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JP2006071496A - Sample shape correction method - Google Patents

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JP2006071496A
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Japan
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sample
thickness
fluorescent
ray
spectrum
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JP2004256034A
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Japanese (ja)
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Motoki Kinugasa
元気 衣笠
Masahito Koseki
雅人 小関
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Jeol Ltd
Jeol Engineering Co Ltd
Original Assignee
Jeol Ltd
Jeol Engineering Co Ltd
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Abstract

【課題】 試料の厚みに特定した所定の試料の補正を考慮した場合に、複雑な工程を不要としながらも精度の高い蛍光X線分析方法を可能とする。
【解決手段】 蛍光X線分析方法による分析対象試料の形状を補正するための試料形状補正方法であって、試料の蛍光X線スペクトルにおけるピークの出ない高エネルギー領域AR−Hのバックグラウンド強度BG1、BG2に基づいて試料の厚みを補正する。
【選択図】 図1
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a highly accurate fluorescent X-ray analysis method while eliminating a complicated process when considering correction of a predetermined sample specified for the thickness of the sample.
A sample shape correction method for correcting the shape of a sample to be analyzed by a fluorescent X-ray analysis method, wherein a background intensity BG1 of a high energy region AR-H in which no peak appears in a fluorescent X-ray spectrum of the sample. The thickness of the sample is corrected based on BG2.
[Selection] Figure 1

Description

本発明は、蛍光X線分析方法による定量分析の対象となる試料の形状を補正するための試料形状補正方法であり、特に試料の厚みを補正する試料形状補正方法に関する。   The present invention relates to a sample shape correction method for correcting the shape of a sample to be quantitatively analyzed by a fluorescent X-ray analysis method, and more particularly to a sample shape correction method for correcting the thickness of a sample.

蛍光X線分析はX線を試料に照射した結果得られる蛍光X線を分析することで元素を定量するために用いられる分析方法である。   X-ray fluorescence analysis is an analysis method used for quantifying elements by analyzing fluorescent X-rays obtained as a result of irradiating a sample with X-rays.

図5は、蛍光X線分析装置の構成図である。図5において、101はX線管球で、該X線管球101からの一次X線102を試料103に照射し、試料103から励起されて発生する蛍光X線104を、エネルギー分散型X線検出器(EDS検出器)105で検出し、試料の分析を行うように構成されている。   FIG. 5 is a configuration diagram of a fluorescent X-ray analyzer. In FIG. 5, reference numeral 101 denotes an X-ray tube. The sample 103 is irradiated with primary X-rays 102 from the X-ray tube 101, and fluorescent X-rays 104 generated by excitation from the sample 103 are converted into energy dispersive X-rays. The detector (EDS detector) 105 detects the sample and analyzes the sample.

一般に、定量分析は試料の面積がX線照射領域より十分大きく、また試料の厚みが検出器に検出されるX線強度に影響しないほど十分な厚みが有ることを前提としている。したがって、図5に示した蛍光X線分析装置では、試料103を理想的な形状(一次X線が十分当たり、凹凸のない形)にしないと正しい定量分析精度が得られない。このような条件が満たされない場合は、常に同じ条件となるように試料形状を揃える必要がある。   In general, the quantitative analysis is based on the premise that the area of the sample is sufficiently larger than the X-ray irradiation region and that the thickness of the sample does not affect the X-ray intensity detected by the detector. Therefore, in the fluorescent X-ray analysis apparatus shown in FIG. 5, correct quantitative analysis accuracy cannot be obtained unless the sample 103 is in an ideal shape (a shape in which primary X-rays are sufficient and have no irregularities). When such a condition is not satisfied, it is necessary to align the sample shape so that the same condition is always obtained.

つまり、試料103の面積が小さくて十分にX線が当たらないときや試料の厚さが薄くX線が透過していくときは分析値が真値より低く算出されてしまう。この影響をなくすために、通常プレスによる固形化及び表面研磨等の前処理を行うことが多い。   That is, when the area of the sample 103 is small and the X-ray does not sufficiently hit or when the sample is thin and the X-ray is transmitted, the analysis value is calculated to be lower than the true value. In order to eliminate this influence, pre-processing such as solidification by surface pressing and surface polishing is often performed.

そこで、試料に対し前処理をしなくても測定できるように形状を補正する方法が考えられてきた。下記特許文献1は、分析対象試料を、蛍光X線と散乱X線との強度比による検量線を求める主要成分と、共存成分とからなるものと仮定して、共存成分の主要成分に対する吸収に関する補正係数を、分析対象試料の組成を仮定して理論計算により算出し、分析対象試料から測定算出した強度比に、補正係数を用いた検量線を適用し、分析対象における主要成分の含有率を求める技術を開示している。
特開平10−82749号公報
Therefore, a method of correcting the shape so that measurement can be performed without pre-processing the sample has been considered. Patent Document 1 below relates to absorption of a coexisting component with respect to the main component, assuming that the sample to be analyzed is composed of a main component for obtaining a calibration curve based on an intensity ratio of fluorescent X-rays and scattered X-rays and a coexisting component The correction factor is calculated by theoretical calculation assuming the composition of the sample to be analyzed, and a calibration curve using the correction factor is applied to the intensity ratio measured and calculated from the sample to be analyzed. The required technology is disclosed.
Japanese Patent Laid-Open No. 10-824949

ところで、前記特許文献1による方法では、予め検量線を求めておき、また蛍光X線の強度と散乱X線の強度を測定し、さらに両強度の比を算出する他、補正係数を分析対象試料の組成を仮定して理論計算により算出し、これらの各ファクタを用いて、試料の主要成分の含有率を求めるという工程を要している。   By the way, in the method according to Patent Document 1, a calibration curve is obtained in advance, the intensity of fluorescent X-rays and the intensity of scattered X-rays are measured, and the ratio of both intensities is calculated. The process of calculating | requiring the content rate of the main component of a sample is calculated | required by theoretical calculation supposing this composition, and using each of these factors.

試料の厚みに特定した所定の試料の補正を考慮した場合には、複雑な工程を不要としながらも精度の高い分析方法が望まれる。   In consideration of correction of a predetermined sample specified for the thickness of the sample, a highly accurate analysis method is desired while eliminating a complicated process.

本発明は、前記実情に鑑みてなされたものであり、所定の試料の厚みに特定した補正を考慮した場合に、複雑な工程を不要としながらも精度の高い蛍光X線分析方法を可能とする、試料形状補正方法の提供を目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and enables a highly accurate fluorescent X-ray analysis method while eliminating the need for complicated steps when considering the correction specified for the thickness of a predetermined sample. An object is to provide a sample shape correction method.

本発明に係る蛍光X線分析方法は、前記課題を解決するために、蛍光X線分析方法による分析の対象となる試料の形状を補正するための試料形状補正方法であって、前記試料の蛍光X線スペクトルにおけるピークの出ない高エネルギー領域のバックグラウンド強度に基づいて試料の厚みを補正する。   The fluorescent X-ray analysis method according to the present invention is a sample shape correction method for correcting the shape of a sample to be analyzed by the fluorescent X-ray analysis method, in order to solve the above-mentioned problem, The thickness of the sample is corrected based on the background intensity in the high energy region where no peak appears in the X-ray spectrum.

高エネルギーエリアのバックグラウンドBG1及びバックグラウンドBG2は、高分子材料、特にプラスチックサンプルならどんな試料でもほとんど変化しない。よって、高分子材料の試料を分析の際には、厚みが不十分でも、本発明の試料形状補正方法に基づいて、厚みを補正することができる。   The background BG1 and the background BG2 in the high energy area hardly change for any sample of polymer material, especially plastic samples. Therefore, when analyzing a sample of the polymer material, even if the thickness is insufficient, the thickness can be corrected based on the sample shape correcting method of the present invention.

本発明に係る試料形状補正方法は、試料の蛍光X線スペクトルにおけるピークの出ない高エネルギー領域のバックグラウンド強度に基づいて試料の厚みを補正するので、所定の試料の試料の厚みに特定した補正を考慮した場合に、複雑な工程を不要としながらも精度の高い蛍光X線分析方法を可能とする。   Since the sample shape correction method according to the present invention corrects the thickness of the sample based on the background intensity of the high energy region where no peak appears in the fluorescent X-ray spectrum of the sample, the correction specified to the sample thickness of the predetermined sample In consideration of the above, it is possible to provide a highly accurate X-ray fluorescence analysis method while eliminating a complicated process.

以下、本発明を実施するための最良の形態を説明する。本実施の形態は、高分子材料の具体例であるプラスチックを分析対象試料とし、プラスチックを構成する元素を定量する場合の、蛍光X線分析方法に適用できる試料形状補正方法である。   Hereinafter, the best mode for carrying out the present invention will be described. The present embodiment is a sample shape correction method applicable to a fluorescent X-ray analysis method in the case where a plastic which is a specific example of a polymer material is used as an analysis target sample and elements constituting the plastic are quantified.

プラスチックは、高分子材料の一種であり、比較的低密度で下地の無い材料である。蛍光X線分析方法では、試料の厚みが検出器に検出されるX線強度に影響しないほど十分な厚みが有ることが望まれる。しかし、厚みが十分とれないプラスチック試料しか用意できない状況では、試料を破壊しないでも定量分析を可能にすることが望まれる。   Plastic is a kind of polymer material, and is a material having a relatively low density and no base. In the fluorescent X-ray analysis method, it is desired that the sample has a sufficient thickness so that the thickness of the sample does not affect the X-ray intensity detected by the detector. However, in a situation where only a plastic sample with a sufficient thickness cannot be prepared, it is desirable to enable quantitative analysis without destroying the sample.

そこで、プラスチックの試料の場合には、本発明により、プラスチックの蛍光X線スペクトルにおけるピークの出ない高エネルギー領域のバックグラウンド強度に基づいて試料の厚みを補正する。以下、プラスチック試料にあって厚み方向の補正を可能とする原理について説明する。   Therefore, in the case of a plastic sample, according to the present invention, the thickness of the sample is corrected based on the background intensity in the high energy region where no peak appears in the fluorescent X-ray spectrum of the plastic. Hereinafter, the principle that enables correction in the thickness direction of a plastic sample will be described.

図1は、厚さが十分なプラスチック試料のスペクトル1と、厚さが不十分なプラスチック試料のスペクトル2を示す蛍光X線スペクトル図である。横軸はエネルギー(keV)、縦軸は元素の濃度に対応している。濃度は時間S(秒)におけるカウント値Cを、さらに電流値mAで除算した値である。スペクトル1及びスペクトル2ともピークが各元素を示している。スペクトル1にあって各元素の濃度は、ピークの面積に関係する。   FIG. 1 is an X-ray fluorescence spectrum diagram showing a spectrum 1 of a plastic sample with sufficient thickness and a spectrum 2 of a plastic sample with insufficient thickness. The horizontal axis corresponds to energy (keV), and the vertical axis corresponds to the element concentration. The density is a value obtained by further dividing the count value C at time S (seconds) by the current value mA. Peaks of spectrum 1 and spectrum 2 indicate each element. In the spectrum 1, the concentration of each element is related to the area of the peak.

スペクトル2の方が全ての元素においてピークがスペクトル1よりも小さくなっている。試料の厚さが十分とれないとき、ピークの面積が小さくなっていることを示す。つまり、試料が薄いときには、各元素の濃度が低く算出される。   In the case of spectrum 2, the peak is smaller than that of spectrum 1 for all elements. When the thickness of the sample is not sufficient, the peak area is reduced. That is, when the sample is thin, the concentration of each element is calculated to be low.

図1にあって、エネルギーが30keV以上のエリアすなわち高エネルギーエリアにはスペクトル1及びスペクトル2ともピークが現れておらず、バックグラウンドBG1及びバックグラウンドBG2のみが見られる。バックグラウンドは、ピークがほとんど見られないエネルギー領域である。この高エネルギーエリアの、特に33.5keV〜35.5keVのエリアAR−HのバックグラウンドBG1及びバックグラウンドBG2はプラスチックサンプルならどんな試料でもほとんど変化しない。   In FIG. 1, no peaks appear in the spectrum 1 and the spectrum 2 in the area where the energy is 30 keV or higher, that is, in the high energy area, and only the background BG1 and the background BG2 are seen. The background is an energy region where few peaks are seen. The background BG1 and the background BG2 of this high energy area, especially the area AR-H of 33.5 keV to 35.5 keV, hardly change for any sample of plastic.

図2は、33.5keV〜35.5keVのエリアAR−HのバックグラウンドBG1及びバックグラウンドBG2の面積SP1及びSP2を取り出して比較する図である。本実施の形態では、このエリアAR−HのバックグラウンドBG1及びバックグラウンドBG2の面積SP1及びSP2は、プラスチック試料の厚みにのみ依存して変化するものと見なすことができる。   FIG. 2 is a diagram in which the areas SP1 and SP2 of the background BG1 and the background BG2 of the area AR-H of 33.5 keV to 35.5 keV are extracted and compared. In the present embodiment, the areas SP1 and SP2 of the background BG1 and the background BG2 of the area AR-H can be regarded as changing only depending on the thickness of the plastic sample.

図3は、高エネルギーエリアにおけるプラスチック試料の厚みの変化に対するエリアAR−HにおけるバックグラウンドBGの面積比の変化を示す特性図である。厚みd3までBGの面積比yはリニアに変化する。ここで、面積比yとは、基準とする厚みd0のバックグラウンドの基準面積BG0に対する相対値BG/BG0をいうものとする。   FIG. 3 is a characteristic diagram showing a change in the area ratio of the background BG in the area AR-H with respect to a change in the thickness of the plastic sample in the high energy area. The area ratio y of BG changes linearly up to the thickness d3. Here, the area ratio y means a relative value BG / BG0 with respect to the background reference area BG0 of the reference thickness d0.

本実施の形態では、試料の厚みとBGの面積比が厚みd3(面積比y3)までの領域でリニアであることを利用して、プラスチック試料の厚みをバックグラウンドBGの面積比に基づいて補正する。例えば、図1のスペクトル1及びスペクトル2の試料がそれぞれ厚みd1及びd2であるものとすると、スペクトル2に係数y1/y2をかけることでスペクトル2を厚みd1に相当するスペクトルに変換することができる。   In the present embodiment, the thickness of the plastic sample is corrected based on the area ratio of the background BG by utilizing the fact that the area ratio of the sample and the BG is linear in the region up to the thickness d3 (area ratio y3). To do. For example, if the samples of spectrum 1 and spectrum 2 in FIG. 1 have thicknesses d1 and d2, respectively, spectrum 2 can be converted to a spectrum corresponding to thickness d1 by multiplying spectrum 2 by a coefficient y1 / y2. .

具体的に、図1において厚みd2に対応するスペクトル2におけるPbのピークの一つの強度I2について、このI2に前述の係数y1/y2をかけることで厚みd1に相当するスペクトル1のPbのピークの一つの強度I1に変換することができる。したがって、厚みd1について強度I1と濃度の検量線が求められている場合、他の厚みd2における強度I2についても、厚みd1に相当するように変換した強度(y1/y2)・I2を用いて前記検量線から濃度を得ることができる。このように、本実施の形態によると、試料の厚みにかかわらず、検量線を用いてPbなどの含有成分の濃度を測定することができる。   Specifically, for one intensity I2 of the Pb peak in the spectrum 2 corresponding to the thickness d2 in FIG. 1, the above-described coefficient y1 / y2 is applied to this I2 to obtain the Pb peak of the spectrum 1 corresponding to the thickness d1. It can be converted into one intensity I1. Therefore, when the calibration curve of the intensity I1 and the concentration is obtained for the thickness d1, the intensity I2 at the other thickness d2 is also calculated using the intensity (y1 / y2) · I2 converted so as to correspond to the thickness d1. The concentration can be obtained from the calibration curve. As described above, according to the present embodiment, the concentration of a component such as Pb can be measured using a calibration curve regardless of the thickness of the sample.

図4は、本発明の試料形状補正方法を適用してプラスチック試料の厚みを補正し、プラスチック試料の定量分析を行う蛍光X線分析装置の構成図である。X線管球101からの一次X線102を試料103に照射し、試料103から励起されて発生する蛍光X線104を、EDS検出器105で検出する構成は既に説明した通りである。   FIG. 4 is a configuration diagram of a fluorescent X-ray analyzer that applies the sample shape correction method of the present invention to correct the thickness of a plastic sample and performs quantitative analysis of the plastic sample. The configuration in which the primary X-ray 102 from the X-ray tube 101 is irradiated onto the sample 103 and the fluorescent X-ray 104 generated by being excited from the sample 103 is detected by the EDS detector 105 is as described above.

EDS検出器105は、例えばSi半導体検出器110にて蛍光X線104を検出する。Si半導体検出器110は検出したX線の強度を電流に変換して出力し、信号処理部111はSi半導体検出器110の出力を前述のようにバックグランドBGの面積を用いてスペクトルを所定の厚みd1の試料に相当するものに変換する。これによって、厚みd1の試料について与えられた検量線を用い、所定の成分の濃度を求めることができる。   The EDS detector 105 detects the fluorescent X-rays 104 with, for example, a Si semiconductor detector 110. The Si semiconductor detector 110 converts the detected X-ray intensity into a current and outputs the current, and the signal processing unit 111 uses the area of the background BG as described above to output the spectrum from the Si semiconductor detector 110 to a predetermined spectrum. It converts into the thing equivalent to the sample of thickness d1. As a result, the concentration of the predetermined component can be obtained using the calibration curve provided for the sample having the thickness d1.

このように、試料103が厚さの不十分なプラスチックであっても、コンピュータシステム112は、前述した試料形状補正方法に基づいて厚さを補正し、プラスチック試料の定量分析を、複雑な工程を不要としながらも高精度のうちに行うことができる。   As described above, even if the sample 103 is a plastic with insufficient thickness, the computer system 112 corrects the thickness based on the above-described sample shape correction method, and performs a quantitative analysis of the plastic sample through a complicated process. Although it is unnecessary, it can be performed with high accuracy.

相互に厚さの異なる二つのプラスチック試料の蛍光X線スペクトル図である。It is a fluorescent X-ray spectrum figure of two plastic samples from which thickness differs mutually. 高エネルギーエリアのバックグラウンドの拡大図である。It is an enlarged view of the background of a high energy area. 高エネルギーエリアにおけるプラスチック試料の厚みの変化に対するバックグラウンドBGの面積比の変化を示す特性図である。It is a characteristic view which shows the change of the area ratio of background BG with respect to the change of the thickness of the plastic sample in a high energy area. 本発明の試料形状補正方法を適用してプラスチック試料の厚みを補正し、プラスチック試料の定量分析を行う蛍光X線分析装置の構成図である。1 is a configuration diagram of a fluorescent X-ray analyzer that applies a sample shape correcting method of the present invention to correct a thickness of a plastic sample and quantitatively analyze the plastic sample. 一般的な蛍光X線分析装置の構成図である。It is a block diagram of a general fluorescent X-ray analyzer.

符号の説明Explanation of symbols

101 X線管球、102 一次X線、103 試料、104 蛍光X線、105 EDS検出器、110 信号処理部、112 コンピュータシステム 101 X-ray tube, 102 Primary X-ray, 103 Sample, 104 Fluorescent X-ray, 105 EDS detector, 110 Signal processor, 112 Computer system

Claims (2)

蛍光X線分析方法による分析対象試料の形状を補正するための試料形状補正方法であって、
前記試料の蛍光X線スペクトルにおけるピークの出ない高エネルギー領域のバックグラウンド強度に基づいて試料の厚みを補正することを特徴とする試料形状補正方法。
A sample shape correction method for correcting the shape of a sample to be analyzed by a fluorescent X-ray analysis method,
A sample shape correction method, wherein the thickness of the sample is corrected based on the background intensity of a high energy region where no peak appears in the fluorescent X-ray spectrum of the sample.
高分子材料試料の厚みを補正することを特徴とする請求項1記載の試料形状補正方法。   2. The sample shape correcting method according to claim 1, wherein the thickness of the polymer material sample is corrected.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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