JP2007046343A - 既存建物の直下地盤の液状化防止工法 - Google Patents

Abstract

【課題】 既存建物の直下地盤の液状化を防止する工法を提供する。
【解決手段】 既存建物の周囲に低透水層の深さまで到達する山留め壁を構築する。揚水によって地下水位を低下させ、同既存建物の周辺地盤を液状化する虞のある地層が露出する深さまで掘削して作業領域を形成する。作業領域から、露出させた液状化する虞のある地層をトンネル状に掘削して横坑を形成し、同横坑内にセメント系固化剤と掘削土の混合体を充填して硬化させた地盤改良壁を形成する。更に同地盤改良壁の端部を延長させて山留め壁と一体化し、以下、前記の地盤改良壁が格子状配置となるように、液状化する虞のある地層に横坑の形成と地盤改良壁の形成を進める。
【選択図】 図４

Description

この発明は、既存建物の直下地盤の液状化を防止する工法の技術分野に属し、更に云うと、既存建物の直下地盤に比較的薄く堆積した、液状化する虞のある地層について施工される液状化防止工法に関する。

既存建物の直下地盤に堆積した液状化する虞のある地層に、好適に施工できる液状化防止工法は、例えば以下の（ｉ）、（ii）の技術が公知である。

（ｉ）特許文献１の液状化防止工法は、既存建物の基礎スラブに穴を開け、この穴を利用して同基礎スラブ直下の液状化する虞のある地層に円錐形状の地盤改良体を形成している。

（ii）特許文献２、３の液状化防止工法は、既存建物の周辺の地表部から同既存建物の直下地盤に堆積した液状化する虞のある地層に到達するように地盤を斜めにボーリングし、到達すると液状化する虞のある地層を水平にボーリングして、この水平なボーリング坑の周辺に地盤改良体を形成している。

（iii）ちなみに、特許文献４、５の液状化防止工法は、既存建物の直下地盤に堆積した液状化する虞のある地層について施工されるものではないが、地盤改良壁を格子状配置に形成している。
特開２００１−１６４５４９号公報 特開２００１−２０７４３７号公報 特許第２９２０８０２号公報 特開平１−２９０８１７号公報 特公平４−５４００４号公報

上記特許文献１の液状化防止工法は、既存建物の基礎スラブに穴を開けて施工するため、同基礎スラブ上の設置物を撤去する必要がある。そのため、既存建物を利用しながら施工することができない問題点がある。

上記特許文献２、３の液状化防止工法は、既存建物の周辺の地表部から同既存建物の直下地盤に堆積した液状化する虞のある地層に到達するように地盤を斜めにボーリングするが、同ボーリングの開始位置が、既存建物から距離を隔てた位置となる。そのため、既存建物の周辺に十分なスペースがないと施工できない問題点がある。

上記特許文献４、５の液状化防止工法は、既存建物の直下地盤に堆積した液状化する虞のある地層について施工される技術ではなく、技術分野が異なる。

したがって、本発明の目的は、既存建物を利用しながら施工でき、且つ、既存建物の周辺に十分なスペースがなくても施工できる、既存建物の直下地盤の液状化防止工法を提供することである。

上記従来技術の課題を解決するための手段として、請求項１に記載した発明に係る既存建物の直下地盤の液状化防止工法は、
既存建物の直下地盤に、比較的薄く堆積した液状化する虞のある地層について施工される液状化防止工法であって、
既存建物の周囲に低透水層の深さまで到達する山留め壁を構築し、揚水によって地下水位を低下させ、同既存建物の周辺地盤を液状化する虞のある地層が露出する深さまで掘削して作業領域を形成し、同作業領域から、露出させた液状化する虞のある地層をトンネル状に掘削して横坑を形成し、同横坑内にセメント系固化剤と掘削土の混合体を充填して硬化させた地盤改良壁を形成し、更に同地盤改良壁の端部を延長させて山留め壁と一体化し、以下、前記の地盤改良壁が格子状配置となるように、液状化する虞のある地層に横坑の形成と地盤改良壁の形成を進めることを特徴とする。

請求項２記載の発明は、請求項１に記載した既存建物の直下地盤の液状化防止工法において、
既存建物の周囲に低透水層の深さまで到達する山留め壁を構築し、揚水によって地下水位を低下させる第１工程と、
既存建物の周辺地盤において、同既存建物を挟んで相対峙する位置を、液状化する虞のある地層が露出する深さまで掘削して作業領域を形成し、同作業領域から、露出させた液状化する虞のある地層を既存建物の底面に届く高さまでトンネル状に掘削して横坑を形成し、同横坑内にセメント系固化剤と掘削土の混合体を充填して硬化させた地盤改良壁を形成し、更に同地盤改良壁の端部を延長させて山留め壁と一体化し、作業領域を埋め戻す第２工程と、
以下、前記の地盤改良壁が格子状配置となるように、前記第２の工程を繰り返して地盤改良壁の形成を進めることを特徴とする。

請求項３記載の発明は、請求項１に記載した既存建物の直下地盤の液状化防止工法において、
既存建物の周囲に低透水層の深さまで到達する山留め壁を構築し、揚水によって地下水位を低下させる第１工程と、
既存建物の周辺地盤において、同既存建物を挟んで相対峙する位置を、液状化する虞のある地層が露出する深さまで掘削して作業領域を形成し、同作業領域から、露出させた液状化する虞のある地層を既存建物の底面に届く高さまでトンネル状に掘削して横坑を形成し、同横坑内にセメント系固化剤と掘削土の混合体を充填して硬化させた地盤改良壁を形成し、作業領域を埋め戻す第２工程と、
以下、前記の地盤改良壁が格子状配置となるように、前記第２の工程を繰り返して地盤改良壁の形成を進め、既存建物の外周部から地盤改良装置を用いて、地盤改良壁の端部を延長させて山留め壁と一体化することを特徴とする。

請求項４記載の発明は、請求項１に記載した既存建物の直下地盤の液状化防止工法において、
既存建物の周囲に低透水層の深さまで到達する山留め壁を構築し、揚水によって地下水位を低下させ、同既存建物の周辺地盤全域を、液状化する虞のある地層が露出する深さまで掘削して作業領域を形成する第１工程と、
前記作業領域から、露出させた液状化する虞のある地層を既存建物の底面に届く高さまでトンネル状に掘削して横坑を形成し、同横坑にセメント系固化剤と掘削土の混合体を充填して硬化させた地盤改良壁を形成し、同地盤改良壁の端部を延長させて山留め壁と一体化する第２工程と、
以下、前記の地盤改良壁が格子状配置となるように、前記第２の工程を繰り返して地盤改良壁の形成を進め、最終的に作業領域を埋め戻すことを特徴とする。

請求項５記載の発明は、請求項１に記載した既存建物の直下地盤の液状化防止工法において、
既存建物の周囲に低透水層の深さまで到達する山留め壁を構築し、揚水によって地下水位を低下させ、同既存建物の周辺地盤全域を、液状化する虞のある地層が露出する深さまで掘削して作業領域を形成する第１工程と、
前記作業領域から、露出させた液状化する虞のある地層を既存建物の底面に届く高さまでトンネル状に掘削して横坑を形成し、同横坑にセメント系固化剤と掘削土の混合体を充填して硬化させた地盤改良壁を形成する第２工程と、
以下、前記の地盤改良壁が格子状配置となるように、前記第２の工程を繰り返して地盤改良壁の形成を進め、最終的に作業領域を埋め戻し、更に既存建物の外周部から地盤改良装置を用いて、地盤改良壁の端部を延長させて山留め壁と一体化することを特徴とする。

請求項６記載の発明は、請求項１〜５のいずれか一に記載した既存建物の直下地盤の液状化防止工法において、
液状化する虞のある地層をトンネル状に掘削するに際し、掘削した法面を含む地盤をセメント系固化剤と掘削土の混合体で補強しつつ、掘削を進めることを特徴とする。

請求項７に記載した発明に係る既存建物の直下地盤の液状化防止工法は、
既存建物の直下地盤に比較的薄く堆積した、液状化する虞のある地層について施工される液状化防止工法であって、
既存建物の周囲に低透水層の深さまで到達する山留め壁を構築し、揚水によって地下水位を低下させ、同既存建物の周辺地盤を液状化する虞のある地層が露出する深さまで掘削して作業領域を形成し、同作業領域から、露出させた液状化する虞のある地層をトンネル状に掘削して横坑を形成し、同横坑内にセメント系固化剤と掘削土の混合体を充填して硬化させた地盤改良壁を形成し、以下、前記の地盤改良壁が格子状配置となるように、液状化する虞のある地層に横坑の形成と地盤改良壁の形成を進めることを特徴とする。

本発明に係る既存建物の直下地盤の液状化防止工法は、既存建物の周囲に山留め壁を構築し、揚水によって地下水位を低下させ、同既存建物の周辺地盤を掘削して作業領域を形成し、この作業領域から、露出させた既存建物直下の液状化する虞のある地層に、地盤改良壁を格子状配置となるように形成する。更に上記作業領域から又は既存建物の外周部から地盤改良壁の端部を延長させて山留め壁と一体化する。要するに既存建物の外側から施工を進め、同既存建物に一切影響を及ぼさないので、既存建物を利用しながら施工できる。

しかも、作業領域の広さは、同作業領域から作業員が液状化する虞のある地層の掘削作業を良好に実施できる広さであれば良い。そのため、既存建物の周辺に十分なスペースがなくても施工でき、市街地などの敷地面積が狭い既存建物直下の液状化する虞のある地層について好適に施工できる。

ちなみに、液状化する虞のある地層の直下に堆積した非液状化層が、既存建物を十分支持できるだけの堅固な地層である場合は、格子状の地盤改良壁を既存建物の底面に接触するように形成することで同地盤改良壁を通じて既存建物の荷重を非液状化層に伝達させることが可能になる。そのため、万が一想定以上の地震が発生して格子状の地盤改良壁の内部が液状化し、液状化する虞のある地層の支持力が喪失しても既存建物の沈下を防ぐことができ、液状化する虞のある地層を含めた既存建物の地震に対する性能が向上する。

既存建物の周囲に低透水層の深さまで到達する山留め壁を構築し、揚水によって地下水位を低下させ、同既存建物の周辺地盤を液状化する虞のある地層が露出する深さまで掘削して作業領域を形成する。前記作業領域から、露出させた液状化する虞のある地層をトンネル状に掘削して横坑を形成し、同横坑内にセメント系固化剤と掘削土の混合体を充填して硬化させた地盤改良壁を形成する。更に前記地盤改良壁の両端部を延長させて山留め壁と一体化し、以下、前記の地盤改良壁が格子状配置となるように、液状化する虞のある地層に横坑の形成と地盤改良壁の形成を進める。

請求項１、２及び請求項６に記載した発明に係る既存建物の直下地盤の液状化防止工法（以下、液状化防止工法と省略する。）の実施例を、図面に基づいて説明する。本発明の液状化防止工法は、既存建物１の直下地盤２に比較的浅く（即ち、人間が掘れる程度で２ｍ〜３ｍ程度）堆積した、液状化する虞のある地層２ａについて好適に施工される。

先ず、既存建物１の周囲に低透水層２ｂの深さまで到達する山留め壁３（通例のソイルセメント柱列壁などを採用する。）を構築する（図１（Ａ）、（Ｂ）を参照）。

液状化する虞のある地層２ａの直下に堆積した非液状化層２ｃの深さまで到達するように、複数本（本実施例では６本）のディープウエル４…を設置し、山留め壁３内の地下水位Δｈが液状化する虞のある地層２ａより低くなるように、前記ディープウェル４から地下水を汲み上げ続ける（図２（Ａ）、（Ｂ）を参照）。そして、液状化する虞のある地層２ａの略中央部を通ってＸ軸方向に貫通する横坑５（図３（Ｂ）を参照）を形成するための作業領域６を、予め設定された横坑５の掘削位置の両端部に形成するべく、既存建物１の周辺地盤７において、同既存建物１を挟んでＸ軸方向に相対峙する位置を、所定の広さで液状化する虞のある地層２ａが露出する深さＨまで掘削する。ちなみに、作業領域６の広さは、後に同作業領域６から作業員が液状化する虞のある地層２ａの掘削作業を良好に実施できる広さであれば良い。

前記作業領域６から、露出させた液状化する虞のある地層２ａにトンネル状の横坑５を形成する（図３（Ａ）、（Ｂ）を参照）。具体的には、一方の作業領域６から作業員が、液状化する虞のある地層２ａの略中央部を通って他方側の作業領域６まで貫通するように、既存建物１の荷重を周辺の地盤２で支持しながら、液状化する虞のある地層２ａを、既存建物１の底面１ａに届く高さまで（即ち、略全高に亘り）所定の幅寸法Ｔで掘り進める。このとき、掘削した法面を含む周辺地盤（即ち、横坑５の周辺地盤）５ａをソイルセメント８（但し、横坑５の周辺地盤５ａを補強できる部材であれば良い。）で補強しつつ、掘り進めると、同横坑５の周辺地盤５ａが崩壊することがなく安全である（請求項６記載の発明）。なお、横坑５の幅寸法Ｔは、支持する既存建物１の荷重や液状化する虞のある地層２ａの支持力などを考慮して設定するが、一例として１ｍ程度とする。

前記横坑５の両側の開口部を型枠（図示を省略）で塞ぎ、一方の型枠に予め形成しておいたコンクリート充填孔からソイルセメント（但し、通例の地盤改良で採用される薬液と掘削土の混合体でも良い。）９を充填し硬化させてＸ軸方向の地盤改良壁１０ａを形成する。更に地盤改良壁１０ａと山留め壁３とを一体化するべく、作業領域６、６に型枠（図示を省略）を組み上げてソイルセメント９を充填し硬化させて地盤改良壁１０ａの両端部を延長させて山留め壁３と一体化し、作業領域６、６を埋め戻す（図４（Ａ）、（Ｂ）を参照）。

次に、前記Ｘ軸方向の地盤改良壁１０ａのソイルセメント９が硬化して強度が発現していることを確認し、Ｙ軸方向の地盤改良壁１０ｂを形成する。

先ず、Ｘ軸方向の地盤改良壁１０ａと略垂直に突き当たる横坑１１、１１を同地盤改良壁１０ａの両側に水平対向する配置で形成するための作業領域１２を、予め設定された各横坑１１、１１の掘削位置の外端部に形成するべく、既存建物１の周辺地盤７において、同既存建物１を挟んでＹ軸方向に相対峙する位置を、所定の広さで液状化する虞のある地層２ａが露出する深さまで掘削する。ちなみに、作業領域１２の広さは、上記作業領域６と同様に、後に作業領域１２から作業員が液状化する虞のある地層２ａの掘削作業を良好に実施できる広さであれば良い。

前記作業領域１２、１２から、露出させた液状化する虞のある地層２ａにトンネル状の横坑１１、１１を形成する。具体的には、各作業領域１２、１２から作業員が、上記Ｘ軸方向の地盤改良壁１０ａと略垂直に突き当たるように、液状化する虞のある地層２ａを既存建物１の底面１ａに届く高さまで所定の幅寸法で掘り進める。このとき、Ｘ軸方向の地盤改良壁１０ａ（横坑５）の周辺地盤５ａがソイルセメント８で補強されているので、同ソイルセメント８を取り壊し、Ｘ軸方向の地盤改良壁１０ａと突き当たるように横坑１１を形成する。そのため、地盤改良壁１０ａの周辺地盤５ａを補強するソイルセメント８は、比較的強度の低いソイルセメントとする。前記横坑１１、１１にソイルセメント９を充填してＹ軸方向の地盤改良壁１０ｂを形成する。更に地盤改良壁１０ｂと山留め壁３とを一体化するべく、作業領域１２、１２に型枠（図示を省略）を組み上げてソイルセメント９を充填し硬化させて地盤改良壁１０ｂの端部を延長させて山留め壁３と一体化し、作業領域１２、１２を埋め戻す（図５を参照）。

以下、前記Ｙ軸方向の地盤改良壁１０ｂと所定の間隔Ｎ（図６を参照）を開けて、新たにＹ軸方向の地盤改良壁１０ｂを形成するべく、既存建物１の周辺地盤７を掘削して作業領域１２を形成し、同作業領域１２から露出させた液状化する虞のある地層２ａを掘削して横坑１１を形成し、同横坑１１にソイルセメント９を充填して硬化させ地盤改良壁１０ｂを形成し、更に同地盤改良壁１０ｂの端部を延長させて山留め壁３と一体化する工程を繰り返し（本実施例では残り１回）、山留め壁３と一体化された地盤改良壁１０ａ、１０ｂを格子状配置に形成する。なお、前記Ｙ軸方向の地盤改良壁１０ｂ、１０ｂの相互の間隔Ｎは、想定する地震動の大きさや地盤条件によって異なるが、例えば特開２００１−３５５２２９(深層混合処理工法による格子状改良地盤における液状化防止のための格子間隔簡易算定法）に従って設定すると良い。

最後に、ディープウエル４を撤去すると、液状化防止工法の施工が完了する（図６を参照、請求項１、２記載の発明）。

上記した液状化防止工法は、既存建物１の周囲に山留め壁３を構築し、同既存建物１の周辺地盤７を掘削して形成した作業領域６から、露出させた液状化する虞のある地層２ａを掘削して横坑５を形成し、同横坑５にソイルセメント９を充填して硬化させＸ軸方向の地盤改良壁１０ａを形成し、更に同地盤改良壁１０ａの両端部を延長させて山留め壁３と一体化する。以下、前記Ｘ軸方向の地盤改良壁１０ａと格子状配置となるように、既存建物１の周辺地盤７を掘削して形成した作業領域１２から、露出させた液状化する虞のある地層２ａを掘削して横坑１１を形成し、同横坑１１にソイルセメント９を充填して硬化させＹ軸方向の地盤改良壁１０ｂを形成し、更に同地盤改良壁１０ｂの端部を延長させて山留め壁３と一体化する工程を、繰り返す。要するに、既存建物１の外側から施工を進め、同既存建物１に一切影響を及ぼさないので、既存建物１を利用しながら施工できる。

しかも、作業領域６（１２）の広さは、同作業領域６（１２）から作業員が液状化する虞のある地層２ａの掘削作業を良好に実施できる広さであれば良い。そのため、既存建物１の周辺に十分なスペースがなくても施工でき、市街地などの敷地面積が狭い既存建物１直下の液状化する虞のある地層２ａについて好適に施工できる。

特に、本実施例の液状化防止工法は、地盤改良壁１０ａ（１０ｂ）を形成する際に、既存建物１の周辺地盤７を部分的に掘削するだけなので、既存建物１が周辺地盤７にしっかりと拘束されており、施工中に地震が生じても安全である。

ちなみに、液状化する虞のある地層２ａの直下に堆積した非液状化層２ｃが、既存建物１を十分支持できるだけの堅固な地層である場合は、格子状の地盤改良壁１０ａ、１０ｂを既存建物１の底面１ａに接触するように形成することで、同地盤改良壁１０ａ、１０ｂを通じて既存建物１の荷重を非液状化層２ｃに伝達させることが可能になる。そのため、万が一想定以上の地震が発生して格子状の地盤改良壁１０ａ、１０ｂの内部が液状化し、液状化する虞のある地層２ａの支持力が喪失しても既存建物１の沈下を防ぐことができ、液状化する虞のある地層２ａを含めた既存建物１の地震に対する性能が向上する。

上記実施例１の液状化防止工法は、地盤改良壁１０ａ（１０ｂ）を形成する度に作業領域６（１２）を形成したが、既存建物１の周辺地盤７全域を一気に掘削して作業領域１３を形成しても良い。本実施例の液状化防止工法は、既存建物１の平面積が広く、液状化する虞のある地層２ａが大きな支持力を発揮している場合に好適に実施される。なお、この液状化防止工法は、上記実施例１の液状化防止工法と略同様であるため、異なる部分のみを簡潔に説明する。

具体的には、既存建物１の周辺地盤７全域を、液状化する虞のある地層２ａが露出する深さまで掘削して作業領域１３を形成する（図７を参照）。

前記作業領域１３から液状化する虞のある地層２ａを掘削して横坑５を形成し、同横坑５にソイルセメント９を充填して硬化させＸ軸方向の地盤改良壁１０ａを形成し、更に同地盤改良壁１０ａの両端部を延長させて山留め壁３と一体化する（図８を参照）。

前記Ｘ軸方向の地盤改良壁１０ａのソイルセメント９が硬化して強度が発現していることを確認した後に、作業領域１３から、前記Ｘ軸方向の地盤改良壁１０ａと略垂直に突き当たるように、液状化する虞のある地層２ａを掘削して横坑１１、１１を形成し、同横坑１１、１１にソイルセメント９を充填して硬化させＹ軸方向の地盤改良壁１０ｂを形成し、更に地盤改良壁１０ｂの端部を延長させて山留め壁３と一体化する（図９を参照）。

以下、前記Ｙ軸方向の地盤改良壁１０ｂと所定の間隔を開けて、新たにＹ軸方向の地盤改良壁１０ｂを形成するべく、上記した地盤改良壁１０ｂを形成する工程を繰り返し（本実施例では残り１回）、山留め壁３と一体化された地盤改良壁１０ａ、１０ｂを格子状配置に形成する。

最後に、作業領域１３を埋め戻し、ディープウエル４を撤去すると、液状化防止工法の施工が完了する（図６を援用、請求項４記載の発明）。

上記実施例１、２の液状化防止工法は、地盤改良壁１０ａ（１０ｂ）の端部を延長させて山留め壁３と一体化した後に、作業領域６（１２、１３）を埋め戻しているが、作業領域６（１２、１３）を埋め戻した後に、既存建物１の外周部から図示を省略した地盤改良装置を用いて、地盤改良壁１０ａ（１０ｂ）の端部を延長させて山留め壁３と一体化しても良い（請求項３、５記載の発明）。

上記実施例１、２の液状化防止工法は、Ｘ軸方向の地盤改良壁１０ａを形成した後に、Ｙ軸方向の地盤改良壁１０ｂを形成しているが、既存建物１の荷重を直下地盤２で支持できる範囲において、同時に形成しても良い。

上記実施例１、２の液状化防止工法は、横坑５、１１内に一気にソイルセメント９を充填しているが、横坑５、１１の長さに応じて分割して充填しても良い。

上記実施例１、２の液状化防止工法は、Ｘ軸方向の地盤改良壁１０ａを１枚のみ形成したが、既存建物１の平面規模が大きくなると、液状化防止効果を確保するために複数枚形成する場合がある（図１０を参照）。この場合、Ｙ軸方向の地盤改良壁１０ｂと交差する部分に、比較的強度の低いソイルセメント１４を充填しておき、当該ソイルセメント１４を充填した部分を取り壊して、横坑１１を形成し、同横坑１１にＹ軸方向の地盤改良壁１０ｂを形成すると良い。

以上に本発明の実施例を説明したが、本発明はこうした実施例に何ら限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、種々の形態で実施し得る。要するに、既存建物１の周辺地盤７を掘削して形成した作業領域６（１２、１３）から、前記掘削作業により露出させた液状化する虞のある地層２ａに地盤改良壁１０ａ、１０ｂを格子状配置に形成し、山留め壁３と一体化すれば良く、周辺地盤７を掘削するタイミングや広さ、及び地盤改良壁１０ａ、１０ｂの大きさや間隔、形状等は特に限定されない。また、地盤改良壁１０ａ、１０ｂを山留め壁３に一体化しなくても、地震などによるせん断力の伝達が相互に可能な場合は特に一体化する必要はない（請求項７記載の発明）。

Ａは、実施例１の既存建物の直下地盤の液状化防止工法において、既存建物の周囲に山留め壁を構築した段階を示した縦断面図である。Ｂは、Ａの水平断面図である。 Ａは、実施例１の既存建物の直下地盤の液状化防止工法において、既存建物の周辺地盤を掘削した段階を示した縦断面図である。Ｂは、Ａの水平断面図である。 Ａは、実施例１の既存建物の直下地盤の液状化防止工法において、既存建物直下の液状化する虞のある地層に横坑を形成した段階を示した縦断面図である。Ｂは、Ａの水平断面図である。 Ａは、実施例１の既存建物の直下地盤の液状化防止工法において、既存建物直下の液状化する虞のある地層にＸ軸方向の地盤改良壁を形成した段階を示した縦断面図である。Ｂは、Ａの水平断面図である。 実施例１の既存建物の直下地盤の液状化防止工法において、既存建物直下の液状化する虞のある地層にＹ軸方向の地盤改良壁を形成した段階を示した水平断面図である。 実施例１の既存建物の直下地盤の液状化防止工法の施工が完了した段階を示した水平断面図である。 実施例２の既存建物の直下地盤の液状化防止工法において、既存建物の周辺地盤を掘削した段階を示した水平断面図である。 実施例２の既存建物の直下地盤の液状化防止工法において、既存建物直下の液状化する虞のある地層にＸ軸方向の地盤改良壁を形成した段階を示した水平断面図である。 実施例２の既存建物の直下地盤の液状化防止工法において、既存建物直下の液状化する虞のある地層にＹ軸方向の地盤改良壁を形成した段階を示した水平断面図である。 実施例６の既存建物の直下地盤の液状化防止工法において、既存建物直下の液状化する虞のある地層に、Ｘ軸方向の地盤改良壁を複数本形成し、同地盤改良壁とＹ軸方向の地盤改良壁を格子状配置で形成する段階を示した水平断面図である。

符号の説明

１ 既存建物
２ 既存建物の直下地盤
２ａ 液状化する虞のある地層
３ 山留め壁
４ ディープウエル
５ 横坑
６ 作業領域
８ ソイルセメント
９ ソイルセメント
１０ａ 地盤改良壁
１０ｂ 地盤改良壁
１１ 横坑
１２ 作業領域
１３ 作業領域

Claims (7)

1. 既存建物の直下地盤に、比較的薄く堆積した液状化する虞のある地層について施工される液状化防止工法であって、
   既存建物の周囲に低透水層の深さまで到達する山留め壁を構築し、揚水によって地下水位を低下させ、同既存建物の周辺地盤を液状化する虞のある地層が露出する深さまで掘削して作業領域を形成し、同作業領域から、露出させた液状化する虞のある地層をトンネル状に掘削して横坑を形成し、同横坑内にセメント系固化剤と掘削土の混合体を充填して硬化させた地盤改良壁を形成し、更に同地盤改良壁の端部を延長させて山留め壁と一体化し、以下、前記の地盤改良壁が格子状配置となるように、液状化する虞のある地層に横坑の形成と地盤改良壁の形成を進めることを特徴とする、既存建物の直下地盤の液状化防止工法。
2. 既存建物の周囲に低透水層の深さまで到達する山留め壁を構築し、揚水によって地下水位を低下させる第１工程と、
   既存建物の周辺地盤において、同既存建物を挟んで相対峙する位置を、液状化する虞のある地層が露出する深さまで掘削して作業領域を形成し、同作業領域から、露出させた液状化する虞のある地層を既存建物の底面に届く高さまでトンネル状に掘削して横坑を形成し、同横坑内にセメント系固化剤と掘削土の混合体を充填して硬化させた地盤改良壁を形成し、更に同地盤改良壁の端部を延長させて山留め壁と一体化し、作業領域を埋め戻す第２工程と、
   以下、前記の地盤改良壁が格子状配置となるように、前記第２の工程を繰り返して地盤改良壁の形成を進めることを特徴とする、請求項１に記載した既存建物の直下地盤の液状化防止工法。
3. 既存建物の周囲に低透水層の深さまで到達する山留め壁を構築し、揚水によって地下水位を低下させる第１工程と、
   既存建物の周辺地盤において、同既存建物を挟んで相対峙する位置を、液状化する虞のある地層が露出する深さまで掘削して作業領域を形成し、同作業領域から、露出させた液状化する虞のある地層を既存建物の底面に届く高さまでトンネル状に掘削して横坑を形成し、同横坑内にセメント系固化剤と掘削土の混合体を充填して硬化させた地盤改良壁を形成し、作業領域を埋め戻す第２工程と、
   以下、前記の地盤改良壁が格子状配置となるように、前記第２の工程を繰り返して地盤改良壁の形成を進め、既存建物の外周部から地盤改良装置を用いて、地盤改良壁の端部を延長させて山留め壁と一体化することを特徴とする、請求項１に記載した既存建物の直下地盤の液状化防止工法。
4. 既存建物の周囲に低透水層の深さまで到達する山留め壁を構築し、揚水によって地下水位を低下させ、同既存建物の周辺地盤全域を、液状化する虞のある地層が露出する深さまで掘削して作業領域を形成する第１工程と、
   前記作業領域から、露出させた液状化する虞のある地層を既存建物の底面に届く高さまでトンネル状に掘削して横坑を形成し、同横坑にセメント系固化剤と掘削土の混合体を充填して硬化させた地盤改良壁を形成し、同地盤改良壁の端部を延長させて山留め壁と一体化する第２工程と、
   以下、前記の地盤改良壁が格子状配置となるように、前記第２の工程を繰り返して地盤改良壁の形成を進め、最終的に作業領域を埋め戻すことを特徴とする、請求項１に記載した既存建物の直下地盤の液状化防止工法。
5. 既存建物の周囲に低透水層の深さまで到達する山留め壁を構築し、揚水によって地下水位を低下させ、同既存建物の周辺地盤全域を、液状化する虞のある地層が露出する深さまで掘削して作業領域を形成する第１工程と、
   前記作業領域から、露出させた液状化する虞のある地層を既存建物の底面に届く高さまでトンネル状に掘削して横坑を形成し、同横坑にセメント系固化剤と掘削土の混合体を充填して硬化させた地盤改良壁を形成する第２工程と、
   以下、前記の地盤改良壁が格子状配置となるように、前記第２の工程を繰り返して地盤改良壁の形成を進め、最終的に作業領域を埋め戻し、更に既存建物の外周部から地盤改良装置を用いて、地盤改良壁の端部を延長させて山留め壁と一体化することを特徴とする、請求項１に記載した既存建物の直下地盤の液状化防止工法。
6. 液状化する虞のある地層をトンネル状に掘削するに際し、掘削した法面を含む地盤をセメント系固化剤と掘削土の混合体で補強しつつ、掘削を進めることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一に記載した既存建物の直下地盤の液状化防止工法。
7. 既存建物の直下地盤に比較的薄く堆積した、液状化する虞のある地層について施工される液状化防止工法であって、
   既存建物の周囲に低透水層の深さまで到達する山留め壁を構築し、揚水によって地下水位を低下させ、同既存建物の周辺地盤を液状化する虞のある地層が露出する深さまで掘削して作業領域を形成し、同作業領域から、露出させた液状化する虞のある地層をトンネル状に掘削して横坑を形成し、同横坑内にセメント系固化剤と掘削土の混合体を充填して硬化させた地盤改良壁を形成し、以下、前記の地盤改良壁が格子状配置となるように、液状化する虞のある地層に横坑の形成と地盤改良壁の形成を進めることを特徴とする、既存建物の直下地盤の液状化防止工法。

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