JP2005532408A - ジフルオロメタンを製造するためのプロセス - Google Patents
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- RWRIWBAIICGTTQ-UHFFFAOYSA-N difluoromethane Chemical compound FCF RWRIWBAIICGTTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 181
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 57
- 230000008569 process Effects 0.000 title claims abstract description 57
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 161
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 73
- 238000003682 fluorination reaction Methods 0.000 claims abstract description 38
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 35
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 23
- 238000004821 distillation Methods 0.000 claims abstract description 23
- 150000003751 zinc Chemical class 0.000 claims abstract description 10
- XWCDCDSDNJVCLO-UHFFFAOYSA-N Chlorofluoromethane Chemical compound FCCl XWCDCDSDNJVCLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 46
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 32
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 29
- 150000003752 zinc compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 claims 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 claims 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 abstract description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 14
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 10
- QDOXWKRWXJOMAK-UHFFFAOYSA-N dichromium trioxide Chemical compound O=[Cr]O[Cr]=O QDOXWKRWXJOMAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000047 product Substances 0.000 description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 9
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 7
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 5
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 5
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 5
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- IRPGOXJVTQTAAN-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,3-pentafluoropropanal Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C=O IRPGOXJVTQTAAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KLZUFWVZNOTSEM-UHFFFAOYSA-K Aluminum fluoride Inorganic materials F[Al](F)F KLZUFWVZNOTSEM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 4
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N chloromethane Chemical compound ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000012041 precatalyst Substances 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 3
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 229910001026 inconel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 3
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 3
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 3
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- VOPWNXZWBYDODV-UHFFFAOYSA-N Chlorodifluoromethane Chemical compound FC(F)Cl VOPWNXZWBYDODV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- -1 chromium oxide trifluoride Chemical compound 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- 229940050176 methyl chloride Drugs 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 2
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 2
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- LVGUZGTVOIAKKC-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2-tetrafluoroethane Chemical compound FCC(F)(F)F LVGUZGTVOIAKKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910016569 AlF 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004604 Blowing Agent Substances 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000000443 aerosol Substances 0.000 description 1
- 238000004378 air conditioning Methods 0.000 description 1
- QRRWWGNBSQSBAM-UHFFFAOYSA-N alumane;chromium Chemical compound [AlH3].[Cr] QRRWWGNBSQSBAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021563 chromium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- AQACLAOEMJLOEC-UHFFFAOYSA-N chromium(3+);oxygen(2-);trihydrate Chemical compound O.O.O.[O-2].[O-2].[O-2].[Cr+3].[Cr+3] AQACLAOEMJLOEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000000975 co-precipitation Methods 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 description 1
- 150000005828 hydrofluoroalkanes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002816 nickel compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- GTLACDSXYULKMZ-UHFFFAOYSA-N pentafluoroethane Chemical compound FC(F)C(F)(F)F GTLACDSXYULKMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000003380 propellant Substances 0.000 description 1
- 238000005057 refrigeration Methods 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- FTBATIJJKIIOTP-UHFFFAOYSA-K trifluorochromium Chemical compound F[Cr](F)F FTBATIJJKIIOTP-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 231100000925 very toxic Toxicity 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract
Description
・反応温度
・塩化メチレン対AHFのモル比
・反応のための接触時間
・前触媒の性質
・HFを用いた前触媒の活性化
塩化亜鉛で含浸された共沈クロミア−アルミナを含む触媒(化学組成−Cr:Al:Zn−22:75:3)450mlを、複数の温度感知点を取り付けた電気的に加熱したInconel管状反応器に入れた。約400℃で24時間N2を通すことにより、触媒を前処理した。触媒床の温度を100℃に下げ、AHFをN2と共に導入した。非常に発熱する反応が起き、これをN2及びAHFの流速を調整することによって制御し、触媒床温度が400℃を超えないようにした。フッ素化が進むにつれて、N2を回収し、同時に温度を350℃まで上げながら、純粋なAHFを流した。AHFの出口流中の水分含量が1%未満になったら、触媒の活性化は終了する。
塩化亜鉛で含浸された共沈クロミア−アルミナを含む触媒(化学組成−Cr:Al:Zn−22:75:3)450mlを、複数の温度感知点を取り付けた電気的に加熱したInconel管状反応器に入れた。約400℃で24時間N2を通すことにより、触媒を前処理した。触媒床の温度を100℃に下げ、AHFをN2と共に導入した。非常に発熱する反応が起き、これをN2及びAHFの流速を調整することによって制御し、触媒床温度が400℃を超えないようにした。フッ素化が進むにつれて、N2を回収し、同時に温度を350℃まで上げながら、純粋なAHFを流した。AHFの出口流中の水分含量が1%未満になったら、触媒の活性化は終了する。
塩化亜鉛で含浸された共沈クロミア−アルミナを含む触媒(化学組成−Cr:Al:Zn−22:75:3)450mlを、複数の温度感知点を取り付けた電気的に加熱したInconel管状反応器に入れた。約400℃で24時間N2を通すことにより、触媒を前処理した。触媒床の温度を100℃に下げ、AHFをN2と共に導入した。非常に発熱する反応が起き、これをN2及びAHFの流速を調整することによって制御し、触媒床温度が400℃を超えないようにした。フッ素化が進むにつれて、N2を回収し、同時に温度を350℃まで上げながら、純粋なAHFを流した。AHFの出口流中の水分含量が1%未満になったら、触媒の活性化は終了する。
反応器の出口流から、HCl及びさらに重い成分を除去した(図1、2又は3によって定義されるプロセスのいずれかによって)後に、HFC−32 98gm、HCFC−31 100ppm及びHF 2gmの混合物を含む不純なHFC−32を得る。この混合物を、接触時間12秒で、275℃で反応器内に供給した。反応器の出口において、R31についてサンプル点で分析し、1ppmであることがわかった。
反応器の出口流から、HCl及びさらに重い成分を除去した(図1、2又は3によって定義されるプロセスのいずれかによって)後に、HFC−32 98gm、HCFC−31 100ppm及びHF 2gmの混合物を含む不純なHFC−32を得る。この混合物を、接触時間6秒で、275℃で反応器内に供給した。反応器の出口において、R31についてサンプル点で分析し、20ppmであることがわかった。
反応器の出口流から、HCl及びさらに重い成分を除去した(図1、2又は3によって定義されるプロセスのいずれかによって)後に、HFC−32 98gm、HCFC−31 100ppm及びHF 2gmの混合物を含む不純なHFC−32を得る。この混合物を、接触時間9秒で、250℃で反応器内に供給した。反応器の出口において、R31についてサンプル点で分析し、22ppmであることがわかった。
反応器の出口流から、HCl及びさらに重い成分を除去した(図1、2又は3によって定義されるプロセスのいずれかによって)後に、HFC−32 98gm、HCFC−31 500ppm及びHF 2gmの混合物を含む不純なHFC−32を得る。この混合物を、接触時間7秒で、290℃で反応器内に供給した。反応器の出口において、R31についてサンプル点で分析し、56ppmであることがわかった。
反応器の出口流から、HCl及びさらに重い成分を除去した(図1、2又は3によって定義されるプロセスのいずれかによって)後に、HFC−32 90gm、HCFC−31 500ppm及びHF 10gmの混合物を含む不純なHFC−32を得る。この混合物を、接触時間9秒で、290℃で反応器内に供給した。反応器の出口において、R31についてサンプル点で分析し、1ppmであることがわかった。
Claims (7)
- 塩化メチレンと無水フッ化水素(HF)とを、触媒として亜鉛塩で含浸された共沈クロミア−アルミナの存在下で、225〜375℃の範囲の温度で、20秒を超えない接触時間で蒸気相フッ素化し、蒸留によってHCl及びさらに重い成分を除去し、フッ素化触媒の存在下でジフルオロメタン(HFC−32)を豊富に含む部分にさらなるフッ素化工程を施し、HFC−32とともに生成される中間体であるクロロフルオロメタンHCFC−31をHFC−32に変換し、HFC−32を豊富に含む部分中のHCFC−31の濃度を減らし、純粋なHFC−32を得ることによる、HFC−32を調製するためのプロセス。
- 塩化メチレン対無水フッ化水素のモル比が、1:2.1〜1:15の範囲、好ましくは1:2.5〜1:6の範囲である、請求項1に記載のプロセス。
- 前記反応が、250〜350℃の範囲の温度、好ましくは260〜325℃の範囲の温度で行われる、請求項1に記載のプロセス。
- 前記さらに重い成分が元の供給流に戻される、請求項1に記載のプロセス。
- 前記フッ素化触媒が、亜鉛塩で含浸された共沈クロミア−アルミナである、請求項1に記載のプロセス。
- 前記触媒の重量に基づく前記亜鉛化合物の重量%が、3〜11%の範囲である、請求項5に記載のプロセス。
- AHF及び前記触媒を用いて塩化メチレンをフッ素化するための前記接触時間が3〜20秒の範囲、好ましくは4〜10秒の範囲である、請求項1に記載のプロセス。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/IN2002/000148 WO2004007410A1 (en) | 2002-07-10 | 2002-07-10 | A process for the production of difluoromethane |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005532408A true JP2005532408A (ja) | 2005-10-27 |
Family
ID=34259912
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004521069A Ceased JP2005532408A (ja) | 2002-07-10 | 2002-07-10 | ジフルオロメタンを製造するためのプロセス |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP1542949B1 (ja) |
JP (1) | JP2005532408A (ja) |
CN (1) | CN100372821C (ja) |
AT (1) | ATE421497T1 (ja) |
AU (1) | AU2002317470A1 (ja) |
DE (1) | DE60231010D1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102527414B (zh) * | 2011-12-28 | 2013-01-02 | 临海市利民化工有限公司 | 一种制备二氟甲烷或二氟一氯甲烷的氟化催化剂及制备方法和应用 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2744148A (en) * | 1952-02-04 | 1956-05-01 | Dow Chemical Co | Process for fluorination of haloalkanes using a hydrogen fluoride activated catalyst containing alumina, a metal fluoride and basic aluminum fluoride |
US2745886A (en) * | 1955-01-31 | 1956-05-15 | Dow Chemical Co | Process for fluorinating aliphatic halohydrocarbons with a chromium fluoride catalyst and process for preparing the catalyst |
EP0508631A1 (en) * | 1991-04-08 | 1992-10-14 | Imperial Chemical Industries Plc | Production of hydrofluorocarbons |
JP3605831B2 (ja) * | 1992-10-05 | 2004-12-22 | ダイキン工業株式会社 | ハロゲン化炭化水素のフッ素化方法 |
JPH06263657A (ja) * | 1993-03-11 | 1994-09-20 | Showa Denko Kk | ジフルオロメタンの製造法 |
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ES2111207T3 (es) * | 1993-06-18 | 1998-03-01 | Showa Denko Kk | Catalizador de fluoracion y procedimiento de fluoracion. |
JPH0717882A (ja) * | 1993-07-05 | 1995-01-20 | Daikin Ind Ltd | ジフルオロメタンの製造方法 |
JPH0733691A (ja) * | 1993-07-21 | 1995-02-03 | Showa Denko Kk | ジフルオロメタンの製造方法 |
FR2736048B1 (fr) * | 1995-06-27 | 1997-08-01 | Atochem Elf Sa | Synthese du difluoromethane |
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DE10085452T1 (de) * | 2000-03-31 | 2003-06-18 | Council Scient Ind Res | Verfahren zur Herstellung von 1,1,1,2-Tetrafluorethan |
-
2002
- 2002-07-10 DE DE60231010T patent/DE60231010D1/de not_active Expired - Fee Related
- 2002-07-10 AT AT02745779T patent/ATE421497T1/de not_active IP Right Cessation
- 2002-07-10 CN CNB028295900A patent/CN100372821C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2002-07-10 AU AU2002317470A patent/AU2002317470A1/en not_active Abandoned
- 2002-07-10 JP JP2004521069A patent/JP2005532408A/ja not_active Ceased
- 2002-07-10 EP EP02745779A patent/EP1542949B1/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1668558A (zh) | 2005-09-14 |
ATE421497T1 (de) | 2009-02-15 |
EP1542949B1 (en) | 2009-01-21 |
EP1542949A1 (en) | 2005-06-22 |
DE60231010D1 (de) | 2009-03-12 |
EP1542949A4 (en) | 2006-05-17 |
CN100372821C (zh) | 2008-03-05 |
AU2002317470A1 (en) | 2004-02-02 |
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A02 | Decision of refusal |
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