JP2011148784A - 化粧料用粉体表面処理剤、及び、当該化粧料用粉体表面処理剤によって表面処理された粉体を含む化粧料 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】特定のカルボシロキサンデンドリマー構造を有するオルガノポリシロキサンによって化粧料用粉体を表面処理する。
【選択図】なし
Description
Zは、2価の有機基であり、
pは、0又は1であり、
R1及びR2は、それぞれ独立して、炭素原子数1〜10のアルキル基、アリール基又はアラルキル基であり、
L1は、i=1とした場合の下記式(2)で示されるシリルアルキル基
Z及びpは、前記と同じであり、
R1及びR2は、前記と同じであり、
iは、前記シリルアルキル基の総階層数を示す1〜10の整数であり、
Li+1は、水素原子、炭素原子数1〜10のアルキル基、アリール基、アラルキル基及び前記シリルアルキル基からなる群から選択される基であり、但し、i=c(cは前記シリルアルキル基の階層を示す1〜10の整数である)の場合は、Li+1は水素原子、炭素原子数1〜10のアルキル基、アリール基又はアラルキル基であり、i<cの場合は前記シリルアルキル基であり、
aiは0〜3の整数である)である}で示されるカルボシロキサンデンドリマー構造を有する重合体を含む化粧料用粉体表面処理剤によって達成される。
Zは、2価の有機基であり、
pは、0又は1であり、
R1及びR2は、それぞれ独立して、炭素原子数1〜10のアルキル基、アリール基又はアラルキル基であり、
L1は、i=1とした場合の下記式(2)で示されるシリルアルキル基
Z及びpは、前記と同じであり、
R1及びR2は、前記と同じであり、
iは、前記シリルアルキル基の総階層数を示す1〜10の整数であり、
Li+1は、水素原子、炭素原子数1〜10のアルキル基、アリール基、アラルキル基及び前記シリルアルキル基からなる群から選択される基であり、但し、i=c(cは前記シリルアルキル基の階層を示す1〜10の整数である)の場合は、Li+1は水素原子、炭素原子数1〜10のアルキル基、アリール基又はアラルキル基であり、i<cの場合は前記シリルアルキル基であり、
aiは0〜3の整数である)である}で示されるカルボシロキサンデンドリマー構造を有する不飽和単量体、及び
(B)ケイ素原子結合アルコキシ基を有する不飽和単量体
の共重合体であることが好ましい。
R9は、水素原子、水酸基、或いは、炭素原子数1〜30の、一価の非置換若しくはフッ素若しくはアミノ置換アルキル基、アリール基、アルコキシ基及び(CH3)3SiO{(CH3)2SiO}lSi(CH3)2CH2CH2-(lは0〜1000の整数)で示される基から選択される基であり、
a’は、0〜3の整数であり、
b’は、0〜1000の整数であり、
c’は、0〜1000の整数であり、但し、1≦b’+c’≦2000である)
R9は、上記と同様であり、
dは、0〜8の整数であり、
eは、0〜8の整数であり、但し、3≦d+e≦8である)
R9は、上記と同様であり、
fは1〜4の整数であり、
gは0〜500の整数である)
で表されるオルガノポリシロキサンであることができる。
Zは、2価の有機基であり、
pは、0又は1であり、
R1及びR2は、それぞれ独立して、炭素原子数1〜10のアルキル基、アリール基又はアラルキル基であり、
L1は、i=1とした場合の下記式(2)で示されるシリルアルキル基
Z及びpは、前記と同じであり、
R1及びR2は、前記と同じであり、
iは、前記シリルアルキル基の総階層数を示す1〜10の整数であり、1〜5が好ましく、1〜3が更により好ましく、1又は2が更により好ましく、
Li+1は、水素原子、炭素原子数1〜10のアルキル基、アリール基、アラルキル基及び前記シリルアルキル基からなる群から選択される基であり、但し、i=c(cは前記シリルアルキル基の階層を示す1〜10の整数であり、1〜5が好ましく、1〜3が更により好ましく、1又は2が更により好ましい)の場合は、Li+1は水素原子、炭素原子数1〜10のアルキル基、アリール基又はアラルキル基であり、i<cの場合は前記シリルアルキル基であり、
aiは、0〜3の整数であり、好ましくは0〜2であり、より好ましくは0〜1であり、更により好ましくは0である)である}で示されるカルボシロキサンデンドリマー構造を有する重合体を含むものである。前記重合体は、ビニル重合単位を主鎖とし、側鎖にカルボシロキサンデンドリマー構造が存在しているものが好ましい。
Zは、2価の有機基であり、
pは、0又は1であり、
R1及びR2は、それぞれ独立して、炭素原子数1〜10のアルキル基、アリール基又はアラルキル基であり、
L1は、i=1とした場合の下記式(2)で示されるシリルアルキル基
Z及びpは、前記と同じであり、
R1及びR2は、前記と同じであり、
iは、前記シリルアルキル基の総階層数を示す1〜10の整数であり、1〜5が好ましく、1〜3が更により好ましく、1又は2が更により好ましく、
Li+1は、水素原子、炭素原子数1〜10のアルキル基、アリール基、アラルキル基及び前記シリルアルキル基からなる群から選択される基であり、但し、i=c(cは前記シリルアルキル基の階層を示す1〜10の整数であり、1〜5が好ましく、1〜3が更により好ましく、1又は2が更により好ましい)の場合は、Li+1は水素原子、炭素原子数1〜10のアルキル基、アリール基又はアラルキル基であり、i<cの場合は前記シリルアルキル基であり、
aiは、0〜3の整数であり、好ましくは0〜2であり、より好ましくは0〜1であり、更により好ましくは0である)である}で示されるカルボシロキサンデンドリマー構造を有する不飽和単量体、及び
(B)ケイ素原子結合アルコキシ基を有する不飽和単量体
の共重合体であることが好ましい。
R3は、炭素原子数1〜30の、置換又は非置換の、及び、直鎖状又は分岐状の前記二価炭化水素基であり、既述したとおり、置換基を有していてもよく、
R3’は、下記式
から選択される基であってもよい。ケイ素原子結合水素原子及びアルケニル基の反応により導入可能な一般式−R3−又は−R3−R3’−で示される2価の有機基が好ましい。同様に、ケイ素原子結合水素原子及び不飽和カルボン酸官能基の反応により導入可能な一般式−R3−COO−R3−又は−R3−COO−R3’−で示される2価の有機基も好適である。
Yはラジカル重合可能な不飽和含有基であり、
Z、p、R1、R2、L1及びaiは前記と同じである)
で表される。
で示されるケイ素原子結合水素原子含有ケイ素化合物と、アルケニル基含有有機ケイ素化合物とをヒドロシリル化反応させることにより製造することができる。上式で示されるケイ素化合物としては、例えば、3−メタクリロキシプロピルトリス(ジメチルシロキシ)シラン,3−アクリロキシプロピルトリス(ジメチルシロキシ)シラン,4−ビニルフェニルトリス(ジメチルシロキシ)シランが用いられる。アルケニル基含有有機ケイ素化合物としては、例えば、ビニルトリス(トリメチルシロキシ)シラン,ビニルトリス(ジメチルフェニルシロキシ)シラン,5−ヘキセニルトリス(トリメチルシロキシ)シランが用いられる。尚、このヒドロシリル化反応は、塩化白金酸や白金ビニルシロキサン錯体などの遷移金属触媒の存在下に行うのが好ましい。
CH2=CCH3COO-CF3、CH2=CCH3COO-C2F5、CH2=CCH3COO-nC3F7、CH2=CCH3COO-CF(CF3)2、CH2=CCH3COO-nC4F9、CH2=CCH3COO-CF2CF(CF3)2、CH2=CCH3COO-nC5F11、CH2=CCH3COO-nC6F13、CH2=CCH3COO-nC8F17、CH2=CCH3COO-CH2CF3、CH2=CCH3COO-CH(CF3)2、CH2=CCH3COO-CH2CH(CF3)2、CH2=CCH3COO-CH2(CF2)2F、CH2=CCH3COO-CH2(CF2)3F、CH2=CCH3COO-CH2(CF2)4F、CH2=CCH3COO-CH2(CF2)6F、CH2=CCH3COO-CH2(CF2)8F、CH2=CCH3COO-CH2CH2CF3、CH2=CCH3COO-CH2CH2(CF2)2F、CH2=CCH3COO-CH2CH2(CF2)3F、CH2=CCH3COO-CH2CH2(CF2)4F、CH2=CCH3COO-CH2CH2(CF2)6F、CH2=CCH3COO-CH2CH2(CF2)8F、CH2=CCH3COO-CH2CH2(CF2)10F 、CH2=CCH3COO-CH2CH2(CF2)12F 、CH2=CCH3COO-CH2CH2(CF2)14F 、CH2=CCH3COO-CH2CH2(CF2)16F 、CH2=CCH3COO-CH2CH2CH2CF3 、CH2=CCH3COO-CH2CH2CH2(CF2)2F 、CH2=CCH3COO-CH2CH2CH2(CF2)2H 、CH2=CCH3COO-CH2(CF2)4H 、CH2=CCH3COO-CH2CH2(CF2)3H、CH2=CCH3COO-CH2CH2CF(CF3)-[OCF2CF(CF3)]z-OC3F7、CH2=CCH3COO-CH2CH2CF2CF2-[OCF2CF(CF3)]z-OC3F7CH2=CHCOO-CF3、CH2=CHCOO-C2F5、CH2=CHCOO-nC3F7、CH2=CHCOO-CF(CF3)2、CH2=CHCOO-nC4F9、CH2=CHCOO-CF2CF(CF3)2、CH2=CHCOO-nC5F11、CH2=CHCOO-nC6F13、CH2=CHCOO-nC8F17、CH2=CHCOO-CH2CF3、CH2=CHCOO-CH(CF3)2、CH2=CHCOO-CH2CH(CF3)2、CH2=CHCOO-CH2(CF2)2F、CH2=CHCOO-CH2(CF2)3F、CH2=CHCOO-CH2(CF2)4F、CH2=CHCOO-CH2(CF2)6F、CH2=CHCOO-CH2(CF2)8F、CH2=CHCOO-CH2CH2CF3、CH2=CHCOO-CH2CH2(CF2)2F、CH2=CHCOO-CH2CH2(CF2)3F、CH2=CHCOO-CH2CH2(CF2)4F、CH2=CHCOO-CH2CH2(CF2)6F、CH2=CHCOO-CH2CH2(CF2)8F、CH2=CHCOO-CH2CH2(CF2)10F 、CH2=CHCOO-CH2CH2(CF2)12F 、CH2=CHCOO-CH2CH2(CF2)14F 、CH2=CHCOO-CH2CH2(CF2)16F 、CH2=CHCOO-CH2CH2CH2CF3 、CH2=CHCOO-CH2CH2CH2(CF2)2F 、CH2=CHCOO-CH2CH2CH2(CF2)2H 、CH2=CHCOO-CH2(CF2)4H 、CH2=CHCOO-CH2CH2(CF2)3H、CH2=CHCOO-CH2CH2CF(CF3)-[OCF2CF(CF3)]z-OC3F7、CH2=CHCOO-CH2CH2CF2CF2-[OCF2CF(CF3)]z-OC3F7。これらの中でも、下記式で示されるビニル単量体が好ましい。CH2=CHCOO-CH2CH2(CF2)6F、CH2=CHCOO-CH2CH2(CF2)8F、CH2=CCH3COO-CH2CH2(CF2)6F、CH2=CCH3COO-CH2CH2(CF2)8F、CH2=CHCOO-CH2CF3、CH2=CCH3COO-CH2CF3。特に、下記式で示されるビニル単量体がより好ましい。CH2=CHCOO-CH2CF3、CH2=CCH3COO-CH2CF3。
R9は、水素原子、水酸基、或いは、炭素原子数1〜30の、一価の非置換若しくはフッ素若しくはアミノ置換アルキル基、アリール基、アルコキシ基及び(CH3)3SiO{(CH3)2SiO}lSi(CH3)2CH2CH2-(lは0〜1000の整数)で示される基から選択される基であり、
a’は、0〜3の整数であり、
b’は、0〜1000の整数であり、
c’は、0〜1000の整数であり、但し、1≦b’+c’≦2000である)
R9は、上記と同様であり、
dは、0〜8の整数であり、
eは、0〜8の整数であり、但し、3≦d+e≦8である)
R9は、上記と同様であり、
fは1〜4の整数であり、
gは0〜500の整数である)
で表されるオルガノポリシロキサン
を使用することができる。
オクチルドデシル)、N−ラウロイル−L−グルタミン酸ジ(コレステリル/オクチルドデシル)、N−ラウロイル−L−グルタミン酸ジ(フィトステリル/ベヘニル/オクチルドデシル) 、N−ラウロイル−L−グルタミン酸ジ(フィトステリル/オクチルドデシル)、N−ラウロイルサルコシンイソプロピル、リンゴ酸ジイソステアリル、ジオクタン酸ネオペンチルグリコール、ネオペンタン酸イソデシル、ネオペンタン酸イソトリデシル、ネオペンタン酸イソステアリル、イソノナン酸イソノニル、イソノナン酸イソトリデシル、イソノナン酸オクチル、イソノナン酸イソトリデシル、ジネオペンタン酸ジエチルペンタンジオール、ジネオペンタン酸メチルペンタンジオール、ネオデカン酸オクチルドデシル、ジオクタン酸2−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジオール、テトラオクタン酸ペンタエリスリチル、水素添加ロジンペンタエリスリチル、トリエチルヘキサン酸ペンタエリスリチル、(ヒドロキシステアリン酸/ステアリン酸/ロジン酸)ジペンタエリスリチル、テトライソステアリン酸ポリグリセリル、ノナイソステアリン酸ポリグリセリル−10 、デカ( エルカ酸/イソステアリン酸/リシノレイン酸)ポリグリセリル−8、(ヘキシルデカン酸/セバシン酸)ジグリセリルオリゴエステル、ジステアリン酸グリコール(ジステアリン酸エチレングリコール)、ダイマージリノール酸ジイソプロピル、ダイマージリノール酸ジイソステアリル、ダイマージリール酸ジ(イソステアリル/フィトステリル)、ダイマージリノール酸(フィトステリル/ベヘニル)、ダイマージリノール酸(フィトステリル/ イソステアリル/セチル/ステアリル/ベヘニル)、ダイマージリノール酸ダイマージリノレイル、ジイソステアリン酸ダイマージリノレイル、ダイマージリノレイル水添ロジン縮合物、ダイマージリノール酸硬化ヒマシ油、ヒドロキシアルキルダイマージリノレイルエーテル、トリイソオクタン酸グリセリル、トリイソステアリン酸グリセリル、トリミリスチン酸グリセリル、トリイソパルミチン酸グリセリル、トリオクタン酸グリセリル、トリオレイン酸グリセリル、ジイソステアリン酸グリセリル、トリ(カプリル酸/カプリン酸)グリセリル、トリ(カプリル酸/カプリン酸/ミリスチン酸/ステアリン酸) グリセリル、水添ロジントリグリセリド(水素添加エステルガム
)、ロジントリグリセリド(エステルガム)、ベヘン酸エイコサン二酸グリセリル、ジ−2−ヘプチルウンデカン酸グリセリル、ミリスチン酸イソステアリン酸ジグリセリル、酢酸コレステリル、ノナン酸コレステリル、ステアリン酸コレステリル、イソステアリン酸コレステリル、オレイン酸コレステリル、12−ヒドロキシステアリン酸コレステリル、マカデミアナッツ油脂肪酸コレステリル、マカデミアナッツ油脂肪酸フィトステリル、イソステアリン酸フィトステリル、軟質ラノリン脂肪酸コレステリル、硬質ラノリン脂肪酸コレステリル、長鎖分岐脂肪酸コレステリル、長鎖α−ヒドロキシ脂肪酸コレステリル、リシノレイン酸オクチルドデシル、ラノリン脂肪酸オクチルドデシル、エルカ酸オクチルドデシル、イソステアリン酸硬化ヒマシ油、アボカド油脂肪酸エチル、ラノリン脂肪酸イソプロピル等が例示される。
エチレンジアミンナトリウム、N−ココイル−N−ヒドロキシエチル− N’−カルボキシメチルエチレンジアミンナトリウム、N−ラウロイル−N−ヒドロキシエチル− N’, N’−ジカルボキシメチルエチレンジアミンモノナトリウム、N−オレオイル−N−ヒドロキシエチル− N’, N’−ジカルボキシメチルエチレンジアミンモノナトリウム、N−ココイル−N−ヒドロキシエチル−N’, N’−ジカルボキシメチルエチレンジアミンモノナトリウム、N−ラウロイル−N−ヒドロキシエチル− N’, N’−ジカルボキシメチルエチレンジアミンジナトリウム、N−オレオイル−N−ヒドロキシエチル− N’, N’−ジカルボキシメチルエチレンジアミンジナトリウム、N−ココイル−N−ヒドロキシエチル− N’, N’−ジカルボキシメチルエチレンジアミンジナトリウムなどのアミドアミノ酸型両性界面活性剤が例示される。
化ジメチルメチレンピペリジニウム等)、ビニルピロリドン誘導体(例えば、ビニルピロリドン・ジメチルアミノエチルメタクリル酸共重合体塩、ビニルピロリドン・メタクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムクロライド共重合体、ビニルピロリドン・塩化メチルビニルイミダゾリウム共重合体等)が例示できる。
ノン系紫外線吸収剤、3−(4’−メチルベンジリデン)-d,l−カンファー、3−ベンジリデン−d,l−カンファー、ウロカニン酸、ウロカニン酸エチルエステル、2−フェニル−5−メチルベンゾキサゾール、2,2’−ヒドロキシ−5−メチルフェニルベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−5’−t−オクチルフェニル) ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニルベンゾトリアゾール、ジベンザラジン、ジアニソイルメタン、4−メトキシ−4’−t−ブチルジベンゾイルメタン、5−(3,3−ジメチル−2−ノルボルニリデン)−3−ペンタン−2−オン等が例示される。
攪拌装置,温度計,還流管を取り付けた300ミリリットル4つ口フラスコに、トルエンを100g仕込み、窒素ガスでバブリングを行い十分に脱気し、100℃に加熱した。滴下ロートにメチルメタクリレート36g、n−ブチルアクリレート14g、下記式(A):
攪拌装置,温度計,還流管を取り付けた300ミリリットル4つ口フラスコに、トルエンを100g仕込み、窒素ガスでバブリングを行い十分に脱気し、100℃に加熱した。滴下ロートにメチルメタクリレート31g、上記式(A)で示されるカルボシロキサンデンドリマーモノマー40g、2−エチルヘキシルアクリレート 24g、メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン 5g、2,2’−アゾビス−2−メチルブチロニトリル(大塚化学製)1.0gを仕込み、溶解させた。窒素雰囲気下、滴下ロートよりモノマー混合物を100℃に保ったまま、2時間かけて滴下した。滴下終了後、窒素雰囲気下6時間加熱攪拌した。攪拌後の反応生成物をガスクロマトグラフィーにより重合添加率を分析したところ、重合の添加率は97%であり、ビニル系重合体が得られたことが判明した。このビニル系重合体にトルエンを加え、固形分が40%になるように調整した。GPCによるポリスチレン換算の重量平均分子量は26000であった。
攪拌装置,温度計,還流管を取り付けた300ミリリットル4つ口フラスコに、トルエンを100g仕込み、窒素ガスでバブリングを行い十分に脱気し、100℃に加熱した。滴下ロートにメチルメタクリレート 20g、ステアリルメタクリレート 30g、n−ブチルアクリレート5g、上記式(A)で示されるカルボシロキサンデンドリマーモノマー40g、メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン 5g、2,2’−アゾビス−2−メチルブチロニトリル(大塚化学製)1.0gを仕込み、溶解させた。窒素雰囲気下、滴下ロートよりモノマー混合物を100℃に保ったまま、2時間かけて滴下した。滴下終了後、窒素雰囲気下6時間加熱攪拌した。攪拌後の反応生成物をガスクロマトグラフィーにより重合添加率を分析したところ、重合の添加率は97%であり、ビニル系重合体が得られたことが判明した。このビニル系重合体にトルエンを加え、固形分が40%になるように調整した。GPCによるポリスチレン換算の重量平均分子量は26000であった。
攪拌装置,温度計,還流管を取り付けた300ミリリットル4つ口フラスコに、トルエンを100g仕込み、窒素ガスでバブリングを行い十分に脱気し、100℃に加熱した。滴下ロートにメチルメタクリレート 15g、トリフルオロエチルメタクリレート 30g、n−ブチルアクリレート10g、上記式(A)で示されるカルボシロキサンデンドリマーモノマー40g、メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン 5g、2,2’−アゾビス−2−メチルブチロニトリル(大塚化学製)1.0gを仕込み、溶解させた。窒素雰囲気下、滴下ロートよりモノマー混合物を100℃に保ったまま、2時間かけて滴下した。滴下終了後、窒素雰囲気下6時間加熱攪拌した。攪拌後の反応生成物をガスクロマトグラフィーにより重合添加率を分析したところ、重合の添加率は97%であり、ビニル系重合体が得られたことが判明した。このビニル系重合体にトルエンを加え、固形分が40%になるように調整した。GPCによるポリスチレン換算の重量平均分子量は22000であった。
攪拌装置,温度計,還流管を取り付けた300ミリリットル4つ口フラスコに、トルエンを100g仕込み、窒素ガスでバブリングを行い十分に脱気し、100℃に加熱した。滴下ロートにメチルメタクリレート 38g、n−ブチルアクリレート12g、上記式(A)で示されるカルボシロキサンデンドリマーモノマー40g、メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン 10g、2,2’−アゾビス−2−メチルブチロニトリル(大塚化学製)1.0gを仕込み、溶解させた。窒素雰囲気下、滴下ロートよりモノマー混合物を100℃に保ったまま、2時間かけて滴下した。滴下終了後、窒素雰囲気下6時間加熱攪拌した。攪拌後の反応生成物をガスクロマトグラフィーにより重合添加率を分析したところ、重合の添加率は97%であり、ビニル系重合体が得られたことが判明した。このビニル系重合体にトルエンを加え、固形分が40%になるように調整した。GPCによるポリスチレン換算の重量平均分子量は35000であった。
攪拌装置,温度計,還流管を取り付けた300ミリリットル4つ口フラスコに、トルエンを100g仕込み、窒素ガスでバブリングを行い十分に脱気し、100℃に加熱した。滴下ロートにメチルメタクリレート 31g、n−ブチルアクリレート9g、上記式(A)で示されるカルボシロキサンデンドリマーモノマー50g、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン 10g、2,2’−アゾビス−2−メチルブチロニトリル(大塚化学製)1.0gを仕込み、溶解させた。窒素雰囲気下、滴下ロートよりモノマー混合物を100℃に保ったまま、2時間かけて滴下した。滴下終了後、窒素雰囲気下6時間加熱攪拌した。攪拌後の反応生成物をガスクロマトグラフィーにより重合添加率を分析したところ、重合の添加率は97%であり、ビニル系重合体が得られたことが判明した。このビニル系重合体にトルエンを加え、固形分が40%になるように調整した。GPCによるポリスチレン換算の重量平均分子量は20000であった。
攪拌装置,温度計,還流管を取り付けた300ミリリットル4つ口フラスコに、トルエンを100g仕込み、窒素ガスでバブリングを行い十分に脱気し、100℃に加熱した。滴下ロートにメチルメタクリレート 50g、n−ブチルアクリレート10g、上記式(A)で示されるカルボシロキサンデンドリマーモノマー40g、2,2’−アゾビス−2−メチルブチロニトリル(大塚化学製)1.0gを仕込み、溶解させた。窒素雰囲気下、滴下ロートよりモノマー混合物を100℃に保ったまま、2時間かけて滴下した。滴下終了後、窒素雰囲気下6時間加熱攪拌した。攪拌後の反応生成物をガスクロマトグラフィーにより重合添加率を分析したところ、重合の添加率は97%であり、ビニル系重合体が得られたことが判明した。このビニル系重合体にトルエンを加え、固形分が40%になるように調整した。GPCによるポリスチレン換算の重量平均分子量は45000であった。
攪拌装置,温度計,還流管を取り付けた300ミリリットル4つ口フラスコに、トルエンを100g仕込み、窒素ガスでバブリングを行い十分に脱気し、100℃に加熱した。滴下ロートにメチルメタクリレート 27g、n−ブチルアクリレート8g、上記式(A)で示されるカルボシロキサンデンドリマーモノマー45g、ステアリルメタクリレート 20g、2,2’−アゾビス−2−メチルブチロニトリル(大塚化学製)1.0gを仕込み、溶解させた。窒素雰囲気下、滴下ロートよりモノマー混合物を100℃に保ったまま、2時間かけて滴下した。滴下終了後、窒素雰囲気下6時間加熱攪拌した。攪拌後の反応生成物をガスクロマトグラフィーにより重合添加率を分析したところ、重合の添加率は97%であり、ビニル系重合体が得られたことが判明した。このビニル系重合体にトルエンを加え、固形分が40%になるように調整した。GPCによるポリスチレン換算の重量平均分子量は19000であった。
攪拌装置,温度計,還流管を取り付けた500ミリリットル4つ口フラスコに、トルエンを100g仕込み、窒素ガスでバブリングを行い十分に脱気し、100℃に加熱した。滴下ロートにメチルメタクリレート 41g、n−ブチルアクリレート 14g、下記式:
あらかじめ粉砕機で予備粉砕した未処理酸化チタン(石原産業製、CR-50)25gに合成例1で製造した40%の表面処理剤溶液1.25gとトルエン5gを混合した溶液を加え、攪拌した。攪拌後、150℃のオーブンでトルエンを乾燥除去し、焼付け処理を行った。その後、粉砕機で粉砕して、2%のカルボシロキサンデンドリマーで処理された実施例1の処理粉体を得た。同様にして、合成例2〜8及び、比較合成例1を用いて実施例2〜8及び比較例1の(2%)表面処理粉体を得た。一方、比較例2として、同種類の未処理酸化チタンを2%のメチルハイドロジェンポリシロキサンで表面処理して表面処理粉体を得た。
実施例1〜8及び比較例1〜2の表面処理粉体について、耐水性、経日安定性、及び、水素発生性の各特性について以下のように評価を行った。結果を表1に示す。
表面処理粉体の一定量をプレスして、その表面に水滴を載せて、当該水滴の接触角を接触角計で測定した。測定装置は、自動接触角計(協和界面化学株式会社製)を用いた。
ガラス瓶内にエタノール10g及びイオン交換水40gの混合物を導入し、表面処理粉体0.5gを加え、50℃オーブンに放置し、表面処理粉体が沈降するかどうか目視で判断した。50℃一ヶ月以上全く沈降しないものを◎、50℃一ヶ月で部分的に沈降するものを○、完全に沈降するものを△とした。
デカメチルペンタシクロシロキサン(D5)液中に分散した表面処理粉体に水酸化カリウム/水/エタノール溶液を加え、水素が発生するかどうか確認した。発生しないものを◎、発生するものを×とした。
微粒子未処理酸化チタン(テイカ製、MT-500B)40gに合成例3及び6、並びに、比較合成例1で製造した40%の表面処理剤溶液2gとトルエン30gを混合した溶液を加え、攪拌した。攪拌後、150℃のオーブンでトルエンを乾燥除去し、焼付け処理を行った。その後、デカメチルペンタシクロシロキサン(D5)37g、乾燥した粉体30g、ジルコニアビーズ300g、ポリエーテル変性シリコーン7.1g(東レ・ダウコーニング製、SS2910)をペイントシェーカーで2時間、粉砕分散させて、アクリルデンドリマーで2%処理した酸化チタンスラリーを得た。また、比較例2として、同種類の未処理酸化チタンをメチルハイドロジェンポリシロキサン2%で表面処理粉体を用い、同組成で酸化チタンスラリーを作成した。
測定装置: TAインスツルメンツ社製 コーンプレート型粘度計 AR1000−N
測定条件: 40 mm 1° スチール製ジオメトリー、せん断速度 0.01〜1000s−1 25℃
先に示した実施例1及び7の処理粉体を用い、処理効率を評価した。実施例1及び7の酸化チタンを過剰量のトルエンで1時間攪拌洗浄、その後遠心分離させて上澄みのトルエン及び未反応粉体処理剤を抽出した。この作業を3回繰り返し、トルエンを乾燥した後の処理粉体の水の接触角を測定した。結果を表2に示す。
(成分)
1)ステアリン酸 2.5部
2)ステアリン酸グリセリル 1.9部
3)セトステアリルアルコール 0.4部
4)ベヘニルアルコール 0.1部
5)流動パラフィン 9.9部
6)プロピレングリコール 9部
7)キサンタンガム 0.5部
8)セルロースガム 0.5部
9)ヘクトライト 0.5部
10)トリエタノールアミン 1.2部
11)メチルパラベン 0.1部
12)精製水 63.3部
13)合成例1処理酸化チタン 8.6部
14)合成例1処理黄酸化鉄 1部
15)合成例1処理赤色酸化鉄 0.3部
16)合成例1処理黒酸化鉄 0.2部
2.工程1で得られた油相に成分13〜16を加えて、ホモミキサーで均一に分散する。
3.成分6〜12を均一に加熱混合する。
4.工程3で得られた水相を工程2で得られた油相に加え、ホモミキサーで混合乳化する。
(成分)
1)合成例6処理タルク 32部
2)マイカ 27部
3)アルキルシラン処理酸化亜鉛 2部
4)シリコーン処理酸化チタン 10部
5)シリコーン処理黄酸化鉄 2.5部
6)シリコーン処理赤酸化鉄 1部
7)シリコーン処理黒酸化鉄 0.3部
8)硫酸バリウム 5部
9)ポリメタクリル酸メチル 1部
10)ジメチコン/ビニルジメチコンクロスポリマー/シリカ(注1) 1部
11)シクロペンタシロキサン、ジメチコンクロスポリマー(注2) 8部
12)メトキシ桂皮酸エチルヘキシル 1部
13)スクワラン 2.5部
14)フェニルメチルシリコーン 2部
15)リンゴ酸ジイソステアリル 3部
16)ポリエーテル変性シリコーン(注3) 1.5部
17)パラベン 0.2部
注1:東レ・ダウコーニング社製、DC9701を使用した。
注2:ダウコーニング社製、DC9045を使用した。
注3:東レ・ダウコーニング社製、SS-2910を使用した。
2.成分1〜9を混合する。
3.工程1で得られた混合物に工程2で得られた混合物を加え、混合混練し、粉砕する。
4.工程3で得られた粉砕物を金型にプレス成型し、固形粉末状ファンデーションを得る。
(成分)
相A
1)パルミチン酸デキストリン 2.1部
2)トリカプリルグリセリル トリカプリン酸グリセリル 5部
3)PEG/PPG-18/18 ジメチコン(注1) 10部
4)PEG-12 ジメチコン(注2) 1.9部
相B
5)シクロペンタシロキサン 8部
6)ジメチコン(2cs) 5部
7)フェニルトリメチコン 5部
8)トリストリメチルシロキシシシラン 2部
9)合成例2処理酸化鉄(2%処理) 3.5部
10)合成例2処理マイカ(2%処理) 3.5部
11)シクロペンタシロキサン/(アクリレーツ/メタクリル酸ポリトリメチルシロキシ)コポリマー(注3) 3部
12)シクロペンタシロキサン、ジメチコンクロスポリマー(注4) 2部
相C
13)精製水 48部
14)塩化ナトリウム 1部
注1:ダウコーニング社製、DC5225Cを使用した。
注2:ダウコーニング社製、DC193Cを使用した。
注3:東レ・ダウコーニング社製、FA4001CM Silicone Acrylateを使用した。
注4:ダウコーニング社製、DC9040を使用した。
2.成分5〜12を混合する。
3.工程1で得られた相Aと工程2で得られた相Bを混合する。
4.工程3で得られた混合物に成分13及び14を30秒かけて投入し、攪拌する。
5.投入後3分、3分、及び、4分攪拌する。
(成分)
1)メトキシ桂皮酸オクチル 8部
2)ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル 2部
3)合成例2で作成したスラリー 1部
4)合成例6で処理した酸化亜鉛スラリー 32部
5)シクロペンタシロキサン 20.2部
6)シクロペンタシロキサン、ジメチコンクロスポリマー(注1) 3部
7)トリメチルシロキシケイ酸(注2) 3.3部
8)防腐剤 0.9部
9)エタノール 5部
10)1,3ブチレングリコール 3部
11)水 21.6部
注1:ダウコーニング社製DC9045を使用した。
注2:東レ・ダウコーニング社製BY11-018を使用した。
2.成分10及び11を混合する。
3.工程1に工程2を加え乳化する。
(成分)
相A
1) メトキシ桂皮酸オクチル 6.0部
2) ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル 1.5部
3)シクロペンタシロキサン 5部
4)シクロペンタシロキサン/(アクリレーツ/メタクリル酸ポリトリメチルシロキシ)コポリマー(注1) 3部
5)ジメチコン(6cs) 1部
6)トリオクタノイン 1部
7)シクロペンタシロキサン、ジメチコンクロスポリマー(注2) 3部
8)ポリシリコーン13(注3) 2部
9)酸化亜鉛、シクロペンタシロキサン(スラリー濃度 50%) 10部
10)実施例2で作成した酸化チタンスラリー 2部
相B
11)塩化ナトリウム 1部
12)パンテノール 0.5部
13)精製水 61.95部
14)グリセリン 2部
15)防腐剤 0.05部
注1:東レ・ダウコーニング社製、FA4001CM Silicone Acrylateを使用した。
注2:ダウコーニング社製DC9040を使用した。
注3:東レ・ダウコーニング社製、FZ-2233を使用した。
2.成分11〜15を混合する。
3.工程1に工程2を加え、乳化する。
(成分)
1)セレシンワックス 10部
2)パラフィンワックス 8部
3)キャンデリラワックス 2部
4)スクワラン 21.8部
5)液状ラノリン 10部
6)イソノナン酸イソデシル 13部
7)ネオペンタン酸イソデシル 12部
8)トリ(カプリル/カプリン)酸グリセリル 5部
9)ポリエーテル変性シリコーン(注1) 9部
10)合成例8処理酸化チタン(5%) 2部
11)合成例8処理赤色201号(2%) 2部
12)合成例8処理赤色202号(2%) 1部
13)アルミニウムレーキ 3部
14)抗酸化剤 0.1部
15)香料 0.1部
注1:東レ・ダウコーニング社製、SH3775Mを使用した。
(成分)
相A
1)ステアリン酸 3部
2)ステアリン酸グリセリル/PEG-100 ステアリル 2部
3)オクタン酸セチル 3部
4)スクワラン 3.4部
5)ジメチコン(6cs) 2.3部
6)トリメチルシロキシケイ酸(注1)6.7部
相B
7)1,3−ブチレングリコール 8部
8)合成例1処理酸化チタン 9.5部
9)合成例1処理赤色酸化鉄 0.35部
10)合成例1処理黒色酸化鉄 0.1部
11)合成例1処理黄色酸化鉄 1.5部
12)タルク 1部
13)防腐剤 0.3部
相C
14)精製水 57.95部
相D
15)トリエタノールアミン 0.9部
注1:東レ・ダウコーニング社製BY11-018を使用した。
2.成分1〜6を80〜90℃で混合し、完全に溶解させ、溶解後50℃に冷却する。
3.成分14を85℃に加熱する。
4.工程2で得られた相Aに工程1で得られた相Bを30秒かけて加え、3000rpmで攪拌する。
5.回転数を1000rpmに落とし、工程3で得られた相Cを添加する。
6.5分間攪拌する。
7.成分15を加え、pH6〜6.5に調整する。
(成分)
1)ジメチコン/ビニルジメチコンクロスポリマー/ラウロイルリシン(注1) 1部
2)アルキルシラン処理酸化チタン 9部
3)アルキルシラン処理微粒子酸化亜鉛 5部
4)アルキルシラン処理微粒子酸化チタン 5部
5)ベンガラ 0.2部
6)黄色酸化鉄 1.4部
7)黒色酸化鉄 0.3部
8)板状硫酸バリウム(平均粒子径30μm) 7.5部
9)パラベン 0.2部
10)タルク 残量
11)合成例2処理セリサイト 3部
12)ナイロンパウダー 7.5部
13)フェニルメチルシリコーン 5部
14)C30-45アルキルジメチルシリルポリプロピルシルセスキオキサン(注2) 2部
15)メトキシ桂皮酸エチルヘキシル 1部
16)リンゴ酸ジイソステアリル 3部
17)ジメリルポリシロキサン(350cSt) 2部
18)グリセリン 0.2部
19)香料 適量
注1:東レ・ダウコーニング社製、EP-9289LLを使用した。
注2:ダウコーニング社製、SW-8005 C30 Resin Waxを使用した。
2.成分1〜10を混合する。
3.工程1で得られた混合物に工程2で得られた混合物を加え、混合混練し、粉砕する。
4.工程3で得られた混合物を金型にプレス成型し、固形粉末状ファンデーションを得る。
(成分)
相A
1)アルキル変性シリコーン(注1) 2部
2)マイクロクリスタリンワックス 1部
3)赤色酸化鉄 (69% in DC 5562 Carbinol Fluid) 1部
4)赤色7号 (42% in DC 5562 Carbinol Fluid) 10部
5)黄色酸化鉄(55% in DC 5562 Carbinol Fluid) 1部
6)リンゴ酸ジエステル 1部
7)ラウリルPEG/PPG-18/18 ジメチコン(注2) 4.2部
相B
8)有機ベントナイト(ベントン38) 2部
相C
9)ジメチコン(2cs) 18.5部
10)シクロペンタシロキサン/(アクリレーツ/メタクリル酸ポリトリメチルシロキシ)コポリマー(注3)20部
11)トリメチルシロキシケイ酸(注4) 3部
12)高重合度ジメチコン(注5) 2部
13)シリル化シリカ 1部
14)合成例3処理マイカ 9部
相D
15)カルボマー(2%aq) 20部
16)防腐剤 適量
17)精製水 4.8部
相G
18)香料 適量
注1:ダウコーニング社製、AMS-C30 COSMETIC WAXを使用した。
注2:ダウコーニング社製、DC5200Formulation Aidを使用した。
注3:東レ・ダウコーニング社製、FA4001CM Silicone Acrylateを使用した。
注4:東レ・ダウコーニング社製BY11-018を使用した。
注5:東レ・ダウコーニング社製BY11-040を使用した。
2.成分8を工程1で得られた混合物に添加し、混合する。
3.成分9〜14を70℃で混合する。
4.工程2及び3でそれぞれ得られた混合物混合する。
5.成分15〜17を混合し、工程4へ添加し、乳化する。
6.成分18を添加する。
(成分)
1)ポリアミド変性シリコーン(2-8178) 16.5部
2)デカメチルペンタシクロシロキサン 33部
3)イソドデカン/(アクリレーツ/メタクリル酸ポリトリメチルシロキシ)コポリマー 3部
4)ミリスチン酸イソプロピル 20部
5)トリカプリル/トリカプリン酸グリセリル 21.8部
6)トリメチルペンタフェニルトリシロキサン 5.5部
7)合成例4処理酸化チタン 0.2部
2.金型に注ぎ込む
3.1時間放置する。
(成分)
相A
1)キャンデリラロウ 10部
2)マイクロクリスタリンワックス 7部
3)カルナバワックス 3部
4)ステアリン酸 5部
5)ステアリン酸グリセリル 5部
相B
6)水 35.5部
7)プロピレングリコール 5部
8)トリエタノールアミン 1.5部
相C
9)合成例5処理黒色酸化鉄 10部
10)ポリプロピルシルセスキオキサン(注1) 10部
11)イソドデカン 8部
注1:ダウコーニング社製、DC670Fluidを使用した。
2. 成分9〜11を加熱して混合する。
3. 工程1、2で得られた混合物を混合する
4. 成分6〜8を混合し、80℃に加熱する。
5. 工程3で得られた混合物を1000rpmで攪拌しながら、工程1で得られた混合物を30秒かけて添加する。
6. 成分9を工程3で得られた混合物に添加し、2分間攪拌を継続し、冷却する。
(成分)
相A
1)タルク 39.4部
2)ステアリン酸亜鉛 5部
3)合成例6処理マイカ 10部
4)酸化鉄 30部
5)黒色酸化鉄 0.5部
6)赤色酸化鉄 1部
7)黄色酸化鉄 2部
8)ジメチコン/ビニルジメチコンクロスポリマー 3部
9)ポリアミド変性シリコーン(注1) 1部
相B
10)トリカプリル/トリカプリン酸グリセリル 4部
11)ビスヒドロキシエトキシプロピルジメチコン(注2) 4部
12)防腐剤 適量
注1:ダウコーニング社製、DC2-8178を使用した。
注2:ダウコーニング社製、DC-5562を使用した。
2.成分10〜12を混合する。
3.工程2で得られた相Bを工程1で得られた相Aに攪拌しながら、添加する。
Claims (21)
- 下記式(1):
Zは、2価の有機基であり、
pは、0又は1であり、
R1及びR2は、それぞれ独立して、炭素原子数1〜10のアルキル基、アリール基又はアラルキル基であり、
L1は、i=1とした場合の下記式(2)で示されるシリルアルキル基
Z及びpは、前記と同じであり、
R1及びR2は、前記と同じであり、
iは、前記シリルアルキル基の総階層数を示す1〜10の整数であり、
Li+1は、水素原子、炭素原子数1〜10のアルキル基、アリール基、アラルキル基及び前記シリルアルキル基からなる群から選択される基であり、但し、i=c(cは前記シリルアルキル基の階層を示す1〜10の整数である)の場合は、Li+1は水素原子、炭素原子数1〜10のアルキル基、アリール基又はアラルキル基であり、i<cの場合は前記シリルアルキル基であり、
aiは0〜3の整数である)である}で示されるカルボシロキサンデンドリマー構造を有する重合体を含む化粧料用粉体表面処理剤。 - 前記重合体が、少なくとも、(A)下記式(1):
Zは、2価の有機基であり、
pは、0又は1であり、
R1及びR2は、それぞれ独立して、炭素原子数1〜10のアルキル基、アリール基又はアラルキル基であり、
L1は、i=1とした場合の下記式(2)で示されるシリルアルキル基
Z及びpは、前記と同じであり、
R1及びR2は、前記と同じであり、
iは、前記シリルアルキル基の総階層数を示す1〜10の整数であり、
Li+1は、水素原子、炭素原子数1〜10のアルキル基、アリール基、アラルキル基及び前記シリルアルキル基からなる群から選択される基であり、但し、i=c(cは前記シリルアルキル基の階層を示す1〜10の整数である)の場合は、Li+1は水素原子、炭素原子数1〜10のアルキル基、アリール基又はアラルキル基であり、i<cの場合は前記シリルアルキル基であり、
aiは0〜3の整数である)である}で示されるカルボシロキサンデンドリマー構造を有する不飽和単量体、及び
(B)ケイ素原子結合アルコキシ基を有する不飽和単量体
の共重合体である、請求項1記載の化粧料用粉体表面処理剤。 - 前記(A)カルボシロキサンデンドリマー構造を有する不飽和単量体が、一般式:
- 前記重合体が、更に、(C)ケイ素原子結合アルコキシ基を有さない少なくとも1種の不飽和単量体を共重合して得られる、請求項2又は3に記載の化粧料用粉体表面処理剤。
- 前記(C)ケイ素原子結合アルコキシ基を有さない少なくとも1種の不飽和単量体がC1−6低級アルキル基を有する、請求項4記載の化粧料用粉体表面処理剤。
- 前記共重合体が
前記(A)カルボシロキサンデンドリマー構造を有する不飽和単量体、
前記(B)ケイ素原子結合アルコキシ基を有する不飽和単量体 および
前記(C)ケイ素原子結合アルコキシ基を有さない少なくとも1種の不飽和単量体を
{(A)成分の重量/全単量体の重量}:{(B)成分の重量/全単量体の重量}:{(C)成分の重量/全単量体の重量}が、[0.02〜0.7:0.05〜0.45:0.01〜0.75]の条件を満たす重量比で共重合して得られる、請求項4又は5記載の化粧料用粉体表面処理剤。 - 前記共重合体が
前記(A)カルボシロキサンデンドリマー構造を有する不飽和単量体、
前記(B)ケイ素原子結合アルコキシ基を有する不飽和単量体 および
前記(C)ケイ素原子結合アルコキシ基を有さない少なくとも1種の不飽和単量体を
{(A)成分の重量/全単量体の重量}:{(B)成分の重量/全単量体の重量}:{(C)成分の重量/全単量体の重量}が、[0.02〜0.7:0.05〜0.45:0.01〜0.75]の範囲であり、かつ{(A)成分の重量/全単量体の重量}≧{(B)成分の重量/全単量体の重量}の条件を満たす重量比で共重合して得られる、請求項4乃至6のいずれかに記載の化粧料用粉体表面処理剤。 - 請求項1乃至7記載の化粧料用粉体表面処理剤によって表面処理された化粧料用粉体。
- 請求項8記載の粉体を含む化粧料。
- 油剤を更に含む請求項9記載の化粧料。
- 前記油剤がシリコーンオイルである、請求項10記載の化粧料。
- 前記シリコーンオイルが25℃における粘度が0.65〜100,000mm2/sの疎水性シリコーンオイルである、請求項11記載の化粧料。
- 前記シリコーンオイルが、下記一般式(3)、(4)、又は、(5):
R9は、水素原子、水酸基、或いは、炭素原子数1〜30の、一価の非置換若しくはフッ素若しくはアミノ置換アルキル基、アリール基、アルコキシ基及び(CH3)3SiO{(CH3)2SiO}lSi(CH3)2CH2CH2-(lは0〜1000の整数)で示される基から選択される基であり、
a’は、0〜3の整数であり、
b’は、0〜1000の整数であり、
c’は、0〜1000の整数であり、但し、1≦b’+c’≦2000である)
R9は、上記と同様であり、
dは、0〜8の整数であり、
eは、0〜8の整数であり、但し、3≦d+e≦8である)
R9は、上記と同様であり、
fは1〜4の整数であり、
gは0〜500の整数である)
で表されるオルガノポリシロキサンである、請求項11又は12記載の化粧料。 - アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、両性界面活性剤、及び、半極性界面活性剤からなる群より選ばれる少なくとも1種を更に含む請求項9乃至13のいずれかに記載の化粧料。
- 前記粉体及び/又は着色剤を更に含む、請求項9乃至14のいずれかに記載の化粧料。
- 前記粉体が、平均粒子径が1nm〜20μmの範囲にある無機顔料粉体、有機顔料粉体、及び、樹脂粉体からなる群より選ばれる少なくとも1種である、請求項15記載の化粧料。
- 前記粉体及び/又は前記着色剤の少なくとも一部が請求項1乃至7記載の化粧料用粉体表面処理剤以外の表面処理剤によって撥水化処理されている請求項15又は16記載の化粧料。
- 水溶性高分子、油溶性ゲル化剤、及び、有機変性粘土鉱物からなる群から選択される少なくとも1種を更に含む請求項9乃至17のいずれかに記載の化粧料。
- シリコーン樹脂、シリコーンエラストマー、及び、有機変性シリコーンからなる群から選択される少なくとも1種を更に含む請求項9乃至18のいずれかに記載の化粧料。
- 紫外線防御成分を更に含む請求項9乃至19のいずれかに記載の化粧料。
- 請求項9乃至20のいずれかに記載の化粧料を含む、スキンケア製品、毛髪製品、制汗剤製品、脱臭剤製品、メイクアップ製品、又は、紫外線防御製品。
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