JP2012193284A - 液状エポキシ樹脂組成物 - Google Patents
液状エポキシ樹脂組成物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012193284A JP2012193284A JP2011058477A JP2011058477A JP2012193284A JP 2012193284 A JP2012193284 A JP 2012193284A JP 2011058477 A JP2011058477 A JP 2011058477A JP 2011058477 A JP2011058477 A JP 2011058477A JP 2012193284 A JP2012193284 A JP 2012193284A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- epoxy resin
- component
- resin composition
- liquid epoxy
- liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000004850 liquid epoxy resins (LERs) Substances 0.000 title claims abstract description 58
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 57
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims abstract description 62
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims abstract description 62
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 19
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- -1 imidazole compound Chemical class 0.000 claims abstract description 10
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 2-aminophenol Chemical compound NC1=CC=CC=C1O CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 32
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 29
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 23
- 239000004594 Masterbatch (MB) Substances 0.000 claims description 19
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 6
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 claims description 5
- 239000008393 encapsulating agent Substances 0.000 claims description 5
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 4
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 claims description 3
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 claims description 2
- 230000005012 migration Effects 0.000 abstract description 27
- 238000013508 migration Methods 0.000 abstract description 27
- 238000003860 storage Methods 0.000 abstract description 9
- 230000008719 thickening Effects 0.000 abstract description 5
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 25
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 16
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 14
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 14
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 5
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 4
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 4
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 4
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 3
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 239000011295 pitch Substances 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GOYGTBXFJBGGLI-UHFFFAOYSA-N 7a-but-1-enyl-3a-methyl-4,5-dihydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=CCCC2(C)C(=O)OC(=O)C21C=CCC GOYGTBXFJBGGLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000003487 electrochemical reaction Methods 0.000 description 2
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,5,6,7,7a-hexahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CCC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,7,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical class C1C=CC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- LTQBNYCMVZQRSD-UHFFFAOYSA-N (4-ethenylphenyl)-trimethoxysilane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=C(C=C)C=C1 LTQBNYCMVZQRSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTWBFUCJVWKCCK-UHFFFAOYSA-N 2-heptadecyl-1h-imidazole Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC1=NC=CN1 YTWBFUCJVWKCCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-1h-imidazole Chemical compound C1=CNC(C=2C=CC=CC=2)=N1 ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLEASVZEQBICSN-UHFFFAOYSA-N 2-undecyl-1h-imidazole Chemical compound CCCCCCCCCCCC1=NC=CN1 LLEASVZEQBICSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVNLBBGBASVLLI-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropylurea Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNC(N)=O LVNLBBGBASVLLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DRPJWBIHQOHLND-UHFFFAOYSA-N 4-[dimethoxy(methyl)silyl]oxybutyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)OCCCCOC(=O)C(C)=C DRPJWBIHQOHLND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TYOXIFXYEIILLY-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-2-phenyl-1h-imidazole Chemical compound N1C(C)=CN=C1C1=CC=CC=C1 TYOXIFXYEIILLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 5K8XI641G3 Chemical compound CCC1=NC=C(C)N1 ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWSKJDNQKGCKPA-UHFFFAOYSA-N 6-methyl-3a,4,5,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CC(C)=CC2C(=O)OC(=O)C12 MWSKJDNQKGCKPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical group 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- NTXGQCSETZTARF-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diene;prop-2-enenitrile Chemical compound C=CC=C.C=CC#N NTXGQCSETZTARF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000011258 core-shell material Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- VANNPISTIUFMLH-UHFFFAOYSA-N glutaric anhydride Chemical group O=C1CCCC(=O)O1 VANNPISTIUFMLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003100 immobilizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- VYKXQOYUCMREIS-UHFFFAOYSA-N methylhexahydrophthalic anhydride Chemical compound C1CCCC2C(=O)OC(=O)C21C VYKXQOYUCMREIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920006124 polyolefin elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- RINCXYDBBGOEEQ-UHFFFAOYSA-N succinic anhydride Chemical group O=C1CCC(=O)O1 RINCXYDBBGOEEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 239000012085 test solution Substances 0.000 description 1
- FRGPKMWIYVTFIQ-UHFFFAOYSA-N triethoxy(3-isocyanatopropyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN=C=O FRGPKMWIYVTFIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTHOKNTVYKTUPI-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(3-triethoxysilylpropyltetrasulfanyl)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCSSSSCCC[Si](OCC)(OCC)OCC VTHOKNTVYKTUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSROZUMNVRXZNO-UHFFFAOYSA-K tris[(1-naphthalen-1-yl-3-phenylnaphthalen-2-yl)oxy]alumane Chemical compound C=1C=CC=CC=1C=1C=C2C=CC=CC2=C(C=2C3=CC=CC=C3C=CC=2)C=1O[Al](OC=1C(=C2C=CC=CC2=CC=1C=1C=CC=CC=1)C=1C2=CC=CC=C2C=CC=1)OC(C(=C1C=CC=CC1=C1)C=2C3=CC=CC=C3C=CC=2)=C1C1=CC=CC=C1 DSROZUMNVRXZNO-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
Landscapes
- Epoxy Resins (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
【解決手段】 (A)アミノフェノール型エポキシ樹脂を含有する液状エポキシ樹脂、(B)酸無水物硬化剤、および(C)イミダゾール化合物を含有し、(A)成分が、エポキシ樹脂:100重量部に対して、アミノフェノール型エポキシ樹脂を5〜90重量部を含有することを特徴とする、液状エポキシ樹脂組成物である。
【選択図】 なし
Description
〔1〕(A)アミノフェノール型エポキシ樹脂を含有する液状エポキシ樹脂、(B)酸無水物硬化剤、および(C)イミダゾール化合物を含有し、(A)成分:100重量部に対して、アミノフェノール型エポキシ樹脂を5〜90重量部を含有することを特徴とする、液状エポキシ樹脂組成物。
〔2〕(A)成分に含有されるアミノフェノール型エポキシ樹脂が、式(1):
〔3〕さらに、(D)エラストマーを含有する、上記〔1〕または〔2〕記載の液状エポキシ樹脂組成物。
〔4〕さらに、(E)シランカップリング剤を含有する、上記〔1〕〜〔3〕のいずれか記載の液状エポキシ樹脂組成物。
〔5〕(B)成分が、(A)成分:1当量に対して、0.6〜1.2当量の比率である、上記〔1〕〜〔4〕のいずれか記載の液状エポキシ樹脂組成物。
〔6〕(C)成分が、(A)成分:100質量部に対して、0.1〜5質量部である、上記〔1〕〜〔5〕のいずれか記載の液状エポキシ樹脂組成物。
〔7〕(D)成分が、(A)成分:100質量部に対して、5〜30質量部である、上記〔3〕〜〔6〕のいずれか記載の液状エポキシ樹脂組成物。
〔8〕24時間後の粘度上昇率が、300%以下である、上記〔1〕〜〔7〕のいずれか記載の液状エポキシ樹脂組成物。
〔9〕(C)成分を、アミノフェノール型エポキシ樹脂を除く(A)成分の少なくとも一部に分散させ、マスタバッチとした後、マスタバッチに、アミノフェノール型エポキシ樹脂を含む(A)成分の残部と(B)成分を混合することにより得られる、上記〔1〕〜〔8〕のいずれか記載の液状エポキシ樹脂組成物。
〔10〕上記〔1〕〜〔9〕のいずれか記載の液状エポキシ樹脂組成物を含む、チップオンフィルムパッケージ用封止剤。
〔11〕上記〔10〕記載の液状半導体封止剤を用いて封止された、半導体装置。
〔12〕(C)成分を、アミノフェノール型エポキシ樹脂を除く(A)成分の少なくとも一部に分散させ、マスタバッチとした後、マスタバッチに、アミノフェノール型エポキシ樹脂を含む(A)成分の残部と(B)成分を混合することを特徴とする、上記〔1〕〜〔8〕のいずれか記載の液状エポキシ樹脂組成物の製造方法。
本発明の液状エポキシ樹脂組成物は、(A)アミノフェノール型エポキシ樹脂を含有する液状エポキシ樹脂、(B)酸無水物硬化剤、および(C)イミダゾール化合物を含有し、(A)成分:100重量部に対して、アミノフェノール型エポキシ樹脂を5〜90重量部を含有することを特徴とする。
本発明の液状エポキシ樹脂組成物の製造方法は、(C)成分を、アミノフェノール型エポキシ樹脂を除く(A)成分の少なくとも一部に分散させ、マスタバッチとした後、マスタバッチに、アミノフェノール型エポキシ樹脂を含む(A)成分の残部と(B)成分を混合することを特徴とする。
表1〜3に示す配合で、液状樹脂組成物(以下、「樹脂組成物」という)を作製した。実施例1〜16、比較例1〜2、参考例1〜6では、まず、ビスフェノールF型エポキシ樹脂と(B)成分を混合して、マスタバッチとした後、他の成分を加えた。参考例7〜9では、まず、アミノフェノール型エポキシ樹脂と(B)成分を混合して、マスタバッチとした後、他の成分を加えた。参考例10〜12では、すべての成分を同時に加えた。作製した樹脂組成物は、比較例2以外は、液状であった。比較例2は、(B)成分が溶け残り、固形分が残った状態となり、均一な液状エポキシ樹脂組成物を作製することができなかった。
作製した直後(30分以内)の樹脂組成物の粘度(初期粘度、単位:mPa・s)を、東機産業社製E型粘度計(型番:TVE−22H)で測定した。表1、表2に、初期粘度の測定結果を示す。また、樹脂組成物を24時間、48時間室温で保管した後の粘度を測定し、(24または48時間後の粘度)/(初期粘度)を粘度上昇率(単位:%)とした。表1〜3に、結果を示す。
樹脂組成物のゲル化時間の評価は、以下のように行った。200±2℃の熱板上に、約3mmφの樹脂組成物をニードルで滴下し、樹脂組成物にニードルを適当に接触させながら、樹脂組成物が糸引きをしなくなるまでの時間を、ストップウォッチにより測定し、ゲル化時間とした。表1〜3に、ゲル化時間の評価結果を示す。
作製した樹脂組成物を150℃、60分で硬化させた試料の初期重量をW0(g)とし、PCT試験槽(121℃±2℃/湿度100%/2atmの槽)中に20時間置いた後、室温まで冷却して得た試験片の重量をW1(g)とし、下記式で、吸水率(単位:%)を求めた。
吸水率=(W1−W0)/W0 × 100 (%)
表1〜3に、吸水率の評価結果を示す。
離型剤を塗布したガラス板とガラス板との間に、作製した樹脂組成物を挟み、150℃、60分で350μmのシート状に硬化させ、万能試験機((株)島津製作所製 AG−I)を用いて室温での曲げ弾性率を求めた。なお、n=3で測定し、平均値を用いた。また、試験片の膜厚及び幅は、5点測定し、平均値を計算値に用いた。曲げ弾性率は、好ましくは、2.0〜4.2GPaである。表1〜3に、曲げ弾性率の評価結果を示す。
作製した樹脂組成物を150℃、60分で硬化させて得た試料を、5mm角程度に粉砕した。硬化塗膜:2.5gにイオン交換水25cm3を加え、PCT試験槽(121℃±2℃/湿度100%/2atmの槽)中に20時間置いた後、室温まで冷却して得た抽出液を試験液とした。上記の手順で得られた抽出液のClイオン濃度を、イオンクロマトグラフを用いて測定した。表1〜3に、抽出Clイオン量の評価結果を示す。
図1に、樹脂組成物の注入性の評価方法を説明する模式図を示す。まず、図1(A)に示すように、基板20上に20μmのギャップ40を設けて、半導体素子の代わりにガラス板30を固定した試験片を作製した。但し、基板20としては、フレキシブル基板の代わりにガラス基板を使用した。次に、この試験片を110℃に設定したホットプレート上に置き、図1(B)に示すように、ガラス板30の一端側に、作製した樹脂組成物10を塗布し、図1(C)に示すように、ギャップ40が樹脂組成物11で満たされるまでの時間を測定し、90秒以下で満たされた場合を「良」とした。表1〜3に、注入性の評価結果を示す。
樹脂組成物の耐イオンマイグレーション性を評価するため、高温高湿バイアス試験(THB試験)を実施した。試験方法は、以下のとおりである。スズメッキ(0.2±0.05μm)された銅配線(パターン幅10μm、線間幅15μm、パターンピッチ25μm)を持つポリイミドテープ基材上に、作製した樹脂組成物を20μm厚みで塗布し、150℃で30分間処理し、封止剤を硬化させて試験片を作製した。この試験片についてイオンマイグレーション評価システム(エスペック社製)を用いて、110℃/湿度85%の条件下で、DC60Vの電圧を印加したときの抵抗値の変化を測定、抵抗値が1.00×107Ωを下回った時点を閾値として、銅配線のマイグレーションを評価した(単位:時間)。抵抗値が閾値を下回らなかったものについては、100時間を越えた時点で試験終了とした。表1〜3に、耐マイグレーション性の評価結果を示す。
20 基板
30 ガラス板
40 ギャップ
Claims (12)
- (A)アミノフェノール型エポキシ樹脂を含有する液状エポキシ樹脂、(B)酸無水物硬化剤、および(C)イミダゾール化合物を含有し、(A)成分が、エポキシ樹脂:100重量部に対して、アミノフェノール型エポキシ樹脂を5〜90重量部を含有することを特徴とする、液状エポキシ樹脂組成物。
- (A)成分に含有されるアミノフェノール型エポキシ樹脂が、式(1):
- さらに、(D)エラストマーを含有する、請求項1または2記載の液状エポキシ樹脂組成物。
- さらに、(E)シランカップリング剤を含有する、請求項1〜3のいずれか1項記載の液状エポキシ樹脂組成物。
- (B)成分が、(A)成分:1当量に対して、0.6〜1.2当量の比率である、請求項1〜4のいずれか1項記載の液状エポキシ樹脂組成物。
- (C)成分が、(A)成分:100質量部に対して、0.1〜5質量部である、請求項1〜5のいずれか1項記載の液状エポキシ樹脂組成物。
- (D)成分が、(A)成分:100質量部に対して、5〜30質量部である、請求項3〜6のいずれか1項記載の液状エポキシ樹脂組成物。
- 24時間後の粘度上昇率が、300%以下である、請求項1〜7のいずれか1項記載の液状エポキシ樹脂組成物。
- (C)成分を、アミノフェノール型エポキシ樹脂を除く(A)成分の少なくとも一部に分散させ、マスタバッチとした後、マスタバッチに、アミノフェノール型エポキシ樹脂を含む(A)成分の残部と(B)成分を混合することにより得られる、請求項1〜8のいずれか1項記載の液状エポキシ樹脂組成物。
- 請求項1〜9のいずれか1項記載の液状エポキシ樹脂組成物を含む、チップオンフィルムパッケージ用封止剤。
- 請求項10記載の液状半導体封止剤を用いて封止された、半導体装置。
- (C)成分を、アミノフェノール型エポキシ樹脂を除く(A)成分の少なくとも一部に分散させ、マスタバッチとした後、マスタバッチに、アミノフェノール型エポキシ樹脂を含む(A)成分の残部と(B)成分を混合することを特徴とする、請求項1〜8のいずれか1項記載の液状エポキシ樹脂組成物の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011058477A JP5593259B2 (ja) | 2011-03-16 | 2011-03-16 | 液状エポキシ樹脂組成物 |
TW101108414A TWI512035B (zh) | 2011-03-16 | 2012-03-13 | 液狀環氧樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011058477A JP5593259B2 (ja) | 2011-03-16 | 2011-03-16 | 液状エポキシ樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012193284A true JP2012193284A (ja) | 2012-10-11 |
JP5593259B2 JP5593259B2 (ja) | 2014-09-17 |
Family
ID=47085504
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011058477A Active JP5593259B2 (ja) | 2011-03-16 | 2011-03-16 | 液状エポキシ樹脂組成物 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5593259B2 (ja) |
TW (1) | TWI512035B (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013151642A (ja) * | 2011-12-27 | 2013-08-08 | Hitachi Chemical Co Ltd | 電子部品用液状樹脂組成物及びその製造方法、並びに電子部品装置 |
JP2016079293A (ja) * | 2014-10-17 | 2016-05-16 | ナミックス株式会社 | 液状エポキシ樹脂組成物 |
KR20170094115A (ko) | 2014-12-12 | 2017-08-17 | 나믹스 코포레이션 | 액상 에폭시 수지 조성물, 반도체 밀봉제, 반도체 장치, 및 액상 에폭시 수지 조성물의 제조 방법 |
WO2018181603A1 (ja) * | 2017-03-31 | 2018-10-04 | 日立化成株式会社 | 液状エポキシ樹脂組成物、半導体装置及び半導体装置の製造方法 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000252623A (ja) * | 1999-02-25 | 2000-09-14 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | アディティブめっき用絶縁接着剤 |
JP2004075835A (ja) * | 2002-08-19 | 2004-03-11 | Namics Corp | 封止剤樹脂組成物 |
JP2008266512A (ja) * | 2007-04-24 | 2008-11-06 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 半導体封止用難燃性液状エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 |
JP2009079216A (ja) * | 2007-09-03 | 2009-04-16 | Namics Corp | 光−熱併用型の潜在性硬化型エポキシ樹脂組成物 |
JP2009292881A (ja) * | 2008-06-03 | 2009-12-17 | Yokohama Rubber Co Ltd:The | 高熱伝導性エポキシ樹脂系組成物 |
JP2010095727A (ja) * | 2009-12-21 | 2010-04-30 | Japan Epoxy Resin Kk | 硬化性エポキシ樹脂組成物および硬化体 |
JP2010265358A (ja) * | 2009-05-13 | 2010-11-25 | Namics Corp | Cof封止用樹脂組成物およびその製造方法 |
-
2011
- 2011-03-16 JP JP2011058477A patent/JP5593259B2/ja active Active
-
2012
- 2012-03-13 TW TW101108414A patent/TWI512035B/zh active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000252623A (ja) * | 1999-02-25 | 2000-09-14 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | アディティブめっき用絶縁接着剤 |
JP2004075835A (ja) * | 2002-08-19 | 2004-03-11 | Namics Corp | 封止剤樹脂組成物 |
JP2008266512A (ja) * | 2007-04-24 | 2008-11-06 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 半導体封止用難燃性液状エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 |
JP2009079216A (ja) * | 2007-09-03 | 2009-04-16 | Namics Corp | 光−熱併用型の潜在性硬化型エポキシ樹脂組成物 |
JP2009292881A (ja) * | 2008-06-03 | 2009-12-17 | Yokohama Rubber Co Ltd:The | 高熱伝導性エポキシ樹脂系組成物 |
JP2010265358A (ja) * | 2009-05-13 | 2010-11-25 | Namics Corp | Cof封止用樹脂組成物およびその製造方法 |
JP2010095727A (ja) * | 2009-12-21 | 2010-04-30 | Japan Epoxy Resin Kk | 硬化性エポキシ樹脂組成物および硬化体 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013151642A (ja) * | 2011-12-27 | 2013-08-08 | Hitachi Chemical Co Ltd | 電子部品用液状樹脂組成物及びその製造方法、並びに電子部品装置 |
JP2015071792A (ja) * | 2011-12-27 | 2015-04-16 | 日立化成株式会社 | 電子部品用液状樹脂組成物及びその製造方法、並びに電子部品装置 |
JP2016079293A (ja) * | 2014-10-17 | 2016-05-16 | ナミックス株式会社 | 液状エポキシ樹脂組成物 |
KR20170094115A (ko) | 2014-12-12 | 2017-08-17 | 나믹스 코포레이션 | 액상 에폭시 수지 조성물, 반도체 밀봉제, 반도체 장치, 및 액상 에폭시 수지 조성물의 제조 방법 |
WO2018181603A1 (ja) * | 2017-03-31 | 2018-10-04 | 日立化成株式会社 | 液状エポキシ樹脂組成物、半導体装置及び半導体装置の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI512035B (zh) | 2015-12-11 |
TW201242995A (en) | 2012-11-01 |
JP5593259B2 (ja) | 2014-09-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6656792B2 (ja) | 電子部品用液状樹脂組成物及び電子部品装置 | |
JP6013906B2 (ja) | 液状エポキシ樹脂組成物 | |
JP7167912B2 (ja) | 液状封止樹脂組成物、電子部品装置及び電子部品装置の製造方法 | |
JP5593259B2 (ja) | 液状エポキシ樹脂組成物 | |
JP5265430B2 (ja) | エポキシ樹脂組成物、及び半導体装置 | |
JP4176619B2 (ja) | フリップチップ実装用サイドフィル材及び半導体装置 | |
JP3925803B2 (ja) | フリップチップ実装用サイドフィル材及び半導体装置 | |
JP5647769B2 (ja) | Cof封止用樹脂組成物 | |
JP5086678B2 (ja) | 液状半導体封止剤、及びこれを用いて封止した半導体装置 | |
JP5411774B2 (ja) | 先供給型液状半導体封止樹脂組成物 | |
JP2012056979A (ja) | エポキシ樹脂組成物 | |
JP5886051B2 (ja) | 樹脂組成物 | |
JP6388228B2 (ja) | 半導体封止用液状エポキシ樹脂組成物とそれを用いた半導体装置 | |
JP2015054952A (ja) | エポキシ樹脂組成物、電子部品装置及び電子部品装置の製造方法 | |
JP2013253195A (ja) | エポキシ樹脂組成物 | |
JP5788765B2 (ja) | 樹脂組成物 | |
WO2016059980A1 (ja) | 液状エポキシ樹脂組成物 | |
JPWO2005080502A1 (ja) | アンダーフィル用液状エポキシ樹脂組成物および同組成物を用いて封止した半導体装置 | |
JP2013118276A (ja) | 半導体装置 | |
JP5723665B2 (ja) | 先供給型液状半導体封止樹脂組成物 | |
JP5415334B2 (ja) | 先供給型液状半導体封止樹脂組成物 | |
JP7455017B2 (ja) | アンダーフィル材、電子部品装置及び電子部品装置の製造方法 | |
JP4906152B1 (ja) | 液状樹脂組成物 | |
JP2015145473A (ja) | 半導体接合用接着剤、半導体装置の製造方法、及び、半導体装置 | |
JP2021014588A (ja) | アンダーフィル用樹脂組成物、電子部品装置及び電子部品装置の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140128 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140418 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140423 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140611 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140722 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140804 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5593259 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |