[go: up one dir, main page]

JP2009021426A - チップ部品型led及びその製造方法 - Google Patents

チップ部品型led及びその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2009021426A
JP2009021426A JP2007183342A JP2007183342A JP2009021426A JP 2009021426 A JP2009021426 A JP 2009021426A JP 2007183342 A JP2007183342 A JP 2007183342A JP 2007183342 A JP2007183342 A JP 2007183342A JP 2009021426 A JP2009021426 A JP 2009021426A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
led chip
metal
thin
chip
concave hole
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2007183342A
Other languages
English (en)
Inventor
Makoto Matsuda
誠 松田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
Priority to JP2007183342A priority Critical patent/JP2009021426A/ja
Priority to US12/171,914 priority patent/US8134160B2/en
Priority to CN2008101358225A priority patent/CN101345283B/zh
Publication of JP2009021426A publication Critical patent/JP2009021426A/ja
Priority to US13/353,014 priority patent/US8460951B2/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10HINORGANIC LIGHT-EMITTING SEMICONDUCTOR DEVICES HAVING POTENTIAL BARRIERS
    • H10H20/00Individual inorganic light-emitting semiconductor devices having potential barriers, e.g. light-emitting diodes [LED]
    • H10H20/80Constructional details
    • H10H20/85Packages
    • H10H20/8506Containers
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/18Printed circuits structurally associated with non-printed electric components
    • H05K1/182Printed circuits structurally associated with non-printed electric components associated with components mounted in the printed circuit board, e.g. insert mounted components [IMC]
    • H05K1/183Components mounted in and supported by recessed areas of the printed circuit board
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/45099Material
    • H01L2224/451Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/45144Gold (Au) as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/484Connecting portions
    • H01L2224/48463Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond
    • H01L2224/48465Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond the other connecting portion not on the bonding area being a wedge bond, i.e. ball-to-wedge, regular stitch
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265Layer and wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/0201Thermal arrangements, e.g. for cooling, heating or preventing overheating
    • H05K1/0203Cooling of mounted components
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/03Conductive materials
    • H05K2201/0332Structure of the conductor
    • H05K2201/0388Other aspects of conductors
    • H05K2201/0394Conductor crossing over a hole in the substrate or a gap between two separate substrate parts
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/09Shape and layout
    • H05K2201/09209Shape and layout details of conductors
    • H05K2201/095Conductive through-holes or vias
    • H05K2201/09509Blind vias, i.e. vias having one side closed
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/10Details of components or other objects attached to or integrated in a printed circuit board
    • H05K2201/10007Types of components
    • H05K2201/10106Light emitting diode [LED]
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/04Soldering or other types of metallurgic bonding
    • H05K2203/049Wire bonding
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10HINORGANIC LIGHT-EMITTING SEMICONDUCTOR DEVICES HAVING POTENTIAL BARRIERS
    • H10H20/00Individual inorganic light-emitting semiconductor devices having potential barriers, e.g. light-emitting diodes [LED]
    • H10H20/80Constructional details
    • H10H20/85Packages
    • H10H20/857Interconnections, e.g. lead-frames, bond wires or solder balls
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10HINORGANIC LIGHT-EMITTING SEMICONDUCTOR DEVICES HAVING POTENTIAL BARRIERS
    • H10H20/00Individual inorganic light-emitting semiconductor devices having potential barriers, e.g. light-emitting diodes [LED]
    • H10H20/80Constructional details
    • H10H20/85Packages
    • H10H20/858Means for heat extraction or cooling
    • H10H20/8585Means for heat extraction or cooling being an interconnection

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Led Device Packages (AREA)

Abstract

【課題】LEDチップを実装するための実装部とワイヤーボンディング部の基板厚みを無くして薄型化を達成するとともに、点灯時の光の反射効率の向上を図る。
【解決手段】第1凹穴3aと第2凹穴3bとが形成された絶縁基板1の裏面側に、それぞれの凹穴に対応した配線パターンとなる金属(Cu)薄板2a,2bが電気的に分離された状態で形成され、絶縁基板1の表面側には、第1凹穴3aを含む部分に第1配線パターンとなる金属薄板4aが形成され、第2凹穴3bを含む部分に第2配線パターンとなる金属薄板4bが形成され、第1凹穴3aの底面部分の金属薄板4a上にLEDチップ5が実装され、このLEDチップ5が金属細線6を介して第2凹穴3bの底面部分の金属薄板4bに電気的に接続され、この状態において、LEDチップ5及び金属細線6を含む絶縁基板1の表面全体が透明樹脂7により封止された構造となっている。
【選択図】図1

Description

本発明は、表面実装用のチップ部品型LED及びその製造方法に関し、各種表示パネル、液晶表示装置のバックライト、照光スイッチ等の光源として利用される。
各種表示パネル、液晶表示装置のバックライト、照光スイッチ等の光源として、従来よりチップ部品型LEDが利用されている。
図8は、このような従来のチップ部品型LEDの構造の一例を示している。
従来のチップ部品型LEDは、絶縁基板81,82を2層構造としたもので、上部の絶縁基板82に貫通穴83を形成し、この貫通穴83内の底部(すなわち、下層の絶縁基板81の上面)まで延設して一方の配線パターン84を形成し、貫通穴83内の前記配線パターン84上にLEDチップ85を実装し、このLEDチップ85と、他方の配線パターン86とを金属細線(Au線等)87で接続し、さらにLEDチップ85と金属細線87とを含む絶縁基板82の表面を透明樹脂88で封止した構造となっている。
このような構造のチップ部品型LEDによれば、貫通穴83内にLEDチップ85を実装することで薄型化が達成されているものの、貫通穴83の内周面が底面に対して垂直に形成されていることから、LEDチップ85の点灯時の上方への光の反射効率が低いといった問題があった。また、2枚の絶縁基板81,82を必要とし、かつ、LEDチップ85を下層の絶縁基板82上に実装することから、絶縁基板82は実装可能な最低限度の厚みが必要であることから、薄型化が困難であるとともに、コスト的にも高くなるといった問題があった。
そこで、このような問題を解決したチップ部品型LEDが提供されている(例えば、特許文献1参照)。
このチップ部品型LEDは、図9に示すように、貫通穴112が形成された絶縁基板110の裏面1101に、一方の配線パターン109を形成する金属薄板105を添設し、貫通穴112内の金属薄板105上(すなわち、配線パターン109上)にLEDチップ101を実装し、このLEDチップ101と絶縁基板110の表面1102に形成された他方の配線パターン104とを金属細線102で接続して透明樹脂111により封止した構造となっている。
このような構造とすることにより、LEDチップ101を直接金属薄板105上に実装することから、従来の基板が不要となり、その分薄型化が可能となっている。
特開平7−235696号公報
しかし、上記特許文献1のチップ部品型LEDは、LEDチップ101と絶縁基板110の表面1102に形成された他方の配線パターン104とを金属細線102で接続している。すなわち、金属細線102と他の配線パターン104との接続位置が高いため、金属細線102の配置高さをあまり低くできず、その分薄型化に限界があるといった問題があった。また、他の配線パターン104を絶縁基板110の外周側面を通って基板底面まで形成する必要があるため、製造工程も複雑になるといった問題もあった。
本発明はこのような問題点を解決すべく創案されたもので、その目的は、LEDチップを実装するための基板厚みを無くしてよりいっそうの薄型化を達成するとともに、点灯時の光の反射効率の向上を図り、かつ、製造方法の容易化を図ったチップ部品型LED及びその製造方法を提供することにある。
上記課題を解決するため、本発明のチップ部品型LEDは、LEDチップ搭載用の第1凹穴と金属細線接続用の第2凹穴とが形成された絶縁基板の前記第1凹穴を含む部分に第1配線パターンとなる金属薄板が形成され、前記第2凹穴を含む部分に第2配線パターンとなる金属薄板が形成され、前記第1凹穴内の金属薄板上にLEDチップが実装され、このLEDチップが金属細線を介して前記第2凹穴内の金属薄板に電気的に接続されて透明樹脂により封止されていることを特徴としている。
このような構成によれば、LEDチップの実装面と、このLEDチップに一端部が接続された金属細線の他端部の接続面とが金属薄板上に形成されているため、金属細線の高さを低くすることができる。また、LEDチップを直接金属薄板(第1配線パターン)上に実装することから、従来の基板が不要となり、その分薄型化が可能になるとともに、金属細線の高さも従来より低くなり、さらに薄型化が可能となる。
また、金属薄板を除去することにより、LEDチップを実装した第1配線パターンと金属細線の他端部が接続された第2配線パターンとを容易に電気的に分離することが可能である。さらに、それぞれの凹穴内に形成された配線パターンと底面の金属薄板とが電気的に直接接続されているため、絶縁基板の外周部に配線パターン等を形成する必要がなく、従来のチップ部品型LEDの製造方法に比べて製造方法が容易である。そのため、製造コストも低減することが可能である。
この場合、前記LEDチップが実装される前記第1凹穴の底面と、前記LEDチップからの金属細線が電気的に接続される前記第2凹穴の底面との高さ位置は、略同一高さに形成されている。これにより、加工時のレーザ出力などの調整を必要としないので、凹穴加工が容易となる。
また、前記LEDチップからの金属細線が電気的に接続される前記第2凹穴は、少なくとも2箇所以上に形成されていてもよい。2箇所以上に形成することで、LEDチップの電極構造が、表面側にアノード、カソード電極が形成された場合等でLEDチップの搭載面をLEDチップの電極の引き出しに使用せずに金属細線を用いたより複雑な配線に対しても薄型化に対応することが可能となる。
また、本発明のチップ部品型LEDは、前記第1凹穴と前記第2凹穴との間の壁体の表面に、前記金属細線を配線するための溝部が形成された構造であってもよい。このように溝部を形成し、この溝部に金属細線を通して配線することで、金属細線の配置高さをさらに低くすることができ、その分チップ部品型LEDのさらなる薄型化を実現することができる。
この場合、前記透明樹脂に蛍光体を含ませた構造としてもよい。また、前記凹穴の内周面は、前記絶縁基板の裏面側から表面側に向かって漸次拡開する傾斜面に形成されていることが好ましい。これにより、本チップ部品型LEDを各種表示パネル、液晶表示装置のバックライト、照光スイッチ等の光源として利用したときの点灯時、側面に向かう光は傾斜面で反射されて上方に向かうことから、上方への反射効率を向上させることができる。
また、本発明のチップ部品型LEDの製造方法は、絶縁基板の表面と裏面に金属薄板を形成する工程と、前記絶縁基板表面側のLEDチップ搭載位置と金属細線接続位置との金属薄板を除去する工程と、前記金属薄板を除去した領域にレーザ加工により傾斜面を持つ凹穴を、前記絶縁基板の裏面側の金属薄板まで到達する深さに形成する工程と、前記凹穴の側面と前記金属薄板上の底面とに延設するようにメッキ層を形成する工程と、前記メッキ層の表面にAuを含む層を蒸着で形成する工程と、絶縁領域を形成する工程と、前記一方の凹穴の底面にLEDチップを実装する工程と、前記LEDチップと前記他方の凹穴の底面とを金属細線を用いて電気的に接続する工程と、樹脂モールドにて前記LEDチップと金属細線とを封止する工程と、を含むことを特徴としている。
すなわち、本発明の製造方法によれば、絶縁基板の外周部に配線パターン等を形成する必要がないため、その分、製造方法が容易であり、製造コストも低減することが可能である。また、レーザ光を絶縁基板のLEDチップ実装部分に照射して、裏面の金属薄板まで達する貫通穴を形成すると、レーザ光で絶縁基板の対象エリアを除去する際、レーザ光は中心部から広がるように絶縁部を除去していくため、形成された貫通穴の内周面を同時に傾斜面(湾曲面)に形成することができる。つまり、レーザ光を照射するだけで、貫通穴の形成と内周壁の傾斜面の形成とを同時に行うことができるものである。
本発明によれば、LEDチップの実装面と、このLEDチップに一端部が接続された金属細線の他端部の接続面とが金属薄板上に形成されているため、金属細線の高さを低くすることができる。また、LEDチップを直接金属薄板(第1配線パターン)上に実装することから、従来の基板が不要となり、その分薄型化が可能になるとともに、金属細線の高さも従来より低くなることから、さらに薄型化が可能となる。
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して説明する。
<実施形態1>
図1は、本実施形態1に係るチップ部品型LED10の断面図である。
このチップ部品型LED10は、LEDチップ搭載用の第1凹穴(貫通穴)3aと、金属細線接続用の第2凹穴(貫通穴)3bとが形成された絶縁基板1の裏面側に、それぞれの凹穴に対応した配線パターンとなる金属(Cu)薄板2a,2bが電気的に分離された状態で形成されている。また、絶縁基板1の表面側には、第1凹穴3aを含む部分に第1配線パターンとなる金属薄板4aが形成され、第2凹穴3bを含む部分に第2配線パターンとなる金属薄板4bが形成されている。そして、このような配線構造において、第1凹穴3aの底面部分の金属薄板4a上にLEDチップ5が実装され、このLEDチップ5が金属細線6を介して第2凹穴3bの底面部分の金属薄板4bに電気的に接続され、この状態において、LEDチップ5及び金属細線6を含む絶縁基板1の表面全体が透明樹脂7により封止された構造となっている。
本実施形態1では、絶縁基板1は、ガラスエポキシ樹脂により形成されており、その厚みは約50μmとなっている。また、裏面側に形成された金属(Cu)薄板2a,2bは、約20μmの厚みに形成されている。また、本実施形態では、LEDチップ搭載用の第1凹穴3aの内径をφ470μm、金属細線接続用の第2凹穴3bの内径をφ180μmとした。
このように、本実施形態1によれば、LEDチップ5の実装面と、このLEDチップ5に一端部が接続された金属細線6の他端部の接続面とが、金属薄板2a,2b上に形成されているため、金属細線6の配置高さを低くすることができる。また、LEDチップ5を直接金属薄板4a,2a上に実装することから、従来の基板が不要となり、その分薄型化が可能になるとともに、金属細線6の高さも従来より低くでき、さらに薄型化が可能となる。
次に、上記構成のチップ部品型LED10の製造方法について、図2を参照して説明する。
最初の工程では、絶縁基板1の表面と裏面にそれぞれ金属薄板2,4を形成する(図2(a))。
次の工程では、絶縁基板1の表面側のLEDチップ搭載位置41と金属細線接続位置42との金属薄板4を除去する(図2(b))。
次の工程では、金属薄板4を除去した領域41,42にレーザ加工により傾斜面を持つ凹穴3a,3bを、絶縁基板1の裏面側の金属薄板2まで到達する深さに形成する(図2(c))。本実施形態1では、LEDチップ搭載用の第1凹穴3aの内径をφ470μm、金属細線接続用の第2凹穴3bの内径をφ180μmとした。
次の工程では、各凹穴3a,3bの側面と底面の金属薄板2上とに延設するように、絶縁基板1の表面側から、厚さ20μmのCuメッキ層45をメッキにより形成する(図2(d))。ここで、Cuメッキが不要な箇所はレジストを用いて保護しておく。
次の工程では、このメッキ層45の表面に、厚さ10μmのNi/Au層を蒸着で形成する。
次の工程では、絶縁領域を形成するために、絶縁基板1表面の不要なNi/Au層及びCuメッキ層45と金属薄板4とを除去(符号46により示す)するとともに、絶縁基板1裏面の不要な金属薄板2を除去(符号22により示す)する(図2(e))。これにより、絶縁基板1の表面に、第1配線パターンとなる金属薄板4aと、第2配線パターンとなる金属薄板4bとが絶縁状態で形成され、絶縁基板1の裏面に、第1配線パターンの金属薄板4aに対向する金属薄板2aと、第2配線パターンの金属薄板4bに対向する金属薄板2bとが絶縁状態で形成される。
次の工程では、LEDチップ搭載用の凹穴3aの底面の金属薄板4aに、銀ペーストを用いてLEDチップ5を実装する(図2(f))。
次の工程では、実装されたLEDチップ5と金属細線接続用凹穴3bの底面の金属薄板4bとを金属細線6を用いてボンディングして電気的に接続する(図2(g))。
次の工程では、透明樹脂である例えばシリコン樹脂にて、LEDチップ5及び金属細線6を含む絶縁基板1の表面全体を封止する(図2(h))。
最後に、ダイシングにより幅1.6mm、厚さ0.8mm、高さ0.2mmのチップ部品型LED10を作製する(図1参照)。
<実施形態2>
図3は、本実施形態2に係るチップ部品型LED20の断面図である。ただし、以下の説明において、上記実施形態1と同じ(若しくは同じ機能を有する)部材には同符号を付している。
このチップ部品型LED20は、LEDチップ搭載用の第1凹穴(貫通穴)3aと、この第1凹穴3aを挟んで両側に金属細線接続用の第2凹穴(貫通穴)3b及び第3凹部(貫通穴)3cとが形成された絶縁基板1の裏面側に、それぞれの凹穴に対応した配線パターンとなる金属(Cu)薄板2a,2b,2cが電気的に分離された状態で形成されている。また、絶縁基板1の表面側には、第1凹穴3aを含む部分に第1配線パターンとなる金属薄板4aが形成され、第2凹穴3bを含む部分に第2配線パターンとなる金属薄板4bが形成され、第3凹穴3cを含む部分に第3配線パターンとなる金属薄板4cが形成されている。そして、このような配線構造において、第1凹穴3aの底面部分の金属薄板4a上にLEDチップ5が実装され、このLEDチップ5が金属細線6aを介して第2凹穴3bの底面部分の金属薄板4bに電気的に接続されるとともに、金属細線6bを介して第3凹穴3cの底面部分の金属薄板4cに電気的に接続され、この状態において、LEDチップ5及び金属細線6a,6bを含む絶縁基板1の表面全体が蛍光体入りの透明樹脂7により封止された構造となっている。
本実施形態1では、絶縁基板1は、ガラスエポキシ樹脂により形成されており、その厚みは約60μmとなっている。また、裏面側に形成された金属(Cu)薄板2a,2b,2cは、約25μmの厚みに形成されている。また、本実施形態では、LEDチップ搭載用の第1凹穴3aの内径をφ500μm、金属細線接続用の第2凹穴3b及び第3凹穴3cの内径をそれぞれφ200μmとした。
このように、本実施形態2によれば、LEDチップ5の実装面と、このLEDチップ5に一端部が接続された金属細線6a,6bの他端部の接続面とが、金属薄板2a,2b,2c上に形成されているため、金属細線6a,6bの配置高さを低くすることができる。また、LEDチップ5を直接金属薄板4a,2a上に実装することから、従来の基板が不要となり、その分薄型化が可能になるとともに、金属細線6a,6bの高さも従来より低くでき、さらに薄型化が可能となる。
次に、上記構成のチップ部品型LED20の製造方法について、図4を参照して説明する。
最初の工程では、絶縁基板1の表面と裏面にそれぞれ金属薄板2,4を形成する(図4(a))。
次の工程では、絶縁基板1の表面側のLEDチップ搭載位置41と金属細線接続位置42,43との金属薄板4を除去する(図4(b))。
次の工程では、金属薄板4を除去した領域41,42,43にレーザ加工により傾斜面を持つ凹穴3a,3b,3cを、絶縁基板1の裏面側の金属薄板2まで到達する深さに形成する(図4(c))。本実施形態2では、LEDチップ搭載用の第1凹穴3aの内径をφ500μm、金属細線接続用の第2凹穴3b及び第3凹穴3cの内径をそれぞれφ200μmとした。
次の工程では、各凹穴3a,3b,3cの側面と底面の金属薄板2上とに延設するように、絶縁基板1の表面側から、厚さ15μmのCuメッキ層45をメッキにより形成する(図4(d))。ここで、Cuメッキが不要な箇所はレジストを用いて保護しておく。
次の工程では、このメッキ層45の表面に、厚さ15μmのNi/Au層を蒸着で形成する。
次の工程では、絶縁領域を形成するために、絶縁基板1表面の不要なNi/Au層及びCuメッキ層45と金属薄板4とを除去(符号46,47により示す)するとともに、絶縁基板1裏面の不要な金属薄板2を除去(符号22,23により示す)する(図4(e))。これにより、絶縁基板1の表面に、第1配線パターンとなる金属薄板4aと、第2配線パターンとなる金属薄板4bと、第3配線パターンとなる金属薄板4cとが絶縁状態で形成され、絶縁基板1の裏面に、第1配線パターンの金属薄板4aに対向する金属薄板2aと、第2配線パターンの金属薄板4bに対向する金属薄板2bと、第3配線パターンの金属薄板4cに対向する金属薄板2cとが絶縁状態で形成される。
次の工程では、LEDチップ搭載用の凹穴3aの底面の金属薄板4aに、銀ペーストを用いてLEDチップ5を実装する(図4(f))。
次の工程では、実装されたLEDチップ5と金属細線接続用凹穴3bの底面の金属薄板4bとを金属細線6aを用いてボンディングして電気的に接続するとともに、LEDチップ5と金属細線接続用凹穴3cの底面の金属薄板4cとを金属細線6bを用いてボンディングして電気的に接続する(図4(g))。
次の工程では、蛍光体を混入した透明樹脂である例えばシリコン樹脂にて、LEDチップ5及び金属細線6a,6bを含む絶縁基板1の表面全体を封止する(図4(h))。ここで、蛍光体としては、(Ba・Si)、2SiO4:Eu、GaAlSiN3:Euなどを用いることができる。
最後に、ダイシングにより幅1.5mm、厚さ0.8mm、高さ0.18mmのチップ部品型LED20を作製する(図3参照)。
<実施形態3>
図5及び図6は、本実施形態3に係るチップ部品型LED30の断面図及び平面図である。ただし、以下の説明において、上記実施形態1と同じ(若しくは同じ機能を有する)部材には同符号を付している。
このチップ部品型LED30は、LEDチップ搭載用の第1凹穴(貫通穴)3aと、金属細線接続用の第2凹穴(貫通穴)3bとが形成された絶縁基板1の裏面側に、それぞれの凹穴に対応した配線パターンとなる金属(Cu)薄板2a,2bが電気的に分離された状態で形成されている。また、絶縁基板1の表面側には、第1凹穴3aを含む部分に第1配線パターンとなる金属薄板4aが形成され、第2凹穴3bを含む部分に第2配線パターンとなる金属薄板4bが形成されている。これら金属薄板4a,4bは、第1凹穴3aと第2凹穴3bとを仕切る仕切壁部1aの表面中央部に金属薄板4を除去した一定幅の切欠き部48を形成することで絶縁されている。また、仕切壁部1aの表面には、この切欠き部48と直交する方向に、すなわち第1凹穴3aと第2凹穴3bとに跨がるようにして、所定深さの凹溝部11が形成されている。
そして、このような配線構造において、第1凹穴3aの底面部分の金属薄板4a上にLEDチップ5が実装され、このLEDチップ5が金属細線6を介して第2凹穴3bの底面部分の金属薄板4bに電気的に接続されている。このとき、金属細線6は、仕切壁部1aの凹溝部11内を通って配線されている。すなわち、絶縁基板1の表面より上方に出ないように配線されている。そして、この状態において、LEDチップ5及び金属細線6を含む絶縁基板1の表面全体が蛍光体入りの透明樹脂7により封止された構造となっている。
本実施形態3では、絶縁基板1は、ガラスエポキシ樹脂により形成されており、その厚みは約55μmとなっている。また、裏面側に形成された金属(Cu)薄板2a,2bは、約18μmの厚みに形成されている。また、本実施形態では、LEDチップ搭載用の第1凹穴3aの内径をφ400μm、金属細線接続用の第2凹穴3bの内径をφ150μmとした。さらに、凹溝部11の深さは25μmとした。
このように、本実施形態3によれば、LEDチップ5の実装面と、このLEDチップ5に一端部が接続された金属細線6の他端部の接続面とが、金属薄板2a,2b上に形成され、かつ、金属細線6は凹溝部11内を通って配線されるため、金属細線6の配置高さを上記実施形態1,2よりもさらに低くすることができる。また、LEDチップ5を直接金属薄板4a,2a上に実装することから、従来の基板が不要となり、その分薄型化が可能になる。
次に、上記構成のチップ部品型LED10の製造方法について、図7を参照して説明する。
最初の工程では、絶縁基板1の表面と裏面にそれぞれ金属薄板2,4を形成する(図6(a))。
次の工程では、絶縁基板1の表面側のLEDチップ搭載位置41と、金属細線接続位置42と、金属細線6の配線位置(凹溝部11となる位置)との金属薄板4を除去する(図6(b))。
次の工程では、金属薄板4を除去した領域41,42にレーザ加工により傾斜面を持つ凹穴3a,3bを、絶縁基板1の裏面側の金属薄板2まで到達する深さに形成する。このとき、形成される凹穴3a,3bを仕切ることになる仕切壁部1aの表面に、これら凹穴3a,3b間を跨ぐように、所定深さの凹溝部11を同じレーザ加工により形成する。(図6(c))。本実施形態1では、LEDチップ搭載用の第1凹穴3aの内径をφ500μm、金属細線接続用の第2凹穴3bの内径をφ200μmとし、凹溝部11の深さを25μmとした。
次の工程では、各凹穴3a,3bの側面と底面の金属薄板2上とに延設するように、絶縁基板1の表面側から、厚さ15μmのCuメッキ層45をメッキにより形成する(図6(d))。ここで、Cuメッキが不要な箇所はレジストを用いて保護しておく。
次の工程では、このメッキ層45の表面に、厚さ15μmのNi/Au層を蒸着で形成する。
次の工程では、絶縁領域を形成するために、絶縁基板1表面の不要なNi/Au層及びCuメッキ層45と金属薄板4とを除去(符号46により示す)するとともに、絶縁基板1裏面の不要な金属薄板2を除去(符号22により示す)する(図6(e))。これにより、絶縁基板1の表面に、第1配線パターンとなる金属薄板4aと、第2配線パターンとなる金属薄板4bとが絶縁状態で形成され、絶縁基板1の裏面に、第1配線パターンの金属薄板4aに対向する金属薄板2aと、第2配線パターンの金属薄板4bに対向する金属薄板2bとが絶縁状態で形成される。なお、本実施形態3では、この工程において、金属細線6を配線するための凹溝部11表面のNi/Au層及びCuメッキ層45も除去している。すなわち、凹溝部11表面は絶縁基板1が露出した状態となっている。
次の工程では、LEDチップ搭載用の凹穴3aの底面の金属薄板4aに、銀ペーストを用いてLEDチップ5を実装する(図6(f))。
次の工程では、実装されたLEDチップ5と金属細線接続用凹穴3bの底面の金属薄板4bとを金属細線6を用いてボンディングして電気的に接続する(図6(g))。
次の工程では、蛍光体入りの透明樹脂である例えばシリコン樹脂にて、LEDチップ5及び金属細線6を含む絶縁基板1の表面全体を封止する(図6(h))。
最後に、ダイシングにより幅1.65mm、厚さ0.75mm、高さ0.15mmのチップ部品型LED30を作製する(図5参照)。
本実施形態3によれば、金属細線6がLEDチップ搭載用凹穴3aと金属細線接続用凹穴3bとの間に形成された凹溝部11内を通るように形成できるため、さらに高さの低い0.15mmのチップ部品型LED30が作製できる。
なお、上記各実施形態1〜3では、絶縁基板に対して1対のパターンを有する1チップLEDランプとしたが、同手法で複数のパターンを形成し、複数個のLEDチップを接続させると、容易に多色(複数LEDチップ)発光のLEDランプを構成することが可能である。
実施形態1に係るチップ部品型LEDの断面図である。 実施形態1のチップ部品型LEDの製造方法を示す説明図である。 実施形態2に係るチップ部品型LEDの断面図である。 実施形態2のチップ部品型LEDの製造方法を示す説明図である。 実施形態3に係るチップ部品型LEDの断面図である。 実施形態3に係るチップ部品型LEDの平面図である。 実施形態3のチップ部品型LEDの製造方法を示す説明図である。 従来のチップ部品型LEDの構造の一例を示す断面図である。 従来のチップ部品型LEDの構造の一例を示す断面図である。
符号の説明
2a 金属薄板(第1配線パターン)
2b 金属薄板(第2配線パターン)
2c 金属薄板(第3配線パターン)
3a 第1凹穴
3b 第2凹穴
3c 第3凹穴
4a,4b 金属薄板
5 LEDチップ
6,6a,6b 金属細線(ワイヤー)
7 透明樹脂(シリコン樹脂)
10,20,30 チップ部品型LED
11 凹溝部
41 LEDチップ搭載位置
42,43 金属細線接続位置
45 メッキ層

Claims (7)

  1. LEDチップ搭載用の第1凹穴と金属細線接続用の第2凹穴とが形成された絶縁基板の前記第1凹穴を含む部分に第1配線パターンとなる金属薄板が形成され、前記第2凹穴を含む部分に第2配線パターンとなる金属薄板が形成され、前記第1凹穴内の金属薄板上にLEDチップが実装され、このLEDチップが金属細線を介して前記第2凹穴内の金属薄板に電気的に接続されて透明樹脂により封止されていることを特徴とするチップ部品型LED。
  2. 請求項1記載のチップ部品型LEDにおいて、前記LEDチップが実装される前記第1凹穴の底面と前記LEDチップからの金属細線が電気的に接続される前記第2凹穴の底面との高さ位置が略同一高さに形成されていることを特徴とするチップ部品型LED。
  3. 請求項1または請求項2記載のチップ部品型LEDにおいて、前記LEDチップからの金属細線が電気的に接続される前記第2凹穴が少なくとも2箇所以上形成されていることを特徴とするチップ部品型LED。
  4. 請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載のチップ部品型LEDにおいて、前記第1凹穴と前記第2凹穴との間の壁体の表面に、前記金属細線を配線するための溝部が形成されていることを特徴とするチップ部品型LED。
  5. 請求項1ないし請求項4のいずれか1項に記載のチップ部品型LEDにおいて、前記透明樹脂に蛍光体が含まれていることを特徴とするチップ部品型LED。
  6. 請求項1ないし請求項5のいずれか1項に記載のチップ部品型LEDにおいて、前記凹穴の内周面が、前記絶縁基板の裏面側から表面側に向かって漸次拡開する傾斜面に形成されていることを特徴とする請求項1に記載のチップ部品型LED。
  7. 絶縁基板の表面と裏面に金属薄板を形成する工程と、
    前記絶縁基板表面側のLEDチップ搭載位置と金属細線接続位置との金属薄板を除去する工程と、
    前記金属薄板を除去した領域にレーザ加工により傾斜面を持つ凹穴を、前記絶縁基板の裏面側の金属薄板まで到達する深さに形成する工程と、
    前記凹穴の側面と前記金属薄板上の底面とに延設するようにメッキ層を形成する工程と、
    前記メッキ層の表面にAuを含む層を蒸着で形成する工程と、
    絶縁領域を形成する工程と、
    前記一方の凹穴の底面にLEDチップを実装する工程と、
    前記LEDチップと前記他方の凹穴の底面とを金属細線を用いて電気的に接続する工程と、
    樹脂モールドにて前記LEDチップと金属細線とを封止する工程と、を含むことを特徴とするチップ部品型LEDの製造方法。
JP2007183342A 2007-07-12 2007-07-12 チップ部品型led及びその製造方法 Pending JP2009021426A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007183342A JP2009021426A (ja) 2007-07-12 2007-07-12 チップ部品型led及びその製造方法
US12/171,914 US8134160B2 (en) 2007-07-12 2008-07-11 Chip-type LED having an insulating substrate in which a first concave hole and a second concave hole are formed
CN2008101358225A CN101345283B (zh) 2007-07-12 2008-07-14 芯片部件型led及其制造方法
US13/353,014 US8460951B2 (en) 2007-07-12 2012-01-18 Chip-type LED and method of manufacturing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007183342A JP2009021426A (ja) 2007-07-12 2007-07-12 チップ部品型led及びその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2009021426A true JP2009021426A (ja) 2009-01-29

Family

ID=40247224

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007183342A Pending JP2009021426A (ja) 2007-07-12 2007-07-12 チップ部品型led及びその製造方法

Country Status (3)

Country Link
US (2) US8134160B2 (ja)
JP (1) JP2009021426A (ja)
CN (1) CN101345283B (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013520807A (ja) * 2010-06-04 2013-06-06 フォーシャン・ネーションスター・オプトエレクトロニクス・カンパニー・リミテッド 表面実装パワーled支持物の製造方法および製品
JP2013544434A (ja) * 2010-11-05 2013-12-12 ヘレーウス マテリアルズ テクノロジー ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフト 多層基板のチップ組み込み式貫通コンタクト
JP2015079835A (ja) * 2013-10-16 2015-04-23 大日本印刷株式会社 光半導体装置、光半導体装置用リードフレーム、及びそれらの製造方法
JP2017098498A (ja) * 2015-11-27 2017-06-01 ローム株式会社 Led発光装置
JP2017157684A (ja) * 2016-03-02 2017-09-07 ローム株式会社 発光装置およびその製造方法

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2011037185A1 (ja) * 2009-09-24 2013-02-21 京セラ株式会社 実装用基板、発光体、および実装用基板の製造方法
KR101121151B1 (ko) * 2010-03-19 2012-03-20 주식회사 대원이노스트 Led 모듈 및 그 제조 방법
KR101039994B1 (ko) 2010-05-24 2011-06-09 엘지이노텍 주식회사 발광소자 및 이를 구비한 라이트 유닛
CN102694081B (zh) * 2011-03-21 2014-11-05 展晶科技(深圳)有限公司 发光二极管制造方法
WO2013025402A2 (en) 2011-08-17 2013-02-21 3M Innovative Properties Company Two part flexible light emitting semiconductor device
JP5770674B2 (ja) * 2012-04-04 2015-08-26 信越化学工業株式会社 光学半導体装置用基板及びその製造方法、並びに光学半導体装置
US9029880B2 (en) 2012-12-10 2015-05-12 LuxVue Technology Corporation Active matrix display panel with ground tie lines
US9178123B2 (en) 2012-12-10 2015-11-03 LuxVue Technology Corporation Light emitting device reflective bank structure
US9159700B2 (en) 2012-12-10 2015-10-13 LuxVue Technology Corporation Active matrix emissive micro LED display
CN103219455B (zh) * 2013-04-27 2015-08-19 友达光电(厦门)有限公司 发光二极管模块及背光模块
JP6854643B2 (ja) 2013-06-12 2021-04-07 ロヒンニ リミテッド ライアビリティ カンパニー 付着された光発生源を用いたキーボードバックライティング
EP3075006A1 (de) 2013-11-27 2016-10-05 AT & S Austria Technologie & Systemtechnik Aktiengesellschaft Leiterplattenstruktur
AT515101B1 (de) 2013-12-12 2015-06-15 Austria Tech & System Tech Verfahren zum Einbetten einer Komponente in eine Leiterplatte
AT515372B1 (de) * 2014-01-29 2019-10-15 At & S Austria Tech & Systemtechnik Ag Verfahren zur Herstellung einer Leiterplatte
US11523520B2 (en) 2014-02-27 2022-12-06 At&S Austria Technologie & Systemtechnik Aktiengesellschaft Method for making contact with a component embedded in a printed circuit board
AT515447B1 (de) 2014-02-27 2019-10-15 At & S Austria Tech & Systemtechnik Ag Verfahren zum Kontaktieren eines in eine Leiterplatte eingebetteten Bauelements sowie Leiterplatte
JP6092446B1 (ja) * 2015-10-23 2017-03-08 デクセリアルズ株式会社 部分駆動型光源装置及びそれを用いた画像表示装置
JP6959697B2 (ja) 2016-01-15 2021-11-05 ロヒンニ リミテッド ライアビリティ カンパニー 装置上のカバーを介してバックライトで照らす装置及び方法

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07235696A (ja) * 1994-02-25 1995-09-05 Sharp Corp チップ部品型led及びその製造方法
JP2000082847A (ja) * 1998-09-04 2000-03-21 Matsushita Electronics Industry Corp 光電変換素子及びその製造方法
JP2002252372A (ja) * 2001-02-26 2002-09-06 Nichia Chem Ind Ltd 発光ダイオード
US20050014302A1 (en) * 2000-04-26 2005-01-20 Osram Opto Semiconductors Gmbh Radiation emitting semiconductor component with luminescent conversion element
JP2005079329A (ja) * 2003-08-29 2005-03-24 Stanley Electric Co Ltd 表面実装型発光ダイオード
JP2006190814A (ja) * 2005-01-06 2006-07-20 Hitachi Aic Inc 発光素子用の配線基板
JP2007109947A (ja) * 2005-10-14 2007-04-26 Toyoda Gosei Co Ltd 蛍光体板及びこれを備えた発光装置
JP2007149810A (ja) * 2005-11-25 2007-06-14 Kyocera Corp 発光素子用配線基板および発光装置
JP2007165502A (ja) * 2005-12-13 2007-06-28 Yamaichi Electronics Co Ltd 素子内蔵回路基板およびその製造方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19829197C2 (de) * 1998-06-30 2002-06-20 Siemens Ag Strahlungsaussendendes und/oder -empfangendes Bauelement
TW506236B (en) * 2000-06-09 2002-10-11 Sanyo Electric Co Method for manufacturing an illumination device
US6583447B2 (en) * 2001-08-27 2003-06-24 Harvatek Corp. Multiple LED chip package
US6531328B1 (en) * 2001-10-11 2003-03-11 Solidlite Corporation Packaging of light-emitting diode
CN100359687C (zh) * 2002-06-28 2008-01-02 株式会社东芝 光耦合半导体器件及其制造方法
US20060018120A1 (en) * 2002-11-26 2006-01-26 Daniel Linehan Illuminator and production method
US6835960B2 (en) * 2003-03-03 2004-12-28 Opto Tech Corporation Light emitting diode package structure
US20040173808A1 (en) * 2003-03-07 2004-09-09 Bor-Jen Wu Flip-chip like light emitting device package
CN100587560C (zh) * 2003-04-01 2010-02-03 夏普株式会社 发光装置用组件、发光装置、背侧光照射装置、显示装置
DE602004003459T2 (de) * 2003-12-16 2007-03-15 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd., Kadoma Optischer Halbleiter und Verfahren zu seiner Herstellung
JP4991173B2 (ja) * 2005-04-27 2012-08-01 京セラ株式会社 発光素子搭載用基体ならびにこれを用いた発光装置

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07235696A (ja) * 1994-02-25 1995-09-05 Sharp Corp チップ部品型led及びその製造方法
JP2000082847A (ja) * 1998-09-04 2000-03-21 Matsushita Electronics Industry Corp 光電変換素子及びその製造方法
US20050014302A1 (en) * 2000-04-26 2005-01-20 Osram Opto Semiconductors Gmbh Radiation emitting semiconductor component with luminescent conversion element
JP2002252372A (ja) * 2001-02-26 2002-09-06 Nichia Chem Ind Ltd 発光ダイオード
JP2005079329A (ja) * 2003-08-29 2005-03-24 Stanley Electric Co Ltd 表面実装型発光ダイオード
JP2006190814A (ja) * 2005-01-06 2006-07-20 Hitachi Aic Inc 発光素子用の配線基板
JP2007109947A (ja) * 2005-10-14 2007-04-26 Toyoda Gosei Co Ltd 蛍光体板及びこれを備えた発光装置
JP2007149810A (ja) * 2005-11-25 2007-06-14 Kyocera Corp 発光素子用配線基板および発光装置
JP2007165502A (ja) * 2005-12-13 2007-06-28 Yamaichi Electronics Co Ltd 素子内蔵回路基板およびその製造方法

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013520807A (ja) * 2010-06-04 2013-06-06 フォーシャン・ネーションスター・オプトエレクトロニクス・カンパニー・リミテッド 表面実装パワーled支持物の製造方法および製品
US9157610B2 (en) 2010-06-04 2015-10-13 Foshan Nationstar Optoelectronics Co., Ltd. Manufacture method for a surface mounted power LED support and its product
JP2013544434A (ja) * 2010-11-05 2013-12-12 ヘレーウス マテリアルズ テクノロジー ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフト 多層基板のチップ組み込み式貫通コンタクト
JP2015079835A (ja) * 2013-10-16 2015-04-23 大日本印刷株式会社 光半導体装置、光半導体装置用リードフレーム、及びそれらの製造方法
JP2017098498A (ja) * 2015-11-27 2017-06-01 ローム株式会社 Led発光装置
JP2017157684A (ja) * 2016-03-02 2017-09-07 ローム株式会社 発光装置およびその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN101345283B (zh) 2010-09-01
CN101345283A (zh) 2009-01-14
US8134160B2 (en) 2012-03-13
US20090014749A1 (en) 2009-01-15
US8460951B2 (en) 2013-06-11
US20120115263A1 (en) 2012-05-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2009021426A (ja) チップ部品型led及びその製造方法
JP5052326B2 (ja) チップ部品型led及びその製造方法
JP4787783B2 (ja) アノダイジング絶縁層を有するledパッケージおよびその製造方法
JP3956965B2 (ja) チップ部品型発光装置及びそのための配線基板
US7335522B2 (en) Package structure for light emitting diode and method thereof
US20110278624A1 (en) Substrate for an optical device, an optical device package comprising the same and a production method for the same
TW201707189A (zh) 封裝基板及應用其之封裝結構
US20090108282A1 (en) Chip-type led and method for manufacturing the same
JPH07235696A (ja) チップ部品型led及びその製造方法
JP2011205147A (ja) Ledパッケージの製造方法
JP2007201361A (ja) 半導体装置及び半導体装置の製造方法
CN102054924A (zh) 用于光学元件的封装基板及其制造方法
JP2014072414A (ja) 発光装置
TW201304217A (zh) 發光二極體封裝結構及其製造方法
JP4822980B2 (ja) 電子部品搭載用基板および電子装置、ならびに電子装置の製造方法
JP2008016565A (ja) 発光素子収容体及びその製造方法、及び発光装置
JP4593201B2 (ja) チップ部品型発光装置及びそのための配線基板
JP2006190814A (ja) 発光素子用の配線基板
CN102136431B (zh) 发光二极管封装及其制作方法
JP2009260395A (ja) 配線基板及びその製造方法
JP2006165138A (ja) 表面実装型led
KR101815963B1 (ko) 칩 패키지 및 칩 패키지 제조방법
KR102325808B1 (ko) 반도체 발광소자 및 이의 제조방법
JP2006073842A (ja) 配線基板
JP2007027638A (ja) 発光装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090805

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110809

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110810

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20111006

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20111006

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20111213

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120307

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20120313

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120417

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120608

A912 Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912

Effective date: 20120706