JP2005148448A - シリカ微粉体、その製造方法及び用途 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】一次粒子平均径が1μm以下の球状シリカ粉体が、アミノ基含有シランカップリング剤によって表面処理されてなるものであって、JIS K 5400の粒ゲージ法による凝集粒子検出数が2本以下であることを特徴とするシリカ微粉体。疎水性シランカップリング剤及び/又はシリコーンオイルにより更に疎水化処理された上記シリカ微粉体。これらのシリカ微粉体からなる正帯電トナー用外添剤。上記シリカ微粉体の製造方法。
【選択図】 なし
Description
球状シリカ粉体の5kgを浮遊層等を形成させた状態で、ガス化したアミノ基含有シランカップリング剤{(N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業社製商品名「KBM−573」)}85g(球状シリカ粉体100質量部あたり1.7質量部)と接触させて表面処理を行った。すなわち、アミノ基含有シランカップリング剤を電気釜内に滴下してガス化させ、それを窒素ガスに同伴させながら、上記円筒容器の下部から供給し、円筒容器に仕込まれた球状シリカ粉体の浮遊層等を形成させながら、球状シリカ粉体とガス化したアミノ基含有シランカップリング剤とを接触させながら処理した。接触時間(処理時間)は20分、浮遊層等のガス(アミノ基含有シランカップリング剤ガスと窒素ガスとの合計ガス)流量は512NL/minで、ガス流速は11.3m/secであり、アミノ基含有シランカップリング剤ガスのガス濃度は4.3体積%、浮遊層等の粉塵濃度は4.4kg/m3である。処理後、窒素ガスの供給を止め、円筒容器の下部からシリカ微粉体を回収し、表面処理剤による処理量、疎水化度、帯電量、粒ゲージによる凝集度を測定した。それらの結果を表1、表2に示す。
浮遊層等のガス流量を736NL/minとし、ガス流速を16.2cm/sec、アミノ基含有シランカップリング剤ガスのガス濃度を3.0体積%、粉塵濃度を4.0kg/m3の浮遊層等を形成させたこと以外は、実施例1と同様にして表面処理を行った。
アミノ基含有シランカップリング剤として、3−アミノプロピルトリエトキシシラン(信越化学工業社製商品名「KBE−903」)を用い、それを球状シリカ粉体100質量部あたり0.7質量部を電気釜内に滴下してガス化させ、流量502NL/minの窒素ガスに同伴させて供給し、アミノ基含有シランカップリング剤ガスのガス濃度を4.3体積%としたこと以外は、実施例1と同様にして表面処理を行った後、更に疎水化剤としてN−オクチルトリエトキシシラン(日本ユニカー製商品名「A−137」)117g(球状シリカ粉体100質量部あたり2.3質量部)を電気釜に滴下してガス化し、それによる処理をアミノ基含有シランカップリング剤の処理に引き続いて行った。
N−オクチルトリエトキシシランによる処理のかわりに、アミノ変性シリコーンオイル(信越化学工業社製商品名「KF−859」)を用い、それをガス化させないで二流体ノズルから250g(球状シリカ微粉体100質量部あたり5.2質量部)を噴霧したこと以外は、実施例3と同様にして表面処理を行った。
窒素ガス流量を300NL/minとし、浮遊層等のガス流速を6.6cm/sec、アミノ基含有シランカップリング剤ガスのガス濃度を7.3体積%、粉塵濃度を5.9kg/m3の浮遊層等を形成させたこと以外は、実施例1と同様にして表面処理を行った。
512NL/minの窒素ガスのみを円筒容器の下部から供給して浮遊層等を形成させ、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランをガス状ではなく、液状で二流体ノズルから噴霧したこと以外は、実施例1に準じて表面処理を行った。
球状シリカ粉体の仕込量を1kgとして浮遊層等における球状シリカ粉体の粉塵濃度を0.5kg/m3とする一方、アミノ基含有シランカップリング剤の供給量を17g(球状シリカ粉体100質量部あたり1.7質量部)、接触時間を4分としてアミノ基含有シランカップリング剤ガスのガス濃度を4.3体積%としたこと以外は、実施例1と同様にして表面処理を行った。
球状シリカ粉体の仕込量を20kgとして浮遊層等における球状シリカ粉体の粉塵濃度を13.7kg/m3とする一方、アミノ基含有シランカップリング剤の供給量を340g(球状シリカ粉体100質量部あたり1.7質量部)、接触時間を82分としてアミノ基含有シランカップリング剤ガスのガス濃度を4.3体積%としたこと以外は、実施例1と同様にして表面処理を行った。
アミノ基含有シランカップリング剤の処理量を200g(球状シリカ粉体100質量部あたり4.0質量部)とし、アミノ基含有シランカップリング剤ガスのガス濃度を34.3体積%としたこと以外は、実施例1と同様にして表面処理を行った。
アミノ基含有シランカップリング剤の処理量を5g(球状シリカ粉体100質量部あたり0.1質量部)とし、アミノ基含有シランカップリング剤ガスのガス濃度を0.3体積%としたこと以外は、実施例1と同様にして表面処理を行った。
Claims (4)
- 一次粒子平均径が1μm以下の球状シリカ粉体が、アミノ基含有シランカップリング剤によって表面処理されてなるものであって、JIS K 5400の粒ゲージ法による凝集粒子検出数が2本以下であることを特徴とするシリカ微粉体。
- アミノ基含有シランカップリング剤により表面処理された後、更に疎水性シランカップリング剤及び/又はシリコーンオイルによって疎水化処理されてなり、JIS K 5400の粒ゲージ法による凝集粒子検出数が2本以下であることを特徴とする請求項1記載のシリカ微粉体。
- 10cm/sec以上のガス流速により、粉塵濃度1〜12kg/m3の球状シリカ粉体の浮遊層又は流動層を形成させた状態で、球状シリカ粉体とガス化したアミノ基含有シランカップリング剤とを接触させた後、更に必要に応じて疎水性シランカップリング剤及び/又はシリコーンオイルと接触させることを特徴とするシリカ微粉体の製造方法。
- 請求項1又は2記載のシリカ微粉体からなることを特徴とする正帯電トナー用外添剤。
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