JP2005162780A - 洗浄剤組成物及び液晶セル用洗浄剤 - Google Patents
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- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims abstract description 66
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 41
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 title claims abstract description 33
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 title claims description 44
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 37
- -1 polyoxyethylene monostyrylphenyl ether Polymers 0.000 claims abstract description 34
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 20
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 20
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 17
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 claims description 16
- BYLSIPUARIZAHZ-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-tris(1-phenylethyl)phenol Chemical compound C=1C(C(C)C=2C=CC=CC=2)=C(O)C(C(C)C=2C=CC=CC=2)=CC=1C(C)C1=CC=CC=C1 BYLSIPUARIZAHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 claims description 12
- 229920000233 poly(alkylene oxides) Polymers 0.000 claims description 7
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 239000003599 detergent Substances 0.000 abstract description 10
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 abstract description 9
- WIGIPJGWVLNDAF-UHFFFAOYSA-N 8-methyl-1-(8-methylnonoxy)nonane Chemical compound CC(C)CCCCCCCOCCCCCCCC(C)C WIGIPJGWVLNDAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 abstract description 5
- 239000011369 resultant mixture Substances 0.000 abstract 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 10
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 8
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 5
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 4
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 4
- PFTAWBLQPZVEMU-DZGCQCFKSA-N (+)-catechin Chemical compound C1([C@H]2OC3=CC(O)=CC(O)=C3C[C@@H]2O)=CC=C(O)C(O)=C1 PFTAWBLQPZVEMU-DZGCQCFKSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 3
- ADRVNXBAWSRFAJ-UHFFFAOYSA-N catechin Natural products OC1Cc2cc(O)cc(O)c2OC1c3ccc(O)c(O)c3 ADRVNXBAWSRFAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000005487 catechin Nutrition 0.000 description 3
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 3
- 229950001002 cianidanol Drugs 0.000 description 3
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 3
- 238000005011 time of flight secondary ion mass spectroscopy Methods 0.000 description 3
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GJYCVCVHRSWLNY-UHFFFAOYSA-N 2-butylphenol Chemical compound CCCCC1=CC=CC=C1O GJYCVCVHRSWLNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexan-1-ol Chemical compound CCCCC(CC)CO YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005727 Friedel-Crafts reaction Methods 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LLEMOWNGBBNAJR-UHFFFAOYSA-N biphenyl-2-ol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 LLEMOWNGBBNAJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 2
- MWKFXSUHUHTGQN-UHFFFAOYSA-N decan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCO MWKFXSUHUHTGQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 2
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 2
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 2
- GLDOVTGHNKAZLK-UHFFFAOYSA-N octadecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCO GLDOVTGHNKAZLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 2
- HLZKNKRTKFSKGZ-UHFFFAOYSA-N tetradecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCO HLZKNKRTKFSKGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- ALSTYHKOOCGGFT-KTKRTIGZSA-N (9Z)-octadecen-1-ol Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCO ALSTYHKOOCGGFT-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- XFRVVPUIAFSTFO-UHFFFAOYSA-N 1-Tridecanol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCO XFRVVPUIAFSTFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMAXMXPDVWTIRV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylethyl)phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1CCC1=CC=CC=C1 DMAXMXPDVWTIRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 2-(3,4-dimethoxyphenyl)-5-hydroxy-7-methoxychromen-4-one Chemical compound C=1C(OC)=CC(O)=C(C(C=2)=O)C=1OC=2C1=CC=C(OC)C(OC)=C1 HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDMGNVWZXRKJNS-UHFFFAOYSA-N 2-benzylphenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1CC1=CC=CC=C1 CDMGNVWZXRKJNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYEJMVLDXAUOPN-UHFFFAOYSA-N 2-dodecylphenol Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1O CYEJMVLDXAUOPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PLLBRTOLHQQAQQ-UHFFFAOYSA-N 8-methylnonan-1-ol Chemical compound CC(C)CCCCCCCO PLLBRTOLHQQAQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001669679 Eleotris Species 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004440 Isodecyl alcohol Substances 0.000 description 1
- IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N Nonylphenol Natural products CCCCCCCCCC1=CC=C(O)C=C1 IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 150000001555 benzenes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 239000010730 cutting oil Substances 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N dodecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCO LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 239000004519 grease Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 230000009878 intermolecular interaction Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 1
- 229940043348 myristyl alcohol Drugs 0.000 description 1
- GOQYKNQRPGWPLP-UHFFFAOYSA-N n-heptadecyl alcohol Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCO GOQYKNQRPGWPLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012454 non-polar solvent Substances 0.000 description 1
- SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N nonylphenol Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1O SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940055577 oleyl alcohol Drugs 0.000 description 1
- XMLQWXUVTXCDDL-UHFFFAOYSA-N oleyl alcohol Natural products CCCCCCC=CCCCCCCCCCCO XMLQWXUVTXCDDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005702 oxyalkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 229920001281 polyalkylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 229940012831 stearyl alcohol Drugs 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940087291 tridecyl alcohol Drugs 0.000 description 1
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D1/00—Detergent compositions based essentially on surface-active compounds; Use of these compounds as a detergent
- C11D1/66—Non-ionic compounds
- C11D1/825—Mixtures of compounds all of which are non-ionic
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D1/00—Detergent compositions based essentially on surface-active compounds; Use of these compounds as a detergent
- C11D1/66—Non-ionic compounds
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Abstract
【課題】 液晶セルに付着した液晶を洗浄・除去する能力に優れ、低コスト且つ安全性が高い液晶セル用洗浄剤を提供すること。
【解決手段】 成分(a)ポリオキシエチレンモノスチリルフェニルエーテル(エチレンオキシド付加量:5モル)と成分(b)ポリオキシエチレンイソデシルエーテル(エチレンオキシド付加量:6モル)とを、重量比1:2で混合し、これにイオン交換水を加えて濃度0.5重量%の水分散液に調製した液晶セル用洗浄剤は、液晶セルの電極部分に付着した残留液晶を洗浄・除去する性能が高く、低腐食性の非イオン系洗浄剤である。
【選択図】 なし
【解決手段】 成分(a)ポリオキシエチレンモノスチリルフェニルエーテル(エチレンオキシド付加量:5モル)と成分(b)ポリオキシエチレンイソデシルエーテル(エチレンオキシド付加量:6モル)とを、重量比1:2で混合し、これにイオン交換水を加えて濃度0.5重量%の水分散液に調製した液晶セル用洗浄剤は、液晶セルの電極部分に付着した残留液晶を洗浄・除去する性能が高く、低腐食性の非イオン系洗浄剤である。
【選択図】 なし
Description
本発明は、洗浄剤組成物等に関し、より詳しくは、液晶セルの製造工程において、液晶セル等の洗浄に好適な洗浄剤組成物等に関する。
液晶セルは、通常、電極及び配向膜を形成した一対のガラス基板を貼り合わせて液晶を注入し、封止剤で封止した後、ガラス基板の隙間に付着した液晶を洗浄・除去し、偏向板を貼着して製造される。この洗浄工程により液晶を除去するのは、液晶の残渣が離型剤として作用することから、その後の工程において、偏向板の剥がれ、ドライバー端子の接続不備、ドライバーアンダーフィル界面の不具合、基板の薄型化工法に用いる可剥離性塗膜の剥がれ等の種々のトラブル発生を防止するためである。
一般に、分極化合物である液晶分子は、分子間相互作用が強く、強疎水性を示すことから水系への分散或いは溶解は困難であることが知られている。このため、液晶セルに付着した液晶を洗浄・除去するために、イオン性の活性剤、イオン性ビルダー、イオン性乳化剤等が添加された洗浄剤を使用するのが主流とされている。このような洗浄剤としては、例えば、キレート剤及びアルカリ物質を含む洗浄剤(特許文献1)、アンモニウムカチオン及び燐酸エステルアニオン等からなる塩を含有する洗浄剤(特許文献2)が挙げられる。また、カテキン濃縮液からなるキレート剤及び界面活性剤との組み合わせ、エチレンジアミン系キレート剤と界面活性剤及びスルホン酸塩との組み合わせ等も使用されている。
一般に、分極化合物である液晶分子は、分子間相互作用が強く、強疎水性を示すことから水系への分散或いは溶解は困難であることが知られている。このため、液晶セルに付着した液晶を洗浄・除去するために、イオン性の活性剤、イオン性ビルダー、イオン性乳化剤等が添加された洗浄剤を使用するのが主流とされている。このような洗浄剤としては、例えば、キレート剤及びアルカリ物質を含む洗浄剤(特許文献1)、アンモニウムカチオン及び燐酸エステルアニオン等からなる塩を含有する洗浄剤(特許文献2)が挙げられる。また、カテキン濃縮液からなるキレート剤及び界面活性剤との組み合わせ、エチレンジアミン系キレート剤と界面活性剤及びスルホン酸塩との組み合わせ等も使用されている。
ところで、液晶セルに付着した液晶を洗浄・除去するために従来使用されている洗浄剤は、イオン性物質を含有し、また、吸湿性物質も成分の一つとして含まれている。このため、これらの洗浄剤の一部が液晶セルの端子部分に残留すると、イオンマイグレーションや吸着水による液晶駆動時のエレクトロマイグレーションをも引き起こす場合が多いという問題がある。
また、イオン性物質に代わり、ハロゲン系溶媒、テトラヒドロフラン又はアセトン等の一部の非極性或いは極性溶媒が考えられる。しかし、これらは、引火点、安全性、環境問題又は防爆仕様の必要性等の点で問題があり、現実的には使用することが困難である。
また、イオン性物質に代わり、ハロゲン系溶媒、テトラヒドロフラン又はアセトン等の一部の非極性或いは極性溶媒が考えられる。しかし、これらは、引火点、安全性、環境問題又は防爆仕様の必要性等の点で問題があり、現実的には使用することが困難である。
本発明は、このように、液晶セルに付着した液晶を洗浄・除去するために従来使用されている液晶セル用洗浄剤が有する技術的課題を解決するためになされたものである。
即ち、本発明の目的は、洗浄性が高く、低腐食性の非イオン系の洗浄剤組成物を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、液晶セルに付着した液晶を洗浄・除去する能力に優れ、低コスト且つ安全性が高い液晶セル用洗浄剤を提供することにある。
即ち、本発明の目的は、洗浄性が高く、低腐食性の非イオン系の洗浄剤組成物を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、液晶セルに付着した液晶を洗浄・除去する能力に優れ、低コスト且つ安全性が高い液晶セル用洗浄剤を提供することにある。
かかる目的のもと、本発明が適用される洗浄剤組成物は、(a)ポリオキシアルキレンスチリルフェニルエーテル20重量%〜60重量%と、(b)ポリオキシアルキレンアルキルエーテル40重量%〜80重量%と(但し、(a)と(b)との合計は100重量%である)、を含有することを特徴とするものである。
かかる構成を有する本発明が適用される洗浄剤組成物は、特に、液晶に対する溶解性が高く、また、非イオン性であることから、イオンマイグレーションや吸着水による液晶駆動時のエレクトロマイグレーションによる問題が解消される。
本発明が適用される洗浄剤組成物に含有される2成分の重量比は、(a)ポリオキシアルキレンスチリルフェニルエーテルが30重量%〜50重量%であり、(b)ポリオキシアルキレンアルキルエーテルが50重量%〜70重量%であることが好ましい。
かかる構成を有する本発明が適用される洗浄剤組成物は、特に、液晶に対する溶解性が高く、また、非イオン性であることから、イオンマイグレーションや吸着水による液晶駆動時のエレクトロマイグレーションによる問題が解消される。
本発明が適用される洗浄剤組成物に含有される2成分の重量比は、(a)ポリオキシアルキレンスチリルフェニルエーテルが30重量%〜50重量%であり、(b)ポリオキシアルキレンアルキルエーテルが50重量%〜70重量%であることが好ましい。
ここで、成分(a)であるポリオキシアルキレンスチリルフェニルエーテルは、スチレン化フェノールのポリアルキレンオキシド付加物であることを特徴とすれば、公知の合成手法を用いて容易に得ることができる。とくに、(a)ポリオキシアルキレンスチリルフェニルエーテルは、スチレン化フェノールと炭素数2〜4のアルキレンオキシドとの付加重合体であることが好ましい。このとき、(a)ポリオキシアルキレンスチリルフェニルエーテルは、スチレン化フェノール1モルと炭素数2〜炭素数4のアルキレンオキシド4モル〜5モルとの付加重合体であることが好ましい。このように、アルキレンオキシドの付加量を4モル〜5モル程度にすることにより、ポリオキシアルキレンスチリルフェニルエーテルの分子極性が弱まり、一方で、液晶に対する溶解性を高めることができる。
また、通常、スチレン化フェノールは、モノ体、ジ体及びトリ体が存在するが、スチレン化フェノール中のモノスチレン化フェノールの純度が85%以上であることを特徴とすれば、イオンマイグレーションや吸着水による液晶駆動時のエレクトロマイグレーションによる影響を大幅に低減することができる。中でも、(a)ポリオキシアルキレンスチリルフェニルエーテルは、モノスチレン化フェノール1モルとエチレンオキシド5モルとの付加重合体であることが好ましい。
また、通常、スチレン化フェノールは、モノ体、ジ体及びトリ体が存在するが、スチレン化フェノール中のモノスチレン化フェノールの純度が85%以上であることを特徴とすれば、イオンマイグレーションや吸着水による液晶駆動時のエレクトロマイグレーションによる影響を大幅に低減することができる。中でも、(a)ポリオキシアルキレンスチリルフェニルエーテルは、モノスチレン化フェノール1モルとエチレンオキシド5モルとの付加重合体であることが好ましい。
また、成分(b)であるポリオキシアルキレンアルキルエーテルは、炭素数4〜炭素数18の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を有することを特徴とすれば、本発明が適用される洗浄剤組成物の水に対する溶解性を飛躍的に高めることが可能となり、水分散液の形態として使用が可能な水系洗浄剤を調製することができる。
ここで、(b)ポリオキシアルキレンアルキルエーテルは、炭素数2〜炭素数4のアルキレンオキシドの付加モル数が1〜10であることが好ましく、特に、炭素数2又は3のアルキレンオキシドの付加モル数が6であることが好ましい。さらに、(b)ポリオキシアルキレンアルキルエーテルは、イソデシル基を有することが好ましい。
ここで、(b)ポリオキシアルキレンアルキルエーテルは、炭素数2〜炭素数4のアルキレンオキシドの付加モル数が1〜10であることが好ましく、特に、炭素数2又は3のアルキレンオキシドの付加モル数が6であることが好ましい。さらに、(b)ポリオキシアルキレンアルキルエーテルは、イソデシル基を有することが好ましい。
ところで、本発明は、(a)ポリオキシアルキレンスチリルフェニルエーテル20重量%〜60重量%と(b)ポリオキシアルキレンアルキルエーテル40重量%〜80重量%との混合物(但し、(a)と(b)との合計は100重量%である)と、このような組成比を有する混合物1gに対して、(c)水100g〜1000gとを含有することを特徴とする液晶セル用洗浄剤として捉えることもでき、液晶セルに付着した液晶を洗浄・除去する性能に優れた液晶セル用洗浄剤として特徴を有するものである。
ここで、(c)水は、イオン交換水であることが好ましい。
本発明が適用される液晶セル用洗浄剤は、イオン性成分を含まず、さらに、0.1重量%程度の低濃度の水分散液の形態で使用することにより、水分散液1リットル当たり液晶5gを完全に溶解させる優れた性能を有するものである。また液晶セルから洗浄・除去された液晶は、液晶セルに再付着することなく、洗浄剤の液中で安定に分散状態を保持し、水洗により完全に除去が可能となる。
ここで、(c)水は、イオン交換水であることが好ましい。
本発明が適用される液晶セル用洗浄剤は、イオン性成分を含まず、さらに、0.1重量%程度の低濃度の水分散液の形態で使用することにより、水分散液1リットル当たり液晶5gを完全に溶解させる優れた性能を有するものである。また液晶セルから洗浄・除去された液晶は、液晶セルに再付着することなく、洗浄剤の液中で安定に分散状態を保持し、水洗により完全に除去が可能となる。
本発明によれば、洗浄性が高く、低腐食性の非イオン系の洗浄剤組成物が提供される。
以下、本発明を実施するための最良の形態(以下、発明の実施の形態という)について詳細に説明する。
本実施の形態が適用される洗浄剤組成物において使用する(a)ポリオキシアルキレンスチリルフェニルエーテルは、スチレン化フェノールのポリアルキレンオキシド付加物として得られる。
ここで、スチレン化フェノールの合成方法は特に限定されず、公知の手法を用いることができる。例えば、フェノール類とスチレン類とのフリーデル・クラフツ反応により製造できる。フェノール類としては、例えば、フェノール、アルキルフェノール、アリールフェノール、アラルキルフェノールが挙げられる。アルキルフェノールとしては、例えば、クレゾール、ブチルフェノール、オクチルフェノール等が挙げられる。アリールフェノールとしては、例えば、フェニルフェノール、ビフェニルフェノール、ナフチルフェノール等が挙げられる。アラルキルフェノールとしては、例えば、ベンジルフェノール、フェニルエチルフェノール等が挙げられる。これらの中でも、フェノール、クレゾール、フェニルフェノールが好ましい。
また、スチレン類としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエンが挙げられる。これらの中でも、スチレンが好ましい。
本実施の形態が適用される洗浄剤組成物において使用する(a)ポリオキシアルキレンスチリルフェニルエーテルは、スチレン化フェノールのポリアルキレンオキシド付加物として得られる。
ここで、スチレン化フェノールの合成方法は特に限定されず、公知の手法を用いることができる。例えば、フェノール類とスチレン類とのフリーデル・クラフツ反応により製造できる。フェノール類としては、例えば、フェノール、アルキルフェノール、アリールフェノール、アラルキルフェノールが挙げられる。アルキルフェノールとしては、例えば、クレゾール、ブチルフェノール、オクチルフェノール等が挙げられる。アリールフェノールとしては、例えば、フェニルフェノール、ビフェニルフェノール、ナフチルフェノール等が挙げられる。アラルキルフェノールとしては、例えば、ベンジルフェノール、フェニルエチルフェノール等が挙げられる。これらの中でも、フェノール、クレゾール、フェニルフェノールが好ましい。
また、スチレン類としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエンが挙げられる。これらの中でも、スチレンが好ましい。
フリーデル・クラフツ反応の反応条件は特に限定されないが、例えば、フェノール類とスチレン類とを、触媒の存在下に110〜140℃の温度で反応させることにより行うことができる。
尚、スチレン化フェノールには、フェノール類のベンゼン核にスチレン類が付加したものとして、通常、モノ体、ジ体及びトリ体が存在する。中でも、フェノール類のベンゼン核にスチレン類が1モル付加したモノ体が好ましい。また、スチレン化フェノール中のモノスチレン化フェノールの濃度は、通常85%以上、好ましくは90%以上、さらに好ましくは98以上であることが好ましい。
尚、スチレン化フェノールには、フェノール類のベンゼン核にスチレン類が付加したものとして、通常、モノ体、ジ体及びトリ体が存在する。中でも、フェノール類のベンゼン核にスチレン類が1モル付加したモノ体が好ましい。また、スチレン化フェノール中のモノスチレン化フェノールの濃度は、通常85%以上、好ましくは90%以上、さらに好ましくは98以上であることが好ましい。
スチレン化フェノールのポリアルキレンオキシド付加物は、スチレン化フェノールにアルキレンオキシドを付加反応させることにより製造することができる。アルキレンオキシドとしては炭素数2〜炭素数4のものが好ましい。アルキレンオキシドの中でも、炭素数2を有するエチレンオキシド及び炭素数3を有するプロピレンオキシドが好ましく、エチレンオキシドが特に好ましい。アルキレンオキシドの付加モル数は、液晶に対する溶解性の観点から、通常、1モル〜10モル、好ましくは、2モル〜6モル、特に好ましくは、4モル〜5モルである。中でも、最も好ましいのは、モノスチレン化フェノール1モルとエチレンオキシド5モルとの付加物である。付加反応の条件は特に限定されないが、例えば、100℃〜190℃の温度において行うことができる。
本実施の形態が適用される洗浄剤組成物において使用する(a)ポリオキシアルキレンスチリルフェニルエーテルの好ましい態様としては、下記一般式(1)で表される構造を有するものが挙げられる。
ここで、式(1)中、R1は炭素数2〜炭素数4の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基であり、nはスチリル基の付加モル数(1〜3)であり、mはオキシアルキレン基の付加モル数(1〜10)である。
次に、本実施の形態が適用される洗浄剤組成物において使用する(b)ポリオキシアルキレンアルキルエーテルは、高級アルコールのアルキレンオキシドの付加物として得ることができる。高級アルコールとしては、炭素数4〜炭素数18の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を有するアルコールが挙げられる。具体的には、2−エチルヘキサノール、オクタノール、デカノール、ラウリルアルコール、イソデシルアルコール、トリデシルアルコール、ミリスチルアルコール、ステアリルアルコール、オレイルアルコール、オクチルフェノール、ノニルフェノール、ドデシルフェノール等が挙げられる、中でも、イシデシルアルコールが好ましい。
アルキレンオキシドとしては炭素数2〜炭素数4のものが好ましい。アルキレンオキシドの中でも、炭素数2を有するエチレンオキシド及び炭素数3を有するプロピレンオキシドが好ましく、エチレンオキシドが特に好ましい。また、エチレンオキシドとプロピレンオキシドとのブロック構造を有するものも用いることができる。アルキレンオキシドの付加モル数は、水溶性及び液晶に対する溶解性の観点から、通常、1モル〜10モル、好ましくは、5モル〜7モル、特に好ましくは、6モルである。
アルキレンオキシドとしては炭素数2〜炭素数4のものが好ましい。アルキレンオキシドの中でも、炭素数2を有するエチレンオキシド及び炭素数3を有するプロピレンオキシドが好ましく、エチレンオキシドが特に好ましい。また、エチレンオキシドとプロピレンオキシドとのブロック構造を有するものも用いることができる。アルキレンオキシドの付加モル数は、水溶性及び液晶に対する溶解性の観点から、通常、1モル〜10モル、好ましくは、5モル〜7モル、特に好ましくは、6モルである。
本実施の形態が適用される洗浄剤組成物において使用する(b)ポリオキシアルキレンアルキルエーテルの好ましい態様としては、下記一般式(2)で表される構造を有するものが挙げられる。
R2−O−(R3O)lH (2)
ここで、式(2)中、R2は炭素数4〜炭素数18の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、R3は炭素数2〜炭素数4の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基であり、lはオキシアルキレン基の付加モル数(1〜10)である。
一般式(2)で表される(b)ポリオキシアルキレンアルキルエーテルの中でも、エチレンオキシドの付加量が6モルのポリオキシエチレンイソデシルエーテルが特に好ましい。
R2−O−(R3O)lH (2)
ここで、式(2)中、R2は炭素数4〜炭素数18の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、R3は炭素数2〜炭素数4の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基であり、lはオキシアルキレン基の付加モル数(1〜10)である。
一般式(2)で表される(b)ポリオキシアルキレンアルキルエーテルの中でも、エチレンオキシドの付加量が6モルのポリオキシエチレンイソデシルエーテルが特に好ましい。
本実施の形態が適用される洗浄剤組成物は、成分(a)であるポリオキシアルキレンスチリルフェニルエーテル20重量%〜60重量%、好ましくは、30重量%〜50重量%と、成分(b)であるポリオキシアルキレンアルキルエーテル40重量%〜80重量%、好ましくは、50重量%〜70重量%と(但し、(a)と(b)との合計は100重量%である)、を含有するものである。成分(a)と成分(b)との混合方法は特に限定されず、通常の混合方法を用いることができる。
本実施の形態が適用される洗浄剤組成物は、成分(a)及び成分(b)の混合物のままで使用することができるが、所望により、水分散液の形態に調製して使用することができる。水分散液の形態で使用する場合、水分散液における各成分の組成比は特に限定されないが、通常、成分(a)であるポリオキシアルキレンスチリルフェニルエーテルと成分(b)であるポリオキシアルキレンアルキルエーテルとの混合物1gに対して、成分(c)として水100g〜1000gを含有するものである。ここで、成分(c)である水として、イオン交換水を用いることが好ましい。
本実施の形態が適用される洗浄剤組成物は、成分(a)及び成分(b)の混合物のままで使用することができるが、所望により、水分散液の形態に調製して使用することができる。水分散液の形態で使用する場合、水分散液における各成分の組成比は特に限定されないが、通常、成分(a)であるポリオキシアルキレンスチリルフェニルエーテルと成分(b)であるポリオキシアルキレンアルキルエーテルとの混合物1gに対して、成分(c)として水100g〜1000gを含有するものである。ここで、成分(c)である水として、イオン交換水を用いることが好ましい。
このような低濃度の水分散液の形態に調製された洗浄剤組成物は、特に、液晶セルに付着した液晶の洗浄・除去に優れた性能を示す液晶セル用洗浄剤として使用することができる。このような液晶セル用洗浄剤を用いて液晶セルに付着した液晶を洗浄・除去する方法は特に限定されず、適宜選択することができる。例えば、浸漬洗浄、揺動洗浄、スピンナーのような回転を利用した洗浄、パドル洗浄、気中又は液中スプレー洗浄及び超音波洗浄等の公知の手段を用いることができる。このような洗浄手段は単独で実施しても良く、複数を組み合わせて実施しても良い。また、液晶セルは、一回の洗浄操作で一組ずつ洗浄しても良く、複数組を洗浄しても良い。また、洗浄の際に用いる洗浄槽の数は一つでも複数でも良い。洗浄時の液晶セル用洗浄剤の温度は特に限定されるものではないが、20℃〜60℃の範囲が安全性、操業性の点で好ましい。
尚、本実施の形態が適用される洗浄剤組成物には、必要に応じて、他のノニオン界面活性剤を配合することができる。ノニオン界面活性剤としては、例えば、ポリアルキレンポリアミンポリアルキレンオキシド付加物、多価アルコール脂肪酸エステル、多価アルコール脂肪酸エステルポリアルキレンオキシド付加物およびベンジル化フェノールポリアルキレンオキシド付加物のうちの1種以上等が挙げられる。
以下に実施例を示して、本実施の形態をさらに具体的に説明する。但し、本実施の形態はその要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。
(実施例1〜実施例4、比較例1、比較例2)
JISくし歯電極2型電極板を被洗浄物とし、これに液晶(フッ素系液晶:メルク(株)製TM9701LA)を均一に塗布して評価基板とした。次に、表1に示した組成及び濃度の洗浄剤((1)〜(4))を調製し、これらの洗浄剤の水溶液中に、液晶を塗布した評価基板を、40℃、2分間浸漬して攪拌し、その後、流水にて1分間水洗し、クリーンオーブン(80℃)中で30分間乾燥した。
続いて、乾燥した電極に周波数100Hzの正弦波を与え、交流交番電場による位相差(tanθ)を誘電損失量として測定し、評価基板上に残留する洗浄剤の影響を評価した。周波数100Hz以下の領域では、吸着水、遊離水の表面分極による誘電損失が現れ、イオンは可動イオンとなり、マイグレーションを加速させる要因となる。誘電損失量の数値が小さいほど、評価基板上に残留する洗浄剤の影響が小さく、液晶セル用洗浄剤として優れている。
尚、比較のために、エチレンジアミン系洗浄剤(洗浄剤A:横浜油脂(株)製LGL)及びカテキン系洗浄剤(洗浄剤B:伊藤園(株)製ナチュラルスリーパー)についても、同様な条件で誘電損失量を測定した。結果を表1に示す。
(実施例1〜実施例4、比較例1、比較例2)
JISくし歯電極2型電極板を被洗浄物とし、これに液晶(フッ素系液晶:メルク(株)製TM9701LA)を均一に塗布して評価基板とした。次に、表1に示した組成及び濃度の洗浄剤((1)〜(4))を調製し、これらの洗浄剤の水溶液中に、液晶を塗布した評価基板を、40℃、2分間浸漬して攪拌し、その後、流水にて1分間水洗し、クリーンオーブン(80℃)中で30分間乾燥した。
続いて、乾燥した電極に周波数100Hzの正弦波を与え、交流交番電場による位相差(tanθ)を誘電損失量として測定し、評価基板上に残留する洗浄剤の影響を評価した。周波数100Hz以下の領域では、吸着水、遊離水の表面分極による誘電損失が現れ、イオンは可動イオンとなり、マイグレーションを加速させる要因となる。誘電損失量の数値が小さいほど、評価基板上に残留する洗浄剤の影響が小さく、液晶セル用洗浄剤として優れている。
尚、比較のために、エチレンジアミン系洗浄剤(洗浄剤A:横浜油脂(株)製LGL)及びカテキン系洗浄剤(洗浄剤B:伊藤園(株)製ナチュラルスリーパー)についても、同様な条件で誘電損失量を測定した。結果を表1に示す。
表1に示した結果から、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル(成分(a))とポリオキシアルキレンイソデシルエーテル(成分(b))とを、重量比(a):(b)=1:2で混合し、濃度0.5重量%の水分散液に調製した洗浄剤(実施例1〜実施例4)は、誘電損失(tanθ)の測定値が、乾燥状態(dry)及び加湿状態(wet)においていずれも小さく、低コストで安全な液晶セル用洗浄剤として優れた性能を有することが分かる。
中でも、ポリオキシエチレンモノスチリルフェニルエーテル(MSP:エチレンオキシド付加量:5モル)とポリオキシエチレンイソデシルエーテル(SD:エチレンオキシド付加量:6モル)とを、重量比1:2で混合して調製した洗浄剤(1)(実施例1)は、誘電損失(tanθ)の測定値が小さく、評価基板上に形成した電極に対する影響が特に小さいことが分かる。
一方、エチレンジアミン系洗浄剤(洗浄剤A:比較例1)は、評価基板の電極に与える影響は小さいものの、電極に付着した液晶を除去するためには高濃度の状態で使用する必要があり、洗浄剤としてコストがきわめて高いことが分かる。また、カテキン系洗浄剤(洗浄剤B:比較例2)は、誘電損失(tanθ)の測定値が大きく、特に加湿状態(wet)においてマイグレーションが加速され、電極に与える影響が大きいことが分かる。
中でも、ポリオキシエチレンモノスチリルフェニルエーテル(MSP:エチレンオキシド付加量:5モル)とポリオキシエチレンイソデシルエーテル(SD:エチレンオキシド付加量:6モル)とを、重量比1:2で混合して調製した洗浄剤(1)(実施例1)は、誘電損失(tanθ)の測定値が小さく、評価基板上に形成した電極に対する影響が特に小さいことが分かる。
一方、エチレンジアミン系洗浄剤(洗浄剤A:比較例1)は、評価基板の電極に与える影響は小さいものの、電極に付着した液晶を除去するためには高濃度の状態で使用する必要があり、洗浄剤としてコストがきわめて高いことが分かる。また、カテキン系洗浄剤(洗浄剤B:比較例2)は、誘電損失(tanθ)の測定値が大きく、特に加湿状態(wet)においてマイグレーションが加速され、電極に与える影響が大きいことが分かる。
(実施例5、比較例3、比較例4)
実施例1において使用した洗浄剤(1)により、実施例1と同様な条件で評価基板に付着した液晶を洗浄・除去し、電極上に残る液晶残渣によるフラグメントイオンをTOF−SIMSを用いて測定した。尚、比較のため、比較例1において使用した洗浄剤Aと比較例2において使用した洗浄剤Bとについても、実施例1と同様な操作を行った後、電極上に残る液晶残渣によるフラグメントイオンをTOF−SIMSを用いて測定した。結果を表2に示す。
実施例1において使用した洗浄剤(1)により、実施例1と同様な条件で評価基板に付着した液晶を洗浄・除去し、電極上に残る液晶残渣によるフラグメントイオンをTOF−SIMSを用いて測定した。尚、比較のため、比較例1において使用した洗浄剤Aと比較例2において使用した洗浄剤Bとについても、実施例1と同様な操作を行った後、電極上に残る液晶残渣によるフラグメントイオンをTOF−SIMSを用いて測定した。結果を表2に示す。
表2に示した結果から、ポリオキシエチレンモノスチリルフェニルエーテル(MSP:エチレンオキシド付加量:5モル)とポリオキシエチレンイソデシルエーテル(SD:エチレンオキシド付加量:6モル)とを、重量比1:2で混合して調製した洗浄剤(1)(実施例5)は、TOF−SIMSを用いて測定したフラグメントイオン量が少ないことから、電極上に残る液晶残渣が少なく、液晶セル用洗浄剤としての洗浄能力が優れていることが分かる。
一方、洗浄剤A(比較例3)及び洗浄剤B(比較例4)は、電極上に残る液晶残渣が多く、特に、洗浄剤Bは、洗浄剤(1)の約5倍程度の液晶残渣が残ることが分かる。
一方、洗浄剤A(比較例3)及び洗浄剤B(比較例4)は、電極上に残る液晶残渣が多く、特に、洗浄剤Bは、洗浄剤(1)の約5倍程度の液晶残渣が残ることが分かる。
本発明の活用例としては、例えば、精密部品に付着した切削油、プレス油、引き抜き油等各種油、ワックス、グリース等の汚れに対する洗浄剤として適用することができる。
Claims (13)
- (a)ポリオキシアルキレンスチリルフェニルエーテル20重量%〜60重量%と、
(b)ポリオキシアルキレンアルキルエーテル40重量%〜80重量%と(但し、(a)と(b)との合計は100重量%である)、を含有することを特徴とする洗浄剤組成物。 - 前記(a)ポリオキシアルキレンスチリルフェニルエーテルは、スチレン化フェノールのポリアルキレンオキシド付加物であることを特徴とする請求項1記載の洗浄剤組成物。
- 前記(a)ポリオキシアルキレンスチリルフェニルエーテルは、スチレン化フェノールと炭素数2〜4のアルキレンオキシドとの付加重合体であることを特徴とする請求項1記載の洗浄剤組成物。
- 前記スチレン化フェノールは、モノスチレン化フェノールの純度が85%以上であることを特徴とする請求項3記載の洗浄剤組成物。
- 前記(a)ポリオキシアルキレンスチリルフェニルエーテルは、スチレン化フェノール1モルと炭素数2〜炭素数4のアルキレンオキシド4モル〜5モルとの付加重合体であることを特徴とする請求項1記載の洗浄剤組成物。
- 前記(a)ポリオキシアルキレンスチリルフェニルエーテルは、モノスチレン化フェノール1モルとエチレンオキシド5モルとの付加重合体であることを特徴とする請求項1記載の洗浄剤組成物。
- 前記(b)ポリオキシアルキレンアルキルエーテルは、炭素数4〜炭素数18の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を有することを特徴とする請求項1記載の洗浄剤組成物。
- 前記(b)ポリオキシアルキレンアルキルエーテルは、炭素数2〜炭素数4のアルキレンオキシドの付加モル数が1〜10であることを特徴とする請求項1記載の洗浄剤組成物。
- 前記(b)ポリオキシアルキレンアルキルエーテルは、イソデシル基を有することを特徴とする請求項1記載の洗浄剤組成物。
- 前記(b)ポリオキシアルキレンアルキルエーテルは、炭素数2又は3のアルキレンオキシドの付加モル数が6であることを特徴とする請求項1記載の洗浄剤組成物。
- 前記(a)ポリオキシアルキレンスチリルフェニルエーテルが30重量%〜50重量%であり、前記(b)ポリオキシアルキレンアルキルエーテルが50重量%〜70重量%であることを特徴とする請求項1記載の洗浄剤組成物。
- (a)ポリオキシアルキレンスチリルフェニルエーテル20重量%〜60重量%と(b)ポリオキシアルキレンアルキルエーテル40重量%〜80重量%との混合物(但し、(a)と(b)との合計は100重量%である)と、
前記混合物1gに対して、(c)水100g〜1000gとを含有することを特徴とする液晶セル用洗浄剤。 - 前記(c)水は、イオン交換水であることを特徴とする請求項12記載の液晶セル用洗浄剤。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003400334A JP2005162780A (ja) | 2003-11-28 | 2003-11-28 | 洗浄剤組成物及び液晶セル用洗浄剤 |
TW093134329A TW200530329A (en) | 2003-11-28 | 2004-11-10 | Detergent composition and detergent for liquid crystal cell |
US10/996,304 US20050119147A1 (en) | 2003-11-28 | 2004-11-23 | Detergent composition and detergent for liquid crystal cell |
CNB2004100956350A CN1297641C (zh) | 2003-11-28 | 2004-11-26 | 洗涤剂组合物及液晶元件用洗涤剂 |
HK06100296.5A HK1077839B (zh) | 2003-11-28 | 2006-01-06 | 洗滌劑組合物及液晶元件用洗滌劑 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003400334A JP2005162780A (ja) | 2003-11-28 | 2003-11-28 | 洗浄剤組成物及び液晶セル用洗浄剤 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005162780A true JP2005162780A (ja) | 2005-06-23 |
Family
ID=34616652
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003400334A Pending JP2005162780A (ja) | 2003-11-28 | 2003-11-28 | 洗浄剤組成物及び液晶セル用洗浄剤 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20050119147A1 (ja) |
JP (1) | JP2005162780A (ja) |
CN (1) | CN1297641C (ja) |
HK (1) | HK1077839B (ja) |
TW (1) | TW200530329A (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3233279B2 (ja) * | 1998-10-06 | 2001-11-26 | 日本アイ・ビー・エム株式会社 | 洗浄剤組成物および洗浄方法 |
EP1205108A3 (de) * | 2000-10-02 | 2002-06-12 | Bayer Ag | Wirkstoffhaltige Emulsionen |
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-
2003
- 2003-11-28 JP JP2003400334A patent/JP2005162780A/ja active Pending
-
2004
- 2004-11-10 TW TW093134329A patent/TW200530329A/zh unknown
- 2004-11-23 US US10/996,304 patent/US20050119147A1/en not_active Abandoned
- 2004-11-26 CN CNB2004100956350A patent/CN1297641C/zh not_active Expired - Fee Related
-
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- 2006-01-06 HK HK06100296.5A patent/HK1077839B/zh not_active IP Right Cessation
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JP2020013824A (ja) * | 2018-07-13 | 2020-01-23 | 日本キャボット・マイクロエレクトロニクス株式会社 | 化学機械研磨組成物、リンス組成物、化学機械研磨方法及びリンス方法 |
JP7166819B2 (ja) | 2018-07-13 | 2022-11-08 | Cmcマテリアルズ株式会社 | 化学機械研磨組成物、リンス組成物、化学機械研磨方法及びリンス方法 |
WO2022224960A1 (ja) * | 2021-04-19 | 2022-10-27 | デンカ株式会社 | 試薬組成物およびキット |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20050119147A1 (en) | 2005-06-02 |
CN1637129A (zh) | 2005-07-13 |
HK1077839A1 (en) | 2006-02-24 |
CN1297641C (zh) | 2007-01-31 |
TW200530329A (en) | 2005-09-16 |
HK1077839B (zh) | 2007-04-04 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061122 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090612 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A02 | Decision of refusal |
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