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JP2009205876A - Light guide film, and method of manufacturing the same - Google Patents

Light guide film, and method of manufacturing the same Download PDF

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JP2009205876A
JP2009205876A JP2008045219A JP2008045219A JP2009205876A JP 2009205876 A JP2009205876 A JP 2009205876A JP 2008045219 A JP2008045219 A JP 2008045219A JP 2008045219 A JP2008045219 A JP 2008045219A JP 2009205876 A JP2009205876 A JP 2009205876A
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JP
Japan
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light guide
film
silicone
light
guide film
Prior art date
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Pending
Application number
JP2008045219A
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Japanese (ja)
Inventor
Masuji Tazaki
益次 田崎
Seiki Sato
成樹 佐藤
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Asahi Rubber Inc
Original Assignee
Asahi Rubber Inc
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Publication date
Application filed by Asahi Rubber Inc filed Critical Asahi Rubber Inc
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Abstract

【課題】簡易な構造で丈夫であり、光拡散シートを用いなくとも、光源からの光を広範囲で均一な輝度となり、明るくてむら無く拡散させることができ、液晶上で綺麗な映像を得るのに用いられる耐久性に優れた導光フィルム、及び簡便かつ歩留まり良く製造できる導光フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】導光フィルム1は、表面に、ナノメートルオーダーの凹凸2が付されて粗されている。それの製造方法は、透光性樹脂で導光シート4を形成し、光学パターンを転写させる転写用凹凸が設けられたローラーで押圧して前記光学パターンの凹凸2を付したシリコーン膜3を、前記導光シート4の片面の表面に形成するというものである。
【選択図】図1
[PROBLEMS] To obtain a beautiful image on a liquid crystal, which is durable with a simple structure and can diffuse light from a light source in a wide range and uniform brightness without using a light diffusing sheet. Provided are a light guide film having excellent durability and a method for producing a light guide film that can be produced simply and with high yield.
A light guide film 1 is roughened with irregularities 2 on the order of nanometers on its surface. The manufacturing method thereof comprises forming a light guide sheet 4 with a translucent resin, and pressing a silicone film 3 provided with unevenness 2 of the optical pattern by pressing with a roller provided with transfer unevenness for transferring the optical pattern. The light guide sheet 4 is formed on one surface.
[Selection] Figure 1

Description

本発明は、光源からの光を導光させて広範囲に拡散しながら出射させるもので液晶ディスプレイのバックライト等に用いられる明るいシリコーン製フィルムのような導光フィルム、及びその製造方法に関するものである。   The present invention relates to a light guide film such as a bright silicone film used for a backlight of a liquid crystal display, and the like, and a method for manufacturing the same. .

液晶ディスプレイは、携帯電話やデジタルカメラの小型ディスプレイ、パーソナルコンピュータやテレビの大型ディスプレイとして、汎用されている。このような液晶ディスプレイは、電圧を印加すると分子の向きが揃って一定方向の光のみを透過させる液晶を有するパネルと、その液晶パネルに光を照射するバックライトとを有している。   Liquid crystal displays are widely used as small displays for mobile phones and digital cameras, and large displays for personal computers and televisions. Such a liquid crystal display has a panel having a liquid crystal that aligns molecules and transmits only light in a certain direction when a voltage is applied, and a backlight that irradiates the liquid crystal panel with light.

バックライトには、光源の光を導光板の端部から照射し、導光板の全面から液晶へ向けて出射させるもので主に小型ディスプレイに採用されているエッジライト方式と、液晶の裏側に並べられた複数の光源から拡散板へ向けて照射し、拡散板の全面から液晶へ向けて出射させるもので主に大型ディスプレイに採用されている直下方式とが、ある。いずれの方式でも、光源に近いほど明るく光源から遠いほど暗くなる結果、輝度むらを生じ易い。   The backlight emits light from the light source from the edge of the light guide plate and emits it from the entire surface of the light guide plate toward the liquid crystal. There is a direct system that is mainly used in a large display and emits light from a plurality of light sources to a diffusion plate and emits the light from the entire surface of the diffusion plate toward a liquid crystal. In any of the methods, as the distance from the light source increases, the brightness becomes darker as the distance from the light source increases.

そこで光を拡散させて均一な輝度を得るため、特許文献1には、透明な基材層の表面側に積層される光拡散層を備え、この光拡散層が樹脂製のビーズと樹脂製のバインダーとを有し、光拡散層の表面に部分球体状の凸部を散点的に有している光拡散シートが開示されている。また、特許文献2には、矩形状の一辺縁部に切り欠きを形成した導光板が開示されている。   Accordingly, in order to obtain uniform brightness by diffusing light, Patent Document 1 includes a light diffusion layer laminated on the surface side of a transparent base material layer, and this light diffusion layer is made of resin beads and resin. A light diffusing sheet having a binder and having partially spherical projections scattered on the surface of the light diffusing layer is disclosed. Patent Document 2 discloses a light guide plate in which a notch is formed in one edge of a rectangular shape.

パーソナルコンピュータの画像処理能力の向上や、ハイビジョン放送の普及に伴い、光源からの光を広範囲で均一な輝度となるように拡散させつつ、一層明るくてむらが無く、綺麗な映像を得るのに用いられる導光フィルムが求められるようになってきた。   Used to improve the image processing ability of personal computers and to spread high-definition broadcasts, to diffuse light from a light source to a uniform brightness over a wide range, and to obtain even brighter, more uniform images. There has been a demand for a light guide film that can be used.

特開2006−48084号公報JP 2006-48084 A 特開2007−18867号公報JP 2007-18867 A

本発明は前記の課題を解決するためになされたもので、簡易な構造で丈夫であり、光拡散シートを用いなくとも、光源からの光を広範囲で均一な輝度となり、明るくてむら無く拡散させることができ、液晶上で綺麗な映像を得るのに用いられる耐久性に優れた導光フィルム、及び簡便かつ歩留まり良く製造できる導光フィルムの製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in order to solve the above-described problems, and is simple and strong. Even without using a light diffusing sheet, the light from the light source has a wide range and uniform brightness, and is diffused brightly and uniformly. Another object of the present invention is to provide a light guide film excellent in durability used for obtaining a beautiful image on a liquid crystal, and a method for producing a light guide film that can be produced simply and with high yield.

前記の目的を達成するためになされた特許請求の範囲の請求項1に記載の導光フィルムは、表面に、ナノメートルオーダーの凹凸が付されて粗されていることを特徴とする。   The light guide film according to claim 1, which has been made to achieve the above object, is characterized in that the surface is roughened with irregularities on the order of nanometers.

請求項2に記載の導光フィルムは、請求項1に記載されたもので、透光性樹脂で形成された導光シートの少なくとも片方の面がシリコーン膜で被覆され、前記シリコーン膜の露出表面に、前記凹凸の光学パターンが形成されていることを特徴とする。   The light guide film according to claim 2 is the light guide film according to claim 1, wherein at least one surface of the light guide sheet formed of a translucent resin is covered with a silicone film, and the exposed surface of the silicone film Further, the concave-convex optical pattern is formed.

請求項3に記載の導光フィルムは、請求項1に記載されたもので、前記凹凸が、50〜2000nmの前記ナノメートルオーダーの表面粗さを有することを特徴とする。   The light guide film according to a third aspect is the light guide film according to the first aspect, wherein the unevenness has a surface roughness of the nanometer order of 50 to 2000 nm.

請求項4に記載の導光フィルムは、請求項2に記載されたもので、前記導光フィルムの一端が光源に向いて配置されて用いられ、前記シリコーン膜と反対側の前記導光フィルムの面に、前記光源から遠いほど大きな反射材からなるドットが、付されていることを特徴とする。   A light guide film according to a fourth aspect is the light guide film according to the second aspect, wherein one end of the light guide film is arranged facing a light source, and the light guide film on the side opposite to the silicone film is used. The surface is provided with a dot made of a reflective material that is larger as it is farther from the light source.

請求項5に記載の導光フィルムは、請求項2に記載されたもので、前記シリコーン膜がシリコーン樹脂又はシリコーンゴムで形成されていることを特徴とする。   A light guide film according to a fifth aspect is the light guide film according to the second aspect, wherein the silicone film is formed of a silicone resin or a silicone rubber.

請求項6に記載の導光フィルムは、請求項2に記載されたもので、前記導光シートが、ポリアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコーン樹脂、又はシリコーンゴムで形成されていることを特徴とする。   A light guide film according to a sixth aspect is the light guide film according to the second aspect, wherein the light guide sheet is formed of a polyacrylic resin, a polycarbonate resin, a silicone resin, or a silicone rubber. .

請求項7に記載の導光フィルムは、請求項2に記載されたもので、前記導光シート及び/又はシリコーン膜に、散乱剤が含有されていることを特徴とする。   A light guide film according to a seventh aspect is the light guide film according to the second aspect, wherein the light guide sheet and / or the silicone film contains a scattering agent.

請求項8に記載の導光フィルムの製造方法は、透光性樹脂で導光シートを形成し、光学パターンを転写させる転写用凹凸が設けられたローラーで押圧して前記光学パターンの凹凸を付したシリコーン膜を、前記導光シートの片面の表面に積層することを特徴とする。   The method for producing a light guide film according to claim 8 forms a light guide sheet with a translucent resin, and presses with a roller provided with unevenness for transfer to transfer the optical pattern, thereby attaching the unevenness of the optical pattern. The silicone film is laminated on one surface of the light guide sheet.

請求項9に記載の導光フィルムの製造方法は、請求項8に記載されたもので、前記導光シートに、シリコーン原料組成物を塗布し加熱又は光照射によって硬化を進行させつつ前記ローラーで押圧して、前記シリコーン膜を形成することを特徴とする。   The method for producing a light guide film according to claim 9 is the method according to claim 8, wherein a silicone raw material composition is applied to the light guide sheet and curing is progressed by heating or light irradiation with the roller. The silicone film is formed by pressing.

請求項10に記載の導光フィルムの製造方法は、請求項8に記載されたもので、シリコーン原料組成物を膜状にして硬化を進め、加熱しつつ前記ローラーで押圧し該硬化を終了して前記シリコーン膜を形成させた後、前記導光シートの片面に、前記シリコーン膜を接着することを特徴とする。   The method for producing a light guide film according to claim 10 is the method according to claim 8, wherein the silicone raw material composition is made into a film and cured, and is heated and pressed with the roller to complete the curing. After the silicone film is formed, the silicone film is adhered to one side of the light guide sheet.

請求項11に記載の導光フィルムの製造方法は、請求項8に記載されたもので、前記ローラーに、電子ビームリソグラフィー処理、ブラスト処理、ナノメートルオーダー径の微粒子を含む組成物を吹付ける吹付塗装処理、及び/又はケミカルエッチング処理を施すことにより、前記転写用凹凸を設けることを特徴とする。   The method for producing a light guide film according to claim 11 is the method according to claim 8, wherein the roller is sprayed with an electron beam lithography process, a blast process, and a composition containing fine particles having a nanometer order diameter. The unevenness for transfer is provided by performing a coating process and / or a chemical etching process.

請求項12に記載の導光フィルムの製造方法は、金属ベルト又は樹脂ベルト上へ載せられ、硬化が進行中のシリコーン膜、導光フィルム、及び導光シートに積層されたシリコーン膜の何れかに、光学パターンを転写させる転写用凹凸が設けられたローラーで押圧しながら硬化を終了してから、該シリコーン膜、又は該導光フィルムを前記ベルトから剥離することを特徴とする。   The method for producing a light guide film according to claim 12 may be any one of a silicone film that is placed on a metal belt or a resin belt and is being cured, a light guide film, and a silicone film laminated on the light guide sheet. The silicone film or the light guide film is peeled off from the belt after being cured while being pressed with a roller provided with transfer irregularities for transferring the optical pattern.

本発明の導光フィルムは、導光シートの光出射面を被覆したシリコーン膜の露出表面に、形成されている凹凸の光学パターンにより、発光ダイオードや冷陰極管のような光源から導光シートに入射した光が拡散して広範囲へ均一に出射する。しかもその際の光量の損失が小さいから、明るいものである。   The light guide film of the present invention is applied to the light guide sheet from a light source such as a light emitting diode or a cold cathode tube by an uneven optical pattern formed on the exposed surface of the silicone film covering the light emitting surface of the light guide sheet. The incident light is diffused and emitted uniformly over a wide area. Moreover, since the loss of light quantity at that time is small, it is bright.

この導光フィルムは、わざわざ光拡散シートを用いなくてよく、導光フィルムのシリコーン膜の表面に、直接設けられた凹凸の光学パターンで、導光された光を拡散させながら出射させるものであるから、簡易な構成で丈夫であり、また長期間使用しても劣化しない。とりわけシリコーン膜がシリコーン樹脂やシリコーンゴムであると、光源からの強力な光に長期間曝されても黄変等の劣化をせず、透明なままである。この導光フィルムは、薄膜であって可撓性があるから、曲げても、割れず劣化せず強度低下を引き起さない。しかもシリコーン膜が静電気を帯び難く塵や埃を吸着し難く、光や熱に長期間強く曝されても黄変も劣化もせず、耐久性に優れているから、導光フィルムは、汚れ難く寿命信頼性がある。   This light guide film does not have to use a light diffusing sheet. The light guide film is an uneven optical pattern provided directly on the surface of the silicone film of the light guide film and emits the light guided while diffusing. Therefore, it is durable with a simple structure and does not deteriorate even when used for a long time. In particular, when the silicone film is a silicone resin or silicone rubber, it does not deteriorate, such as yellowing, and remains transparent even when exposed to strong light from a light source for a long period of time. Since this light guide film is a thin film and flexible, even if it is bent, it does not break and does not deteriorate and does not cause a decrease in strength. In addition, the silicone film is difficult to be charged with static electricity, it is difficult to adsorb dust and dust, and even if it is exposed to light and heat for a long period of time, it does not yellow or deteriorate, and it has excellent durability. Reliable.

この導光フィルムは、液晶ディスプレイのバックライト用の導光板として用いられる。この導光フィルムは、発光ダイオードや冷陰極管のような光源からの光を効率良く拡散させ、その損失を極小さなものとしているから、液晶ディスプレイを小型化にしたり逆に大型化したりしても、導光フィルム全体で光が均一に散乱して出射する。   This light guide film is used as a light guide plate for a backlight of a liquid crystal display. This light guide film diffuses light from light sources such as light-emitting diodes and cold cathode tubes efficiently and minimizes the loss, so even if the liquid crystal display is downsized or conversely enlarged In the whole light guide film, light is uniformly scattered and emitted.

導光フィルムの製造方法によれば、ローラーに設けられた転写用凹凸を、精密にシリコーン膜に転写し、凸レンズや凹レンズやフレネルレンズやナノメートルオーダーの凹凸を有する導光フィルムを、得ることができる。この製造方法は、簡便であり、歩留まりが良く、高品質の導光フィルムを大量に製造できる。特にシリコーン膜は、他の透光性樹脂製の膜よりも、転写特性が極めて優れているので、ローラーに設けられた転写用凹凸がたとえ5〜数10nm程度であっても、再現性よく正確に転写できる。   According to the method for producing a light guide film, transfer unevenness provided on a roller can be precisely transferred to a silicone film to obtain a convex lens, a concave lens, a Fresnel lens, or a light guide film having nanometer order unevenness. it can. This production method is simple, has a good yield, and can produce a large amount of high quality light guide films. In particular, the silicone film has much better transfer characteristics than other translucent resin films, so even if the transfer unevenness provided on the roller is about 5 to several tens of nm, it is accurate with good reproducibility. Can be transferred to.

発明を実施するための好ましい形態Preferred form for carrying out the invention

以下、本発明を実施するための好ましい形態を詳細に説明するが、本発明の範囲はこれらの形態に限定されるものではない。   Hereinafter, although the preferable form for implementing this invention is demonstrated in detail, the scope of the present invention is not limited to these forms.

本発明の導光フィルム1の実施の態様について、図1を参照しながら説明する。   An embodiment of the light guide film 1 of the present invention will be described with reference to FIG.

導光フィルム1は、同図(A)に示すように、透光性樹脂であるポリアクリル樹脂で形成された導光シート4の光出射面を、シリコーン膜3で被覆されたものである。シリコーン膜3の光出射面である露出表面の一面に、凹凸の光学パターン2が形成されている   As shown in FIG. 1A, the light guide film 1 is obtained by coating the light emitting surface of a light guide sheet 4 made of a polyacrylic resin, which is a translucent resin, with a silicone film 3. An uneven optical pattern 2 is formed on one surface of the exposed surface that is the light exit surface of the silicone film 3.

シリコーン膜3の凹凸の光学パターン2の部分拡大図である同図(B)に示すように、ナノメートルオーダーの表面粗さの成形表面凹凸2を、四方に連続して形成している。表面粗さは、それを表わすパラメータとして例えばJIS B0601−1994のように粗さ曲線から求められる算術平均粗さ、最大高さ、十点平均粗さ、凹凸の平均間隔、局部山頂の平均間隔、及び負荷長さ率で定められる。具体的にはそれらの値を例えば5〜3000nm、好ましくは50〜2000nm、より好ましくは70〜1000nm、より一層好ましくは200〜1000nmとすることによって粗らされている。さらに、凹凸の最大高さ、最小高さ、最大間隔、最小間隔も、局部山頂の最大間隔、最小間隔も、前記の範囲内であることが好ましい。同図(B)中、凹凸2の深さである最大高さHを、例えば500nmとする例である。凹凸の間隔であるピッチH、又は平均ピッチHadv(不図示)を、300nm程度にしてもよい。50〜2000nm、好ましくは200〜800nm、一層好ましくは400〜500nmの表面粗さの凹凸が付されていてもよい。この範囲であると、表面反射が無くなり、光電効率が良くなる。特に、最近は液晶ディスプレイを至近距離で観ることが多くなってきており、どの方向からでも明瞭に観たり屋内外の明るい環境で観たりできるように、また均質な画像が得られるように、前記範囲となっていることが好ましい。 As shown in FIG. 2B, which is a partially enlarged view of the uneven optical pattern 2 of the silicone film 3, the formed surface unevenness 2 having a surface roughness of nanometer order is continuously formed in all directions. The surface roughness is an arithmetic average roughness, maximum height, ten-point average roughness, average interval of unevenness, average interval of local peaks, and the like, as parameters representing it, such as JIS B0601-1994. And the load length ratio. Specifically, it is roughened by setting these values to, for example, 5 to 3000 nm, preferably 50 to 2000 nm, more preferably 70 to 1000 nm, and still more preferably 200 to 1000 nm. Furthermore, it is preferable that the maximum height, the minimum height, the maximum interval, and the minimum interval of the unevenness are also within the above-described ranges. In FIG. 5B, the maximum height H that is the depth of the unevenness 2 is, for example, 500 nm. The pitch H or the average pitch Ha av (not shown), which is the interval between the irregularities, may be about 300 nm. Concavities and convexities with a surface roughness of 50 to 2000 nm, preferably 200 to 800 nm, and more preferably 400 to 500 nm may be provided. Within this range, surface reflection is eliminated and photoelectric efficiency is improved. In particular, recently, the liquid crystal display is often viewed at a close distance, so that it can be clearly seen from any direction or can be viewed in a bright environment indoors or outdoors, and a uniform image can be obtained. It is preferable to be in the range.

この導光フィルム1は、例えば所謂、導光板であり、液晶ディスプレイのエッジライト方式のバックライトモジュールに用いられる。バックライトモジュールは、この導光フィルム1と、その側部の端面に対峙して向いている発光ダイオード又は冷陰極管である光源12とを有している。光源12は、そこからの光14aを導光フィルム1へ誘導する反射性のリフレクターフィルム13で覆われている。導光フィルム1は、そのシリコーン膜3と反対の面に、光源から遠いほど大きな反射性光散乱材からなる反射性光散乱ドット5が付されている。導光フィルム1のシリコーン膜3側に、液晶パネル11が配置され、液晶ディスプレイを形成している。   The light guide film 1 is, for example, a so-called light guide plate, and is used in an edge light type backlight module of a liquid crystal display. The backlight module includes the light guide film 1 and a light source 12 that is a light-emitting diode or a cold cathode tube facing the end surface of the side portion. The light source 12 is covered with a reflective reflector film 13 that guides light 14a therefrom to the light guide film 1. The light guide film 1 is provided with reflective light scattering dots 5 made of a reflective light scattering material that is larger as it is farther from the light source on the surface opposite to the silicone film 3. A liquid crystal panel 11 is disposed on the light guide film 1 on the silicone film 3 side to form a liquid crystal display.

導光フィルム1は、目的に応じて厚さを適宜調節してもよいが、例えば液晶ディスプレイに用いる場合、厚さが1mm以下であると好ましく、0.1〜0.2mmであると一層好ましい。   The thickness of the light guide film 1 may be appropriately adjusted according to the purpose. However, for example, when used for a liquid crystal display, the thickness is preferably 1 mm or less, and more preferably 0.1 to 0.2 mm. .

導光フィルム1は、導光シート4とシリコーン膜3とが、同質のシリコーンであって一体化していてもよい。反射防止膜や防眩膜を付していてもよい。   In the light guide film 1, the light guide sheet 4 and the silicone film 3 may be made of the same quality silicone and integrated. An antireflection film or an antiglare film may be provided.

この導光フィルム1を有する液晶ディスプレイは、以下のよう動作する。   The liquid crystal display having the light guide film 1 operates as follows.

光源12を発光させると、その光14aは、同図(A)の実線矢印で代表して示すように、導光フィルム1の側部の端面へ入射する。導光フィルム1に入射した光は、表面反射を繰り返して導光フィルム1の広範囲に拡がる。この際、反射性光散乱ドット5に当った光は、表面反射と異なる反射角度で反射して散乱する。   When the light source 12 emits light, the light 14a is incident on the end face of the side portion of the light guide film 1, as represented by the solid line arrow in FIG. The light incident on the light guide film 1 repeats surface reflection and spreads over a wide range of the light guide film 1. At this time, the light hitting the reflective light scattering dots 5 is reflected and scattered at a reflection angle different from the surface reflection.

散乱した光14bは、シリコーン膜3を透過しその凹凸の光学パターン2を経て、出射する。例えば同図(B)に示すように光10(a)は、その光学パターン2の一つの凹凸を経て、屈折しながら、出射する。別な光10(b)は、別な凹凸の一つを経て、光10(a)とは別方向に屈折しながら、出射する。また別な光10(c)が僅かながら別な凹凸の一つで反射したとしても、同様に出射する。反射性光散乱ドット5は、光源12から遠いほど大きくなっており、導光フィルム1から出射する光で、導光フィルム1のシリコーン膜3の凹凸の光学パターン2から、均一に光が出射する。このようにして光拡散しながら均一に出射する結果、全方向へ光が殆どロスなく進行して、導光フィルム1は、明るく輝く。反射性光散乱ドット5は、酸化チタンとシリコーン樹脂とを混合した樹脂組成物などを塗布して設けることができる。   The scattered light 14b passes through the silicone film 3 and exits through the uneven optical pattern 2. For example, as shown in FIG. 5B, the light 10 (a) is emitted while being refracted through one unevenness of the optical pattern 2. Another light 10 (b) is emitted through one of the other irregularities while being refracted in a different direction from the light 10 (a). Further, even if another light 10 (c) is slightly reflected by one of the other irregularities, it is emitted in the same manner. The reflective light scattering dots 5 are larger as they are farther from the light source 12, and light is emitted uniformly from the uneven optical pattern 2 of the silicone film 3 of the light guide film 1 with light emitted from the light guide film 1. . As a result of emitting light uniformly while diffusing in this way, light travels almost without loss in all directions, and the light guide film 1 shines brightly. The reflective light scattering dots 5 can be provided by applying a resin composition in which titanium oxide and a silicone resin are mixed.

なお、導光フィルム1を、液晶ディスプレイのバックライトに用いる例を示したが、フロントライトに用いてもよい。また、表面のぎらつき防止フィルムとして用いてもよい。   In addition, although the example which uses the light guide film 1 for the backlight of a liquid crystal display was shown, you may use it for a front light. Moreover, you may use as a surface glare prevention film.

図1に、凹凸の光学パターン2は、各凹凸が不規則的に連続している例を示したが、図2の(A)〜(E)のように、規則的に連続していてもよく、何れも効率的に光を拡散させる。   FIG. 1 shows an example in which the uneven optical pattern 2 is irregularly continuous. However, as shown in FIGS. 2A to 2E, the uneven optical pattern 2 may be regularly continuous. Well, both diffuse light efficiently.

この導光フィルム1の製造方法の一態様は、図3を参照しながら説明すると、以下の通りである。   An embodiment of the method for producing the light guide film 1 will be described below with reference to FIG.

先ず、ポリアクリル樹脂製の導光シートロール21からその導光シート4を引き出し、その上に、シリコーン樹脂であるポリジメチルシロキサンの液状原料22を塗布し、硬化させてシリコーン平膜23を形成する。そのシリコーン平膜23を導光シート4ごとゆっくりと引き出す。光学パターンを転写させる転写用凹凸25が電子ビームリソグラフィーによって設けられたローラー24を加熱しながら、シリコーン平膜23に押圧する。引き出されているシリコーン平膜23上に、ローラー24の転写用凹凸25とそっくりに凹凸の光学パターン2が転写される。適切な長さとなるようにカッター26で切断するとシリコーン膜3上に粗らされたナノメートルオーダーの凹凸の光学パターン2が付されている導光フィルム1が得られる。   First, the light guide sheet 4 is pulled out from a light guide sheet roll 21 made of polyacrylic resin, and a liquid raw material 22 of polydimethylsiloxane, which is a silicone resin, is applied thereon and cured to form a silicone flat film 23. . The silicone flat film 23 is slowly pulled out together with the light guide sheet 4. The transfer unevenness 25 for transferring the optical pattern presses against the silicone flat film 23 while heating the roller 24 provided by electron beam lithography. The uneven optical pattern 2 is transferred onto the drawn flat silicone film 23 just like the transfer unevenness 25 of the roller 24. When it is cut with a cutter 26 so as to have an appropriate length, the light guide film 1 provided with the uneven optical pattern 2 of nanometer order on the silicone film 3 is obtained.

この導光フィルム1の製造方法の別な態様を、図4を参照しながら説明すると、以下のとおりである。   Another aspect of the method for manufacturing the light guide film 1 will be described below with reference to FIG.

先ず、液状のシリコーン樹脂原料を膜状に付し、硬化を途中まで進め、半硬化させたシリコーン平膜23を形成する。そのシリコーン平膜23をゆっくりと引き出す。光学パターンを転写させる転写用凹凸25が設けられたローラー24を加熱しながら、シリコーン平膜23に押圧する。引き出されているシリコーン平膜23上に、ローラー24の転写用凹凸25とそっくりに凹凸の光学パターン2が転写され、その光学パターン2がおもて面側に付されたシリコーン膜3が得られる。次いで、ポリアクリル樹脂製の導光シートロール21からその導光シート4を引き出す。凹凸の光学パターン2が付されたシリコーン膜3のうら面側に、導光シート4を接着する。適切な長さになるようにカッター26で切断すると、シリコーン膜3上に粗れたナノメートルオーダーの凹凸の光学パターン2が付されている導光フィルム1が得られる。   First, a liquid silicone resin raw material is applied in the form of a film, and curing is advanced halfway to form a semi-cured silicone flat film 23. The silicone flat film 23 is slowly pulled out. While heating the roller 24 provided with the transfer unevenness 25 for transferring the optical pattern, the silicone flat film 23 is pressed. An uneven optical pattern 2 is transferred onto the drawn flat silicone film 23 just like the transfer unevenness 25 of the roller 24, and a silicone film 3 with the optical pattern 2 attached to the front surface side is obtained. . Next, the light guide sheet 4 is pulled out from the light guide sheet roll 21 made of polyacrylic resin. The light guide sheet 4 is bonded to the back side of the silicone film 3 provided with the uneven optical pattern 2. When the cutter 26 is cut to an appropriate length, the light guide film 1 having the rough nanometer-order uneven optical pattern 2 on the silicone film 3 is obtained.

ポリアクリル樹脂製の導光シート4を、プライマー処理してから、シリコーン膜3を接着することが好ましい。   It is preferable to adhere the silicone film 3 after primer treatment of the light guide sheet 4 made of polyacrylic resin.

この導光フィルム1の製造方法の別な態様を、図5(A)を参照しながら説明すると、以下のとおりである。   Another aspect of the method for producing the light guide film 1 will be described below with reference to FIG.

先ず、液状のシリコーン樹脂原料22を、周回している金属ベルト27又は樹脂ベルト上に膜状に塗布しシリコーン平膜23を形成する。そのシリコーン平膜23をそのベルト上でヒーター29により加熱し熱硬化反応を部分的に進行させて半硬化させ、その後で光学パターンを転写させる転写用凹凸25が設けられたローラー24を加熱しながら、シリコーン平膜23に押圧する。引き出されているシリコーン平膜23上に、ローラー24の転写用凹凸25とそっくりに凹凸の光学パターン2が転写されつつ熱硬化反応の進行の終了により完全に硬化され、その光学パターン2がおもて面側に付されたシリコーン膜3が得られる。次いで、ベルトを引き剥がし、シリコーン膜3が、シームレスフィルムとして得られる。必要に応じて、巻取りドラム28に巻取り、必要な長さに切断すると、導光フィルム1が得られる。   First, the liquid silicone resin raw material 22 is applied in a film shape on the metal belt 27 or the resin belt that circulates to form a flat silicone film 23. The silicone flat film 23 is heated on the belt by a heater 29 to partially advance the thermosetting reaction to be semi-cured, and then, while heating the roller 24 provided with the transfer unevenness 25 for transferring the optical pattern, Then, the silicone flat film 23 is pressed. On the silicone flat film 23 drawn out, the uneven optical pattern 2 is transferred in the same manner as the transfer unevenness 25 of the roller 24, and is completely cured by the end of the progress of the thermosetting reaction. Thus, the silicone film 3 attached to the surface side is obtained. Next, the belt is peeled off, and the silicone film 3 is obtained as a seamless film. If necessary, the light guide film 1 is obtained by winding it on a winding drum 28 and cutting it to a required length.

この導光フィルム1の製造方法の別な態様を、図5(B)を参照しながら説明すると、以下のとおりである。   Another aspect of the method for manufacturing the light guide film 1 will be described below with reference to FIG.

先ず、液状のシリコーン樹脂原料22(a)を、周回している金属ベルト27又は樹脂ベルト上に膜状に塗布し、ヒーター29により加熱し熱硬化反応を部分的に進行させて半硬化させ、又は完全に硬化させ、シリコーン平膜23(a)を形成する。そのシリコーン平膜23(a)上に、前記のものと同一又は異なる液状のシリコーン樹脂原料22(b)を膜状に塗布し、シリコーン平膜23(b)を形成する。その後、光学パターンを転写させる転写用凹凸25が設けられたローラー24を加熱しながら、シリコーン平膜23(b)に押圧する。引き出されているシリコーン平膜23(b)上に、ローラー24の転写用凹凸25とそっくりに凹凸の光学パターン2が転写されつつ熱硬化反応の終了により完全に硬化され、その光学パターン2がおもて面側に付されたシリコーン膜3が得られる。次いで、ベルトを引き剥がし、シリコーン膜3が、シームレスフィルムとして得られる。必要に応じて、巻取りドラム28に巻取り、必要な長さに切断すると、導光フィルム1が得られる。   First, the liquid silicone resin raw material 22 (a) is applied in a film form on the circulating metal belt 27 or resin belt, heated by the heater 29, and partially cured by causing the thermosetting reaction to partially proceed. Or it hardens | cures completely and forms the silicone flat film 23 (a). On the silicone flat film 23 (a), a liquid silicone resin raw material 22 (b) that is the same as or different from the above is applied in the form of a film to form the silicone flat film 23 (b). Then, the roller 24 provided with the transfer unevenness 25 for transferring the optical pattern is pressed against the silicone flat film 23 (b). On the drawn silicone flat film 23 (b), the concave / convex optical pattern 2, which is exactly the same as the transfer concave / convex 25 of the roller 24, is transferred and completely cured by the end of the thermosetting reaction. The silicone film 3 attached to the front side is obtained. Next, the belt is peeled off, and the silicone film 3 is obtained as a seamless film. If necessary, the light guide film 1 is obtained by winding it on a winding drum 28 and cutting it to a required length.

この場合、四塩化ケイ素ガスを酸化炎で酸化させて得られる酸化ケイ素を、接着面に付し酸化ケイ素膜を形成するいわゆるイトロ処理を施してもよく、(CH2=CH-)(CH3O-)2Si-O-[(CH2=CH-)(CH3O-)Si-O]n-Si(-OCH3)2(-CH=CH2)で例示されるビニルメトキシシロキサン(VMS)に浸漬するVMS処理を施してもよい。コロナ放電処理を施してもよい。 In this case, silicon oxide obtained by oxidizing silicon tetrachloride gas with an oxidization flame may be subjected to a so-called itro treatment for forming a silicon oxide film on the bonding surface, and (CH 2 = CH-) (CH 3 O-) 2 Si-O-[(CH 2 = CH-) (CH 3 O-) Si-O] n -Si (-OCH 3 ) 2 (-CH = CH 2 ) You may perform the VMS process immersed in VMS). Corona discharge treatment may be performed.

ローラー24に、転写用凹凸25が電子ビームリソグラフィーによって設けられた例を示したが、その作製方法は特に限定されない。その作製方法の一例は、以下の通りである。図6(I)のように、ローラー24を真空チャンバー内に入れ、電子ビームリソグラフィー装置のカソード、アノードを経て電磁コイル31で、高電圧下、電子を集束させて加速させた電子ビーム32を、ローラー24の表面に、衝突させて電子ビームリソグラフィー処理を施すと、ナノメートルオーダーの凹凸ができる。ローラー24の表面に、ナノメートルオーダーのピッチ毎に、電子ビームリソグラフィー処理を繰り返して施す。ローラー24の表面全面を粗らして、そこに転写用凹凸25を付す。   Although an example in which the transfer unevenness 25 is provided on the roller 24 by electron beam lithography is shown, the manufacturing method is not particularly limited. An example of the manufacturing method is as follows. As shown in FIG. 6I, the roller 24 is placed in a vacuum chamber, and an electron beam 32 that is focused and accelerated by a magnetic coil 31 through a cathode and an anode of an electron beam lithography apparatus under a high voltage is accelerated. When the surface of the roller 24 is made to collide and subjected to electron beam lithography, irregularities on the order of nanometers are formed. The surface of the roller 24 is repeatedly subjected to electron beam lithography for every nanometer pitch. The entire surface of the roller 24 is roughened, and transfer irregularities 25 are added thereto.

転写用凹凸25を付すのに、電子ビームリソグラフィー処理の例を示したが、同図(II)に示すように、サンドブラスト33をローラー24の表面に吹付けるようなブラスト処理により形成されてもよく、同図(III)に示すようにナノメートルオーダー径の微粒子例えば気相法で生成させたナノシリカ微粒子34と、硬化性樹脂とが含まれた組成物を、ローラー24表面に吹付けて硬化させ、得られた硬化膜からシリカ微粒子34を露出させる吹付塗装処理で形成させてもよく、ドライエッチング等のケミカルエッチング処理で形成させてもよい。   Although an example of the electron beam lithography process has been shown to attach the transfer unevenness 25, it may be formed by a blast process in which the sand blast 33 is sprayed onto the surface of the roller 24 as shown in FIG. As shown in FIG. 3 (III), a composition containing nanometer-order fine particles, for example, nanosilica fine particles 34 produced by a vapor phase method, and a curable resin is sprayed onto the surface of the roller 24 to be cured. The resulting cured film may be formed by a spray coating process in which the silica fine particles 34 are exposed, or may be formed by a chemical etching process such as dry etching.

導光フィルム1は、導光シート4上のシリコーン膜3上に凸レンズ、凹レンズ、又はフレネルレンズを有する光学パターン2が形成されたものであってもよい。   The light guide film 1 may be one in which the optical pattern 2 having a convex lens, a concave lens, or a Fresnel lens is formed on the silicone film 3 on the light guide sheet 4.

導光フィルム1を成形するための透光性樹脂が、ポリジメチルシロキサンである例を示したが、ポリジフェニルシロキサンのような別な硬質のシリコーン樹脂や、軟質のシリコーンゴム又はゲル状シリコーン樹脂であってもよい。   Although the translucent resin for shape | molding the light guide film 1 showed the example which is polydimethylsiloxane, it is another hard silicone resin like polydiphenylsiloxane, soft silicone rubber, or gel-like silicone resin. There may be.

シリコーン膜3は、シリコーン原料組成物を硬化させることにより得ることができる。シリコーン原料組成物としては、特に、液状の付加反応硬化型のシリコーン原料組成物が好ましい。液状の付加反応硬化型のシリコーン原料組成物は、無溶媒であるため発泡することなく表面も内部も均一に硬化させることができるので好適である。   The silicone film 3 can be obtained by curing the silicone raw material composition. As the silicone raw material composition, a liquid addition reaction curable silicone raw material composition is particularly preferable. The liquid addition reaction curable silicone raw material composition is suitable because it is solvent-free and can be uniformly cured on the surface and inside without foaming.

上記付加反応硬化型のシリコーン原料組成物としては、熱硬化により透明なシリコーンを形成するものであれば特に制限されないが、例えば、オルガノポリシロキサンをベースポリマーとし、オルガノハイドロジェンポリシロキサン及び白金系触媒等の重金属系触媒を含むものが挙げられる。   The addition reaction curable silicone raw material composition is not particularly limited as long as it forms a transparent silicone by heat curing. For example, an organopolysiloxane is used as a base polymer, and an organohydrogenpolysiloxane and a platinum catalyst. And those containing heavy metal catalysts such as

上記オルガノポリシロキサンとしては、下記平均単位式
SiO(4−a)/2
(式中、Rは非置換又は置換一価炭化水素基で、好ましくは炭素数1〜10、特に1〜8のものである。aは0.8〜2、特に1〜1.8の正数である。)
で示されるものが挙げられる。ここで、Rとしてはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基、ビニル基、アリル基、ブテニル基等のアルケニル基、フェニル基、トリル基等のアリール基、ベンジル基等のアラルキル基や、これらの炭素原子に結合した水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置換されたクロロメチル基、クロロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基等のハロゲン置換炭化水素基、或いはシアノ基で置換された2−シアノエチル基等のシアノ基置換炭化水素基などが挙げられ、Rは同一であっても異なっていてもよいが、Rとしてフェニル基を含むもの、特に、全Rのうち5〜80モル%がフェニル基であるものが、導光フィルム1の耐熱性及び透明性の点から好ましい。
Examples of the organopolysiloxane include the following average unit formula R a SiO (4-a) / 2
Wherein R is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group, preferably having 1 to 10 carbon atoms, particularly 1 to 8. a is a positive number of 0.8 to 2, particularly 1 to 1.8. Number.)
The thing shown by is mentioned. Here, R is an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group or a butyl group, an alkenyl group such as a vinyl group, an allyl group or a butenyl group, an aryl group such as a phenyl group or a tolyl group, or an aralkyl such as a benzyl group. A halogen-substituted hydrocarbon group such as a chloromethyl group, a chloropropyl group, or a 3,3,3-trifluoropropyl group in which some or all of the hydrogen atoms bonded to these carbon atoms are substituted with a halogen atom, Or a cyano group-substituted hydrocarbon group such as a 2-cyanoethyl group substituted with a cyano group, and R may be the same or different, but those containing a phenyl group as R, particularly all R Among them, the one in which 5 to 80 mol% is a phenyl group is preferable from the viewpoint of heat resistance and transparency of the light guide film 1.

また、Rとしてビニル基等のアルケニル基を含むもの、特に全Rのうちの1〜20モル%がアルケニル基であるものが好ましく、中でもアルケニル基を1分子中に2個以上有するものが好ましく用いられる。このようなオルガノポリシロキサンとしては、例えば、末端にビニル基等のアルケニル基を有するジメチルポリシロキサンやジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体等の末端アルケニル基含有ジオルガノポリシロキサンが挙げられ、特に、常温で液状のものが好ましく用いられる。   Further, those containing an alkenyl group such as a vinyl group as R, particularly those in which 1 to 20 mol% of all R are alkenyl groups are preferred, and those having two or more alkenyl groups in one molecule are preferably used. It is done. Examples of such organopolysiloxane include terminal alkenyl group-containing diorganopolysiloxanes such as dimethylpolysiloxane having a terminal alkenyl group such as vinyl group and dimethylsiloxane / methylphenylsiloxane copolymer, A liquid at room temperature is preferably used.

一方、オルガノハイドロジェンポリシロキサンとしては、3官能以上(即ち、1分子中にケイ素原子に結合する水素原子(Si−H基)を3個以上有するもの)が好ましく、例えば、メチルハイドロジェンポリシロキサン、メチルフェニルハイドロジェンポリシロキサン等が挙げられ、特に、常温で液状のものが好ましい。また、触媒としては、白金、白金化合物、ジブチル錫ジアセテートやジブチル錫ジラウリレート等の有機金属化合物、又はオクテン酸錫のような金属脂肪酸塩などが挙げられる。これらオルガノハイドロジェンポリシロキサンや触媒の種類や量は、架橋度や硬化速度を考慮して適宜決定すればよい。   On the other hand, the organohydrogenpolysiloxane is preferably trifunctional or higher (that is, one having three or more hydrogen atoms (Si-H groups) bonded to a silicon atom in one molecule), for example, methylhydrogenpolysiloxane. , Methylphenyl hydrogen polysiloxane, and the like, and liquids at room temperature are particularly preferable. Examples of the catalyst include platinum, platinum compounds, organometallic compounds such as dibutyltin diacetate and dibutyltin dilaurate, and metal fatty acid salts such as tin octenoate. The types and amounts of these organohydrogenpolysiloxanes and catalysts may be appropriately determined in consideration of the degree of crosslinking and the curing rate.

導光フィルム1のシリコーン膜3に用いられるシリコーンは、その他の公知のもの、例えば特開2004-221308号公報、特開2006-328102号公報、特開2006-328103号公報、特開2006-324596号公報に記載されたものであってもよい。   Silicones used for the silicone film 3 of the light guide film 1 are other known ones, for example, Japanese Unexamined Patent Application Publication Nos. 2004-221308, 2006-328102, 2006-328103, and 2006-324596. It may be described in the gazette.

また、シリコーン原料組成物は、上記成分以外に、得られるシリコーン樹脂の強度や透明度を損なわない程度に充填剤、耐熱材、可塑剤等を添加してもよい。   In addition to the above components, the silicone raw material composition may contain a filler, a heat-resistant material, a plasticizer, and the like to the extent that the strength and transparency of the resulting silicone resin are not impaired.

シリコーン原料組成物としては、信越化学工業株式会社製のKJR632等の市販品を用いることができる。   As the silicone raw material composition, commercially available products such as KJR632 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. can be used.

また、このシリコーンは、前記のシリコーン樹脂と同種で比較的低分子のオルガノポリシロキサンが架橋したシリコーンゴムであってもよい。シリコーンゴム製のシリコーン膜3を、1−ブロモプロパンやトリクロロエチレンのような有機溶媒で洗浄し、減圧し、又は例えば150〜200℃、好ましくは150〜170℃に加熱し、シリコーンゴム中の低分子シロキサンを揮発させる前処理が施されていることが好ましい。二次加硫処理や、溶媒抽出処理が施されていてもよい。   The silicone may be a silicone rubber which is the same type as the silicone resin and is crosslinked with a relatively low molecular weight organopolysiloxane. The silicone rubber silicone film 3 is washed with an organic solvent such as 1-bromopropane and trichloroethylene, and the pressure is reduced, or the temperature is reduced to 150 to 200 ° C., preferably 150 to 170 ° C. A pretreatment for volatilizing siloxane is preferably performed. Secondary vulcanization treatment or solvent extraction treatment may be performed.

シリコーン膜3は、上記シリコーン原料組成物を成形してシリコーン成形体とする従来公知の方法により得ることができ、例えば、射出成形、押出成形、注型成形等により成形することができる。   The silicone film 3 can be obtained by a conventionally known method of forming the silicone raw material composition into a silicone molded body. For example, the silicone film 3 can be molded by injection molding, extrusion molding, cast molding, or the like.

シリコーン膜3の透過率は、90%以上であることが好ましく、92%以上であると一層好ましい。ポリジメチルシロキサンで成形したシリコーン膜3の透過率は約94%、ポリジフェニルシロキサンで成形したシリコーン膜3の透過率は約92%であり、長期に使用してもその透過率は維持される。シリコーン膜3は、ポリジメチルシロキサンのような硬いシリコーン樹脂で成形されていると、膨張し難いうえ、紫外線などの短波長側で劣化し難く、光学特性を維持するのに適切であるため、一層好ましい。   The transmittance of the silicone film 3 is preferably 90% or more, and more preferably 92% or more. The transmittance of the silicone film 3 molded with polydimethylsiloxane is about 94%, and the transmittance of the silicone film 3 molded with polydiphenylsiloxane is about 92%, and the transmittance is maintained even when used for a long time. When the silicone film 3 is formed of a hard silicone resin such as polydimethylsiloxane, the silicone film 3 is difficult to expand and hardly deteriorates on the short wavelength side such as ultraviolet rays, and is suitable for maintaining optical characteristics. preferable.

シリコーン膜3がシリコーンゴム製であると、水分や低分子シロキサンのような揮発成分が残存し易いので、それらを揮発させることが好ましい。   If the silicone film 3 is made of silicone rubber, volatile components such as moisture and low-molecular siloxane are likely to remain, and it is preferable to volatilize them.

導光フィルム1の表面、例えば凹凸の光学パターン2に、ポリパラキシリレン類である「パリレンC」(日本パリレン株式会社製の商品名;「パリレン」は登録商標;-[(CH)-CCl-(CH)]- )の被膜を設けてもよい。「パリレンC」の原料ダイマーである粉末状のモノクロロパラキシリレン類2量体を気化室に入れ減圧下で加熱して、蒸発したダイマーが熱分解室に誘導され反応性の高いパラキシリレンモノマーのラジカルとした後、光学部品1の天面部に蒸着させて5〜3000nm、好ましくは50〜2000nm、更に好ましくは100〜1000nmのポリパラキシリレン類コーティング処理をして、被膜する。 On the surface of the light guide film 1, for example, an uneven optical pattern 2, “Parylene C”, which is a polyparaxylylene (trade name manufactured by Japan Parylene Co., Ltd .; “Parylene” is a registered trademark; — [(CH 2 ) — A film of C 6 H 3 Cl— (CH 2 )] n −) may be provided. A highly reactive paraxylylene monomer in which a dimer of powdered monochloroparaxylylenes, which is a raw material dimer of “Parylene C”, is placed in a vaporization chamber and heated under reduced pressure, and the evaporated dimer is induced in the thermal decomposition chamber. Then, it is vapor-deposited on the top surface of the optical component 1 and coated with a polyparaxylylene coating of 5 to 3000 nm, preferably 50 to 2000 nm, more preferably 100 to 1000 nm.

凹凸の光学パターン2の表面を被覆するのに「パリレンC」に代えて、パラキシリレンダイマー(DPX)から得られる「パリレンN」(日本パリレン株式会社製の商品名)、テトラクロロパラキシリレンダイマーから得られる「パリレンD」(日本パリレン株式会社製の商品名)を用いてもよい。この原料であるダイマーを低圧下で約600℃に加熱して昇華させて、反応性の高いパラキシリレンラジカルガスを生成させ、蒸着させてポリパラキシリレン類の被膜を形成してもよい。中でも、「パリレンC」で、ポリパラキシリレン類の被膜が蒸着されていると一層好ましい。これらポリパラキシリレン類の屈折率nd 23は、例えば「パリレンN」が1.661、「パリレンC」が1.639であり、シリコーン樹脂の屈折率1.43より、高い。そのため、可視光例えば波長λの光を透過させる凹凸の光学パターン2と、これらパリレンのような被膜の膜厚及びλの整数倍となる光学距離とを適宜選択することにより、表面反射防止等の光学特性を一層向上させることができる。 Instead of “Parylene C” to cover the surface of the uneven optical pattern 2, “Parylene N” (trade name, manufactured by Parylene Japan) obtained from paraxylylene dimer (DPX), tetrachloroparaxylylene “Parylene D” (trade name, manufactured by Japan Parylene Co., Ltd.) obtained from a dimer may be used. The dimer as the raw material may be heated to about 600 ° C. under a low pressure to be sublimated to generate a highly reactive paraxylylene radical gas and vapor deposited to form a polyparaxylylene film. Among them, it is more preferable that a film of polyparaxylylene is deposited by “Parylene C”. The refractive index n d 23 of these polyparaxylylenes is, for example, “Parylene N” is 1.661 and “Parylene C” is 1.639, which is higher than the refractive index of silicone resin 1.43. Therefore, by appropriately selecting the concave / convex optical pattern 2 that transmits visible light, for example, light of wavelength λ, and the film thickness of these parylene films and the optical distance that is an integral multiple of λ, surface reflection prevention, etc. Optical characteristics can be further improved.

ポリパラキシリレン類の被膜は、原料のダイマーの量や蒸着時間を調節することにより、均一に所望の厚さに調製できる。   The coating of polyparaxylylene can be uniformly prepared to a desired thickness by adjusting the amount of raw material dimer and the deposition time.

このようなポリパラキシリレン類の蒸着によれば、導光フィルム1を加熱する必要がないので、導光フィルム1を熱変形させてしまう恐れがない。また、ジパラキシリレンラジカルの導光フィルム1への付着と重合とが同時に進行して蒸着されているため、製造工程が短く簡易である。   According to such vapor deposition of polyparaxylylene, there is no need to heat the light guide film 1, so there is no fear that the light guide film 1 is thermally deformed. Further, since the deposition and polymerization of diparaxylylene radicals on the light guide film 1 proceed at the same time, the manufacturing process is short and simple.

ポリパラキシリレン類は、蒸着によりレンズに付された例を示したが、ディッピング、スプレーコーティング、スピンコーティング、スパッタリング、塗布により付されていてもよい。   The polyparaxylylene has been shown as an example applied to a lens by vapor deposition, but may be applied by dipping, spray coating, spin coating, sputtering, or application.

被膜は、シリコーン膜3との屈折率の差が少なくとも0.05であるシリコーン樹脂、好ましくはその屈折率差が0.1〜0.5であるシリコーン樹脂、一層好ましくはシリコーン膜3のシリコーンよりも低屈折率の透明なシリコーン樹脂で、形成されていてもよい。また、被膜は、異なるシリコーン樹脂を複数用いることにより、シリコーン膜3よりも少しずつ低屈折率にしてもよい。   The coating is made of a silicone resin having a refractive index difference from the silicone film 3 of at least 0.05, preferably a silicone resin having a refractive index difference of 0.1 to 0.5, more preferably silicone of the silicone film 3. May be formed of a transparent silicone resin having a low refractive index. Further, the coating film may have a lower refractive index than the silicone film 3 by using a plurality of different silicone resins.

前記導光シート及び/又はシリコーン膜が、光散乱剤を含有していてもよい。光散乱剤は、例えばシリカ粉末や炭酸カルシウム粉末のような無機粉末、アクリル樹脂粉末のような有機粉末が挙げられる。中でも光散乱剤は、市販の多孔質シリカ、フュームドシリカ、高い光散乱係数を示す炭酸カルシウム粉末が好ましい。その平均粒径は、200〜7000nm程度であることが好ましい。   The light guide sheet and / or the silicone film may contain a light scattering agent. Examples of the light scattering agent include inorganic powders such as silica powder and calcium carbonate powder, and organic powders such as acrylic resin powder. Among them, the light scattering agent is preferably commercially available porous silica, fumed silica, or calcium carbonate powder showing a high light scattering coefficient. The average particle size is preferably about 200 to 7000 nm.

本発明の導光フィルムを試作した例を以下に示す。   An example in which the light guide film of the present invention is prototyped is shown below.

(実施例1)
導光フィルム1を、図5(B)に示すようにして作製した。先ず、ポリジメチルシロキサン原料組成物22(a)を、周回している金属ベルト27へ膜状に塗布し加熱して硬化させてポリジメチルシロキサンのシリコーン平膜23(a)を形成した。その後、その上へポリジメチルシロキサン原料組成物22(b)を膜状に塗布し、転写用凹凸25が設けられたローラー24を加熱しながら、シリコーン平膜23(b)に押圧すると両方の平膜23(a)・23(b)が一体化して硬化され、その光学パターン2がおもて面側に付されたシリコーン膜3が得られ、それを巻き取ってから、所望の長さに切断して、導光フィルム1を作製した。
Example 1
The light guide film 1 was produced as shown in FIG. First, the polydimethylsiloxane raw material composition 22 (a) was applied in a film shape to the circulating metal belt 27 and heated to be cured to form a polydimethylsiloxane silicone flat film 23 (a). Thereafter, the polydimethylsiloxane raw material composition 22 (b) is applied in a film form thereon, and when the roller 24 provided with the transfer irregularities 25 is heated and pressed against the silicone flat film 23 (b), both flat films are applied. The films 23 (a) and 23 (b) are integrated and cured to obtain a silicone film 3 having the optical pattern 2 attached to the front surface side. The light guide film 1 was produced by cutting.

(比較例1)
実施例1のポリジメチルシロキサン原料組成物による膜形成にかえて、ポリエステル原料組成物を用いて熱可塑により膜形成したこと以外は実施例1と同様にして、ポリエステル製の導光フィルム1を作製した。
(Comparative Example 1)
A light guide film 1 made of polyester is produced in the same manner as in Example 1 except that the film is formed by thermoplasticity using the polyester raw material composition instead of the film formation by the polydimethylsiloxane raw material composition of Example 1. did.

本発明を適用する実施例1の導光フィルムは、ポリジメチルシロキサンの優れた転写性のためにナノメートルオーダーの凹凸がローラーの転写用凹凸通りに転写されており、その凹凸が微細なものとなっていた。それに対し、本発明を適用外の比較例1の導光フィルムは、ポリエステルが熱収縮してしまうため凹凸がローラーの転写用凹凸通りに転写できず、その凹凸が実施例1のものよりも格段に粗くなっていた。   In the light guide film of Example 1 to which the present invention is applied, the unevenness of nanometer order is transferred according to the unevenness for transfer of the roller for the excellent transferability of polydimethylsiloxane, and the unevenness is fine. It was. On the other hand, in the light guide film of Comparative Example 1 to which the present invention is not applied, the polyester is thermally contracted, so that the unevenness cannot be transferred according to the transfer unevenness of the roller, and the unevenness is much higher than that of Example 1. It was rough.

本発明のフィルムは、光学材料、医療器材料、検査キット材料として有用である。例えば、再生医療や検査キットの細胞培養の際に用いると、シリコーン膜の表面のナノメートルオーダーの凹凸に、培養細胞が付着しないので、損傷することなく培養細胞を剥離して再生医療での細胞シートを得るのに用いられる。   The film of the present invention is useful as an optical material, a medical device material, and a test kit material. For example, when used for cell culture in regenerative medicine or test kits, the cultured cells do not adhere to the nanometer-order irregularities on the surface of the silicone membrane. Used to obtain a sheet.

本発明の導光フィルムは、液晶ディスプレイのバックライトやフロントライト、各種光学製品のレンズ、プリズム、被覆キャップ、ディスプレイへの貼付シート、フィルタとして、用いられる。   The light guide film of the present invention is used as a backlight or a front light of a liquid crystal display, a lens of various optical products, a prism, a covering cap, a sheet attached to a display, or a filter.

本発明を適用する導光フィルムの実施の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of implementation of the light guide film to which this invention is applied. 本発明を適用する別な導光フィルムの凹凸の光学パターンの拡大断面図である。It is an expanded sectional view of the optical pattern of the unevenness | corrugation of another light guide film to which this invention is applied. 本発明を適用する導光フィルムの製造方法の実施の一例を示す概要図である。It is a schematic diagram which shows an example of implementation of the manufacturing method of the light guide film to which this invention is applied. 本発明を適用する導光フィルムの製造方法の別な実施の一例を示す概要図である。It is a schematic diagram which shows an example of another implementation of the manufacturing method of the light guide film to which this invention is applied. 本発明を適用する導光フィルムの製造方法の別な実施の一例を示す概要図である。It is a schematic diagram which shows an example of another implementation of the manufacturing method of the light guide film to which this invention is applied. 本発明を適用する導光フィルムの製造方法に用いるローラーの作製方法を示す概要図である。It is a schematic diagram which shows the preparation methods of the roller used for the manufacturing method of the light guide film to which this invention is applied.

符号の説明Explanation of symbols

1は導光フィルム、2は凹凸の光学パターン、3はシリコーン膜、4は導光シート、5は反射性光散乱ドット、10(a)〜10(c)は光、11は液晶パネル、12は光源、13はリフレクターフィルム、14a・14bは光、21は導光シートロール、22・22(a)・22(b)はシリコーン原料組成物、23・23(a)・23(b)はシリコーン平膜、24はローラー、25は転写用凹凸、26はカッター、27はベルト、28は巻取りドラム、29はヒーター、31は電子ビームリソグラフィー装置の電磁コイル、32は電子ビーム、33はサンドブラスト、34は微粒子、Hは凹凸の光学パターンの深さ、Pは凹凸の光学パターンのピッチである。   1 is a light guide film, 2 is an uneven optical pattern, 3 is a silicone film, 4 is a light guide sheet, 5 is a reflective light scattering dot, 10 (a) to 10 (c) is light, 11 is a liquid crystal panel, 12 Is a light source, 13 is a reflector film, 14a and 14b are light, 21 is a light guide sheet roll, 22 and 22 (a) and 22 (b) are silicone raw material compositions, and 23, 23 (a) and 23 (b) are Silicone flat film, 24 roller, 25 irregularities for transfer, 26 cutter, 27 belt, 28 winding drum, 29 heater, 31 electromagnetic coil of electron beam lithography apparatus, 32 electron beam, 33 sandblast , 34 are fine particles, H is the depth of the uneven optical pattern, and P is the pitch of the uneven optical pattern.

Claims (12)

表面に、ナノメートルオーダーの凹凸が付されて粗されていることを特徴とする導光フィルム。   A light guide film characterized in that the surface is roughened with irregularities on the order of nanometers. 透光性樹脂で形成された導光シートの少なくとも片方の面がシリコーン膜で被覆され、前記シリコーン膜の露出表面に、前記凹凸の光学パターンが形成されていることを特徴とする請求項1に記載の導光フィルム。   The at least one surface of the light guide sheet formed of a translucent resin is covered with a silicone film, and the uneven optical pattern is formed on the exposed surface of the silicone film. The light guide film described. 前記凹凸が、50〜2000nmの前記ナノメートルオーダーの表面粗さを有することを特徴とする請求項1に記載の導光フィルム。   The light guide film according to claim 1, wherein the unevenness has a surface roughness of the nanometer order of 50 to 2000 nm. 前記導光フィルムの一端が光源に向いて配置されて用いられ、前記シリコーン膜と反対側の前記導光フィルムの面に、前記光源から遠いほど大きな反射材からなるドットが、付されていることを特徴とする請求項2に記載の導光フィルム。   One end of the light guide film is disposed and used facing the light source, and a dot made of a reflective material that is larger as it is farther from the light source is attached to the surface of the light guide film on the side opposite to the silicone film. The light guide film according to claim 2. 前記シリコーン膜がシリコーン樹脂又はシリコーンゴムで形成されていることを特徴とする請求項2に記載の導光フィルム。   The light guide film according to claim 2, wherein the silicone film is formed of silicone resin or silicone rubber. 前記導光シートが、ポリアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコーン樹脂、又はシリコーンゴムで形成されていることを特徴とする請求項2に記載の導光フィルム。   The light guide film according to claim 2, wherein the light guide sheet is made of polyacrylic resin, polycarbonate resin, silicone resin, or silicone rubber. 前記導光シート及び/又はシリコーン膜に、散乱剤が含有されていることを特徴とする請求項2に記載の導光フィルム。   The light guide film according to claim 2, wherein a scattering agent is contained in the light guide sheet and / or the silicone film. 透光性樹脂で導光シートを形成し、光学パターンを転写させる転写用凹凸が設けられたローラーで押圧して前記光学パターンの凹凸を付したシリコーン膜を、前記導光シートの片面の表面に積層することを特徴とする導光フィルムの製造方法。   A light guide sheet is formed with a translucent resin, and a silicone film with unevenness of the optical pattern is applied to the surface of one side of the light guide sheet by pressing with a roller provided with transfer unevenness for transferring the optical pattern. A method for producing a light guide film, comprising laminating. 前記導光シートに、シリコーン原料組成物を塗布し加熱又は光照射によって硬化を進行させつつ前記ローラーで押圧して、前記シリコーン膜を形成することを特徴とする請求項8に記載の光フィルムの製造方法。   9. The optical film according to claim 8, wherein the silicone film is formed by applying a silicone raw material composition to the light guide sheet and pressing the roller while curing by heating or light irradiation. Production method. シリコーン原料組成物を膜状にして硬化を進め、加熱しつつ前記ローラーで押圧し該硬化を終了して前記シリコーン膜を形成させた後、前記導光シートの片面に、前記シリコーン膜を接着することを特徴とする請求項8に記載の導光フィルムの製造方法。   After curing the silicone raw material composition into a film, pressing with the roller while heating to finish the curing and forming the silicone film, the silicone film is adhered to one side of the light guide sheet The method for producing a light guide film according to claim 8. 前記ローラーに、電子ビームリソグラフィー処理、ブラスト処理、ナノメートルオーダー径の微粒子を含む組成物を吹付ける吹付塗装処理、及び/又はケミカルエッチング処理を施すことにより、前記転写用凹凸を設けることを特徴とする請求項8に記載の導光フィルムの製造方法。   The transfer unevenness is provided by performing an electron beam lithography process, a blast process, a spray coating process of spraying a composition containing fine particles having a nanometer order diameter, and / or a chemical etching process on the roller. The manufacturing method of the light guide film of Claim 8. 金属ベルト又は樹脂ベルト上へ載せられ、硬化が進行中のシリコーン膜、導光フィルム、及び導光シートに積層されたシリコーン膜の何れかに、光学パターンを転写させる転写用凹凸が設けられたローラーで押圧しながら硬化を終了してから、該シリコーン膜、又は該導光フィルムを前記ベルトから剥離することを特徴とする導光フィルムの製造方法。   A roller that is placed on a metal belt or a resin belt and is provided with unevenness for transfer to transfer an optical pattern to any of a silicone film, a light guide film, and a silicone film laminated on the light guide sheet. A method for producing a light guide film, wherein the silicone film or the light guide film is peeled off from the belt after being cured while being pressed.
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011257641A (en) * 2010-06-10 2011-12-22 Suzuden Corp Illumination member using light diffusion member
JP2014519049A (en) * 2011-04-26 2014-08-07 コーニング インコーポレイテッド Optically coupled optical system and method employing light diffusing optical fiber
JP2014164137A (en) * 2013-02-25 2014-09-08 Keiwa Inc Light guide film, ultra-slim liquid crystal backlight unit, and portable computer
JP2018101524A (en) * 2016-12-20 2018-06-28 大日本印刷株式会社 Manufacturing method of light guide plate, light guide place, surface light source device, display device
JP2019113797A (en) * 2017-12-26 2019-07-11 恵和株式会社 Light diffusion plate and direct type backlight unit
KR102125497B1 (en) * 2019-08-09 2020-06-22 하현대 Light-diffusion and anti-glare properties-integrated monolayer sheet and method for manufacturing the same

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03261988A (en) * 1990-03-12 1991-11-21 Sumitomo Chem Co Ltd Face type light emitting body
JPH08160423A (en) * 1994-12-02 1996-06-21 Nissha Printing Co Ltd Surface light source and its production
JP2001166116A (en) * 1999-12-03 2001-06-22 Dainippon Printing Co Ltd Prism sheet, surface light source and liquid crystal display device
JP2001324605A (en) * 2000-05-17 2001-11-22 Mitsubishi Rayon Co Ltd Lens sheet and surface light source element using the same
JP2002071965A (en) * 2000-08-29 2002-03-12 Nitto Denko Corp Light guide plate, surface light source device, and reflection type liquid crystal display device
JP2004177806A (en) * 2002-11-28 2004-06-24 Alps Electric Co Ltd Anti-reflection structure, lighting device, liquid crystal display device, and anti-reflection coating molding die
WO2007108443A1 (en) * 2006-03-17 2007-09-27 Mitsubishi Rayon Co., Ltd. Prism sheet, surface light source device, and method of producing prism sheet

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03261988A (en) * 1990-03-12 1991-11-21 Sumitomo Chem Co Ltd Face type light emitting body
JPH08160423A (en) * 1994-12-02 1996-06-21 Nissha Printing Co Ltd Surface light source and its production
JP2001166116A (en) * 1999-12-03 2001-06-22 Dainippon Printing Co Ltd Prism sheet, surface light source and liquid crystal display device
JP2001324605A (en) * 2000-05-17 2001-11-22 Mitsubishi Rayon Co Ltd Lens sheet and surface light source element using the same
JP2002071965A (en) * 2000-08-29 2002-03-12 Nitto Denko Corp Light guide plate, surface light source device, and reflection type liquid crystal display device
JP2004177806A (en) * 2002-11-28 2004-06-24 Alps Electric Co Ltd Anti-reflection structure, lighting device, liquid crystal display device, and anti-reflection coating molding die
WO2007108443A1 (en) * 2006-03-17 2007-09-27 Mitsubishi Rayon Co., Ltd. Prism sheet, surface light source device, and method of producing prism sheet

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011257641A (en) * 2010-06-10 2011-12-22 Suzuden Corp Illumination member using light diffusion member
JP2014519049A (en) * 2011-04-26 2014-08-07 コーニング インコーポレイテッド Optically coupled optical system and method employing light diffusing optical fiber
JP2014164137A (en) * 2013-02-25 2014-09-08 Keiwa Inc Light guide film, ultra-slim liquid crystal backlight unit, and portable computer
JP2018101524A (en) * 2016-12-20 2018-06-28 大日本印刷株式会社 Manufacturing method of light guide plate, light guide place, surface light source device, display device
JP2019113797A (en) * 2017-12-26 2019-07-11 恵和株式会社 Light diffusion plate and direct type backlight unit
JP7364321B2 (en) 2017-12-26 2023-10-18 恵和株式会社 Light diffuser plate and direct backlight unit
KR102125497B1 (en) * 2019-08-09 2020-06-22 하현대 Light-diffusion and anti-glare properties-integrated monolayer sheet and method for manufacturing the same

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