の例としては、チオフェン及びベンゾチオフェンが挙げられる。一般式（ｖｉ）の配位子の例としては、表１に示される配位子１５、１６、２０、２１、及び２２が挙げられる。

あるいは、配位子は、一般式（ｖｉｉ）：
を有してもよい。

一般式（ｖｉｉ）では、Ｑ^４はＯ及びＳから選択されてもよいへテロ原子である。あるいはＱ^４はＳである。

一般式（ｖｉｉ）では、Ａ^１５は一価の炭化水素基である。Ａ^１５に対する一価の炭化水素基の例としては、アルキル（Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシルなどの）；アルケニル（ビニル、アリール、プロペニル、及びヘキセニルなどの）；飽和炭素環式基によって例示される炭素環式基、例えば、シクロアルキル（シクロペンチル及びシクロヘキシルなどの）、又は不飽和炭素環式基（シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニルなどの）；アリール（Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチルなどの）；アラルキル（ベンジル、フェニルエチル、ブチルフェニル、又はエチルフェニルなどの）が挙げられるがこれに限定されない。あるいは、Ａ^１５はアルキル基（１〜４個の炭素原子のアルキル基などの）であってもよい。あるいは、Ａ^１５はＭｅ又はｎＢｕなどのＢｕであってもよい。あるいは、Ａ^１５はアリール基（Ｐｈなどの）又はアラルキル基（ベンジル、２−エチルフェニル、又は４−ブチルフェニルなどの）であってもよい。

一般式（ｖｉｉ）では、Ａ^１６は水素原子又は一価の炭化水素基である。Ａ^１６に対する一価の炭化水素基の例としては、アルキル（Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシルなどの）；アルケニル（ビニル、アリール、プロペニル、及びヘキセニルなどの）；飽和炭素環式基によって例示される炭素環式基、例えば、シクロアルキル（シクロペンチル及びシクロヘキシルなどの）、又は不飽和炭素環式基（シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニルなどの）；アリール（Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチルなどの）；アラルキル（ベンジル、フェニルエチル、又はブチルフェニルなどの）が挙げられるがこれに限定されない。あるいは、Ａ^１６はアルキル基（１〜４個の炭素原子のアルキル基などの）であってもよい。あるいは、Ａ^１６はＭｅであってもよい。

一般式（ｖｉｉ）では、Ａ^１５がアリール基又はアラルキル（周期表の）族であるとき、Ａ^１５はオルト位置にある水素原子、Ｍｅ、又はＥｔを有する。

一般式（ｖｉｉ）では、各Ａ^１７及び各Ａ^１８はそれぞれ独立して水素原子及び一価の炭化水素基から選択されてもよい。Ａ^１７及びＡ^１８に対する一価の炭化水素基の例としては、アルキル（Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシルなどの）；アルケニル（ビニル、アリール、プロペニル、及びヘキセニルなどの）；飽和炭素環式基によって例示される炭素環式基、例えば、シクロアルキル（シクロペンチル及びシクロヘキシルなどの）、又は不飽和炭素環式基（シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニルなどの）；アリール（Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチルなどの）；アラルキル（ベンジル、フェニルエチル、ブチルフェニル、又はエチルフェニルなどの）が挙げられるがこれに限定されない。あるいは、Ａ^１７又はＡ^１８はアルキル基（１〜４個の炭素原子のアルキル基などの）であってもよい。あるいは、Ａ^１７は、アリール基（Ｐｈなどの）又はアラルキル基（ベンジル、２−エチルフェニル、又は４−ブチルフェニルなどの）であってもよい。あるいは、Ａ^１７は水素原子であってもよく、かつＡ^１８は一価の炭化水素基であってもよい。一般式（ｖｉｉ）の配位子の例としては、表１の配位子２４及び２５が挙げられる。

あるいは、配位子は、一般式（ｖｉｉｉ）：

一般式（ｖｉｉｉ）では、Ｑ^６はＯ及びＳから選択されてもよいへテロ原子であり、あるいはＱ^６はＯである。下付き文字ｇは０〜４、あるいは０〜３、あるいは０〜２、及びあるいは０〜１である。各Ａ^１９は、フェニル環の炭素原子に共有結合した置換基である。

一般式（ｉｉｉ）では、Ａ^１９はそれぞれ独立してハロゲン原子、一価の炭化水素基、及び一価のへテロ原子含有基から選択されてもよい。Ａ^１９に対する一価の炭化水素基の例としては、アルキル（Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシルなどの）；アルケニル（ビニル、アリール、プロペニル、及びヘキセニルなどの）；飽和炭素環式基によって例示される炭素環式基、例えば、シクロアルキル（シクロペンチル及びシクロヘキシルなどの）、又は不飽和炭素環式基（シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニルなどの）；アリール（Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチルなどの）；アラルキル（ベンジル又は２−フェニルエチルなどの）が挙げられるがこれに限定されない。あるいは、Ａ^１９はアルキル基（１〜４個の炭素原子のアルキル基などの）であってもよい。あるいは、Ａ^１９はＭｅ又はｔＢｕなどのＢｕであってもよい。あるいは、Ａ^１９はＰｈなどのアリール基であってもよい。あるいは、各Ａ^１９は２−フェニルメチル、２−メチルフェニル、又は３，５−ジメチルフェニルなどのアラルキル基であってもよい。

あるいは、Ａ^１９はそれぞれハロゲン化炭化水素基又はヒドロカーボンオキシ基などの一価のへテロ原子含有基であってもよい。Ａ^１９に対する一価のハロゲン化炭化水素基の例としては、ハロアルキル基（フッ素化アルキル基、例えば、ＣＦ_３、フルオロメチル、トリフルオロエチル、２−フルオロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、及び４，４，４−トリフルオロブチルなどの）；並びに塩素化アルキル基（クロロメチルなどの）が挙げられるがこれに限定されない。Ａ^１９に対するヒドロカーボンオキシ基の例としては、アルコキシ及びアラルキルオキシが挙げられる。アルコキシ基は、ＯＭｅ、ＯＥｔ、ＯＰｒ、及びＯＢｕ；あるいはＯＭｅによって例示される。アラルキルオキシ基は、フェニルメトキシ及びフェニルエトキシによって例示される。あるいは、一価のへテロ原子含有基は環内の炭素原子に結合した一つ以上の置換基を有するアリール基又はアラルキル基であってもよく、式中一つ以上の置換基はへテロ原子、例えば、上記のアラルキルオキシ、又は
などの基を含み、式中、^＊は、連結点を表す。

一般式（ｖｉｉｉ）では、Ａ^２０は水素原子及び一価の炭化水素基から選択される。Ａ^２０に対する一価の炭化水素基の例としては、アルキル（Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシルなどの）；アルケニル（ビニル、アリール、プロペニル、及びヘキセニルなどの）；飽和炭素環式基によって例示される炭素環式基、例えば、シクロアルキル（シクロペンチル及びシクロヘキシルなどの）、又は不飽和炭素環式基（シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニルなどの）；アリール（Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチルなどの）；アラルキル（ベンジル又は２−フェニルエチルなどの）が挙げられるがこれに限定されない。あるいは、Ａ^２０は、アルキル基（１〜４個の炭素原子のアルキル基などの）であってもよい。あるいは、Ａ^２０はＭｅであってもよい。あるいは、Ａ^２０は水素原子であってもよい。

一般式（ｖｉｉｉ）では、Ａ^２１は一価の炭化水素基、又は一価のへテロ原子含有基である。Ａ^２１に対する一価の炭化水素基の例としては、アルキル（Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシルなどの）；アルケニル（ビニル、アリール、プロペニル、及びヘキセニルなどの）；飽和炭素環式基によって例示される炭素環式基、例えば、シクロアルキル（シクロペンチル及びシクロヘキシルなどの）、又は不飽和炭素環式基（シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニルなどの）；アリール（Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチルなどの）；アラルキル（ベンジル又は２−フェニルエチルなどの）が挙げられるがこれに限定されない。あるいは、Ａ^２１はアルキル基（１〜４個の炭素原子のアルキル基などの）であってもよい。あるいは、Ａ^２１はＭｅ又はｔＢｕなどのＢｕであってもよい。あるいは、Ａ^２１は炭素環式基素であってもよい。あるいは、Ａ^２１はシクロヘキシルなどのシクロアルキル基であってもよい。あるいは、Ａ^２１はベンジルなどのアラルキル基であってもよい。あるいは、Ａ^２１は水素原子であってもよい。

Ａ^２１に対する一価のへテロ原子含有基の例としては、ハロゲン化炭化水素基又はヒドロカーボンオキシ基が挙げられる。Ａ^２１に対する一価のハロゲン化炭化水素基の例としては、ハロアルキル基（フッ素化アルキル基、例えば、ＣＦ_３、フルオロメチル、トリフルオロエチル、２−フルオロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、及び４，４，４−トリフルオロブチルなどの）；並びに塩素化アルキル基（クロロメチルなどの）が挙げられるがこれに限定されない。Ａ^２１に対するヒドロカーボンオキシ基の例としては、アルコキシ（ＯＭｅ、ＯＥｔ、ＯＰｒ、及びＯＢｕ；あるいはＯＭｅなどの）が挙げられる。

一般式（ｖｉｉｉ）では、Ａ^２２はそれぞれ独立して水素原子、一価の炭化水素基、及び一価のへテロ原子含有基から選択されてもよい。Ａ^２２に対する一価の炭化水素基の例としては、アルキル（Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシルなどの）；アルケニル（ビニル、アリール、プロペニル、及びヘキセニルなどの）；飽和炭素環式基によって例示される炭素環式基、例えば、シクロアルキル（シクロペンチル及びシクロヘキシルなどの）、又は不飽和炭素環式基（シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニルなどの）；アリール（Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチルなどの）；アラルキル（ベンジル又は２−フェニルエチルなどの）が挙げられるがこれに限定されない。あるいは、Ａ^２２はアルキル基（１〜４個の炭素原子のアルキル基など）であってもよい。あるいは、Ａ^２２はＭｅ又はｔＢｕなどのＢｕであってもよい。あるいは、Ａ^２２はＰｈなどのアリール基であってもよい。あるいは、各Ａ^２２はハロゲン原子、アルキル基、又はアリール基であってもよい。

あるいは、各Ａ^２２はハロゲン化炭化水素基又はヒドロカーボンオキシ基などの一価のへテロ原子含有基であってもよい。Ａ^２２に対する一価のハロゲン化炭化水素基の例としては、ハロアルキル基（フッ素化アルキル基及び塩素化アルキル基などの）が挙げられるがこれに限定されない。フッ素化アルキル基は、ＣＦ_３、フルオロメチル、トリフルオロエチル、２−フルオロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、及び４，４，４−トリフルオロブチル、あるいはＣＦ_３で例示される。塩素化アルキル基は、クロロメチルによって例示される。Ａ^２２に対するヒドロカーボンオキシ基の例としては、アルコキシ（ＯＭｅ、ＯＥｔ、ＯＰｒ、及びＯＢｕ；あるいはＯＭｅなどの）が挙げられる。

一般式（ｖｉｉｉ）では、Ａ^２３はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、一価の炭化水素基、及び一価のへテロ原子含有基から選択されてもよい。Ａ^２３に対するハロゲン原子の例としては、Ｂｒ、Ｃｌ、及びＦ；あるいはＢｒ及びＦ；あるいはＦが挙げられる。

Ａ^２３に対する一価の炭化水素基の例としては、アルキル（Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシルなどの）；アルケニル（ビニル、アリール、プロペニル、及びヘキセニルなどの）；飽和炭素環式基によって例示される炭素環式基、例えば、シクロアルキル（シクロペンチル及びシクロヘキシルなどの）、又は不飽和炭素環式基（シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニルなどの）；アリール（Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチルなどの）；アラルキル（ベンジル又は２−フェニルエチルなどの）が挙げられるがこれに限定されない。あるいは、Ａ^２３はアルキル基（１〜４個の炭素原子のアルキル基などの）であってもよい。あるいは、Ａ^２３はＭｅ又はｔＢｕなどのＢｕであってもよい。あるいは、Ａ^２３はＰｈなどのアリール基であってもよい。あるいは、各Ａ^２３はハロゲン原子、アルキル基、又はアリール基であってもよい。

あるいは、Ａ^２３はそれぞれハロゲン化炭化水素基又はヒドロカーボンオキシ基などの一価のへテロ原子含有基であってもよい。Ａ^２３に対する一価のハロゲン化炭化水素基の例としては、ハロアルキル基（フッ素化アルキル基及び塩素化アルキル基などの）が挙げられるがこれに限定されない。フッ素化アルキル基は、ＣＦ_３、フルオロメチル、トリフルオロエチル、２−フルオロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、及び４，４，４−トリフルオロブチル、あるいはＣＦ_３で例示される。塩素化アルキル基は、クロロメチルによって例示される。Ａ^２３に対するヒドロカーボンオキシ基の例としては、アルコキシ（ＯＭｅ、ＯＥｔ、ＯＰｒ、及びＯＢｕ；あるいはＯＭｅなどの）が挙げられる。一般式（ｖｉｉｉ）の配位子の例としては、表１の配位子３１、３２、３３、３５、３６、及び３７が挙げられる。

あるいは、配位子は一般式（ｉｘ）：
を有してもよい。

一般式（ｉｘ）では、Ｑ^７はＯ及びＳから選択されてもよいへテロ原子であり、あるいはＱ^７はＯである。下付き文字ｈは０〜４、あるいは０〜３、あるいは０〜２、及びあるいは０〜１である。各Ａ^２４は、フェニル環の炭素原子に共有結合する置換基である。

一般式（ｉｘ）では、Ａ^２４はそれぞれ独立して一価の炭化水素基である。Ａ^２４に対する一価の炭化水素基の例としては、アルキル（Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシルなどの）；アルケニル（ビニル、アリール、プロペニル、及びヘキセニルなどの）；飽和炭素環式基によって例示される炭素環式基、例えば、シクロアルキル（シクロペンチル及びシクロヘキシルなどの）、又は不飽和炭素環式基（シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニルなどの）；アリール（Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチルなどの）；アラルキル（ベンジル又は２−フェニルエチルなどの）が挙げられるがこれに限定されない。あるいは、Ａ^２４はアルキル基（１〜４個の炭素原子のアルキル基などの）であってもよい。あるいは、Ａ^２４はＭｅ又はｔＢｕなどのＢｕであってもよい。あるいは、Ａ^２４はＰｈ又はナフチルなどのアリール基であってもよい。あるいは、各Ａ^２４は２−フェニルメチル、２−メチルフェニル、３，５−ジメチルフェニル、又は２，４，６−トリメチルフェニルなどのアラルキル基であってもよい。

一般式（ｉｘ）では、Ａ^２５は水素原子又は一価の炭化水素基である。Ａ^２５に対する一価の炭化水素基の例としては、アルキル（Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシルなどの）；アルケニル（ビニル、アリール、プロペニル、及びヘキセニルなどの）；飽和炭素環式基によって例示される炭素環式基、例えば、シクロアルキル（シクロペンチル及びシクロヘキシルなどの）、又は不飽和炭素環式基（シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニルなどの）；アリール（Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチルなどの）；アラルキル（ベンジル又は２−フェニルエチルなど）が挙げられるがこれに限定されない。あるいは、Ａ^２５はアルキル基（１〜４個の炭素原子のアルキル基などの）であってもよい。あるいは、Ａ^２５はＭｅであってもよい。あるいは、Ａ^２５は水素原子であってもよい。

一般式（ｉｘ）では、Ａ^２６は水素原子、一価の炭化水素基、又は一価のへテロ原子含有基から選択されてもよい。Ａ^２６に対する一価の炭化水素基の例としては、アルキル（Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシルなどの）；アルケニル（ビニル、アリール、プロペニル、及びヘキセニルなどの）；飽和炭素環式基によって例示される炭素環式基、例えば、シクロアルキル（シクロペンチル及びシクロヘキシルなどの）、又は不飽和炭素環式基（シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニルなどの）；アリール（Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチルなどの）；アラルキル（ベンジル又は２−フェニルエチルなどの）が挙げられるがこれに限定されない。あるいは、Ａ^２６はアルキル基（１〜４個の炭素原子のアルキル基などの）であってもよい。あるいは、Ａ^２６はＭｅ又はｔＢｕなどのＢｕであってもよい。あるいは、Ａ^２６は炭素環式基素であってもよい。あるいは、Ａ^２６はシクロヘキシルなどのシクロアルキル基であってもよい。あるいは、Ａ^２６はベンジルなどのアラルキル基であってもよい。あるいは、Ａ^２６は水素原子であってもよい。

一般式（ｉｘ）では、Ａ^２７はＡ^２７が芳香族官能性を含まなくてよく、一価の炭化水素基、又は一価のへテロ原子含有基から選択される。Ａ^２７に対する一価の炭化水素基の例としては、アルキル（Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシルなどの）；アルケニル（ビニル、アリール、プロペニル、及びヘキセニルなどの）；飽和炭素環式基によって例示される炭素環式基、例えば、シクロアルキル（シクロペンチル及びシクロヘキシルなどの）、又は不飽和炭素環式基（シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニルなどの）が挙げられるがこれに限定されない。あるいは、Ａ^２７はアルキル基（１〜４個の炭素原子のアルキル基などの）であってもよい。あるいは、Ａ^２７はＭｅ又はｔＢｕなどのＢｕであってもよい。あるいは、Ａ^２７は炭素環式基素であってもよい。あるいは、Ａ^２７はシクロヘキシルなどのシクロアルキル基であってもよい。一般式（ｉｘ）の配位子の例としては、表１の配位子２７、２８、２９、及び３０が挙げられる。

あるいは、配位子は、一般式（ｘ）：

一般式（ｘ）では、Ｑ^８はＯ及びＳから選択されてもよいへテロ原子であり、あるいはＱ^８はＯである。下付き文字ｉは０〜４、あるいは０〜３、あるいは０〜２、及びあるいは０〜１である。各Ａ^２８はフェニル環の炭素原子に共有結合する置換基である。

一般式（ｉｘ）では、Ａ^２８はそれぞれ独立して一価の炭化水素基である。Ａ^２８に対する一価の炭化水素基の例としては、アルキル（Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシルなどの）；アルケニル（ビニル、アリール、プロペニル、及びヘキセニルなどの）；飽和炭素環式基によって例示される炭素環式基、例えば、シクロアルキル（シクロペンチル及びシクロヘキシルなどの）、又は不飽和炭素環式基（シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニルなどの）；アリール（Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチルなどの）；アラルキル（ベンジル又は２−フェニルエチルなどの）が挙げられるがこれに限定されない。あるいは、Ａ^２８はアルキル基（１〜４個の炭素原子のアルキル基などの）であってもよい。あるいは、Ａ^２８はＭｅ又はｔＢｕなどのＢｕであってもよい。あるいは、Ａ^２８はＰｈ又はナフチルなどのアリール基であってもよい。

一般式（ｘ）では、Ａ^２９は一価の炭化水素基である。Ａ^２９に対する一価の炭化水素基の例としては、アルキル（Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシルなどの）；アルケニル（ビニル、アリール、プロペニル、及びヘキセニルなどの）；飽和炭素環式基によって例示される炭素環式基、例えば、シクロアルキル（シクロペンチル及びシクロヘキシルなどの）、又は不飽和炭素環式基（シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニルなどの）；アリール（Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチルなどの）；アラルキル（ベンジル又は２−フェニルエチルなどの）が挙げられるがこれに限定されない。あるいは、Ａ^２９はアルキル基（１〜４個の炭素原子のアルキル基などの）であってもよい。あるいは、Ａ^２９はＭｅであってもよい。

一般式（ｘ）では、Ａ^３０は水素原子、一価の炭化水素基、又は一価のへテロ原子含有基から選択される。Ａ^３０に対する一価の炭化水素基の例としては、アルキル（Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシルなどの）；アルケニル（ビニル、アリール、プロペニル、及びヘキセニルなどの）；飽和炭素環式基によって例示される炭素環式基、例えば、シクロアルキル（シクロペンチル及びシクロヘキシルなどの）、又は不飽和炭素環式基（シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニルなどの）；アリール（Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチルなどの）；アラルキル（ベンジル又は２−フェニルエチルなどの）が挙げられるがこれに限定されない。あるいは、Ａ^３０は炭素環式基素であってもよい。あるいは、Ａ^３０はシクロヘキシルなどのシクロアルキル基であってもよい。あるいは、Ａ^３０はＰｈなどのアリール基であってもよい。あるいは、Ａ^３０はベンジルなどのアラルキル基であってもよい。

あるいは、Ａ^３０はハロゲン化炭化水素基又はヒドロカーボンオキシ基などの一価のへテロ原子含有基であってもよい。Ａ^３０に対する一価のハロゲン化炭化水素基の例としては、ハロアルキル基（フッ素化アルキル基及び塩素化アルキル基などの）が挙げられるがこれに限定されない。フッ素化アルキル基は、ＣＦ_３、フルオロメチル、トリフルオロエチル、２−フルオロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、及び４，４，４−トリフルオロブチル、あるいはＣＦ_３で例示される。塩素化アルキル基は、クロロメチルによって例示される。Ａ^３０に対するヒドロカーボンオキシ基の例としては、アルコキシ及びアラルキルオキシが挙げられる。アルコキシ基は、ＯＭ、ＯＥｔ、ＯＰｒ、及びＯＢｕ；あるいはＯＭｅによって例示される。アラルキルオキシ基は、フェニルメトキシ及びフェニルエトキシによって例示される。あるいは、一価のへテロ原子含有基は環内の炭素原子に結合した一つ以上の置換基を有するアリール基又はアラルキル基であってもよく、式中、一つ以上の置換基はへテロ原子、例えば、上記のアラルキルオキシ、又は
などの基を含み、式中、^＊は連結点を表す。一般式（ｘ）の例示的な配位子としては、表１の配位子３８、３９、及び４０が挙げられる。

あるいは、配位子は、一般式（ｘｉ）：

一般式（ｘｉ）では、下付き文字ｊは０〜４、あるいは０〜３、あるいは０〜２、及びあるいは０〜１である。各Ａ^３１は、フェニル環の炭素原子に共有結合する置換基である。

一般式（ｘｉ）では、Ａ^３１はそれぞれ独立して一価の炭化水素基、及び一価のへテロ原子含有基から選択されてもよい。Ａ^３１に対する一価の炭化水素基の例としては、アルキル（Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシルなどの）；アルケニル（ビニル、アリール、プロペニル、及びヘキセニルなどの）；飽和炭素環式基によって例示される炭素環式基、例えば、シクロアルキル（シクロペンチル及びシクロヘキシルなどの）、又は不飽和炭素環式基（シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニルなどの）；アリール（Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチルなどの）；アラルキル（ベンジル又は２−フェニルエチルなどの）が挙げられるがこれに限定されない。あるいは、Ａ^３１はＰｈなどのアリール基であってもよい。あるいは、Ａ^３１はベンジルなどのアラルキル基であってもよい。

あるいは、Ａ^３１はハロゲン化炭化水素基又はヒドロカーボンオキシ基などの一価のへテロ原子含有基であってもよい。Ａ^３１に対する一価のハロゲン化炭化水素基の例としては、ハロアルキル基（フッ素化アルキル基及び塩素化アルキル基などの）が挙げられるがこれに限定されない。フッ素化アルキル基は、ＣＦ_３、フルオロメチル、トリフルオロエチル、２−フルオロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、及び４，４，４−トリフルオロブチル、あるいはＣＦ_３で例示される。塩素化アルキル基は、クロロメチルによって例示される。Ａ^３１に対するヒドロカーボンオキシ基の例としては、アルコキシ及びアラルキルオキシが挙げられる。アルコキシ基は、ＯＭ、ＯＥｔ、ＯＰｒ、及びＯＢｕ；あるいはＯＭｅによって例示される。アラルキルオキシ基は、フェニルメトキシ及びフェニルエトキシによって例示される。あるいは、一価のへテロ原子含有基は環内の炭素原子に結合した一つ以上の置換基を有するアリール基又はアラルキル基であってもよく、式中、一つ以上の置換基はへテロ原子、例えば、上記のアラルキルオキシ、又は
などの基を含み、式中、^＊は連結点を表す。

一般式（ｘｉ）では、Ａ^３２はアルキル基又は炭素環式基である。Ａ^３２に対する適切なアルキル基としては、Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、ヘキシル、オクチル、又は５個から８個の炭素原子の分枝状アルキル基が挙げられるがこれに限定されない。Ａ^３２に対する適切な炭素環式基は、飽和炭素環式基、例えば、シクロアルキル（シクロペンチル及びシクロヘキシルなどの）によって例示される。あるいは、Ａ^３２は、４個から１２個の炭素原子の、あるいは４個から８個の炭素原子のアルキル基などのアルキル基であってもよい。

一般式（ｘｉ）では、Ａ^３３は水素原子又は一価の炭化水素基である。Ａ^３３に対する一価の炭化水素基の例としては、アルキル（Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシルなどの）；アルケニル（ビニル、アリール、プロペニル、及びヘキセニルなどの）；飽和炭素環式基によって例示される炭素環式基、例えば、シクロアルキル（シクロペンチル及びシクロヘキシルなどの）、又は不飽和炭素環式基（シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニルなどの）が挙げられるがこれに限定されない。あるいは、Ａ^３３は炭素環式基素であってもよい。あるいは、Ａ^３３はシクロヘキシルなどのシクロアルキル基であってもよい。一般式（ｘｉ）の例示的な配位子としては、表１の配位子５及び２６が挙げられる。

あるいは、配位子は一般式（ｘｉｉ）：

一般式（ｘｉｉ）では、各下付き文字ｋ及び各下付き文字ｍは、それぞれ独立して０〜４、あるいは０〜３、あるいは０〜２、及びあるいは０〜１である。あるいは、下付き文字ｋ及び下付き文字ｍはそれぞれ０であってもよい。各Ｑ^１０及びＱ^９は、それぞれ独立してＯ及びＳ、あるいはＯから選択されるへテロ原子である。各Ａ^３４はフェニル環内で炭素原子に共有結合する置換基である。

一般式（ｘｉｉ）では、Ａ^３４は一価の炭化水素基及び一価のへテロ原子含有基からそれぞれ独立して選択される。Ａ^３４に対する一価の炭化水素基の例としては、アルキル（Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシルなどの）；アルケニル（ビニル、アリール、プロペニル、及びヘキセニルなどの）；飽和炭素環式基によって例示される炭素環式基、例えば、シクロアルキル（シクロペンチル及びシクロヘキシルなどの）、又は不飽和炭素環式基（シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニルなどの）；アリール（Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチルなどの）；アラルキル（ベンジル又は２−フェニルエチルなどの）が挙げられるがこれに限定されない。あるいは、Ａ^３４はＭｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、又はＢｕ；あるいはＭｅ又はＢｕなどのアルキル基であってもよい。

あるいは、Ａ^３４はハロゲン化炭化水素基又はヒドロカーボンオキシ基などの一価のへテロ原子含有基であってもよい。Ａ^３４に対する一価のハロゲン化炭化水素基の例としては、ハロアルキル基（フッ素化アルキル基及び塩素化アルキル基などの）が挙げられるがこれに限定されない。フッ素化アルキル基は、ＣＦ_３、フルオロメチル、トリフルオロエチル、２−フルオロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、及び４，４，４−トリフルオロブチル、あるいはＣＦ_３で例示される。塩素化アルキル基は、クロロメチルによって例示される。Ａ^３４に対するヒドロカーボンオキシ基の例としては、アルコキシ（ＯＭｅ、ＯＥｔ、ＯＰｒ、及びＯＢｕ；あるいはＯＭｅなどの）が挙げられる。一般式（ｘｉｉ）の配位子の例としては、表１の配位子４１が挙げられる。

あるいは、配位子は、一般式（ｘｉｉｉ）：
を有してもよい。

一般式（ｘｉｉｉ）では、下付き文字ｎは０〜４、あるいは０〜３、あるいは０〜２、及びあるいは０〜１である。Ｑ^１１は、それぞれ独立してＯ及びＳ、あるいはＯから選択されるへテロ原子である。Ａ^３５はそれぞれフェニル環内で炭素原子に共有結合する置換基である。

一般式（ｘｉｉｉ）では、Ａ^３５はそれぞれ独立して一価の炭化水素基、及び一価のへテロ原子含有基から選択されてもよい。Ａ^３５に対する一価の炭化水素基の例としては、アルキル（Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシルなどの）；アルケニル（ビニル、アリール、プロペニル、及びヘキセニルなどの）；飽和炭素環式基によって例示される炭素環式基、例えば、シクロアルキル（シクロペンチル及びシクロヘキシルなどの）、又は不飽和炭素環式基（シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニルなどの）；アリール（Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチルなどの）；アラルキル（ベンジル又は２−フェニルエチルなどの）が挙げられるがこれに限定されない。あるいは、Ａ^３５はＭｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、又はＢｕ；あるいはＭｅ又はＢｕなどのアルキル基であってもよい。

あるいは、Ａ^３５はハロゲン化炭化水素基又はヒドロカーボンオキシ基などの一価のへテロ原子含有基であってもよい。Ａ^３５に対する一価のハロゲン化炭化水素基の例としては、ハロアルキル基（フッ素化アルキル基及び塩素化アルキル基などの）が挙げられるがこれに限定されない。フッ素化アルキル基は、ＣＦ_３、フルオロメチル、トリフルオロエチル、２−フルオロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、及び４，４，４−トリフルオロブチル、あるいはＣＦ_３で例示される。塩素化アルキル基は、クロロメチルによって例示される。Ａ^３５に対するヒドロカーボンオキシ基の例としては、アルコキシ（ＯＭｅ、ＯＥｔ、ＯＰｒ、及びＯＢｕ；あるいはＯＭｅなどの）が挙げられる。

一般式（ｘｉｉｉ）では、各Ａ^３６は一価の炭化水素基である。Ａ^３６に対する一価の炭化水素基の例としては、１０個から２０個の炭素原子のアルキル基；アルケニル（ヘキセニルなどの）；飽和炭素環式基によって例示される炭素環式基、例えば、シクロアルキル（シクロペンチル及びシクロヘキシルなどの）、又は不飽和炭素環式基（シクロオクタジエニルなどの）；アリール（Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチルなどの）；アラルキル（ベンジル又は２−フェニルエチルなどの）が挙げられるがこれに限定されない。あるいは、Ａ^３６は１０個から２０個の炭素原子、あるいは１２個から１８個の炭素原子アルキル基であってもよい。一般式（ｘｉｉｉ）の配位子の例としては、表１の配位子４２が挙げられる。

あるいは、配位子は一般式（ｘｉｖ）：
を有してもよい。

一般式（ｘｉｖ）では、Ａ^３８、Ａ^３９、Ａ^４０、及びＡ^４１はそれぞれ独立して一価の炭化水素基及び一価のへテロ原子含有基から選択されてもよい。Ａ^３８、Ａ^３９、Ａ^４０、及びＡ^４１に対する一価の炭化水素基の例としては、アルキル（Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシルなどの）；アルケニル（ビニル、アリール、プロペニル、及びヘキセニルなどの）；飽和炭素環式基によって例示される炭素環式基、例えば、シクロアルキル（シクロペンチル及びシクロヘキシルなどの）、又は不飽和炭素環式基（シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニルなどの）；アリール（Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチルなどの）；アラルキル（ベンジル又は２−フェニルエチルなどの）が挙げられるがこれに限定されない。あるいは、Ａ^３８、Ａ^３９、Ａ^４０、かつ／又はＡ^４１はアルキル基（１〜４個の炭素原子のアルキル基などの）であってもよい。あるいは、Ａ^３８、Ａ^３９、Ａ^４０、かつ／又はＡ^４１は、Ｍｅ又はｔＢｕなどのＢｕであってもよい。あるいは、Ａ^３８、Ａ^３９、Ａ^４０、かつ／又はＡ^４１は、Ｐｈなどのアリール基であってもよい。あるいは、Ａ^３８、Ａ^３９、Ａ^４０、かつ／又はＡ^４１はそれぞれハロゲン原子、アルキル基、又はアリール基であってもよい。

あるいは、Ａ^３８、Ａ^３９、Ａ^４０、かつ／又はＡ^４１はハロゲン化炭化水素基又はヒドロカーボンオキシ基などの一価のへテロ原子含有基であってもよい。適切な一価のハロゲン化炭化水素基の例としては、ハロアルキル基（フッ素化アルキル基、例えば、ＣＦ_３、フルオロメチル、トリフルオロエチル、２−フルオロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、及び４，４，４−トリフルオロブチルなどの）；並びに塩素化アルキル基（クロロメチルなどの）が挙げられるがこれに限定されない。適切なヒドロカーボンオキシ基の例としては、アルコキシ（ＯＭｅ、ＯＥｔ、ＯＰｒ、及びＯＢｕ；あるいはＯＭｅなどの）が挙げられる。

あるいは、Ａ^３８、Ａ^３９、Ａ^４０、かつ／又はＡ^４１のうちの二つ以上はともに環状基内に結合されてもよい。例えば、Ａ^３８、Ａ^３９、Ａ^４０、及びＡ^４１のうちの二つ以上は、ともに複素環式基又は複素環式芳香族基を形成するように結合されてもよい。一般式（ｘｉｖ）の配位子の例としては、表１の配位子４３が挙げられる。

あるいは、配位子は一般式（ｘｖ）：
を有してもよい。

一般式（ｘｖ）では、Ｑ^１２はＯ及びＳから選択されてもよいへテロ原子であり、かつあるいはＱ^１２はＳである。下付き文字ｏは０〜５、あるいは０〜４、あるいは０〜３、あるいは０〜２、及びあるいは０〜１である。各Ａ^４２は、フェニル環の炭素原子に共有結合する置換基である。

一般式（ｘｖ）では、Ａ^４２はそれぞれ独立して一価の炭化水素基、及び一価のへテロ原子含有基から選択されてもよい。Ａ^４２に対する一価の炭化水素基の例としては、アルキル（Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシルなどの）；アルケニル（ビニル、アリール、プロペニル、及びヘキセニルなどの）；飽和炭素環式基によって例示される炭素環式基、例えば、シクロアルキル（シクロペンチル及びシクロヘキシルなどの）、又は不飽和炭素環式基（シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニルなどの）；アリール（Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチルなどの）；アラルキル（ベンジル又は２−フェニルエチルなどの）が挙げられるがこれに限定されない。あるいは、Ａ^４２は、Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、又はＢｕ；あるいはＭｅなどのアルキル基であってもよい。

あるいは、Ａ^４２はハロゲン化炭化水素基又はヒドロカーボンオキシ基などの一価のへテロ原子含有基であってもよい。Ａ^４２に対する一価のハロゲン化炭化水素基の例としては、ハロアルキル基（フッ素化アルキル基及び塩素化アルキル基などの）が挙げられるがこれに限定されない。フッ素化アルキル基は、ＣＦ_３、フルオロメチル、トリフルオロエチル、２−フルオロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、及び４，４，４−トリフルオロブチル、あるいはＣＦ_３で例示される。塩素化アルキル基は、クロロメチルによって例示される。Ａ^４２に対するヒドロカーボンオキシ基の例としては、アルコキシ，（ＯＭｅ、ＯＥｔ、ＯＰｒ、及びＯＢｕ；あるいはＯＭｅ，などの）が挙げられる。

一般式（ｘｖ）では、Ａ^４３はそれぞれ独立して水素原子、一価の炭化水素基、及び一価のへテロ原子含有基から選択されてもよい。Ａ^４３に対する一価の炭化水素基の例としては、アルキル（Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシルなどの）；アルケニル（ビニル、アリール、プロペニル、及びヘキセニルなどの）；飽和炭素環式基によって例示される炭素環式基、例えば、シクロアルキル（シクロペンチル及びシクロヘキシルなどの）、又は不飽和炭素環式基（シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニルなどの）；アリール（Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチルなどの）；アラルキル（ベンジル又は２−フェニルエチルなどの）が挙げられるがこれに限定されない。あるいは、Ａ^４３はＭｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、又はＢｕ；あるいはｎＢｕなどのＢｕであってもよい。

あるいは、Ａ^４３はハロゲン化炭化水素基又はヒドロカーボンオキシ基などの一価のへテロ原子含有基であってもよい。Ａ^４３に対する一価のハロゲン化炭化水素基の例としては、ハロアルキル基（フッ素化アルキル基及び塩素化アルキル基など）が挙げられるがこれに限定されない。フッ素化アルキル基は、ＣＦ_３、フルオロメチル、トリフルオロエチル、２−フルオロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、及び４，４，４−トリフルオロブチル、あるいはＣＦ_３で例示される。塩素化アルキル基は、クロロメチルによって例示される。Ａ^４３に対するヒドロカーボンオキシ基の例としては、アルコキシ（ＯＭｅ、ＯＥｔ、ＯＰｒ、及びＯＢｕ；あるいはＯＭｅなど）が挙げられる。

一般式（ｘｖ）では、Ａ^４４はそれぞれ独立して一価の炭化水素基、及び一価のへテロ原子含有基から選択されてもよい。Ａ^４４に対する一価の炭化水素基の例としては、アルキル（Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシルなど）；アルケニル（ビニル、アリール、プロペニル、及びヘキセニルなど）；飽和炭素環式基によって例示される炭素環式基、例えば、シクロアルキル（シクロペンチル及びシクロヘキシルなど）、又は不飽和炭素環式基（シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニルなど）；アリール（Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチルなど）；アラルキル（ベンジル又は２−フェニルエチルなど）が挙げられるがこれに限定されない。あるいは、Ａ^４４はＰｈなどのアリール基であってもよい。あるいは、Ａ^４４はベンジル、２−フェニルエチル、４−フェニルブチル、又は４−ブチルフェニルなどのアラルキル基であってもよい。

あるいは、Ａ^４４はハロゲン化炭化水素基又はヒドロカーボンオキシ基などの一価のへテロ原子含有基であってもよい。Ａ^４４に対する一価のハロゲン化炭化水素基の例としては、ハロアルキル基（フッ素化アルキル基及び塩素化アルキル基などの）が挙げられるがこれに限定されない。フッ素化アルキル基は、ＣＦ_３、フルオロメチル、トリフルオロエチル、２−フルオロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、及び４，４，４−トリフルオロブチル、あるいはＣＦ_３で例示される。塩素化アルキル基は、クロロメチルによって例示される。Ａ^４４に対するヒドロカーボンオキシ基の例としては、アルコキシ及びアラルキルオキシが挙げられる。アルコキシ基は、ＯＭ、ＯＥｔ、ＯＰｒ、及びＯＢｕ；あるいはＯＭｅによって例示される。アラルキルオキシ基は、フェニルメトキシ及びフェニルエトキシによって例示される。あるいは、一価のへテロ原子含有基は環内の炭素原子に結合した一つ以上の置換基を有するアリール基又はアラルキル基であってもよく、式中、一つ以上の置換基はへテロ原子、例えば、上記のアラルキルオキシ、又は
などの基を含み、式中、^＊は連結点を表す。一般式（ｘｖ）の配位子の例としては、表１の配位子２３が挙げられる。

適切な配位子の中性の形態は表１に示される。

（表１の続き）

（表１の続き）

（表１の続き）

（表１の続き）

（表１の続き）

（表１の続き）

（表１の続き）

表１の様々な配位子は、市販されている。例えば、配位子６及び１１は、Ｓｉｇｍａ−Ａｌｄｒｉｃｈ，Ｉｎｃ．（米国、ミズーリ州、Ｓｔ．Ｌｏｕｉｓ）からそれぞれ市販されている。配位子４１は、２，２’−ジヒドロキシベンゾフェノンであり、かつ配位子４３は、１，１，３，３−テトラメチルグアニジンであり、両者ともＳｉｇｍａ−Ａｌｄｒｉｃｈ，Ｉｎｃ．から市販されている。配位子１３は、Ａｍｂｉｎｔｅｒ（フランス、パリ）から市販されている。配位子１９は、Ｉｎｔｅｒｃｈｉｍ、Ｉｎｃ．（米国、カリフォルニア州、サン・ペドロ）から市販されている。配位子４２は、ステアロイルベンゾイルメタンであり、ＩＳ Ｔｅｃｈ．から市販されている。

成分（Ａ）を調製するために使用される配位子は、表１に示される配位子であってもよく、あるいは、配位子は、上記の表１に示される配位子１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０、２１、２２、２３、２４、２５、２６、２７、２８、２９、３０、３１、３２、３３、３４、３５、３６、３７、３８、３９、及び４０から成る群から選択されてもよい。あるいは、配位子は、上記の表１に示される１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０、２１、２２、２３、２４、２５、２６、２７、２８、２９、３０、３１、３２、３３、３４、３５、３６、３７、３８、３９、及び４０から成る群から選択されてもよい。あるいは、配位子は、上記の表１に示される配位子６、９、２３、２８、２９、３１、３２、３３、３５、３６、及び３８から成る群から選択されてもよい。あるいは、配位子は、上記の表１に示される配位子９であってもよい。

あるいは、配位子は、化学的に類似の配位子（すなわち、類似の構造を有する）の群から選択されてもよい。例えば、配位子は、上記の表１に示される配位子１〜４並びに６、７、９、１０、１３、１４、及び１７〜１９から成る群から選択されてもよく、あるいは、配位子は、配位子２１及び２２から成る群から選択されてもよい。あるいは、配位子は、配位子２３であってもよい。あるいは、配位子は、配位子５及び２６からなる群から選択されてもよい。あるいは、配位子は、配位子２７〜３０、及び３４からなる群から選択されてもよい。あるいは、配位子は、配位子３１〜３３、３５、及び３６からなる群から選択されてもよい。あるいは、配位子は、配位子３８〜４０からなる群から選択されてもよい。あるいは、配位子は、配位子８、１５、１６、及び２０からなる群から選択されてもよい。あるいは、配位子は、配位子１１及び３７からなる群から選択されてもよい。あるいは、配位子は、配位子２４及び２５からなる群から選択されてもよい。あるいは、配位子は、配位子１２であってもよい。

あるいは、配位子は、前駆体の選択を含む様々な要因に依存して選択されてもよい。例えば、前駆体がメシチル銅などのアリール銅化合物であるとき、配位子は配位子６、１０、１２、２３、２８、２９、３１、３２、３３、３５、及び３６からなる群から選択されてもよい。あるいは、前駆体が銅のエステルのとき、配位子は配位子１、２、３、４、５、６、７、８、９、１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０、２１、２２、２４、２５、２６、２７、２８、２９、３０、３１、３２、３３、３４、３５、３６、３７、３８、３９、及び４０からなる群から選択されてもよい。

成分（Ａ）は、上記のように配位子及びＣｕ前駆体を反応させ、これによってＣｕ−配位子錯体を含む触媒活性反応生成物を形成することを含む方法によって調製されてもよい。方法は、所望により、Ｃｕ前駆体と配位子とを混合する前に、更にＣｕ前駆体、若しくは配位子のいずれか、又は両方を溶媒中に溶解する工程を含んでもよい。適切な溶媒は、以下に成分（Ｓ）を記述したものによって例示される。あるいは、配位子は、容器内の溶媒中に溶解されてもよく、溶媒は、その後Ｃｕ前駆体を配位子とともに容器に加える前に除去されてもよい。配位子及びＣｕ前駆体の量は、Ｃｕ前駆体に対する配位子のモル比（配位子：金属比）が１０：１〜１：１０、あるいは１：１〜３：１、及びあるいは１：１〜２：１となるように選択される。Ｃｕ前駆体と配位子とを混合することは、これらをともに容器内で混合する、又は容器を振盪するなどの任意の都合の良い手段によって実行されてもよい。

Ｃｕ前駆体と配位子との反応は、Ｃｕ前駆体と配位子とが２５℃の室温（ＲＴ）で一定期間、又は加熱することによって反応するように上記のように準備できるようにするなどの、任意の都合の良い手段によって行われてもよい。加熱は、加熱マントル、加熱コイル、又は容器を炉内に置くことによるなどの任意の都合の良い手段によって行われてもよい。反応温度は、特定のＣｕ前駆体と選択された配位子との反応性、及び配位子：金属の比を含む様々な要因によるが、温度は、２５℃〜２００℃、あるいは２５℃〜７５℃の範囲であってもよい。反応時間は、選択された反応温度を含む様々な要因によるが、反応時間は、１分から４８時間、あるいは４５分〜６０分の範囲であってもよい。配位子及びＣｕ前駆体は、混合され、順次加熱されてもよい。あるいは、配位子及びＣｕ前駆体は、混合され、同時に加熱されてもよい。

成分（Ａ）の触媒活性反応生成物を調製する方法は、反応後に溶媒を添加することを所望により更に含んでもよい。適切な溶媒は、以下に成分（Ｓ）を記述したものによって例示される。あるいは、方法は、所望により、反応副産物かつ／又は溶媒が存在する場合（例えば、加熱の前又は加熱中に、Ｃｕ前駆体と配位子の混合を容易にするために使用される）溶媒を除去することを更に含む。副産物としては、例えば、Ｈ−Ａ（式中Ａは、上記一般式（ｉ）に対して定義される）又は配位子がＣｕ前駆体と反応するときにＣｕ前駆体から有機基を反応させて取り出す結果もたらされる任意の化学種が挙げられる。副産物は、加熱又は真空下によるストリッピング若しくは蒸留又はこれらの組み合わせなどの任意の都合の良い手段によって除去されてもよい。結果として得られる、単離されたＣｕ配位子錯体は、成分（Ａ）の触媒的に活性の反応生成物として使用される場合がある。

あるいは、あるいは触媒活性反応生成物を成分（Ａ）として使用する前には、反応副産物は、除去されない。例えば、配位子及びＣｕ前駆体は、上記したように溶媒の除去により、又は除去せずに反応する場合があり、結果として得られる触媒活性反応生成物（Ｃｕ−配位子錯体及び反応副産物及び所望により溶媒又は希釈剤を含む）は、成分（Ａ）として使用されてもよい。理論に束縛されるものではないが、副産物は、Ｃｕ−配位子錯体に加えて縮合反応触媒として、又はＣｕ−配位子錯体のための共触媒若しくは活性剤として反応する場合があると考えられる。したがって、反応生成物は、縮合反応を触媒する場合がある。

組成物は、一つの単一触媒を含有してもよい。あるいは、組成物は、成分（Ａ）として上記の二つ以上の触媒を含んでもよく、ここで二つ以上の触媒は、配位子の選択、前駆体の選択、配位子：金属比、及び一般式（ｉ）での基Ａに対する定義などの少なくとも一つの特性について異なる。組成物はスズ触媒を含まない場合があり、あるいは組成物はチタン触媒を含まない場合があり、あるい組成物は、スズ触媒を含まずかつチタン触媒を含まない場合がある。あるいは、組成物は、成分（Ａ）以外の成分（Ｂ）の加水分解性基の縮合反応を触媒することになるいかなるＣｕ化合物も含まない場合がある。あるいは、組成物は、成分（Ａ）以外の金属縮合反応触媒を含まない場合がある。あるいは、組成物は、成分（Ａ）以外の成分（Ｂ）の加水分解性基の縮合反応を触媒することになる、いかなる成分も含まない場合がある。

成分（Ａ）は、組成物内に触媒として有効な量存在する。正確な量は、成分（Ａ）の反応性、成分（Ｂ）の種類及び量、及び存在する場合、任意の追加の成分の種類及び量を含む様々な要因に依存する。しかしながら、組成物中の成分（Ａ）の量は、組成物中の全ての成分の総重量に基づいて、１百万分率（ｐｐｍ）から５％、あるいは０．１％〜２％、そして、あるいは１ｐｐｍから１％、の範囲であってもよい。

成分（Ｂ）は、ケイ素含有ベースポリマー（ベースポリマー）である。成分（Ｂ）は、１分子当たり平均で１個以上の、共有結合した加水分解性置換基を有するポリマー主鎖を含む。あるいは、一つ以上の加水分解置換基は、加水分解シリル置換基である。ポリマー主鎖は、ポリオルガノシロキサン（ポリジオルガノシロキサン、有機ポリマー主鎖、又はシリコーン−有機コポリマー主鎖（ポリマー主鎖内の原子に共有結合する一つ以上の加水分解シリル置換基を有する）などの）から選択される場合がある。あるいは、成分（Ｂ）のポリマー主鎖は、ポリオルガノシロキサン主鎖又は有機主鎖であり得る。あるいは、成分（Ｂ）のポリマー主鎖は、ポリオルガノシロキサン主鎖であり得る。加水分解性置換基は、水素原子、ハロゲン原子、アミド基（アセトアミド基、ベンズアミド基、又はメチルアセトアミド基などの）、アシルオキシ基（アセトキシ基などの）、ハイドロカーボンオキシ基（アルコキシ基又はアルケニルオキシ基などの）、アミノ基、アミノキシ基、水酸基、メルカプト基、オキシモ基、ケトキシモ（ketoximo）基、アルコキシシリルヒドロカルビレン基、又はこれらの組み合わせによって例示される。あるいは、成分（Ｂ）は、１分子当たり平均で２個以上の加水分解性置換基を有し得る。成分（Ｂ）中の加水分解性置換基は、ポリマー主鎖上の末端位置、側鎖位置又は末端位置と側鎖位置の両方に位置し得る。あるいは、成分（Ｂ）中の加水分解性置換基は、ポリマー主鎖上の一つ以上の末端位置に位置し得る。成分（Ｂ）は、直鎖、側鎖、環状又は樹脂性構造を含み得る。あるいは、成分（Ｂ）は、直鎖、側鎖、又は環状構造を含み得る。あるいは、成分（Ｂ）は、直鎖又は側鎖構造を含み得る。あるいは、成分（Ｂ）は、直鎖構造を含み得る。あるいは、成分（Ｂ）は、直鎖構造及び樹脂状構造を含み得る。成分（Ｂ）は、ホモポリマー又はコポリマー又はこれらの組み合わせを含み得る。

成分（Ｂ）は、式（ｉｉ）：
の基の中に含有される加水分解性置換基を有してもよく、
式中、各Ｄは、酸素原子、二価の有機基、二価のシリコーン有機基、又は二価の炭化水素基と二価のシロキサン基との組み合わせを独立して表し、各Ｘは、加水分解置換基を独立して表し、各Ｒは、一価の炭化水素基を独立して表し、下付き文字ｃは、０、１、２、又は３を表し、下付き文字ａは、０、１、又は２を表し、下付き文字ｂは、０以上の値を有し、ただし（ａ＋ｃ）の合計が少なくとも１であるとき、これにより平均で少なくとも一つのＸが式中に存在する。あるいは、下付き文字ｂは、０〜１８の範囲の値を有し得る。

あるいは、各Ｄは独立して、酸素原子及び二価の炭化水素基から選択され得る。あるいは、各Ｄは、酸素原子であり得る。あるいは、各Ｄは、アルキレン基（例えば、エチレン、プロピレン、ブチレン又はヘキシレン）、アリーレン基（例えば、フェニレン）、又はアルキルアリーレン基（例えば、
）により例示される二価の炭化水素基であってもよい。あるいは、Ｄの例は酸素原子であり得、一方、Ｄの異なる例は二価の炭化水素基である。

あるいは、各Ｘは、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アミド基（アセタミド、メチルアセタミド基、又はベンズアミド基など）、アシルオキシ基（アセトキシなど）、アミノ基、アミノオキシ基、水酸基、メルカプト基、オキシム基、ケトキシム基、及びハロゲン原子からなる群より独立して選択される加水分解置換基であってもよい。あるいは、各Ｘは、アルコキシ基、アミド基、アシルオキシ基、アミノ基、水酸基、及びオキシム基からなる群より独立して選択されてもよい。

あるいは、上記の式中の各Ｒは独立して、１〜２０個の炭素原子のアルキル基、６〜２０個の炭素原子のアリール基、及び７〜２０個の炭素原子のアラルキル基から選択され得る。

あるいは、下付き文字ｂは０であり得る。

成分（Ｂ）は、ベースポリマーの０．２ｍｏｌ％〜１０ｍｏｌ％、あるいは０．５ｍｏｌ％〜５ｍｏｌ％、あるいは０．５ｍｏｌ％〜２．０ｍｏｌ％、あるいは０．５ｍｏｌ％〜１．５ｍｏｌ％、あるいは０．６ｍｏｌ％〜１．２ｍｏｌ％の範囲の量で上記の式（ｉｉ）により説明されている基を含み得る。

成分（Ｂ）は、直鎖構造を持つポリオルガノシロキサン主鎖、すなわち、ポリジオルガノシロキサン主鎖を有し得る。成分（Ｂ）がポリジオルガノシロキサン主鎖を有する場合、成分（Ｂ）は、アルコキシ末端封鎖ポリジオルガノシロキサン、アルコキシシリルヒドロカルビレン末端封鎖ポリジオルガノシロキサン、水酸末端封鎖ポリジオルガノシロキサン、又はこれらの組み合わせを含み得る。

成分（Ｂ）は、式（Ｉ）のポリジオルガノシロキサンを含み得：
の基の中に含有される加水分解性置換基を有してもよく、
（式中、各Ｒ^１は独立して加水分解性置換基であり、各Ｒ^２は独立して一価の有機基であり、各Ｒ^３は独立して酸素原子又は二価の炭化水素基であり、各下付き文字ｄは独立して１、２又は３であり、下付き文字ｅは、２５℃にて少なくとも１００ｍＰａ・ｓの粘度かつ／又は少なくとも８７のＤＰを有するポリジオルガノシロキサンを与えるのに十分な値を有する整数である。ＤＰは、ポリスチレン標準校正を使用して、ＧＰＣによって測定されてもよい。あるいは、下付き文字ｅは、１〜２００，０００の範囲の値を有し得る。）

Ｒ^１に対する適切な加水分解性置換基としては、群Ｘに対する上記の加水分解性置換基が挙げられるが、これに限らない。あるいは、Ｒ^１に対する加水分解性置換基は、ハロゲン原子、アセトアミド基、アシルオキシ基（アセトキシなどの）、アルコキシ基、アミド基、アミノ基、アミノキシ基、ヒドロキシル基、オキシモ基、ケトキシモ基、及びメチルアセトアミド基から選択されてもよい。

Ｒ^２に好適な有機基としては、限定するものではないが、炭化水素基及びハロゲン化炭化水素基のような一価の有機基が挙げられる。Ｒ^２の一価の炭化水素基の例としては、限定するものではないが、アルキル（例えば、メチル、エチル、プロピル、ペンチル、オクチル、デシル、ドデシル、ウンデシル及びオクタデシル）、シクロアルキル（例えば、シクロペンチル及びシクロヘキシル）、アリール（例えば、フェニル、トリル、キシリル及びベンジル）、並びにアラルキル（例えば、２−フェニルエチル）が挙げられる。Ｒ^２の一価ハロゲン化炭化水素基の例としては、限定するものではないが、塩素化アルキル基（例えば、クロロメチル及びクロロプロピル基）、フッ素化アルキル基（例えば、フルオロメチル、２−フルオロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、４，４，４−トリフルオロブチル、４，４，４，３，３−ペンタフルオロブチル、５，５，５，４，４，３，３−ヘプタフルオロペンチル、６，６，６，５，５，４，４，３，３−ノナフルオロヘキシル及び８，８，８，７，７−ペンタフルオロオクチル）、塩素化シクロアルキル基（例えば、２，２−ジクロロシクロプロピル、２，３−ジクロロシクロペンチル）、及びフッ素化シクロアルキル基（例えば、２，２−ジフルオロシクロプロピル、２，３−ジフルオロシクロブチル、３，４−ジフルオロシクロヘキシル及び３，４−ジフルオロ−５−メチルシクロヘプチル）が挙げられる。Ｒ^２の他の一価の有機基の例としては、限定するものではないが、酸素原子で置換された炭化水素基（例えば、グリシドキシアルキル）、及び窒素原子で置換された炭化水素基（例えば、アミノアルキル）、及びシアノ官能基（例えば、シアノエチル及びシアノプロピル）が挙げられる。あるいは、各Ｒ^２は、メチルなどのアルキル基であり得る。

成分（Ｂ）は、上記の式（Ｉ）において各下付き文字ｄが１であり、各Ｒ^３が酸素原子である場合、α，ω−二官能性ポリジオルガノシロキサンを含み得る。例えば、成分（Ｂ）は、以下の式（ＩＩ）を有し得る。Ｒ^１Ｒ^２ _２ＳｉＯ−（Ｒ^２ _２ＳｉＯ）_ｅ’−ＳｉＲ^２ _２Ｒ^１（式中、Ｒ^１及びＲ^２は上記の通りであり、下付き文字ｅ’は、式（ＩＩ）のポリジオルガノシロキサンに上記の粘度を与えるのに十分な値を有する。あるいは、下付き文字ｅ’は、１〜２００，０００、あるいは５０〜１，０００、あるいは２００〜７００の範囲の値を有し得る。）

あるいは、成分（Ｂ）は、上記の式（ＩＩ）の水酸官能性ポリジオルガノシロキサンを含んでもよく、式中、各Ｒ^１は水酸基であってもよく、各Ｒ^２は、メチルなどのアルキル基であってもよく、下付き文字ｅ’は水酸官能性ポリジオルガノシロキサンが２５℃にて少なくとも１００ｍＰａ・ｓの粘度を有するような値を有する場合がある。あるいは、下付き文字ｅ’は、５０〜７００の範囲の値を有する場合がある。例示的な水酸末端封鎖ポリジオルガノシロキサンは、水酸末端封鎖ポリジメチルシロキサンである。成分（Ｂ）としての使用に好適な水酸末端封鎖ポリジオルガノシロキサンは、対応するオルガノハロシランの加水分解及び縮合、又は、環式ポリジオルガノシロキサンの平衡化といった、当該技術分野において既知の方法により調製され得る。

あるいは、成分（Ｂ）は、例えば、上記の式（Ｉ）において各Ｒ^３が二価の炭化水素基、又は二価の炭化水素基と二価シロキサン基の組み合わせである場合に、アルコキシシリルヒドロカルビレン末端封鎖ポリジオルガノシロキサンを含み得る。各Ｒ^３は、アルキレン基（例えば、エチレン、プロピレン又はヘキシレン）、アリーレン基（例えば、フェニレン）、又はアルキルアリーレン基（例えば、
）であってもよい。あるいは、各Ｒ^１及び各Ｒ^２はアルキルであり得、各Ｒ^３は、アルキレン（例えば、エチレン）であり得、各下付き文字ｄは３であり得る。

アルコキシシリルヒドロカルビレン末端封鎖ポリジオルガノシロキサンは、ビニル末端ポリジメチルシロキサンを（アルコキシシリルヒドロカルビル）テトラメチルジシロキサンと反応させることにより、調製され得る。

あるいは、成分（Ｂ）は、水分硬化性シラン官能性有機ポリマーを含み得る。あるいは、有機ポリマーは、ポリマー主鎖中の少なくとも半分の原子が、ケイ素原子に結合した加水分解性置換基を含有する末端水分硬化性シリル基を有する炭素原子ポリマーであってもよい。有機ポリマーは、例えば、炭化水素ポリマー、ポリエーテル、アクリレートポリマー、ポリウレタン及びポリ尿素から選択することができる。

成分（Ｂ）は、エラストマーであってよく、すなわち、０℃未満のガラス転移温度（Ｔｇ）を有し得る。成分（Ｂ）がエラストマーである場合、成分（Ｂ）は、Ｔｇに基づいて半結晶質及び非晶質ポリオレフィン（例えば、α−オレフィン）とは区別することができ、一般に熱可塑性ポリマーと呼ばれる。

成分（Ｂ）は、シリル化ポリ（α−オレフィン）、イソ−モノ−オレフィンとビニル芳香族モノマーのシリル化コポリマー、ジエンとビニル芳香族モノマーのシリル化コポリマー、オレフィンとジエンのシリル化コポリマー（例えば、所望によりハロゲン化され場合がある、ポリイソブチレンとイソプレンから調製されたシリル化ブチルゴム）、又はこれらの組み合わせ（シリル化コポリマー）、イソ−モノ−オレフィンのシリル化ホモポリマー、ビニル芳香族モノマーのシリル化ホモポリマー、ジエンのシリル化ホモポリマー（例えば、シリル化ポリブタジエン又はシリル化水素添加ポリブタジエン）、又はこれらの組み合わせ（シリル化ホモポリマー）、又はシリル化コポリマーとシリル化ホモポリマーの組み合わせを含んでもよい。議論を進めるため、シリル化コポリマー及びシリル化ホモポリマーは、集合的に「シリル化ポリマー」と表される。シリル化ポリマーは、所望により一つ以上のハロゲン基、特にシリル化ポリマーの原子に共有結合した臭素基を含有してもよい。

好適なモノ−イソ−オレフィンの例としては、限定するものではないが、イソアルキレン（例えば、イソブチレン、イソペンチレン、イソヘキシレン及びイソヘプチレン）、あるいはイソブチレンが挙げられる。好適なビニル芳香族モノマーの例としては、限定するものではないが、アルキルスチレン（例えば、α−メチルスチレン、ｔ−ブチルスチレン及びパラ−メチルスチレン）、あるいはパラ−メチルスチレンが挙げられる。好適なアルキル基の例としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル及びｔ−ブチル、あるいはメチルが挙げられる。好適なアルケニル基の例としては、ビニル、アリール、プロペニル、ブテニル及びヘキセニル、あるいはビニルが挙げられる。シリル化有機ポリマーは、２０，０００〜５００，０００、あるいは５０，０００〜２００，０００、あるいは２０，０００〜１００，０００、あるいは２５，０００〜５０，０００、あるいは２８，０００〜３５，０００の範囲のＭｎを有してもよく、ここで、Ｍｎの値は１モル当たりグラム（ｇ／ｍｏｌ）で示され、トリプル検出サイズ排除クロマトグラフィーにより測定し、ポリスチレン分子量標準に基づいて計算した。

適切なシリル化ポリ（α−オレフィン）の例は、当該技術分野において既知であり、市販されている。例としては、ＶＥＳＴＯＰＬＡＳＴ（登録商標）として流通している縮合反応硬化性シリル化ポリマーが挙げられ、これはＤｅｇｕｓｓａ ＡＧ Ｃｏａｔｉｎｇｓ ＆ Ｃｏｌｏｒａｎｔｓ（Ｍａｒｌ，Ｇｅｒｍａｎｙ，Ｅｕｒｏｐｅ）から市販されている。

簡潔に述べると、シリル化コポリマーを調製する方法は、ｉ）少なくとも５０モル％の４〜７個の炭素原子を有するイソ−モノ−オレフィンの残部を含む繰り返し単位、及び最大でも５０モル％のビニル芳香族モノマーの残部を含む繰り返し単位を有するオレフィンコポリマー；ｉｉ）少なくとも二つの加水分解基及び少なくとも一つのオレフィン系不飽和炭化水素又はヒドロカーボンオキシ基を有するシラン；及びｉｉｉ）フリーラジカル発生剤に接触することを含む。

あるいは、シリル化コポリマーは、既知の方法（例えば、イソシアネート官能性アルコキシシランと反応させる手法、Ｎａの存在下で塩化アリールと反応させ、その後、ヒドロシリル化する手法）により、市販の水酸化ポリブタジエン（例えば、Ｃｒａｙ Ｖａｌｌｅｙ ＳＡ（Ｐａｒｉｓ，Ｆｒａｎｃｅ）から商品名Ｐｏｌｙ ＢＤ及びＫｒａｓｏｌで市販されているもの）を転化する工程を含む方法により、調製され得る。

あるいは、適切なシラン改質炭化水素ポリマーの例としては、テレケリックポリマーの形態で市販されているシラン改質ポリイソブチレンが挙げられる。シラン改質ポリイソブチレンは、例えば、シリル置換アルキルアクリレート又はメタクリレートモノマー（例えば、ジアルコキシアルキルシリルプロピルメタクリレート又はトリアルコキシシリルプロピルメタクリレート）から誘導された硬化性シリル基を含有することができ、これは、リビングアニオン重合、原子移動ラジカル重合又は連鎖移動重合により調製されたポリイソブチレンと反応することができる。

あるいは、成分（Ｂ）は、ポリエーテルを含み得る。ポリエーテルの一つのタイプは、式（−Ｃ_ｔＨ_２ｔ−Ｏ−）の繰り返しオキシアルキレン単位を含むポリオキシアルキレンポリマーであり、式中、下付き文字ｔは２〜４の範囲の値を有する整数である。ポリオキシアルキレンポリマーは典型的には末端水酸基を有し、例えば、末端水酸基の過剰なアルキルトリアルコキシシランとの反応によって末端アルキルジアルコキシシリル基を導入することにより、ケイ素原子に結合した加水分解性置換基を有するシリル基で容易に末端封鎖することができる。あるいは、重合は、ヒドロシリル化型プロセスによって生じ得る。ほとんどオキシプロピレン単位から構成されるポリオキシアルキレンは、多くの封止剤用途に好適な特性を有し得る。末端アルキルジアルコキシシリル又はトリアルコキシシリル基を有するポリオキシアルキレンポリマー（特にポリオキシプロピレン）は、成分（Ａ）及び水分の存在下で互いに反応し得る。これらのベースポリマーを含有する組成物は、所望により更に架橋剤を含んでもよい。

あるいは、加水分解性シリル基を有する有機ポリマーは、アクリレートポリマーとすることができ、これはアクリレートかつ／又はメタクリレートエステルモノマーの付加ポリマーであり、アクリレートポリマー中に少なくとも５０モル％のモノマー繰り返し単位を含んでもよい。適切なアクリレートエステルモノマーの例は、ｎ−ブチル、イソブチル、ｎ−プロピル、エチル、メチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−オクチル、及び２−エチルヘキシルアクリレートである。適切なメタクリレート樹脂エステルモノマーの例は、ｎ−ブチル、イソブチル、メチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−オクチル、２−エチルヘキシル、及びラウリルメタクリレートである。一部の用途では、アクリレートポリマーは、周囲温度よりも低いＴｇを有する場合があり、アクリレートポリマーはメタクリレートポリマーよりも低いＴｇのポリマーを形成する場合がある。例示的なアクリレートポリマーは、ポリブチルアクリレートである。アクリレートポリマーは、スチレン、アクリロニトリル又はアクリルアミドのような他のモノマーをより少量含有する。アクリレートポリマーは、従来のラジカル重合又はリビングラジカル重合（例えば、原子移動ラジカル重合）、可逆的付加開裂連鎖移動重合、又はアニオン重合（例えば、リビングアニオン重合）といった様々な方法により調製することができる。硬化性シリル基は、例えば、シリル置換アルキルアクリレート又はメタクリレートモノマーから誘導することができる。加水分解性シリル基（例えば、ジアルコキシアルキルシリル又はトリアルコキシシリル基）は、例えば、ジアルコキシアルキルシリルプロピルメタクリレート又はトリアルコキシシリルプロピルメタクリレートから誘導することができる。アクリレートポリマーが、反応性末端基を形成する重合プロセス（例えば、原子移動ラジカル重合、連鎖移動重合又はリビングアニオン重合）により調製された場合、アクリレートポリマーは、シリル置換アルキルアクリレート又はメタクリレートモノマーと容易に反応して、末端加水分解性シリル基を形成することができる。

シラン改質ポリウレタン又はポリ尿素は、例えば、末端エチレン性不飽和基を有するポリウレタン又はポリ尿素を、加水分解性基とＳｉ−Ｈ基とを含有するシリルモノマー（例えば、ジアルコキシアルキルケイ素水素化物又はトリアルコキシケイ素水素化物）と反応させることにより、調製することができる。

あるいは、ベースポリマーは、シリコーン−有機ブロックコポリマー主鎖を有し得、これは少なくとも１個のポリオルガノシロキサン基のブロックと、少なくとも１個の有機ポリマー鎖のブロックと、を含む。ポリオルガノシロキサン基は、式−（Ｒ^４ _ｆＳｉＯ_{（４−ｆ）／２}）−の基を含む場合があり、式中、各Ｒ^４は独立して、有機基（１〜１８個の炭素原子を有する炭化水素基、１〜１８個の炭素原子を有するハロゲン化炭化水素基（クロロメチル、ペルフルオロブチル、トリフルオロエチル、及びノナフルオロヘキシルなどの）、１８個以下の炭素原子を有するハイドロカーボンオキシ基などの）、又は、酸素原子含有基（（メタ）アクリル又はカルボキシルなどの）などの）、窒素原子含有基（ミノ官能基、アミド官能基、及びシアノ官能基などの）、イオウ原子含有基（メルカプト基などの）により例示される別の有機基であり、下付き文字ｆは平均で１〜３、あるいは１．８〜２．２の範囲の値を有する。

あるいは、各Ｒ^４は、１〜１０個の炭素原子を有する炭化水素基、又はハロゲン化炭化水素基であり得、下付き文字ｆは０、１又は２であり得る。Ｒ^４に好適な基の例としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ビニル、シクロヘキシル、フェニル、トリル基、塩素又はフッ素で置換されたプロピル基（例えば、３，３，３−トリフルオロプロピル）、クロロフェニル、β−（ペルフルオロブチル）エチル又はクロロシクロヘキシル基が挙げられる。

ポリマー主鎖中の有機ブロックは、例えば、ポリスチレンかつ／又は置換ポリスチレン、例えば、ポリ（α−メチルスチレン）、ポリ（ビニルメチルスチレン）、ジエン、ポリ（ｐ−トリメチルシリルスチレン）及びポリ（ｐ−トリメチルシリル−α−メチルスチレン）を含み得る。ポリマー主鎖中に組み込まれてもよい他の有機基としては、アセチレン末端オリゴフェニレン、ビニルベンジル末端芳香族ポリスルホンオリゴマー、芳香族ポリエステル、芳香族ポリエステル系モノマー、ポリアルキレン、ポリウレタン、脂肪族ポリエステル、脂肪族ポリアミド、及び芳香族ポリアミドを挙げることができる。

あるいは、成分（Ｂ）に対するシロキサン有機ブロックコポリマー中の有機ポリマーブロックは、平均的な式（−Ｃ_ｇＨ_２ｇ−Ｏ−）_ｈで例示される繰り返しオキシアルキレン単位を含むポリオキシアルキレン系ブロックであってもよく、式中、下付き文字ｇは、２〜４の範囲の値の整数であり、下付き文字ｈは、少なくとも４の整数である。各ポリオキシアルキレンポリマーブロックの数平均分子量（Ｍｎ）は、３００〜１０，０００の範囲であってもよい。更に、オキシアルキレン単位は、ポリオキシアルキレンブロックを通して必ずしも同一でなくてもよいが、単位ごとに異なる可能性がある。例えば、ポリオキシアルキレンブロックは、オキシエチレン単位（−Ｃ_２Ｈ_４−Ｏ−）、オキシプロピレン単位（−Ｃ_３Ｈ_６−Ｏ−）又はオキシブチレン単位（−Ｃ_４Ｈ_８−Ｏ−）、又はこれらの組み合わせを含むことができる。あるいは、ポリオキシアルキレンポリマーの主鎖は、本質的にオキシエチレン単位かつ／又はオキシプロピレン単位からなる。他のポリオキシアルキレンブロックは、例えば、構造：−［−Ｒ^５−Ｏ−（−Ｒ^６−Ｏ−）_ｉ−Ｐｎ−ＣＲ^７ _２−Ｐｎ−Ｏ−（−Ｒ^６−Ｏ−）_ｊ−Ｒ^５］−の単位を含んでもよく、式中Ｐｎは、１，４−フェニレン基であって、各Ｒ^５は、同一又は異なり、かつこれは、２〜８個の炭素原子を有する二価の炭化水素基であり、各Ｒ^６は、同一又は異なり、かつこれは、エチレン基又はプロピレン基であり、各Ｒ^７は、同一又は異なり、かつこれは水素原子又はメチル基であり、各下付き文字ｉ及びｊは、それぞれ３〜３０の範囲の値を有する正の整数を表す。

あるいは、成分（Ｂ）は、成分（Ｂ）について上述したポリマーのうちの一つに加えて又はその代わりに、シリコーン樹脂を含み得る。好適なシリコーン樹脂は、ＭＱ樹脂により例示され、これは、次の式のシロキサン単位を含む：
Ｒ^２９ _ｗＲ^３０ _{（３−ｗ）}ＳｉＯ_１／２及びＳｉＯ_４／２（式中、Ｒ^２９及びＲ^３０は、一価の有機基（例えば、アルキル（例えば、メチル、エチル、プロピル、ペンチル、オクチル、デシル、ドデシル、ウンデシル及びオクタデシル）、シクロアルキル（例えば、シクロペンチル及びシクロヘキシル）、アリール（例えば、フェニル、トリル、キシリル及びベンジル）、及びアラルキル（例えば、２−フェニルエチル）により例示される一価の炭化水素基）、ハロゲン化炭化水素基（塩素化アルキル基（例えば、クロロメチル及びクロロプロピル基）、フッ素化アルキル基（例えば、フルオロメチル、２−フルオロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、４，４，４−トリフルオロブチル、４，４，４，３，３−ペンタフルオロブチル、５，５，５，４，４，３，３−ヘプタフルオロペンチル、６，６，６，５，５，４，４，３，３−ノナフルオロヘキシル、及び８，８，８，７，７−ペンタフルオロオクチル）、塩素化シクロアルキル基（例えば、２，２−ジクロロシクロプロピル、２，３−ジクロロシクロペンチル）及びフッ素化シクロアルキル（例えば、２，２−ジフルオロシクロプロピル、２，３−ジフルオロシクロブチル、３，４−ジフルオロシクロヘキシル、及び３，４−ジフルオロ−５−メチルシクロヘプチル）により例示される）、並びに、他の一価の有機基（例えば、酸素原子で置換された炭化水素基（例えば、グリシドキシアルキル）及び窒素原子で置換された炭化水素基（例えば、アミノアルキル）及びシアノ官能基（例えば、シアノエチル及びシアノプロピル））であり、下付き文字ｗの各例は、０、１又は２である。あるいは、各Ｒ^２９及び各Ｒ^３０は、アルキル基であり得る）。ＭＱ樹脂は、０．５：１〜１．５：１の、Ｍユニット対Ｑユニットのモル比（Ｍ：Ｑ）を有し得る。これらのモル比は、Ｓｉ^２９ ＮＭＲ分光法により簡単に測定される。この技法は、シリコーン樹脂の総水酸量に加えて、シリコーン樹脂及び最初のシリコーン樹脂中に存在したネオペンタマー（neopentamer）Ｓｉ（ＯＳｉＭｅ_３）_４から誘導されたＲ^２９ _３ＳｉＯ_１／２（「Ｍ」）単位とＳｉＯ_４／２（「Ｑ」）単位の濃度を量的に測定することができる。

ＭＱシリコーン樹脂は、液体炭化水素（ベンゼン、トルエン、キシレン及びヘプタンにより例示される）のような溶媒又は液体有機ケイ素化合物（低粘度環状及び直鎖ポリジオルガノシロキサン）に可溶性である。

ＭＱシリコーン樹脂は、式Ｘ”ＳｉＯ_３／２により表される末端単位を２．０％以下、あるいは０．７％以下、あるいは０．３％以下含有し得る（式中、Ｘ”は、水酸又は加水分解性基（例えば、アルコキシ（例えば、メトキシ及びエトキシ）、アルケニルオキシ（例えば、イソプロペニルオキシ）、ケトキシモ（例えば、メチルエチルケトキシモ）、カルボキシ（例えば、アセトキシ）、アミドオキシ（例えば、アセトアミドオキシ）及びアミノキシ（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノキシ））を表す。）シリコーン樹脂中に存在するシラノール基の濃度は、ＦＴＩＲを使用して測定することができる。

ＭＱシリコーン樹脂の所望の流動特性を達成するのに必要とされるＭｎは、シリコーン樹脂のＭｎ、及びこの成分中に存在するＲ^２９により表される有機基の種類に少なくとも部分的に依存する可能性がある。ＭＱシリコーン樹脂のＭｎは、典型的には３，０００超、より典型的には４５００〜７５００である。

ＭＱシリコーン樹脂は、任意の好適な方法により調製することができる。このタイプのシリコーン樹脂は、報告によると、対応するシランの共加水分解により、又は当該技術分野において既知のシリカヒドロゾルキャッピング法（silica hydrosol capping methods）により、調製されている。簡単に述べると、この方法は、酸性条件下でシリカヒドロゾルをトリメチルクロロシランなどの加水分解性トリオルガノシラン、ヘキサメチルジシロキサンなどのシロキサン又はそれらの組み合わせと反応させる工程と、Ｍ及びＱ単位を含む生成物（ＭＱ樹脂）を回収する工程を包含する。得られるＭＱ樹脂は、２〜５重量パーセントのケイ素結合水酸基を含有し得る。

ＭＱシリコーン樹脂を調製するのに使用される中間体は、式Ｒ^２９ _３ＳｉＸのトリオルガノシランであり得る（式中、Ｘは、成分（Ｂ）について上述したように、４個の加水分解性基（例えば、ハロゲン、アルコキシ又は水酸）を有するシラン、又はアルカリ金属ケイ酸塩（例えば、ケイ酸ナトリウム）のいずれかのシラン加水分解性基を表す。）

一部の組成物では、シリコーン樹脂中のケイ素結合水酸基（すなわち、ＨＯＲ^２９ＳｉＯ_１／２又はＨＯＳｉＯ_３／２基）の量は、シリコーン樹脂の総重量の０．７重量％未満、あるいは０．３重量％未満であることが望ましい場合がある。シリコーン樹脂の調製中に形成されるケイ素結合水酸基は、シリコーン樹脂を、適切な末端基を含有するシラン、ジシロキサン又はジシラザンと反応させることにより、トリヒドロカルビルシロキシ基又は加水分解性基に転化される。加水分解性基を含有するシランは、シリコーン樹脂のケイ素結合水酸基の化学量論的量よりも過剰に添加される場合がある。

様々な好適なＭＱ樹脂が、例えばＤｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｍｉｄｌａｎｄ，ＭＩ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）、Ｍｏｍｅｎｔｉｖｅ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ（Ａｌｂａｎｙ，Ｎ．Ｙ．，Ｕ．Ｓ．Ａ．）、及びＢｌｕｅｓｔａｒ Ｓｉｌｉｃｏｎｅｓ ＵＳＡ Ｃｏｒｐ．（Ｅａｓｔ Ｂｒｕｎｓｗｉｃｋ，Ｎ．Ｊ．，Ｕ．Ｓ．Ａ．）などの企業から市販されている。例えば、ＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ（登録商標）ＭＱ−１６００固形樹脂、ＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ（登録商標）ＭＱ−１６０１固形樹脂、及びＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ（登録商標）１２５０界面活性剤、ＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ（登録商標）７４６６樹脂、及びＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ（登録商標）７３６６樹脂（これらは全てＤｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから市販されている）が、本明細書に記述されている方法での使用に好適である。あるいは、これもＤｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから市販されているＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ（登録商標）ＭＱ−１６４０ Ｆｌａｋｅ樹脂のようなＭ、Ｔ及びＱ単位を含有する樹脂が使用され得る。このような樹脂は、有機溶媒の溶液として供給され得る。

あるいは、シリコーン樹脂は、シルセスキオキサン樹脂、すなわち、式（Ｒ^３１ＳｉＯ_３／２）のＴ単位を含有する樹脂を含み得る。各Ｒ^３１は独立して水素原子及び一価の有機基、例えば、一価の炭化水素基（アルキル（例えば、メチル、エチル、プロピル、ペンチル、オクチル、デシル、ドデシル、ウンデシル及びオクタデシル）、シクロアルキル（例えば、シクロペンチル及びシクロヘキシル）、アリール（例えば、フェニル、トリル、キシリル及びベンジル）、及びアラルキル（例えば、２−フェニルエチル）により例示される）、ハロゲン化炭化水素基（塩素化アルキル基（例えば、クロロメチル及びクロロプロピル基）、フッ素化アルキル基（例えば、フルオロメチル、２−フルオロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、４，４，４−トリフルオロブチル、４，４，４，３，３−ペンタフルオロブチル、５，５，５，４，４，３，３−ヘプタフルオロペンチル、６，６，６，５，５，４，４，３，３−ノナフルオロヘキシル、及び８，８，８，７，７−ペンタフルオロオクチル）、塩素化シクロアルキル基（例えば、２，２−ジクロロシクロプロピル、２，３−ジクロロシクロペンチル）、及びフッ素化シクロアルキル基（例えば、２，２−ジフルオロシクロプロピル、２，３−ジフルオロシクロブチル、３，４−ジフルオロシクロヘキシル及び３，４−ジフルオロ−５−メチルシクロヘプチルにより例示される））、及び別の一価の有機基（例えば、酸素原子で置換された炭化水素基（例えば、グリシドキシアルキル）、及び窒素原子で置換された炭化水素基（例えば、アミノアルキル）及びシアノ官能基（例えば、シアノエチル及びシアノプロピル））から選択され得る。本明細書での使用に好適なシルセスキオキサン樹脂は、当該技術分野において既知であり、市販されている。例えば、１５のＤＰを有するメチルメトキシシロキサンメチルシルセスキオキサン樹脂及び１２００ｇ／ｍｏｌの重量平均分子量（Ｍｗ）は、Ｄｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（米国、ミシガン州、Ｍｉｄｌａｎｄ）からＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ（登録商標）ＵＳ−ＣＦ ２４０３ Ｒｅｓｉｎとして市販されている。あるいは、シルセスキオキサン樹脂は、フェニルシルセスキオキサン単位、メチルシルセスキオキサン単位、又はこれらの組み合わせを有してもよい。このような樹脂は、当該技術分野において既知であり、これもまたＤｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ ＣｏｒｐｏｒａｔｉｏｎからＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ（登録商標）２００ Ｆｌａｋｅ樹脂として市販されている。あるいは、シリコーン樹脂は、式（Ｒ^３１ _２ＳｉＯ_２／２）かつ／又は（Ｒ^３１Ｒ^３２ＳｉＯ_２／２）のＤ単位と、式（Ｒ^３１ＳｉＯ_３／２）かつ／又は（Ｒ^３２ＳｉＯ_３／２）のＴ単位とを含み得る、すなわち、ＤＴ樹脂である（式中、Ｒ^３１は上記の通りであり、Ｒ^３２は、上記のＸ基のような加水分解性基である。）ＤＴ樹脂は当該技術分野において既知であり、市販されており、例えば、メトキシ官能性ＤＴ樹脂としては、ＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ（登録商標）３０７４及びＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ（登録商標）３０３７樹脂が挙げられ、シラノール官能性樹脂としては、ＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ（登録商標）８００ Ｓｅｒｉｅｓ樹脂が挙げられ、これらもまたＤｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから市販されている。他の好適な樹脂としては、メチル及びフェニル基を含有するＤＴ樹脂が挙げられる。

組成物に添加されるシリコーン樹脂の量は、組成物の最終用途に応じ変動する可能性がある。例えば、組成物の反応生成物がゲルである場合、シリコーン樹脂はほとんど又は全く添加されない可能性もある。しかしながら、組成物中のシリコーン樹脂の量は、組成物の全成分の重量に基づいて０〜９０重量％、あるいは０．１〜５０重量％の範囲であり得る。

成分（Ｂ）の量は、組成物の反応生成物の最終用途、成分（Ｂ）のために選択されるベースポリマーの種類、並びに存在する場合には、任意の追加の成分の種類及び量といった様々な因子に依存する可能性がある。しかしながら、成分（Ｂ）の量は、組成物の０．０１〜９９重量％、あるいは１０〜９５重量％、あるいは１０〜６５重量％の範囲であり得る。

成分（Ｂ）は、一つの単一ベースポリマー、又は以下の特性のうちの少なくとも一つが異なる二つ以上のベースポリマーを含む組み合わせであり得る：平均分子量、加水分解性置換基、シロキサン単位、配列、及び粘度。成分（Ｂ）の一つのベースポリマーが１分子当たり平均で１〜２個のみの加水分解性置換基を含有する場合、組成物は、１分子当たり平均で２個を超える加水分解性置換基を有する追加のベースポリマー、又は成分（Ｃ）架橋剤を更に含み得る。

組成物は、所望により、一つ以上の追加成分を更に含んでもよい、すなわち、成分（Ａ）及び（Ｂ）に加えて、成分（Ａ）及び（Ｂ）とは異なる一つ以上の成分を更に含んでもよい。追加成分は、存在する場合、組成物の使用方法かつ／又は組成物の硬化生成物の最終用途のような因子に基づいて選択され得る。追加成分は、（Ｃ）架橋剤；（Ｄ）乾燥剤；（Ｅ）増量剤、可塑剤又はこれらの組み合わせ；（Ｆ）充填剤（例えば、（ｆ１）補強充填剤、（ｆ２）増量充填剤、（ｆ３）伝導性充填剤（例えば、導電性、熱伝導性又はその両方））；（Ｇ）充填剤処理剤；（Ｈ）殺生物剤（例えば、（ｈ１）殺真菌剤、（ｈ２）除草剤、（ｈ３）殺虫剤又は（ｈ４）抗菌剤）；（Ｊ）難燃剤；（Ｋ）表面改質剤（例えば、（ｋ１）接着促進剤又は（ｋ２）離型剤）；（Ｌ）鎖延長剤；（Ｍ）末端封鎖剤；（Ｎ）非反応性結合剤；（Ｏ）老化防止添加剤；（Ｐ）水放出剤；（Ｑ）顔料；（Ｒ）レオロジー添加剤；（Ｓ）ビヒクル；（Ｔ）粘着付与剤；（Ｕ）腐食防止剤；及びこれらの組み合わせであってもよい。更なる成分は、互いに異なる。いくつかの実施形態では、少なくとも一つの、代替的な更なる成分（Ｃ）から（Ｕ）のそれぞれ、及びこれらの組み合わせであり、成分（Ｂ）の縮合反応を完全には妨げない。

成分（Ｃ）は、成分（Ｂ）が１分子当たり平均で１又は２個のみの加水分解性置換基を含有する場合に、かつ／又は、組成物の縮合反応により調製される反応生成物の架橋密度を増加させるために、組成物に添加され得る架橋剤である。一般に、成分（Ｃ）は、組成物の反応生成物において所望される架橋度に依存して変動する可能性がある官能基により、並びに、反応生成物が縮合反応の副生成物に起因する重量喪失を著しく示すことのないように、選択される。一般に、成分（Ｃ）の選択は、組成物が、水分不透過性パッケージにおいて、数ヶ月にわたる保存中に有用であるべく十分な反応性を保つように、行われる。一般的に、成分（Ｃ）は、成分（Ｃ）の加水分解置換基が、成分（Ｂ）と反応性であるように選択される。例えば、成分（Ｂ）中のＸが水酸基である場合、成分（Ｃ）に対する加水分解置換基は、水素原子、ハロゲン原子；アミド基、アシルオキシ基、ヒドロカーボンオキシ基、アミノ基、アミノオキシ基、メルカプト基、オキシム基、ケトオキシム基、又はアルコキシシリルヒドロカルビレン基、又はこれらの組み合わせであってもよい。成分（Ｃ）の正確な量は、選択されるベースポリマー及び架橋剤の種類、ベースポリマー及び架橋剤の加水分解性可能な置換基の反応性、及び、反応生成物に所望される架橋密度といった因子に依存して変動する可能性がある。しかしながら、架橋剤の量は、成分（Ｂ）１００重量部に基づいて、０．５〜１００重量部の範囲であり得る。

成分（Ｃ）は、加水分解性基を有するシラン架橋剤、又はその部分若しくは完全加水分解生成物を含み得る。成分（Ｃ）は、成分（Ｂ）の加水分解性置換基と反応性である置換基を、１分子当たり平均で２個を超えて有する。成分（Ｃ）に好適なシラン架橋剤の例は、一般式（ＩＩＩ）を有し得る：Ｒ^８ _ｋＳｉ（Ｒ^９）_{（４−ｋ）}（式中、各Ｒ^８は独立して、一価の炭化水素基（例えば、アルキル基）であり、各Ｒ^９は加水分解性置換基であり、これは成分（Ｂ）について上述したＸと同じであり得る。あるいは、Ｒ^９は、例えばそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、アセトアミド基、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ）、アルコキシ基、アミド基、アミノ基、アミノキシ基、ヒドロキシル基、オキシモ基、ケトキシモ基、又はメチルアセトアミド基であってもよく、下付き文字ｋの各例は、０、１、２、又は３であってもよい。成分（Ｃ）について、下付き文字ｋは、２より大きい平均値を有する。あるいは、下付き文字ｋは、３〜４の範囲の値を有し得る。あるいは、各Ｒ^９は独立して、水酸、アルコキシ、アセトキシ、アミド又はオキシムから選択され得る。あるいは、成分（Ｃ）は、アシルオキシシラン、アルコキシシラン、ケトキシモシラン、及びオキシモシランから選択され得る。）

成分（Ｃ）は、アルコキシシラン（ジアルコキシシラン（例えば、ジアルキルジアルコキシシラン）、トリアルコキシシラン（例えば、アルキルトリアルコキシシラン）、テトラアルコキシシランにより例示される）、又は、その部分若しくは完全加水分解生成物、又はこれらの別の組み合わせを含み得る。好適なトリアルコキシシランの例としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、及びこれらの組み合わせ、あるいは、メチルメトキシシランが挙げられる。好適なテトラアルコキシシランの例としては、テトラエトキシシランが挙げられる。硬化性シリコーン組成物中で使用されるアルコキシシランの量は、成分（Ｂ）１００重量部当たり０．５〜１５重量部の範囲であり得る。

成分（Ｃ）は、アシルオキシシラン（例えば、アセトキシシラン）を含み得る。アセトキシシランとしては、テトラアセトキシシラン、オルガノトリアセトキシシラン、ジオルガノジアセトキシシラン、又はこれらの組み合わせが挙げられる。このアセトキシシランは、アルキル基（例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル及び三級ブチル）、アルケニル基（例えば、ビニル、アリール又はヘキセニル）、アリール基（例えば、フェニル、トリル、又はキシリル）、アラルキル基（例えば、ベンジル又は２−フェニルエチル）、及びフッ素化アルキル基（例えば、３，３，３−トリフルオロプロピル）を含有し得る。例示のアセトキシシランとしては、限定するものではないが、テトラアセトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、エチルトリアセトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、プロピルトリアセトキシシラン、ブチルトリアセトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、オクチルトリアセトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、フェニルメチルジアセトキシシラン、ビニルメチルジアセトキシシラン、ジフェニルジアセトキシシラン、テトラアセトキシシラン、及びこれらの組み合わせが挙げられる。あるいは、成分（Ｃ）は、オルガノトリアセトキシシラン、例えば、メチルトリアセトキシシランとエチルトリアセトキシシランとを含む混合物、を含み得る。硬化性シリコーン組成物中で使用されるアセトキシシランの量は、成分（Ｂ）１００重量部当たり０．５〜１５重量部、あるいは３〜１０重量部の範囲であり得る。

組成物中で使用され得るアルコキシ基とアセトキシ基とを両方含有する成分（Ｃ）に好適なシランの例としては、メチルジアセトキシメトキシシラン、メチルアセトキシジメトキシシラン、ビニルジアセトキシシラン、ビニルアセトキシジメトキシシラン、メチルジアセトキシエトキシシラン、メチルアセトキシジエトキシシラン、及びこれらの組み合わせが挙げられる。

成分（Ｃ）に好適なアミノ官能性アルコキシシランは、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_５Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_５Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、Ｃ_４Ｈ_９ＮＨ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、Ｃ_４Ｈ_９ＮＨ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_２ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_２ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_３ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_３ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_３ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_３ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_５ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_５ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２、Ｃ_４Ｈ_９ＮＨ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２、Ｃ_４Ｈ_９ＮＨ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２、及びこれらの組み合わせによって例示される。

成分（Ｃ）に好適なオキシモシランとしては、アルキルトリオキシモシラン（例えば、メチルトリオキシモシラン、エチルトリオキシモシラン、プロピルトリオキシモシラン、及びブチルトリオキシモシラン）、アルコキシトリオキシモシラン（例えば、メトキシトリオキシモシラン、エトキシトリオキシモシラン及びプロポキシトリオキシモシラン）、又はアルケニルトリオキシモシラン（例えば、プロペニルトリオキシモシラン又はブテニルトリオキシモシラン）、アルケニルオキシモシラン（例えば、ビニルオキシモシラン）、アルケニルアルキルジオキシモシラン（例えば、ビニルメチルジオキシモシラン、ビニルエチルジオキシモシラン、ビニルメチルジオキシモシラン、又はビニルエチルジオキシモシラン）、又はこれらの組み合わせが挙げられる。

成分（Ｃ）に好適なケトキシモシランとしては、メチルトリス（ジメチルケトキシモ）シラン、メチルトリス（メチルエチルケトキシモ）シラン、メチルトリス（メチルプロピルケトキシモ）シラン（methyl tris（methylpropylketoximo）silane）、メチルトリス（メチルイソブチルケトキシモ）シラン、エチルトリス（ジメチルケトキシモ）シラン（ethyl tris（dimethylketoximo）silane）、エチルトリス（メチルエチルケトキシモ）シラン（ethyl tris（methylethylketoximo）silane）、エチルトリス（メチルプロピルケトキシモ）シラン（ethyl tris（methylpropylketoximo）silane）、エチルトリス（メチルイソブチルケトキシモ）シラン（ethyl tris（methylisobutylketoximo）silane）、ビニルトリス（ジメチルケトキシモ）シラン、ビニルトリス（メチルエチルケトキシモ）シラン、ビニルトリス（メチルプロピルケトキシモ）シラン（vinyl tris（methylpropylketoximo）silane）、ビニルトリス（メチルイソブチルケトキシモ）シラン、テトラキス（ジメチルケトキシモ）シラン（tetrakis（dimethylketoximo）silane）、テトラキス（メチルエチルケトキシモ）シラン、テトラキス（メチルプロピルケトキシモ）シラン（tetrakis（methylpropylketoximo）silane）、テトラキス（メチルイソブチルケトキシモ）シラン（tetrakis（methylisobutylketoximo）silane）、メチルビス（ジメチルケトキシモ）シラン（methylbis（dimethylketoximo）silane）、メチルビス（シクロヘキシルケトキシモ）シラン（methylbis（cyclohexylketoximo）silane）、トリエトキシ（エチルメチルケトキシム）シラン（triethoxy（ethylmethylketoxime）silane）、ジエトキシジ（エチルメチルケトキシム）シラン（diethoxydi（ethylmethylketoxime）silane）、エトキシトリ（エチルメチルケトキシム）シラン、メチルビニルビス（メチルイソブチルケトキシモ）シラン（methylvinylbis（methylisobutylketoximo）silane）、又はこれらの組み合わせが挙げられる。

あるいは、成分（Ｃ）は、高分子であり得る。例えば、成分（Ｃ）は、ビス（トリエトキシシリル）ヘキサン）、１，４−ビス［トリメトキシシリル（エチル）］ベンゼン、及びビス［３−（トリエトキシシリル）プロピル］テトラスルフィドといった、ジシランを含み得る。

成分（Ｃ）は、一つの単一の架橋剤、又は、以下の特性のうちの少なくとも一つにおいて異なる二つ以上の架橋剤を含む組み合わせであり得る：加水分解性置換基、及びケイ素に結合した他の有機基、並びに、高分子架橋剤が使用される場合には、シロキサン単位、構造、分子量及び配列。

成分（Ｄ）は、乾燥剤である。乾燥剤は、様々な供給源由来の水を捕捉する。例えば、乾燥剤は、水及びアルコールといった、縮合反応の副生成物を捕捉し得る。

成分（Ｄ）に好適な吸着剤の例としては、無機粒子を挙げることができる。吸着剤は、１０マイクロメートル以下、あるいは５マイクロメートル以下の粒径を有し得る。吸着剤は、例えば、１０Å（オングストローム）以下、あるいは５Å以下、あるいは３Å以下といった、水及びアルコールを吸着するのに十分な平均孔径を有し得る。吸着剤の例としては、沸石（例えば、菱沸石、モルデン沸石及び方沸石）、分子篩（例えば、アルカリ金属のアルミノケイ酸塩、シリカゲル、シリカマグネシアゲル、活性炭、活性アルミナ、酸化カルシウム）及びこれらの組み合わせが挙げられる。

市販の乾燥剤の例としては、乾燥分子篩（例えば、Ｇｒａｃｅ Ｄａｖｉｄｓｏｎから商品名ＳＹＬＯＳＩＶ（登録商標）で、及びＺｅｏｃｈｅｍ（Ｌｏｕｉｓｖｉｌｌｅ，Ｋｅｎｔｕｃｋｙ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）から商品名ＰＵＲＭＯＬで市販されている３Å（オングストローム）の分子篩、並びに、Ｉｎｅｏｓ Ｓｉｌｉｃａｓ（Ｗａｒｒｉｎｇｔｏｎ，Ｅｎｇｌａｎｄ）から入手可能なＤｏｕｃｉｌゼオライト４Ａなどの４Å（オングストローム）の分子篩）が挙げられる。他の有用な分子篩としては、ＵＯＰ（米国、イリノイ州）から全て市販されているＭＯＬＳＩＶ ＡＤＳＯＲＢＥＮＴ ＴＹＰＥ １３Ｘ、３Ａ、４Ａ及び５Ａ、Ａｔｏｆｉｎａ（米国、ペンシルバニア州、Ｐｈｉｌａｄｅｌｐｈｉａ）からのＳＩＬＩＰＯＲＩＴＥ ＮＫ ３０ＡＰ及び６５ｘＰ、並びに、Ｗ．Ｒ．Ｇｒａｃｅ（米国、メリーランド州）から入手可能な分子篩が挙げられる。

あるいは、乾燥剤は、化学的手段により水かつ／又は他の副生成物を捕捉し得る。（成分（Ｃ）に加えて）組成物に添加された一定量のシラン架橋剤は、化学的乾燥剤としても機能し得る。理論に束縛されるものではないが、化学的乾燥剤は、組成物の複数の構成部分を一緒に混合した後に、この組成物を水に触れさせないようにするために、多部構成（multiple part）組成物の乾燥部分に添加され得る。例えば、乾燥剤として好適なアルコキシシランとしては、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、及びこれらの組み合わせが挙げられる。

成分（Ｄ）の量は、選択される具体的な乾燥剤に依存する。しかしながら、成分（Ｄ）が化学的乾燥剤である場合、その量は、０部〜５部、あるいは０．１部〜０．５部の範囲であり得る。成分（Ｄ）は、一つの化学的乾燥剤であり得る。あるいは、成分（Ｄ）は、二つ以上の異なる化学的乾燥剤を含み得る。

成分（Ｅ）は、増量剤かつ／又は可塑剤である。非官能性ポリオルガノシロキサンを含む増量剤を、組成物に使用することができる。例えば、非官能性ポリオルガノシロキサンは、式Ｒ^２２ _２ＳｉＯ_２／２の二官能性単位及び式Ｒ^２３ _３ＳｉＤ’−の末端単位を有し得る（式中、各Ｒ^２２及び各Ｒ^２３は独立して一価の有機基（例えば、一価の炭化水素基（アルキル（例えば、メチル、エチル、プロピル及びブチル）、アルケニル（例えば、ビニル、アリール及びヘキセニル）、アリール（例えば、フェニル、トリル、キシリル及びナフチル）、及びアラルキル基（例えば、フェニルエチル）により例示される）であり、Ｄ’は、酸素原子、又は末端単位のケイ素原子を別のケイ素原子と連結する二価基（例えば、成分（Ｂ）について上述した基Ｄ）であり、あるいは、Ｄ’は酸素原子である）。非官能性ポリオルガノシロキサンは、当該技術分野において既知であり、市販されている。好適な非官能性ポリオルガノシロキサンは、限定するものではないが、ポリジメチルシロキサンにより例示される。かかるポリジメチルシロキサンとしては、Ｄｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（米国、ミシガン州、Ｍｉｄｌａｎｄ）から市販されているＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ（登録商標）２００ Ｆｌｕｉｄｓが挙げられ、５Ｅ−５ｍ^２／ｓ〜０．１ｍ^２／ｓ（５０ｃＳｔ〜１００，０００ｃＳｔ）、あるいは５Ｅ−５ｍ^２／ｓ〜０．０５ｍ^２／ｓ（５０ｃＳｔ〜５０，０００ｃＳｔ）、あるいは０．０１２５〜０．０６ｍ^２／ｓ（１２，５００〜６０，０００ｃＳｔ）の範囲の粘度を有し得る。

有機可塑剤は、上記の非官能性ポリオルガノシロキサン増量剤に加えて、又はその代わりに、使用され得る。有機可塑剤は、当該技術分野において既知であり、市販されている。有機可塑剤は、フタル酸塩、カルボン酸塩、カルボン酸エステル、アジピン酸塩、又はこれらの組み合わせを含み得る。有機可塑剤は、ビス（２−エチルヘキシル）テレフタレート、ビス（２−エチルヘキシル）−１，４−ベンゼンジカルボキシレート、２−エチルヘキシルメチル−１，４−ベンゼンジカルボキシレート、分枝状及び直鎖の１，２シクロヘキサンジカルボン酸，ジノニルエステル、ビス（２−プロピルへプチル）フタレート、ジイソノニルアジペート、及びこれらの組み合わせからなる群より選択され得る。

有機可塑剤は、式
の基を１分子当たり平均して少なくとも１個有してもよく、式中、Ｒ^１８は、水素原子又は一価の有機基を表す。あるいは、Ｒ^１８は、分枝状又は直鎖一価の炭化水素基を表し得る。一価の有機基は、４〜１５個の炭素原子、あるいは９個〜１２個の炭素原子のアルキル基といった、分枝状又は直鎖の一価の炭化水素基であり得る。好適な可塑剤は、アジピン酸塩、カルボン酸塩、フタル酸塩及びこれらの組み合わせからなる群より選択され得る。

あるいは、有機可塑剤は、環式炭化水素中の炭素原子に結合した上記の式の基を、１分子当たり平均で少なくとも２個有し得る。有機可塑剤は、次の一般式を有し得る：

この式では、基Ｚは、３つ以上の炭素原子を有する炭素環式基、あるいは３〜１５個の炭素原子を有する炭素環式基を表す。下付き文字ｓは、１〜１２の範囲の値を有し得る。Ｚ基は、飽和又は芳香族であり得る。Ｒ^２０は、それぞれ独立して水素原子、又は分枝状若しくは直鎖の一価の有機基である。Ｒ^１９の一価の有機基は、メチル、エチル又はブチルといった、アルキル基であり得る。あるいは、Ｒ^２０の一価の有機基は、エステル官能基であり得る。Ｒ^１９は、それぞれ独立して、４〜１５個の炭素原子のアルキル基といった、分枝状又は直鎖の一価の炭化水素基である。

好適な有機可塑剤は、当該技術分野において既知であり、市販されている。可塑剤は、フタレート（ジブチルフタレート（Ｅａｓｔｍａｎ（商標）ＤＢＰ Ｐｌａｓｔｉｃｉｚｅｒ）、フタル酸ジヘプチル、ジ（２−エチルヘキシル）フタレート、又はフタル酸ジイソデシル（ＤＩＤＰ）などのフタル酸ジアルキル、ビス（２−プロピルヘプチル）フタレート（ＢＡＳＦ Ｐａｌａｔｉｎｏｌ（登録商標）ＤＰＨＰ）、ジ（２−エチルヘキシル）フタレート（Ｅａｓｔｍａｎ（商標）ＤＯＰ Ｐｌａｓｔｉｃｉｚｅｒ）、フタル酸ジメチル（Ｅａｓｔｍａｎ（商標）ＤＭＰ Ｐｌａｓｔｉｃｉｚｅｒ）；フタル酸ジエチル（Ｅａｓｔｍａｎ（商標）ＤＭＰ Ｐｌａｓｔｉｃｉｚｅｒ）；フタル酸ブチルベンジル、及びビス（２−エチルヘキシル）テレフタレート（Ｅａｓｔｍａｎ（商標）４２５ Ｐｌａｓｔｉｃｉｚｅｒ）などの）；ジカルボン酸塩（ベンジル、Ｃ７〜Ｃ９直鎖及び分枝状アルキルエステル、１，２，ベンゼンジカルボン酸（Ｆｅｒｒｏ ＳＡＮＴＩＣＩＺＥＲ（登録商標）２６１Ａ）、１，２，４−ベンゼントリカルボン酸（ＢＡＳＦ Ｐａｌａｔｉｎｏｌ（登録商標）ＴＯＴＭ−Ｉ）、ビス（２−エチルヘキシル）−１，４−ベンゼンジカルボン酸塩（Ｅａｓｔｍａｎ（商標）１６８ Ｐｌａｓｔｉｃｉｚｅｒ）などの）；２−エチルヘキシルメチル−１，４−ベンゼンジカルボン酸塩；１，２シクロヘキサンジカルボン酸、ジノニルエステル、分枝状及び直鎖（ＢＡＳＦ Ｈｅｘａｍｏｌｌ ^＊ＤＩＮＣＨ）；ジイソノニルアジパート；トリメリタート（トリオクチルトリメリテート（Ｅａｓｔｍａｎ（商標）ＴＯＴＭ Ｐｌａｓｔｉｃｉｚｅｒ）などの）；トリエチレングリコールビス（２−エチルヘキサノエート）（Ｅａｓｔｍａｎ（商標）ＴＥＧ−ＥＨ Ｐｌａｓｔｉｃｉｚｅｒ）；トリアセチン（Ｅａｓｔｍａｎ（商標）Ｔｒｉａｃｅｔｉｎ）；非芳香族二塩基酸エステル（ジオクチルアジパート、ビス（２−エチルヘキシル）アジパート（Ｅａｓｔｍａｎ（商標）ＤＯＡ Ｐｌａｓｔｉｃｉｚｅｒ及びＥａｓｔｍａｎ（商標）ＤＯＡ Ｐｌａｓｔｉｃｉｚｅｒ、Ｋｏｓｈｅｒ）、ジ−２−エチルヘキシルアジパート（ＢＡＳＦ Ｐｌａｓｔｏｍｏｌｌ（登録商標）ＤＯＡ）、セバシン酸ジオクチル、セバシン酸ジブチル、及びコハク酸ジイソデシルなどの）；脂肪族エステル（オレイン酸ブチル及びリシノール酸メチルアセチルなどの）；リン酸塩（リン酸トリクレシル及びリン酸トリブチルなどの）；塩素化パラフィン；炭化水素油（アルキルジフェニル及び部分的に水素添加したテルフェニルなどの）；プロセス油；エポキシ可塑剤（エポキシ化した大豆油及びベンジルエポキシステアレートなどの）；トリス（２−エチルヘキシル）エステル；脂肪酸エステル；並びにこれらの組み合わせを含んでもよい。他の適切な可塑剤の例及びその商業的入手源としては、ＢＡＳＦ Ｐａｌａｍｏｌｌ（登録商標）６５２及びＥａｓｔｍａｎ １６８ Ｘｔｒｅｍｅ（商標）Ｐｌａｓｔｉｃｉｚｅｒが挙げられる。

あるいは、ポリマー可塑剤を使用することもできる。ポリマー可塑剤の例としては、様々な方法によりビニル若しくはアリールモノマーを重合することによって得られるアルケニルポリマー；ポリアルキレングリコールエステル（例えば、ジエチレングリコールジベンゾエート、トリエチレングリコールジベンゾエート、及びペンタエリスリトールエステル）；二塩基酸（例えば、セバシン酸、アジピン酸、アゼライン酸及びフタル酸）と二価アルコール（例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール及びジプロピレングリコール）から得られるポリエステル可塑剤；それぞれ５００以上の分子量を有するポリエーテルポリオール（例えば、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール及びポリテトラメチレングリコール）とポリスチレン（例えば、ポリスチレン及びポリ−α−メチルスチレン）とを含むポリエーテル；並びに、ポリブタジエン、ポリブテン、ポリイソブチレン、ブタジエンアクリロニトリル及びポリクロロプレンが挙げられる。

有機可塑剤が存在する場合、有機可塑剤の量は、組成物中の全成分の総重量に基づいて、５〜１５０重量部の範囲であり得る。

成分（Ｅ）について上述したポリオルガノシロキサン増量剤及び有機可塑剤は、それぞれ単独で、又は、これらを二つ以上組み合わせて、のいずれかで使用され得る。低分子量有機可塑剤と高分子量ポリマー可塑剤を組み合わせて使用してもよい。組成物中で使用される成分（Ｅ）の正確な量は、組成物及びその硬化生成物の所望される最終用途といった様々な因子に依存する可能性がある。しかしながら、成分（Ｅ）の量は、組成物中の全成分の総重量に基づいて０．１〜１０重量％の範囲であり得る。

成分（Ｆ）は、充填剤である。充填剤は、補強充填剤、増量充填剤、伝導性充填剤、又はこれらの組み合わせを含み得る。例えば、組成物は、場合により、成分（ｆ１）補強充填剤を更に含み得、これは、存在する場合には、組成物の０．１〜９５重量％、あるいは１〜６０重量％の範囲の量で添加され得る。成分（ｆ１）の正確な量は、組成物の反応生成物の形態、及び、他の充填剤が添加されるかどうか、といった様々な因子によって異なる。好適な補強充填剤の例としては、補強シリカ充填剤（例えば、ヒュームシリカ、シリカエアロゲル、シリカキセロゲル及び沈殿シリカ）が挙げられる。ヒュームドシリカは、当該技術分野において既知であり、市販されている：例えば、Ｃａｂｏｔ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｍａｓｓａｃｈｕｓｅｔｔｓ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）から名称ＣＡＢ−Ｏ−ＳＩＬで販売されているヒュームドシリカ。

組成物は、場合により、成分（ｆ２）増量充填剤を、組成物の０．１〜９５重量％、あるいは１〜６０重量％、あるいは１〜２０重量％の範囲の量で更に含み得る。増量充填剤の例としては、破砕石英、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム（例えば、軽質炭酸カルシウム）、酸化亜鉛、タルク、珪藻土、酸化鉄、粘土、雲母、白亜、二酸化チタン、ジルコニア、砂、カーボンブラック、グラファイト、又はこれらの組み合わせが挙げられる。増量充填剤は、当該技術分野において既知であり、例えば、Ｕ．Ｓ．Ｓｉｌｉｃａ（Ｂｅｒｋｅｌｅｙ Ｓｐｒｉｎｇｓ，ＷＶ）により名称ＭＩＮ−Ｕ−ＳＩＬで販売されている破砕シリカといったように、市販されている。好適な軽質炭酸カルシウムとしては、ＳｏｌｖａｙからのＷｉｎｎｏｆｉｌ（登録商標）ＳＰＭ、並びに、ＳＭＩからのＵｌｔｒａｐｆｌｅｘ（登録商標）及びＵｌｔｒａｐｆｌｅｘ（登録商標）１００が挙げられる。

組成物は、場合により、成分（ｆ３）伝導性充填剤を更に含む。伝導性充填剤は、熱伝導性又は導電性であってよく、又はいずれもであってもよい。伝導性充填剤は、当該技術分野において既知であり、金属粒子（例えば、アルミニウム、銅、金、ニッケル、銀、及びこれらの組み合わせ）；非伝導性基材上にコーティングされたこのような金属；金属酸化物（例えば、酸化アルミニウム、酸化ベリリウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛及びこれらの組み合わせ）、溶融性充填剤（例えば、はんだ）、窒化アルミニウム、アルミニウム三水和物、チタン酸バリウム、窒化ホウ素、炭素繊維、ダイヤモンド、グラファイト、水酸化マグネシウム、オニキス、炭化ケイ素、炭化タングステン、及びこれらの組み合わせにより例示される。

あるいは、他の充填剤が組成物に添加されてもよく、タイプ及び量は、組成物の硬化生成物の最終用途などの因子によって異なる。このような他の充填剤の例としては、磁気粒子（例えば、フェライト）、及び誘電性粒子（例えば、溶融ガラス微小球、チタニア、及び炭酸カルシウム）が挙げられる。

組成物は、場合により、成分（Ｇ）処理剤を更に含み得る。成分（Ｇ）の量は、選択される処理剤のタイプ、処理される粒子のタイプ及び量、粒子が組成物の添加前に処理されるのかどうか、又は粒子がその場で処理されるのかどうか、といった因子に応じて変動する可能性がある。しかしながら、成分（Ｇ）は、組成物の０．０１〜２０重量％、あるいは０．１〜１５重量％、あるいは０．５〜５重量％の範囲の量で使用され得る。粒子、例えば、充填剤、物理的乾燥剤、特定の難燃剤、特定の顔料、かつ／又は、特定の水放出剤は、存在する場合には、場合により、成分（Ｇ）で表面処理され得る。粒子は、組成物に添加される前に、又は、その場にて、成分（Ｇ）で処理され得る。成分（Ｇ）は、アルコキシシラン、アルコキシ官能性オリゴシロキサン、環式ポリオルガノシロキサン、水酸官能性オリゴシロキサン、例えば、ジメチルシロキサン、又はメチルフェニルシロキサン、又は脂肪酸を含み得る。脂肪酸の例としては、ステアリン酸カルシウムといったステアリン酸塩が挙げられる。

成分（Ｇ）として使用できる一部の代表的な有機ケイ素充填剤処理剤としては、シリカ充填剤を処理するのに通常使用される組成物、例えば、オルガノクロロシラン、オルガノシロキサン、オルガノシラザン（例えば、ヘキサアルキルジシラザン）、及びオルガノアルコキシシラン、例えば、Ｃ_６Ｈ_１３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、Ｃ_８Ｈ_１７Ｓｉ（ＯＣ_２Ｈ_５）_３、Ｃ_１０Ｈ_２１Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、Ｃ_１２Ｈ_２５Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、Ｃ_１４Ｈ_２９Ｓｉ（ＯＣ_２Ｈ_５）_３、及びＣ_６Ｈ_５ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３が挙げられる。使用できる他の処理剤としては、アルキルチオール、脂肪酸、チタン酸塩、チタン酸塩カップリング剤、ジルコン酸塩カップリング剤、及びこれらの組み合わせが挙げられる。

あるいは、成分（Ｇ）は、式：Ｒ^１３ _ｏＳｉ（ＯＲ^１４）_{（４−ｐ）}を有するアルコキシシランを含んでよい（式中、下付き文字ｐは１〜３の範囲の値を有し得、あるいは下付き文字ｐは３である。Ｒ^１３はそれぞれ独立して、１〜５０個の炭素原子、あるいは８〜３０個の炭素原子、あるいは８〜１８個の炭素原子の一価の炭化水素基といった、一価の有機基である。Ｒ^１３としては、ヘキシル、オクチル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル及びオクタデシルなどのアルキル基、並びにベンジル及びフェニルエチルなどの芳香族基が挙げられる。Ｒ^１３は、飽和又は不飽和、並びに、分枝状又は非分枝状であり得る。あるいは、Ｒ^１３は、飽和及び非分枝状であり得る。

各Ｒ^１４は、独立して、１〜４個の炭素原子、あるいは１〜２個の炭素原子の飽和炭化水素基である。）成分（Ｇ）は、ヘキシルトリメトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、テトラデシルトリメトキシシラン、フェニルエチルトリメトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラン、及びこれらの組み合わせにより例示される。

アルコキシ官能性オリゴシロキサンはまた、処理剤としても使用され得る。例えば、好適なアルコキシ官能性オリゴシロキサンとしては、式（Ｒ^１５Ｏ）_ｑＳｉ（ＯＳｉＲ^１６ _２Ｒ^１７）_{（４−ｑ）}のものが挙げられる。（式中、下付き文字ｑは１、２、又は３であり、あるいは下付き文字ｑは３である。各Ｒ^１５は、アルキル基であり得る。各Ｒ^１６は、１〜１０個の炭素原子の不飽和一価の炭化水素基であり得る。各Ｒ^１７は、少なくとも１０個の炭素原子を有する不飽和一価の炭化水素基であり得る。）

金属充填剤などの特定の粒子は、アルキルチオール（例えば、オクタデシルメルカプタン）、脂肪酸（例えば、オレイン酸及びステアリン酸）、及びこれらの組み合わせで処理され得る。

他の処理剤としては、アルケニル官能性ポリオルガノシロキサンが挙げられる。好適なアルケニル官能性ポリオルガノシロキサンとしては、限定するものではないが、以下のものが挙げられる：
式中、下付き文字ｒは、最大１，５００の値を有する。

あるいは、水素結合可能なポリオルガノシロキサンが、処理剤として有用である。充填剤の表面を処理するためのこの方法は、相溶性の部分を充填剤表面に繋ぎ止める手段として、集積している又は分散している又はその両方のいずれかの多数の水素結合を利用する。水素結合可能なポリオルガノシロキサンは、水素結合可能なケイ素結合基を１分子当たり平均で少なくとも１個有する。この基は、多数の水酸官能基を有する有機基、又は、少なくとも１個のアミノ官能基を有する有機基から選択され得る。水素結合可能なポリオルガノシロキサンは、水素結合が、充填剤に対するポリオルガノシロキサンにとっての主な連結様式であることを意味する。ポリオルガノシロキサンは、充填剤と共有結合を形成できなくてもよい。ポリオルガノシロキサンは、縮合可能なシリル基（例えば、ケイ素が結合したアルコキシ基、シラザン、及びシラノール）を含まなくてもよい。水素結合可能なポリオルガノシロキサンは、糖−シロキサンポリマー、アミノ官能性ポリオルガノシロキサン、及びこれらの組み合わせからなる群より選択され得る。あるいは、水素結合可能なポリオルガノシロキサンは、糖−シロキサンポリマーであり得る。

成分（Ｈ）は、殺生物剤である。成分（Ｈ）の量は、選択される殺生物剤の種類及び所望される効果といった因子に応じて変動する可能性がある。しかしながら、成分（Ｈ）の量は、組成物の全成分の重量に基づいて０重量％超〜５重量％の範囲であり得る。成分（Ｈ）は、（ｈ１）殺真菌剤、（ｈ２）除草剤、（ｈ３）殺虫剤、（ｈ４）抗菌剤、又はこれらの組み合わせにより、例示される。

成分（ｈ１）は、殺真菌剤であり、例えば、殺真菌剤としては、Ｎ−置換ベンゾイミダゾールカルバメート、ベンゾイミダゾリルカルバメート（例えば、メチル２−ベンゾイミダゾリルカルバメート、エチル２−ベンゾイミダゾリルカルバメート、イソプロピル２−ベンゾイミダゾリルカルバメート、メチルＮ−｛２−［１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）ベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、メチルＮ−｛２−［１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）−６−メチルベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、メチルＮ−｛２−［１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）−５−メチルベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、メチルＮ−｛２−［１−（Ｎ−メチルカルバモイル）ベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、メチルＮ−｛２−［１−（Ｎ−メチルカルバモイル）−６−メチルベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、メチルＮ−｛２−［１−（Ｎ−メチルカルバモイル）−５−メチルベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、エチルＮ−｛２−［１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）ベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、エチルＮ−｛２−［２−（Ｎ−メチルカルバモイル）ベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、エチルＮ−｛２−［１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）−６−メチルベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、エチルＮ−｛２−［１−（Ｎ−メチルカルバモイル）−６−メチルベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、イソプロピルＮ−｛２−［１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）ベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、イソプロピルＮ−｛２−［１−（Ｎ−メチルカルバモイル）ベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、メチルＮ−｛２−［１−（Ｎ−プロピルカルバモイル）ベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、メチルＮ−｛２−［１−（Ｎ−ブチルカルバモイル）ベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、メトキシエチルＮ−｛２−［１−（Ｎ−プロピルカルバモイル）ベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、メトキシエチルＮ−｛２−［１−（Ｎ−ブチルカルバモイル）ベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、エトキシエチルＮ−｛２−［１−（Ｎ−プロピルカルバモイル）ベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、エトキシエチルＮ−｛２−［１−（Ｎ−ブチルカルバモイル）ベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、メチルＮ−｛１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ）ベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、メチルＮ−｛２−［Ｎ−メチルカルバモイルオキシ）ベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、メチルＮ−｛２−［１−（Ｎ−ブチルカルバモイルオキシ）ベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、エトキシエチルＮ−｛２−［１−（Ｎ−プロピルカルバモイル）ベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、エトキシエチルＮ−｛２−［１−（Ｎ−ブチルカルバモイルオキシ）ベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、メチルＮ−｛２−［１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）−６−クロロベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、及びメチルＮ−｛２−［１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）−６−ニトロベンゾイミダゾリル］｝カルバメート）、１０，１０’−オキシビスフェノキサルシン（商品名：Ｖｉｎｙｚｅｎｅ，ＯＢＰＡ）、ジ−ヨードメチル−パラ−トリルスルホン、ベンゾチオフェン−２−シクロヘキシルカルボキサミド−Ｓ，Ｓ−ジオキシド、Ｎ−（フルオロジクロリド（fluordichloride）メチルチオ）フタルイミド（商品名：Ｆｌｕｏｒ−Ｆｏｌｐｅｒ，Ｐｒｅｖｅｎｔｏｌ Ａ３）、メチル−ベンゾイミダゾール−２−イルカルバメート（商品名：Ｃａｒｂｅｎｄａｚｉｍ，Ｐｒｅｖｅｎｔｏｌ ＢＣＭ）、亜鉛−ビス（２−ピリジルチオ−１−オキシド）（亜鉛ピリチオン）２−（４−チアゾリル）−ベンゾイミダゾール、Ｎ−フェニル−ヨードプロパルギルカルバメート、Ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オン、４，５−ジクロリド−２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オン、Ｎ−ブチル−１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オン、かつ／又は、トリアゾリル化合物（例えば、銀を含有するゼオライトと組み合わせたテブコナゾール）が挙げられる。

成分（ｈ２）は除草剤であり、例えば、好適な除草剤としては、アミド系除草剤（例えば、アリドクロルＮ，Ｎ−ジアリール−２−クロロアセトアミド、ＣＤＥＡ ２−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、エトニプロミド（ＲＳ）−２−［５−（２，４−ジクロロフェノキシ）−２−ニトロフェノキシ］−Ｎ−エチルプロピオンアミド）、アニリド系除草剤（例えば、シサニリドシス−２，５−ジメチルピロリジン−１−カルボキシアニリド、フルフェナセット４’−フルオロ−Ｎ−イソプロピル−２−［５−（トリフルオロメチル）−１，３，４−チアジアゾール−２−イルオキシ］アセトアニリド、ナプロアニリド（ＲＳ）−α−２−ナフトキシプロピオンアニリド）、アリールアラニン系除草剤（例えば、ベンゾイルプロップＮ−ベンゾイル−Ｎ−（３，４−ジクロロフェニル）−ＤＬ−アラニン、フラムプロップ−Ｍ Ｎ−ベンゾイル−Ｎ−（３−クロロ−４−フルオロフェニル）−Ｄ−アラニン）、クロロアセトアニリド系除草剤（例えば、ブタクロールＮ−ブトキシメチル−２−クロロ−２’，６’−ジエチルアセトアニリド、メタザクロル２−クロロ−Ｎ−（ピラゾール−１−イルメチル）アセト−２’，６’−キシリジド、プリナクロル（ＲＳ）−２−クロロ−Ｎ−（１−メチルプロパ−２−イニル）アセトアニリド）、スルホンアニリド系除草剤（例えば、クロランスラム３−クロロ−２−（５−エトキシ−７−フルオロ［１，２，４］トリアゾロ［１，５−ｃ］ピリミジン−２−イルスルホンアミド）安息香酸、メトスラム２’，６’−ジクロロ−５，７−ジメトキシ−３’−メチル［１，２，４］トリアゾロ［１，５−ａ］ピリミジン−２−スルホンアニリド）、抗生物質系除草剤（例えば、ビラナホス４−［ヒドロキシ（メチル）ホスフィノイル］−Ｌ−ホモアラニル−Ｌ−アラニル−Ｌ−アラニン）、安息香酸系除草剤（例えば、クロランベン３−アミノ−２，５−ジクロロ安息香酸、２，３，６−ＴＢＡ ２，３，６−トリクロロ安息香酸）、ピリミジニルオキシ安息香酸系除草剤（例えば、ビスピリバック２，６−ビス（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルオキシ）安息香酸）、ピリミジニルチオ安息香酸系除草剤（例えば、ピリチオバック２−クロロ−６−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルチオ）安息香酸）、フタル酸系除草剤（例えば、クロルタールテトラクロロテレフタル酸）、ピコリン酸系除草剤（例えば、アミノピラリド４−アミノ−３，６−ジクロロピリジン−２−カルボン酸）、キノリンカルボン酸系除草剤（例えば、キンクロラック３，７−ジクロロキノリン−８−カルボン酸）、ヒ素系除草剤（例えば、ＣＭＡカルシウムビス（水素メチルアルソネート）、ＭＡＭＡアンモニウム水素メチルアルソネート、亜ヒ酸ナトリウム）、ベンゾイルシクロヘキサンジオン系除草剤（例えば、メソトリオン２−（４−メシル−２−ニトロベンゾイル）シクロヘキサン−１，３−ジオン）、ベンゾフラニルアルキルスルホネート系除草剤（例えば、ベンフレセート２，３−ジヒドロ−３，３−ジメチルベンゾフラン−５−イルエタンスルホネート）、カルバミン酸塩系除草剤（例えば、カルボキサゾールメチル５−ｔｅｒｔ−ブチル−１，２−オキサゾール−３−イルカルバメート、フェナスラム（fenasulam）メチル４−［２−（４−クロロ−ｏ−トリルオキシ）アセトアミド］フェニルスルホニルカルバメート）、カルバニル酸塩系除草剤（例えば、ＢＣＰＣ（ＲＳ）−ｓｅｃ−ブチル３−クロロカルバニレート、デスメジファムエチル３−フェニルカルバモイルオキシフェニルカルバニレート、スウェップメチル３，４−ジクロロカルバニレート）、シクロヘキセンオキシム系除草剤（例えば、ブトロキシジム（ＲＳ）−（ＥＺ）−５−（３−ブチリル−２，４，６−トリメチルフェニル）−２−（１−エトキシイミノプロピル）−３−ヒドロキシシクロヘキサ−２−エン−１−オン、テプラロキシジム（ＲＳ）−（ＥＺ）−２−｛１−［（２Ｅ）−３−クロロアリールオキシイミノ］プロピル｝−３−ヒドロキシ−５−ペルヒドロピラン−４−イルシクロヘキサ−２−エン−１−オン）、シクロプロピルイソオキサゾール系除草剤（例えば、イソキサクロルトール４−クロロ−２−メシルフェニル５−シクロプロピル−１，２−オキサゾール−４−イルケトン）、ジカルボキシミド系除草剤（例えば、フルメジン２−メチル−４−（α，α，α−トリフルオロ−ｍ−トリル）−１，２，４−オキサジアジナン−３，５−ジオン）、ジニトロアニリン系除草剤（例えば、エタルフルラリンＮ−エチル−α，α，α−トリフルオロ−Ｎ−（２−メチルアリール）−２，６−ジニトロ−ｐ−トルイジン、プロジアミン５−ジプロピルアミノ−α，α，α−トリフルオロ−４，６−ジニトロ−ｏ−トルイジン）、ジニトロフェノール系除草剤（例えば、ジノプロップ４，６−ジニトロ−ｏ−シメン−３−オール、エチノフェンα−エトキシ−４，６−ジニトロ−ｏ−クレゾール）、ジフェニルエーテル系除草剤（例えば、エトキシフェンＯ−［２−クロロ−５−（２−クロロ−α，α，α−トリフルオロ−ｐ−トリルオキシ）ベンゾイル］−Ｌ乳酸）、ニトロフェニルエーテル系除草剤（例えば、アクロニフェン２−クロロ−６−ニトロ−３−フェノキシアニリン、ニトロフェン２，４−ジクロロフェニル４−ニトロフェニルエーテル）、ジチオカルバメート系除草剤（例えば、ダゾメット３，５−ジメチル−１，３，５−チアジアジナン−２−チオン）、ハロゲン化脂肪族系除草剤（例えば、ダラポン２，２−ジクロロプロピオン酸）、クロロ酢酸、イミダゾリノン系除草剤（例えば、イマザピル（ＲＳ）−２−（４−イソプロピル−４−メチル−５−オキソ−２−イミダゾリン−２−イル）ニコチン酸）、無機除草剤（例えば、四ホウ酸二ナトリウム十水和物、アジ化ナトリウム）、ニトリル系除草剤（例えば、クロロキシニル３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシベンゾニトリル、イオキシニル４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ヨードベンゾニトリル）、有機リン系除草剤（例えば、アニロホスＳ−４−クロロ−Ｎ−イソプロピルカルバニロイルメチルＯ，Ｏ−ジメチルホスホロジチオネート、グルホシネート４−［ヒドロキシ（メチル）ホスフィノイル］−ＤＬ−ホモアラニン）、フェノキシ系除草剤（例えば、クロメプロップ（ＲＳ）−２−（２，４−ジクロロ−ｍ−トリルオキシ）プロピオンアニリド、フェンテラコール２−（２，４，５−トリクロロフェノキシ）エタノール）、フェノキシ酢酸系除草剤（例えば、ＭＣＰＡ（４−クロロ−２−メチルフェノキシ）酢酸）、フェノキシ酪酸系除草剤（例えば、ＭＣＰＢ ４−（４−クロロ−ｏ−トリルオキシ）酪酸）、フェノキシプロピオン酸系除草剤（例えば、フェノプロップ（ＲＳ）−２−（２，４，５−トリクロロフェノキシ）プロピオン酸）、アリールオキシフェノキシプロピオン酸系除草剤（例えば、イソキサピリホップ（ＲＳ）−２−［２−［４−（３，５−ジクロロ−２−ピリジルオキシ）フェノキシ］プロピオニル］イソオキサゾリジン）、フェニレンジアミン系除草剤（例えば、ジニトラミンＮ^１，Ｎ^１−ジエチル−２，６−ジニトロ−４−トリフルオロメチル−ｍ−フェニレンジアミン）、ピラゾリルオキシアセトフェノン系除草剤（例えば、ピラゾキシフェン２−［４−（２，４−ジクロロベンゾイル）−１，３−ジメチルピラゾール−５−イルオキシ］アセトフェノン）、ピラゾリルフェニル系除草剤（例えば、ピラフルフェン２−クロロ−５−（４−クロロ−５−ジフルオロメトキシ−１−メチルピラゾール−３−イル）−４−フルオロフェノキシ酢酸）、ピリダジン系除草剤（例えば、ピリダフォル６−クロロ−３−フェニルピリダジン−４−オール）、ピリダジノン系除草剤（例えば、クロリダゾン５−アミノ−４−クロロ−２−フェニルピリダジン−３（２Ｈ）−オン、オキサピラゾン５−ブロモ−１，６−ジヒドロ−６−オキソ−１−フェニルピリダジン−４−イルオキサム酸）、ピリジン系除草剤（例えば、フルロキシピル４−アミノ−３，５−ジクロロ−６−フルオロ−２−ピリジルオキシ酢酸、チアゾピルメチル２−ジフルオロメチル−５−（４，５−ジヒドロ−１，３−チアゾール−２−イル）−４−イソブチル−６−トリフルオロメチルニコチネート）、ピリミジンジアミン除草剤（例えば、イプリダム６−クロロ−Ｎ^４−イソプロピルピリミジン−２，４−ジアミン）、四級アンモニウム系除草剤（例えば、ジエタムクアット１，１’−ビス（ジエチルカルバモイルメチル）−４，４’−ビピリジニウム、パラクアット１，１’−ジメチル−４，４’−ビピリジニウム）、チオカルバメート系除草剤（例えば、シクロエートＳ−エチルシクロヘキシル（エチル）チオカルバメート、チオカルバジルＳ−ベンジルジ−ｓｅｃ−ブチルチオカルバメート）、チオカルボネート除草剤（例えば、ＥＸＤ Ｏ，Ｏ−ジエチルジチオビス（チオホルメート））、チオ尿素系除草剤（例えば、メチウロン１，１−ジメチル−３−ｍ−トリル−２−チオ尿素）、トリアジン系除草剤（例えば、トリアジフラム（ＲＳ）−Ｎ−［２−（３，５−ジメチルフェノキシ）−１−メチルエチル］−６−（１−フルオロ−１−メチルエチル）−１，３，５−トリアジン−２，４−ジアミン）、クロロトリアジン系除草剤（例えば、シプラジン６−クロロ−Ｎ^２−シクロプロピル−Ｎ^４−イソプロピル−１，３，５−トリアジン−２，４−ジアミン、プロパジン６−クロロ−Ｎ^２，Ｎ^４−ジ−イソプロピル−１，３，５−トリアジン−２，４−ジアミン）、メトキシトリアジン系除草剤（例えば、プロメトンＮ^２，Ｎ^４−ジ−イソプロピル−６−メトキシ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジアミン）、メチルチオトリアジン系除草剤（例えば、シアナトリン２−（４−エチルアミノ−６−メチルチオ−１，３，５−トリアジン−２−イルアミノ）−２−メチルプロピオニトリル）、トリアジノン系除草剤（例えば、ヘキサジノン３−シクロヘキシル−６−ジメチルアミノ−１−メチル−１，３，５−トリアジン−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−ジオン）、トリアゾール系除草剤（例えば、エプロナズＮ−エチル−Ｎ−プロピル−３−プロピルスルホニル−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−カルボキサミド）、トリアゾロン系除草剤（例えば、カルフェントラゾン（ＲＳ）−２−クロロ−３−｛２−クロロ−５−［４−（ジフルオロメチル）−４，５−ジヒドロ−３−メチル−５−オキソ−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イル］−４−フルオロフェニル｝プロピオン酸）、トリアゾールピリミジン系除草剤（例えば、フロラスラム２’，６’，８−トリフルオロ−５−メトキシ［１，２，４］トリアゾロ［１，５−ｃ］ピリミジン−２−スルホンアニリド）、ウラシル系除草剤（例えば、フルプロパシルイソプロピル２−クロロ−５−（１，２，３，６−テトラヒドロ−３−メチル−２，６−ジオキソ−４−トリフルオロメチルピリミジン−１−イル）ベンゾエート）、尿素系除草剤（例えば、シクルロン３−シクロ−オクチル−１，１−ジメチル尿素、モニソウロン（monisouron）１−（５−ｔｅｒｔ−ブチル−１，２−オキサゾール−３−イル）−３−メチル尿素）、フェニル尿素系除草剤（例えば、クロロクスロン３−［４−（４−クロロフェノキシ）フェニル］−１，１−ジメチル尿素、シデュロン１−（２−メチルシクロヘキシル）−３−フェニル尿素）、ピリミジニルスルホニル尿素系除草剤（例えば、フラザスルフロン１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−３−（３−トリフルオロメチル−２−ピリジルスルホニル）尿素、ピラゾスルフロン５−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルバモイル）スルファモイル］−１−メチルピラゾール−４−カルボン酸）、トリアジニルスルホニル尿素除草剤（例えば、チフェンスルフロン３−（４−メトキシ−６−メチル−１，３，５−トリアジン−２−イルカルバモイルスルファモイル）チオフェン−２−カルボン酸）、
チアジアゾリル尿素除草剤（例えば、テブチウロン１−（５−ｔｅｒｔ−ブチル−１，３，４−チアジアゾール−２−イル）−１，３−ジメチル尿素）、並びに／又は、未分類の除草剤（例えば、クロルフェナック（２，３，６−トリクロロフェニル）酢酸、メタゾール２−（３，４−ジクロロフェニル）−４−メチル−１，２，４−オキサジアゾリジン−３，５−ジオン、トリタック（tritac）（ＲＳ）−１−（２，３，６−トリクロロベンジルオキシ）プロパン−２−オール、２，４−Ｄ、クロリムロン、及びフェノキサプロップ）、及びこれらの組み合わせが挙げられる。

成分（ｈ３）は、殺虫剤である。好適な殺虫剤は、アトラジン、ダイアジノン、及びクロロピリホスにより、例示される。議論を進めるため、殺虫剤は、昆虫忌避剤（例えば、Ｎ，Ｎ−ジエチル−メタ−トルアミド）及びプレスロイド（例えば、ピレトリン）を包含するものとする。

成分（ｈ４）は、抗菌剤である。好適な抗菌剤は市販されており、例えば、ＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ（登録商標）５７００及びＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ（登録商標）５７７２が挙げられ、これらはＤｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｍｉｄｌａｎｄ，Ｍｉｃｈｉｇａｎ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）からのものである。

あるいは、成分（Ｈ）は、例えば、ホウ素無水物、ホウ砂又は八ホウ酸二ナトリウム四水和物といったホウ素含有物質を含有してもよく、これは殺虫剤、殺真菌剤、かつ／又は難燃剤として機能し得る。

成分（Ｊ）は、難燃剤である。好適な難燃剤としては、例えば、カーボンブラック、水酸化アルミニウム水和物、及びケイ酸塩（例えば、ウォラストナイト）、白金及び白金化合物を挙げることができる。あるいは、難燃剤は、ハロゲン系難燃剤（例えば、デカブロモジフェニルオキシド、オクタブロモジフェニルオキシド（octabromordiphenyl oxide）、ヘキサブロモシクロドデカン、デカブロモビフェニルオキシド、ジフェニルオキシベンゼン、エチレンビス−テトラブロモフタルアミド、ペンタブロモエチルベンゼン、ペンタブロモベンジルアクリレート、トリブロモフェニルマレイン酸イミド、テトラブロモビスフェニルＡ、ビス−（トリブロモフェノキシ）エタン、ビス−（ペンタブロモフェノキシ）エタン、ポリジブロモフェニレンオキシド、トリブロモフェニルアリールエーテル、ビス−ジブロモプロピルエーテル、テトラブロモフタル酸無水物、ジブロモネオペンチルグリコール、ジブロモエチルジブロモシクロヘキサン、ペンタブロモジフェニルオキシド、トリブロモスチレン、ペンタブロモクロロシクロヘキサン、テトラブロモキシレン、ヘキサブロモシクロドデカン、臭素化ポリスチレン、テトラデカブロモジフェノキシベンゼン、トリフルオロプロペン及びＰＶＣ）から選択され得る。あるいは、難燃剤は、リン系難燃剤（例えば、（２，３−ジブロモプロピル）−ホスフェート、リン、環式リン酸塩、トリアリールホスフェート、ビス−メラミニウムペンテート、ペンタエリスリトール二環式ホスフェート、ジメチルメチルホスフェート、ホスフィンオキシドジオール、トリフェニルホスフェート、トリス−（２−クロロエチル）ホスフェート）、リン酸エステル（例えば、トリクレイル（tricreyl）、トリキシレニル、イソデシルジフェニル、エチルヘキシルジフェニル）、様々なアミンのリン酸塩（例えば、リン酸アンモニウム、トリオクチル、トリブチル又はトリス−ブトキシエチルホスフェートエステル）から選択され得る。他の難燃剤としては、テトラアルキル鉛化合物（例えば、テトラエチル鉛）、ペンタカルボニル鉄、メチルシクロペンタジエニルマンガントリカルボニル、メラミン及び誘導体（例えば、メラミン塩）、グアニジン、ジシアンジアミド、スルファミン酸アンモニウム、アルミナ三水和物、及び水酸化マグネシウムとアルミナ三水和物を挙げることができる。

難燃剤の量は、選択される難燃剤、及び溶媒が存在するかどうかといった因子に応じて変動する可能性がある。しかしながら、組成物中の難燃剤の量は、組成物の全成分の総重量に基づいて０重量％超〜１０重量％の範囲であり得る。

成分（Ｋ）は、表面改質剤である。好適な表面改質剤は、（ｋ１）接着促進剤又は（ｋ２）離型剤により、例示される。成分（ｋ１）に好適な接着促進剤は、遷移金属キレート、ハイドロカーボンオキシシラン、例えば、アルコキシシラン、アルコキシシランとヒドロキシ官能性ポリオルガノシロキサンの組み合わせ、アミノ官能性シラン、又はこれらの組み合わせを含み得る。接着促進剤は、当該技術分野において既知であり、式Ｒ^２４ _ｔＲ^２５ _ｕＳｉ（ＯＲ^２６）_{４−（ｔ＋ｕ）}を有するシランを含んでよい（式中、Ｒ^２４はそれぞれ独立して、少なくとも３個の炭素原子を有する一価の有機基であり、Ｒ^２５は、接着促進基（例えば、アミノ、エポキシ、メルカプト、又はアクリレート基）を有するＳｉＣ結合置換基を少なくとも１個含有し、下付き文字ｔは０〜２の範囲の値を有し、下付き文字ｕは１又は２のいずれかであり、（ｔ＋ｕ）の合計は３以下である。）あるいは、接着促進剤は、上記シランの部分縮合体を含み得る。あるいは、接着促進剤は、アルコキシシランとヒドロキシ官能性ポリオルガノシロキサンの組み合わせを含み得る。

あるいは、接着促進剤は、不飽和又はエポキシ官能性化合物を含み得る。あるいは、接着促進剤は、不飽和又はエポキシ官能性アルコキシシランを含み得る。例えば、官能性アルコキシシランは、式Ｒ^２７ _ｖＳｉ（ＯＲ^２８）_{（４−ｖ）}を有することができ、下付き文字ｖは１、２又は３であり、あるいは、下付き文字ｖは１である。各Ｒ^２７は、独立して一価の有機基であるが、ただし、少なくとも一つのＲ^２７は、不飽和有機基又はエポキシ官能性有機基である。Ｒ^２７のエポキシ官能性有機基は、３−グリシドキシプロピル及び（エポキシシクロヘキシル）エチルにより例示される。Ｒ^２７の不飽和有機基は、３−メタクリロイルオキシプロピル、３−アクリロイルオキシプロピル、並びに、ビニル、アリール、ヘキセニル、ウンデシレノイル（undecylenyl）などの不飽和一価の炭化水素基により例示される。各Ｒ^２８は、独立して、１〜４個の炭素原子、あるいは１〜２個の炭素原子の飽和炭化水素基である。Ｒ^２８は、メチル、エチル、プロピル及びブチルにより例示される。

好適なエポキシ官能性アルコキシシランの例としては、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、（エポキシシクロヘキシル）エチルジメトキシシラン、（エポキシシクロヘキシル）エチルジエトキシシラン及びこれらの組み合わせが挙げられる。好適な不飽和アルコキシシランの例としては、ビニルトリメトキシシラン、アリールトリメトキシシラン、アリールトリエトキシシラン、ヘキセニルトリメトキシシラン、ウンデシレノイル（undecylenyl）トリメトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン及びこれらの組み合わせが挙げられる。

あるいは、接着促進剤は、上記のようなヒドロキシ末端ポリオルガノシロキサンとエポキシ官能性アルコキシシランの反応生成物、又は、ヒドロキシ末端ポリオルガノシロキサンとエポキシ官能性アルコキシシランの物理的ブレンドなどのエポキシ官能性シロキサンを含み得る。接着促進剤は、エポキシ官能性アルコキシシランとエポキシ官能性シロキサンの組み合わせを含み得る。例えば、接着促進剤は、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランと、ヒドロキシ末端メチルビニルシロキサンと３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの反応生成物と、の混合物、あるいは、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランとヒドロキシ末端メチルビニルシロキサンの混合物、あるいは、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランとヒドロキシ末端メチルビニル／ジメチルシロキサンコポリマーの混合物により、例示される。

あるいは、接着促進剤は、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_５Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_５Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、Ｃ_４Ｈ_９ＮＨ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、Ｃ_４Ｈ_９ＮＨ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_２ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_２ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_３ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_３ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_３ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_３ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_５ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_５ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２、Ｃ_４Ｈ_９ＮＨ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２、Ｃ_４Ｈ_９ＮＨ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２、及びその組み合わせによって例示されるアミノ官能性アルコキシシランなどのアミノ官能性シランを含んでもよい。

あるいは、接着促進剤は、遷移金属キレートを含み得る。好適な遷移金属キレートとしては、チタン酸塩、アセチルアセトナトジルコニウムなどのジルコン酸塩、アセチルアセトナトアルミニウムなどのアルミニウムキレート、及びこれらの組み合わせが挙げられる。

成分（ｋ２）は、離型剤である。好適な離型剤は、フッ素化化合物（例えば、フルオロ官能性シリコーン又はフルオロ官能性有機化合物）により、例示される。

あるいは、成分（Ｋ）にの表面改質剤は、組成物の反応生成物の表面の外観を変化させるために使用することができる。例えば、表面改質剤は、組成物の反応生成物の表面の光沢を増加させるために使用することができる。このような表面改質剤は、アルキル及びアリール基を有するポリジオルガノシロキサンを含み得る。例えば、ＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ（登録商標）５５０流体は、Ｄｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから市販されている０．０００１２５ｍ^２／ｓ（１２５ｃＳｔ）の粘度を有するトリメチルシロキシ末端ポリ（ジメチル／メチルフェニル）シロキサンである。

あるいは、成分（Ｋ）は、亜麻仁油、桐油、大豆油、ヒマシ油、魚油、麻実油、綿実油、オイチシカ油及び菜種油といった、植物又は動物資源から得られる天然油であり得る。

成分（Ｋ）の正確な量は、成分（Ｋ）として選択される表面改質剤のタイプ、並びに、組成物及びその反応生成物の最終用途といった、様々な因子に応じて異なる。しかしながら、成分（Ｋ）は、存在する場合、組成物の重量に基づいて０．０１〜５０重量部、あるいは０．０１〜１０重量部、あるいは０．０１〜５重量部の範囲の量で組成物に添加され得る。成分（Ｋ）は、一つの接着促進剤であってもよい。あるいは、成分（Ｋ）は、以下の特性のうちの少なくとも一つが異なる二つ以上の異なる表面改質剤を含んでもよい：構造、粘度、平均分子量、ポリマー単位、及び配列。

鎖延長剤は、二官能性シラン及び二官能性シロキサンを含んでよく、これらは、架橋が生じる前にポリオルガノシロキサン鎖の長さを延長する。鎖延長剤は、硬化生成物の引張弾性率を減少させるために使用することができる。鎖延長剤と架橋剤は、成分（Ｂ）中の加水分解性置換基との反応において競合する。顕著な鎖延長を得るためには、二官能性シランは、これと共に使用される三官能性架橋剤よりもかなり高い反応性を有する必要がある。好適な鎖延長剤としては、ジアミノシラン（例えば、ジアルキルジアセトアミドシラン又はアルケニルアルキルジアセトアミドシラン、特にメチルビニルジ（Ｎ−メチルアセトアミド）シラン又はジメチルジ（Ｎ−メチルアセトアミド）シラン）、ジアセトキシシラン（例えば、ジアルキルジアセトキシシラン又はアルキルアルケニルジアセトキシシラン）、ジアミノシラン（例えば、ジアルキルジアミノシラン又はアルキルアルケニルジアミノシラン）、ジアルコキシシラン（例えば、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン）、並びに、α−アミノアルキルジアルコキシアルキルシラン、２〜２５の重合度を有し、１分子当たり平均で少なくとも２個の加水分解性基（例えば、アセトアミド又はアセトキシ又はアミノ又はアルコキシ又はアミド又はケトキシモ置換基）を有するポリジアルキルシロキサン、並びに、ジケトキシミノシラン（diketoximinosilanes）（例えば、ジアルキルケトキシミノシラン及びアルキルアルケニルジケトキシミノシラン）が挙げられる。成分（Ｌ）は、一つの鎖延長剤であってもよい。あるいは、成分（Ｌ）は、以下の特性、すなわち構造、粘度、平均分子量、ポリマー単位、及び配列、のうちの少なくとも一つが異なる二つ以上の異なる鎖延長剤を含んでもよい。

成分（Ｍ）は、末端封鎖剤であり、これはＭ単位、すなわち、式Ｒ^２９ _３ＳｉＯ１／２のシロキサン単位を含み、式中、各Ｒ^２９は独立して、一価の炭化水素基などの、一価の有機基の反応性ではない成分（Ｂ）を表す。成分（Ｍ）は、一方の末端をトリオルガノシリル基（例えば、（ＣＨ_３）_３ＳｉＯ−）により、もう一方の末端を水酸基により末端封鎖されたポリオルガノシロキサンを含み得る。成分（Ｍ）は、ポリジオルガノシロキサン（例えば、ポリジメチルシロキサン）であり得る。水酸末端基とトリオルガノシリル末端基の両方を有するポリジオルガノシロキサンは、全ての末端基の５０％超、あるいは７５％超を水酸基として有し得る。ポリジメチルシロキサン中のトリオルガノシリル基の量は、組成物の縮合反応により調製される反応生成物の弾性率を制御するために使用することができる。理論に束縛されるものではないが、トリオルガノシリル末端基の濃度が高いほど、特定の硬化生成物における弾性率が低くなり得ると考えられている。成分（Ｍ）は、一つの末端封鎖剤であってもよい。あるいは、成分（Ｍ）は、以下の特性のうちの少なくとも一つが異なる二つ以上の異なる末端封鎖剤を含んでもよい：構造、粘度、平均分子量、ポリマー単位、及び配列。

成分（Ｎ）は、非反応性のエラストマー有機ポリマーであり、すなわち、成分（Ｂ）と反応しないエラストマー有機ポリマーである。成分（Ｎ）は成分（Ｂ）と相溶性であり、すなわち、成分（Ｎ）は成分（Ｂ）と二相系を形成しない。成分（Ｎ）の気体及び水分透過性は低くてもよい。成分（Ｎ）は、３０，０００〜７５，０００の範囲のＭｎを有し得る。あるいは、成分（Ｎ）は、高分子量の非反応性エラストマー有機ポリマーと低分子量の非反応性エラストマー有機ポリマーとのブレンドであり得る。この場合、高分子量ポリマーは１００，０００〜６００，０００の範囲のＭｎを有し、低分子量ポリマーは９００〜１０，０００、あるいは９００〜３，０００の範囲のＭｎを有する。Ｍｎの範囲の下端の値は、成分（Ｎ）が成分（Ｂ）及び組成物の他の成分と相溶性を有するように、選択され得る。

成分（Ｎ）は、ポリイソブチレンを含み得る。ポリイソブチレンは当該技術分野において既知であり、市販されている。成分（Ｎ）として使用に好適な例としては、ＢＡＳＦ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（ドイツ）により商品名ＯＰＰＡＮＯＬ（登録商標）で流通しているポリイソブチレンが挙げられる。

他のポリイソブチレンとしては、日油株式会社化成事業部（１５０−６０１９東京都渋谷区恵比寿四丁目２０番３号恵比寿ガーデンプレイスタワー、日本）の最高分子量の水素添加ポリイソブテンＰＡＲＬＥＡＭ（登録商標）ＳＶ（ＰＯＬＹＳＹＮＬＡＮＥ ＳＶ）（動粘度（９８．９℃）４７００）といった異なるグレードのＰａｒｌｅａｍが挙げられる。他のポリイソブチレンは、ＥｘｘｏｎＭｏｂｉｌ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．（Ｂａｙｔｏｗｎ，Ｔｅｘａｓ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）から市販されており、例としては、商品名ＶＩＳＴＡＮＥＸ（登録商標）（例えば、ＭＭＬ−８０、ＭＭＬ−１００、ＭＭＬ−１２０、及びＭＭＬ−１４０）で流通しているポリイソブチレンが挙げられる。ＶＩＳＴＡＮＥＸ（登録商標）ポリイソブチレンは、鎖末端オレフィン結合のみを含有する長い直鎖マクロ分子から構成されるパラフィン系炭化水素である。ＶＩＳＴＡＮＥＸ（登録商標）ＭＭポリイソブチレンは、７０，０００〜９０，０００の範囲の粘度平均分子量を有する。低分子量ポリイソブチレンとしては、ＶＩＳＴＡＮＥＸ（登録商標）ＬＭ（例えば、ＬＭ−ＭＳ（８，７００〜１０，０００の範囲の粘度平均分子量、これもまたＥｘｘｏｎＭｏｂｉｌ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．製）及びＶＩＳＴＡＮＥＸ ＬＭ−ＭＨ（１０，０００〜１１，７００の粘度平均分子量）、並びに、ＡｍｏｃｏからのＳｏｌｔｅｘ ＰＢ−２４（Ｍｎ ９５０）及びＩｎｄｏｐｏｌ（登録商標）Ｈ−１００（Ｍｎ ９１０）及びＩｎｄｏｐｏｌ（登録商標）Ｈ−１２００（Ｍｎ ２１００）が挙げられる。他のポリイソブチレンは、ＢＰ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ（Ｌｏｎｄｏｎ，Ｅｎｇｌａｎｄ）により商品名ＮＡＰＶＩＳ（登録商標）及びＨＹＶＩＳ（登録商標）で流通している。これらのポリイソブチレンとしては、ＮＡＰＶＩＳ（登録商標）２００、Ｄ１０及びＤＥ３、並びに、ＨＹＶＩＳ（登録商標）２００が挙げられる。ＮＡＰＶＩＳ（登録商標）ポリイソブチレンは、９００〜１３００の範囲のＭｎを有し得る。

あるいは、成分（Ｎ）は、ブチルゴムを含み得る。あるいは、成分（Ｎ）は、スチレン−エチレン／ブチレン−スチレン（ＳＥＢＳ）ブロックコポリマー、スチレン−エチレン／プロピレン−スチレン（ＳＥＰＳ）ブロックコポリマー、又はこれらの組み合わせを含み得る。ＳＥＢＳ及びＳＥＰＳブロックコポリマーは、当該技術分野において既知であり、かつＫｒａｔｏｎ Ｐｏｌｙｍｅｒｓ Ｕ．Ｓ．ＬＬＣ（米国、テキサス州、Ｈｏｕｓｔｏｎ）からＫｒａｔｏｎ（登録商標）Ｇ ｐｏｌｙｍｅｒｓとして、及びＫｕｒａｒａｙ Ａｍｅｒｉｃａ，Ｉｎｃ．（米国、ニューヨーク州、Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ）からＳｅｐｔｏｎ ｐｏｌｙｍｅｒｓとして市販である。あるいは、成分（Ｎ）は、ポリオレフィンプラストマーを含んでもよい。ポリオレフィンプラストマーは、当該技術分野において既知であり、Ｄｏｗ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｅｌａｓｔｏｍｅｒｓ ＆ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ Ｄｉｖｉｓｉｏｎ（Ｍｉｄｌａｎｄ，Ｍｉｃｈｉｇａｎ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）からＡＦＦＩＮＩＴＹ（登録商標）ＧＡ １９００及びＡＦＦＩＮＩＴＹ（登録商標）ＧＡ １９５０として市販されている。

成分（Ｎ）の量は、組成物の重量に基づいて０部〜５０部、あるいは１０部〜４０部、あるいは５部〜３５部の範囲であり得る。成分（Ｎ）は、一つの非反応性エラストマー有機ポリマーであり得る。あるいは、成分（Ｎ）は、以下の特性のうちの少なくとも一つが異なる二つ以上の異なる非反応性エラストマー有機ポリマーを含んでもよい：構造、粘度、平均分子量、ポリマー単位、及び配列。あるいは、成分（Ｎ）は、成分（Ｂ）が有機ポリマー主鎖を有するベースポリマーを含む場合に、組成物に添加され得る。

成分（Ｏ）は、老化防止添加剤である。老化防止添加剤は、酸化防止剤、紫外線吸収剤、紫外線安定剤、熱安定剤、又はこれらの組み合わせを含み得る。好適な酸化防止剤は、当該技術分野において既知であり、市販されている。好適な酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、及び、フェノール系酸化防止剤と安定剤の組み合わせが挙げられる。フェノール系酸化防止剤は、完全立体障害フェノール及び部分障害フェノールを含む。あるいは、安定剤は、テトラメチル−ピペリジン誘導体のような立体障害アミンであってもよい。適切なフェノール系酸化防止剤としては、ビタミンＥ及びＣｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ（米国）からのＩＲＧＡＮＯＸ（登録商標）１０１０が挙げられる。ＩＲＧＡＮＯＸ（登録商標）１０１０は、ペンタエリスリトールテトラキス（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート）を含む。紫外線吸収剤の例としては、分枝状及び直鎖の、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−ドデシル−４−メチル−フェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ（登録商標）５７１）が挙げられる。紫外線安定剤の例としては、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、メチル１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピぺリジル／セバケート、及びこれらの組み合わせ（ＴＩＮＵＶＩＮ（登録商標）２７２）が挙げられる。これらの及び他のＴＩＮＵＶＩＮ（登録商標）添加物（ＴＩＮＵＶＩＮ（登録商標）７６５などの）は、Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ（米国、ニューヨーク州、Ｔａｒｒｙｔｏｗｎ）から市販されている。他のＵＶ及び光安定剤は、ＣｈｅｍｔｕｒａからのＬｏｗＬｉｔｅ、ＰｏｌｙＯｎｅからのＯｎＣａｐ、Ｅ．Ｉ．ｄｕ Ｐｏｎｔ ｄｅ Ｎｅｍｏｕｒｓ ａｎｄ Ｃｏｍｐａｎｙ（米国、デラウェア州）からのＬｉｇｈｔ Ｓｔａｂｉｌｉｚｅｒ ２１０によって市販され、例示される。オリゴマー（より高分子量）安定剤が、例えば、組成物又はその硬化した製品から出る安定剤の移動に対する潜在性を最小限にするために、あるいは使用されてもよい。オリゴマーの酸化防止剤安定剤（特に障害アミン光安定剤（ＨＡＬＳ））は、Ｃｉｂａ ＴＩＮＵＶＩＮ（登録商標）６２２であり、これは、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジンエタノールと共重合したブタン二酸のジメチルエステルである。熱安定剤は、酸化鉄及びカーボンブラック、カルボン酸鉄、セリウム水和物、ジルコン酸バリウム、オクタン酸セリウム及びオクタン酸ジルコニウム、並びにポルフィリンを含み得る。

成分（Ｏ）の量は、選択される特定の老化防止添加剤及び所望される老化防止効果といった様々な因子に応じて異なる。しかしながら、成分（Ｏ）の量は、組成物の重量に基づいて０〜５重量％、あるいは０．１〜４重量％、あるいは０．５〜３重量％の範囲であり得る。成分（Ｏ）は、一つの老化防止添加剤であってもよい。あるいは、成分（Ｏ）は、二つ以上の異なる老化防止添加剤であってもよい。

成分（Ｐ）は、適用温度範囲にわたって水を放出する水放出剤である。成分（Ｐ）は、組成物と部分的又は完全に反応するのに十分な量の水を成分（Ｐ）が含有するように、並びに、使用温度（すなわち、組成物が使用される温度）に十分な時間にわたって曝露されたときに成分（Ｐ）が十分な量の水を放出するように、選択される。しかしながら、成分（Ｐ）は、組成物の製造工程の間及び組成物を貯蔵する間に過度の水が放出されないように水を十分に捕捉する。例えば、成分（Ｐ）は、組成物が使用される適用プロセスの間又はその後に、十分な水が組成物の縮合反応に利用可能であるように、組成物の混練中に水を十分に捕捉する。この「制御放出」特性はまた、過度の水が適用プロセス中にあまりにも急速に放出されないようにするという効果をもたらし得るが、それは、これが組成物の縮合反応により形成される反応組成物中に発泡又は空隙を生じ得るからである。軽質炭酸カルシウムは、適用温度が８０℃〜１２０℃、あるいは９０℃〜１１０℃、あるいは９０℃〜１００℃の範囲である場合に、成分（Ｐ）として使用され得る。しかしながら、組成物が連続（二軸）混練装置で調製される場合、成分は、短い時間にわたって適合温度よりも２０℃〜３０℃高い温度にて混練され得る。それゆえに、成分（Ｐ）は、混練中に含水量の全てを放出せず、しかしながら、十分な時間にわたって適用温度範囲に曝露されると成分（Ｐ）が組成物の縮合反応に十分な量の水を放出するように、選択される。

好適な水放出剤の例は、金属塩水和物、水和分子篩、及びＳｏｌｖａｙから商品名ＷＩＮＮＯＦＩＬ（登録商標）ＳＰＭで入手可能な軽質炭酸カルシウムにより、例示される。選択される水放出剤は、組成物のために選択される他の成分、触媒の種類及び量、並びに混練、包装及び適用中のプロセス条件といった、様々な因子に依存する可能性がある。二軸混練装置において、滞留時間は、数分未満、典型的には１〜２分未満であり得る。成分は急速に加熱されるが、それは、容器における及び軸に沿った表面積／容積比が高く、成分をせん断することにより熱が生じるからである。どれだけの量の水が成分（Ｐ）から得られるかは、水結合能力、温度、曝露時間（持続時間）、及び混練装置の中を通過する組成物を剥離するために使用される真空のレベルに応じて異なる。理論に束縛されるものではないが、１２０℃の二軸混練温度では、組成物が９０℃にて適用された場合、室温にて１〜２週間にわたる縮合反応により組成物を反応させるのに十分な水が沈殿したＣａＣＯ_３上に残ることになると考えられる。

水放出剤は、例えば、ベースポリマーの水透過性が低い場合（例えば、ベースポリマーが有機ポリマー主鎖を有する場合）に、添加することができ、並びに／又は、組成物中の成分（Ｐ）の量は、成分（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）の選択、及び、任意の追加成分が存在するかどうかといった様々な因子に応じて異なるが、成分（Ｐ）の量は、組成物の重量に基づいて５〜３０部の範囲であり得る。

理論に束縛されるものではないが、組成物を適用温度に加熱すると、熱は水を遊離させることになり、水は、成分（Ｂ）の加水分解性基と反応して組成物を反応させることになると考えられる。組成物中に残されるアルコールかつ／又は水などの副生成物は、乾燥剤により捕捉され得、これにより、縮合反応（平衡反応である）は完了に向かって進行する。

成分（Ｑ）は、顔料である。議論を進めるため、用語「顔料」は、本明細書に記載の組成物の反応生成物に色を付与するのに使用される任意の成分を包含するものとする。顔料の量は、選択される顔料のタイプ及び反応生成物の所望される色合いといった様々な因子に応じて異なる。例えば、組成物は、組成物中の全成分の量に基づいて、０〜２０重量％、あるいは０．００１〜５重量％の顔料を含み得る。

好適な顔料の例としては、インディゴ、二酸化チタンＳｔａｎ−Ｔｏｎｅ ５０ＳＰ０１ Ｇｒｅｅｎ（ＰｏｌｙＯｎｅから市販されている）及びカーボンブラックが挙げられる。カーボンブラックの代表的な非限定例としては、Ｓｈａｗｉｎｉｇａｎアセチレンブラック（Ｃｈｅｖｒｏｎ Ｐｈｉｌｌｉｐｓ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙ ＬＰから市販されている）、ＳＵＰＥＲＪＥＴ（登録商標）カーボンブラック（ＬＢ−１０１１）（Ｅｌｅｍｅｎｔｉｓ Ｐｉｇｍｅｎｔｓ Ｉｎｃ．（Ｆａｉｒｖｉｅｗ Ｈｅｉｇｈｔｓ，ＩＬ Ｕ．Ｓ．Ａ．）により供給されている）、ＳＲ ５１１（Ｓｉｄ Ｒｉｃｈａｒｄｓｏｎ Ｃａｒｂｏｎ Ｃｏ，（Ａｋｒｏｎ，ＯＨ Ｕ．Ｓ．Ａ．）により供給されている）、並びに、Ｎ３３０、Ｎ５５０、Ｎ７６２、Ｎ９９０（Ｄｅｇｕｓｓａ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｅｄ Ｃａｒｂｏｎｓ（Ｐａｒｓｉｐｐａｎｙ，ＮＪ，Ｕ．Ｓ．Ａ．））が挙げられる。

組成物は、場合により、組成物のレオロジーを改質するために、組成物の重量に基づいて最大で５重量％、あるいは１〜２重量％の成分（Ｒ）レオロジー添加剤を更に含み得る。レオロジー添加剤は、当該技術分野において既知であり、市販されている。例としては、ポリアミド、Ｅｖｏｎｉｋから市販されているＰｏｌｙｖｅｓｔ、Ｋｉｎｇ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓから市販されているＤｉｓｐａｒｌｏｎ、Ｄｕ Ｐｏｎｔから市販されているＫｅｖｌａｒ Ｆｉｂｒｅ Ｐｕｌｐ、Ｎａｎｏｃｏｒから市販されているＲｈｅｏｓｐａｎ、及びＬｕｂｒｉｚｏｌから市販されているＩｒｃｏｇｅｌが挙げられる。他の好適なレオロジー添加剤としては、ポリアミド蝋、硬化ヒマシ油誘導体、及び金属石鹸（例えば、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸アルミニウム及びステアリン酸バリウム）、及びこれらの組み合わせが挙げられる。

あるいは、成分（Ｒ）は、２５℃にて固体（蝋）である微結晶性ワックスを含み得る。融点は、所望される温度の適用範囲の下端にて蝋が融点を有するように、選択することができる。理論に束縛されるものではないが、成分（Ｒ）は、流動特性を改善する一方で、例えば、組成物を基材に適用した後に、組成物を数度冷却する際に生強度を急激に増大（すなわち、温度降下に伴って組成物から生成されるシールの負荷保持能力の増加に対応する粘度の大幅な増加）を可能にする加工助剤として働くと考えられる。理論に束縛されるものではないが、蝋の組み込みは、充填剤の組み込み、（組成物の製造中の）混練及び脱気、及び混合（多部構成組成物の複数の構成部分の適用中の静的又は動的混合）を促進し得ると考えられる。蝋は、溶融すると加工助剤として働き、混練中の組成物において充填剤の組み込み、混練プロセスそれ自体、並びに、使用される場合には脱気工程を容易にすると考えられる。蝋は、１００℃以下の溶融温度では、単純な静的ミキサーでも、適用前の多部構成組成物の複数の構成部分の混合を促進し得る。蝋はまた、８０℃〜１１０℃、あるいは９０℃〜１００℃の範囲の温度にて、良好なレオロジーを伴って、組成物の適用を促進し得る。

成分（Ｒ）としての使用に好適な蝋は、無極性炭化水素であり得る。蝋は、分枝状構造、環状構造、又はこれらの組み合わせを有し得る。例えば、石油微結晶性ワックスは、Ｓｔｒａｈｌ ＆ Ｐｉｔｓｃｈ，Ｉｎｃ．（Ｗｅｓｔ Ｂａｂｙｌｏｎ，ＮＹ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）から入手可能であり、例としては、ＳＰ ９６（６２℃〜６９℃の範囲の融点）、ＳＰ １８（７３℃〜８０℃の範囲の融点）、ＳＰ １９（７６℃〜８３℃の範囲の融点）、ＳＰ ２６（７６℃〜８３℃の範囲の融点）、ＳＰ ６０（７９℃〜８５℃の範囲の融点）、ＳＰ ６１７（８８℃〜９３℃の範囲の融点）、ＳＰ ８９（９０℃〜９５℃の範囲の融点）、及びＳＰ ６２４（９０℃〜９５℃の範囲の融点）が挙げられる。他の石油ミクロクリスタリンワックスとしては、Ｃｒｏｍｐｔｏｎ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ ｏｆ Ｐｅｔｒｏｌｉａ（米国、ペンシルバニア州）によってＭｕｌｔｉｗａｘ（登録商標）の商標で販売されているワックスが挙げられる。これらのワックスとしては、飽和分枝状かつ環式無極性の炭化水素を含み、７９℃〜８７℃の範囲の融点を有する１８０−Ｗ；飽和分枝状かつ環式無極性の炭化水素を含み、７６℃〜８３℃の範囲の融点を有するＭｕｌｔｉｗａｘ（登録商標）Ｗ−４４５、並びに飽和分枝状かつ環式無極性の炭化水素を含み、７３℃〜８０℃の範囲の融点を有するＭｕｌｔｉｗａｘ（登録商標）Ｗ−８３５が挙げられる。

成分（Ｒ）の量は、選択される特定のレオロジー添加剤及び組成物の他の成分の選択といった様々な因子に応じて異なる。しかしながら、成分（Ｒ）の量は、組成物の重量に基づいて０部〜２０部、あるいは１部〜１５部、あるいは１部〜５部の範囲であってもよい。成分（Ｒ）は、一つのレオロジー添加剤であってもよい。あるいは、成分（Ｒ）は、二つ以上の異なるレオロジー添加剤を含んでもよい。

ビヒクル（例えば、溶媒かつ／又は希釈剤）が使用されてもよい。ビヒクルは、組成物の流動及びシリコーン樹脂のような特定の成分の導入を容易にする場合がある。本明細書で使用されるビヒクルは、組成物の成分の流動化を補佐するがこれらの成分のいずれとも本質的に反応しないものである。ビヒクルは、組成物中の成分の溶解性及び揮発性に基づいて選択されてもよい。「溶解性」は、ビヒクルが組成物の成分を溶解かつ／又は分散させるのに十分であることを指す。「揮発性」は、ビヒクルの蒸気圧を指す。ビヒクルの揮発性が高すぎる（高すぎる蒸気圧を有する）場合、適用温度にて組成物中に気泡が生じる場合があり、この気泡は破裂を生じる、又は他の方法により硬化した組成物の特性を弱める、又は負の影響を与える恐れがある。しかしながら、ビヒクルが十分に揮発性でない（蒸気圧が低すぎる）場合には、ビヒクルは、組成物の反応生成物において可塑剤のままとなる、又は反応生成物が物理特性を発現する時間が所望されるよりも長くなる恐れがある。

好適なビヒクルとしては、好適な蒸気圧を有するポリオルガノシロキサン、例えば、ヘキサメチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、ヘキサメチルシクロトリシロキサン及び他の低分子量ポリオルガノシロキサン、例えば、５Ｅ−７〜１．５Ｅ−６ｍ^２／ｓ（０．５〜１．５センチストークス（ｃＳｔ））のＤｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ（登録商標）２００ Ｆｌｕｉｄｓ及びＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ（登録商標）ＯＳ ＦＬＵＩＤＳ（これらは、Ｄｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（米国、ミシガン州、（Ｍｉｄｌａｎｄ）から市販されている）が挙げられる。

あるいは、溶媒ビヒクルは有機溶媒であってもよい。有機溶媒は、アルコール（例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、又はｎ−プロパノール）、ケトン（例えば、アセトン、メチルエチルケトン、又はメチルイソブチルケトン）、芳香族炭化水素（例えば、ベンゼン、トルエン、又はキシレン）、脂肪族炭化水素（例えば、ヘプタン、ヘキサン、又はオクタン）、グリコールエーテル（例えば、プロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールｎ−ブチルエーテル、プロピレングリコールｎ−プロピルエーテル、又はエチレングリコールｎ−ブチルエーテル）、ハロゲン化炭化水素（例えば、ジクロロメタン、１，１，１−トリクロロエタン、又は塩化メチレン）、クロロホルム、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ホワイトスピリット、ミネラルスピリット、ナフサ、ｎ−メチルピロリドン、又はこれらの組み合わせであり得る。

ビヒクルの量は、選択されるビヒクルの種類並びに組成物のために選択される他の成分の量及び種類といった様々な因子に依存する可能性がある。しかしながら、ビヒクルの量は、組成物の１〜９９重量％、あるいは２〜５０重量％の範囲であってもよい。

組成物は、場合により、成分（Ｔ）粘着付与剤を更に含み得る。粘着付与剤は、脂肪族炭化水素樹脂、例えば、６〜２０個の炭素原子を有する水素添加ポリオレフィン、水素添加テルペン樹脂、ロジンエステル、水素添加ロジングリセロールエステル、又はこれらの組み合わせを含み得る。粘着付与樹脂は、市販されている。脂肪族炭化水素樹脂は、Ｅｘｘｏｎ ＣｈｅｍｉｃａｌからのＥＳＣＯＲＥＺ １１０２、１３０４、１３１０、１３１５及び５６００、ＥａｓｔｍａｎからのＥａｓｔｏｔａｃ樹脂（例えば、１００℃の環球式軟化点を有するＥａｓｔｏｔａｃ Ｈ−１００、１１５℃の環球式軟化点を有するＥａｓｔｏｔａｃ Ｈ−１１５Ｅ、及び１３０℃の環球式軟化点を有するＥａｓｔｏｔａｃ Ｈ−１３０Ｌ）により、例示される。水素添加テルペン樹脂は、荒川化学工業株式会社のＡｒｋｏｎ Ｐ １００、及びＧｏｏｄｙｅａｒのＷｉｎｇｔａｃｋ ９５により、例示される。水素添加ロジングリセロールエステルは、ＨｅｒｃｕｌｅｓのＳｔａｙｂｅｌｉｔｅ Ｅｓｔｅｒ １０及びＦｏｒａｌにより、例示される。市販のポリテルペンの例としては、ＨｅｒｃｕｌｅｓのＰｉｃｃｏｌｙｔｅ Ａ１２５が挙げられる。脂肪族／芳香族又は脂環式／芳香族樹脂としては、Ｅｘｘｏｎ ＣｈｅｍｉｃａｌのＥＣＲ １４９Ｂ又はＥＣＲ １７９Ａが挙げられる。あるいは、固体粘着付与剤（すなわち、２５℃以上の環球式軟化点を有する粘着付与剤）が添加され得る。好適な粘着付与剤としては、任意の適合性樹脂又はこれらの混合物、例えば、（１）天然又は変性ロジン（例えば、ガムロジン、ウッドロジン、トール油ロジン、揮発ロジン、水素添加ロジン、二量化ロジン、及び重合ロジン）、（２）天然又は変性ロジンのグリセロール及びペンタエリスリトールエステル（例えば、ペール、ウッドロジン（pale, woodrosin）のグリセロールエステル、水素添加ロジンのグリセロールエステル、重合ロジンのグリセロールエステル、水素添加ロジンのペンタエリスリトールエステル、及びロジンのフェノール変性ペンタエリスリトールエステル）、（３）天然テルペン（例えば、スチレン／テルペン及びα−メチルスチレン／テルペン）のコポリマー及びターポリマー、（４）ＡＳＴＭ方法Ｅ２８，５８Ｔにより測定した場合に６０℃〜１５０℃の範囲の軟化点を有するポリテルペン樹脂（後者のポリテルペン樹脂は一般に、やや低温にてフリーデル・クラフツ触媒の存在下でピネンとして知られる二環式モノテルペンのようなテルペン炭化水素の重合から生じ、また、水素添加ポリテルペン樹脂も含まれる）、（５）（例えば、酸性媒質中で二環式テルペンとフェノールの縮合から生じる樹脂生成物としての）フェノール系変性テルペン樹脂及びこれらの水素添加誘導体、（６）６０℃〜１３５℃の範囲の環球式軟化点を有する脂肪族石油炭化水素樹脂（後者の樹脂は、主にオレフィン及びジオレフィンからなるモノマーの重合から生じ、水素添加脂肪族石油炭化水素樹脂も含む）、（７）脂環式石油炭化水素樹脂及びこれらの水素添加誘導体、並びに（８）脂肪族／芳香族又は脂環式／芳香族コポリマー及びこれらの水素添加誘導体が挙げられる。粘着付与剤の量は、選択される特定の粘着付与剤及び組成物中の他の成分の選択といった様々な因子に応じて異なる。しかしながら、粘着付与剤の量は、組成物の重量に基づいて０部〜２０部の範囲であり得る。

組成物は、所望により、成分（Ｕ）、腐食防止剤を更に含む。適切な腐食防止剤の例としては、ベンゾトリアゾール、メルカプトベンゾトリアゾール、並びに市販の腐食防止剤（Ｒ．Ｔ．Ｖａｎｄｅｒｂｉｌｔ（米国、コネチカット州、Ｎｏｒｗａｌｋ）からの２，５−ジメルカプト−１，３，４−チアジアゾール誘導体（ＣＵＶＡＮ（登録商標）８２６）及びアルキルチアジアゾール（ＣＵＶＡＮ（登録商標）４８４）などの）が挙げられる。存在する場合、成分（Ｕ）の量は、組成物の重量に基づいて０．０５％〜０．５％の範囲であってもよい。

本明細書に記載の特定の成分は一つを超える機能を有する場合があるため、上述の組成物の成分を選択する際、成分の種類に重複がある場合がある。例えば、特定のアルコキシシランは充填剤処理剤としても接着促進剤としても有用であり得、特定の脂肪酸エステルは可塑剤としても有用であり得、充填剤処理剤としても有用であり得、カーボンブラックは顔料、難燃剤、かつ／又は充填剤として有用であり得、非反応性ポリジオルガノシロキサン（例えば、ポリジメチルシロキサン）は増量剤としても溶媒としても有用であり得る。

上記の組成物は、例えば、混合などの任意の好都合な手段によって全成分を組み合わせることにより、一部構成組成物として調製され得る。例えば、一部構成組成物は、場合により、ベースポリマー（Ｂ）と増量剤（Ｅ）を組み合わせ（予め混合し）、生じた展延ベースポリマーを充填剤（Ｆ）の全て又は一部と混合し、これを架橋剤（Ｃ）及び成分（Ａ）を含むプレミックスと混合することにより、製造され得る。（Ｏ）老化防止添加剤及び（Ｑ）顔料といった他の添加剤は、任意の所望される段階にて混合物に添加され得る。最終混合工程は実質的に無水の条件下で行うことができ、生じた組成物は一般に使用準備が整うまで実質的無水条件下で、例えば、密封容器で保管される。

あるいは、組成物は、架橋剤が存在する場合、多部構成（例えば、２部構成）組成物として調製され得る。この例では、触媒及び架橋剤は別個の構成部分として保管され、これらの構成部分は、組成物の使用直前に組み合わされる。例えば、二部構成硬化性組成物は、成分（Ｂ）及び（Ｃ）を含む成分を組み合わせて混合のような任意の好都合な手段により第一（硬化剤）構成部分を形成することによって、調製され得る。第二（ベース）構成部分は、混合のような任意の好都合な手段により成分（Ａ）及び（Ｂ）を組み合わせることによって、調製され得る。これらの成分は、一部構成組成物又は多部構成組成物のどちらが選択されるかといった様々な因子に応じて、周囲条件又は無水条件下で周囲温度又は高温にて組み合わせられ得る。ベース構成部分と硬化剤構成部分は、使用直前に、混合のような任意の好都合な手段により、組み合わせることができる。ベース構成部分と硬化剤構成部分は、相対的に１：１〜１０：１の範囲のベース：硬化剤量で組み合わせることができる。

成分の混合に使用される装置は、特に限定されない。適切な混合装置の例は、選択される各成分の種類及び量に応じて選択されてもよい。例えば、反応によりガム又はゲルを形成することになる組成物などの比較的低粘度の組成物には、撹拌バッチケトルが使用されてもよい。あるいは、例えば、より粘稠な組成物及び、粒子を比較的多量に含有する組成物には、二軸押出成形機のような押出成形機といった連続混練装置が使用され得る。本明細書に記載の組成物の調製に使用できる代表的な方法としては、例えば、米国特許出願公開第２００９／０２９１２３８号及び同第２００８／０３００３５８号に開示されているものが挙げられる。

上述のように製造されるこれらの組成物は、水分への曝露から組成物を保護する容器での保管時に安定であり得るが、これらの組成物は、大気の水分に曝露されると縮合反応によって反応し得る。あるいは、低浸透性組成物が配合された場合、組成物は、水放出剤から水分が放出された際に硬化して、硬化生成物を生じ得る。

上記のように調製された組成物及びこれらの反応生成物は、様々な用途を有する。上記の成分は、成分（Ａ）及び（Ｂ）を含む様々なタイプの組成物を調製するために、使用され得る。組成物は、組成物のタイプ並びに組成物かつ／又は組成物の反応生成物の所望される最終用途に応じて、上記の追加成分のうちの一つ以上を更に含み得る。例えば、上記の成分及び方法は、例えば、ベースポリマーが１分子当たり平均で１〜２個の加水分解性基を有する場合に、ベースポリマーの粘度を増加させるために、かつ／又は、ガムを形成するために、鎖延長プロセスに使用され得る。あるいは、上記の成分及び方法は、例えば、ベースポリマーが１分子当たり平均で２個以上の加水分解性基を有する場合に、かつ／又は、架橋剤が組成物中に存在する場合に、硬化性組成物を配合するために使用することができる。本明細書に記載の組成物は、水分に曝露することにより縮合反応によって、反応し得る。例えば、組成物は、大気水分に曝露されると、縮合反応によって反応し得る。あるいは、組成物は、水放出剤が存在する場合に、水放出剤から放出される水分と反応する。本明細書に記載される各組成物は、反応して反応生成物を形成する。反応生成物は、ガム、ゲル、ゴム、又は樹脂から選択される形態を有してもよい。

これらの実施例は、本発明のいくつかの実施形態を例示することを目的とするものであり、請求項に記載の本発明の範囲を制限するものとして解釈すべきではない。参照例は、そのように示されていない限り先行技術とみなすべきではない。以下の成分を、下記の実施例に使用した。使用する前駆体は、銅２−エチルヘキサノエート（「Ｃｕ（２−エチルヘキサノエート）_２」）及びメシチル銅（「Ｃｕ（メシチル）」）であり、これら両者は、Ｓｔｒｅｍ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｉｎｃ．（米国、マサチューセッツ州、Ｎｅｗｂｕｒｙｐｏｒｔ）から購入した。架橋剤、ｎ−ブチルトリメトキシシラン（「ｎ−ＢｕＳｉ（Ｏ−Ｍｅ）_３」）は、Ｇｅｌｅｓｔ、Ｉｎｃ．（米国、ペンシルバニア州、Ｍｏｒｒｉｓｖｉｌｌｅ）から購入した。９Ｅ−５〜０．０００１２ｍ^２／ｓ（９０〜１２０ｃＳｔ）の粘度、及び４２００の数平均分子量Ｍｗを有するシラノール末端ポリジメチルシロキサン（「ＰＤＭＳ １」であるベースポリマー）もまた、Ｇｅｌｅｓｔ、Ｉｎｃ．から購入した。

実施例１−金属−配位子錯体の形成
前駆体溶液は、Ｃｕ（２−エチルヘキサノエート）_２又はＣｕ（メシチル）のいずれかの前駆体を、（０．０２５Ｍの濃度で）トルエンと混合して調製した。上記表１に示す配位子１〜４０の各溶液は、各配位子（０．０２５Ｍの濃度で）をトルエンと混合して調製した。

上記で調製した配位子の溶液を、予め重量測定した１ミリリットル（ｍＬ）バイアル内に分与した。２４マイクロリットル（μＬ）の溶液（０．６マイクロモル、μｍｏｌの配位子に対応する）又は４８μＬの溶液（１．２μｍｏｌの配位子に対応する）のいずれかを、各バイアルの中で使用した。バイアル内のトルエンは、窒素を流している箱の中に蓋をせずに一晩バイアルを放置することにより除去した。

配位子（今では溶媒なし）を収容する各バイアルに、２４μＬの上記のように調製された前駆体溶液（０．６μｍｏｌの前駆体に対応する）を添加し、金属−配位子混合溶液を形成した。金属−配位子混合溶液を収容するバイアルを、毎分６０回転（ｒｐｍ）で、２５℃で６０分間又は７５℃で４５分間のいずれかで撹拌し、金属−配位子錯体を形成した。

実施例２−縮合反応
上記の錯化反応（実施例１）が完了したら、２１０ミリグラム（ｍｇ）のＰＤＭＳ １（２３５．７μＬ又は５０μｍｏｌに対応する）及び１７．８ｍｇのｎ−ＢｕＳｉ（Ｏ−Ｍｅ）_３（１９．１μＬ、又は１００μｍｏｌに対応する）を、各金属−配位子錯体を収容するバイアル内に乾燥箱内で注入した。次いで、各バイアル内の総容積が確実に、３２５μＬになるように、より多くのトルエンを添加した。実施例２のサンプルは、この様式で調製した。上記の前駆体を使用して、しかし配位子無しで、陰性対照サンプルも調製した。陰性対照サンプルでは、２１０ｍｇのＰＤＭＳ １、１７．８ｍｇのｎ−ＢｕＳｉ（Ｏ−Ｍｅ）_３、トルエン（合計量が３２５μＬに達するのに十分な量）を、前駆体の入ったバイアル内に注入した。上記の表１に記載された配位子を使用して、しかし前駆体無しで、追加の陰性対照サンプルも調製した。これらの追加の陰性対照サンプルでは、２１０ｍｇのＰＤＭＳ １、１７．８ｍｇのｎ−ＢｕＳｉ（Ｏ−Ｍｅ）_３、トルエン（合計量が３２５μＬに達するのに十分な量）を、配位子の入ったバイアル内に注入した。

組成物を収容する、結果として得られたバイアルを、乾燥箱から取り出し、フードに入れ、活発な撹拌（各組成物が均質化するように数百ｒｐｍ）で一分間撹拌した。次いで、バイアルを、それぞれに穴の開いたプレートで蓋し、９５％の相対湿度レベルが（ＲＨ）で３０℃に維持した恒湿炉内に置いた。

恒湿炉内に４８時間置いた後、バイアルを恒湿炉から取り出し、視覚粘度を観察し記録した。４８時間視覚粘度測定は、サンプルを、異なる粘度参照基準を収容するバイアルと、隅から隅まで視覚的に比較して決定した。測定を、サンプルが最初に水分に暴露されてから４８時間後に実行した。各サンプルの視覚粘度測定値は、最も厳密に適合した参照基準バイアルに基づいて割り当てた。参照基準は、異なる粘度のＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ（登録商標）２００流体（「２００ Ｆｌｕｉｄ」）であり、これは、Ｄｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（米国、ミシガン州、Ｍｉｄｌａｎｄ）から市販されている。対応する視覚粘度の説明及び基準を、下記の表２に示す。０又は１の値は、サンプルが４８時間以内に縮合反応を呈しないことを示した。２〜５の値は、縮合反応が次第に発生していることを示した。再現実験は、視覚粘度測定を行った操作者及び再現実験が異なる時間に行われたかどうかなどの様々な要因に起因する正常変動を受けた。

表３及び４は、配位子、金属前駆体配位子：金属比、反応条件（時間及び温度）、及び表１の配位子１〜４０を使用して調製されたサンプルに対する結果（４８時間視覚粘度及び外観）を示す。

（表３の続き）

（表３の続き）

表３の最初の４行は、陰性対照サンプルを示し、ここで前駆体は、配位子が使用されていないことを除いて実施例２の方法により試験した。加えて、表３の各配位子に対して、陰性対照サンプルを調製し、ここで配位子は、前駆体が使用されていないことを除いて実施例２の方法により試験した。それぞれのかかる場合では、４８時間視覚粘度値は１だった。表３、表４、及び表５では、外観の列の略語「Ｃ」は、透明であることを意味し、「Ｈ」は、濁っていることを意味し、「Ｃ／Ｃ」は、透明で硬化していることを意味する。

（表４の続き）

（表４の続き）

表４の最初の３行は、陰性対照サンプルを示し、ここで前駆体は、配位子が使用されていないことを除いて実施例２の方法により試験した。加えて、表４の各配位子に対して、陰性対照サンプルを調製し、ここで配位子は、前駆体が使用されていないことを除いて実施例２の方法により試験した。それぞれのかかる場合では、４８時間視覚粘度値は１だった。

実施例３−金属−配位子錯体の形成
前駆体溶液は、Ｃｕ（２−エチルヘキサノエート）_２を、（０．０２５Ｍの濃度で）トルエンと混合して調製した。上記表１に示す配位子４１、４２、及び４３の各溶液は、各配位子を、（０．０２５Ｍの濃度で）トルエンと混合して調製した。

上記で調製した配位子の溶液を、８ミリリットル（ｍＬ）バイアル内に分与した。２４０マイクロリットル（μＬ）の溶液（６マイクロモル、μｍｏｌの配位子に対応する）又は４８０μＬの溶液（１２μｍｏｌの配位子に対応する）のいずれかを、各バイアルの中で使用した。バイアル内のトルエンは、窒素を流している箱の中に蓋をせずに一晩バイアルを放置することにより除去した。

配位子（今では溶媒なしの）を収容する各バイアルに、２４０μＬの上記のように調製された前駆体溶液（６μｍｏｌの前駆体に対応する）を添加し、金属−配位子混合溶液を形成した。金属−配位子混合溶液を収容するバイアルを、毎分６０回転（ｒｐｍ）で、２５℃で６０分間又は７５℃で４５分間のいずれかで撹拌し、金属−配位子錯体を形成した。

実施例４−縮合反応
上記の錯化反応（実施例３）が完了したら、２０３７ミリグラム（ｍｇ）のＰＤＭＳ １及び１２９．９ｍｇのメチルトリメトキシシラン（ＭＴＭ）を、各金属−配位子錯体を収容するバイアル内に乾燥箱内で注入した。次いで、各バイアル内の総容積が確実に３ｍＬになるように、より多くのトルエンを添加した。実施例４のサンプルは、この様式で調製した。上記の前駆体を使用して、しかし配位子無しで、陰性対照サンプルも調製した。陰性対照サンプルでは、２０３７ｍｇのＰＤＭＳ １、１２９．９ｍｇのＭＴＭ、及びトルエン（合計量が３ｍＬに達するのに十分な量）を、前駆体の入ったバイアル内に注入した。上記の表１に記載された配位子を使用して、しかし前駆体無しで、追加の陰性対照サンプルも調製した。これらの追加的な陰性対照サンプルでは、２０３７ｍｇのＰＤＭＳ １、１２９．９ｍｇのＭＴＭ、及びトルエン（合計量が３ｍＬに達するのに十分な量）を、配位子の入ったバイアル内に注入した。

組成物を収容する、結果として得られたバイアルを、乾燥箱から取り出し、フードに入れ、活発な撹拌（各組成物が均質化するように数百ｒｐｍ）で一分間撹拌した。次いで、バイアルを、それぞれに穴の開いたプレートで蓋し、９５％の相対湿度レベルが（ＲＨ）で３０℃に維持した恒湿炉内に置いた。

恒湿炉内に４８時間置いた後、バイアルを恒湿炉から取り出し、実施例２の方法により視覚粘度を観察し記録した。

表５は、配位子、金属前駆体配位子：金属比、反応条件（時間及び温度）、及び実施例３及び実施例４で調製したサンプルに対する結果（４８時間視覚粘度及び外観）を示す。

これらの実施例は、成分（Ａ）に対して上記され、かつ実施例の項で試験された触媒が縮合反応を触媒できることを示す。本明細書に記載の組成物は、上記されたようにスズ触媒を含まないものであってもよい。理論に束縛されるものではないが、本明細書に成分（Ａ）として記載される触媒は、一部の縮合反応硬化性組成物で、スズ触媒を含有する同じ組成物と比較して、代替的な、匹敵する、又はより良好に硬化する性能を提供する場合があると考えられる。

Claims (15)

1. 成分（Ａ）及び（Ｂ）を含む組成物であって、
   成分（Ａ）は、触媒的に有効な量の、Ｃｕ前駆体と配位子との反応の触媒活性反応生成物であり、
   成分（Ｂ）は、１分子当たり、平均して一つ以上の加水分解性置換基を有するケイ素含有ベースポリマーであり、また、
   成分（Ａ）は、成分（Ｂ）の前記加水分解性置換基の縮合反応を触媒することができる、組成物。
2. 実施例２の方法によって試験したときに、前記縮合反応が、２〜５の範囲の視覚粘度値を有する反応生成物を生成する、請求項１に記載の組成物。
3. 前記前駆体は、一般式Ｃｕ−Ａ_ａを有し、式中、下付き文字ａは１又は２であり、
   式中、Ａはそれぞれ独立して一価の有機基であり、また、下付き文字ａは１又は２の値を有する、請求項１又は２に記載の組成物。
4. 以下の条件、すなわち、
   Ａはそれぞれ独立してアリール基及びカルボキシルエステル基から選択される；又は
   Ａはそれぞれ独立してメシチル又はエチルヘキサノエートである、
   との条件のうちの一つを満たす、請求項３に記載の組成物。
5. 条件（ａ）から条件（ｎ）のうちの一つを満たす、請求項１〜４のいずれか一項に記載の組成物であって、
   条件（ａ）は、前記配位子が一般式（ｉｉ）：
   を有し、式中、下付き文字ａは０〜４であり、Ｑ^１はＮ、Ｏ、Ｐ、及びＳから選択されるへテロ原子であり、Ａ^１はそれぞれ独立して一価の炭化水素基又は一価のハロゲン化炭化水素基から選択され、Ａ^２はそれぞれ独立して水素原子、一価の炭化水素基、又は一価のハロゲン化炭化水素基から選択され、Ａ^３はそれぞれ独立して水素原子、一価の炭化水素基、又は一価のハロゲン化炭化水素基から選択され、Ａ^４はそれぞれ独立して水素原子、一価の炭化水素基、又は一価のハロゲン化炭化水素基から選択され；ただし、Ａ^３は、代替的にＡ^４とともに環状構造に結合されてもよく、Ａ^５は一価の炭化水素基であり；ただし、Ａ^４がＡ^３とともに環状構造に結合されないときは、Ａ^４は、代替的にＱ^１及びＡ^５とともに環状構造に結合されてもよく、ここで、Ａ^４、Ｑ^１、及びＡ^５を含む前記環状構造は、複素環式又は複素環式芳香族である、というものであり、
   条件（ｂ）は、前記配位子が一般式（ｉｉｉ）：
   を有し、式中、下付き文字ｂは０〜４であり、Ａ^６はそれぞれ独立してハロゲン原子、一価の炭化水素基、及び一価のへテロ原子含有基から選択され、ただし、下付き文字ｂ≧２のときは、代替的に、２つ以上のＡ^６がともに環状基に結合され、すなわち、Ａ^６が結合されるフェニル基と縮合環を形成してもよく、Ａ^７はそれぞれ独立して水素原子、一価の炭化水素基、又は一価のハロゲン化炭化水素基から選択され、また、Ａ^８は、少なくとも一つの完全不飽和の環を含む一価の芳香族基である、というものであり、
   条件（ｃ）は、前記配位子が一般式（ｖ）：
   を有し、式中、下付き文字ｃは０〜４であり、下付き文字ｄは０〜５であり、下付き文字ｅは０〜５であり、ただし、ｃ＞０のときは、量（ｄ＋ｅ）＝０であり、また、ｄ＞０又はｅ＞０のいずれかのときは、下付き文字ｃ＝０であり、Ｑ^２はＮ、Ｏ、Ｐ、又はＳから選択されるへテロ原子であり、Ａ^９は一価の炭化水素基であり、各Ａ^１０又は各Ａ^１１は独立してハロゲン原子、一価の炭化水素基、及び一価のへテロ原子含有基から選択されてもよい、というものであり、
   条件（ｄ）は、前記配位子が一般式（ｖｉ）：
   を有し、式中、Ｑ^３はＯ、Ｐ、及びＳから選択されるへテロ原子であり、下付き文字ｆは０〜４であり、Ａ^１２はそれぞれ独立してハロゲン原子、一価の炭化水素基、及び一価のへテロ原子含有基から選択され、Ａ^１３は水素原子又は一価の炭化水素基であり、Ａ^１４は水素原子又は一価の炭化水素基であり、ただし、Ｑ^３、Ａ^１３及びＡ^１４はともに、代替的に環状基に結合されてもよい、というものであり、
   条件（ｅ）は、前記配位子が一般式（ｖｉｉ）：
   を有し、式中、Ｑ^４はＯ及びＳから選択されるへテロ原子であり、Ａ^１５は一価の炭化水素基であり、Ａ^１６は水素原子又は一価の炭化水素基であり、ただし、Ａ^１５がアリール基又はアラルキル基であるときは、Ａ^１５は水素原子、Ｍｅ、又はＥｔをオルト配置で有し、また、各Ａ^１７及び各Ａ^１８は独立して水素原子及び一価の炭化水素基から選択されてもよい、というものであり、
   条件（ｆ）は、前記配位子が一般式（ｖｉｉｉ）：
   を有し、式中、Ｑ^６はＯ及びＳから選択されるへテロ原子であり、下付き文字ｇは０〜４であり、Ａ^１９はそれぞれ独立してハロゲン原子、一価の炭化水素基、又は一価のへテロ原子含有基から選択され、Ａ^２０は水素原子又は一価の炭化水素基から選択され、Ａ^２１は一価の炭化水素基又は一価のへテロ原子含有基から選択され、Ａ^２２はそれぞれ独立して水素原子、一価の炭化水素基、及び一価のへテロ原子含有基から選択され、Ａ^２３はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、一価の炭化水素基、及び一価のへテロ原子含有基から選択される、というものであり、
   条件（ｇ）は、前記配位子が一般式（ｉｘ）：
   を有し、式中、Ｑ^７はＯ及びＳから選択されるへテロ原子であり、Ａ^２４はそれぞれ独立して一価の炭化水素基であり、Ａ^２５は水素原子又は一価の炭化水素基であり、Ａ^２６は水素原子、一価の炭化水素基、又は一価のへテロ原子含有基から選択され、Ａ^２７は一価の炭化水素基又は一価のへテロ原子含有基から選択され、ただし、Ａ^２７は芳香族官能基を含まない、というものであり、
   条件（ｈ）は、前記配位子が一般式（ｘ）：
   を有し、式中、Ｑ^８はＯ及びＳから選択されるへテロ原子であり、下付き文字ｉは０〜４であり、Ａ^２８はそれぞれ独立して一価の炭化水素基であり、Ａ^２９は一価の炭化水素基であり、また、Ａ^３０は水素原子、一価の炭化水素基、又は一価のへテロ原子含有基から選択される、というものであり、
   条件（ｉ）は、前記配位子が一般式（ｘｉ）：
   を有し、式中、下付き文字ｊは０〜４であり、Ａ^３１はそれぞれ独立して一価の炭化水素基及び一価のへテロ原子含有基から選択され、Ａ^３２はアルキル基又は炭素環式基であり、また、Ａ^３３は水素原子又は一価の炭化水素基である、というものであり、
   条件（ｊ）は、前記配位子が一般式（ｘｉｉ）：
   を有し、式中、各下付き文字ｋ及び各下付き文字ｍは独立して０〜４であり、Ｑ^１０及びＱ^９はそれぞれ独立してＯ及びＳから選択されるへテロ原子であり、また、Ａ^３４はそれぞれ独立して一価の炭化水素基及び一価のへテロ原子含有基から選択される、というものであり、
   条件（ｋ）は、前記配位子が一般式（ｘｉｉｉ）：
   を有し、式中、下付き文字ｎは０〜４であり、Ｑ^１１はそれぞれ独立してＯ及びＳから選択されるへテロ原子であり、Ａ^３５はそれぞれ独立して一価の炭化水素基及び一価のへテロ原子含有基から選択され、また、Ａ^３６はそれぞれ一価の炭化水素基である、というものであり、
   条件（ｍ）は、前記配位子が一般式（ｘｉｖ）：
   を有し、式中、Ａ^３８、Ａ^３９、Ａ^４０、及びＡ^４１はそれぞれ独立して一価の炭化水素基及び一価のへテロ原子含有基から選択され、ただし、Ａ^３８、Ａ^３９、Ａ^４０、及び／又はＡ^４１のうちの２つ以上がともに環状基に結合されてもよい、というものであり、
   条件（ｎ）は、前記配位子が一般式（ｘｖ）：
   を有し、式中、Ｑ^１２はＯ及びＳから選択されるへテロ原子であり、下付き文字ｏは０〜５であり、Ａ^４２はそれぞれ独立して一価の炭化水素基又は一価のへテロ原子含有基から選択され、Ａ^４３はそれぞれ独立して水素原子、一価の炭化水素基及び一価のへテロ原子含有基から選択され、また、Ａ^４４はそれぞれ独立して一価の炭化水素基及び一価のへテロ原子含有基から選択される、というものである、。
   組成物。
6. 以下の条件、すなわち、
   前記配位子が、
   （上記表の続き）
   （上記表の続き）
   （上記表の続き）
   （上記表の続き）
   （上記表の続き）
   （上記表の続き）
   のうちのいずれか一つである；又は
   前記配位子が、配位子１、２、３、４、６、７、９、１０、１３、１４、１７、１８、及び１９のうちのいずれか一つである；又は
   前記配位子が、配位子２１及び２２のうちのいずれか一つである；又は
   前記配位子が、配位子２３である；又は
   前記配位子が、配位子５及び２６のうちのいずれか一つである；又は
   前記配位子が、配位子２７〜３０及び３４のうちのいずれか一つである；又は
   前記配位子が、配位子３１〜３３及び３５〜３６のうちのいずれか一つである；又は
   前記配位子が、配位子３８〜４０のうちのいずれか一つである；又は
   前記配位子が、配位子８、１５、１６、及び２０のうちのいずれか一つである；又は
   前記配位子が、配位子１１及び３７のうちのいずれか一つである；又は
   前記配位子が、配位子２４及び２５のうちのいずれか一つである；又は
   前記配位子が、配位子６、９、２３、２８、２９、３１〜３３、３５〜３６、及び３８のうちのいずれか一つである；又は
   前記配位子が、配位子４１〜４３のうちのいずれか一つである、
   との条件のうちの一つを満たす、請求項１〜５のいずれか一項に記載の組成物。
7. 成分（Ａ）及び（Ｂ）とは異なる少なくとも一つの追加的な成分を更に含む請求項１〜６のいずれか一項に記載の組成物であって、前記少なくとも一つの追加的な成分が、（Ｃ）架橋剤；（Ｄ）乾燥剤；（Ｅ）増量剤、可塑剤、又はこれらの組み合わせ；（Ｆ）充填剤；（Ｇ）処理剤；（Ｈ）殺生物剤；（Ｊ）難燃剤；（Ｋ）表面改質剤；（Ｌ）鎖延長剤；（Ｍ）末端封鎖剤；（Ｎ）非反応性結合剤；（Ｏ）老化防止添加剤；（Ｐ）水放出剤；（Ｑ）顔料；（Ｒ）レオロジー添加剤；（Ｓ）ビヒクル；（Ｔ）粘着付与剤；（Ｕ）腐食防止剤；並びにこれらの組み合わせ、からなる群より選択される、組成物。
8. 反応生成物を調製するために、請求項１〜７のいずれか一項に記載の組成物を水分に暴露する工程を含む、方法。
9. 以下の条件、すなわち、
   前記反応生成物が、ガム、ゲル、ゴム、及び樹脂から選択される形態を有する；又は
   前記反応生成物が、ガム、ゲル、ゴム、及び樹脂から選択される形態を有し、また、前記反応生成物が、透明かつ／又は無色である、
   との条件のうちの一つを満たす、請求項８の方法によって調製される反応生成物。
10. 請求項１〜７のいずれか一項に記載の組成物を作製する方法であって、
    前記組成物を作製するために、成分（Ａ）及び成分（Ｂ）を含む成分を混合する工程；又は
    前記組成物を作製するために、成分（Ａ）、（Ｂ）、及び（Ｃ）含む成分を混合する工程；又は
    前記組成物を作製するために、（Ａ）、（Ｂ）、及び（Ｃ）、並びに成分（Ｄ）、（Ｅ）、（Ｆ）、（Ｇ）、（Ｈ）、（Ｊ）、（Ｋ）、（Ｌ）、（Ｍ）、（Ｎ）、（Ｏ）、（Ｐ）、（Ｑ）、（Ｒ）、（Ｓ）、（Ｔ）、及び（Ｕ）のうちの一つ以上を含む成分を混合する工程；又は
    前記組成物を作製するために、成分（Ａ）及び成分（Ｂ）、並びに成分（Ｃ）、（Ｄ）、（Ｅ）、（Ｆ）、（Ｇ）、（Ｈ）、（Ｊ）、（Ｋ）、（Ｌ）、（Ｍ）、（Ｎ）、（Ｏ）、（Ｐ）、（Ｑ）、（Ｒ）、（Ｓ）、（Ｔ）、及び（Ｕ）のうちの一つ以上を含む成分を混合する工程
    を含む、方法。
11. 前記Ｃｕ前駆体及び前記配位子を加熱する工程を更に含む、請求項１０に記載の方法。
12. 前記反応生成物が副産物を更に含む請求項１０又は請求項１１に記載の方法であって、前記Ｃｕ前駆体と前記配位子とを反応させた後に前記副産物を除去して、前記Ｃｕ−配位子錯体が前記副産物を含まないようにする工程を更に含む、方法。
13. 請求項１０又は請求項１１の方法によって調製された触媒活性反応生成物であって、
    ａ）Ｃｕ−配位子錯体と、
    ｂ）前記Ｃｕ前駆体と前記配位子との前記反応からの、又はそのときの副反応からの副産物と
    を含む、触媒活性反応生成物。
14. 請求項１０〜１２のいずれか一項に記載の方法によって調製された、触媒活性反応生成物。
15. 透明かつ／又は無色である、請求項１３又は請求項１４に記載の触媒活性反応生成物。