JP2008004898A - 基板搬送装置、基板搬送方法および基板処理システム - Google Patents

Abstract

【課題】歯車のような機械的シンクロ機構を用いることなく、駆動力の切り離しと結合を行う。
【解決手段】チャンバ３１内の基板搬送装置は、固定ステージ３１０と可動ステージ３２０とからなる。可動ステージ３２０には、第１、第２、第３の従動マグネット３３１,３３２,３３３が軸受け部３２２で保持され、これら従動マグネットは、それぞれマグネットカップリングされていると共に、第３の従動マグネット３３３とローラマグネット３２３もマグネットカップリングされている。さらに、第１の従動マグネット３３１は、駆動マグネット３３０とマグネットカップリングされ、駆動マグネット３３０からの駆動力を切り離したり結合したりする。
【選択図】図５

Description

本発明は、液晶表示（ＬＣＤ）パネルに用いるガラス基板等の基板を搬送する基板搬送装置および基板搬送方法と、この基板搬送を用いた基板処理システムに関する。

従来、一般的な半導体基板やＬＣＤガラス基板の処理システムにおいては、塗布・現像処理装置やエッチング装置といった複数の処理装置が搬送系に対して並設されている。かかるＬＣＤガラス基板の処理システムにおける搬送系には、真空系の処理装置内に基板を搬入搬出するために、真空下（または減圧下）で基板を搬送する機能を有するものがある。

このような搬送装置では、真空のチャンバ内でベルト（材質：金属やエラストマー）や歯車を使用して動力の伝達を行い、ローラやロボットアーム、ムーブプレートといった機構によって基板を搬送している。これらの機構を真空のチャンバ内で駆動するためには、大気側に配置された駆動源からチャンバ内の真空側に配置された搬送装置に駆動力を伝達する必要があり、隔壁に穴を開け、その中に回転軸を挿入して真空内に動力を伝達していた。

しかし、従来の駆動力伝達方法では、回転駆動力を真空内へ伝達するとき、回転軸にシールパッキンや磁性流体を使用するが、それらの部材からのパーティクルやガス放出の問題があった。

これに対し、下記特許文献１には、大気側の外輪マグネットと真空側の内輪マグネットとからなるマグネットカップリングを用いて、真空中のロボットアームに駆動力を伝達する基板搬送用真空ロボットが記載されている。
特開２００２−６６９７６号公報

ところで、近年、搬送装置の設置面積を低減するとともに、より効率的に基板の搬送を行うために、真空のチャンバ内で搬送機構の一部に対する駆動力の伝達を切り離したうえで搬送機構全体を上下動させるなど、高度な動作制御が要求されるようになっている。このような高度な動作制御を行うには、駆動軸と従動軸とを歯車を介して切り離し・結合することが自在なシンクロ機構が必要となる。機械的なシンクロ機構は構造が複雑で、歯車などは物理的接触・摩擦が起きてパーティクル源となる。また、ベルトなどを使用している場合も同様に、金属やエラストマーの擦れによりパーティクルが発生する。さらに、物理的接触・摩擦が生じる部位へ用いられる潤滑剤からのガス放出や真空汚染の問題も懸念される。

そこで、本発明は、真空装置内の基板搬送において、（１）大気側から真空チャンバ隔壁を介して真空側に磁気的な結合（マグネットカップリング）により駆動力の伝達を行い、（２）真空チャンバ内においても駆動力の伝達をマグネットカップリングで行い、（３）真空チャンバ内において、駆動力の伝達を切り離し・結合するマグネットカップリングを用いることにより、歯車のような機械的シンクロ機構を必要としないことを特徴とする。

本発明によれば、真空装置内で高度な動作制御が可能な基板搬送装置において、機械的接触、摩擦を極力排除しパーティクル・アウトガス発生を極めて少なくすることができ、構造を単純化できる。

以下、図面を用いて、本発明の実施例を説明する。

本発明の基板処理システムの一例を、図１を参照しながら説明する。図１に示したＬＣＤガラス基板処理システム１は、この処理システムにＬＣＤガラス基板（以下、単に「基板」と称する）Ｌを搬入し、処理終了後に搬出する搬入搬出装置１０と、大気圧下で基板に処理を施す大気系の処理装置２０,２１と、減圧下で基板Ｌに処理を施す真空系の処理装置３０と、搬入搬出装置１０と大気系処理装置２０,２１および真空系処理装置３０との間をつなぎ、基板Ｌを搬送する搬送システム４０とを含んで構成されている。大気系の処理装置としては、例えば、洗浄装置、塗布・現像装置、露光装置等があり、真空系の処理装置としては、エッチング装置、成膜装置、イオン注入装置等がある。

図１のＬＣＤガラス基板処理システム１では、搬入搬出装置１０は、搬入部１３０と搬出部１４０とを有し、これらは基板Ｌを昇降移動させる搬入搬出コンベア１５０に連結されている。

また、一端部が搬入搬出装置１０に連結された搬送システム４０は、搬入部１３０に接続された上側コンベア４１０と、搬出部１４０に接続された下側コンベア４２０とを有する。さらに、搬送経路の各所に、上側コンベア４１０と下側コンベア４２０との間で基板Ｌを搬送する垂直コンベア４６１,４６２,４６３,４６４,４６５が配設されている。

大気系の処理装置２０、２１は、搬送システム４０の搬送経路に沿って、垂直コンベア４６２、４６４のそれぞれに対応させて配置されている。また、搬送システム４０の他端側には、垂直コンベア４６５に隣接して真空系の処理装置３０が配置されている。

ここで、垂直コンベアの機構について、垂直コンベア４６２を例にとって、図２を参照しながら説明する。垂直コンベア４６２は、図２に示したように、上側コンベア４１０と下側コンベア４２０との間において基板Ｌを垂直方向に搬送する。図２に示した一例では、搬送台４８０が４段設けられており、各搬送台４８０に対応してモータ４９０及びボールスクリュー４９５が設けられている。各搬送台４８０は、接続部４８６を介して対応するボールスクリュー４９５に接続されており、モータ４９０の駆動により上下動する。かかる構成によれば、各搬送台４８０を個別に上下動させることができる。なお、各搬送台に共通のモータ及びボールスクリューを１つずつ設けることにより、各搬送台を連動して上下動させる構成を採用することもできる。

次に、垂直コンベヤ４６２のバッファ機能について、図３を参照しながら説明する。垂直コンベア４６２は、図３に示したように、基板Ｌを下方から支持し、連動して昇降移動する複数の搬送台４８０を備えている。図３では、搬送台４８０ａ,４８０ｂ,・・・,４８０ｈのみを図示している。垂直コンベア４６２の搬送台の数は、システム規模等に応じて適宜設計することができる。なお、各搬送台４８０ａ,４８０ｂ,・・・,４８０ｈは実質的に同様の構成から成るため、各搬送台４８０ａ,４８０ｂ,・・・,４８０ｈに共通の構成・機能を説明する際には、搬送台４８０と総称し、重複説明を省略する。

複数の搬送台４８０のうち、一の搬送台は上側コンベア４１０の一部を成し、他の一の搬送台は下側コンベア４２０の一部を成している。図３に示した例では、搬送台４８０ｃが上側コンベア４１０の一部を成し、搬送台４８０ｆが下側コンベア４２０の一部を成している。他の搬送台４８０ａ,４８０ｂ,４８０ｄ,４８０ｅ,４８０ｇ,４８０ｈは、基板Ｌの待避部（バッファ）を成す。すなわち、プロセス処理時間のばらつきに対応させるために、基板Ｌを上側コンベア４１０あるいは下側コンベア４２０から一時的に待避させる必要がある場合がある。搬送台４８０ａ、４８０ｂ、４８０ｄ、４８０ｅ、４８０ｇ、４８０ｈは、かかる基板Ｌの待避部（バッファ）として機能する。

２枚の基板をバッファリングする場合について、図３を参照しながら説明する。一の基板が搬送台４８０ｆに載った状態で、上側コンベア４１０及び下側コンベア４２０を停止させる。次に、垂直コンベア４６２を一段だけ上昇させると、搬送台４８０ｄと４８０ｇが夫々上側コンベア４１０と下側コンベア４２０の一部を成す。次に、上側コンベア４１０及び下側コンベア４２０を動作させると、他のＬＣＤガラス基板が搬送台４８０ｇに載る。次に垂直コンベア４６２を一段だけ上昇させると、搬送台４８０ｅ,４８０ｈが夫々上側コンベア４１０と下側コンベア４２０の一部を成す。この状態で、搬送台４８０ｆ,４８０ｇがバッファとして機能する。

その後、搬送台４８０ｆ,４８０ｇ上の基板は、後述の搬送アームにより順次取り出され、処理装置において処理される。処理後の基板は再び搬送台４８０ｆ,４８０ｇ上に戻される。その後、上記と逆の動作により垂直コンベア４６２上の基板は下降移動し、下側コンベア４２０により戻し方向に搬送される。このように、垂直コンベア４６２がバッファとして機能するので、上側コンベア４１０と下側コンベア４２０は、２枚の基板の処理中も他の基板を搬送することができる。

下側コンベア４２０を搬送される基板をバッファリングする場合について説明したが、上側コンベア４１０を搬送される基板についても同様にバッファリングできる。また、垂直コンベア４６２を例に説明したが、他の垂直コンベアも同様である。

本実施形態の搬送システム４０において、各所に配設された垂直コンベアは各々次のように機能する。

垂直コンベア４６１は、搬入部１３０（搬出部１４０）から最も近い位置に配設されており、基板Ｌの入力バッファあるいは出力バッファの機能として、あるいは、上側コンベア４１０と下側コンベア４２０との搬送経路を切り替える機能を有する。

垂直コンベア４６２は、処理装置２０に対応する位置に配設されており、基板Ｌのバッファ機能として、あるいは、処理装置２０との間の基板Ｌの授受を行う役割を有する。垂直コンベア４６２と処理装置２０との間の基板Ｌの授受は、搬送アーム４７１により行われる。大気系の処理装置２０、２１の構成・機能については、既存の処理システムと同様であるため、詳細な説明を省略する。

搬送アーム４７１は、基板Ｌを載置して搬送するためのピック（フォーク）を備えており、垂直コンベア４６２の搬送台４８０に載置された基板Ｌを、処理装置２０に搬入させる。搬送アーム４７１は、垂直方向への駆動機構を有しており、図３に示した搬送台４８０ｃ,４８０ｄ,４８０ｅ,４８０ｆのいずれの搬送台からも基板Ｌを取り出すことができる。なお、搬送アーム４７１が上側コンベア４１０の一部を成す搬送台４８０ｃから基板Ｌを取り出す際には、搬送台４８０ｃの各搬送ローラＲは回転駆動を停止している。同様に、搬送アーム４７１が下側コンベア４２０の一部を成す搬送台４８０ｆから基板Ｌを取り出す際には、搬送台４８０ｆの各搬送ローラＲは回転駆動を停止している。

垂直コンベア４６３は、処理装置２０と処理装置２１との間に配設されており、基板Ｌのバッファ機能として、あるいは、上側コンベア４１０と下側コンベア４２０との搬送経路を切り替える機能を有する。

垂直コンベア４６４は、処理装置２１に対応する位置に配設されており、基板Ｌのバッファ機能として、あるいは、処理装置２１との間の基板Ｌの授受を行う役割を有する。垂直コンベア４６４と処理装置２１との間の基板Ｌの授受は、搬送アーム４７２により行われる。搬送アーム４７２は、上述の搬送アーム４７１と同様に機能する。

垂直コンベア４６５は、上側コンベア４１０の最下流と下側コンベア４２０の最上流とを接続しており、基板Ｌのバッファ機能として、あるいは、上側コンベア４１０と下側コンベア４２０とを連結させる機能を有する。また、垂直コンベア４６５は処理装置３０に隣接して配設されており、後述する処理装置３０のロードロックチャンバ３１内に設けられた基板搬送装置３２との間で基板Ｌの授受を行う役割を有する。

次に、図４を参照して真空系の処理装置３０の詳細を説明する。図４は、基板Ｌに対して成膜処理を施す処理装置３０の概略図である。この処理装置は、ロードロックチャンバ３１、トランスファーチャンバ３３、プロセスチャンバ３５の３室から構成される。

図４において、ロードロックチャンバ３１は、第１のゲートバルブＧ１を介して大気中から基板Ｌを搬入するために、減圧、常圧復帰を繰り返す機能を有する。このロードロックチャンバ３１とトランスファーチャンバ３３とは第２のゲートバルブＧ２を介して接続されており、トランスファーチャンバ３３とプロセスチャンバ３５とは第３のゲートバルブＧ３を介して接続されている。トランスファーチャンバ３３は、プロセスチャンバ３５の圧力を保ちながら、基板Ｌの搬入及び搬出を搬送アーム３４で行う機能を有する。プロセスチャンバ３５は、所定の減圧環境下にあり、基板上にＣＶＤ膜、酸窒化膜を形成する機能及び撥水処理する機能を有する。

基板Ｌは、搬送システム４０の垂直コンベア４６５側から、第１のゲートバルブＧ１が設けられた開口を介してロードロックチャンバ３１内に搬送され、ロードロックチャンバ３１内を常圧から所定の減圧環境になるまで、ポンプにより排気した後、トランスファーチャンバ３３を経て、所定の減圧環境にあるプロセスチャンバ３５に送られ、ＣＶＤ膜、酸窒化膜の形成、又は撥水処理される。

ロードロックチャンバ３１内には、本発明に係る基板搬送装置３２が設けられており、垂直コンベア４６５側から矢印Ｘの軸線方向に沿って搬送される基板Ｌをロードロックチャンバ３１内に搬入し、処理終了後の基板Ｌを垂直コンベア４６５側へ搬出する。また、ロードロックチャンバ３１の、垂直コンベア４６５またはトランスファーチャンバ３３が接する面とは異なる面（例えば矢印Ｙの指す側）に、ゲートバルブを介して第２の搬入搬出装置（図示せず）を設けてもよい。大気系の処理装置２１、２２における処理は不要で、真空系の処理装置３０での処理のみを行う場合には、この第２の搬入搬出装置とロードロックチャンバ３１との間で基板Ｌの搬入搬出を直接行うことができ、効率的である。

図５は、図４に示す基板搬送装置３２の平面図である。図５において、点線Ａ−Ａ'の断面図を図６（ａ）に示し、点線Ｂ−Ｂ'の断面図を図６（ｂ）に示す。

図５において、ロードロックチャンバ３１内の基板搬送装置３２は、固定ステージ３１０と可動ステージ３２０とからなり、この可動ステージ３２０には、複数の搬送ローラ３２１の回転軸が軸受け部３２２で保持されている。各々の搬送ローラ３２１には、ローラマグネット３２３が取り付けられ、また、一部の搬送ローラ３２１には、ローラ回転軸３２４を介してローラ３２１'が取り付けられている。

また、可動ステージ３２０には、図５の上部に示すように、第１、第２、第３の従動マグネット３３１、３３２、３３３が軸受け部３２２で保持され、これら従動マグネットは、それぞれマグネットカップリングされていると共に、第３の従動マグネット３３３とローラマグネット３２３もマグネットカップリングされている。さらに、第１の従動マグネット３３１は、駆動マグネット３３０とマグネットカップリングされている。なお、第１、第２、第３の従動マグネット３３１、３３２、３３３を１つの従動マグネット、例えば、第３の従動マグネット３３３だけで構成してもよい。

駆動マグネット３３０は、ロードロックチャンバ３１の隔壁を内側に凸状に形成した中空隔壁３４０内の大気中に納められている。大気中の駆動マグネット３３０からの回転駆動力を、隔壁を介して第１の従動マグネット３３１に伝達する。この駆動力を回転軸と平行にして第２、第３の従動マグネット３３２、３３３に伝達する。第３の従動マグネット３３３とマグネットカップリングするローラマグネット３２３は、第３の従動マグネット３３３からの駆動力を直交した駆動力として伝達する。

複数の第３の従動マグネット３３３の各々は、従動回転軸３２７を介して、複数のローラマグネット３２３の各々とマグネットカップリングしている。これらマグネットカップリングした駆動力を搬送ローラ３２１に伝達して、図６に示すように、基板Ｌを搬送する。

搬送された基板Ｌは、図５中の白抜き矢印で示すように、２つの支持ピンを有する位置決め部３２８が移動することで、プロセスチャンバでの位置に対応して位置決めされる。なお、位置決め部３２８は少なくとも対角線上に２つ設ければよい。

図６は、図５に示す基板搬送装置３２で基板を搬送中の断面図であって、同図（ａ）は図５に示す点線Ａ−Ａ'の断面図、同図（ｂ）は図５に示す点線Ｂ−Ｂ'の断面図である。

図６において、大気中に置かれたモータなどにより駆動マグネット３３０が駆動され、駆動マグネット３３０の駆動力を、第１の従動マグネット３３１に結合して、第２、３の従動マグネット３３２、３３３及びローラマグネット３２３に伝達し、搬送ローラ３２１及びローラ３２１'を回転させる。搬送ローラ３２１で搬入された基板Ｌは、図５に示す位置決め部３２８で位置決めされる。なお、固定ステージ３１０は固定支柱３１１で固定され、可動ステージ３２０は、可動支柱３１２で上下に移動され、基板Ｌの搬送中は上昇位置に移動しており、駆動マグネット３３０と第１の従動マグネット３３１とを結合している。

図７は、図５に示す基板搬送装置３２で基板を停止した後の断面図であって、同図（ａ）は図５に示す点線Ａ−Ａ'の断面図、同図（ｂ）は図５に示す点線Ｂ−Ｂ'の断面図である。

図７において、図６で説明したように、基板Ｌを搬入した後に、基板Ｌの搬送を停止し、ロードロックチャンバ３１内を排気する。真空中において、図７中の白抜き矢印で示すように、可動ステージ３２０が下降位置に移動して、基板Ｌを固定ステージ３１０に載置する。この時、駆動マグネット３３０と第１の従動マグネット３３１とは切り離される。

図８は、駆動マグネット３３０と第１の従動マグネット３３１の拡大図である。図８において、駆動マグネット３３０と第１の従動マグネット３３１とは、中空隔壁３４０の隔壁部３５１を介して、切り離し・結合される。なお、３５２は駆動マグネット３３０の駆動回転軸、３５３は第２、３の従動マグネット３３２、３３３の回転軸であって、他の符号は、これまで説明したものと同じである。

図９は、図８に示す点線Ａ−Ａ'の断面図であって、同図（ａ）は駆動マグネット３３０と第１の従動マグネット３３１とが結合した場合の断面図、同図（ｂ）は駆動マグネット３３０と第１の従動マグネット３３１とを切り離した場合の断面図である。

図９（ａ）において、白抜き矢印で示すように、駆動マグネット３３０の回転駆動力は、半円形状の中空隔壁３４０の隔壁部３５１を介して、第１の従動マグネット３３１に伝達される。そして、第１の従動マグネット３３１の回転駆動力は、第２、３の従動マグネット３３２、３３３に伝えられ、第３の従動マグネット３３３の回転駆動力は、ローラマグネット３２３に伝えられて、軸受け部３２２で保持されている搬送ローラ３２１を回転させる。

図９（ｂ）において、従動マグネット３３１、３３２、３３３側が下降することにより、駆動マグネット３３０と第１の従動マグネット３３１との結合が切り離される。

従来の機械的な駆動力伝達方法では、このような駆動力伝達の結合および切り離しを行うために複雑なシンクロ機構を必要としていた。また、機械的な離接をともなうために、パーティクル等の汚染の発生が懸念されていた。本発明の基板搬送装置では、駆動力伝達の結合と切り離しとをマグネットカップリングで行うことにより、これらの問題を解決している。

上述の基板搬送装置３２を有する真空系の処理装置３０では、可動ステージ３２０が上昇した状態（図６）で駆動マグネット３３０からの駆動力を従動マグネット３３１に伝達し、これが従動マグネット３３２、３３３等を介して搬送ローラ３２１、３２１'を回転させる。搬送ローラ３２１、３２１'は、垂直コンベア４６５から図４の矢印Ｘの軸線方向に沿って搬送される基板Ｌをロードロックチャンバ３１内に引き込んで、所定の位置で停止させる。次いで、基板Ｌが搬入された開口部が第１のゲートバルブＧ１で閉塞されるとともに、上述したように可動ステージ３２０が下降し（図７）、基板Ｌが固定ステージ３１０に載置される。ロードロックチャンバ３１内が所定の圧力まで減圧されると、ロードロックチャンバ３１とトランスファーチャンバ３３との間の第２のゲートバルブＧ２が開き、固定ステージ３１０上の基板Ｌを搬送アーム３４が、矢印Ｘの軸線方向と略直交する矢印Ｙの軸線方向に沿って取り出す。このとき、可動ステージ３２０が下降した状態にあるので、基板Ｌを載置して搬送するためのピック（フォーク）を基板Ｌの下へ差し込むのが容易になる。

トランスファーチャンバ３３から第３のゲートバルブＧ３を介してプロセスチャンバ３５に送られ、所定の成膜処理が施された基板Ｌは、搬入時とは逆の経路をたどって基板搬送装置３２の固定ステージ３１０上に戻される。そして、ロードロックチャンバ３１内が大気圧に戻されるとともに、可動ステージ３２０が上昇して、基板Ｌを搬送ローラ３２１、３２１'でロードロックチャンバ３１の外へ搬出可能な状態になる。

このようにして真空系の処理装置３０での所定の処理が終了し、ロードロックチャンバ３１から搬出された基板Ｌは、垂直コンベア４６５によって下側コンベア４２０によって搬出部１４０へ運ばれて、一連の処理を終了する。

以上、添付図面を参照しながら本発明にかかるＬＣＤガラス基板処理システムの好適な実施形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されない。

例えば、上述した実施形態では搬送システム４０はクリーンルーム内の雰囲気に曝された状態で基板Ｌを搬送する構成としたが、内部を清浄度の高い雰囲気に保つ筐体で処理装置３０との接続部を含む搬送システム４０全体を覆い、基板Ｌをより清浄な状態で次工程へ搬送するようにしてもよい。さらに、この搬送システム４０を覆う筐体の内部を真空状態にすることで、搬送中に基板Ｌ表面へパーティクルや水分が付着するのを最小限にして、より高品質な基板処理を行うことが可能になる。

このように、当業者であれば特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものである。

基板処理システムの概略図 垂直コンベアの機構を示す図 垂直コンベアによる基板搬送を説明する図 真空系の処理装置の概略を示す図 図４に示す基板搬送装置３２の平面図 図４に示す基板搬送装置３２で基板を搬送中の断面図 図４に示す基板搬送装置３２で基板を停止した後の断面図 駆動マグネット３３０と第１の従動マグネット３３１の拡大図 図８に示す点線Ａ−Ａ’の断面図

符号の説明

１…ＬＣＤガラス基板処理システム、１０…搬入搬出装置、２０,２１…大気系の処理装置、３０…真空系の処理装置、３１…ロードロックチャンバ、３２…基板搬送装置、３３…トランスファーチャンバ、３４…搬送アーム、３５…プロセスチャンバ、４０…搬送システム、１３０…搬入部、１４０…搬出部、１５０…搬入搬出コンベア、
３１０…固定ステージ、３１１…固定支柱、３１２…可動支柱、３２０…可動ステージ、３２１…搬送ローラ、３２１'…ローラ、３２２…軸受け部、３２３…ローラマグネット、３２４…ローラ回転軸、３２７…従動回転軸、３２８…位置決め部、３３０…駆動マグネット、３３１,３３２,３３３…第１、第２、第３の従動マグネット、３４０…中空隔壁、３５１…隔壁部、３５２…駆動回転軸、３５３…回転軸、
４１０…上側コンベア、４２０…下側コンベア、４６１,４６２,４６３,４６４,４６５…垂直コンベア、４７１,４７２…搬送アーム、４８０,４８０ａ,４８０ｂ,・・・,４８０ｈ…搬送台、４８６…接続部、４９０…モータ、４９５…ボールスクリュー、
Ｇ１…第１のゲートバルブ、Ｇ２…第２のゲートバルブ、Ｇ３…第３のゲートバルブ、Ｌ…ＬＣＤガラス基板、Ｒ…搬送ローラ。

Claims (7)

1. チャンバ内に設けられ、基板を載置する固定ステージと基板を搬送する可動ステージとを備えた基板搬送装置において、
   前記可動ステージには、基板を搬送する複数の搬送ローラと、この搬送ローラに取り付けられたローラマグネットと、このローラマグネットと磁気的に結合した従動マグネットが配置され、
   前記可動ステージが上昇位置にあるときに、前記従動マグネットは前記チャンバの外に設けられた駆動マグネットに磁気的に結合して駆動されるとともに、前記基板は前記固定ステージから離れて前記搬送ローラに支持され、
   前記可動ステージが下降位置にあるときに、前記従動マグネットと駆動マグネットとは磁気的に切り離されるとともに、前記基板は前記固定ステージに載置されることを特徴とする基板搬送装置。
2. 前記従動マグネットは、順に磁気的に結合された複数のマグネットからなり、この複数のマグネットのうちの一つが前記ローラマグネットと磁気的に結合して、搬送ローラを回転させることを特徴とする請求項１に記載の基板搬送装置。
3. 前記駆動マグネットは、前記チャンバの隔壁の一部をチャンバ内側に向けて凸状に形成した中空隔壁内に配設したことを特徴とする請求項１に記載の基板搬送装置。
4. 前記中空隔壁は、断面が略半円形状の隔壁部を有し、この隔壁部を介して、駆動マグネットからの駆動力を従動マグネットに伝達することを特徴とする請求項３に記載の基板搬送装置。
5. 前記チャンバは、その内側を所定の圧力に減圧可能であることを特徴とする請求項１に記載の基板搬送装置。
6. 前記可動ステージが上昇位置にあるときに、前記搬送ローラの回転により第一の軸方向に沿って基板を前記可動ステージ上に搬入し、または前記可動ステージ上から搬出し、
   前記可動ステージが下降位置にあるときに、前記第一の軸方向と略直交する第二の軸方向に沿って前記基板を前記固定ステージ上に搬入し、または前記固定ステージ上から搬出することを特徴とする請求項１ないし請求項５のいずれか１つに記載の基板搬送装置を用いた基板搬送方法。
7. 第１のゲートバルブを介して大気側と連通可能なロードロックチャンバと、
   内部で基板に対する所定の処理を施すプロセスチャンバと
   第２のゲートバルブを介して前記ロードロックチャンバと連通可能、且つ、第３のゲートバルブを介して前記プロセスチャンバと連通可能で、前記ロードロックチャンバおよび前記プロセスチャンバに対して基板の搬入および搬出を行う搬送アームを内部に有するトランスファーチャンバとを備え、
   前記ロードロックチャンバは、内部に請求項５に記載の基板搬送装置を備えたことを特徴とする基板処理システム。