JP2006073683A - 回路デバイス及び回路デバイスの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】略中央にフレキシブル配線部15を有し、領域BL1の最下層に電磁シールド層14b−1と、領域BL2の最下層にグリッドランド14b−2とを設けた4層フレックスリジッド基板10の、領域BL1に電子部品21a〜21eを実装して高周波信号処理回路を形成した第1の回路ブロックと、領域BL2に電子部品22a〜22cを実装して中間周波信号処理回路を形成した第2の回路ブロックとを設けた後、電磁遮蔽効果を付与された封止樹脂23を電子部品21a〜21e,22a〜22cの実装面全面に塗布した後、フレキシブル配線部15で折り畳み電磁シールド層が上面でグリッドランドが下面に配されるようにして加熱硬化し、電子部品間の相互干渉と外からの電磁的影響を受けにくい回路デバイスとした。
【選択図】図1
Description
また、例えば、セラミックパッケージなどの配線基板にICチップなどが実装されて、所定の機能を実現するようになされている回路デバイスなどでは、複数個接続するとき、この回路デバイスを上下に重ね合わせ、はんだなどでそれぞれの回路デバイスに設けられている上下の端子同士を接続する形態のものが量産化されている。
また、フレキシブル部が一体に配線板の2つの回路ブロックと接続される構成では、回路ブロック間の接続信頼性の点では問題無いが、電磁的障害に敏感な回路などが実装されている場合、回路ブロック間の電磁干渉が問題となり、そのまま折り曲げて使用することはできず、シールドケースなどが必要となる。このシールドケースは面積と厚みを要するため小形化しにくく、また一般に採用される金属板によるシールドケースでは、熱吸収が良いためはんだ付け温度が十分上がらないことに起因するはんだ接続不良のおそれもあった。
また、電子部品を回路ブロックに実装した時点で動作などの性能検査を行うことができるので、折り畳んで回路デバイスとする前に不良を除去することができ、電子部品を内蔵させた回路デバイスを歩留り良く安価に生産することができる。
また、電子部品間がエポキシ樹脂を基材とした絶縁性樹脂で充填されるため、絶縁性が向上し、回路デバイスとしての信頼性が向上する。
さらに、絶縁性樹脂に窒化アルミニウムおよび窒化ホウ素などを含有した樹脂を用いる事により電子部品からの発熱を回路デバイス全体に拡散することができるので、熱放散特性を大幅に改善することができる。
また、電磁シールドで回路デバイスを覆う構造が容易に採れるので、各回路ブロック間および外部に対しての電磁シールドが可能となり、余分なシールドケースなどが不要となるだけでなく他への影響もなく、電磁シールド対策を容易に行うことができる。
さらに、折り畳み重ね合わせた構造なので、3次元的に省スペースの回路デバイスとすることができる。
図1は本例の回路デバイスの製造工程の説明フロー図であり、4層フレックスリジッド基板をベース基材として構成したものである。
図1Aは4層フレックスリジッド基板、図1Bは導電性ペースト塗布後、図1Cは電子部品実装後、図1Dは絶縁性樹脂塗布後、図1Eは折り畳んで加熱硬化し回路デバイスとした状態を示す断面図である。
また、15は領域BL1と領域BL2との境界部のポリイミドシート11上に形成されエポキシ樹脂の絶縁層がない配線パターン12b-3でフレキシブル性を有するフレキシブル配線部である。21は領域BL1に実装され例えば高周波信号処理回路を構成する電子部品であり、22は領域BL2に実装され例えば中間周波信号処理回路を構成する電子部品である。また23は電子部品実装面の全体をカバーコートする封止樹脂である。
ここで領域BL1は電子部品が実装されて高周波信号処理用回路ブロックが形成される配線基板の領域を示し、領域BL2は電子部品が実装されて中間周波信号処理用回路ブロックが形成される配線基板の領域を示しており両回路ブロックはフレキシブル配線部15により電気的に接続される。
先ず、図1Aに示す、ベース基材となる4層フレックスリジッド基板10を第1から第9の段階に分けて説明する。
第2段階として、図1Aに示すポリイミドシート11の領域BL1に配線パターン12a-1、12b-1、領域BL2に配線パターン12a-1、12b-2、領域BL1と領域BL2との境界に配線パターン12a-1と配線パターン12a-2とを電気的に接続する配線パターン12a-3を配線パターン12b-1と配線パターン12b-2とを電気的に接続する配線パターン12b-3を形成し、全面にカバーコートを形成する。
第3段階として、領域BL1及び領域BL2の上下を覆うようにガラスエポキシ樹脂と銅箔を積層し加熱成形する事により絶縁層13a-1および13a-2、13b-1及び13b-2を設ける。更に12a-11、2a-2、12b-1および12b-2との接続を形成するための導通孔をレーザー加工及びめっきによって形成する。
次に、図1Cに示すように、4層フレックスリジッド基板10に電子部品を実装する。このとき、領域BL1に高周波信号処理回路を構成する電子部品21a,21b,21c,21d,21eが実装されて第1の回路ブロックが作製され、領域BL2に中間周波信号処理回路を構成する電子部品22a,22b,22cが実装され第2の回路ブロックが作製される。このとき、4層フレックスリジッド基板10に電子部品が実装された状態で、回路ブロック単位で動作などの性能検査を行うことができる。
次に、図1Eに示すように、第1の回路ブロック(領域BL1)と第2の回路ブロック(領域BL2)の間に配設され配線パターン12a-3,12b-3を有するフレキシブル配線部15を、封止樹脂23の塗布面を内側とし、配線パターン12b-3の導体を外側とするようにし、第1の回路ブロックを第2の回路ブロックに重ねるようにUの字状に折り曲げる。これにより、配線パターン14b-1による電磁シールド層が上面に、また、配線パターン14b-2によるグリッドランドが下面に配設される。
最後に、図1Eに示す形態を保つように、例えば図示しない治具に収納した状態で所定の厚みに保持し加熱して硬化し、本例の回路デバイスとする。
また、高周波信号処理回路用の電子部品21a〜21eと、中間周波処理回路用の電子部品22a〜22cとの間がエポキシ樹脂を基材とした絶縁性で電磁遮蔽効果を有する樹脂で充填されるため、絶縁性が向上するとともに、電子部品間の相互干渉が大幅に改善でき、回路デバイスとしての信頼性を向上させることができる。
また、電子部品からの発熱を回路デバイス全体に拡散することができるので、熱放散特性を大幅に改善することができる。
さらに、折り畳み重ね合わせた構造とすることで、3次元的に省スペースの回路デバイスとすることができる。
本例の回路デバイスも図1例と同様、4層フレックスリジッド基板をベース基材として構成したものであり、図2A〜Eは本例の回路デバイスの製造工程の説明フロー図である。
図2Aは4層フレックスリジッド基板、図2Bは導電性ペースト塗布後、図2Cは電子部品と間隙確保用のピン実装後、図2Dは折り畳み後、図2Dは絶縁性樹脂を充填し加熱硬化し回路デバイスとした状態を示す断面図である。
次に、図2Bに示すように、図1Bでの説明と同様に、4層フレックスリジッド基板10の図に示す上面で電子部品が実装される位置に導電性ペースト16,16,…を印刷法やディスペンス法などにより設ける。
このピン25は、第1の回路ブロック(領域BL1)と第2の回路ブロック(領域BL2)とが折り畳まれたときの両回路ブロック間の間隙を所定寸法に保つとともに、両ブロックを接着固定して形状の安定化に寄与し、さらに必要に応じて、領域BL1で電子部品21a〜21eの実装面の側の配線パターン12a-1,14a-1と、領域BL2で電子部品22a,22bの実装面の側の配線パターン12a-2,14a-2とを適宜電気的に接続させるものである。
さらに、図2例においては、ピン25,25,…を立設して第1の回路ブロック(領域BL1)と第2の回路ブロック(領域BL2)とを導電性ペーストで接着固定するようにしたので、両ブロック間を所定寸法に保たせ、折り畳みの際、実装される電子部品と、この電子部品が実装される配線パターンの接続部とに余分な応力集中が発生させないようにできるだけでなく、両ブロックを接着固定して形状の安定化に寄与することができ、さらに必要に応じて、折り畳まれ対向配置される配線パターン12a-1,14a-1と、配線パターン12a-2,14a-2とを適宜電気的に接続させることができ、回路ブロックの回路設計や電子部品の実装設計が容易となる。
本例の回路デバイスも4層フレックスリジッド基板をベース基材として構成したものであり、図3A〜Dは本例の回路デバイスの製造工程の説明フロー図である。
図3Aはフレキシブルコネクターを有する回路ブロック、図3Bは折り畳み状態、図3Cは絶縁性樹脂を充填し硬化し回路デバイスとした状態の断面図であり、図3Dはフレキシブルコネクター先端の拡大斜視図である。
図3Aに示す回路ブロック10は、図1Aに示したポリイミドシート11の領域BL2の図に示す左側に、さらにポリイミドシート11を延長し、この延長したポリイミドシート11の上面11aに配線パターン12a-4、下面11bに配線パターン12b-4を形成しフレキシブルコネクター部17とする。そして、図3Aに示すように、上述図1例と同様所定位置に導電性ペーストを設けた後、領域BL1に電子部品21a〜21eを実装し、領域BL2に電子部品21a,21bを実装したものである。
このときフレキシブルコネクター部17を構成する延設されたポリイミドシート11の上面11aの配線パターン12a-4の先端部の形状は、図3Dに示す拡大斜視図のように、略矩形状の導通パッドが配設されるようになされる。また、ポリイミドシート11の下面11bの配線パターン12b-4はグランドとして形成される。
さらに、図3A〜D例においては、4層フレックスリジッド基板を作製するときに、容易にフレキシブルコネクター部17を延設した形態に形成することができ、必要に応じて上面11aの配線パターン12a-4、あるいは下面11bの配線パターン12b-4の何れかを電磁シールド層として、この電磁シールド層を筒状に構成することができるためより大きなシールド効果を得ることができる。
以下では、この図4を説明するに図1に対応する部分には同一の符号を付し説明する。
本例の回路デバイスも4層フレックスリジッド基板をベース基材として構成したものであり、図4は本例の回路デバイスの製造工程の説明フロー図で、図3例の図3Aに示すフレックスリッジド基板10の作製につづく工程を示したものである。
図4Aはフレキシブル配線部が第1の回路ブロックと第2の回路ブロックの間に配設後、図4Bは第1の回路ブロックと第2の回路ブロックの間に絶縁性樹脂を充填し硬化し回路デバイスとした状態を示す断面図である。
そして、フレキシブル配線部17は、図4Aに示すように、先ず第2の回路ブロックの電子部品実装面に折り畳まれ、その後第1の回路ブロックが覆い被せるように配設される。
そして図4Bに示すように、第1の回路ブロックとフレキシブル配線部17と第2の回路ブロックとの間隙に、電磁遮蔽効果を付与するため電気絶縁性に優れたエポキシ樹脂に、フェライトパウダー及びセラミックパウダーを分散させた封止樹脂23を充填し、図に示す形態を保つように、例えば治具に収納した状態で所定の厚みに保持し加熱して硬化し、本例の回路デバイスとする。
さらに、図4例においては、第1の回路ブロックと第2の回路ブロックとに配されるそれぞれの回路が、電磁シールド層で完全に分離されるため、電子部品間の相互干渉を略完全になくすることができ、回路デバイスとしての安定動作に大きく寄与させることができる。
また、図4例同様にフレキシブル配線部を周辺部へ延長し、回路デバイスの側面を覆う形にすると回路ブロックからの外への電磁波の漏れをより押さえられる事も容易に理解できよう。
この場合、図1例の回路デバイスを複数個一括で作製するとき、先ず図1Aに示すフレックスリジッド基板を複数並べた構成の多数個取り用の配線板を作製する。すなわち、第1の回路ブロックと第2の回路ブロックとフレキシブル配線部15とで構成される配線基板部を1単位とし、これを第1の回路ブロック同士、第2ブロック同士、フレキシブル配線部15同士を複数並べて多数個取り配線板とする。次に、電子部品を実装後、封止樹脂23を電子部品を覆うように設けてから折り畳む。次に、例えば図5A(本図では回路デバイス10’-1〜-6の6個取りの例を示す)及びBに示す加熱治具50の下型50bに収納して加熱硬化するとともに、加熱治具の拡大断面図5Bに示す上型50aで加圧し、所定厚さに成形し複数の回路デバイスが一体に棒状に形成されるようにする。次に、複数の回路デバイスからなる成形体を切断分割して図5Cに示すように、個片化する。
また、1,2層がポリイミド両面配線板で、3,4,5,6層がリジッド基板となるべく、リジッド基板にポリイミド基板を接合させて形成されたフレックスリジッド基板でもよい。
また、フェライトとしては例えば、比重4.9のニッケル亜鉛フェライトを用いることができ、セラミックとしては、アルミナパウダーあるいは窒化アルミニウムパウダーを用いることができ、アルミナパウダーとしては例えば粒径φ5〜30μmで、窒化アルミニウムパウダーとしては例えば粒径φ5〜30μmのものが使用できる。
Claims (9)
- 複数の回路ブロックを有する回路デバイスにおいて、
フレキシブル性を有する絶縁シート上に、第1の配線パターンを形成し、該第1の配線パターンと電気的に接続され分割配置された複数のパターンからなる第2の配線パターンを形成し、
前記絶縁シートの他の面で前記第2の配線パターンと対応する領域に、複数のパターンからなる第3の配線パターンを形成するとともに、該第3の配線パターンと前記第2の配線パターンとを前記導通穴を介して電気的に接続し、
前記第3の配線パターン上に電子部品を実装することにより、分割配置された前記回路ブロックを形成し、
前記絶縁シートの前記電子部品の実装面の側を内側とし、前記第2の配線パターンを外側として回路ブロックを折り畳み重ね、
折り畳まれた複数の前記回路ブロックの間隙に電磁遮蔽効果を有する絶縁性樹脂を充填した
ことを特徴とする回路デバイス。 - 請求項1に記載の回路デバイスにおいて、
前記回路ブロックを2つ有し、
前記第1の配線パターンが第1のフレキシブル配線部をなすとともに、
前記第2の配線パターンが外層配線パターンで、前記第3の配線パターンが内層配線パターンをなし、
2つの前記回路ブロックの前記電子部品の実装面の側を内側とし、前記第1のフレキシブル配線部を外側としUの字状に折り畳む
ことを特徴とする回路デバイス。 - 請求項2に記載の回路デバイスにおいて、
折り畳まれたとき、対向する前記回路ブロックの前記内層配線パターン同士を接続するとともに、所望の間隙を設ける導体スペーサを備えた
ことを特徴とする回路デバイス。 - 請求項2に記載の回路デバイスにおいて、
2つの前記回路ブロックの前記外層配線パターン及び前記第1のフレキシブル配線部で電磁シールド層を形成した
ことを特徴とする回路デバイス。 - 請求項2に記載の回路デバイスにおいて、
2つの前記回路ブロックが折り畳まれた状態で、前記第1のフレキシブル配線部の配設部とは反対側の2つの前記回路ブロックの端面同士を、低融点金属ろう材で接合した
ことを特徴とする回路デバイス。 - 請求項2に記載の回路デバイスにおいて、
前記回路ブロックの端部に第2のフレキシブル配線部を形成し、
該第2のフレキシブル配線部の配線パターンに他の回路との接続端子を設けた
ことを特徴とする回路デバイス。 - 請求項2に記載の回路デバイスにおいて、
前記回路ブロックの端部にグランド層を延長した第3のフレキシブル配線部を形成し、
該第3のフレキシブル配線部を前記電子部品の実装面の側に折り畳み、前記外層配線パターン及び前記第1のフレキシブル配線部による電磁シールド層を設けた
ことを特徴とする回路デバイス。 - 複数の回路ブロックを有する回路デバイスの製造方法において、
絶縁シートに、第1の配線パターンを形成する工程と、
分割配置された回路ブロックを形成するための第2、第3の配線パターンを形成するための絶縁層と銅箔を積層する工程と、
前記第1、第2、第3の配線パターンの必要な箇所を接続する導通孔を形成する工程と、
前記第2、第3の配線パターンを形成する工程と前記第2の配線パターン上にソルダーレジストを形成する工程と、
前記第3の配線パターン上に電子部品を実装する工程と、により分割配置された前記第2の配線パターンと前記第3の配線パターンに複数の回路ブロックを形成し、
前記絶縁シートの前記電子部品の実装面の側を内側とし、前記第2の配線パターンを外側として折り畳む工程と、
折り畳まれた複数の前記回路ブロックの前記電子部品の実装面の側に、電磁遮蔽効果を有する絶縁性樹脂を充填する工程と、
該絶縁性樹脂を加熱硬化させる工程とからなることを特徴とする回路デバイスの製造方法。 - 請求項8に記載の回路デバイスの製造方法において、
前記絶縁シートがポリイミド樹脂からなり、
電磁遮蔽効果を有する絶縁性樹脂がフェライトパウダー及びセラミックパウダーを分散させたエポキシ樹脂である
ことを特徴とする回路デバイスの製造方法。
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Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007048822A (ja) * | 2005-08-08 | 2007-02-22 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | フレキシブル基板およびそれを使用した双方向光トランシーバ |
JP2007273582A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-18 | Toshiba Corp | プリント配線板、プリント配線板の製造方法および電子機器 |
JP2009111040A (ja) * | 2007-10-29 | 2009-05-21 | Fujitsu Ltd | 半導体装置 |
JP2010258008A (ja) * | 2009-04-21 | 2010-11-11 | Sharp Corp | 電子部品モジュールおよびその製造方法 |
KR101055487B1 (ko) * | 2009-05-12 | 2011-08-08 | 삼성전자주식회사 | 리지드-플렉시블 스택 모듈기판 및 그 제조방법 |
JP2011200402A (ja) * | 2010-03-25 | 2011-10-13 | Fujifilm Corp | 基板保持装置及び方法、撮像装置、内視鏡 |
JP2016131185A (ja) * | 2015-01-13 | 2016-07-21 | 日立化成株式会社 | 電子部品埋め込み用樹脂フィルムの製造方法、電子部品装置の製造方法 |
Families Citing this family (35)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006019911A1 (en) * | 2004-07-26 | 2006-02-23 | Sun Microsystems, Inc. | Multi-chip module and single-chip module for chips and proximity connectors |
WO2006035822A1 (ja) | 2004-09-30 | 2006-04-06 | Ibiden Co., Ltd. | ハニカム構造体 |
US7202552B2 (en) * | 2005-07-15 | 2007-04-10 | Silicon Matrix Pte. Ltd. | MEMS package using flexible substrates, and method thereof |
US7767543B2 (en) * | 2005-09-06 | 2010-08-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for manufacturing a micro-electro-mechanical device with a folded substrate |
WO2007039991A1 (ja) * | 2005-10-05 | 2007-04-12 | Ibiden Co., Ltd. | 押出成形用金型及び多孔質セラミック部材の製造方法 |
US20070187651A1 (en) * | 2005-12-26 | 2007-08-16 | Kazuya Naruse | Method for mixing powder, agitation apparatus, and method for manufacturing honeycomb structured body |
WO2007086143A1 (ja) * | 2006-01-30 | 2007-08-02 | Ibiden Co., Ltd. | ハニカム構造体の検査方法、及び、ハニカム構造体の製造方法 |
WO2007097000A1 (ja) * | 2006-02-24 | 2007-08-30 | Ibiden Co., Ltd. | ハニカム成形体用封口装置、封止材ペーストの充填方法、及び、ハニカム構造体の製造方法 |
EP1825979B1 (en) * | 2006-02-28 | 2012-03-28 | Ibiden Co., Ltd. | Manufacturing method of honeycomb structured body |
WO2007116529A1 (ja) * | 2006-04-11 | 2007-10-18 | Ibiden Co., Ltd. | 成形体切断装置、セラミック成形体の切断方法、及び、ハニカム構造体の製造方法 |
WO2007122707A1 (ja) * | 2006-04-19 | 2007-11-01 | Ibiden Co., Ltd. | ハニカム構造体の製造方法 |
CN101433132B (zh) * | 2006-05-02 | 2012-07-04 | 富多电子公司 | 一种屏蔽的柔性电路及其形成方法、柔性电缆 |
EP1880818A1 (en) * | 2006-06-05 | 2008-01-23 | Ibiden Co., Ltd. | Method for cutting honeycomb structure |
PL1875997T3 (pl) | 2006-07-07 | 2009-08-31 | Ibiden Co Ltd | Urządzenie do obróbki powierzchni czołowej, sposób obróbki powierzchni czołowej formowanego korpusu o strukturze plastra miodu oraz sposób wytwarzania struktury o kształcie plastra miodu |
DE102008008897B3 (de) * | 2008-02-13 | 2009-07-30 | Siemens Medical Instruments Pte. Ltd. | Schaltung mit integrierter Abschirmung und Hörhilfe |
DE102008022977A1 (de) * | 2008-05-09 | 2009-04-09 | Siemens Medical Instruments Pte. Ltd. | Schaltung mit selbsthaftender Kapselung, Herstellungsverfahren und Hörhilfe |
US8670588B2 (en) * | 2009-09-08 | 2014-03-11 | Apple Inc. | Handheld device assembly |
JP5115632B2 (ja) * | 2010-06-30 | 2013-01-09 | 株式会社デンソー | 半導体装置 |
CN102254898A (zh) * | 2011-07-01 | 2011-11-23 | 中国科学院微电子研究所 | 一种基于柔性基板封装的屏蔽结构及其制作工艺 |
JP5790261B2 (ja) * | 2011-07-29 | 2015-10-07 | 富士通オプティカルコンポーネンツ株式会社 | 回路基板、及び光変調器 |
KR20140050927A (ko) * | 2012-10-22 | 2014-04-30 | 삼성디스플레이 주식회사 | 발광 장치 및 그 제조 방법 |
CN104637927B (zh) | 2013-11-12 | 2019-01-22 | 中国科学院微电子研究所 | 一种基于柔性基板的三维封装结构及工艺方法 |
CN103745959A (zh) * | 2014-01-09 | 2014-04-23 | 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司 | 基于刚柔结合印刷电路板的三维系统封装结构 |
CN104981102B (zh) * | 2014-04-10 | 2018-09-18 | 广东丹邦科技有限公司 | 一种多芯片嵌入式的柔性电路板及其制造方法 |
CN105762131B (zh) * | 2014-12-19 | 2018-06-29 | 碁鼎科技秦皇岛有限公司 | 封装结构及其制法 |
CN106158904A (zh) * | 2015-04-03 | 2016-11-23 | 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司 | 一种高分辨率柔性显示屏及其制备方法 |
CN106159104A (zh) * | 2015-04-03 | 2016-11-23 | 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司 | 一种柔性照明器件 |
US10290589B2 (en) * | 2016-11-08 | 2019-05-14 | Invensas Corporation | Folding thin systems |
TWI664881B (zh) * | 2017-01-13 | 2019-07-01 | 日商村田製作所股份有限公司 | 零件模組 |
CN112312682B (zh) * | 2019-07-30 | 2023-07-21 | 宏启胜精密电子(秦皇岛)有限公司 | 具有厚铜线路的电路板及其制作方法 |
CN113365412B (zh) * | 2020-03-05 | 2022-06-24 | 宏启胜精密电子(秦皇岛)有限公司 | 复合电路板及其制作方法 |
CN114402708B (zh) | 2020-04-24 | 2024-10-15 | 宏启胜精密电子(秦皇岛)有限公司 | 电路板及其制造方法 |
CN115315071A (zh) * | 2021-05-07 | 2022-11-08 | 鹏鼎控股(深圳)股份有限公司 | 内埋元件电路板及其制造方法 |
US12154860B2 (en) * | 2021-06-16 | 2024-11-26 | SanDisk Technologies, Inc. | Method of forming a semiconductor device including vertical contact fingers |
US12341105B2 (en) * | 2021-11-11 | 2025-06-24 | Shinko Electric Industries Co., Ltd. | Semiconductor device |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20040061220A1 (en) * | 1996-03-22 | 2004-04-01 | Chuichi Miyazaki | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
US6376769B1 (en) * | 1999-05-18 | 2002-04-23 | Amerasia International Technology, Inc. | High-density electronic package, and method for making same |
JP2001244583A (ja) * | 2000-02-29 | 2001-09-07 | Fuji Photo Optical Co Ltd | フレキシブル回路基板 |
EP1296544B1 (en) * | 2000-06-30 | 2011-08-03 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Flexible printed circuit board and foldable cell phone terminal |
JP2002286758A (ja) * | 2001-03-28 | 2002-10-03 | Yamaha Corp | プローブユニットおよびその製造方法 |
CN1185915C (zh) * | 2001-06-13 | 2005-01-19 | 佳能株式会社 | 柔性基板、半导体器件、摄像装置和放射线摄像系统 |
JP3983120B2 (ja) * | 2001-07-30 | 2007-09-26 | 富士通日立プラズマディスプレイ株式会社 | Icチップの実装構造及びディスプレイ装置 |
JP2003045901A (ja) * | 2001-08-01 | 2003-02-14 | Sony Corp | 素子の転写方法及びこれを用いた素子の配列方法、画像表示装置の製造方法 |
FI20012052A0 (fi) * | 2001-10-23 | 2001-10-23 | Mika Matti Sippola | Menetelmä monikerrosrakenteen valmistamiseksi |
US6842585B2 (en) * | 2002-04-18 | 2005-01-11 | Olympus Optical Co., Ltd. | Camera |
US6943705B1 (en) * | 2002-05-03 | 2005-09-13 | Synaptics, Inc. | Method and apparatus for providing an integrated membrane switch and capacitive sensor |
US7005310B2 (en) * | 2002-08-14 | 2006-02-28 | Renesas Technology Corporation | Manufacturing method of solid-state image sensing device |
JP4225036B2 (ja) * | 2002-11-20 | 2009-02-18 | 日本電気株式会社 | 半導体パッケージ及び積層型半導体パッケージ |
JP2005101711A (ja) * | 2003-09-22 | 2005-04-14 | Renesas Technology Corp | 固体撮像装置およびその製造方法 |
-
2004
- 2004-08-31 JP JP2004253592A patent/JP2006073683A/ja active Pending
-
2005
- 2005-08-23 TW TW094128688A patent/TW200618689A/zh unknown
- 2005-08-25 KR KR1020050078248A patent/KR20060050648A/ko not_active Withdrawn
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Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007048822A (ja) * | 2005-08-08 | 2007-02-22 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | フレキシブル基板およびそれを使用した双方向光トランシーバ |
JP2007273582A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-18 | Toshiba Corp | プリント配線板、プリント配線板の製造方法および電子機器 |
JP2009111040A (ja) * | 2007-10-29 | 2009-05-21 | Fujitsu Ltd | 半導体装置 |
JP2010258008A (ja) * | 2009-04-21 | 2010-11-11 | Sharp Corp | 電子部品モジュールおよびその製造方法 |
US8179678B2 (en) | 2009-04-21 | 2012-05-15 | Sharp Kabushiki Kaisha | Electronic component module |
KR101055487B1 (ko) * | 2009-05-12 | 2011-08-08 | 삼성전자주식회사 | 리지드-플렉시블 스택 모듈기판 및 그 제조방법 |
JP2011200402A (ja) * | 2010-03-25 | 2011-10-13 | Fujifilm Corp | 基板保持装置及び方法、撮像装置、内視鏡 |
JP2016131185A (ja) * | 2015-01-13 | 2016-07-21 | 日立化成株式会社 | 電子部品埋め込み用樹脂フィルムの製造方法、電子部品装置の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20060043562A1 (en) | 2006-03-02 |
KR20060050648A (ko) | 2006-05-19 |
TW200618689A (en) | 2006-06-01 |
CN1744795A (zh) | 2006-03-08 |
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---|---|---|
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JPH07307574A (ja) | 多層金属プリント基板とモールドモジュール | |
US20100214741A1 (en) | Electronic component mounting structure and electronic component mounting method | |
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