JP2006103982A - 棒状導電性錫含有酸化インジウム微粉末の製造方法、及び棒状導電性錫含有酸化インジウム微粉末 - Google Patents
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- 239000000843 powder Substances 0.000 title claims abstract description 52
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 36
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 20
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 20
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 11
- VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N hexamethylenetetramine Chemical compound C1N(C2)CN3CN1CN2C3 VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 56
- 239000004312 hexamethylene tetramine Substances 0.000 claims abstract description 28
- 235000010299 hexamethylene tetramine Nutrition 0.000 claims abstract description 28
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims abstract description 19
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 18
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- 150000002471 indium Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- 229910021626 Tin(II) chloride Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 claims description 11
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 5
- 229960004011 methenamine Drugs 0.000 abstract description 26
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 23
- 239000000243 solution Substances 0.000 abstract description 12
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 7
- 239000000945 filler Substances 0.000 abstract description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 3
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 abstract 4
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000003917 TEM image Methods 0.000 description 6
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 6
- PSCMQHVBLHHWTO-UHFFFAOYSA-K indium(iii) chloride Chemical compound Cl[In](Cl)Cl PSCMQHVBLHHWTO-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 6
- 229910021617 Indium monochloride Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910021627 Tin(IV) chloride Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 5
- APHGZSBLRQFRCA-UHFFFAOYSA-M indium(1+);chloride Chemical compound [In]Cl APHGZSBLRQFRCA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- ZAPAMMDQEWCVAM-UHFFFAOYSA-N tin;hydrate Chemical class O.[Sn] ZAPAMMDQEWCVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 150000004677 hydrates Chemical class 0.000 description 2
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- ATRRKUHOCOJYRX-UHFFFAOYSA-N Ammonium bicarbonate Chemical compound [NH4+].OC([O-])=O ATRRKUHOCOJYRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XURCIPRUUASYLR-UHFFFAOYSA-N Omeprazole sulfide Chemical compound N=1C2=CC(OC)=CC=C2NC=1SCC1=NC=C(C)C(OC)=C1C XURCIPRUUASYLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910001854 alkali hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 235000012501 ammonium carbonate Nutrition 0.000 description 1
- 239000001099 ammonium carbonate Substances 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- VBXWCGWXDOBUQZ-UHFFFAOYSA-K diacetyloxyindiganyl acetate Chemical compound [In+3].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O VBXWCGWXDOBUQZ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGGKEGLBGGJEBZ-UHFFFAOYSA-N tetramethylenedisulfotetramine Chemical compound C1N(S2(=O)=O)CN3S(=O)(=O)N1CN2C3 AGGKEGLBGGJEBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- YJGJRYWNNHUESM-UHFFFAOYSA-J triacetyloxystannyl acetate Chemical compound [Sn+4].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O YJGJRYWNNHUESM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- YQMWDQQWGKVOSQ-UHFFFAOYSA-N trinitrooxystannyl nitrate Chemical compound [Sn+4].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O YQMWDQQWGKVOSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- Conductive Materials (AREA)
Abstract
【解決手段】 錫塩及びインジウム塩を水に溶解して、錫(Sn)とインジウム(In)を合量で0.001mol/L〜0.05mol/L含有する水溶液を調製し、この水溶液に前記錫(Sn)とインジウム(In)の合計モル量の20〜100倍量に相当する量のヘキサメチレンテトラミンを添加し、析出した析出物を焼成する。
【選択図】 なし
Description
ここで濃度を0.001〜0.05mol/Lにした理由は、0.001mol/L未満では生産性に劣るためであり、0.05mol/Lを越える場合には生成する棒状粒子のアスペクト比が5未満になってしまうからである。
このヘキサメチレンテトラミンは、錫とインジウムの沈殿剤として作用するものである。本発明においては、沈殿剤としてヘキサメチレンテトラミンを用いることが重要であり、沈殿材として従来から使用されているアンモニア水、水酸化アルカリ、炭酸アルカリ、炭酸アンモニウム等を用いると、本発明の目的を達成できない。
ヘキサメチレンテトラミンの加水分解により生成するホルムアルデヒドは、析出した沈殿物の表面に吸着されて結晶成長制御剤として作用するものと考えられる。
前記水溶液は、ヘキサメチレンテトラミンを添加した後に加熱すると、反応速度を高め、前記析出物を効率よく得ることができる。
加熱温度は効果的な反応速度を得るために80℃以上が好ましい。加熱時間は12〜24時間程度が好ましい。
焼成温度は、低すぎれば水和物から酸化物への転換が不充分となり、高すぎれば長径またはアスペクト比が上記範囲を下回るおそれがあるため、300〜800℃、好ましくは400〜600℃が好適である。
焼成する際の雰囲気は、焼成温度で酸化反応が起る雰囲気であれば特に制限はなく、通常、大気下で焼成する。
また、焼成に引き続き、必要に応じてN2、Ar等の不活性ガス雰囲気下あるいはH2、NH3等の還元雰囲気下にて更に熱処理することが、導電性が更に向上するので好ましい。
上記製造方法により得られた微粉末は、長径が50〜100nmでアスペクト比が5以上であるので、導電性および透明性がいずれも良好となる。
「実施例1」
塩化第2錫(SnCl4・5H2O)0.77g及び塩化インジウム(InCl3・4H2O)5.86gを純水に溶解した溶液に純水を加えて1Lにした後に93gのヘキサメチレンテトラミンを添加して均一な水溶液(In+Sn:0.02mol/L、ヘキサメチレンテトラミン:30倍モル量)とした。
この水溶液を加熱して沸騰させると、ヘキサメチレンテトラミンが分解して生成するアンモニアにより溶液のpHが上昇してインジウムと錫の水和物が析出した。この析出物を洗浄乾燥後、大気雰囲気下400℃にて3時間焼成し、微粉末を得た。
この微粉末は、X線回析(XRD)の結果、ITOの微粉末であることが判明した。また、図1の透過型電子顕微鏡写真が示すように長径60nmでアスペクト比が6の棒状粒子を多数有していた。
なお、長径およびアスペクト比は、次のように測定した。図1に示す透過型電子顕微鏡写真から20個の粒子を無作為に抽出し、粒子の最も長い部分の長さの平均値を長径とし、この最長方向に垂直な方向の長さが最も大きい部分の長さの平均値を短径とし、これらに基づいてアスペクト比を算出した。
塩化第2錫(SnCl4・5H2O)0.38g及び塩化インジウム(InCl3・4H2O)2.93gを純水に溶解した溶液に純水を加えて1Lにした後に93gのヘキサメチレンテトラミンを添加して均一な水溶液(In+Sn:0.01mol/L、ヘキサメチレンテトラミン:60倍モル量)とした。
この水溶液を加熱して沸騰させると、ヘキサメチレンテトラミンが分解して生成するアンモニアにより溶液のpHが上昇してインジウムと錫の水和物が析出した。この析出物を洗浄乾燥後、大気雰囲気下400℃にて3時間焼成しさらに窒素中600℃にて10時間焼成して、微粉末を得た。
この微粉末は、X線回析(XRD)の結果、ITOの微粉末であることが判明した。また、図2の透過型電子顕微鏡写真が示すように長径70nmでアスペクト比が6の棒状粒子を多数有していた。
長径およびアスペクト比の測定法は実施例1と同様である。
塩化第2錫(SnCl4・5H2O)0.77g及び塩化インジウム(InCl3・4H2O)5.86gを純水に溶解した溶液に純水を加えて1Lにした後に310gのヘキサメチレンテトラミンを添加して均一な水溶液(In+Sn:0.02mol/L、ヘキサメチレンテトラミン:100倍モル量)とした。
この水溶液を加熱して沸騰させると、ヘキサメチレンテトラミンが分解して生成するアンモニアにより溶液のpHが上昇してインジウムと錫の水和物が析出した。この析出物を洗浄乾燥後、大気雰囲気下400℃にて3時間焼成し、微粉末を得た。
この微粉末は、X線回析(XRD)の結果、ITOの微粉末であることが判明した。また、図3の透過型電子顕微鏡写真が示すように長径60nmでアスペクト比が5.5の棒状粒子を多数有していた。
長径およびアスペクト比の測定法は実施例1と同様である。
塩化第2錫(SnCl4・5H2O)3.8g及び塩化インジウム(InCl3・4H2O)29.3gを純水に溶解した溶液に純水を加えて1Lにした後に466gのヘキサメチレンテトラミンを添加して均一な水溶液(In+Sn:0.1mol/L、ヘキサメチレンテトラミン:30倍モル量)とした。
この水溶液を加熱して沸騰させると、ヘキサメチレンテトラミンが分解して生成するアンモニアにより溶液のpHが上昇してインジウムと錫の水和物が析出した。この析出物を洗浄乾燥後400℃にて3時間焼成し、微粉末を得た。
この微粉末は、X線回析(XRD)の結果、ITOの微粉末であることが判明した。また、この微粉末は図4の透過型電子顕微鏡写真が示すように長径60nmであったがアスペクト比が5未満の粒子しかなかった。
長径およびアスペクト比の測定法は実施例1と同様である。
塩化第2錫(SnCl4・5H2O)0.77g及び塩化インジウム(InCl3・4H2O)5.86gを純水に溶解した溶液に純水を加えて1Lにした後に31gのヘキサメチレンテトラミンを添加して均一な水溶液(In+Sn:0.02mol/L、ヘキサメチレンテトラミン:10倍モル量)とした。
この水溶液を加熱して沸騰させると、ヘキサメチレンテトラミンが分解して生成するアンモニアにより溶液のpHが上昇してインジウムと錫の水和物が析出した。この析出物を洗浄乾燥後400℃にて3時間焼成し、微粉末を得た。
この微粉末は、X線回析(XRD)の結果、ITOの微粉末であることが判明した。また、この微粉末は図5の透過型電子顕微鏡写真が示すように長径40nmでアスペクト比が5未満であった。
長径およびアスペクト比の測定法は実施例1と同様である。
実施例1〜3で得られたITO微粉末30gを、テトラメトキシシラン10.5g、純水50g及びプロピレングリコールプロピレングリコール175gに混合し、60分間振とうして塗料を調製した。
この塗料を用いてガラス板上に厚みが0.5μmの膜を成膜したところ、透明性(可視光透過率が96%〜99%程度)と導電性(表面抵抗率が12kΩ/□〜50kΩ/□程度)に優れた透明導電膜を形成することができた。
Claims (4)
- 錫塩及びインジウム塩を水に溶解して、錫(Sn)とインジウム(In)を合量で0.001mol/L〜0.05mol/L含有する水溶液を調製し、この水溶液に前記錫(Sn)とインジウム(In)の合計モル量の20〜100倍量に相当する量のヘキサメチレンテトラミンを添加し、析出した析出物を焼成することを特徴とする、棒状導電性錫含有酸化インジウム微粉末の製造方法。
- 前記ヘキサメチレンテトラミンを添加した後、前記焼成に先だって、前記水溶液を80℃以上に加熱することを特徴とする請求項1記載の棒状導電性錫含有酸化インジウム微粉末の製造方法。
- 前記焼成は、300℃〜800℃の温度で行われることを特徴とする請求項1または請求項2記載の棒状導電性錫含有酸化インジウム微粉末の製造方法。
- 長径が50〜100nmで、アスペクト比が5以上であることを特徴とする、棒状導電性錫含有酸化インジウム微粉末。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004289006A JP4372653B2 (ja) | 2004-09-30 | 2004-09-30 | 棒状導電性錫含有酸化インジウム微粉末の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004289006A JP4372653B2 (ja) | 2004-09-30 | 2004-09-30 | 棒状導電性錫含有酸化インジウム微粉末の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006103982A true JP2006103982A (ja) | 2006-04-20 |
JP4372653B2 JP4372653B2 (ja) | 2009-11-25 |
Family
ID=36374129
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004289006A Expired - Fee Related JP4372653B2 (ja) | 2004-09-30 | 2004-09-30 | 棒状導電性錫含有酸化インジウム微粉末の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4372653B2 (ja) |
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US8018568B2 (en) | 2006-10-12 | 2011-09-13 | Cambrios Technologies Corporation | Nanowire-based transparent conductors and applications thereof |
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US8094247B2 (en) | 2006-10-12 | 2012-01-10 | Cambrios Technologies Corporation | Nanowire-based transparent conductors and applications thereof |
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-
2004
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---|---|
JP4372653B2 (ja) | 2009-11-25 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
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FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130911 Year of fee payment: 4 |
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FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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