JP2009167175A - アントラセン誘導体、およびアントラセン誘導体を用いた発光材料、発光素子、発光装置、並びに電子機器 - Google Patents
アントラセン誘導体、およびアントラセン誘導体を用いた発光材料、発光素子、発光装置、並びに電子機器 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】アントラセンの9位と10位の両位置にカルバゾール誘導体官能基を置換または無置換のフェニレン基、置換または無置換のビフェニル−4,4’−ジイル基等で結合したアントラセン誘導体と、一方の位置にのみ結合したアントラセン誘導体。また、該アントラセン誘導体を用いた発光素子、該発光素子を組み込んだ発光装置、電子機器。
【選択図】なし
Description
本発明の大別された一は、前記したとおり下記一般式(1)で表されるアントラセン誘導体である。
本実施の形態では、本発明のアントラセン誘導体について説明する。
以下に、その合成スキームに関し具体的に説明する。
本発明のアントラセン誘導体を用いた発光素子の一態様について図1を用いて以下に説明する。
なお、本実施の形態では、第2の電極は前記したとおり陰極であり、そのような陰極材料の具体例としては、元素周期表の第1族または第2族に属する元素、すなわちリチウム(Li)やセシウム(Cs)等のアルカリ金属、およびマグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、ストロンチウム(Sr)等のアルカリ土類金属、およびこれらを含む合金(MgAg、AlLi)、ユウロピウム(Eu)、イッテルビウム(Yb)等の希土類金属およびこれらを含む合金等が挙げられる。しかしながら、第2の電極103と電子輸送層との間に、電子注入を促す機能を有する層を設けることにより、仕事関数の大小に関わらず、Al、Ag、ITO、珪素若しくは酸化珪素を含有した酸化インジウム−酸化スズ等様々な導電性材料を第2の電極103として用いることができる。これら導電性材料は、スパッタリング法やインクジェット法、スピンコート法等を用いて成膜することが可能である。
本実施の形態では、実施の形態2で示した構成と異なる構成の発光素子について説明する。
本実施の形態では、実施の形態2および実施の形態3で示した構成と異なる構成の発光素子について説明する。
本実施の形態では、実施の形態2〜実施の形態4で示した構成と異なる構成の発光素子について図2を用いて説明する。
本実施の形態は、本発明に係る複数の発光ユニットを積層した構成の発光素子(以下、積層型素子という)であり、その態様について、図3を参照して説明する。この発光素子は、第1の電極と第2の電極との間に、複数の発光ユニットを有する発光素子である。発光ユニットとしては、実施の形態2〜実施の形態5で示した有機化合物を含む層102と同様な構成を用いることができる。つまり、実施の形態2〜実施の形態5で示した発光素子は、1つの発光ユニットを有する発光素子であり、本実施の形態では、複数の発光ユニットを有する発光素子について説明する。
本実施の形態では、本発明のアントラセン誘導体を用いて作製された発光装置について説明する。
本実施の形態では、実施の形態7に示す発光装置をその一部に含む本発明の電子機器について説明する。本発明の電子機器は、実施の形態1に示したアントラセン誘導体を含み、消費電力の低減された表示部を有する。
本合成例では、下記構造式(88)で表される本発明のアントラセン誘導体である9−フェニル−3−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−9H−カルバゾール(略称:PCzPA)の合成法を具体的に説明する。
(1)9−フェニルアントラセンの合成。
9−ブロモアントラセン5.4g(21mmol)、フェニルボロン酸2.6g(21mmol)、酢酸パラジウム(II)(略称:Pd(OAc)2)60mg(0.2mmol)、炭酸カリウム水溶液(2.0mol/L)10mL(20mmol)、トリス(オルト−トリル)ホスフィン(略称:P(o−tolyl)3)260mg(0.8mmol)、1,2−ジメトキシエタン(略称:DME)20mLを200mL三口フラスコに入れ、窒素雰囲気下にて80℃で、9時間撹拌した。反応後、析出した固体を吸引ろ過で回収してから、トルエンに溶かしフロリジール(和光純薬工業株式会社、カタログ番号:540−00135)、セライト(和光純薬工業株式会社、カタログ番号:531−16855)、アルミナを通してろ過をした。得られたろ液を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで水分を取り除いた。この懸濁液を自然ろ過し、得られたろ液を濃縮したところ目的物である9−フェニルアントラセンの淡褐色固体を22g、収率85%で得た。(合成スキーム(a−1))
上記ステップ1(1)で得られた9−フェニルアントラセン6.0g(24mmol)を四塩化炭素80mLに溶かし、ここへ滴下ロートにて臭素3.8g(21mmol)を四塩化炭素10mLで溶かしたものを滴下撹拌した。滴下終了後、室温でさらに1時間撹拌した。反応後、ここにチオ硫酸ナトリウム水溶液を加えて撹拌してから、有機層を水酸化ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順で洗浄し、硫酸マグネシウムを加えて水分を取り除いた。この懸濁液を自然ろ過し、ろ液を濃縮しトルエンに溶かしフロリジール(和光純薬工業株式会社、カタログ番号:540−00135)、セライト(和光純薬工業株式会社、カタログ番号:531−16855)、アルミナを通してろ過を行なった。得られたろ液を濃縮し、ジクロロメタン、ヘキサンの混合溶液により再結晶を行なったところ、目的物である9−ブロモ−10−フェニルアントラセンの淡黄色固体を7.0g、収率89%で得た。(合成スキーム(a−2))
窒素雰囲気下にて、上記ステップ1(2)で得られた9−ブロモ−10−フェニルアントラセン3.3g(10mmol)をテトラヒドロフラン(略称:THF)80mLに溶かし、−78℃にした。ここへ滴下ロートにて、n−ブチルリチウム(略称:n−BuLi)(1.6mol/L ヘキサン溶液)7.5mL(12mmol)を滴下し、1時間撹拌した。ヨウ素5.0g(20mmol)をTHF20mLに溶かした溶液を混合液に滴下し、−78℃でさらに2時間撹拌した。反応後、ここにチオ硫酸ナトリウム水溶液を加えて撹拌してから、有機層をチオ硫酸ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順で洗浄し、硫酸マグネシウムを加えて水分を取り除いた。この懸濁液を濾過し、ろ液を濃縮し、得られた固体をエタノールにより再結晶したところ目的物である9−ヨード−10−フェニルアントラセンの淡黄色固体を3.1g、収率83%で得た。(合成スキーム(a−3))
上記ステップ1(3)で得られた9−ヨード−10−フェニルアントラセン1.0g(2.6mmol)、p−ブロモフェニルボロン酸540mg(2.7mmol)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(略称:Pd(PPh3)4)46mg(30μmol)、2.0mol/L 炭酸カリウム水溶液3.0mL(6.0mmol)、トルエン10mLの混合物を80℃、9時間撹拌した。反応後、トルエンを加えてからフロリジール(和光純薬工業株式会社、カタログ番号:540−00135)、セライト(和光純薬工業株式会社、カタログ番号:531−16855)、アルミナを通してろ過をした。得られたろ液を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで水分を取り除いた。この懸濁液を自然ろ過し、ろ液を濃縮し、得られた固体をクロロホルム、ヘキサンの混合溶液により再結晶したところ目的物である9−(4−ブロモフェニル)−10−フェニルアントラセン(略称;PA)の淡褐色固体を560mg、収率45%で得た。(合成スキーム(a−4))
500mL三口フラスコ中にて、上記ステップ1(1)〜(4)で得られた9−(4−ブロモフェニル)−10−フェニルアントラセン20g(49mmol)、テトラヒドロフラン(略称:THF)300mLを、窒素雰囲気下、−78℃にて撹拌した。ここに、n−ブチルリチウム(1.6mol/Lヘキサン溶液)34mL(54mmol)を滴下し、同温度で2時間攪拌した。その後、ここにホウ酸トリメチル13mL(110mmol)を加え、室温にて24時間撹拌した。反応終了後、ここに1.0mol/L塩酸200mLを加え、室温で1時間撹拌した。この混合物の有機層を水で洗浄して、有機層と水層とに分け、得られた水層を酢酸エチルでさらに抽出した。この抽出溶液を先の有機層と合わせて飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムを加えて水分を取り除いた。これを吸引ろ過し、得られたろ液を濃縮して残渣を得た。得られた残渣をクロロホルムとヘキサンの混合溶媒により再結晶したところ、目的物である4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニルボロン酸の白色粉末状固体を15g、収率84%で得た。(合成スキーム(a−5))
1000mL三角フラスコ中にて、9−フェニルカルバゾールを24g(100mmol)、N−ブロモこはく酸イミドを18g(100mmol)、トルエン450mL、酢酸エチル200mLを加えて、室温にて45時間撹拌した。この懸濁液を、水で洗浄した後、硫酸マグネシウムを加えて水分を取り除いた。この懸濁液をろ過し、得られたろ液を濃縮、乾燥させた。キャラメル状の目的物である3−ブロモ−9−フェニル−9H−カルバゾールを32g、収率99%で得た。(合成スキーム(a−6))
100mL三口フラスコ中にて、上記ステップ2で得られた4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニルボロン酸を2.6g(7.0mmol)、上記ステップ3で得られた3−ブロモ−9−フェニル−9H−カルバゾールを2.3g(7.0mmol)、酢酸パラジウム(II)(略称:Pd(OAc)2)を2.0mg(10μmol)、トリス(オルト−トリル)ホスフィン(略称:P(o−tolyl)3)を6.0mg(20μmol)、炭酸カリウム水溶液(2mol/L)を5mL(10mmol)、1,2−ジメトキシエタン(略称:DME)を20mL、窒素雰囲気下で90℃にて6.5時間加熱撹拌を行った。この懸濁液を室温まで冷ました後、トルエン200mLを加えながらフロリジール(和光純薬工業株式会社、カタログ番号:540−00135)、アルミナ、セライト(和光純薬工業株式会社、カタログ番号:531−16855)を通してろ過を行った。得られたろ液を濃縮し、これにアセトンとメタノールを加えて超音波をかけた後、再結晶を行った。淡黄色粉末の目的物である9−フェニル−3−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−9H−カルバゾール(略称:PCzPA)を3.8g、収率95%で得た。(合成スキーム(a−7))
本合成例では、合成例1とは異なる合成法による9−フェニル−3−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−9H−カルバゾール(略称:PCzPA)の合成法を具体的に説明する。
500mL三口フラスコ中にて、合成例1で記載のステップ3で得られた3−ブロモ−9−フェニルカルバゾールを29g(90mmol)、テトラヒドロフラン(略称:THF)を200mL、−78℃にて撹拌し溶液とした後、ここにn−ブチルリチウムを(1.6mol/Lヘキサン溶液)110ml(69mmol)滴下し、同温度で2時間撹拌した。さらに、ここにホウ酸トリメチルを13mL(140mmoL)を加え、室温にて、24時間撹拌した。反応終了後、ここに1.0mol/L塩酸200mLを加え、室温で1時間撹拌した。これを水、水酸化ナトリウム水溶液、水の順で洗浄し、硫酸マグネシウムを加えて水分を取り除いた。この懸濁液を濾過し、得られた濾液を濃縮し、クロロホルムとヘキサンを加えて超音波をかけた後、再結晶を行った。白色粉末の目的物である9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イルボロン酸を21g、収率80%で得た。(合成スキーム(b−1))
200mL三口フラスコ中にて、合成例1で記載のステップ1(1)〜(4)で得られた9−(4−ブロモフェニル)−10−フェニルアントラセン(略称:PA)を1.9g(4.7mmol)、合成例2で記載のステップ1で得られた9−フェニル−9H−カルバゾール−3−ボロン酸を1.4g(4.7mmol)、酢酸パラジウム(II)(略称:Pd(OAc)2)を5.6mg(25μmol)、トリス(オルト−トリル)ホスフィン(略称:P(o−tolyl)3)を52mg(170μmol)、炭酸カリウム水溶液(2.0mol/L)を7mL(15mmol)、1,2−ジメトキシエタン(略称:DME)を40mL、窒素雰囲気下で90℃にて7時間加熱撹拌を行った。この懸濁液を室温まで冷ました後、ろ過して濾物を得た。この得られたろ物を温トルエン50mLに溶かした後、トルエン400mLを加えながらフロリジール(和光純薬工業株式会社、カタログ番号:540−00135)、アルミナ、セライト(和光純薬工業株式会社、カタログ番号:531−16855)を通してろ過を行った。得られたろ液を濃縮し、これにヘキサンを加えて超音波をかけた後、再結晶を行った。淡黄色粉末の目的物である9−フェニル−3−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−9H−カルバゾール(略称:PCzPA)を2.0g、収率75%で得た。(合成スキーム(b−2))
本実施例では、下記構造式(98)で表される本発明のアントラセン誘導体である3,3’−(2−tert−ブチルアントラセン−9,10−ジイルジ−4,1−フェニレン)ビス(9−フェニル−9H−カルバゾール)(略称:PCzBPA)の合成法を具体的に説明する。
(1)9,10−ビス(4−ブロモフェニル)−2−tert−ブチル−9,10−ジヒドロキシ−9,10−ジヒドロアントラセンの合成。
1,4−ジブロモベンゼン(5.0g)の脱水エーテル溶液(200mL)に−78℃において1.6mol/Lのブチルリチウムヘキサン溶液(13mL)を窒素気流下にて滴下した。滴下終了後、同温度にて1時間攪拌した。ここに、−78℃にて2−tert−ブチルアントラキノン2.8g(11mmol)の脱水エーテル溶液(40mL)を滴下し、その後反応溶液をゆっくり室温まで昇温した。24時間室温で攪拌した後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥、濾過、濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(展開溶媒、ヘキサン−酢酸エチル)によって精製し、9,10−ビス(4−ブロモフェニル)−2−tert−ブチル−9,10−ジヒドロキシ−9,10−ジヒドロアントラセンを5.5g、収率は90%で得た。(合成スキーム(c−1))
合成例3で記載のステップ1(1)で得られた9,10−ビス(4−ブロモフェニル)−2−tert−ブチル−9,10−ジヒドロキシ−9,10−ジヒドロアントラセン987mg(1.6mmol)、ヨウ化カリウム664mg(4.0mmol)、ホスフィン酸ナトリウム一水和物を1.48g(14mmol)を、氷酢酸12mlにて懸濁し、大気下にて2時間還流加熱撹拌した。室温まで冷ましたのち、生じた析出物を濾過し、得られた固体をメタノール約50mlで洗浄した。得られた固体を乾燥させてクリーム色粉末の9,10−ビス(4−ブロモフェニル)−2−tert−ブチルアントラセン(略称:BPA)を700mg、収率は82%で得た。(合成スキーム(c−2))
200mL三口フラスコ中にて、合成例3で記載のステップ1(1)〜(2)で得られた9,10−ジ(4−ブロモフェニル)−2−tert−ブチルアントラセン(略称:BPA)を1.6g(3.0mmol)、合成例2で記載のステップ1(1)で得られた9−フェニル−9H−カルバゾール−3−ボロン酸を1.7g(6.0mmol)、酢酸パラジウム(II)(略称:Pd(OAc)2)を13mg(60μmol)、トリス(オルト−トリル)ホスフィン(略称:P(o−tolyl)3)を36mg(120μmol)、炭酸カリウム水溶液(2.0mol/L)を5mL(10mmol)、トルエンを20mL、エタノールを5ml、窒素雰囲気下で90℃にて5.5時間加熱撹拌を行った。この懸濁液を室温まで冷ました後、トルエン200mLを加えながらフロリジール(和光純薬工業株式会社、カタログ番号:540−00135)、シリカゲル、セライト(和光純薬工業株式会社、カタログ番号:531−16855)を通して濾過を行った。得られた濾液を水で洗浄し、硫酸マグネシウムを加えて水分を取り除いた。この懸濁液を、フロリジール(和光純薬工業株式会社、カタログ番号:540−00135)、シリカゲル、アルミナ、セライト(和光純薬工業株式会社、カタログ番号:531−16855)を通して濾過し、得られたろ液を濃縮した。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:ヘキサン=1:1)にて目的物を分取した。これに酢酸エチル、メタノールを加えて超音波をかけた後、再結晶を行った。淡黄色粉末の目的物である3,3’−(2−tert−ブチルアントラセン−9,10−ジイルジ−4,1−フェニレン)ビス(9−フェニル−9H−カルバゾール)(略称:PCzBPA)を1.8g、収率67%で得た。(合成スキーム(c−3))
まず、ガラス基板2100に酸化珪素を含むインジウムスズ酸化物をスパッタリング法にて成膜し、第1の電極2101を形成した。なお、その膜は110nmとし、電極面積は2mm×2mmとした。
なお、前記CIE色度座標の数値は、輝度計(トプコン社製、色彩輝度計(BM−5A)を用いて実測したものであり、これ以後の他のCIE色度座標の数値も同様である。
本発光素子2では、実施例2で説明した発光素子1の発光層2111における、PCzPAをPCzPAと4−(9H−カルバゾール−9−イル)−4’−(10−フェニル−9−アントリル)トリフェニルアミン(略称:YGAPA)との共蒸着に換え、正孔輸送層2103上に40nmの膜厚の発光層2111を形成した以外は、発光素子1と同様に作製した。なお、PCzPAとYGAPAの重量比は1:0.04(=PCzPA:YGAPA)となるように調節した。
本発光素子3では、実施例2で説明した発光素子1の発光層2111におけるPCzPAを、PCzPAとN,N’−ビス[4−(9H−カルバゾール−9−イル)フェニル]−N,N’−ジフェニルスチルベン−4,4’−ジアミン(略称:YGA2S)との共蒸着に換え、正孔輸送層2103上に30nmの膜厚の発光層2111を形成した。ここで、PCzPAとYGA2Sの重量比は1:0.05(=PCzPA:YGA2S)となるように調節した。また、電子注入層2105の膜厚を20nmとなるようにAlqとリチウムを共蒸着した。上記以外は発光素子1と同様に作製した。
まず、ガラス基板3100に酸化珪素を含むインジウムスズ酸化物をスパッタリング法にて成膜し、第1の電極3101を形成した。なお、その膜は110nmとし、電極面積は2mm×2mmとした。
101 第1の電極
102 有機化合物を含む層
103 第2の電極
111 正孔注入層
112 正孔輸送層
113 発光層
114 電子輸送層
115 電子注入層
121 第1の層
122 第2の層
401 駆動回路(ソース側駆動回路)
402 画素部
403 駆動回路(ゲート側駆動回路)
404 封止基板
405 シール材
407 空間
408 配線
409 FPC(フレキシブルプリントサーキット)
410 素子基板
411 スイッチング用TFT
412 電流制御用TFT
413 第1の電極
414 絶縁物
416 有機化合物を含む層
417 第2の電極
418 発光素子
423 nチャネル型TFT
424 pチャネル型TFT
501 第1の電極
502 第2の電極
511 第1の発光ユニット
512 第2の発光ユニット
513 電荷発生層
901 筐体
902 液晶層
903 バックライト
904 筐体
905 ドライバIC
906 端子
951 基板
952 電極
953 絶縁層
954 隔壁層
955 有機化合物を含む層
956 電極
2001 筐体
2002 光源
2100 ガラス基板
2101 第1の電極
2102 複合材料を含む層
2103 正孔輸送層
2104 電子輸送層
2105 電子注入層
2106 第2の電極
2111 発光層
3001 照明装置
3002 テレビ装置
3100 ガラス基板
3101 第1の電極
3102 複合材料を含む層
3103 正孔輸送層
3104 電子輸送層
3105 電子注入層
3106 第2の電極
3111 第1の層
3112 第2の層
9101 筐体
9102 支持台
9103 表示部
9104 スピーカー部
9105 ビデオ入力端子
9201 本体
9202 筐体
9203 表示部
9204 キーボード
9205 外部接続ポート
9206 ポインティングデバイス
9401 本体
9402 筐体
9403 表示部
9404 音声入力部
9405 音声出力部
9406 操作キー
9407 外部接続ポート
9408 アンテナ
9501 本体
9502 表示部
9503 筐体
9504 外部接続ポート
9505 リモコン受信部
9506 受像部
9507 バッテリー
9508 音声入力部
9509 操作キー
9510 接眼部
Claims (15)
- 請求項2において、一般式(2)中のαはフェニレン基、ビフェニル−4,4’−ジイル基のいずれかであることを特徴とするアントラセン誘導体。
- 請求項7において、一般式(6)中のαはフェニレン基、ビフェニル−4,4’−ジイル基のいずれかであることを特徴とするアントラセン誘導体。
- 請求項1乃至請求項10のいずれか一項に記載のアントラセン誘導体を含む発光材料。
- 請求項1乃至請求項10のいずれか一項に記載のアントラセン誘導体を含む発光素子。
- 請求項1乃至請求項10のいずれか一項に記載のアントラセン誘導体および発光物質を含む発光層を有することを特徴とする発光素子。
- 請求項12または請求項13に記載の発光素子と、当該発光素子の発光を制御する制御回路を有する発光装置。
- 表示部を有し、当該表示部は請求項12または請求項13に記載の発光素子と当該発光素子の発光を制御する制御回路とを備えたことを特徴とする電子機器。
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