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JP2005065285A - 固体撮像用半導体装置及びその製造方法 - Google Patents

固体撮像用半導体装置及びその製造方法 Download PDF

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JP2005065285A JP2004234797A JP2004234797A JP2005065285A JP 2005065285 A JP2005065285 A JP 2005065285A JP 2004234797 A JP2004234797 A JP 2004234797A JP 2004234797 A JP2004234797 A JP 2004234797A JP 2005065285 A JP2005065285 A JP 2005065285A
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Abstract

【課題】 従来技術に比べ厚さが薄く、小型化し、かつ、低コスト化を図り得る固体撮像用半導体装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 回路基板300に開口部375を設け、該開口部内375に固体撮像用半導体チップ350または画像処理用半導体チップ320を位置させることにより、厚さが薄く、実装面積も小さい固体撮像用半導体装置を提供することを特徴とする。
【選択図】 図4

Description

本発明は、固体撮像用半導体装置及びその製造方法に関し、より詳しくは、受光素子を有する半導体素子と固体撮像用レンズとを一体化した固体撮像用半導体装置パッケージモジュール及びその製造方法に関する。
携帯端末や携帯電話などのモバイル機器には、通常、固体撮像用半導体チップとレンズとを組み合わせた型のカメラモジュールが搭載されている。このような小型カメラを備えた携帯電話機では、通話者の映像を小型カメラで撮像し、画像データとして通話相手にその画像データを送信する。
携帯電話や携帯型パソコン(携帯型PC)は、益々小型化が進んでおり、これらに使用されるカメラモジュールも小型化が求められている。このようなカメラモジュールの小型化の要求を満足させるために、レンズと固体撮像用半導体チップとを一体化した半導体装置パッケージが開発されている。
図12は、従来技術に係る固体撮像用半導体装置を示す概略構成図であり、カメラモジュールの構成を示している。即ち、固体撮像用レンズ160と赤外線遮断用フィルター(IR cut filter)170とが取り付けられているレンズ取り付け部180が、回路基板100の上部一面に接着剤で固着されている。固体撮像用半導体チップ110は、前記固体撮像用レンズ160からの光を画像信号に変換する光電変換素子群からなるチップであって、前記回路基板100の上部に位置し、前記回路基板100の上面の所定位置に設けられた基板パッドとボンディングワイヤー120で接続されている。
また、前記回路基板100の下面の所定位置に設けられた基板パッドと画像処理用半導体チップ130とがボンディングワイヤー140で接続されており、かつ、前記画像処理用半導体チップ130は、トランスファーモールド技術による絶縁性封止樹脂150により封止されている。ここで、前記画像処理用半導体チップ130は、前記固体撮像用半導体チップ110からのイメージ信号を処理している。
前記回路基板100とフレキシブル配線(flexible cable)190とは、配線接合部185により電気的に接続されている。
図12に示すような固体撮像用半導体装置は、最も一般的なカメラモジュールであり、かつ、固体撮像用半導体チップ110と画像処理用半導体チップ130とを回路基板100の上面と下面にそれぞれ接着し、ボンディングワイヤー120、140により電気的に接続しているため、製造工程が容易となり、カメラモジュールの組立て費用が低廉である。しかし、前記回路基板100の下部の画像処理用半導体チップ130と絶縁性封止樹脂150とにより、カメラモジュールが厚くなり、カメラモジュールの小型化に支障をもたらす。
大韓民国特開第2002−0087541号明細書 特開2001−078064号公報 米国特許出願公開第2001/050721号明細書 米国特許出願公開第2002/044215号明細書
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、従来技術に比べ厚さが薄く、小型化し、かつ、低コスト化を図り得る固体撮像用半導体装置及びその製造方法を提供することを目的とする。
上記の目的を達成するため、本発明の実施の形態に係る固体撮像用半導体装置は、固体撮像用レンズの取り付けられたレンズ取り付け部と、前記レンズ取り付け部の下部に接着され、所定位置に開口部が設けられた回路基板と、前記開口部内に位置し、前記回路基板に設置される少なくとも一つの半導体チップと、を備えている。
また、本発明の実施の形態に係る固体撮像用半導体装置の製造方法は、回路基板の所定位置に設けられた開口部内に少なくとも一つの半導体チップを設置する工程と、前記少なくとも一つの半導体チップの垂直上方に固体撮像用レンズが取り付けられたレンズ取り付け部を前記回路基板の上部に接着する工程と、を含むことを特徴とする。
このような本発明による固体撮像用半導体装置及びその製造方法によれば、回路基板に開口部を設け、開口部内に固体撮像用半導体チップまたは画像処理用半導体チップを位置させることにより、従来技術よりも厚さが薄く、実装面積も小さい固体撮像用半導体装置を提供することが可能となる。
本発明の好ましい実施の形態を、添付図面に基づいて詳しく説明する。
図1〜図4は、本発明の実施の形態に係る固体撮像用半導体装置の製造工程を示す概略図である。
図1に示すように、回路基板(Printed Circuit Board;PCB)300の所定位置に開口部375を設ける。前記回路基板300は、上面と下面の両方に配線が設けるられていることが好ましい。また、前記開口部375の上面を薄膜テープ310で覆う。ここで、前記薄膜テープ310は、表面に接着物質が塗布されていることが好ましい。前記薄膜テープ310は、高い工程温度下においても熱安定性を保持できる物質を使用する。例えば、前記薄膜テープ310は、ポリイミドを含むことが好ましい。
図2に示すように、画像処理用半導体チップ320を前記開口部375内に位置させ、前記画像処理用半導体チップ320の一面を前記薄膜テープ310と接着する。前記画像処理用半導体チップ320の下面に設けられたチップパッド(chip pad)と前記回路基板300の下面に設けられた基板パッドとを第2の電気的接続手段330で電気的に接続する。前記第2の電気的接続手段330は、ボンディングワイヤーであることが好ましい。
また、前記画像処理用半導体チップ320を絶縁性封止樹脂340で封止する。このとき、前記絶縁性封止樹脂340は、電気的接続部分の信頼性の向上や接続部分の強度を補強する。前記絶縁性封止樹脂340としては、絶縁性のエポキシ樹脂、絶縁性のシリコン樹脂などが使用される。また、前記絶縁性封止樹脂340は、画像処理用半導体チップ320を回路基板300の内部に設置する役割を果たす。
前記封止工程は、モールド工程やディスペンス工程などがある。
モールド工程は、半導体を外部変化や衝撃からチップ、ワイヤ、インナーリードなどを保護するために、所定の形状に周りを取り囲む工程である。このモールド工程は、所定の形状に形成された金型(Mold Die)にリードフレーム(Lead Frame)と基板(Substrate)とを取り付け、粘度を有する物質を熱と圧力を利用して充填し硬化させる方法である。最も広く用いられる方式としては、トランスファーモールド方式がある。
ディスペンス工程は、ディスペンスできる構造チップの周りに溶液を吐出し、チップの下部に溶液が充填されるようにする方式(毛細管現象を利用)で、低い粘度の溶液が使用される。これらのディスペンス工程とモールド工程との最も大きな違いは、金型を用いるか否かにある。ディスペンス方法としては、ダムアンドフィル(Dam and Fill)などの方法がある。ダム工程は、ディスペンスしようとする部分の外側に液状封止材を用いて限界線を成形する作業である。フィル工程は、ダム工程が終了した内側に液状封止材を充填して実質的にチップを密閉する作業である。
熱硬化性樹脂の前記絶縁性封止樹脂340が硬化した後、前記薄膜テープ310を除去する。図3に示すように、薄膜テープ310の除去された画像処理用半導体チップ320の一面に固体撮像用半導体チップ350を接着する。この接着の際には、銀を含むエポキシ樹脂接着剤を使用することが好ましい。ここで、前記薄膜テープ310を除去せず、固体撮像用半導体チップ350をその一面に接着しても良い。
前記固体撮像用半導体チップ350の上面に設けられたチップパッドと回路基板300の上面に設けられた基板パッドとを第1の電気的接続手段360で電気的に接続する。ここで、前記第1の電気的接続手段360は、ボンディングワイヤーであることが好ましい。
ここで、固体撮像用半導体チップ350は、図4に示す前記固体撮像用レンズ370からの光を画像信号に変換する光電変換素子群からなるチップであって、この固体撮像用半導体チップ350は、例えば、CMOSイメージセンサーを構成する2次元に配列した光電変換素子群からなる光電変換部(センサー部)と、前記光電変換素子群を順次駆動し、信号電荷を得る駆動回路部と、前記信号電荷をデジタル信号に変換するA/D変換部と、前記デジタル信号を映像信号出力として処理する信号処理部と、前記デジタル信号の出力レベルに基づいて電気的に露光時間を制御する露光制御手段とが設けられた半導体回路部とから構成されている。また、前記固体撮像用半導体チップ350は、CCD(Charged Coupled Device)を備えていてもよい。
図4に示すように、固体撮像用レンズ370の取り付けられたレンズ取り付け部390を前記回路基板300上の所定位置に接着剤で固着する。このとき、前記固体撮像用レンズ370は、前記固体撮像用半導体チップ350の垂直上方に位置するようにする。
前記レンズ取り付け部390内に位置し、前記固体撮像用レンズ370と対向しながら、前記固体撮像用レンズ370を通過した光の経路に位置する赤外線遮断フィルタ380または高域遮断フィールタを、さらに有することが好ましい。
本発明に係る固体撮像用半導体装置は、前記固体撮像用レンズ370及び前記赤外線遮断フィルタ380を介して前記固体撮像用半導体チップ350におけるセンサー部に被写体像を結像させて光電変換することにより、例えば、デジタルまたはアナログのイメージ信号が出力されるように動作している。そして、前記画像処理用半導体チップ320は、前記回路基板300の下部と第2の電気的接続手段330により電気的に接続され、前記固体撮像用半導体チップ350からのイメージ信号を処理している。
前記回路基板300は、配線接合部400によりフレキシブル配線410と電気的に接続されており、固体撮像用半導体装置と外部本体システムとを接続する。
次に、本発明の他の実施の形態を図5〜図8に基づいて説明する。図5〜図8は、本発明の他の実施の形態に係る固体撮像用半導体装置の製造工程を示す概略図である。
図5に示すように、回路基板700の所定位置に開口部775を設ける。ここで、前記回路基板700は、上面と下面の両方に配線が設けられていることが好ましい。また、前記開口部775の上面を薄膜テープ710で覆う。前記薄膜テープ710は、表面に接着物質が塗布されていることが好ましい。ここで、前記薄膜テープ710には、高い工程温度下においても熱安定性を保持できる物質を使用する。例えば、前記薄膜テープ710は、ポリイミドを含むことが好ましい。
図6に示すように、画像処理用半導体チップ720を前記開口部775内に位置させ、前記画像処理用半導体チップ720の一面を前記薄膜テープ710と接着する。前記画像処理用半導体チップ720の下面に設けられたチップパッドと前記回路基板700の下面に設けられた基板パッドとを第2の電気的接続手段730で電気的に接続する。前記第2の電気的接続手段730は、ボンディングワイヤーであることが好ましい。
次に、前記画像処理用半導体チップ720を絶縁性封止樹脂740で封止する。前記絶縁性封止樹脂740は、電気的接続部分の信頼性を向上させ、接続部分の強度を補強する。前記絶縁性封止樹脂740としては、絶縁性のエポキシ樹脂、絶縁性のシリコン樹脂などが使用される。
熱硬化性樹脂の前記絶縁性封止樹脂740が硬化した後、前記薄膜テープ710を除去する。図7に示すように、薄膜テープ710の除去された画像処理用半導体チップ720の一面に固体撮像用半導体チップ750を接着する。この接着の際には、銀を含むエポキシ樹脂接着剤を使用することが好ましい。ここで、前記薄膜テープ710を除去せず、固体撮像用半導体チップ750をその一面に接着しても良い。
また、前記固体撮像用半導体チップ750の上面に設けられたチップパッドと前記固体撮像用半導体チップ750の下面に設けられたターミナルとが電気的に接続している。前記チップパッドとターミナルとを電気的に接続する方法は、エッチング技術またはレーザを利用して前記固体撮像用半導体チップ750のチップパッドにバイアホール(via hole)を形成するか、前記固体撮像用半導体チップ750の側面に沿って導電性ラインを形成する方法がある。バイアホールの形成及びバイアホールと回路基板との接続方法は、米国特許第6、235、554号明細書、及び韓国公開特許第2003−0023040号に開示されている。また、導電性ラインの形成及び導電性ラインと回路基板との接続方法は、米国特許第6、391、685号明細書、韓国公開特許第2001−0001159号及び韓国公開特許第2001−0018694号に開示されている。
前記固体撮像用半導体チップ750の下面に設けられたターミナルと回路基板700の上面に設けられた基板パッドとを第1の電気的接続手段760で電気的に接続する。前記第1の電気的接続手段760は、半田ボール(Solder Ball)または金属バンプ(Metal Bump)であることが好ましい。
図8に示すように、固体撮像用レンズ770の取り付けられたレンズ取り付け部790を前記回路基板700上の所定位置に接着剤で固定する。このとき、前記固体撮像用レンズ770は、前記固体撮像用半導体チップ750の垂直上方に位置するようにする。
前記レンズ取り付け部790内に位置し、前記固体撮像用レンズ770と対向しながら、前記固体撮像用レンズ770を通過した光の経路に位置する赤外線遮断フィルタ780または高域遮断フィルタをさらに備えることが好ましい。
本発明に係る固体撮像用半導体装置は、前記固体撮像用レンズ770及び前記赤外線遮断フィルタ780を介して前記固体撮像用半導体チップ750におけるセンサー部に被写体像を結像させて光電変換することにより、例えば、デジタルまたはアナログのイメージ信号が出力されるように動作している。また、前記画像処理用半導体チップ720は、前記回路基板700の下部と第2の電気的接続手段730により電気的に接続され、前記固体撮像用半導体チップ750からのイメージ信号を処理している。
前記回路基板700は、フレキシブル配線795と配線接続部785により電気的に接続され、固体撮像用半導体装置と外部本体とを接続する。
次に、本発明のさらに他の実施の形態を図9〜図11に基づいて説明する。図9〜図11は、本発明のさらに他の実施の形態に係る固体撮像用半導体装置の製造工程を示す概略図である。
図9に示すように、回路基板800の所定位置に開口部875を設ける。そして、前記開口部875の下面を薄膜テープ810で覆う。前記薄膜テープ810は、表面に接着物質が塗布されていることが好ましい。前記薄膜テープ810は、高い工程温度下においても熱安定性を保持できる物質を使用する。例えば、前記薄膜テープ810は、ポリイミドを含むことが好ましい。
図10に示すように、固体撮像用半導体チップ820を前記開口部875内に位置させ、前記固体撮像用半導体チップ820の一面を前記薄膜テープ810と接着する。ここで、前記回路基板800の開口部内の前記固体撮像用半導体チップ820の周りに絶縁性封止樹脂を塗布して安定性を保持することができる。
前記薄膜テープ810は、前記固体撮像用半導体チップ820との固着性を保持するために、0.05〜0.2mmの厚さであることが好ましい。より好ましくは、前記薄膜テープ810の厚さは、0.1mm以上であることが好ましい。
また、前記固体撮像用半導体チップ820は、内部に画像処理用半導体チップを備えても良い(以下、画像処理用半導体チップを備える固体撮像用半導体チップを撮像−画像処理用半導体チップと呼ぶ)。前記固体撮像用半導体チップ820の上面に設けられたチップパッドと前記回路基板800の上面に設けられた基板パッドとを第3の電気的接続手段830で電気的に接続する。前記第3の電気的接続手段830は、ボンディングワイヤーであることが好ましい。
図11に示すように、固体撮像用レンズ840の取り付けられたレンズ取り付け部860を前記回路基板800上の所定位置に接着剤で固定する。このとき、前記固体撮像用レンズ840は、前記固体撮像用半導体チップ820の垂直上方に位置するようにする。
前記レンズ取り付け部860内に位置し、前記固体撮像用レンズ840と対向しながら、前記固体撮像用レンズ840を通過した光の経路に位置する赤外線遮断フィルタ850または高域遮断フィルタをさらに含むことが好ましい。
前記回路基板800は、配線接続部870によりフレキシブル配線基板880と電気的に接続されており、固体撮像用半導体装置と外部本体とを接続する。
本発明の実施の形態により、薄膜テープまたは接着物質は、回路基板の所定位置に設けられた開口部の上面または下面を覆うことができ、回路基板の開口部内に設置することができる。
また、固体撮像用半導体チップ及び画像処理用半導体チップは、回路基板の開口部の内に設置されることがでる。また、固体撮像用半導体チップ、画像処理用半導体チップ、撮像−画像処理用半導体チップまたはこれらが組合わされた半導体チップを、回路基板の開口部の内に設置されることができる。また、このような半導体チップの位置は、薄膜テープまたは接着物質の位置を変えることにより自由に変更することができる。
また、薄膜テープ及び接着物質は、固体撮像用半導体チップ、画像処理用半導体チップ及び/または撮像−画像処理用半導体チップの一面を覆う場合に、半導体チップの撮像を妨げないように配置させ、また撮像を妨げない物質から選択することができる。
また、接着物質は、薄膜テープに塗布なる物質として、ポリイミドのような透明な物質で構成されることができる。
本発明の実施の形態に係る固体撮像用半導体装置の製造方法により、固体撮像用半導体チップを回路基板に設置した後に、レンズ取り付け部を回路基板に接着することができる。また、レンズ取り付け部を回路基板に接着した後に、固体撮像用半導体チップを回路基板に設置することもできる。
以上のように、上記実施の形態を参照して詳細に説明したが、本発明は、これに限定されるものでなく、このような本発明の基本的な技術的思想を逸脱しない範囲内で、当業界の通常の知識を有する者により、他の多くの変更が可能である。また、本発明は、特許請求の範囲により解釈されるべきであることは言うまでもない。
本発明の実施の形態に係る固体撮像用半導体装置の製造工程を示す概略図である。 本発明の実施の形態に係る固体撮像用半導体装置の製造工程を示す概略図である。 本発明の実施の形態に係る固体撮像用半導体装置の製造工程を示す概略図である。 本発明の実施の形態に係る固体撮像用半導体装置の製造工程を示す概略図である。 本発明の他の実施の形態に係る固体撮像用半導体装置の製造工程を示す概略図である。 本発明の他の実施の形態に係る固体撮像用半導体装置の製造工程を示す概略図である。 本発明の他の実施の形態に係る固体撮像用半導体装置の製造工程を示す概略図である。 本発明の他の実施の形態に係る固体撮像用半導体装置の製造工程を示す概略図である。 本発明のさらに他の実施の形態に係る固体撮像用半導体装置の製造工程を示す概略図である。 本発明のさらに他の実施の形態に係る固体撮像用半導体装置の製造工程を示す概略図である。 本発明のさらに他の実施の形態に係る固体撮像用半導体装置の製造工程を示す概略図である。 従来技術に係る固体撮像用半導体装置の概略構成を示す図である。
符号の説明
300、800 回路基板、
310、810 薄膜テープ、
320 画像処理用半導体チップ、
330 第2の電気的接続手段、
340 絶縁性封止樹脂、
350、820 固体撮像用半導体チップ、
360 第1の電気的接続手段、
370、840 固体撮像用レンズ、
380、850 赤外線遮断フィルタ、
390、860 レンズ取り付け部、
400、870 配線接続部、
410、880 フレキシブル配線基板、
830 第3の電気的接続手段。

Claims (28)

  1. 固体撮像用レンズの取り付けられたレンズ取り付け部と、
    前記レンズ取り付け部の下部に接着され、所定位置に開口部が設けられた回路基板と、
    前記開口部内に位置し、前記回路基板に設置される少なくとも一つの半導体チップと、を備えることを特徴とする固体撮像用半導体装置。
  2. 前記少なくとも一つの半導体チップは、固体撮像用半導体チップ及び画像処理用半導体チップを備えることを特徴とする請求項1に記載の固体撮像用半導体装置。
  3. 前記固体撮像用半導体チップは、第1の電気的接続手段により前記回路基板と電気的に接続され、前記画像処理用半導体チップは、第2の電気的接続手段により前記回路基板と電気的に接続されていることを特徴とする請求項2に記載の固体撮像用半導体装置。
  4. 前記第1の電気的接続手段は、ボンディングワイヤー、半田ボールまたは金属バンプのいずれか一つであり、前記第2の電気的接続手段は、ボンディングワイヤーであることを特徴とする請求項3に記載の固体撮像用半導体装置。
  5. 前記第2の電気的接続手段は、絶縁性封止樹脂により封止されることを特徴とする請求項4に記載の固体撮像用半導体装置。
  6. 前記画像処理用半導体チップは、前記回路基板の開口部内に位置し、前記固体撮像用半導体チップは、前記画像処理用半導体チップの上に位置することを特徴とする請求項2に記載の固体撮像用半導体装置。
  7. 前記画像処理用半導体チップを前記回路基板に臨時的に設置するために、前記画像処理用半導体チップの上に位置する薄膜テープをさらに備えることを特徴とする請求項6に記載の固体撮像用半導体装置。
  8. 前記薄膜テープを除去した後、前記画像処理用半導体チップを前記回路基板に設置する絶縁性封止樹脂をさらに備えることを特徴とする請求項7に記載の固体撮像用半導体装置。
  9. 前記少なくとも一つの半導体チップは、撮像−画像処理用半導体チップであることを特徴とする請求項1に記載の固体撮像用半導体装置。
  10. 前記撮像−画像処理用半導体チップは、第3の電気的接続手段により前記回路基板と電気的に接続されることを特徴とする請求項9に記載の固体撮像用半導体装置。
  11. 前記第3の電気的接続手段は、ボンディングワイヤーであることを特徴とする請求項10に記載の固体撮像用半導体装置。
  12. 前記撮像−画像処理用半導体チップを前記回路基板に設置するために、前記撮像−画像処理用半導体チップの下部に位置する薄膜テープをさらに備えることを特徴とする請求項9に記載の固体撮像用半導体装置。
  13. 前記撮像−画像処理用半導体チップと、前記撮像−画像処理用半導体チップを前記回路基板に設置する絶縁性封止樹脂とが前記開口部内に位置することを特徴とする請求項9に記載の固体撮像用半導体装置。
  14. 前記固体撮像用レンズと所定の間隔を置いて対向するとともに、前記固体撮像用レンズと前記回路基板の間に位置して、前記レンズ取り付け部内に設置される赤外線遮断フィルタをさらに備えること特徴とする請求項1に記載の固体撮像用半導体装置。
  15. 回路基板の所定位置に設けられた開口部内に少なくとも一つの半導体チップを設置する工程と、前記少なくとも一つの半導体チップの垂直上方に固体撮像用レンズが取り付けられたレンズ取り付け部を前記回路基板の上部に接着する工程と、を含むことを特徴とする固体撮像用半導体装置の製造方法。
  16. 前記少なくとも一つの半導体チップは、固体撮像用半導体チップ及び画像処理用半導体チップを備えることを特徴とする請求項15に記載の固体撮像用半導体装置の製造方法。
  17. 前記固体撮像用半導体チップは、第1の電気的接続手段により前記回路基板と電気的に接続され、前記画像処理用半導体チップは、第2の電気的接続手段により前記回路基板と電気的に接続されることを特徴とする請求項16に記載の固体撮像用半導体装置の製造方法。
  18. 前記第1の電気的接続手段は、ボンディングワイヤー、半田ボールまたは金属バンプの中の一つであり、前記第2の電気的接続手段は、ボンディングワイヤーであることを特徴とする請求項17に記載の固体撮像用半導体装置の製造方法。
  19. 前記第2の電気的接続手段は、絶縁性封止樹脂により封止されることを特徴とする請求項18に記載の固体撮像用半導体装置の製造方法。
  20. 前記回路基板の開口部内に前記画像処理用半導体チップを位置させる工程と、前記画像処理用半導体チップの上に前記固体撮像用半導体チップを位置させる工程とをさらに含むことを特徴とする請求項16に記載の固体撮像用半導体装置の製造方法。
  21. 前記画像処理用半導体チップを前記回路基板に臨時的に設置するために、薄膜テープを前記画像処理用半導体チップの上に提供する工程をさらに含むことを特徴とする請求項20に記載の固体撮像用半導体装置の製造方法。
  22. 前記薄膜テープを除去した後、前記画像処理用半導体チップを前記回路基板に設置する絶縁性封止樹脂を提供する工程をさらに含むことを特徴とする請求項21に記載の固体撮像用半導体装置の製造方法。
  23. 前記少なくとも一つの半導体チップは、撮像−画像処理用半導体チップであることを特徴とする請求項15に記載の固体撮像用半導体装置の製造方法。
  24. 第3の電気的接続手段により、前記撮像−画像処理用半導体チップを前記回路基板と電気的に接続される工程をさらに含むことを特徴とする請求項23に記載の固体撮像用半導体装置の製造方法。
  25. 前記第3の電気的接続手段は、ボンディングワイヤーであることを特徴とする請求項24に記載の固体撮像用半導体装置の製造方法。
  26. 前記撮像−画像処理用半導体チップを前記回路基板に設置するために、前記撮像−画像処理用半導体チップの下部に薄膜テープを提供する工程をさらに含むことを特徴とする請求項23に記載の固体撮像用半導体装置の製造方法。
  27. 前記撮像−画像処理用半導体チップと、前記撮像−画像処理用半導体チップを前記回路基板に設置する絶縁性封止樹脂を前記開口部内に位置させる工程をさらに含むことを特徴とする請求項23に記載の固体撮像用半導体装置の製造方法。
  28. 前記固体撮像用レンズと所定の間隔を置いて対向し、前記固体撮像用レンズと前記回路基板の間に位置する赤外線遮断フィルタを前記レンズ取り付け部内に設置する工程をさらに備えることを特徴とする請求項15に記載の固体撮像用半導体装置の製造方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7576402B2 (en) 2005-12-21 2009-08-18 Sanyo Electric Co., Ltd. Semiconductor device, method of manufacturing the same, and camera module

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100762005B1 (ko) * 2006-07-05 2007-09-28 삼성전기주식회사 차광층이 구비된 인쇄회로기판
JP5510877B2 (ja) * 2008-10-07 2014-06-04 株式会社リコー センサモジュール及びセンシング装置
JP2014138119A (ja) * 2013-01-17 2014-07-28 Sony Corp 半導体装置および半導体装置の製造方法
JP6116437B2 (ja) * 2013-08-13 2017-04-19 オリンパス株式会社 固体撮像装置およびその製造方法、ならびに撮像装置

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH089272A (ja) * 1994-04-22 1996-01-12 Olympus Optical Co Ltd 電子内視鏡用固体撮像装置
JP2001078064A (ja) * 1999-09-03 2001-03-23 Sony Corp カメラモジュールとこれを用いたカメラシステム、及び光学モジュール
JP2001292354A (ja) * 2000-04-07 2001-10-19 Mitsubishi Electric Corp 撮像装置
JP2001345391A (ja) * 2000-03-28 2001-12-14 Canon Inc 電子部品及びその製造方法
JP2002252797A (ja) * 2001-02-26 2002-09-06 Sony Corp 固体撮像装置

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6795120B2 (en) * 1996-05-17 2004-09-21 Sony Corporation Solid-state imaging apparatus and camera using the same
DE19958229B4 (de) * 1998-12-09 2007-05-31 Fuji Electric Co., Ltd., Kawasaki Optisches Halbleiter-Sensorbauelement
JP3575001B2 (ja) * 1999-05-07 2004-10-06 アムコー テクノロジー コリア インコーポレーティド 半導体パッケージ及びその製造方法
JP2001358997A (ja) * 2000-06-12 2001-12-26 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
JP3887162B2 (ja) * 2000-10-19 2007-02-28 富士通株式会社 撮像用半導体装置
US6586824B1 (en) * 2001-07-26 2003-07-01 Amkor Technology, Inc. Reduced thickness packaged electronic device
US6982485B1 (en) * 2002-02-13 2006-01-03 Amkor Technology, Inc. Stacking structure for semiconductor chips and a semiconductor package using it

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH089272A (ja) * 1994-04-22 1996-01-12 Olympus Optical Co Ltd 電子内視鏡用固体撮像装置
JP2001078064A (ja) * 1999-09-03 2001-03-23 Sony Corp カメラモジュールとこれを用いたカメラシステム、及び光学モジュール
JP2001345391A (ja) * 2000-03-28 2001-12-14 Canon Inc 電子部品及びその製造方法
JP2001292354A (ja) * 2000-04-07 2001-10-19 Mitsubishi Electric Corp 撮像装置
JP2002252797A (ja) * 2001-02-26 2002-09-06 Sony Corp 固体撮像装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7576402B2 (en) 2005-12-21 2009-08-18 Sanyo Electric Co., Ltd. Semiconductor device, method of manufacturing the same, and camera module

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