JP2006130436A - 液滴吐出装置、液滴吐出方法、電気光学装置の製造方法及び電子機器 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 48
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 20
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 57
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 13
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 5
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 41
- 239000000463 material Substances 0.000 description 15
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 11
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 11
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 239000011344 liquid material Substances 0.000 description 6
- 239000010408 film Substances 0.000 description 5
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 4
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 3
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 3
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 3
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 230000021615 conjugation Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
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- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
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Abstract
【課題】 画素の間隔と液滴の着弾間隔との関係を容易に最適化するとともに、印字(吐出)処理の効率化を図ることができる液滴吐出方法等を提案する。
【解決手段】 複数のノズルが列状に配置された吐出ヘッド20を備える液滴吐出装置IJにおいて、吐出ヘッド20と複数の描画対象領域Gを有する基板Kとは、吐出ヘッド20と基板Kとを相対的に走査させる方向に略直交する面内において、所定角度をなすように配置した。
【選択図】 図3
【解決手段】 複数のノズルが列状に配置された吐出ヘッド20を備える液滴吐出装置IJにおいて、吐出ヘッド20と複数の描画対象領域Gを有する基板Kとは、吐出ヘッド20と基板Kとを相対的に走査させる方向に略直交する面内において、所定角度をなすように配置した。
【選択図】 図3
Description
本発明は、液滴吐出装置、液滴吐出方法、電気光学装置の製造方法及び電子機器に関する。
近年、有機蛍光材料等の発光材料をインク化し、このインクをインクジェット法により基板上にパターニングした後、これを乾燥させることで、例えば陽極及び陰極の間に発光材料からなる発光層が挟持された構造のカラー有機エレクトロルミネッセンス装置(有機EL装置)を製造する技術が普及している。同様に、液晶ディスプレイのカラーフィルタの製造においても、インクジェット法を用いた製造技術が普及している。このようなインクジェット法を用いて有機EL装置や液晶のカラーフィルタを製造する場合には、効率化のために、一度に多数の画素に対してインクを吐出する方法が用いられる。
通常、各画素の間隔(画素ピッチ)とインクを吐出するノズルの間隔(ノズルピッチ)との関係は考慮されていないため、製造されたディスプレイ上に筋状のむらが発生する場合がある。すなわち、画素の間隔に合わせて液滴の着弾間隔を規定していないので、各画素に着弾する液滴の数と各画素における液滴の位置が不均一となり、このような状態で一定方向に走査しながら液滴吐出を行うと筋状のむらが発生してしまう。この問題を解決するためには、画素の間隔がノズルの間隔の自然数倍である必要があるが、様々な種類のディスプレイを製造する際に、製造するディスプレイの画素の間隔に合わせて、ノズルの間隔を調整等するのは非効率である。
このため、ノズルが形成されたノズルヘッドを、基板に平行な面内において走査方向に対して傾斜させることにより、液滴の着弾間隔を各画素の間隔を自然数倍に調整する技術が提案されている。
特許第3459812号公報(第7図)
特開2000−89019号公報(第1図)
通常、各画素の間隔(画素ピッチ)とインクを吐出するノズルの間隔(ノズルピッチ)との関係は考慮されていないため、製造されたディスプレイ上に筋状のむらが発生する場合がある。すなわち、画素の間隔に合わせて液滴の着弾間隔を規定していないので、各画素に着弾する液滴の数と各画素における液滴の位置が不均一となり、このような状態で一定方向に走査しながら液滴吐出を行うと筋状のむらが発生してしまう。この問題を解決するためには、画素の間隔がノズルの間隔の自然数倍である必要があるが、様々な種類のディスプレイを製造する際に、製造するディスプレイの画素の間隔に合わせて、ノズルの間隔を調整等するのは非効率である。
このため、ノズルが形成されたノズルヘッドを、基板に平行な面内において走査方向に対して傾斜させることにより、液滴の着弾間隔を各画素の間隔を自然数倍に調整する技術が提案されている。
しかしながら、上述した技術では、ノズルヘッドを走査方向に対して傾けているので、必然的にノズルヘッドを基板に対して走査させる距離が長くなってしまう。また、印字する画像情報からノズルヘッドに印加する印字データを求めるために複雑な演算処理が必要となるため、吐出時のノズルヘッドの走査速度等に制約が生じてしまう。このため、印字(吐出)処理時間が長くなってしまうという問題がある。
本発明は、上述した事情に鑑みてなされたもので、画素の間隔と液滴の着弾間隔との関係を容易に最適化するとともに、印字(吐出)処理の効率化を図ることができる液滴吐出方法、液滴吐出装置等を提案することを目的とする。
本発明に係る液滴吐出装置、液滴吐出方法、電気光学装置の製造方法及び電子機器では、上記課題を解決するために以下の手段を採用した。
第1の発明は、複数のノズルが列状に配置された吐出ヘッドを備える液滴吐出装置において、吐出ヘッドと複数の描画対象領域を有する基板とは、吐出ヘッドと基板とを相対的に走査させる方向に略直交する面内において、所定角度をなすように配置した。
この発明によれば、描画対象領域の間隔と液滴の着弾間隔との関係を容易に最適化することができるので、各描画対象領域内に着弾する液滴の数と着弾位置を均一化し、むらのない描画対象領域を形成できる。また、液滴吐出ヘッドを走査方向に傾ける場合に比べて、液滴吐出時間の短縮と、描画データの処理を簡略化することができる。したがって、効率よく描画処理(液滴吐出処理)を行うことができる。
また、所定角度は、複数のノズルの間隔と複数の描画対象領域の間隔とに基づいて規定されるものでは、描画対象領域の間隔と液滴の着弾間隔との関係が最適化されて、むらのない描画対象領域を形成できる。
第1の発明は、複数のノズルが列状に配置された吐出ヘッドを備える液滴吐出装置において、吐出ヘッドと複数の描画対象領域を有する基板とは、吐出ヘッドと基板とを相対的に走査させる方向に略直交する面内において、所定角度をなすように配置した。
この発明によれば、描画対象領域の間隔と液滴の着弾間隔との関係を容易に最適化することができるので、各描画対象領域内に着弾する液滴の数と着弾位置を均一化し、むらのない描画対象領域を形成できる。また、液滴吐出ヘッドを走査方向に傾ける場合に比べて、液滴吐出時間の短縮と、描画データの処理を簡略化することができる。したがって、効率よく描画処理(液滴吐出処理)を行うことができる。
また、所定角度は、複数のノズルの間隔と複数の描画対象領域の間隔とに基づいて規定されるものでは、描画対象領域の間隔と液滴の着弾間隔との関係が最適化されて、むらのない描画対象領域を形成できる。
また、複数のノズルが列状に配置された複数の吐出ヘッドを備える液滴吐出装置において、吐出ヘッドのうちの少なくとも1つ以上は、吐出ヘッドと複数の描画対象領域を有する基板とを相対的に走査させる方向に略直交する面内において、基板に対して所定角度をなすように傾斜して配置されるようにした。
この発明によれば、複数の吐出ヘッドを備える場合であっても、描画対象領域の間隔と液滴の着弾間隔との関係を容易に最適化することができる。これにより、各描画対象領域内に着弾する液滴の数と着弾位置を均一化し、むらのない描画対象領域を形成できる。
また、所定角度は、複数のノズルの間隔と複数の描画対象領域の間隔とに基づいて規定されるものでは、描画対象領域の間隔と液滴の着弾間隔との関係が最適化されて、むらのない描画対象領域を形成できる。
また、複数の吐出ヘッドは、各吐出ヘッドを同一回転方向に傾斜して配置したり、回転方向が互い違いとなるように各吐出ヘッドを傾斜して配置したりすることができる。
この発明によれば、複数の吐出ヘッドを備える場合であっても、描画対象領域の間隔と液滴の着弾間隔との関係を容易に最適化することができる。これにより、各描画対象領域内に着弾する液滴の数と着弾位置を均一化し、むらのない描画対象領域を形成できる。
また、所定角度は、複数のノズルの間隔と複数の描画対象領域の間隔とに基づいて規定されるものでは、描画対象領域の間隔と液滴の着弾間隔との関係が最適化されて、むらのない描画対象領域を形成できる。
また、複数の吐出ヘッドは、各吐出ヘッドを同一回転方向に傾斜して配置したり、回転方向が互い違いとなるように各吐出ヘッドを傾斜して配置したりすることができる。
第2の発明は、複数のノズルが列状に形成された吐出ヘッドから基板に対して液滴を吐出させる液滴吐出方法において、複数の描画対象領域を有する基板と吐出ヘッドとを相対的に走査させる際に、走査の方向に略直交する面内において所定角度をなすように傾斜させつつ、液滴を吐出するようにした。
この発明によれば、描画対象領域の間隔と液滴の着弾間隔との関係を容易に最適化することができるので、各描画対象領域内に着弾する液滴の数と着弾位置を均一化し、むらのない描画対象領域を形成できる。
また、所定角度は、各描画対象領域に対して、吐出ヘッドから同数の液滴を略同一位置に配置可能となるように規定されるものでは、描画対象領域の間隔と液滴の着弾間隔との関係が最適化されて、むらのない描画対象領域を形成できる。
この発明によれば、描画対象領域の間隔と液滴の着弾間隔との関係を容易に最適化することができるので、各描画対象領域内に着弾する液滴の数と着弾位置を均一化し、むらのない描画対象領域を形成できる。
また、所定角度は、各描画対象領域に対して、吐出ヘッドから同数の液滴を略同一位置に配置可能となるように規定されるものでは、描画対象領域の間隔と液滴の着弾間隔との関係が最適化されて、むらのない描画対象領域を形成できる。
第3の発明は、電気光学装置の製造方法として、第2の発明によって製造するようにした。
この発明によれば、均一かつ高精細な表示装置としての電気光学装置を効率よく製造することができる。
この発明によれば、均一かつ高精細な表示装置としての電気光学装置を効率よく製造することができる。
第4の発明は、電子機器が、第3の発明の電気光学装置の製造方法によって製造された電気光学装置を備えるようにした。
この発明によれば、均一かつ高精細な表示部を備える電子機器を得ることができる。
この発明によれば、均一かつ高精細な表示部を備える電子機器を得ることができる。
以下、本発明の液滴吐出装置、液滴吐出方法、電気光学装置の製造方法及び電子機器の実施形態について、図を参照して説明する。
[液滴吐出装置]
図1は、本発明の液滴吐出装置IJを示す概略斜視図である。
液滴吐出装置IJは、基板Kの表面(所定面)に液滴を配置可能な装置であって、ベース12と、ベース12上に設けられ、基板Kを支持するステージSTと、ベース12とステージSTとの間に介在し、ステージSTを移動可能に支持する第1移動装置IJ4(不図示)と、ステージSTに支持されている基板Kに対して、有機機能層の形成材料を含む液滴を定量的に吐出(滴下)可能な液滴吐出ヘッド20と、液滴吐出ヘッド20を移動可能に支持する第2移動装置IJ6(不図示)とを備えている。液滴吐出ヘッド20の液滴の吐出動作や、第1移動装置IJ4及び第2移動装置IJ6の移動動作を含む液滴吐出装置IJの動作は制御装置CONTにより制御される。
図1は、本発明の液滴吐出装置IJを示す概略斜視図である。
液滴吐出装置IJは、基板Kの表面(所定面)に液滴を配置可能な装置であって、ベース12と、ベース12上に設けられ、基板Kを支持するステージSTと、ベース12とステージSTとの間に介在し、ステージSTを移動可能に支持する第1移動装置IJ4(不図示)と、ステージSTに支持されている基板Kに対して、有機機能層の形成材料を含む液滴を定量的に吐出(滴下)可能な液滴吐出ヘッド20と、液滴吐出ヘッド20を移動可能に支持する第2移動装置IJ6(不図示)とを備えている。液滴吐出ヘッド20の液滴の吐出動作や、第1移動装置IJ4及び第2移動装置IJ6の移動動作を含む液滴吐出装置IJの動作は制御装置CONTにより制御される。
第1移動装置IJ4はベース12の上に設置されており、Y軸方向に沿って位置決めされている。第2移動装置IJ6は、ベース12の後部12Aに立てられた支柱16A,16Aにより第1移動装置IJ4の上方に支持されている。第2移動装置IJ6のX軸方向は第1移動装置IJ4のY軸方向と直交する方向である。ここで、Y軸方向はベース12の前部12Bと後部12A方向に沿った方向である。これに対してX軸方向はベース12の左右方向に沿った方向であり、各々水平である。また、Z軸方向はX軸方向及びY軸方向に垂直な方向である。
第1移動装置IJ4は例えばリニアモータによって構成され、2本のガイドレール40と、これらのガイドレール40,40に沿って移動可能なスライダー42とを備えている。
このリニアモータ形式の第1移動装置IJ4のスライダー42はガイドレール40に沿ってY軸方向に移動して位置決め可能である。スライダー42はZ軸回り(θZ)用のモータ44を備えている。このモータ44は例えばダイレクトドライブモータであり、モータ44のロータはステージSTに固定されている。これにより、モータ44に通電することでロータとステージSTとはθZ方向に沿って回転してステージSTをインデックス(回転割り出し)することができる。すなわち、第1移動装置IJ4はステージSTをY軸方向及びθZ方向に移動可能である。
このリニアモータ形式の第1移動装置IJ4のスライダー42はガイドレール40に沿ってY軸方向に移動して位置決め可能である。スライダー42はZ軸回り(θZ)用のモータ44を備えている。このモータ44は例えばダイレクトドライブモータであり、モータ44のロータはステージSTに固定されている。これにより、モータ44に通電することでロータとステージSTとはθZ方向に沿って回転してステージSTをインデックス(回転割り出し)することができる。すなわち、第1移動装置IJ4はステージSTをY軸方向及びθZ方向に移動可能である。
ステージSTは基板Kを保持し所定の位置に位置決めするものである。また、ステージSTは吸着保持装置50を有しており、吸着保持装置50が作動することによりステージSTに設けられた吸入孔46Aを通して基板KをステージSTの上に吸着して保持する。
第2移動装置IJ6はリニアモータによって構成され、支柱16A,16Aに固定されたコラム16Bと、このコラム16Bに支持されているガイドレール62Aと、ガイドレール62Aに沿ってX軸方向に移動可能に支持されているスライダー60とを備えている。
スライダー60はガイドレール62Aに沿ってX軸方向に移動して位置決め可能であり、液滴吐出ヘッド20はスライダー60に取り付けられている。
第2移動装置IJ6はリニアモータによって構成され、支柱16A,16Aに固定されたコラム16Bと、このコラム16Bに支持されているガイドレール62Aと、ガイドレール62Aに沿ってX軸方向に移動可能に支持されているスライダー60とを備えている。
スライダー60はガイドレール62Aに沿ってX軸方向に移動して位置決め可能であり、液滴吐出ヘッド20はスライダー60に取り付けられている。
液滴吐出ヘッド20は揺動位置決め装置としてのモータ62,64,66,68を有している。モータ62を作動すれば、液滴吐出ヘッド20はZ軸に沿って上下動して位置決め可能である。このZ軸はX軸とY軸に対して各々直交する方向(上下方向)である。モータ64により液滴吐出ヘッド20はY軸回りのβ方向に沿って揺動され、モータ66により液滴吐出ヘッド20はX軸回りのγ方向に揺動され、モータ68により液滴吐出ヘッド20はZ軸回りのα方向に揺動される。すなわち、第2移動装置IJ6は液滴吐出ヘッド20をX軸方向及びZ軸方向に移動可能に支持するとともに、この液滴吐出ヘッド20をθX方向、θY方向、θZ方向に移動可能に支持する。
このように、液滴吐出ヘッド20は、スライダー60において、Z軸方向に直線移動して位置決め可能で、α,β,γ方向に沿って揺動して位置決め可能であり、液滴吐出ヘッド20の吐出面20Pは、ステージST側の基板Kに対して正確に位置あるいは姿勢をコントロールすることができる。なお、液滴吐出ヘッド20の吐出面20Pには液滴を吐出する複数のノズルが設けられている。
図2は、液滴吐出装置IJに設けられた液滴吐出ヘッド20を示す図である。
液滴吐出ヘッド20は、図2(a)に示すように、複数のノズル81を有するノズルプレート80と、振動板85を有する圧力室基板90と、これらノズルプレート80と振動板85とを嵌め込んで支持する筐体88とを備えて構成されている。また、液滴吐出ヘッド20の主要部構造は、図2(b)に示すように、圧力室基板90をノズルプレート80と振動板85とで挟み込んだ構造とされている。ノズルプレート80のノズル81は、各々圧力室基板90に区画形成された圧力室(キャビティ)91に対応している。圧力室基板90には、シリコン単結晶基板等をエッチングすることにより、各々が圧力室として機能可能にキャビティ91が複数設けられている。キャビティ91同士の間は側壁92で分離されている。
各キャビティ91は供給口94を介して共通の流路であるリザーバ93に繋がっている。また、振動板85は例えば熱酸化膜等により構成される。
液滴吐出ヘッド20は、図2(a)に示すように、複数のノズル81を有するノズルプレート80と、振動板85を有する圧力室基板90と、これらノズルプレート80と振動板85とを嵌め込んで支持する筐体88とを備えて構成されている。また、液滴吐出ヘッド20の主要部構造は、図2(b)に示すように、圧力室基板90をノズルプレート80と振動板85とで挟み込んだ構造とされている。ノズルプレート80のノズル81は、各々圧力室基板90に区画形成された圧力室(キャビティ)91に対応している。圧力室基板90には、シリコン単結晶基板等をエッチングすることにより、各々が圧力室として機能可能にキャビティ91が複数設けられている。キャビティ91同士の間は側壁92で分離されている。
各キャビティ91は供給口94を介して共通の流路であるリザーバ93に繋がっている。また、振動板85は例えば熱酸化膜等により構成される。
振動板85にはタンク口86が設けられ、図1に示したタンク30からパイプ(流路)31を通じて任意の量の液体材料を供給可能に構成されている。振動板85上のキャビティ91に相当する位置には圧電体素子87が配設されている。圧電体素子87はPZT素子等の圧電性セラミックスの結晶を上部電極及び下部電極(図示せず)で挟んだ構造を備える。圧電体素子87は制御装置CONTから供給される吐出信号に対応して体積変化を発生可能に構成されている。
液滴吐出ヘッド20から液滴を吐出するには、制御装置CONTが液滴を吐出させるための吐出信号を液滴吐出ヘッド20に供給する。液体材料は液滴吐出ヘッド20のキャビティ91に流入しており、吐出信号が供給された液滴吐出ヘッド20では、その圧電体素子87がその上部電極と下部電極との間に加えられた電圧により体積変化を生ずる。この体積変化は振動板85を変形させ、キャビティ91の体積を変化させる。この結果、そのキャビティ91のノズル81から液滴が吐出される。液滴が吐出されたキャビティ91には吐出によって減った液体材料が新たにタンク30から供給される。本実施形態に係る液滴吐出装置IJに備えられた液滴吐出ヘッド20は、圧電体素子に体積変化を生じさせて液滴を吐出させる構成であるが、発熱体により液体材料に熱を加えその膨張によって液滴を吐出させるような構成であってもよい。
[液滴吐出方法]
次に、上述した液滴吐出装置IJを用いて基板Kに液滴を吐出する方法について説明する。
図3は、基板K上の画素Gと液滴吐出ヘッド10のノズル81との位置関係図を示す図である。なお、図3において黒丸は液滴Lが着弾した位置、白丸(破線)は液滴Lを吐出しない位置をしめす。
従来は、図3(a)に示すように、液滴吐出装置IJから基板Kに向けて液滴Lを吐出する際には、液滴吐出ヘッド20のモータ62,64,66,68をそれぞれ駆動して、液滴吐出ヘッド20を基板Kに対して平行にし、かつ液滴吐出ヘッド20と基板Kとの距離を所定距離に一定に維持する。液滴吐出ヘッド20と基板Kとの相対位置関係が上述した状態において基板K上の画素Gに対して液滴Lを吐出すると、図3(b)に示すように、液滴Lが画素G内に着弾する。
この際、画素GのX方向の配置間隔(画素ピッチPg)が、液滴Lの着弾位置の間隔(すなわち、液滴吐出ヘッド20に形成されたノズル81の配置間隔(ノズルピッチPn))の自然数倍でないと、各画素G1〜G3に着弾する液滴Lの数が同数となるとは限らない。また、仮に同数の液滴Lが着弾する場合であっても、各画素G1〜G3における液滴Lの着弾位置(画素内における液滴Lの着弾位置)は異なってしまう。
このため、例えば、画素G1における最も画素G2側に着弾した液滴Lと、画素G2における最も画素G1側に着弾した液滴Lとの距離が大きくなって、基板Kを遠くから見ると筋状のむらとなる場合がある。
次に、上述した液滴吐出装置IJを用いて基板Kに液滴を吐出する方法について説明する。
図3は、基板K上の画素Gと液滴吐出ヘッド10のノズル81との位置関係図を示す図である。なお、図3において黒丸は液滴Lが着弾した位置、白丸(破線)は液滴Lを吐出しない位置をしめす。
従来は、図3(a)に示すように、液滴吐出装置IJから基板Kに向けて液滴Lを吐出する際には、液滴吐出ヘッド20のモータ62,64,66,68をそれぞれ駆動して、液滴吐出ヘッド20を基板Kに対して平行にし、かつ液滴吐出ヘッド20と基板Kとの距離を所定距離に一定に維持する。液滴吐出ヘッド20と基板Kとの相対位置関係が上述した状態において基板K上の画素Gに対して液滴Lを吐出すると、図3(b)に示すように、液滴Lが画素G内に着弾する。
この際、画素GのX方向の配置間隔(画素ピッチPg)が、液滴Lの着弾位置の間隔(すなわち、液滴吐出ヘッド20に形成されたノズル81の配置間隔(ノズルピッチPn))の自然数倍でないと、各画素G1〜G3に着弾する液滴Lの数が同数となるとは限らない。また、仮に同数の液滴Lが着弾する場合であっても、各画素G1〜G3における液滴Lの着弾位置(画素内における液滴Lの着弾位置)は異なってしまう。
このため、例えば、画素G1における最も画素G2側に着弾した液滴Lと、画素G2における最も画素G1側に着弾した液滴Lとの距離が大きくなって、基板Kを遠くから見ると筋状のむらとなる場合がある。
このような筋状のむらを解消するためには、各画素G1〜G3内に、同数の液滴Lを同一位置に配置することが望ましい。
そこで、図3(c)に示すように、液滴吐出ヘッド20のモータ64を駆動して、液滴吐出ヘッド20をY軸廻り(β方向)に回転させて、液滴吐出ヘッド20を基板Kに対して傾斜させる。すなわち、液滴吐出ヘッド20を走査方向(Y方向)に直交する面(XZ面)内において傾け、液滴吐出ヘッド20と基板Kとが所定角度βxをなすようにする。つまり、液滴吐出ヘッド20を基板Kに対して傾けることにより、ノズル81の基板Kに平行な方向(X方向)の配置間隔(ノズルピッチPnのX方向成分Pnx)を変化させることができるので、液滴Lの着弾位置のピッチPを画素GのX方向の配置間隔(画素ピッチPg)の自然数倍にすることが可能となる。
そこで、図3(c)に示すように、液滴吐出ヘッド20のモータ64を駆動して、液滴吐出ヘッド20をY軸廻り(β方向)に回転させて、液滴吐出ヘッド20を基板Kに対して傾斜させる。すなわち、液滴吐出ヘッド20を走査方向(Y方向)に直交する面(XZ面)内において傾け、液滴吐出ヘッド20と基板Kとが所定角度βxをなすようにする。つまり、液滴吐出ヘッド20を基板Kに対して傾けることにより、ノズル81の基板Kに平行な方向(X方向)の配置間隔(ノズルピッチPnのX方向成分Pnx)を変化させることができるので、液滴Lの着弾位置のピッチPを画素GのX方向の配置間隔(画素ピッチPg)の自然数倍にすることが可能となる。
具体的には、液滴吐出ヘッド20を基板Kに対して角度βx傾けると、ノズル81の配置間隔の水平方向成分(ノズルピッチPnのX方向成分Pnx)は、式(1)により表される。
Pnx=Pn/cosβx ・・・(1)
そして、ノズルピッチPnのX方向成分Pnxが、画素Gの非走査方向(X方向)の配置間隔(画素ピッチPg)の自然数δ倍にするためには、式(2)を成立させる。
Pg=δ・Pnx=δ(Pn/cosβx) ・・・(2)
したがって、式(2)を満足する角度βxは、式(3)により表される。
βx=cos−1(δ・Pn/Pg) ・・・(3)
なお、自然数δは、(δ・Pn/Pg)の値が1以下である必要があり、また角度βxを最小限に抑えることが望ましいので、Pg/Pn以下で最も大きな自然数である。
Pnx=Pn/cosβx ・・・(1)
そして、ノズルピッチPnのX方向成分Pnxが、画素Gの非走査方向(X方向)の配置間隔(画素ピッチPg)の自然数δ倍にするためには、式(2)を成立させる。
Pg=δ・Pnx=δ(Pn/cosβx) ・・・(2)
したがって、式(2)を満足する角度βxは、式(3)により表される。
βx=cos−1(δ・Pn/Pg) ・・・(3)
なお、自然数δは、(δ・Pn/Pg)の値が1以下である必要があり、また角度βxを最小限に抑えることが望ましいので、Pg/Pn以下で最も大きな自然数である。
上述したように、液滴吐出ヘッド20のモータ64を駆動して、画素ピッチPgがノズルピッチPnの水平方向成分Pnxの自然数倍になるように液滴吐出ヘッド20を基板Kに対して傾けると、図3(d)に示すように、各画素G1〜G3に着弾する液滴Lの数が同数となると共に、液滴Lの画素G内の着弾位置も略均一となる。したがって、基板Kを遠くから見た際に、筋むら等のない均一な画素が形成される。
なお、液滴吐出ヘッド20のモータ62を駆動して、液滴吐出ヘッド20をZ軸廻りに回転させて走査方向(Y方向)に対して傾けることによっても、各画素G1〜G3に着弾する液滴Lの数と着弾位置を略均一にすることができる。
しかしながら、液滴吐出ヘッド20と基板Kとの走査距離が伸びてしまう。また、吐出データの演算が複雑となって、その結果、走査速度を上げられなくなるという問題がある。
一方、上述した実施形態のように、液滴吐出ヘッド20のモータ64を駆動して、液滴吐出ヘッド20をY軸廻りに回転させて、基板Kに対して傾けた場合には、液滴吐出ヘッド20と基板Kとの走査距離が長くなることはなく、また、吐出データの演算も簡単に求められる。したがって、走査速度を上げることも可能である。したがって、効率的に吐出処理を行うことが可能となる。
しかしながら、液滴吐出ヘッド20と基板Kとの走査距離が伸びてしまう。また、吐出データの演算が複雑となって、その結果、走査速度を上げられなくなるという問題がある。
一方、上述した実施形態のように、液滴吐出ヘッド20のモータ64を駆動して、液滴吐出ヘッド20をY軸廻りに回転させて、基板Kに対して傾けた場合には、液滴吐出ヘッド20と基板Kとの走査距離が長くなることはなく、また、吐出データの演算も簡単に求められる。したがって、走査速度を上げることも可能である。したがって、効率的に吐出処理を行うことが可能となる。
なお、上述した実施形態においては、液滴吐出ヘッド20をモータ64により回転させる場合について説明したが、これに限らない。例えば、液滴吐出ヘッド20を所定角度βxに傾けた状態で固定してもよい。また、液滴吐出ヘッド20を傾けずに、基板Kを液滴吐出ヘッド20に対して傾けるようにしてもよい。液滴吐出ヘッド20及び基板Kを共に傾ける場合であってもよい。
また、液滴吐出ヘッド20の傾け方としては、液滴吐出ヘッド20の中央を回転中心とする方法に限らず、液滴吐出ヘッド20の端部を回転中心とする方法であってもよい。
また、液滴吐出ヘッド20の傾け方としては、液滴吐出ヘッド20の中央を回転中心とする方法に限らず、液滴吐出ヘッド20の端部を回転中心とする方法であってもよい。
また、液滴吐出ヘッド20を傾けた場合には、液滴Lの着弾精度が悪化(飛行曲り)することが考えられるが、基板Kとの距離が所定範囲内にあるノズルのみから液滴Lを吐出するように制限することにより防止可能である。
また、基板Kを傾けた場合には、画素G内に着弾した液滴Lが漏れ出すことが考えられるが、例えば、液滴Lの粘度を調整したり、画素Gを形成するバンクの高さを調整したりすることにより防止可能である。
また、基板Kを傾けた場合には、画素G内に着弾した液滴Lが漏れ出すことが考えられるが、例えば、液滴Lの粘度を調整したり、画素Gを形成するバンクの高さを調整したりすることにより防止可能である。
また、上述した実施形態においては、液滴吐出ヘッド20が一つの場合について説明したが、複数の液滴吐出ヘッド20を備える場合であってもよい。なお、複数の液滴吐出ヘッド20をX方向に並べる場合には、外側に配置される液滴吐出ヘッド20と基板Kとの距離が大きくなって、液滴Lの飛行曲りが発生しやすくなり、液滴Lの着弾精度が悪化してしまう。
そこで、複数の液滴吐出ヘッド20を備える場合には、図4(a)に示すように全て液滴吐出ヘッド20を同一方向に傾けたり、図4(b)に示すよう液滴吐出ヘッド20を互い違いに傾けたりしてもよい。
また、複数の液滴吐出ヘッド20の全てを傾ける必要はなく、図4(c)に示すように所定の液滴吐出ヘッド20のみを傾けてもよい。
このように、複数の液滴吐出ヘッド20を備える場合には、傾ける個数、方向等を任意に選択することができる。これにより、複数の液滴吐出ヘッド20を効率的に配置することも可能となる。
そこで、複数の液滴吐出ヘッド20を備える場合には、図4(a)に示すように全て液滴吐出ヘッド20を同一方向に傾けたり、図4(b)に示すよう液滴吐出ヘッド20を互い違いに傾けたりしてもよい。
また、複数の液滴吐出ヘッド20の全てを傾ける必要はなく、図4(c)に示すように所定の液滴吐出ヘッド20のみを傾けてもよい。
このように、複数の液滴吐出ヘッド20を備える場合には、傾ける個数、方向等を任意に選択することができる。これにより、複数の液滴吐出ヘッド20を効率的に配置することも可能となる。
〔電気光学装置〕
次に、上記実施形態の液滴吐出装置IJを用いて製造される電気光学装置の一例について図5を参照して説明する。本実施形態では、電気光学装置の一例として有機EL装置を挙げて説明する。
図5は、本発明の実施形態に係る有機EL装置の製造工程を示す主要断面図である。
次に、上記実施形態の液滴吐出装置IJを用いて製造される電気光学装置の一例について図5を参照して説明する。本実施形態では、電気光学装置の一例として有機EL装置を挙げて説明する。
図5は、本発明の実施形態に係る有機EL装置の製造工程を示す主要断面図である。
図5(d)に示すように、有機EL装置201は、透明基板204上に画素電極202を形成し、各画素電極202間にバンク205を矢印V方向から見て格子状に形成する。
それらの格子状凹部の中に、正孔注入層220を形成し、矢印V方向から見てストライプ配列などといった所定の配列となるようにR色発光層203R、G色発光層203GおよびB色発光層203Bを各格子状凹部の中に形成する。さらに、それらの上に対向電極213を形成することによって有機EL装置201が形成される。
それらの格子状凹部の中に、正孔注入層220を形成し、矢印V方向から見てストライプ配列などといった所定の配列となるようにR色発光層203R、G色発光層203GおよびB色発光層203Bを各格子状凹部の中に形成する。さらに、それらの上に対向電極213を形成することによって有機EL装置201が形成される。
上記画素電極202をTFD(Thin Film Diode:薄膜ダイオード)素子などといった2端子型のアクティブ素子によって駆動する場合には、上記対向電極213は矢印V方向から見てストライプ状に形成される。また、画素電極202をTFT(Thin Film Transistor:薄膜トランジスタ)などといった3端子型のアクティブ素子によって駆動する場合には、上記対向電極213は単一な面電極として形成される。
各画素電極202と各対向電極213とによって挟まれる領域が1つの絵素ピクセルとなり、R、G、B3色の絵素ピクセルが1つのユニットとなって1つの画素を形成する。
各絵素ピクセルを流れる電流を制御することにより、複数の絵素ピクセルにおける希望するものを選択的に発光させ、これにより、矢印W方向に希望するフルカラー像を表示することができる。
各絵素ピクセルを流れる電流を制御することにより、複数の絵素ピクセルにおける希望するものを選択的に発光させ、これにより、矢印W方向に希望するフルカラー像を表示することができる。
上記有機EL装置201は、例えば、次に示す製造方法によって製造される。すなわち図5(a)のように、透明基板204の表面にTFD素子又はTFT素子といった能動素子を形成し、さらに画素電極202を形成する。形成方法としては、例えばフォトリソグラフィー法、真空蒸着法、スパッタリング法、パイロゾル法などを用いることができる。
画素電極202の材料としてはITO(Indium-Tin Oxide)、酸化スズ、酸化インジウムと酸化亜鉛との複合酸化物などを用いることができる。
画素電極202の材料としてはITO(Indium-Tin Oxide)、酸化スズ、酸化インジウムと酸化亜鉛との複合酸化物などを用いることができる。
次に、図5(a)に示すように、隔壁すなわちバンク205を周知のパターンニング手法、例えばフォトリソグラフィー法を用いて形成し、このバンク205によって各透明な画素電極202の間を埋める。これにより、コントラストの向上、発光材料の混色の防止、画素と画素との間からの光漏れなどを防止することができる。バンク205の材料としては、EL発光材料の溶媒に対して耐久性を有するものであれば特に限定されないが、フロロカーボンガスプラズマ処理によりテフロン(登録商標)化できること、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、感光性ポリイミドなどといった有機材料が好ましい。
次に、機能性液状体としての正孔注入層用インクを塗布する直前に、透明基板204に酸素ガスとフロロカーボンガスプラズマの連続プラズマ処理を行う。これにより、ポリイミド表面は撥水化され、ITO表面は親水化され、液滴を微細にパターニングするための基板側の濡れ性の制御ができる。プラズマを発生する装置としては、真空中でプラズマを発生する装置でも、大気中でプラズマを発生する装置でも同様に用いることができる。
次に、図5(a)に示すように、正孔注入層用インクの液滴258を図1に示す液滴吐出装置IJの吐出ヘッド20から吐出し、各画素電極202の上にパターニング塗布を行う。この液滴258の吐出は、上述の本発明に係る液滴吐出方法で行われる。したがって、液滴258は、バンク205で囲まれた所望の吐出領域すなわち各フィルタエレメント形成領域内にばらつきなく正確に揃えられて着弾する。その塗布後、真空(1torr)中、室温、20分という条件で溶媒を除去する。この後、大気中、200℃(ホットプレート上)、10分の熱処理により、発光層用インクと相溶しない正孔注入層220を形成する。上記条件では、膜厚は40nmであった。
次に、図5(b)に示すように、各フィルタエレメント形成領域内の正孔注入層220の上に、機能性液状体であるEL発光材料としてのR発光層用インクおよび機能性液状体であるEL発光材料としてのG発光層用インクを塗布する。ここでも、各発光層用インクは、図1に示す液滴吐出装置IJの吐出ヘッド20から液滴258として吐出されて各フィルタエレメント形成領域内に着弾する。そして、この液滴258の吐出も本発明に係る液滴吐出方法で行われるので、各液滴258は各フィルタエレメント形成領域内にばらつきなく正確に揃えられて着弾する。
発光層用インクの塗布後、真空(1torr)中、室温、20分などという条件で溶媒を除去する。続けて、窒素雰囲気中、150℃、4時間の熱処理により共役化させてR色発光層203RおよびG色発光層203Gを形成する。上記条件により、膜厚は50nmであった。熱処理により共役化した発光層は溶媒に不溶である。
なお、発光層を形成する前に正孔注入層220に酸素ガスとフロロカーボンガスプラズマの連続プラズマ処理を行ってもよい。これにより、正孔注入層220上にフッ素化物層が形成され、イオン化ポテンシャルが高くなることにより正孔注入効率が増し、発光効率の高い有機EL装置を提供できる。
次に、図5(c)に示すように、機能性液状体であるEL発光材料としてのB色発光層203Bを各絵素ピクセル内のR色発光層203R、G色発光層203Gおよび正孔注入層220の上に重ねて形成する。これにより、R、G、Bの3原色を形成するのみならず、R色発光層203RおよびG色発光層203Gとバンク205との段差を埋めて平坦化することができる。これにより、上下電極間のショートを確実に防ぐことができる。B色発光層203Bの膜厚を調整することで、B色発光層203BはR色発光層203RおよびG色発光層203Gとの積層構造において、電子注入輸送層として作用してB色には発光しない。
以上のようなB色発光層203Bの形成方法としては、例えば湿式法として一般的なスピンコート法を採用することもできるし、あるいは、R色発光層203RおよびG色発光層203Gの形成法と同様のインクジェット法を採用することもできる。
その後、図5(d)に示すように、対向電極213を形成することにより、目標とする有機EL装置201が製造される。対向電極213はそれが面電極である場合には、例えば、Mg、Ag、Al、Liなどを材料として、蒸着法、スパッタ法などといった成膜法を用いて形成できる。また、対向電極213がストライプ状電極である場合には、成膜された電極層をフォトリソグラフィー法などといったパターニング手法を用いて形成できる。
以上に説明した有機EL装置201の製造方法によれば、正孔注入層用インクおよび各発光層用インクについて、図1に示す液滴吐出装置IJの吐出ヘッド20から液滴258として吐出されて各フィルタエレメント形成領域内に着弾させることができる。したがって本製造方法によれば、正孔注入層用インク又は各発光層用インクがバンク205上にばらついて塗布されるなどの不具合を回避でき、大きな画面の全体について高精細で高品質な画像を表示できる大画面の有機EL装置201を簡便に製造することができる。
また、本実施形態の有機EL装置の製造方法では、液滴吐出装置IJを用いることにより、吐出ヘッド20を用いたインク吐出によってR、G、Bの各色絵素ピクセルを形成するので、フォトリソグラフィー法を用いる方法のような複雑な工程を経る必要もなく、またインクなどの材料を浪費することもない。
次に、本実施形態のEL装置の回路構成について図6および図7を参照して説明する。
図6は、図5に示す製造方法で製造された有機EL装置を構成要素とした表示装置の一部を示す回路図である。図7は、図6に示す表示装置における画素領域の平面構造を示す拡大平面図である。
図6は、図5に示す製造方法で製造された有機EL装置を構成要素とした表示装置の一部を示す回路図である。図7は、図6に示す表示装置における画素領域の平面構造を示す拡大平面図である。
図6において、表示装置501は有機EL装置であるEL表示素子を用いたアクティブマトリックス型の表示装置である。この表示装置501は、透明な表示基板502上に、複数の走査線503と、これら走査線503に対して交差する方向に延びる複数の信号線504と、これら信号線504に並列に延びる複数の共通給電線505とがそれぞれ配線された構成を有している。そして、走査線503と信号線504との各交点には、画素領域501Aが設けられている。
信号線504に対しては、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン、アナログスイッチを有したデータ側駆動回路507が設けられている。また、走査線503に対しては、シフトレジスタおよびレベルシフタを有した走査側駆動回路508が設けられている。そして、画素領域501Aのそれぞれには、走査線503を介して走査信号がゲート電極に供給されるスイッチング薄膜トランジスタ509と、このスイッチング薄膜トランジスタ509を介して信号線504から供給される画像信号を蓄積して保持する蓄積容量capと、この蓄積容量capによって保持された画像信号がゲート電極に供給されるカレント薄膜トランジスタ510と、このカレント薄膜トランジスタ510を介して共通給電線505に電気的に接続したときに共通給電線505から駆動電流が流れ込む画素電極511と、この画素電極511および反射電極512間に挟み込まれる発光素子513とが設けられている。
この構成により、走査線503が駆動されてスイッチング薄膜トランジスタ509がオンすると、その時の信号線504の電位が蓄積容量capに保持される。この蓄積容量capの状態に応じて、カレント薄膜トランジスタ510のオン・オフ状態が決まる。そして、カレント薄膜トランジスタ510のチャネルを介して、共通給電線505から画素電極511に電流が流れ、さらに発光素子513を通じて反射電極512に電流が流れる。
このことにより、発光素子513は、これを流れる電流量に応じて発光する。
このことにより、発光素子513は、これを流れる電流量に応じて発光する。
ここで、画素領域501Aは、反射電極512および発光素子513を取り除いた状態の表示装置501の拡大平面図である図7に示すように、平面状態が長方形の画素電極511の4辺が、信号線504、共通給電線505、走査線503および図示しない他の画素電極511用の走査線503によって囲まれた配置となっている。
このような構成の表示装置501は、上述の有機EL装置の製造方法を用いて製造されているので、比較的安価でありながら、大きな画面の全体について高精細で高品質な画像を表示することができる。
〔電子機器〕
次に、上記実施形態の電気光学装置を備えた電子機器について説明する。
図8(a)は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図8(a)において、符号1000は携帯電話本体を示し、符号1001は上記実施形態の電気光学装置からなる表示部を示している。
図8(b)は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図8(b)において、符号1100は時計本体を示し、符号1101は上記実施形態の電気光学装置からなる表示部を示している。
図8(c)は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図8(c)において、符号1200は情報処理装置、符号1202はキーボードなどの入力部、符号1204は情報処理装置本体、符号1206は上記実施形態の電気光学装置からなる表示部を示している。
次に、上記実施形態の電気光学装置を備えた電子機器について説明する。
図8(a)は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図8(a)において、符号1000は携帯電話本体を示し、符号1001は上記実施形態の電気光学装置からなる表示部を示している。
図8(b)は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図8(b)において、符号1100は時計本体を示し、符号1101は上記実施形態の電気光学装置からなる表示部を示している。
図8(c)は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図8(c)において、符号1200は情報処理装置、符号1202はキーボードなどの入力部、符号1204は情報処理装置本体、符号1206は上記実施形態の電気光学装置からなる表示部を示している。
図8に示す電子機器は、上記実施形態の電気光学装置を備えているので、表示部を大画面化しても、その表示部において高精細で高品質な画像を表示することができる。
なお、本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能であり、実施形態で挙げた具体的な材料や層構成などはほんの一例に過ぎず、適宜変更が可能である。例えば、上記実施形態では電気光学装置の一例として有機EL装置を挙げているが、本発明はこれに限定されるものではなく、プラズマディスプレイ装置、液晶装置などの各種電気光学装置に本発明を適用でき、カラーフィルタの着色材料の塗布などに本発明を適用することもできる。また本発明に係る液滴吐出装置による形成物は、画素などに限定されるものではなく、配線パターン、電極、各種半導体素子などを、本発明に係る液滴吐出装置を用いて形成することができる。
IJ…液滴吐出装置、 G…画素(描画対象領域)、 K…基板、 Pg…画素ピッチ(描画対象領域の間隔)、 Pn…ノズルピッチ(ノズルの間隔)、 Pnx…水平方向成分、 L…液滴、 81…ノズル、 20…液滴吐出ヘッド(吐出ヘッド)、 201…有機EL装置(電気光学装置)、 1000…携帯電話(電子機器)、 1100…腕時計型電子機器(電子機器)、 1200…携帯型情報処理装置(電子機器)
Claims (10)
- 複数のノズルが列状に配置された吐出ヘッドを備える液滴吐出装置において、
前記吐出ヘッドと複数の描画対象領域を有する基板とは、前記吐出ヘッドと前記基板とを相対的に走査させる方向に略直交する面内において、所定角度をなすように配置されることを特徴とする液滴吐出装置。 - 前記所定角度は、前記複数のノズルの間隔と前記複数の描画対象領域の間隔とに基づいて規定されることを特徴とする請求項1に記載の液滴吐出装置。
- 複数のノズルが列状に配置された複数の吐出ヘッドを備える液滴吐出装置において、
前記吐出ヘッドのうちの少なくとも1つ以上は、前記吐出ヘッドと複数の描画対象領域を有する基板とを相対的に走査させる方向に略直交する面内において、前記基板に対して所定角度をなすように傾斜して配置されることを特徴とする液滴吐出装置。 - 前記所定角度は、前記複数のノズルの間隔と前記複数の描画対象領域の間隔とに基づいて規定されることを特徴とする請求項3に記載の液滴吐出装置。
- 前記吐出ヘッドは、同一回転方向に傾斜して配置されることを特徴とする請求項3又は請求項4に記載の液滴吐出装置。
- 前記吐出ヘッドは、回転方向が互い違いとなるように傾斜して配置されることを特徴とする請求項3又は請求項4に記載の液滴吐出装置。
- 複数のノズルが列状に形成された吐出ヘッドから基板に対して液滴を吐出させる液滴吐出方法において、
複数の描画対象領域を有する基板と前記吐出ヘッドとを相対的に走査させる際に、前記走査の方向に略直交する面内において所定角度をなすように傾斜させつつ、前記液滴を吐出することを特徴とする液滴吐出方法。 - 前記所定角度は、前記各描画対象領域に対して、前記吐出ヘッドから同数の液滴を略同一位置に配置可能となるように規定されることを特徴とする請求項7に記載の液滴吐出方法。
- 請求項7又は請求項8に記載の液滴吐出方法によって、製造することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
- 請求項9に記載の電気光学装置の製造方法によって製造された電気光学装置を備えることを特徴とする電子機器。
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JP2004323662A JP2006130436A (ja) | 2004-11-08 | 2004-11-08 | 液滴吐出装置、液滴吐出方法、電気光学装置の製造方法及び電子機器 |
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JP2004323662A JP2006130436A (ja) | 2004-11-08 | 2004-11-08 | 液滴吐出装置、液滴吐出方法、電気光学装置の製造方法及び電子機器 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006130436A true JP2006130436A (ja) | 2006-05-25 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004323662A Withdrawn JP2006130436A (ja) | 2004-11-08 | 2004-11-08 | 液滴吐出装置、液滴吐出方法、電気光学装置の製造方法及び電子機器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2006130436A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2110254A1 (en) | 2008-03-28 | 2009-10-21 | Fujifilm Corporation | Liquid coating method, liquid coating device, and method of manufacturing radiation detector |
JP2011101874A (ja) * | 2009-11-10 | 2011-05-26 | Samsung Mobile Display Co Ltd | ディスペンシング装置及びディスペンシング方法 |
KR101103284B1 (ko) | 2010-03-15 | 2012-01-05 | 순천향대학교 산학협력단 | 액체 방울의 토출 방법 |
JP2013233708A (ja) * | 2012-05-08 | 2013-11-21 | Canon Inc | インクジェット記録装置 |
-
2004
- 2004-11-08 JP JP2004323662A patent/JP2006130436A/ja not_active Withdrawn
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US8133536B2 (en) | 2008-03-28 | 2012-03-13 | Fujifilm Corporation | Liquid coating method, liquid coating device, and method of manufacturing radiation detector |
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