JP2005288552A - 研磨工具およびそれを用いた研磨方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 研磨工具10が、平坦な取着面を備えた金属製台板(工具本体)14と、砥粒が所定の結合剤で結合されることにより構成され、ワーク28の一面に摺接させられる複数個の砥石片16と、一面においてそれら複数個の砥石片16が配設され、他面において金属製台板14の取着面に固着された弾性変形可能な弾性シート17とを備え、その弾性シート17が、20.4kPaすなわち200g/cm2 の面圧が加えられたときの弾性変形量が5乃至25μmの範囲内の弾性、換言すれば0.25乃至1.235μm/kPaの圧縮弾性変形率を備えたものであるので、コランダム結晶体の鏡面研磨に際して、高い研磨能率が得られるとともに端面ダレが十分に小さくされる。
【選択図】 図1
Description
以下、単結晶サファイヤ製基板を能率良く且つ端面ダレを少なく鏡面研磨するために上記弾性シート17が備える物性を確認するために行われた種々の実験例を順次説明する。この実験に際しては、表1に示すように、前述の研磨工具10と同じ構造ではあるが弾性シート17の材料を変更した研磨工具A、B、C、D、Eと弾性シート17を備えない研磨工具Fとが用意された。次いで、上記研磨工具A、C、D、E、Fについて、試験条件1に示す条件下で研磨荷重に対する弾性変形量が求められた。図3にその実験結果が示されている。そして、それら研磨工具A、C、D、E、Fを用いて試験条件2に示す共通の研磨条件下でφ2(inch) の径を備えた単結晶サファイア基板が研磨されたときの研磨能力と端面ダレとが測定され、測定結果が図4および図5に示されている。この端面ダレは、単結晶サファイヤ製基板の研磨前および後の変化を面で評価するダブオフ( Dub off)変化率が用いられる。たとえば、研磨前において単結晶サファイヤ製基板の端部が中央部よりも3.9μm低いものであったとき、研磨後においてその値が3.4μmであれば、Dub off 変化率は(3.4/3.9)×100=87%となる。Dub off 変化率が100%よりも小さい値であれば研磨前よりも端面ダレが改善されていることを示している。
研磨工具 弾性シートの材質
A ネオフ゜レンコ゛ム
B EPT コ゛ム
C マイクロセルウレタン
D 発泡ウレタン
E マイクロセルウレタン
F 無し
・測定機:インストロン強度試験機(圧縮変形)
・測定荷重:10〜50N(圧力100 〜500g/cm2)
・加圧面積:50mmφ
・砥石: AKP3000 中硬度品
・研磨工具寸法75mmφ
・検討項目:押付荷重に対する弾性変形量(μm)
・試験ワーク:2インチ φの単結晶サファイヤ基板
・研磨試験機:エンギス社製片面ポリシングマシンEJ−380
・砥石工具寸法:外径327mmφ×穴110mmφ
・研磨枚数:キャリアの下面にワーク3枚固定
・研磨荷重:208g/cm2
・工具プレート回転数:90rpm
・ルブリカント:水(流量は10ml/min.)
・ワーク加工時間:60分
・検討項目:1)研磨削除量(研磨能力)mg/60min.
2)端面ダレ(Dub off 変化率)
・端面ダレ測定器:トロペル平面度測定器
次に、ゴム硬度(A)が90である弾性シートを備えた研磨工具すなわち前述の研磨工具Aにおいて矩形の砥石片16の縦横方向の配列ピッチを3種類(10mm、15mm、20mm)に設定した研磨工具A1、A2、A3と、前述の研磨工具Dにおいて矩形の砥石片の縦横方向の配列ピッチを2種類(10mm、15mm)に設定した研磨工具D1、D2とについて、前述の実験例1と同様の試験条件下において研磨し且つその実験例1と同様の測定条件下で測定した研磨能力(60分当たりの累積削除量)および端面ダレ(Dub off 変化率)をそれぞれ測定した。図7は、上記研磨工具A1、A2、A3、D1、D2についての研磨能力と端面ダレとを示している。図7から明らかなように、弾性シートが柔らかな場合は研磨工具D1、D2で示されるように砥石片16の配列ピッチが短くなるほど端面ダレが小さくなるが、208g/cm2 研磨荷重印加時の弾性シートの弾性変形量が25μm以下の比較的硬い弾性シートでは、研磨工具A1、A2、A3で示されるように、端面ダレが1点鎖線に示される従来の標準的な遊離砥粒式鏡面研磨による値より小さくなるとともに、配列ピッチによる差はそれ程なく、配列ピッチが小さくなるほど研磨能力が高くなる傾向がある。なお、上記配列ピッチは、研磨対象となる単結晶サファイア基板の大きさに応じて適宜変更してもよく、5乃至20mmの範囲において好適が結果が得られることが確認されている。
次いで、砥石片16に含まれる砥粒の材質について以下に示すように評価した。図8および図9は、前記のようなラップ盤22を用いてφ2(inch) 程度の大きさの単結晶サファイア基板を前述の実施例の研磨工具10( 以下、実施例1とする) で仕上げ研磨した場合の研磨能率を評価した結果を、従来の遊離砥粒式鏡面研磨加工( 比較例1) および他の砥粒を用いた研磨工具10a,10bによる鏡面研磨加工( 比較例2,3) と比較して示す図である。なお、実施例2は、平均粒径が0.6(μm)程度で比表面積が4.8(m2/g) 程度のアルミナ砥粒を用い、砥粒率Vgが30.5( 容積%) 程度、結合剤率Vbが16.7( 容積%) 程度、気孔率Vpが52.8( 容積%) 程度とされた他は研磨工具10と略同様に構成されたものである。また、実施例3は、平均粒径が0.4(μm)程度で比表面積が4.9(m2/g) 程度のアルミナ砥粒を用い、砥粒率Vgが28,9( 容積%) 程度、結合剤率Vbが15.9( 容積%) 程度、気孔率Vpが55.2( 容積%) 程度とされた他は研磨工具10の砥石片16と略同様に構成されたものである。これら実施例2,3に用いた砥粒は、何れもアルミニウム・アルコキシドを出発原料としてゾル−ゲル法で製造されたα型アルミナである。
記号 種別 平均粒径 比表面積 結晶系
A社 a WA#10000 0.7(μm) 21.6(m 2 /g) 六方晶
B社 b アルコキシド細粒 0.3 82.8 六方晶+正方晶
c アルコキシド中粒 0.4 24.3 六方晶
d アルコキシド粗粒 0.6 5.9 六方晶
C社 e 球状アルミナ 0.7 5.8 単斜晶+斜方晶
f アルコキシド細粒 0.3 7.1 六方晶
g アルコキシド粗粒 0.6 4.8 六方晶
h アルコキシド微粉 0.1 以下 73.7 単斜晶+六方晶
D社 i アルコキシド超微粉 0.1 以下 134.9 正方晶
j アルコキシド中微粉 0.2 12.3 六方晶
k 易焼結細粒 0.4 4.9 六方晶
l 易焼結粗粒 0.8 2.5 六方晶
m バイヤー法 0.4 7.4 六方晶
びD社アルミナm) 、★がC社アルミナeである。
14:金属製台板(工具本体)
16:砥石片
17:弾性シート
28:単結晶サファイヤ板(ワーク)
Claims (6)
- 被研磨部材の一面を所定の表面粗さに研磨するための研磨工具であって、
平坦な取着面を備えた工具本体と、
砥粒が所定の結合剤で結合されることにより構成され、前記コランダムの一面に摺接させられる複数個の砥石片と、
一面において前記複数個の砥石片が配設され、他面において前記工具本体の取着面に固着された弾性変形可能な弾性シートとを、含み、
該弾性シートは、20.4kPaの面圧が加えられたときの弾性変形量が5乃至25μmの範囲内の弾性を備えたものであることを特徴とする研磨工具。 - 前記工具本体は、一回転軸心を中心とする円形の取着面を備えて該一回転軸心まわりに回転させられるものであり、
前記弾性シートは、該円形の取着面に固着され、該円形の取着面の径と同じ径の円形の外周円を有する合成ゴム製のシートであり、
前記複数個の砥石片は、矩形状であって、該弾性シートの一面において5乃至20mmの一定のピッチで縦列方向および横列方向に配置されたものである請求項1の研磨工具。 - 前記複数個の砥石片は、アルコレートを出発原料としてゾル−ゲル法を用いて製造されたα型アルミナ製砥粒が樹脂結合剤によって結合されることにより構成されたレジノイド砥石である請求項1または2の研磨工具。
- 前記複数個の砥石片は、5μm以下の平均粒径を備えた砥粒が熱硬化性樹脂結合剤によって結合されたものである請求項1乃至3のいずれかの研磨工具。
- 前記被研磨部材は、コランダム結晶体である請求項1乃至5のいずれかの研磨工具。
- 請求項1乃至5のいずれかの研磨工具を用いて、被研磨部材の一面を所定の表面粗さに仕上げ研磨する研磨方法。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9960048B2 (en) | 2013-02-13 | 2018-05-01 | Showa Denko K.K. | Surface machining method for single crystal SiC substrate, manufacturing method thereof, and grinding plate for surface machining single crystal SiC substrate |
JP2019188493A (ja) * | 2018-04-19 | 2019-10-31 | 株式会社東京精密 | ハブ型ブレード及びハブ型ブレード製造方法 |
JP2019188495A (ja) * | 2018-04-19 | 2019-10-31 | 株式会社東京精密 | ハブ型ブレード |
JP2019188494A (ja) * | 2018-04-19 | 2019-10-31 | 株式会社東京精密 | ハブ型ブレード |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55120980A (en) * | 1979-03-13 | 1980-09-17 | Toshiba Mach Co Ltd | Grinder for vertical-axis plane grinding |
JPH11277445A (ja) * | 1998-03-25 | 1999-10-12 | Ebara Corp | 基板研磨用砥石及び研磨装置 |
JP2001260037A (ja) * | 2000-03-15 | 2001-09-25 | Tkx:Kk | ディスク状砥石 |
-
2004
- 2004-03-31 JP JP2004102478A patent/JP2005288552A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55120980A (en) * | 1979-03-13 | 1980-09-17 | Toshiba Mach Co Ltd | Grinder for vertical-axis plane grinding |
JPH11277445A (ja) * | 1998-03-25 | 1999-10-12 | Ebara Corp | 基板研磨用砥石及び研磨装置 |
JP2001260037A (ja) * | 2000-03-15 | 2001-09-25 | Tkx:Kk | ディスク状砥石 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9960048B2 (en) | 2013-02-13 | 2018-05-01 | Showa Denko K.K. | Surface machining method for single crystal SiC substrate, manufacturing method thereof, and grinding plate for surface machining single crystal SiC substrate |
US10453693B2 (en) | 2013-02-13 | 2019-10-22 | Showa Denko K.K. | Surface machining method for single crystal SiC substrate, manufacturing method thereof, and grinding plate for surface machining single crystal SiC substrate |
JP2019188493A (ja) * | 2018-04-19 | 2019-10-31 | 株式会社東京精密 | ハブ型ブレード及びハブ型ブレード製造方法 |
JP2019188495A (ja) * | 2018-04-19 | 2019-10-31 | 株式会社東京精密 | ハブ型ブレード |
JP2019188494A (ja) * | 2018-04-19 | 2019-10-31 | 株式会社東京精密 | ハブ型ブレード |
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