JP2009105323A - Method for manufacturing printed wiring board incorporating resistance element - Google Patents
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Abstract
【課題】抵抗素子の厚み低減と高アスペクトかつ微細な配線パターンとを両立した抵抗素子内蔵型プリント配線板を安価にかつ安定的に製造する方法を提供すること。
【解決手段】有機樹脂絶縁層1および金属配線層5が積層されてなるプリント配線板に抵抗素子を形成したプリント配線板の製造方法において、前記有機樹脂絶縁層1の表面に膜状の抵抗素子2を印刷により形成し、前記有機樹脂絶縁層における前記抵抗素子が形成された面を覆う金属薄膜3を形成し、前記金属薄膜を給電層として電解めっきを行って前記金属配線層を形成することを特徴とする。
【選択図】図1To provide a method for stably and inexpensively manufacturing a printed wiring board with a built-in resistive element that achieves both a reduction in thickness of the resistive element and a high aspect and fine wiring pattern.
In a printed wiring board manufacturing method in which a resistance element is formed on a printed wiring board in which an organic resin insulating layer and a metal wiring layer are laminated, a film-like resistance element is formed on the surface of the organic resin insulating layer. 2 is formed by printing, forming a metal thin film 3 covering the surface of the organic resin insulating layer on which the resistance element is formed, and performing the electroplating using the metal thin film as a power feeding layer to form the metal wiring layer It is characterized by.
[Selection] Figure 1
Description
本発明は、抵抗素子を内蔵したプリント配線板の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a printed wiring board having a built-in resistance element.
近年、電子部品の実装密度の向上、信号周波数の向上が求められ、電子機器に搭載されるプリント配線板の小型化・高機能化の要求が高まっており、プリント配線板の内層に受動部品を内蔵した、所謂、部品内蔵プリント配線板の必要性が増している。 In recent years, improvements in electronic component mounting density and signal frequency have been demanded, and there is an increasing demand for miniaturization and higher functionality of printed wiring boards mounted on electronic devices. The need for built-in so-called printed wiring boards with built-in components is increasing.
図3A、図3Bは、従来の抵抗素子内蔵プリント配線板の製造方法を示す断面工程図である(特許文献1参照)。まず、図3A(1)に示すように、ポリイミド等の絶縁基板51の片面に銅箔層52を有する片面銅張積層板53を用意する。ここでの銅箔層52の厚みは、後にカーボンペーストを印刷する時の、印刷膜の厚みバラツキが小さくでき、微細な回路パターンが形成できるため、銅厚は薄い方が良いことから5μm厚のものを用いた。
3A and 3B are cross-sectional process diagrams illustrating a conventional method of manufacturing a resistance-embedded printed wiring board (see Patent Document 1). First, as shown in FIG. 3A (1), a single-sided copper clad laminate 53 having a copper foil layer 52 on one side of an
片面銅張積層板53に対し、フォトファブリケーション手法によるエッチングにより、抵抗の電極52aおよび配線パターン52b を形成する。
次に、抵抗の電極部52aに無電解銀めっき等の貴金属めっきによる表面処理層54を選択的に形成し、配線52bの上には形成しない。これにより、抵抗の電極部は、後に形成するカーボンペーストと電極との間の高温高湿試験への耐性を確保できる。
Next, the
次いで、電極52aの上に、スクリーン印刷で抵抗となるカーボンペーストとして、シート抵抗値50Ωであるアサヒ化学研究所(株)製のカーボンペーストTU-50-8を印刷し、熱硬化を行うことで抵抗素子55を形成する。この後、必要に応じてフォトソルダーレジスト層を形成し表面処理を施して外形加工を行うことで、抵抗素子を有するプリント配線板56を得る。
Next, a carbon paste TU-50-8 manufactured by Asahi Chemical Laboratory Co., Ltd. having a sheet resistance value of 50Ω is printed on the
図3B(2)および(3)は、上述した印刷時の抵抗の膜厚が印刷方向と電極の配置とにより変化する模式図である。そして、図3B(2)は、印刷方向と同じ方向に電極が配置されている例を示しており、この場合はA-A’断面に示すように、電極間の抵抗ペーストの厚みが薄くなる。 3B (2) and 3 (3) are schematic diagrams in which the film thickness of the resistance during printing described above varies depending on the printing direction and the arrangement of the electrodes. FIG. 3B (2) shows an example in which the electrodes are arranged in the same direction as the printing direction. In this case, the thickness of the resistance paste between the electrodes becomes thin as shown in the AA ′ cross section. .
一方、図3B(3)は、印刷方向に対して90度回転した方向に電極が配置されている例を示しており、この場合はB-B’断面に示すように、電極間の抵抗ペーストの厚みは相対的に厚くなる。このことから、印刷時の厚みバラツキを低減するためには、電極の厚みを抑える必要がある。 On the other hand, FIG. 3B (3) shows an example in which the electrodes are arranged in a direction rotated 90 degrees with respect to the printing direction. In this case, as shown in the BB ′ cross section, the resistance paste between the electrodes is shown. The thickness of becomes relatively thick. For this reason, in order to reduce the thickness variation at the time of printing, it is necessary to suppress the thickness of the electrode.
この特許文献1(段落−参照)等に記載されている低温焼成型の抵抗ペーストを用いた印刷法は、抵抗ペーストのシート抵抗値の選択範囲も広く、形成可能な抵抗値の幅が広い、という特徴がある。 The printing method using the low-temperature firing type resistance paste described in Patent Document 1 (see paragraph-) has a wide selection range of the sheet resistance value of the resistance paste, and the width of the resistance value that can be formed is wide. There is a feature.
低温焼成型の抵抗ペーストを用いた場合は、スクリーン印刷法により抵抗素子を形成するが、その際に印刷された素子の形状のバラツキによって、高精度な抵抗値の抵抗素子を形成することは困難で、要求される抵抗素子の精度を満足せず抵抗値が低い場合には、レーザ等を用いたトリミングにより抵抗値を高くする調整を行う。 When a low-temperature firing type resistance paste is used, a resistance element is formed by a screen printing method. However, it is difficult to form a resistance element with a high precision resistance value due to variations in the shape of the element printed at that time. When the required resistance element accuracy is not satisfied and the resistance value is low, adjustment is performed to increase the resistance value by trimming using a laser or the like.
このスクリーン印刷での抵抗素子の形状のバラツキ要因として、抵抗素子を形成する箇所の電極の配置方向と印刷方向とが関係していることが知られている。電極の形状にも依るが、抵抗素子を形成する箇所の電極の厚さ、すなわち配線パターンの厚さが厚いことにより、前述の抵抗素子の厚みのバラツキはさらに大きくなる。 It is known that the arrangement direction of the electrode and the printing direction at the location where the resistance element is formed are related as a cause of the variation in the shape of the resistance element in the screen printing. Although depending on the shape of the electrode, the variation in the thickness of the resistance element is further increased by increasing the thickness of the electrode where the resistance element is formed, that is, the thickness of the wiring pattern.
これを解消する方法として、配線パターンの厚さを薄くする方法が挙げられる。配線パターンの厚さを薄くすることによって、形成可能な配線パターンのピッチをより微細にできる、という効果もある。 As a method for solving this problem, there is a method of reducing the thickness of the wiring pattern. By reducing the thickness of the wiring pattern, there is an effect that the pitch of the wiring pattern that can be formed can be made finer.
一方、配線パターンの厚さを薄くすると、配線パターンの抵抗値が上昇するといった問題が発生する。配線パターンの薄膜化によって導体抵抗値が上昇すると、電流を通電した際の発熱量が増加するばかりか、配線パターンが薄いことで放熱性も悪化する。また、抵抗素子に電流を流すことで発熱するが、この熱により抵抗値が変動したり、回路全体が熱により正常に機能しなくなったりする場合もある。 On the other hand, when the thickness of the wiring pattern is reduced, there arises a problem that the resistance value of the wiring pattern increases. When the conductor resistance value increases due to the thinning of the wiring pattern, not only the amount of heat generated when a current is applied increases, but also the heat dissipation deteriorates due to the thin wiring pattern. In addition, heat is generated by passing a current through the resistance element, but the resistance value may fluctuate due to this heat, or the entire circuit may not function normally due to the heat.
このことから、配線パターンのうち、特に電極部の導体は放熱性を確保できる厚みがあることが好ましい。このため、設計的には、通電電流値を上げることができなかったり、放熱構造等を積極的に取り入れたりする必要があり、全体としてコスト高となる。 From this, it is preferable that the conductor of an electrode part has a thickness which can ensure heat dissipation among wiring patterns. For this reason, in terms of design, the energization current value cannot be increased, or it is necessary to actively incorporate a heat dissipation structure or the like, which increases the cost as a whole.
一方、近年の高周波化の要求に対しては、抵抗素子内蔵とすることでICと抵抗との距離を近付けることが可能で、寄生リアクタンス等の影響を低減できる、というメリットもある。しかしながら、配線パターンが薄くなり、導体抵抗値が上昇すると、高周波信号を伝送するときの損失が増加する。 On the other hand, in response to the recent demand for higher frequency, there is an advantage that the effect of parasitic reactance and the like can be reduced by incorporating the resistance element so that the distance between the IC and the resistance can be reduced. However, when the wiring pattern becomes thin and the conductor resistance value increases, the loss when transmitting a high-frequency signal increases.
一般には、伝送損失は誘電体損失が支配的と考えられているが、数GHzまでの領域では導体損失も無視できないから、抵抗素子内蔵基板において、配線パターンの厚みが厚いことが重要である。 In general, it is considered that the transmission loss is dominated by dielectric loss. However, since the conductor loss cannot be ignored in the region up to several GHz, it is important that the wiring pattern has a large thickness in the resistance element built-in substrate.
そこで、特許文献2(段落〜参照)等に記載されているように、配線パターンを絶縁樹脂に転写することで、絶縁樹脂から露出している配線パターンの厚みを低減しつつ、実質の配線パターン厚を確保することができる。 Therefore, as described in Patent Document 2 (see paragraphs-), the wiring pattern is transferred to the insulating resin, thereby reducing the thickness of the wiring pattern exposed from the insulating resin, and the substantial wiring pattern. Thickness can be ensured.
しかしながら、このような転写による手法は、配線パターンが高アスペクトで微細になるほど絶縁樹脂への転写が困難になるという欠点がある。また、抵抗素子に電流を流すと発熱するが、発熱する抵抗素子に接触している電極の材料に熱伝導の悪い導電性ペーストを用いていることから、放熱性が悪化するという懸念もある。 However, such a transfer method has a drawback that transfer to an insulating resin becomes more difficult as the wiring pattern becomes finer with a high aspect ratio. Further, although heat is generated when a current is passed through the resistance element, there is also a concern that heat dissipation is deteriorated because a conductive paste having poor thermal conductivity is used as an electrode material in contact with the heat generating resistance element.
さらに特許文献3(段落参照)等には、予め絶縁ベース材に抵抗ペーストを印刷し、その両端に導電性ペーストを印刷し、電極部を形成する手法が記載されている。この手法を用いることで、抵抗ペーストの膜厚は薄く均一に形成することができるが、電極部を導電性ペーストで形成することから、抵抗素子の抵抗値を決定付ける重要なパラメーターである電極間距離が安定しない、という欠点がある。
結局、従来の抵抗素子を内蔵したプリント配線板の製造方法では、抵抗ペーストにて形成する抵抗素子の薄膜化と高アスペクトかつ微細な配線パターンとを両立することは困難である。これらのことから、抵抗素子の厚み低減と高アスペクトかつ微細な配線パターンとを両立した抵抗素子内蔵型プリント配線板を安価にかつ安定的に製造する方法が望まれている。 As a result, it is difficult for the conventional method for manufacturing a printed wiring board with a built-in resistance element to achieve both a reduction in the thickness of the resistance element formed by the resistance paste and a high-aspect and fine wiring pattern. For these reasons, there is a demand for a method for stably and inexpensively manufacturing a resistance element built-in printed wiring board that achieves both a reduction in thickness of the resistance element and a high aspect and fine wiring pattern.
しかしながら、従来の抵抗素子を内蔵したプリント配線板の製造方法では、抵抗ペーストにて形成する抵抗素子の薄膜化と高アスペクトかつ微細な配線パターンとを両立することは困難である。 However, in the conventional method for manufacturing a printed wiring board with a built-in resistance element, it is difficult to achieve both a reduction in the thickness of the resistance element formed by the resistance paste and a high-aspect and fine wiring pattern.
本発明は上述の点を考慮してなされたもので、抵抗素子の厚み低減と高アスペクトかつ微細な配線パターンとを両立した抵抗素子内蔵型プリント配線板を安価にかつ安定的に製造する方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in consideration of the above points, and provides a method for inexpensively and stably manufacturing a resistive element built-in type printed wiring board that achieves both a reduction in the thickness of the resistive element and a high aspect and fine wiring pattern. The purpose is to provide.
上記目的達成のため、本発明では、
有機樹脂絶縁層および金属配線層が積層されてなるプリント配線板に抵抗素子を内蔵したプリント配線板の製造方法において、
前記有機樹脂絶縁層の表面に膜状の抵抗素子を印刷により形成し、
前記有機樹脂絶縁層における前記抵抗素子が形成された面を覆う金属薄膜を形成し、
前記金属薄膜を給電層として電解めっきを行って前記金属配線層を形成する
ことを特徴とする。
In order to achieve the above object, in the present invention,
In the manufacturing method of the printed wiring board in which the resistive element is built in the printed wiring board in which the organic resin insulating layer and the metal wiring layer are laminated,
A film-like resistance element is formed on the surface of the organic resin insulating layer by printing,
Forming a metal thin film covering a surface of the organic resin insulating layer on which the resistance element is formed;
The metal wiring layer is formed by performing electrolytic plating using the metal thin film as a power feeding layer.
これらの特徴により、本発明は次のような効果を奏する。 Due to these features, the present invention has the following effects.
本発明によれば、抵抗素子を有するプリント配線板の製造方法において、電極部等の凹凸のないベース絶縁材に、抵抗素子を印刷形成することから、素子を薄く均一に形成することができる。その後、酸化保護層と給電層とを兼ね備えた金属薄膜を形成してから、電極および配線パターンを形成するため、導体抵抗値は低く、抵抗素子が発熱した際の放熱性にも優れた高密度回路が形成できる。特にセミアディティブ手法であれば、高アスペクトかつ微細な配線パターンを形成できる。 According to the present invention, in the method of manufacturing a printed wiring board having a resistance element, the resistance element is printed on a base insulating material having no irregularities such as an electrode portion, so that the element can be formed thinly and uniformly. After that, the metal thin film that combines the oxidation protection layer and the power feeding layer is formed, and then the electrode and wiring pattern are formed. Therefore, the conductor resistance value is low, and the heat dissipation when the resistance element generates heat is high. A circuit can be formed. In particular, a semi-additive technique can form a high aspect and fine wiring pattern.
これらのことから、抵抗素子厚の低減と高アスペクトかつ微細な配線パターンを両立した抵抗素子内蔵型プリント配線板を安価にかつ安定的に製造する方法を提供できる。 From these facts, it is possible to provide a method for stably and inexpensively manufacturing a resistance element built-in type printed wiring board that achieves both a reduction in resistance element thickness and a high aspect and fine wiring pattern.
以下、添付図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.
図1は、本発明の実施例1を示す断面工程図であって、まず、図1(1)に示すように、ポリイミド等の絶縁基板1の外部に露出しない一面に、抵抗素子2となるカーボンペーストとして、シート抵抗値50Ωであるアサヒ化学研究所(株)製のカーボンペーストTU-50-8をスクリーン印刷法で印刷した。
FIG. 1 is a cross-sectional process diagram illustrating Example 1 of the present invention. First, as shown in FIG. 1A, a
スクリーン版仕様としては、メッシュ数400、乳剤厚10μmのものを用いた。この状態では電極部がなく、平坦な場所への印刷となることから、印刷されたカーボンペーストの厚みバラツキが少なく、電極の配置および印刷方向による影響も殆どなかった。 As the screen plate specifications, those having a mesh number of 400 and an emulsion thickness of 10 μm were used. In this state, there is no electrode portion, and printing is performed on a flat place. Therefore, there is little variation in the thickness of the printed carbon paste, and there is almost no influence due to the arrangement of electrodes and the printing direction.
この抵抗素子2を形成するためのカーボンペーストの印刷後に、基板を2mm厚のアルミ板(図示せず)に固定し、遠赤外線リフロー炉により100℃以上、200℃以下で60秒間加熱し、ピーク温度250℃/保持時間10秒で熱硬化させて抵抗素子2を形成した。遠赤外線リフロー炉により抵抗素子2の焼成・熱硬化を行う際には、後の積層工程を含む、一連の製造工程中の最高温度を加えておくと、抵抗素子2の耐熱性が良好となる。
After printing the carbon paste to form this
なお、印刷後に、ボックス型の熱風オーブンにて170℃、60分の熱硬化を行うことで抵抗素子2を形成することもできる。抵抗素子2のサイズは、電極2bの間の距離を0.5mmとし、印刷幅が1.0mmのものとした。
In addition, after printing, the
また、後に、この工程で形成した抵抗素子2に対して位置合わせを行い、電極を形成するため、実際に抵抗素子2として機能する箇所以外に、例えば基板の端部所定位置に、位置合わせ用のマーク等をカーボンペーストにて同時に形成することもできる。
In addition, the
この抵抗素子2を形成する前に、絶縁基板1(ここでは、ポリイミドフィルム)と抵抗素子2(ここでは、カーボンペースト)との密着性を安定的に高める目的で、プラズマ処理あるいはコロナ処理等の、絶縁基板1にダメージを与えない処理を行うことが好ましい。
Before forming the
次に、図1(2)に示すように、抵抗素子2を形成した面を含む面に、金属薄膜3を形成する。金属薄膜3は、後に形成する電極部との界面の酸化保護層として機能し、かつセミアディティブ手法により配線パターンを形成するときの、電解めっきにおける給電用シード層としても機能する必要があるため、金属薄膜3の材料は配線となる金属との選択エッチングが可能でなければならない。
Next, as shown in FIG. 1 (2), a metal
ここでは、配線パターンを銅で形成することを想定しており、選択エッチング機能を有する金属としてニッケルを選択した。ニッケルのほかクロムも単体で、あるいはそれらの複層で適用できる。金属薄膜3の膜厚としては、無欠陥で形成できる最小厚みとして1μm前後が好ましい。形成手法として、スパッタと(電解あるいは無電解)めっきとを併用して1μm厚程度のめっきを施すと、機能的に問題となるピンホールは発生しない。
Here, it is assumed that the wiring pattern is formed of copper, and nickel is selected as a metal having a selective etching function. In addition to nickel, chromium can be applied alone or in multiple layers thereof. The thickness of the metal
この金属薄膜を形成する前に、絶縁基板1(ここでは、ポリイミドフィルム)、抵抗素子2(ここでは、カーボンペースト)と金属薄膜3との密着性を安定的に高める目的で、常温プラズマ処理等の絶縁基板1、抵抗素子2にダメージを与えない処理を行うことが好ましい。
Before forming the metal thin film, plasma treatment or the like is performed for the purpose of stably improving the adhesion between the insulating substrate 1 (here, polyimide film), the resistance element 2 (here, carbon paste) and the metal
次いで、図1(3)に示すように、所謂、セミアディティブ手法を行うためのめっきレジスト4をフォトファブリケーション手法により形成し、これを用いて電解銅めっきによる配線パターン5を形成する。このときのめっきレジスト4の厚みは、20μm厚のドライフィルムレジストを用い、配線パターン5は15μm厚に形成した。
Next, as shown in FIG. 1 (3), a plating resist 4 for performing a so-called semi-additive method is formed by a photofabrication method, and a
続いて、図1(4)に示すように、めっきレジスト4(図示せず)を剥離し、金属薄膜(図示せず)をニッケルと銅との選択エッチングの手法により除去した。このエッチング液としては、抵抗素子2の材料および銅に対する腐食性が低く、ニッケルを選択的にエッチングするエッチング液、例えば過酸化水素や硝酸を含むエッチング液を用いることができる。また、抵抗素子2の樹脂としては、アクリル、エポキシ、フェノール等があるが、何れも上記薬液に対する耐性があるから、抵抗素子2をエッチングマスクとして用いることができる。
Subsequently, as shown in FIG. 1 (4), the plating resist 4 (not shown) was peeled off, and the metal thin film (not shown) was removed by a selective etching technique of nickel and copper. As this etchant, an etchant that selectively etches nickel, such as an etchant containing hydrogen peroxide or nitric acid, can be used because of its low corrosiveness to the material of the
ここまでの工程で、配線パターン5は、分離されて電気的に独立したものとなる。厚みは15μmあるため、導体抵抗値は低く、抵抗素子2が発熱した際の放熱性も高い。無論、用途に応じてレジストの厚みや銅めっきの厚みを変更することで、導体抵抗値や放熱性を制御することができる。高精度な抵抗値を得るためのレーザトリミングを行う際にも、この実施例1は、抵抗素子2の膜厚が薄く均一なことから、安定的に行うことができる。
Through the steps so far, the
この後、必要に応じてソルダーレジスト層の形成、表面処理を施し、外形加工を行うことで抵抗素子を有するプリント配線板6を得る。
Thereafter, if necessary, a solder resist layer is formed and surface-treated, and external processing is performed to obtain a printed
図2は、本発明の実施例2の工程を示す断面図である。この実施例2では、図2(1)に示すように、図1(2)で金属薄膜3を形成した後、金属薄膜3の上の全面にパネルめっき層7を形成し、その後、図2(2)に示すように、定法により、サブトラクティブ工法によるエッチング手法にて電極部を含む、配線パターンを形成する。配線パターンの厚みは、パネルめっき層7の厚み制御で変えられるので、所望の厚みにて配線パターンを形成することができる。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a process according to the second embodiment of the present invention. In Example 2, as shown in FIG. 2 (1), after forming the metal
さらに、金属薄膜がニッケルのみで構成されている場合には、配線パターンのエッチング時に金属薄膜も除去されるため、工程の簡略化が図れる。さらに、図示しないが、これら両手法とも定法により多層プリント配線板に内蔵することもできる。 Further, when the metal thin film is composed only of nickel, the metal thin film is also removed during the etching of the wiring pattern, so that the process can be simplified. Further, although not shown, both of these methods can be incorporated in the multilayer printed wiring board by a conventional method.
1 絶縁基板
2 抵抗素子
3 金属薄膜
4 めっきレジスト
5 配線パターン
6 抵抗素子を有するプリント配線板
7 パネルめっき層
51 絶縁基板
52 銅箔
52a 抵抗の電極
52b 配線パターン
53 片面銅張り積層板
54 表面処理層
55 抵抗素子
56 従来方法による抵抗素子を有するプリント配線板
DESCRIPTION OF
Claims (4)
前記有機樹脂絶縁層の表面に膜状の抵抗素子を印刷により形成し、
前記有機樹脂絶縁層における前記抵抗素子が形成された面を覆う金属薄膜を形成し、
前記金属薄膜を給電層として電解めっきを行って前記金属配線層を形成する
ことを特徴とする抵抗素子を内蔵したプリント配線板の製造方法。 In the manufacturing method of the printed wiring board in which the resistive element is built in the printed wiring board in which the organic resin insulating layer and the metal wiring layer are laminated,
A film-like resistance element is formed on the surface of the organic resin insulating layer by printing,
Forming a metal thin film covering a surface of the organic resin insulating layer on which the resistance element is formed;
The method for producing a printed wiring board with a built-in resistance element, wherein the metal thin film is formed by performing electroplating using the metal thin film as a power feeding layer.
前記金属薄膜の上にめっきレジストを形成し、
前記めっきレジストを用い、前記金属薄膜を給電層として電解めっきを行って前記金属配線層にパターンを形成し、
前記めっきレジストを剥離し、前記金属配線層間の露出した部分の前記金属薄膜を除去して前記抵抗素子に接続された一対の電極および配線パターンを形成する
ことを特徴とする抵抗素子を内蔵したプリント配線板の製造方法。 In the manufacturing method of the printed wiring board of Claim 1,
Forming a plating resist on the metal thin film;
Using the plating resist, electrolytic plating is performed using the metal thin film as a power feeding layer to form a pattern on the metal wiring layer,
A print having a built-in resistance element, wherein the plating resist is peeled off and the metal thin film is removed from the exposed portion between the metal wiring layers to form a pair of electrodes and a wiring pattern connected to the resistance element A method for manufacturing a wiring board.
前記金属薄膜を給電層として電解めっきを行って前記金属配線層を全面に形成し、
前記前記金属配線層の上にエッチングレジストを形成し、
前記金属配線層および前記金属薄膜に対しエッチングを行って前記一対の電極および配線パターンを形成する
ことを特徴とする抵抗素子を内蔵したプリント配線板の製造方法。 In the manufacturing method of the printed wiring board of Claim 1,
Electroplating with the metal thin film as a power feeding layer to form the metal wiring layer on the entire surface,
Forming an etching resist on the metal wiring layer;
Etching the metal wiring layer and the metal thin film to form the pair of electrodes and a wiring pattern. A method of manufacturing a printed wiring board incorporating a resistance element.
前記金属薄膜は、ニッケルによるものであることを特徴とする抵抗素子を内蔵したプリント配線板の製造方法。 In the manufacturing method of the printed wiring board in any one of Claims 1 thru | or 3,
The method for manufacturing a printed wiring board having a built-in resistance element, wherein the metal thin film is made of nickel.
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Citations (5)
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---|---|---|---|---|
JPS6079798A (en) * | 1983-10-06 | 1985-05-07 | 三洋電機株式会社 | Resin circuit board |
JPS61185995A (en) * | 1985-02-13 | 1986-08-19 | 三菱電機株式会社 | Making of circuit board with resistor |
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JPH029191A (en) * | 1988-06-27 | 1990-01-12 | Matsushita Electric Works Ltd | Manufacture of ceramic circuit board with resistor |
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Patent Citations (5)
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---|---|---|---|---|
JPS6079798A (en) * | 1983-10-06 | 1985-05-07 | 三洋電機株式会社 | Resin circuit board |
JPS61185995A (en) * | 1985-02-13 | 1986-08-19 | 三菱電機株式会社 | Making of circuit board with resistor |
JPH01235291A (en) * | 1988-03-15 | 1989-09-20 | Matsushita Electric Works Ltd | Manufacture of ceramic circuit board with resistor |
JPH029191A (en) * | 1988-06-27 | 1990-01-12 | Matsushita Electric Works Ltd | Manufacture of ceramic circuit board with resistor |
JPH029192A (en) * | 1988-06-27 | 1990-01-12 | Matsushita Electric Works Ltd | Manufacture of ceramic circuit board with resistor |
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