JP2005147604A - 高周波加熱調理装置とその装置を用いた加熱調理法 - Google Patents

Abstract

【課題】蒸気加熱と高周波加熱ができる高周波加熱調理装置であって調理に最適な加熱調理手段を高温蒸気による加熱調理手段単独のみならず高周波加熱手段を併用制御して迅速にしかも被加熱調理物ならびに加熱室の結露を少なくすることを課題とする。
【解決手段】被加熱調理物を収容して加熱する加熱室２内に高周波を出力する高周波発生部３と、加熱室２内に供給する蒸気を発生する蒸気発生部４と、蒸気発生部４で発生した蒸気を加熱して高温過熱蒸気として加熱室２内に蒸気搬送管１０の蒸気吐出口２５を経由して供給する発熱量可変制御が可能なプリントヒータ１１（蒸気加熱手段）を備えた高周波加熱調理装置とする。
【選択図】図２

Description

本発明は高周波及び蒸気によって被加熱調理物を加熱調理する高周波加熱調理装置とその装置を用いた加熱調理法に関するものである。

従来、被加熱調理物を収容する加熱室内に高周波を出力する高周波発生手段を備えた高周波加熱調理装置は、加熱室内の被加熱調理物に対して、短時間で効率のよい加熱ができるため、電子レンジとして急速に普及した。

そして、高周波加熱による加熱だけでは、加熱調理の利用範囲が限られるなどの不便があるため、加熱室内で発熱する電熱器を追加して、オーブン加熱を可能にした高周波加熱装置が提案され、近年では、更に、加熱室内に蒸気を供給する蒸気供給機構を追加して、蒸気による加熱調理も可能にした蒸気発生機能付き高周波加熱調理装置が提案されている（例えば、特許文献１参照）。以下図１０を用いて上記従来周知の蒸気発生機能付き高周波加熱調理装置について説明する。

図１０において、５１は調理装置の本体で、外ケース５２と内部に加熱室５３を形成した加熱箱５４とを備えている。５５は加熱室５３内の下部に配設したターンテーブルで、本体５１底部に設けたターンテーブルモータ５６により回転駆動される。５７は加熱室５３内へ導波管５８を介して高周波を供給するマグネトロン、５９は高周波供給口、６０は貯水タンク、６１は底面にスチーム発生用電熱ヒータ６２を埋設した気化室で、前記貯水タンク６０とパイプにより連通している。６３はスチーム供給管、６４、６５は加熱室５３内の上部と下部にそれぞれ設けた電熱ヒータである。

上記加熱調理装置では、高周波と電熱とスチームとのそれぞれを単独の加熱手段として調理ができ、加熱手段の選択によって調理範囲の拡大が図られる使い勝手のよい利点がある。しかしながら、スチーム加熱を選択した場合、スチームは水より発生するスチームを使用するものであるから、スチームの温度は低温度例えば１００℃以下であて、加熱量が少なくしかも被加熱調理物表面での結露量および加熱室５３の内璧面での結露量が多くなる。
特開昭５４ー１１５４４８号公報

前記、従来周知の高周波加熱調理装置の問題点に鑑み、本発明が解決しようとする課題は、被加熱調理物に最適な加熱調理手段を個別の加熱手段に依存することなく異なる加熱手段を同時併用によって達成することができるものとし、しかも加熱調理に最も適切な加熱量と加熱温度を制御可能として迅速な加熱調理を実現するとともに被加熱調理物ならびに加熱室壁面の結露量を低減することができる蒸気加熱併用の高周波加熱装置ならびにその装置を用いた加熱調理法を提供することにある。

前記従来の課題を解決するために、本発明の高周波加熱調理装置は、被加熱調理物を収容する加熱室内に高周波を出力する高周波発生手段と、低温度の蒸気を発生する蒸気発生手段と、前記蒸気発生手段によって発生した低温度の蒸気を加熱して高温過熱蒸気とする蒸気加熱手段と、前記蒸気加熱手段により発生した高温過熱蒸気を前記加熱室内に吐出する高温過熱蒸気吐出手段とを備えることとしたものである。

これによって、蒸気発生手段で発生した低温度の水蒸気を高温に再加熱させることが可能となり、しかも高温過熱蒸気の温度範囲を巾広く制御することができ、しかも被加熱調理物ならびに加熱室内の結露を少なくする利点がある。

本発明の高周波加熱調理装置は、蒸気温度および蒸気量を制御しながら、高周波を用いた加熱調理ができる。つまり、被加熱調理物に対して最も適切な調理法を実現し得る。

第１の発明は、被加熱調理物を収容する加熱室内に高周波を出力する高周波発生手段と、水を入れた容器を加熱して水蒸気を発生する蒸気発生手段と、前記蒸気発生手段で発生させた蒸気を加熱して高温過熱蒸気とする蒸気加熱手段と、前記蒸気加熱手段により発生した高温過熱蒸気を前記加熱室内に吐出する高温過熱蒸気吐出手段とを備えた高周波加熱調理装置で、これにより高周波加熱と蒸気加熱手段による高温過熱蒸気とによる加熱手段によって迅速な加熱調理ができると共に発生する蒸気を高温に再加熱して高温過熱蒸気として被加熱調理物に吐出するので被加熱調理物表面ならびに加熱室内壁面の結露量が少ない。その上高温過熱蒸気の温度と蒸気量を適切に制御して加熱調理の最適な制御パターンを容易に達成し、適切な調理が可能となる。

第２の発明は、加熱室内の温度を測定する赤外線センサを備えていて、蒸気加熱手段は前記加熱室内の温度を測定する赤外線センサの温度測定範囲から外れた位置の前記加熱室外部に配設したことにより、赤外線センサは被加熱調理物から出る蒸気以外の蒸気発生による昇温する部位の温度や、蒸気加熱手段の温度を検知することがないので赤外線センサでの加熱室内温度を正しく検知して加熱室の温度を正しく制御することが可能となる。

第３の発明は、蒸気発生手段は加熱室内に配設し、前記蒸気発生手段により発生した蒸気を前記加熱室の外に導く蒸気搬送手段を備えていて、加熱室外部にある蒸気加熱手段は前記蒸気搬送手段の加熱室外に位置する部分に配設したことにより蒸気搬送手段や蒸気加熱手段に水から析出するカルシウムやマグネシウム等の蒸気加熱に好ましくないスケールや被加熱調理物からの汚れが付着することがないので、蒸気搬送手段や蒸気加熱手段の温度を適切に維持して高温過熱蒸気による被加熱調理物の加熱を効率的に行うことができ、しかも加熱調理装置を清潔に維持することがし易い。

第４の発明は、蒸気搬送手段は熱伝導性の良い金属製蒸気搬送管とし、蒸気加熱手段は耐熱性にして、絶縁性物質にヒータ線を印刷したプリントヒータとし、前記金属製蒸気搬送管に前記プリントヒータを設けたことにより、熱容量が小さく昇温特性のよい、しかも蒸気への伝熱特性の良い小型の蒸気加熱手段が可能となり、これによって高温過熱蒸気の温度を時間的遅延なく温度制御ができる。

第５の発明は、蒸気発生手段は水を入れた容器の機能を果す水溜凹部を有する蒸発皿と、前記蒸発皿で加熱により発生した低温の蒸気を蒸気搬送手段に導く着脱自在な蒸気カバーを備えていることにより、蒸発皿に被加熱調理物から汚れを付着させて加熱効率を悪化させることがない。また蒸気カバーを取り外すことで簡単に水溜凹部を露出させ、蒸気発生時に析出するスケールを簡単に清掃し得る。さらに蒸気発生部への蒸気カバー自身の取り外し清掃ができる。

第６の発明は、加熱室内に配設した被加熱調理物を載置する受け皿の下方に配設した高周波発生手段により発熱する高周波発熱体と、前記高周波発熱体の発熱量を被加熱調理物に伝播する熱伝導体を前記受け皿に設け、前記受け皿の熱伝導体が被加熱調理物に伝播する熱量と、蒸気発生手段からの低温度の水蒸気を加熱して高温過熱蒸気として前記受け皿の上方にある高温過熱蒸気吐出手段から加熱室内に吐出する高温過熱蒸気より被加熱調理物が受ける熱量との両熱量により被加熱調理物を加熱する加熱調理法としたことで、高周波発熱体の発熱量を被加熱調理物に伝播する熱量と高温過熱蒸気による熱量を夫々制御することで被加熱調理物に応じて効率良く、適切な加熱調理ができる。また、熱源である高周波加熱手段と高温過熱蒸気を発生する蒸気加熱手段のエネルギー量を制御することで、シーケンシャルに加熱して、被加熱調理物の加熱目的に応じた適切な加熱調理法とすることができる。

第７の発明は、高温過熱蒸気より被加熱調理物が受ける熱量は、蒸気発生手段の水を加熱して水蒸気とする加熱ヒータの通電制御、蒸気発生手段からの低温度の水蒸気を加熱して高温過熱蒸気とする蒸気加熱手段の通電制御、蒸気発生手段に送水する送水ポンプの通電制御ならびに高周波発生手段への通電制御を行うことにより被加熱調理物が受ける熱量を制御することとしたので、熱量を全て通電制御によって制御でき、熱量制御が極めて容易である。

以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。なお、以下の実施の形態によって本発明が限定されるものではない。

（実施の形態１）
以下、本発明に係る高周波加熱装置の好適な実施の形態について、図面を参照して詳述する。

図１は本発明に係る高周波加熱調理装置の開閉扉を開けた状態を示す正面図、図２は図１におけるＡ−Ａ’断面の開閉扉を開いた状態の矢視図、図３は高周波加熱調理装置を使用する加熱調理法の制御ブロック図である。この高周波加熱調理装置１は、被加熱調理物を収容する加熱室２に高周波と高温過熱蒸気の両方またはいずれかを供給して被加熱調理物を加熱する加熱調理装置であって、図１に示すように、高周波を発生するマグネトロンからなる高周波発生手段の高周波発生部３と、加熱室２内で蒸気を発生する蒸気発生手段である蒸気発生部４と、加熱室２の上方に配置された上部加熱ヒータ５と、加熱室２の底面から所定間隔を空けて上方に配設され、被加熱調理物を載置する受け皿６を備えている。高周波発生部３からの高周波は、回転駆動する電波攪拌用のスタラー羽根３ａによって加熱室２の全体に分散して放射される。また受け皿６は、加熱室２の側壁面２ａ、２ｂに形成した係止部２ｃによって支持されている。この係止部２ｃは、加熱室２を複数の高さに仕切ることができるように加熱室２の側壁面２ａ、２ｂに複数段配設してある。そして受け皿６を係止部２ｃに係止させることにより、受け皿６によって加熱室２の空間は上下に２分割可能となる。そして、蒸気発生手段中の１つである蒸気発生部４には、加熱室２の側方に設けた水を入れる容器である給水タンク７から送水ポンプ８により送水管９を介して水が供給される構成となっている。蒸気発生部４は加熱室２の底面の奥側に設けられている。

また、図２に示すように、蒸気発生部４から発生した１００℃より低温の水蒸気を、受け皿６より上方の空間内に供給するため、蒸気搬送管１０が設けられており、この蒸気搬送管１０は良熱伝導性の鉄を主成分とする金属で形成されており、その外側には蒸気搬送管１０内の水蒸気を加熱して１００℃を越える高温過熱蒸気とする蒸気加熱手段である蒸気加熱部となるプリントヒータ１１が備えられている。上記プリントヒータ１１は耐熱性の強い無機繊維に金属蒸着により形成されるヒータをプリントしたり、又は耐熱性の強い珪素樹脂皮膜とかフッ素樹脂皮膜などの有機物皮膜に金属蒸着膜のヒータをプリントして構成することができる。

さらに加熱室２の奥側中央および側面には、赤外線センサ１２および加熱室内サーミスタ１３がそれぞれ取り付けられ、被加熱調理物の表面温度および加熱室２の温度を測定する。また、赤外線センサ１２は蒸気発生時に後述する蒸気カバー１４の温度が上昇しても、蒸気カバー１４の載置位置の温度を検知しないように設けているため、被加熱調理物の表面温度を誤検知することがないようにしている。

さらに、高周波加熱調理装置１には図３に示すように、加熱室２内の空気を攪拌して循環させる循環ファン１５や、加熱室２内を循環する気体を加熱するコンベクションヒータ１６からなる室内気加熱部１７を取り付けてもよい。そしてこれらの各部の動作は、マイクロプロセッサを備えた制御部１８からの制御指令により行われる。

また、図２、図３に示すように開閉扉１９に設けられた操作パネル２０には、加熱の開始を指示するスタートスイッチ２０ａ、予め用意されている調理プログラムを選定する自動調理スイッチ２０ｂ等の種々の操作スイッチが設けられている。そして、制御部１８は、商用電源に接続される電源部２１から電力供給されており、高周波発生部３、上部加熱ヒータ５、蒸気発生部４、蒸気加熱部１１等の加熱電力が許容電力値を超えないように、上記各部への電力配分を制御している。

加熱室２は、前面が開放の箱形の本体ケース２２の内部に形成されており、本体ケース２２の前面には、加熱室２の被加熱調理物取出口を開閉する透光窓１９ａ付きの開閉扉１９が開閉自在に取り付けられている。

高周波発生部３は、加熱室２の下側の空間に配設されていて、マグネトロンより発生した高周波を受ける加熱室２の底面の略中央位置にスタラー羽根３ａが設けられている。これらの高周波発生部３やスタラー羽根３ａは、加熱室２の底部に限らず、加熱室２の他の面側に設けることもできる。

図４は蒸気発生手段の加熱部の分解斜視図で、加熱室２の底面の一部を凹状に形成した鉄板製の蒸発皿４ａの裏側に、シーズヒータ４ｂを埋めこんだアルミニウムダイキャスト４ｃの上面部を平板状に仕上げ、この平板状部分を加熱室２の一部を形成する鉄板製の蒸発皿４ａの裏側に、導電性グリスを介してビス孔４ｄを用いてビス４ｅで、蒸発皿４ａの裏側の取り付け部４ｆに固定している。またアルミニウムダイキャスト４ｃの裏側には、サーミスタを挿入するための挿入孔（図示せず）が形成されている。また加熱室２の壁面背面の下方側には蒸発皿４ａを蒸気カバー１４で覆うことにより、発生した蒸気を蒸気搬送管１０へ導入する蒸気流入口２３が備えられている。

次に、高周波加熱調理装置１における蒸気発生動作について説明する。図５に高周波加熱調理装置１の蒸気発生手段の概略構成を示す。

すなわち、給水タンク７に貯溜された水は、送水ポンプ８により、給水管９を介して吐水口２４から蒸発皿４ａに供給される。一方、蒸発皿４ａはシーズヒータ４ｂに通電することにより、熱エネルギーがアルミニウムダイキャスト４ｃを介して、加熱されており、供給された水がここで蒸発して蒸気カバー１４の内部に充満する。そして、充満した蒸気はその内圧により図５の白抜き矢印に示すように蒸気搬送管１０を通じて加熱室２の上方に設けられた蒸気吐出口２５から加熱室２内に供給される。

また、この際に、プリントヒータ１１に通電すると蒸気搬送管１０が加熱され、この熱エネルギーが蒸気搬送管１０内を通過する蒸気を加熱し、蒸気の温度が上昇する。これにより、送水量および発熱量により異なるが、蒸発皿４ａで発生した１００℃程度の低温の蒸気が２００℃を超える高温過熱蒸気になる。なお、蒸気の吐出温度は蒸気搬送管１０に伝熱を受けない機構で備えられた蒸気サーミスタ２６により検知される。

次に、図１、図２、図６に示す受け皿６について詳述する。図６は、受け皿６の外観斜視図であり、図７は、図６のＢ−Ｂ’線断面図である。

受け皿６は、加熱室２に対して複数の高さ位置に容易に着脱自在とされており、被加熱調理物の載置面となる金属板６ａと、金属板６ａに対峙して配置される高周波発熱体６ｂと、高周波発熱体６ｂを金属板６ａに固定すると共に加熱室２側の係止部２ｃと係合する固定部材６ｃとを備えている。金属板６ａは、アルミニウムメッキ鋼板でできていて、表面に波状の凹凸を設けた水溜可能な深さを有している。アルミニウムメッキ鋼板の表面側には防汚効果の高いフッ素樹脂塗装を施し、裏側面には吸熱効果の高い黒色耐熱塗装を施している。そして高周波発熱体６ｂは、金属板６ａ側とは反対側の面に、高周波を吸収して発熱する窒化物や硼化物からなる高周波吸収膜６ｄを基体６ｅに密着させて形成している。基体６ｅは、セラミック材または耐熱性樹脂材からなり、蓄熱効果の高い材料を用いるとよい。固定部材６ｃは、受け皿６の加熱室挿入方向に沿って両脇側に設けられた絶縁体からなり、加熱室２との間に隙間を形成することで、高周波加熱時におけるスパークの発生を防止する。また図７に示すように金属板６ａに凸部を形成させたり、金属板６ａ自体を波形として凹凸を形成することで、高周波吸収膜６ｄと金属板６ａとの距離が遠くなり、これにより、高周波吸収膜６ｄ上における電界強度が高くなり、高周波吸収膜６ｄ上での発熱量が増加する効果が得られる。なお、高周波発熱体６ｂとして、裏面に高周波吸収膜６ｄを設ける構成以外にも、高周波発熱体自体を高周波で発熱するセラミックで形成してもよい。

金属板６ａとして、金属製のアルミニウムメッキ鋼板を用いたが、表面で高周波を反射するものであれば、セラミック質の基材に金属メッキや金属蒸着等で高周波の反射層を設けたものなども利用することができ、さらには、ステンレス、アルミニウム及びアルミニウム合金、亜鉛メッキ鋼板、アルミニウム亜鉛合金、メッキ鋼板や銅メッキ鋼板などの各種メッキ鋼板、冷間圧延鋼板、クラッド材等も用いることができる。また、高周波吸収膜６ｄとして窒化物や硼化物を用いたが、酸化錫、酸化インジウム等の金属酸化物及び複合酸化物等も用いることができる。なお、受け皿６としては、上記構成のものに限らず、基本的に被加熱調理物の結露による水受けが可能な平板であればよい。

次に、本発明に係る高周波を用いた加熱調理の動作作用を説明する。例えば、蒸気加熱を行いながらグリル加熱を行うには、まず、加熱室２内に受け皿６を取り付けて、被加熱調理物を受け皿６上に載置する。そして、高周波加熱調理装置１の開閉扉１９を閉じ、操作パネル２０に備えた各種のスイッチを操作して、所望の加熱モードを設定した後、スタートスイッチ２０ａを押す。また、自動調理モードで加熱する場合には、記憶部２７に予め記憶されている調理プログラムを、自動調理スイッチ２０ｂの押し操作等により選択した後、スタートスイッチ２０ａを押す。

ここで、図８に受け皿６上に載置した被加熱調理物を、加熱室２内に高周波及び蒸気を供給して加熱調理する例を概念的に示した。

この例を説明すると、まず加熱室２の上方位置に受け皿６を取り付けて、受け皿６の上に被加熱調理物を載せる。そして上部加熱ヒータ５を発熱させることで、受け皿６上の被加熱調理物が輻射熱Ｑ１によって加熱調理される。一方、高周波発生部３から高周波を発生させ、スタラー羽根３ａの回転により加熱室２内に高周波を拡散して供給する。これにより、受け皿６の高周波吸収膜６ｄが発熱して高周波発熱体６ｂが加熱され、その高周波発熱Ｑ２が金属板６ａを介して被加熱調理物に伝播する。また、一部の高周波発熱Ｑ３は、加熱室２の内壁面と受け皿６との間の隙間を通って受け皿６の上方の空間に入り、被加熱調理物を高周波加熱する。ただし、加熱対象によっては、被加熱調理物に対する高周波加熱を積極的に行わせないときもあり、高周波発熱Ｑ３の熱量は小さく設定される。つまり、高周波発熱体６ｂの発熱により被加熱調理物の温度を上げる一方、高周波発熱体６ｂの加熱用に用いる高周波は、受け皿６の金属板６ａにより遮蔽して、被加熱調理物には供給されないようにする。なお、高周波が加熱室２の底面から供給される以外にも、給電口が受け皿６よりも下側の加熱室２の側面に配設された場合でも、同様に高周波が遮蔽される。さらに蒸発皿４ａからの蒸気が蒸気搬送管１０のプリントヒータ１１の加熱を経由して蒸気吐出口２５から上方の加熱室空間２ｅに供給される。この蒸気熱Ｑ４が被加熱調理物に当たり、熱交換が行われることで被加熱調理物が加熱される。なお、蒸気熱Ｑ４は、シーズヒータ４ｂやプリントヒータ１１の通電制御および送水ポンプ８による送水量制御により蒸気熱Ｑ４のエネルギー量を変えることが可能である。

以上の説明により、輻射熱Ｑ１、高周波発熱体６ｂからの高周波発熱Ｑ２、一部の高周波発熱Ｑ３、蒸気熱Ｑ４により被加熱調理物に応じて効率良く、最適な加熱調理ができる。また各熱源であるＱ１〜Ｑ４を適宣選択的に組み合わせて、シーケンシャルに加熱することで、被加熱調理物の加熱目的に応じた最適な加熱調理が可能となる。また前述の受け皿６の金属板６ａによる高周波の遮蔽効果により、被加熱調理物の蒸し調理時に、高周波による過剰な加熱が抑止され、本格的な蒸し調理が可能となる。

なお、室内気加熱部１７のコンベクションヒータ１６を発熱させることにより、さらに被加熱調理物を均一に高温下で加熱することもできる。このように、加熱調理に寄与する加熱室２の容積を受け皿６により分割して小さくするとともに、プリントヒータ１１を動作させながら蒸気を供給することで、蒸気温度を所定温度に保ちながら、高温過熱蒸気を充満させることができ、結果として、結露が少なく加熱室２内の温度を速く立ち上げることができる。従って、高周波加熱調理装置１の加熱開始後の早い時期から加熱室２内を蒸し調理可能な状態にでき、加熱調理時間を大幅に短縮することができる。

また、加熱室２内の受け皿６の高さを変更することにより、実質的な蒸気温度を調整することができ、蒸気による加熱力の強弱を温度制御することなく簡単に変更することができる。

また、蒸発皿４ａのサーミスタ（図示せず）や赤外線センサ１２、加熱室２内の温度を検出する加熱室内サーミスタ１３、高温過熱蒸気の温度を検出する蒸気サーミスタ２６からの検出温度に応じて制御部１８が蒸気発生量やヒータ加熱量をフィードバック制御して、加熱室２内の温度や蒸気量を適切に設定することにより、温度管理の難しい卵料理等を容易に行うことができる。また、被加熱調理物として、葉野菜を加熱した場合には、プリントヒータ１１の通電を行わないときには葉野菜の緑色が鮮やかに現れず、通電を行ったときには、加熱室２内の雰囲気温度が１００℃以上の高温となり、濃度の高い蒸気環境下で葉野菜が色良く仕上がるようになる。

そして蒸気発生部４からの蒸気を加熱室２外に配置した蒸気搬送管１０を通じて加熱室２の上方空間２ｅへ供給しているので、蒸気搬送管１０等の配管部材に対して被加熱調理物からの付着汚れがない。また加熱室２内に蒸発皿４ａを配置しているので、水から蒸気を発生する過程で、水分中のカルシウムやマグネシウム等のスケール成分が濃縮されて蒸発皿４ａの底部に析出することがあっても、蒸気カバー１４を取り外して、加熱室２から加熱室２の壁面の清掃と同様に蒸発皿４ａの清掃をすることにより上記のスケール成分を除去することができる。従って、加熱室２内を蒸発皿４ａも含めて衛生的に保つことができる。また蒸気カバー１４は取り外しができるので水洗いも可能である。次にグリル調理の例について述べる。

グリル調理では、受け皿６に被加熱調理物を載置して、上部加熱ヒータ５の発熱による輻射熱によって被加熱調理物に焦げ目を付けるように加熱した場合には、予熱後に本加熱を開始してからの被加熱調理物の温度は、上部表面では加熱により早く昇温するが被加熱調理物の内部は加熱による昇温速度が表面より遅いので、被加熱調理物の表面と内部との温度差が加熱初期時には拡大する傾向にある。つまり、上部加熱ヒータ５に近い被加熱調理物の上部表面は上部加熱ヒータ５の加熱により急激に昇温するが、被加熱調理物の熱容量によって、表面からの熱が内部に伝わるまでには時間がかかり、被加熱調理物の内部の温度上昇率が低くなる。そこで、本加熱の途中で加熱室２内に高温過熱蒸気を供給することにより、供給される高温過熱蒸気の温度より低い被加熱調理物の表面で蒸気が結露して、この結露した水分が蒸発することで気化熱が奪われ、被加熱調理物の表面の温度を一時的に下げることになる。一方、被加熱調理物の内部は、熱容量が加熱室２の空気よりも大きく被加熱調理物より高温の過熱蒸気が被加熱調理物に当てられることで、被加熱調理物の内部に高温過熱蒸気の熱量が効率良く伝達されて、被加熱調理物の昇温を加速させることができる。従って、被加熱調理物の表面と内部との温度差は小さく抑えることができる。

また、加熱室２より温度の低い蒸気を加熱室２内に供給することで、被加熱調理物の空気と接触する表面層の温度を下げ、表面の過剰な焦げ付きを抑制して、被加熱調理物内部の加熱不足を解消することができる。またグリル調理のパターンに加えて、高周波加熱を併用して加熱することもできる。ここで、加熱中に蒸気を供給することは、加熱調理の前半で供給することで、被加熱調理物に水分を与えてしっとり柔らかくする効果があり、加熱調理の後半で供給することで被加熱調理物の内部の火通りを良くし、焼き色を均一化する効果がある。蒸気は、被加熱調理物の表面に凹凸があっても、その凹凸部分に蒸気が入り込むことで被加熱調理物に局所的な焼きムラを生じさせることを防ぎ、焼き具合を均一にできる。上部加熱ヒータ５で加熱する場合では、凹凸の影となった部分に対して加熱量が小さくなるが、高温の蒸気加熱を併用することでこのような焼きムラが生じにくくなる。さらには、上部加熱ヒータ５の加熱室２に対する加熱ムラ、すなわち、加熱室２の中央では加熱量が多くなり、加熱室２の隅部では加熱量が少なくなるといった加熱ムラにより、加熱室２の中央に位置する被加熱調理物が過剰に加熱されて焦げ、加熱室２の隅部に位置する被加熱調理物が加熱不十分な状態で仕上がることを未然に防止できる。

例えば、骨付き肉の加熱調理などに用いる場合、骨回りの火通りが良くなり、表面の焦げ付きを抑えて内部まで十分に加熱が行え、ふっくらとした柔らかい食感を持たせることができる。なお、各加熱パターンは図３に示す制御部１８に接続された記憶部２７に予め調理プログラムとして記憶しておき、操作パネル２０の自動調理スイッチ２０ｂ等の操作により任意に選定して実行する構成としてもよい。その場合にも、加熱室２内の被加熱調理物の温度を赤外線センサ１２或いは加熱室内サーミスタ１３により検出して、被加熱調理物の温度に合わせて、また、タイマ２８により加熱時間等の経過時間を計測して前述した各部の制御タイミングを設定する。蒸気発生のタイミングは、予め設定した調理プログラムに基づいて自動的に設定すること以外にも、操作パネル２０に蒸気供給スイッチ２０ｃを設け、この蒸気供給スイッチ２０ｃを押した任意のタイミングで蒸気の供給を開始する構成としてもよい。これによれば、被加熱調理物の加熱調理の経過を開閉扉１９の透光窓１９ａを通して確認し、所望のタイミングで蒸気供給スイッチ２０ｃを押すことで、適切なタイミングの蒸気供給が可能になり、加熱調理の失敗を確実になくすことができ、使い勝手が向上する。以上説明した上部加熱ヒータ５、蒸発皿４ａのヒータ、高周波発生部による加熱タイミングや加熱量は、被加熱調理物の種類、形状、重量、調理法等によって異なるものであり、各条件に応じて適宣設定されるものである。

図９は蒸気発生部４からの蒸気を加熱室２内に供給する際の蒸気の供給方向を変更した一例としての概略構成図であり、（ａ）は側面図、（ｂ）は平面図である。図９（ａ）に示すように、蒸気発生部４で発生した蒸気は、蒸気搬送管１０を通り、加熱室２内の被加熱調理物に向けて供給される。つまり、蒸気搬送管１０の終端側１０ａの加熱室２側への取り付け角度を、加熱室２の底面と平行な受け皿６の載置面に対して斜め上方から蒸気を供給するように設定する。さらに、図９（ｂ）に示すように、蒸気搬送管１０が２本ある場合に、それぞれが加熱室２内の被調理加熱物に向けて蒸気を供給するように、蒸気搬送管１０の終端側１０ａを加熱室２の中心に向けて配置する。なお、いずれの場合も被加熱調理物は受け皿６の略中央部に載置されるものとする。そして、上記構成によれば、蒸気が被加熱調理物に向けて供給されるため、被加熱物調理物に蒸気の熱量が集中的に加わり、被加熱調理物を一層早く加熱することができ、蒸気による被加熱調理物への水分補給が確実となる。また、加熱室２の壁面等への蒸気の熱授受が減少するために、加熱効率が向上する。従って、高周波加熱調理装置１の調理性能が向上し、調理時間も短縮できる。さらに、蒸気が直接加熱室２の壁面に当たらないので、壁面の結露を低減できる。

本発明に係る高周波加熱調理装置とその装置を使用した加熱調理法は、高周波加熱手段に加えて蒸気発生手段で発生した蒸気を蒸気加熱手段で加熱して高温過熱蒸気により被加熱調理物を加熱するものであるから、低温蒸気から高温蒸気までの蒸気を発生させて加熱調理ができる。従って単なる加熱調理分野のみでなく、高周波を用いた乾燥などの用途にも広く適用できる。

本発明の実施の形態１における高周波加熱調理装置の開閉扉を開けた状態を示す正面図 図１のＡ−Ａ’線断面を開閉扉を閉じた状態で示す矢視側面図 同高周波加熱調理装置を使用する加熱調理法の制御ブロック図 同高周波加熱調理装置の蒸気発生手段の要部分解斜視図 同高周波加熱調理装置の蒸気発生手段による要部の構成説明図 同高周波加熱調理装置の受け皿の外観斜視図 （ａ）図６のＢ−Ｂ’線矢視断面図で受け皿の表面に凸部を形成した例の断面（ｂ）図６のＢ−Ｂ’線矢視断面図で受け皿の表面を波形とした例の断面を示す図 同高周波加熱調理装置を使用する加熱調理法を示す説明図 （ａ）同高周波加熱調理装置に使用する蒸気の供給方向を示す側面説明図（ｂ）同、平面説明図 従来例の高周波加熱調理装置の中央部概略縦断面図

符号の説明

１ 高周波加熱調理装置
２ 加熱室
３ 高周波発生部
３ａ スタラー羽根
４ 蒸気発生部（蒸気発生手段）
４ａ 蒸発皿
４ｂ シーズヒータ（蒸気発生手段の加熱ヒータ）
６ 受け皿
６ａ 金属板
６ｂ 高周波発熱体
８ 送水ポンプ
１０ 蒸気搬送管
１１ プリントヒータ（蒸気加熱手段）
１２ 赤外線センサ
１４ 蒸気カバー
２５ 蒸気吐出口（高温加熱蒸気吐出手段）

Claims (7)

1. 被加熱調理物を収容する加熱室内に高周波を出力する高周波発生手段と、水を入れた容器を加熱して水蒸気を発生する蒸気発生手段と、前記蒸気発生手段で発生させた蒸気を加熱して高温過熱蒸気とする蒸気加熱手段と、前記蒸気加熱手段により発生した高温過熱蒸気を前記加熱室内に吐出する高温過熱蒸気吐出手段とを備えたことを特徴とする高周波加熱調理装置。
2. 加熱室内の温度を測定する赤外線センサを備えていて、蒸気加熱手段は前記加熱室内の温度を測定する赤外線センサの温度測定範囲から外れた位置の前記加熱室外部に配設したことを特徴とする請求項１記載の高周波加熱調理装置。
3. 蒸気発生手段は加熱室内に配設し、前記蒸気発生手段により発生した蒸気を前記加熱室の外に導く蒸気搬送手段を備えていて、加熱室外部にある蒸気加熱手段は前記蒸気搬送手段の加熱室外に位置する部分に配設したことを特徴とする請求項２記載の高周波加熱調理装置。
4. 蒸気搬送手段は熱伝導性の良い金属製蒸気搬送管とし、蒸気加熱手段は耐熱性、絶縁性物質にヒータ線を印刷したプリントヒータとし、前記金属製蒸気搬送管に前記プリントヒータを設けたことを特徴とする請求項３記載の高周波加熱調理装置。
5. 蒸気発生手段は水を入れた容器の機能を果す水溜凹部を有する蒸発皿と、前記蒸発皿で加熱により発生した低温の蒸気を蒸気搬送手段に導く着脱自在な蒸気カバーを備えていることを特徴とする請求項１、３、４のいずれか１項に記載の高周波加熱調理装置。
6. 加熱室内に配設した被加熱調理物を載置する受け皿の下方に配設した高周波発生手段により発熱する高周波発熱体と、前記高周波発熱体の発熱量と被加熱調理物に伝播する熱伝導体を前記受け皿に設け、前記受け皿の熱伝導体が被加熱調理物に伝播する熱量と、蒸気発生手段からの低温度の水蒸気を加熱して高温過熱蒸気として前記受け皿の上方にある高温過熱蒸気吐出手段から加熱室内に吐出する高温過熱蒸気より被加熱調理物が受ける熱量とにより被加熱調理物を加熱することを特徴とする加熱調理法。
7. 高温過熱蒸気より被加熱調理物が受ける熱量は、蒸気発生手段の水を加熱して水蒸気とする加熱ヒータの通電制御、蒸気発生手段からの低温度の水蒸気を加熱して高温過熱蒸気とする蒸気発生手段の通電制御、蒸気発生手段に送水する送水ポンプの通電制御ならびに高周波発生手段への通電制御を行うことにより被加熱調理物が受ける熱量を制御することを特徴とする請求項６記載の加熱調理法。

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