JP2014122831A - マイクロ流路デバイス - Google Patents
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Abstract
【課題】高い寸法精度を達成した溶着を可能とするマイクロ流路デバイスを提供する。
【解決手段】本発明のマイクロ流路デバイスは、第1基板及び第2基板を接合してなる。第1基板又は第2基板の少なくとも一方には流路溝が形成されており、かつ、第1基板又は第2基板の一方の周囲には他方と接合する突条を備える。突条は接合前の状態で、横断面が三角形又は台形をなし、三角形の頂角又は台形の2つの脚がなす角が45度以上60度以下、かつ、三角形又は台形の高さが0.2mm以上0.3mm以下である。第1基板及び第2基板を接合した状態で、突条を除く部分では第1基板と第2基板は非接触状態に保たれる。これにより、第1基板と第2基板の接合において高い寸法精度を達成した溶着を可能とする
【選択図】図3
【解決手段】本発明のマイクロ流路デバイスは、第1基板及び第2基板を接合してなる。第1基板又は第2基板の少なくとも一方には流路溝が形成されており、かつ、第1基板又は第2基板の一方の周囲には他方と接合する突条を備える。突条は接合前の状態で、横断面が三角形又は台形をなし、三角形の頂角又は台形の2つの脚がなす角が45度以上60度以下、かつ、三角形又は台形の高さが0.2mm以上0.3mm以下である。第1基板及び第2基板を接合した状態で、突条を除く部分では第1基板と第2基板は非接触状態に保たれる。これにより、第1基板と第2基板の接合において高い寸法精度を達成した溶着を可能とする
【選択図】図3
Description
本発明は、マイクロ流路デバイスに関する。
近年、マイクロリアクターやマイクロアナリシスシステムと呼ばれる化学反応システムや分析システムの微小化の研究が盛んに行われている。システムの微小化の利点として、微量の検体量で試験が可能となること、廃液の排出量が軽減されることなどが挙げられる。また、省スペースで持ち運びが可能であり、かつ、安価なシステムを構築することができる。
このようなシステムは、核酸、タンパク質、糖鎖などの分析や合成、微量化学物質の迅速分析、医薬品・薬物のハイスループットスクリーニングへの応用が期待されている。また、体積に対する表面積の比率が向上することにより、熱移動・物質移動の高速化が実現できるため、反応や分離の精密な制御、高速・高効率化、副反応の抑制が期待される。
具体的なシステムとして、マイクロ流路を持つマイクロ流路デバイスを用いる検討がなされている。一般にマイクロ流路デバイスは微細加工によりマイクロ流路を形成した基板に他の基板又は膜を貼り合わせること等により製造されている。
樹脂基板同士を溶着する場合、超音波を用いた溶着が一般的である。このとき双方の基板の接合面が共に平坦であると溶着の効率が低下するため、基板の一方に山形のリブを設けることが一般的である(例えば特許文献1を参照)。
しかしながら、マイクロ流路デバイスのように高い寸法精度が要求される場合、溶着も高度に制御することが必要となる。すなわち、超音波溶着においては特にリブの先端を振動させるが、この際にリブ全体が大きく撓んだり折れたりすると高い精度を達成することは難しい。
本発明は上記の課題に鑑みてなされたものであり、高い寸法精度を達成した溶着を可能とするマイクロ流路デバイスを提供する。
このような目的は、下記(1)〜(3)に記載の本発明により達成される。
(1)第1基板及び第2基板を接合してなるマイクロ流路デバイスであって、
前記第1基板又は前記第2基板の少なくとも一方には流路溝が形成されており、かつ、前記第1基板又は前記第2基板の一方の周囲には他方と接合する突条を備え、
前記突条は接合前の状態で、横断面が三角形または台形をなし、三角形の頂角又は台形の2つの脚のなす角が45度以上60度以下、かつ、三角形又は台形の高さが0.2mm以上0.3mm以下であり、
前記第1基板及び前記第2基板を接合した状態で、前記突条を除く部分では前記第1基板と前記第2基板は非接触状態に保たれることを特徴とするマイクロ流路デバイス。
(2)前記第1基板及び前記第2基板は熱可塑性樹脂からなる(1)に記載のマイクロ流路デバイス。
(3)前記第1基板又は前記第2基板の他方の周囲には、前記突条と対応する凹溝が形成されており、前記突条の先端が前記凹溝に陥入して溶着する(1)又は(2)に記載のマイクロ流路デバイス。
(1)第1基板及び第2基板を接合してなるマイクロ流路デバイスであって、
前記第1基板又は前記第2基板の少なくとも一方には流路溝が形成されており、かつ、前記第1基板又は前記第2基板の一方の周囲には他方と接合する突条を備え、
前記突条は接合前の状態で、横断面が三角形または台形をなし、三角形の頂角又は台形の2つの脚のなす角が45度以上60度以下、かつ、三角形又は台形の高さが0.2mm以上0.3mm以下であり、
前記第1基板及び前記第2基板を接合した状態で、前記突条を除く部分では前記第1基板と前記第2基板は非接触状態に保たれることを特徴とするマイクロ流路デバイス。
(2)前記第1基板及び前記第2基板は熱可塑性樹脂からなる(1)に記載のマイクロ流路デバイス。
(3)前記第1基板又は前記第2基板の他方の周囲には、前記突条と対応する凹溝が形成されており、前記突条の先端が前記凹溝に陥入して溶着する(1)又は(2)に記載のマイクロ流路デバイス。
本発明によれば、マイクロ流路デバイスの製造において高い寸法精度を達成した溶着を可能とすることができる。
以下、本発明のマイクロ流路デバイスの好適な実施形態について、図面を参照しつつ詳細に説明する。
まず、本実施形態に係るマイクロ流路デバイス1について説明する。
図1は、本発明の実施形態に係るマイクロ流路デバイス1の上面図である。図2は、図1のII−II断面図である。図3は、図2に対応する断面図で第1基板2と第2基板3を接合する前の状態を表した図である。
図1は、本発明の実施形態に係るマイクロ流路デバイス1の上面図である。図2は、図1のII−II断面図である。図3は、図2に対応する断面図で第1基板2と第2基板3を接合する前の状態を表した図である。
図1に示すように、本実施形態のマイクロ流路デバイス1は、第1基板2と第2基板3とを接合して形成される。マイクロ流路デバイス1は内部に流路溝22を有し、この流路溝22を用いて種々の反応や分析を行う。
第1基板2はマイクロ流路デバイス1を構成する基板の一つである。本実施形態では第1基板2は上面視が長方形の板状をなしている。第1基板2の一方の面は第2基板3と接合する接合面21である。接合面21には用途に応じた任意の走行形状をとる流路溝22が形成されている。さらに、流路溝22を取り囲むようにして突条23が形成されている。
流路溝22は前述のように種々の反応や分析を行う際に試料の供給・排出路や反応の場となる。したがって、流路溝22の設計は用途に応じて種々になされる。このような用途としては、例えば複数の試料を流路溝22内で混合・反応させたり、流路溝22を用いて試料を分離したりするといったことが挙げられる。本実施形態では、単純な例として図1から図3に示すように流路溝22がマイクロ流路デバイス1(第1基板2)の長手方向に沿って1本形成されたものを挙げる。
流路溝22の断面形状も用途に応じて種々に設計されるものである。本実施形態では流路溝22は断面形状が正方形となるように形成されている。しかしながら流路溝22の断面形状はこれに限られず長方形や半円形、半長円形等としてもよい。
流路溝22の表面は、親水化処理や表面処置官能基の形成処理等の表面処理を施してもよい。このような表面処理として、含酸素官能基を導入する処理が行われる。含酸素官能基を導入することにより、樹脂表面の親水性が向上し、スムーズな試料の送液が可能になる。導入される含酸素官能基としては例えば、アルデヒド基やケトン基などのカルボニル基、カルボキシル基、水酸基、エーテル基、パーオキサイト基、エポキシ基などの極性を有した官能基群が挙げられる。また、その導入処理としては例えば、プラズマ処理、コロナ放電処理、エキシマレーザー処理、フレーム処理などを用いることができる。
突条23は、第1基板2と第2基板3とを接合する際に接合しろとなる。突条23がない場合、接合が非効率となり接着が不十分となることがありうるが、突条23を形成すると応力が突条に集中するため十分な接着を達成することができる。本実施形態の突条23は図3に示すように、断面形状が三角形をなしている。また、突条23は流路溝22を取り囲むように第1基板2の全周にわたって形成されている。
なお、本発明における突条23の横断面が「三角形」とは、数学的な三角形だけでなく、例えば、頂角がR加工されているものや辺が湾曲しているもの等の略三角形のものも含む。
突条23の断面形状は超音波溶着の精度に大きく影響する。例えば突条が高すぎると溶着の際に突条が折れてしまうといったことが生じうる。また、突条の頂角が鋭角すぎると溶着の際に突条が折れたり撓んだりしてしまうことがありうる。さらに、突条の頂角が鈍角すぎると接合効率が低下する。これらは第1基板2と第2基板3の接合時に高い精度の溶着を阻害することになる。
本実施形態では第1基板2と第2基板3の接合前の状態において突条23の断面形状は頂角が45度以上60度以下、高さが0.2mm以上0.3mm以下となるように形成されている。頂角及び高さをこの範囲とすると前述したような突条23の折れや撓みを効果的に抑止することができ、高精度の接着を達成することができる。
さらに、本実施形態では図2に示すように第1基板2と第2基板3を接合した状態において、突条23を除く部分では第1基板と第2基板は非接触状態に保たれる。すなわち、第1基板2と第2基板3は突条23を支点として橋渡しされるように形成されている。このように第1基板2と第2基板3とを離間して接合すると、流路の密閉性が保てないなどの基板間接触による溶着不良、突条以外の箇所が溶けて白化するなどの外観不良が良好に防止できる。
なお、本実施形態では突条23は断面形状が三角形である例を説明したが、断面形状を台形とすることもできる。このとき第1基板2と第2基板3の接合前の状態において突条23の2つの脚のなす角が45度以上60度以下、高さが0.2mm以上0.3mm以下となるように形成されている。角及び高さをこの範囲とすると前述したような突条23の折れや撓みを効果的に抑止することができ、高精度の接着を達成することができる。また、本発明における突条23の横断面が「台形」とは、数学的な台形だけでなく、例えば、頂角がR加工されているものや辺が湾曲しているもの等の略台形のものも含む。
第1基板2の樹脂材料としては、熱可塑性樹脂を用いることができ、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン(PP)、ポリメチルペンテン(PMP)などのポリオレフィン、ポリスチレンなどのポリビニル、ポリカーボネート(PC)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)などのポリアクリル、シクロオレフィンポリマー(COP)やシクロオレフィンコポリマー(COC)などを用いることができる。特に、成形性や成形した基板の硬度、耐薬液性の点からCOPや、COCを用いることが好ましい。
第1基板2の代表的な寸法例について説明する。第1基板2は縦10〜100mm程度、横10〜100mm程度、厚さ0.2〜2mm程度である。また、流路溝22は、幅10〜1000μm程度、深さ10〜1000μm程度である。ただし、これらの寸法は例示であり、使途に適した寸法設計とすることに差し支えはない。
第2基板3は、第1基板2とともにマイクロ流路デバイス1を構成する。図2、図3に示すように、本実施形態の第2基板3は、第1基板2と同形状をなしている。第2基板3の一方の面には、第1基板2の接合面21と接合する接合面31を有する。接合面31には突条23と対応する位置に凹溝32が形成されている。
凹溝32は、第1基板2と第2基板3とを接合する際に突条23が突き当たる部分である。したがって、凹溝32は突条23と同様に、第1基板2と第2基板3とを接合したときに流路溝22を取り囲むように第2基板3の全周にわたって形成されている。
本実施形態では凹溝32は底面が曲面をなす樋状に形成されている。凹溝32の代表的な寸法例は、幅0.2〜0.5mm程度、深さ0.1〜0.3mm程度である。なお、凹溝32の形状はこれに限られず横断面を四角形等としてもよい。
凹溝32は第1基板2と第2基板3とを接合する際に突条23の溶融した部分を受け入れる役割を担う。このように凹溝32を設けると突条23の溶融した部分が周囲に流れることを効果的に防止できるのでより高精度なマイクロ流路デバイス1を製造することができる。
なお、本実施形態のマイクロ流路デバイス1には、膜体、ポンプ、バルブ、センサー、モーター、ミキサー、ギア、クラッチ、マイクロレンズ、電気回路等を組み合わせて複合化させることも可能であり、種々の用途に用いることができる。
次に、本実施形態のマイクロ流路デバイス1の製造方法について説明する。
まず、第1基板2及び第2基板3を用意する。それぞれの基板は例えば射出成型により作製すればよい。このときあらかじめ流路溝22に対応する部分を成形型に形成しておくことにより、これらを同時に一体成型することができるので、大量生産に適しする。なお、流路溝22を後加工する場合は、ドリル等の機械加工、ホットエンボスによる加工、レーザーによる加工、ドライエッチングパターン加工、ウェットエッチングパターン加工等の加工方法を選択すればよい。
まず、第1基板2及び第2基板3を用意する。それぞれの基板は例えば射出成型により作製すればよい。このときあらかじめ流路溝22に対応する部分を成形型に形成しておくことにより、これらを同時に一体成型することができるので、大量生産に適しする。なお、流路溝22を後加工する場合は、ドリル等の機械加工、ホットエンボスによる加工、レーザーによる加工、ドライエッチングパターン加工、ウェットエッチングパターン加工等の加工方法を選択すればよい。
次いで、第1基板2と第2基板3とを溶着する。まず、第1基板2の接合面21と第2基板3の接合面31とを向かい合わせて接合する。このとき、突条23が凹溝32に突き当たるように位置合わせをする。この状態で溶着を行い、第1基板2と第2基板3を一体化してマイクロ流路デバイス1を作製する。
なお、本実施形態では溶着は20kHz、1200Wの超音波溶着機で、圧力0.1〜1MPa程度、溶着時間0.1〜1秒程度の条件下で行う。この溶着条件は一例であり、基板の材料や必要な溶着強度等により適宜変更してもよい。
1 マイクロ流路デバイス
2 第1基板
21 接合面
22 流路溝
23 突条
3 第2基板
31 接合面
32 凹溝
2 第1基板
21 接合面
22 流路溝
23 突条
3 第2基板
31 接合面
32 凹溝
Claims (3)
- 第1基板及び第2基板を接合してなるマイクロ流路デバイスであって、
前記第1基板又は前記第2基板の少なくとも一方には流路溝が形成されており、かつ、前記第1基板又は前記第2基板の一方の周囲には他方と接合する突条を備え、
前記突条は接合前の状態で、横断面が三角形又は台形をなし、三角形の頂角又は台形の2つの脚のなす角が45度以上60度以下、かつ、三角形又は台形の高さが0.2mm以上0.3mm以下であり、
前記第1基板及び前記第2基板を接合した状態で、前記突条を除く部分では前記第1基板と前記第2基板は非接触状態に保たれることを特徴とするマイクロ流路デバイス。 - 前記第1基板及び前記第2基板は熱可塑性樹脂からなる請求項1に記載のマイクロ流路デバイス。
- 前記第1基板又は前記第2基板の他方の周囲には、前記突条と対応する凹溝が形成されており、前記突条の先端が前記凹溝に陥入して溶着する請求項1又は2に記載のマイクロ流路デバイス。
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