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JP2008536095A - 流体濃度感知配置 - Google Patents

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Abstract

光学流体濃度センサを含む流体流動配列が開示される。一つの配列は、流体流動をセンサ窓に向かうあるいは当たる方向に向ける。一つの配列は、センサが感知する領域への光の侵入を阻止する。一つの配列は、混和流体を監視する複数のセンサを含む。すなわち、a)流入開口、流出開口、および前記流入開口と前記流出開口との間に配置された空洞を有する流動部材と、b)感知面が空洞と連通するように、流動部材に組み付けられた流体濃度センサであって、空洞は、流体が常に感知面と接触しているように、流体流動を感知面に当たる方向に向ける流体濃度センサとを備える、流体濃度感知配列が開示される。

Description

(関連出願)
本出願は、流体濃度センサのための配置に対する2005年2月11日に出願された米国仮特許出願第60/652,083号、流体濃度センサのための配置に対する2005年2月14日に出願された米国特許仮出願第60/652,650号、および流体濃度感知配置に対する2005年12月7日に出願された米国仮特許出願第60/748、817号の利益を請求し、それらの全体の開示が、参照により全体として明細書に含まれる。
(本発明の分野)
本発明は、流体濃度感知配置に関する。特に、本発明は、光学流体濃度センサを含む流体濃度感知配置に関する。
(発明の背景)
多くの工業および製造過程において、材料を加工するために流体(液体および気体)が使用される。これらの流体は、多くの場合、二種類以上の流体の混合物あるいは溶液である。流体を利用しておこなわれる過程の成否は、適当な流体濃度を有する溶液あるいは混合物にかかっている。この濃度を正確で効率的な方法で測定することは、工業および製造過程の成功につながる。
工業および製造過程は、多くの場合、要素を流体あるいは流体溶液に接触させることによる。かかる過程の例としては、要素への溶液蒸着により制御された化学反応を引き起こす過程、要素を流体の流れの中で洗浄あるいは濯ぐことにより、混入物質を除去するあるいは化学反応を停止させる過程が挙げられる。これらの過程では、過程内で流体あるいは溶液を特定の位置に方向付けるために、しばしば流体流動システムが必要となる。
(発明の要旨)
本出願の一つの側面によると、流体流動を流体濃度センサの感知面に向かうあるいは当たる方向に向ける流動部材を含む、流体濃度感知配列が提供される。結果として、流体は常に感知面に当たる方向に向き、流体が面に対して平行方向に移動するときに発生する境界条件が緩和、あるいは解消される。一実施例では、流動部材は、流体流動を感知面に向かうあるいは当たる方向に向ける略椀状空洞を含む。
本出願の別の側面によると、流体濃度感知配列は、感知範囲への光の侵入を阻止するよう位置付けられる不透明材料を備える。感知範囲への光の侵入を阻止することにより、流体濃度のより正確な測定が可能となる。
本出願の一つの側面は、流体混合システムに関する。一つの流体混合システムは、マニホールド部材、第一の流体制御弁、第一の流体濃度センサ、第二の流体制御弁、第二の流体濃度センサ、および混合流体濃度センサを含む。第一および第二の弁は、流体濃度センサからの入力に基づいて操作され、混和流体の濃度を制御してよい。
本出願の別の側面は、サファイア、サファイア結晶、ガラス、石英、あるいは光学品質プラスチック窓などの窓の流体濃度センサへの固定に関する。窓と流体濃度センサとの間の浮きあるいは相対運動を解消することにより、より正確な流体濃度測定が可能となる。
添付図面と併せて以下の説明と添付の請求項を検討することにより、当業者にはさらなる利益と利点が明らかとなる。
(発明の詳細な説明)
本発明は、流体濃度センサ12を含む流体濃度感知配列10に関する。図解される流体濃度センサ12は光学流体濃度センサであるが、いかなる種類の流体濃度センサも、開示される流体濃度感知配列の特長を利用してよいことは容易に理解される。使用してよい光学センサの種類には、型番TSPR2KXY−RのTI屈折率センサなどの屈折率センサがある。開示される流体濃度感知配列10は、流動部材20および流体濃度センサ12を含む。流体濃度センサ12は、センサの感知面17が流体19と連通するよう、流動部材20に組み付けられる(図7参照)。流体は、液体あるいは気体であってよい。
流体濃度センサ12は、さまざまな異なる方法で、流動部材20に組み付けてよい。図1〜3および図4〜6は、二つの典型的な取り付け配置を図解する。図解される取り付け配置は、利用可能な各種取り付け配置の例である。流体濃度感知面17を流体の近接に設置するいかなる取り付け配置も採用できる。図1〜3および図4〜6に図解される例では、光学液体濃度センサ12は、典型的な実施例ではサファイア結晶レンズである窓14を通して流体を感知するよう位置付けられる。窓14は、さまざまな異なる材料から作ることができる。窓は、屈折率感知を促進するいかなる材料からも作ることができる。窓14は、例えばサファイア、サファイア結晶、石英、光学レンズ品質プラスチック、任意の結晶材料、あるいは用途に適する任意の材料などから作ることができる。適切なセンサ窓材料を選択するために、さまざまな基準を利用してよい。これらの要素は、窓に接触する流体に対し、窓材料がどの程度不活性か、窓材料の費用、および/または窓材料の光学性能を含むが、これに限定されない。一つの実施例では、窓は、ガラス層に接合されるガラス層およびサファイア層を含む。例えば、素材の流体濃度センサは、通常、ガラス感知窓を備えてよい。より幅広い環境でセンサが使用できるように、サファイア窓などのより化学的に不活性な窓をガラス窓に接合してよい。別の実施例では、サファイア窓などのより化学的に不活性な窓は、ガラス窓を使用せず、流体濃度センサに直接組みつけてよい。例えば、サファイア窓は、流体濃度センサの封止材料に接合してよい。封止材料は、ポリカーボネート材料であってよい。
窓14は、流体が接触する感知面17を定める。窓14は、液体濃度センサ12に固定してよい。窓を濃度センサに固定することで、センサに対する窓の浮きが解消される。その結果、窓あるいはレンズ14が動くことで引き起こされる測定誤差が解消される。窓14は、さまざまな異なる方法でセンサに固定してよい。例えば、接着剤を使用して、窓をセンサに固定してよい。容認される接着剤には、紫外線硬化光学グレードエポキシなどのエポキシがある。容認される接着剤の一つとしてHYSOL OS1102があるが、これはサファイア層をガラス層に接合するために使用することができる。一つの実施例では、窓14とセンサ12との間の接合部全体が接着剤で覆われる。
センサ12および付着された窓14は、筐体16に設置される。一つの実施例では、筐体16とセンサ12との間の容積は、封止材料により充填される。さまざまな異なる封止材料が使用できる。例えば、入手可能な各種誘電性、熱伝導性の封止材料が使用できる。誘電性、熱伝導性の封止材料の例としては、Loctite Corporationから入手可能なウレタンの誘電性封止材料がある。筐体16は、流動部材20に連結される。図解される流動部材20は、流入開口23、流出開口25、および流入開口と流出開口との間に配置される感知空洞32を定める。筐体16は、窓14を空洞に接触させるように連結されてよく、それによりセンサ12は空洞で流体19を感知することができる。
流体が筐体16に侵入するのを防ぎ、センサ12などの内部要素を保護することは、多くの適用において有益である。流体流動が筐体内に侵入するのを防ぐ方法の一つとして、筐体16と窓14との接合部にシールを形成して、流体の流れが筐体16に侵入するのを阻止する方法がある。典型的な実施例では、筐体16と流動部材20との連結は、筐体16を流動部材20に連結する力の大部分が筐体16および流動部材20に加えられ、力のごく一部が窓14に加えられるよう構成される。窓14に加えられる力は、窓14にダメージを与えないが、窓14と弁本体20との間に確実なシールを提供するのに十分である。
図2および3に図解される例では、筐体接合部部材22および流動要素接合部部材24は、窓14を適切な位置と調整に保持する。筐体接合部部材22は、中にセンサ12が位置付けられるスロット26を含む。流動要素接合部部材は、流動部材の凹所31内に収まるように寸法が決められるリングであり、窓14を受け入れる凹所33を有する。凹所の高さは、窓14の厚さよりやや小さくてよい。この差異は、窓に加えられる力をもたらし、流動要素接合部部材と窓との間におけるシールの形成を助ける。筐体16を弁本体20に固定する連結力の大部分は、窓14を通して伝達される連結力の一部とともに、筐体接合部部材22および流動要素接合部部材24を通して伝達される。窓を通して伝達される力の量は、凹所の深度、あるいは接合部部材が作られる材料を変更することにより調整できる。接合部部材22および24は、シールが作成でき、力が伝達できるいかなる材料も可能である。材料は、例えば、テフロン(登録商標)として一般に知られるポリテトラフルオロエチレン(PTFE)であってよい。
一つの実施例では、窓14と空洞との間に保護材料の層を設置してよい。この材料は、テフロン(登録商標)など、いかなる透明あるいは半透明材料であってもよい。保護材料の層は、腐食性である可能性がある化学薬品から窓14を保護し、接合部部材22および24によって作成されるシールを強化してよく、より小さい力を窓14に加えてシールを作成することができる。
流動部材20は、基部34に連結されてよい。基部34は、流体濃度感知配列10を、従来の方法で、都合よく、流体流動システム内の位置に固定させることができる。
取り付け配置の二つ目の例は、図4〜6に示される。Oリング28は、力を筐体16から窓14へと伝達して窓を接合部部材24に押し付け、これらの間にシールを作成する。接合部部材24は、窓14と筐体16によって流動部材に押し付けられ、流動部材と接合部部材との間にシールを作成する(図5A参照)。筐体16と流動部材20とを連結する力の大部分は、筐体16から接合部部材24へと直接伝達される。例では、筐体16は、接合部部材をかみ合わせるアニュラリングを定める。力の小さい方の部分は、Oリング28を通して伝達される。アニュラリング、接合部部材24、およびOリング28の寸法と材料を変更して、Oリングと窓を通して伝達される力の量を設定することができる。Oリング28は、力を吸収し、窓あるいはレンズ14を保護する弾性部材である。
図7および8を参照すると、本出願の一つの側面は、流体50を流体濃度センサ12の感知面17に向かうあるいは当たる方向に流れるように方向付けることに関する。結果として、流体50は常に感知面17に当たる方向に向き、流体が面に対して平行方向に移動するときに発生し、感知面との常時の接触を阻止する可能性がある境界条件を緩和あるいは解消する。図7および8に図解される例では、流動部材20は、流入口路23、流出口路25、および流入口路と流出口路との間にあり、流体流動を感知面に向かうあるいは当たる方向に向ける略椀状空洞32を含む。典型的な実施例では、一部の流体は、感知面に対して略横断方向に、感知面17に向かって方向転換する。図7〜9に図解される椀状空洞32は、採用してもよいさまざまな異なる空洞形状のうちの一例に過ぎない。事実上、流体流動を感知面と平行ではなく、感知面に向かうあるいは当たる方向に向けるいかなる空洞形状も使用してよい。典型的な実施例では、センサ12は、感知面17に向けられた流体の濃度を測定する。
図7は、流動部材20の椀状空洞32における流動パターン概略である。ライン54は、流動部材20を通る流体流動を図解する。矢印56は、流動部材20を通って流れる流体の速度を表す。より大きい矢印56はより速い流体流動を示し、より小さい矢印はより遅い流体流動を示す。図7は、流体50の大部分は流入口23から流出口25へ直接流れ、この流体の流動が比較的速い様子を図解する。流体50の部分56は、空洞内で感知面17に向かって流れる。この流体は空洞内で循環し、徐々に流出口から流出する。感知面17に向かう流体の流動と空洞内での流動の循環は、流入口23から流出口25への直接の流動よりもかなり遅い。典型的な実施例では、センサは流体の動作の遅い部分における屈折度を測定する。動作の遅い流体を測定することで、センサが流体の濃度を測定する精度が向上する。
図8は、椀状空洞32を有する流動部材20における流動パターンの別の図解である。異なる斜交平行パターン62、64、66、68は、流動装置における異なる流体速度範囲を表す。パターン62および64は、図7に示すように、流体が感知面17に向けられる領域にある椀空洞32内に位置する。パターン62および64は、比較的遅い速度を表す。一例では、パターン62は毎秒0〜5フィートの流体流動の速度範囲を表し、パターン64は毎秒5〜10フィートの流体流動の範囲を表す。パターン66および68は、比較的速い速度を表す。例では、パターン66は毎秒10〜20フィートの流体流動の速度範囲を表し、パターン68は毎秒20フィートを超える流体流動速度を表す。図8に図解される例では、流体速度は100lbf/in以下の流入口圧力に対応してよい。例えば、流入口圧力は、約80lbf/inであってよい。一例では、センサの感知面における5ミリメートルの範囲内の椀状空洞32での流動は、毎秒10フィート以下である。典型的な実施例では、圧力が空洞32内で維持され、流体は常に感知面と接触している。
光学センサ12による濃度測定の精度は、一部の流体の流れがセンサ12により可視となる時間が増加し、可視流体の速度が低下すると向上する。深い空洞32あるいは椀を有する流動部材20は、一部の流体の流れがセンサ12により可視となる時間を増加し、センサにより可視となる流体の速度を低下させる。それにより、深い椀状空洞は、センサ12によって観測される濃度の精度を向上させる。深い椀状空洞を有する流動部材の例としては、Brownによりサニタリーダイヤフラム弁について米国特許第6,394,417号に開示され、2002年5月28日に特許された(以下‘417号特許とする)弁本体、およびRasanowによりサニタリーダイヤフラム弁について米国特許第6,123,320号に開示され、2000年9月26日に特許された(以下‘320号特許とする)弁本体があるが、これらはこの参照により開示に含まれる。‘417号特許および‘320号特許により開示される弁本体は、ここに述べる流動部材として使用してよい。弁本体の深い椀形状は、椀内を循環する一部の流体が椀から流出する時間を増加させるため、一部の流体の流れがセンサ12によって可視となる時間を増加させる。開示され上記に挙げた参考文献に組み込まれる深椀状弁は、比較的占有面積が小さい。これにより、流体濃度アセンブリの流体流動システム内での配置が柔軟におこなえる。
図9〜15を参照すると、本出願の別の側面は、感知範囲82への光の侵入を阻止するよう位置付けられる不透明材料80を備える流体濃度感知配列である(図12および13)。図12および13は、不透明材料が位置付けられる、流動部材20および筐体16における異なる位置の例を図解する。不透明材料80は、図12および13に図解される位置以外に適用してもよい。さらに、いくつかの実施例では、不透明材料は、図12および13に図解される全ての位置に適用しなくてもよい。一つの実施例では、カーボンブラック顔料を添加して流動部材を不透明とする。筐体16は、ポリプロピレン材料から作られてよい。流動部材は、PTFE(テフロン(登録商標))材料から作られてよい。不透明材料は、筐体16および/または流動部材の表面に適用することができる。感知範囲82への光の侵入を阻止することにより、より正確に流体濃度が測定される。
図9〜15に図解される例では、流体濃度感知配列10は、流動部材20、流体濃度センサ12、筐体16、および不透明材料80を含む(図12〜15参照)。この出願では、不透明材料という表現は、センサ12の測定に影響する可能性がある光線が感知範囲82内を通過するのを阻止する材料を意味する。光線は、人の目に可視であっても、そうでなくてもよい。図9〜15は、感知範囲への光の侵入を阻止するよう、流体濃度感知配列に適用される不透明材料の例を図解する。図9〜15の例は、不透明材料を適用することができるさまざまな異なる方法の一部に過ぎない。不透明材料は、流体濃度感知配列10の一つ以上の要素に対し、あらゆる方法で、また感知範囲への光の侵入を阻止するあらゆる位置に提供することができる。図9〜15に図解される例では、流動部材20は、少なくとも部分的に半透明の材料84から作られてよい(図12および13参照)。不透明材料は、センサ12の測定に影響を与える可能性がある光が空洞に侵入するのを阻止するよう位置付けられる。図9〜13に図解される例では、不透明材料80は、流動部材20および筐体16あるいはボンネットに適用される。
一つの実施例では、不透明材料は、流動部材20および筐体16あるいはボンネットのうち一つのみに適用されてよい。例えば、図9〜13に図解される筐体16あるいはボンネットは、流動部材20を囲む不透明材料80を有するシュラウド部分86を含む。例では、シュラウド部分86に適用される不透明材料80は、流動部材80に不透明材料80を適用する必要性を排除してよい。同様に、流動部材20に適用される不透明材料は、筐体に不透明材料を適用する必要性を排除してよい。
図14に図解される例では、不透明材料80は、流動部材20の流入口23あるいは流出口に連結される不透明導管88を含む。不透明導管88は、流体濃度感知配列10の感知範囲への光の侵入を阻止する。図15に図解される例では、導管90は少なくとも部分的に半透明の材料から作られてよく、流入開口に連結される。不透明材料80は、導管に適用される。不透明塗装を含む導管90は、流体濃度感知配列10の感知範囲への光の侵入を阻止する。
図16を参照すると、本開示の別の側面は、流体の混合を制御するための、流体流動システム100内の流体濃度感知アセンブリ10の使用である。多数の機能を果たすよう、複数の流体濃度感知アセンブリ10を流体流動システム内に設置してよい。例えば、複数の流体濃度感知アセンブリを、流体溶液または混和物の濃度を測定するために流れの中の異なる位置に設置し、許容できる比率の範囲内にない濃度を補正するために分析することができる。図16に図解される例では、二つの流体102および104は、混合弁105によって混和される。流体は、いかなる応用において使用される流体であってもよい。例えば、流体は工業および製造過程で使用されてよい。流体濃度感知アセンブリ10は混合弁下流の位置106に位置付けられ、流体102および/または流体104の濃度を測定する。測定は論理処理装置108に中継される。流体102および104の混和物の濃度が許容範囲あるいは比率にない場合、論理処理装置は、流体の流れへの接近を制御する下流の三方弁110に命令を送ることができる。この命令により、適切な量の流体102あるいは流体104を流体の流れに追加して、流体102および流体104の比率を許容範囲とするよう、弁に指示することができる。第二の流体濃度感知配列10は、三方弁下流の位置112に位置付けられ、同様に流体102および/または流体104の濃度を測定する。測定は、流体の流れの濃度が適正であることを検証するために、論理処理装置108に中継される。濃度が適正でない場合、論理処理装置は、下流の誘導弁114に命令を中継して流体の流れを過程の経路から方向転換あるいは排除し、製造過程でのエラーを防止する。
図17〜21および22〜25は、流体混合システム200の二つの例を図解する。図17〜21に図解される流体混合システム200は、マニホールド部材202、第一の流体制御弁204、第一の流体濃度センサ206、第二の流体制御弁208、第二の流体濃度センサ210、および混合流体濃度センサ212を含む。図17〜21に図解される例では、制御弁204および208は、マニホールド部材202から分離している。図21は、マニホールド部材202により定められる流動路を概略的に図解している。マニホールド部材は、第一の流体流入口路、第二の流体流入口路、および混合流体流出口路と流体連通する、第一の流体流入口路214、第二の流体流入口路216、混合流体流出口路218、および混合空洞220を定める。第一の流体制御弁204は、第一の流体の第一の流体流入口路214への流動を制御する。第一の流体濃度センサ206は、第一の流体流入口路214を通って流れる第一の流体の濃度を測定する。第二の流体制御弁208は、第二の流体の第二の流体流入口路216への流動を制御する。第二の流体濃度センサ210は、第二の流体流入口路を通って流れる第二の流体の濃度を測定する。混合流体濃度センサ212は、混合空洞220で混合された流体の濃度を測定する。制御装置230は、流体濃度センサ206、210、212、および弁204、208と連通する。制御装置230は、第一の流体濃度センサ206、第二の流体濃度センサ210、および混合流体濃度センサ212が提供する濃度信号に基づき、第一の流体制御弁204および第二の流体制御弁208を操作する。制御弁204および208が制御され、混合物内の第一および第二の流体の濃度を制御する。
図21を参照すると、マニホールド部材202は、第一の流入口路214、第二の流入口路216、第一のセンサ空洞240、第二のセンサ空洞242、混合空洞220、および第三のセンサ空洞244を定める。図20は、第三のセンサ空洞244および混合空洞220を図解する。典型的な実施例では、センサ空洞240および242は、空洞244と実質的に同様であるため、図20での図示あるいは詳細説明を省く。センサ空洞244は略椀状である。ただし、センサ空洞は、流体を感知面17に向かうあるいは当たる方向に向かせる形状を含み、流体濃度を測定できるいかなる形状であってもよい。図解される混合空洞220も、略椀状に示される。ただし、図解される混合空洞は、空洞220に流入する流体の混合に対し伝導性のあるいかなる形状であってもよい。図21を参照すると、流入口弁204および208は、第一および第二の流入口路214および216に連結される。流体濃度センサ206および210は、第一および第二のセンサ空洞242および244と流体連通するよう位置付けられる(図20におけるセンサ12の位置決め例参照)。図21を参照すると、第一および第二の流体は、第一および第二の流入口路214および216から、第一および第二のセンサ空洞240および242に流入し、流体濃度センサ206および210が第一および第二の流体の濃度を測定する。第一および第二の流体は、第一および第二のセンサ空洞240および242から混合空洞220に流入し、流体が混合する。図解される実施例では、別個の混合および第三のセンサ空洞220および244が含まれる。一つの実施例では、第三のセンサ空洞244は混合空洞としての役割を果たし、空洞220は省かれる。第三のセンサ空洞244において、一つ以上の流体濃度が、混合流体センサ212により測定される。
図22〜25は、弁204および208の室がマニホールド部材202により定められる、流体混合システム200の例を図解する。図25を参照すると、マニホールド部材202は、第一の弁流入口路250、第一の弁室252、第一の流入口路214、第二の弁流入口路254、第二の弁室256、第二の流入口路216、第一のセンサ空洞240、第二のセンサ空洞242、混合空洞220、および第三のセンサ空洞244を定める。弁流入口路250および254は、弁室252および256と流体連通である。弁室252および256は、流入口路214および216と流体連通である。図23を参照すると、典型的な流入口弁208の断面図が示される。流入口弁204は流入口弁208と実質的に同様であるため、流入口弁204については詳細を記述しない。流入口弁208は、マニホールド部材202内に定められる弁室252と、マニホールド部材202に組み付けられるシーリングアセンブリ260とによって定められる。図23は、使用できるさまざまな異なるシーリングアセンブリおよび弁空洞の配列のうち一例を図解する。例では、シーリングアセンブリ260は、弁アクチュエータ262およびダイヤフラム264を含む。実施例では、アクチュエータ262はエアアクチュエータであるが、いかなる適当な弁アクチュエータも使用してよい。弁アクチュエータ262は、アクチュエータ筐体268内で軸方向に移動し、弁室252でダイヤフラム264を動作させるアクチュエータピストン266を含む。図解されるダイヤフラム264は、弁流入口路254と第二の濃度センサ流入口路216との流体連通を開閉するために流入口路254を開閉する、ステムチップ270を含む。シーリングアセンブリ260として使用するよう構成されてよい弁配列、および弁空洞の構成のさらなる詳細は、Browneらにより米国特許第6,394,417号に開示されるが、これはこの参照により全体として開示に含まれる。図22〜25の例ではマニホールドと一体化している流入口弁204および208は、流体を選択的に第一および第二の流入口路214および216へと流す。図24を参照すると、流体濃度センサ210は、第一および第二のセンサ空洞242と流体連通するよう位置付けられる。濃度センサは、空洞240および244に対し同様に配置される。図25を参照すると、第一および第二の流体は、第一および第二の流入口路214および216から第一および第二のセンサ空洞240および242内へと流れ、流体濃度センサ206および210が第一および第二の流体の濃度を測定する。第一および第二の流体は、第一および第二のセンサ空洞240および242から混合空洞220へと流れ、流体が混合される。図解される実施例では、別個の混合および第三のセンサ空洞220および244が含まれる。一つの実施例では、第三のセンサ空洞244は混合空洞としての役割を果たし、空洞220は省かれる。第三のセンサ空洞244において、一つ以上の流体濃度が、混合流体センサ212により測定される。
典型的な実施例では、センサ206、210、および212は、制御装置230と連通するよう設計される。センサは測定情報を制御装置に中継し、制御装置は測定情報を処理し、弁204および208に制御命令を出す。図17〜25に図解される例は、二つの流体の混和を制御する混和システム200を示す。混和システム200は、任意の数の流体の混和を制御するよう拡張できる。
マニホールド部材は、さまざまな異なる材料から作られてよい。混和システムを適用するために、マニホールド部材が作られる材料を選択してよい。一つの実施例では、マニホールド部材202は、SC1(過酸化水素/アンモニア水浴)およびSC2(過酸化水素/塩化水素水浴)など、半導体産業で使用される洗浄溶液に接触した時に実質的に不活性な材料から作られる。半導体産業で使用される多種の洗浄溶液に接触した時に実質的に不活性な材料の例としては、PTFE(ポリテトラフルオロエチレン)(Teflon(登録商標))あるいはPFA(Perfluoroalkoxy)が挙げられるが、これらに限定されない。典型的な実施例では、マニホールド部材は単一ブロックあるいは単一片の材料から作られる。
本発明の別の典型的な実施例では、流体濃度感知配列は、屈折媒質として使用される流体の光学特性を検知するよう構成されてよい。かかる適用の一例としては、例えば脱イオン水などの液体屈折媒質を光学リソグラフィシステムの屈折レンズとシリコンウエハとの間に使用し、光学リソグラフィシステムによって生成されるレーザなどの放射光によってエッチングする方法が挙げられる。ICKnowledge.comのTechnology Backgrounder:Immersion Lithographyにさらに詳細が記される、液浸リソグラフィの開発、あるいは光学リソグラフィシステムにおける液体屈折媒質の使用は、屈折媒質の屈折率を増加させることにより、半導体ウエハ上に印刷あるいはエッチングされる形状の解像度を向上させる取り組みによりもたらされてきた。かかる適用では、屈折媒質中の混入物質あるいは不純物の存在は、レーザエッチング作業を妨げ、ウエハ上にエッチングされる形状のエラーや不一致をもたらす。
図26は、液浸リソグラフィにおいて光学センサ312を使用して浸液305の光学特性を感知する実施例を図解する。図26は、液浸リソグラフィ配列299の例を概略的に図解する。ただし、センサ312を液浸リソグラフィ配列において使用し、浸液305の光学特性を判断することができる。液浸リソグラフィ配列の例は、ICKnowledge.com「Technology backgrounder:Immersion Lithography」(2003)、およびSwitckesらによるMicro Lithography World4ページ「Immersion Lithography:Beyond the 65nm node with optics」(2003年5月)に開示される。図26に図解される例では、半導体ウエハなどのウエハあるいは基板300は、脱イオン水などの液体305に浸漬される。光学リソグラフィ暴露源308のエッチングレンズ307は、基板300の表面301から距離をおいて屈折液305に浸され、あるいは接触させられ、図解される実施例でエッチングされる。暴露源は、クリプトンフッ素エキシマレーザなどのレーザを照射し、基板表面301をエッチングするよう構成される。同様に光学センサ312は、図解される実施例において、基板表面301から距離をおいて屈折流体305に浸される。センサは、液体の光学特性を感知できる限り、レンズおよび基板に対しどの位置にも設置できる。光学センサ312を使用して、流体の純度あるいは混入物質の存在に関する液体305の光学特性を検知してよい。一つの実施例では、光学センサ312は、上記実施例に記される屈折率センサ12を含むがこれに限定されない、屈折率センサである。センサ312は、上記実施例に記される屈折率感知配列10のうちいずれかなどの屈折率感知配列の部分を形成する。屈折率センサは、液体中の混入物質あるいは不純物の蓄積によって発生する液体305の屈折率の経時的変化を検知するよう構成されてよい。屈折率センサは、検知した流体305の屈折率を所定の限界値と比較し、それにより、屈折流体の不純物により基板300が不適当にエッチングされる前に、屈折流体305を浄化あるいは交換する必要を通告してよい。
図26に図解される配列は、半導体基板のエッチング方法で使用してよい。この方法では、基板300は液体305に浸漬される。放射光が液体を通して照射され、基板表面をエッチングする。屈折流体中の不純物の存在に関する液体の光学特性が測定される。測定された光学特性は、液体中の混入物質の限界量に関連する所定の限界値と比較される。所定の限界値に達すると、混入物質の限界量に達したことを示す信号が提供される。
上述の実施例は、本発明の側面を表し、例として示されるが、本発明の側面の実施についての包括的な説明ではないことは明らかである。
本発明のさまざまな側面は、典型的な実施例において組み合わせで具体化され、本文書に記述あるいは図解されるが、これらさまざまな側面は、個々に、あるいはその各種組み合わせまたは組み合わせの構成要素で、多数の代替実施例において実施されてよい。ここで明確に除外されない限り、かかる組み合わせおよび組み合わせの構成要素は、本発明の要旨の範囲内であると意図される。さらに、代替材料、構成、構造、方法、装置、ソフトウェア、ハードウェア、制御論理など、本発明のさまざまな側面および特長に関するさまざまな代替実施例がここに記述されるが、かかる記述は、現在知られているか今後開発されるかに関わらず、可能な代替実施例の完全あるいは包括的な一覧ではない。当業者は、本発明の要旨の範囲内で、本発明の側面、概念、あるいは特長のうち一つ以上を、ここに明確に開示されないさらなる実施例にも容易に採用してよい。さらに、本発明の特長、概念、あるいは側面が、好ましい配列あるいは方法としてここに記述されるが、かかる記述は、明確にそう定められない限り、かかる特長が要求されるあるいは必要であることを意図しない。さらに、本発明への理解を容易にするために、典型的あるいは代表的な値および範囲が含まれるが、かかる値および範囲は、限定的な意味で解釈されず、明確にそう定められる場合のみ、重大な値あるいは範囲であることを意図する。
図1は、流体濃度感知配列の透視図である。 図2は、図1においてライン2−2に示される平面に沿って切断した断面図である。 図3は、流体濃度感知配列の分解透視図である。 図4は、流体濃度感知配列の透視図である。 図5は、図4においてライン5−5に示される平面に沿って切断した断面図である。 図5Aは、図5Aの拡大部分である。 図6は、流体濃度感知配列の分解透視図である。 図7は、流体濃度感知配列の流動部材を通る流体流動の図である。 図8は、流体濃度感知配列の流動部材を通る流体流動の図である。 図9は、流体濃度感知配列の透視図である。 図10は、流体濃度感知配列の立面図である。 図11は、流体濃度感知配列の立面図である。 図12は、図10においてライン12−12に示される平面に沿って切断した断面図である。 図13は、図11においてライン13−13に示される平面に沿って切断した断面図である。 図14は、流体濃度感知配列と付随する導管の立面図である。 図15は、流体濃度感知配列と付随する導管の立面図である。 図16は、流体混合システムの概略図である。 図17は、流体混合システムの平面図である。 図18は、図17におけるライン18−18に沿って切断した図である。 図19は、図18におけるライン19−19に沿って切断した図である。 図20は、図19においてライン20−20に示される平面に沿って切断した断面図である。 図21は、図17に図解される流体混合システムの流動経路の概略図である。 図22は、流体混合システムの平面図である。 図23は、図22においてライン23−23に示される平面に沿って切断した、図22に示す弁の断面図である。 図24は、図22においてライン24−24に示される平面に沿って切断した、図22に示す流体濃度感知配列の断面図である。 図25は、図22によって図解される流体混合システムの流動経路の概略図である。 図26は、流体純度感知配列の概略図である。

Claims (44)

  1. a)流入開口、流出開口、および前記流入開口と前記流出開口との間に配置された空洞を有する流動部材と、
    b)感知面が前記空洞と連通するように、前記流動部材に組み付けられた流体濃度センサであって、前記空洞は、流体が常に前記感知面と接触しているように、流体流動を前記感知面に当たる方向に向ける流体濃度センサと
    を備える、流体濃度感知配列。
  2. a)流入開口、流出開口、および前記流入開口と前記流出開口との間に配置された、略椀状空洞を有する流動部材と、
    b)感知面が前記椀状空洞と連通するように、前記流動部材に組み付けられた流体濃度センサであって、前記椀状空洞は、流体流動を前記感知面に向ける流体濃度センサと、
    を備える、流体濃度感知配列。
  3. 前記略椀状空洞は、前記感知面における5ミリメートルの範囲内での前記流体の最高速度が毎秒10フィート未満となるように、前記流体流動を方向付ける、請求項1に記載の流体濃度感知配列。
  4. 前記略椀状空洞は、前記流入口における圧力が100lbf/in未満のときに、前記感知面における5ミリメートルの範囲内での前記流体の最高速度が毎秒10フィート未満となるように、前記流体流動を方向付ける、請求項1に記載の流体濃度感知配列。
  5. 前記略椀状空洞が、流体流動を、前記感知面を横断する方向に向ける、請求項1に記載の流体濃度感知配列。
  6. a)流入開口、流出開口、および前記流入開口と前記流出開口との間に配置された空洞を有する流動部材と、
    b)感知面が前記空洞と連通するように、前記流動部材に組み付けられた流体濃度センサであって、前記空洞は、前記感知面における5ミリメートルの範囲内での前記流体の最高速度が毎秒10フィート未満となるように、流体流動を前記感知面に対して横断する方向に向ける、流体濃度センサと
    を備える、流体濃度感知配列。
  7. 前記略椀状空洞が、前記流入口における圧力が100lbf/in未満のときに、前記感知面における5ミリメートルの範囲内での前記流体の最高速度が毎秒10フィート未満となるように、前記流体流動を方向付ける、請求項6に記載の流体濃度感知配列。
  8. a)略椀状面を備える流体流動を流体濃度センサの感知面に向けるステップと、
    b)前記椀状面により前記感知面に向けられた前記流体の濃度を、前記流体濃度センサにより測定するステップと
    を含む、流体濃度の測定方法。
  9. 前記感知面付近での前記流体の最高速度が毎秒10フィート未満である、請求項8に記載の方法。
  10. 前記感知面における5ミリメートルの範囲内での前記流体の最高速度が毎秒10フィート未満である、請求項8に記載の方法。
  11. 前記流入口における圧力が100lbf/in未満のときに、前記感知面における5ミリメートルの範囲内での前記流体の最高速度が毎秒10フィート未満である、請求項8に記載の方法。
  12. 前記略椀状面が、流体流動を、前記感知面を横断する方向に向ける、請求項8に記載の方法。
  13. a)流体濃度センサの感知面方向に、前記感知面に対して横断する方向で流体流動を向けるステップであって、前記感知面における5ミリメートルの範囲内での流体の最高速度が毎秒10フィート未満である、ステップと、
    b)前記感知面に向けられた前記流体の濃度を、流体濃度センサにより測定するステップと
    を含む、流体濃度の測定方法。
  14. 前記流入口における圧力が100lbf/in未満のときに、前記感知面における5ミリメートルの範囲内での前記流体の最高速度が毎秒10フィート未満である、請求項8に記載の方法。
  15. a)流入開口、流出開口、および前記流入開口と前記流出開口との間に配置された空洞を有する、少なくとも部分的に半透明の材料から作られる流動部材と、
    b)感知面が前記空洞と連通するように、前記流動部材に組み付けられる流体濃度センサと、
    c)前記空洞への光の侵入を阻止するよう位置付けられる不透明材料と
    を備える、流体濃度感知配列。
  16. 前記不透明材料が前記流動部材に適用される、請求項15に記載の流体濃度感知配列。
  17. 少なくとも部分的に半透明の材料から作られる導管が、前記流入開口と連結され、前記不透明材料が前記導管に適用される、請求項15に記載の流体濃度感知配列。
  18. 前記流体濃度センサを覆うボンネットをさらに備え、前記不透明材料が前記ボンネットに適用される、請求項15に記載の流体濃度感知配列。
  19. 前記ボンネットが、前記流動部材を少なくとも部分的に囲む不透明材料を有するシュラウド部分を含む、請求項18に記載の流体濃度感知配列。
  20. 前記不透明材料が、前記流入開口に連結される不透明導管を含む、請求項15に記載の流体濃度感知配列。
  21. a)少なくとも部分的に半透明の材料を通って、流体濃度センサの感知範囲に達する流体流動を提供するステップと、
    b)周辺光が前記少なくとも部分的に半透明の材料を透過して、前記感知範囲に侵入するのを阻止するステップと、
    c)前記感知範囲において、前記流体の濃度を測定するステップと
    を含む、流体濃度の測定方法。
  22. a)マニホールド部材であって、
    i)第一の流体流入口路と、
    ii)第二の流体流入口路と、
    iii)混合流体流出口路と、
    iv)前記第一の流体流入口路、前記第二の流体流入口路、および前記混合流体流出口路と流体連通する混合空洞と、
    を定めるマニホールド部材と、
    b)前記マニホールド部材に組み付けられた、第一の流体が前記第一の流体流入口路に流れるのを制御するための第一の流体制御弁と、
    c)前記マニホールド部材に組み付けられた、前記第一の流体流入口路を通って流れる前記第一の流体の濃度を測定するための第一の流体濃度センサと、
    d)前記マニホールド部材に組み付けられた、第二の流体が前記第二の流体流入口路に流れるのを制御するための第二の流体制御弁と、
    e)前記マニホールド部材に組み付けられた、前記第二の流体流入口路を通って流れる前記第二の流体の濃度を測定するための第二の流体濃度センサと、
    f)前記マニホールド部材に組み付けられた、前記混合空洞で混合された流体の濃度を測定するための混合流体濃度センサと
    を備える、流体混合システム。
  23. 前記第一の流体制御弁、前記第二の流体制御弁、前記第一の流体濃度センサ、前記第二の流体濃度センサ、および前記混合流体濃度センサと連通する制御装置をさらに備え、前記制御装置は、前記第一の流体濃度センサおよび前記第二の流体濃度センサにより提供される濃度信号に基づき、前記第一の流体制御弁および前記第二の流体制御弁を操作する、請求項22に記載の流体混合システム。
  24. 前記第一の流体制御弁、前記第二の流体制御弁、前記第一の流体濃度センサ、前記第二の流体濃度センサ、および前記混合流体濃度センサと連通する制御装置をさらに備え、前記制御装置は、前記第一の流体濃度センサ、前記第二の流体濃度センサ、および前記混合流体濃度センサにより提供される濃度信号に基づき、前記第一の流体制御弁および前記第二の流体制御弁を操作する、請求項22に記載の流体混合システム。
  25. 前記マニホールドが単一ブロックの材料から構成される、請求項22に記載の流体混合システム。
  26. 前記マニホールドが単一ブロックの材料から構成され、前記第一の流体制御弁の弁口が前記ブロックに定められる、請求項22に記載の流体混合システム。
  27. 前記マニホールドが単一ブロックの材料から構成され、前記第一の流体制御弁が、前記ブロックに定められる流路を有するダイヤフラム弁である、請求項22に記載の流体混合システム。
  28. 前記第一の流体が過酸化水素とアンモニアの溶液であり、前記第二の流体が過酸化水素と塩化水素の溶液であり、前記マニホールドは、前記第一および第二の流体に接触した場合に実質的に化学的に不活性な材料から作られる、請求項22に記載の流体混合システム。
  29. 前記第一の流体濃度センサ、前記第二の流体濃度センサ、および前記混合流体濃度センサが、光学流体濃度センサである、請求項22に記載の流体混合システム。
  30. 前記第一の流体濃度センサ、前記第二の流体濃度センサ、および前記混合流体濃度センサが、屈折率を測定して流体濃度を判断する、請求項22に記載の流体混合システム。
  31. a)第一の流体の濃度を測定するステップと、
    b)第二の流体の濃度を測定ステップと、
    c)前記第一および第二の流体を混合するステップと、
    d)前記第一および第二の流体の混合物の濃度を測定するステップと、
    e)前記第一の流体、前記第二の流体、および前記混合物の濃度に基づき、前記第一および第二の流体が混合するよう流れを制御するステップと
    を含む、流体を混和するための方法。
  32. 前記第一および第二の流体が気体である、請求項31に記載の方法。
  33. 各流体の光学特性を測定することにより、前記流体の濃度が測定される、請求項31に記載の方法。
  34. 各流体の屈折率を測定することにより、前記流体の濃度が測定される、請求項31に記載の方法。
  35. 前記第一の流体がSC1であり、前記第二の流体がSC2である、請求項31に記載の方法。
  36. a)流入開口、流出開口、および前記流入開口と前記流出開口との間に配置された空洞を有する流動部材と、
    b)前記流動部材に組み付けられた流体濃度センサと、
    c)前記空洞と連通するように、前記流体濃度センサに固定された結晶窓と
    を備える、流体濃度感知配列。
  37. 前記結晶窓が前記流体濃度センサに接着されている、請求項36に記載の流体濃度感知配列。
  38. 前記結晶窓が、紫外線硬化性シーラントで前記流体濃度センサに固定されている、請求項36に記載の流体濃度感知配列。
  39. 前記結晶窓がサファイアを含む、請求項36に記載の流体濃度感知配列。
  40. a)流体濃度センサをサファイア窓に固定するステップと、
    b)前記流体濃度センサおよびサファイア窓を、前記サファイア窓が前記椀状空洞と連通するように、流入開口、流出開口、および前記流入開口と前記流出開口との間に配置された略椀状空洞を有する流動部材に固定するステップと
    を含む、流体濃度感知配列の組み立て方法。
  41. 液体と、
    前記液体に浸漬された基板と、
    前記液体に浸漬され、前記基板にパターンをエッチングするよう配列された光学リソグラフィ・エッチング・レンズと、
    前記液体に浸漬され、前記液体の特性を検知する光学センサと
    を備える、液浸リソグラフィ・エッチング配列。
  42. 前記光学センサが屈折率センサである、請求項42に記載のエッチング配列。
  43. 前記光学センサが、前記流体の不純物を検知するよう構成されている、請求項42に記載のエッチング配列。
  44. 基板を液体に浸漬するステップと、
    前記液体を通して放射光を照射し、前記基板の表面をエッチングするステップと、
    光学特性が前記屈折する流体中の前記不純物の存在に関する、前記液体の光学特性を検知するステップと、
    前記光学特性を、前記液体中の混入の限界量に関連する所定の限界値と比較するステップと、
    前記所定の限界値に達したとき、前記混入の限界量に達したことを示す信号を提供するステップと
    を含む、半導体基板のエッチング方法。
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