JP2004279729A - 偏光分離素子、ホログラムレーザユニット、光ピックアップ装置及び偏光分離素子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】製造後から時間経過において温度・湿度などの環境の変化に起因する劣化を抑制し得る構造の偏光分離素子を提供する。
【解決手段】光学的透明基板2,6が回折格子7側に対して凸状となるようにその周辺に段差8を有し、当該光学的透明基板2,6に接する接着層3A,3Cが段差8部分にも充填されているので、ダイシング等による製造工程を経た場合の光学的透明基板2,6等のチッピングが光学的異方性膜5とは積層方向において離れた位置で生ずることとなり、チッピングにより素子が剥がれるなどの影響が低減する上に、当該偏光分離素子1の側面の一部にも接着層3A,3Cが連続して形成されることとなり、光学的異方性膜5の材料の剥がれが抑制され、従来の偏光分離素子と比較して、素子としての信頼性を大きく向上する。
【選択図】 図1
【解決手段】光学的透明基板2,6が回折格子7側に対して凸状となるようにその周辺に段差8を有し、当該光学的透明基板2,6に接する接着層3A,3Cが段差8部分にも充填されているので、ダイシング等による製造工程を経た場合の光学的透明基板2,6等のチッピングが光学的異方性膜5とは積層方向において離れた位置で生ずることとなり、チッピングにより素子が剥がれるなどの影響が低減する上に、当該偏光分離素子1の側面の一部にも接着層3A,3Cが連続して形成されることとなり、光学的異方性膜5の材料の剥がれが抑制され、従来の偏光分離素子と比較して、素子としての信頼性を大きく向上する。
【選択図】 図1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、凹凸状の回折格子を有する光学的異方性膜を一対の光学的透明基板で挟んだ構造の偏光分離素子、ホログラムレーザユニット、光ピックアップ装置及び偏光分離素子の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
光ディスクの情報読取部である光ピックアップ装置は、現在、小型化、低価格化、高性能化などの要求を受けている。中でも、偏光分離素子は期待を集めている。偏光分離素子は半導体レーザ素子及び受光素子が設けられたレーザユニットからの出射光を全透過し、光ディスクからの反射光を回折して、レーザユニットの受光素子にて受光させる役割を果たす。
【0003】
これまで提案されてきた偏光分離素子100の構造例の一例を図11の断面図に示す。図11に示す構成例は、例えば、特許文献1,2によるもので、上から上部透明基板101、接着層102A、λ/4板103、接着層102B、有機複屈折膜などの光学的異方性膜104、接着層102C、下部透明基板105である。光学的異方性膜104には、凹凸状の回折格子106が形成されており、その溝を接着層102Bが埋める構造になっている。上部透明基板101及び下部透明基板105は光学的に透明である。光源からの入射光が、偏光分離素子100に下面から入射する。光ディスクからの反射光はλ/4板103によって偏光方向が90°回転し、偏光成分の違いにより回折格子106部分で異常光線が分離され、受光素子で受光され信号検出される。
【0004】
このような偏光分離素子の作製方法としては、これまで、下部透明基板105上に有機複屈折膜などの光学的異方性膜104を貼り付け、その表面にエッチングにより回折格子106を形成し、λ/4板103及び上部透明基板101を貼り合わせた後、図12(ウェハーとしての複数偏光分離素子体107の切削を真上から見た模式図)のようにダイシングによりウェハーとしての複数偏光分離素子体107を一定間隔で縦横に切削することにより、数mm角のチップを作製し、各チップを取り出す方法が特許文献1,2等により提案されている。
【0005】
このように作製される構造の偏光分離素子100は、図13に示すように有機複屈折膜などの光学的異方性膜104が温度・湿度などの環境の変化に対して伸縮し、接着層102Cとの界面(若しくは、接着層102Bとの界面)で剥離することによって劣化することがある。図13は偏光分離素子100の下部(光学的異方性膜104、接着層102C、下部透明基板105)を模式的に示した正面図であり、光学的異方性膜104が接着層102Cとの界面で剥離する様子を誇張して示している。
【0006】
このような偏光分離素子100の劣化要因の一つとして、ダイシング時のチッピングがある。図11では上部透明基板101と接着層102A、接着層102Cと下部透明基板105との間の素子端面におけるチッピングの影響の様子を誇張して模式的に示しており、そのうち、1箇所を点線円内に示している。
【0007】
ダイシング工程では多数個の偏光分離素子分の回折格子が形成された基板(複数偏光分離素子体107)の下面を粘着剤が塗布されたダイシングシート上に貼付し、ダイシング装置テーブルに固定してダイシングブレードによって各偏光分離素子に切断する。その後、各偏光分離素子をダイシングシートから剥離する。
【0008】
基板表面に回折格子が形成されている場合には、回折格子表面の品質向上のために、回折格子に対向する領域のみ粘着性の低下したダイシングシートを利用する発明が開示されている(例えば、特許文献3参照)。切断条件は、透明基板1枚を切断する条件と大きく変わることなく切削でき、特別に考慮すべき点はない。
【0009】
【特許文献1】
特開2000−75130公報
【特許文献2】
特開2001−66428公報
【特許文献3】
特開2001−228335公報
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、図11のように光学的異方性膜104を一対の透明基板101,105で挟んだ素子構造の場合には、回折格子106が形成された光学的異方性膜104がダイシング時にダイシングシートと接着しないという利点がある反面、透明基板101,105同士を貼り合わせた構造のものを切断するため、1回でフルカットすると端面の欠けが大きいという問題が生じる。光学的異方性膜104や接着層102B,102Cのような硬度の小さい材料とガラスのような上部透明基板101、下部透明基板105を1回でフルカットすることは、切削材料によってブレードの種類を選定するダイシング本来の条件に反し、ブレードにかかる負荷が大きい。
【0011】
また、透明基板としてガラスを用い、ガラス切削用ブレードを用いる際にはブレードに接着層などの切削屑が詰まり、ドレッシング、プレカットの工程を頻繁に必要とする。
【0012】
そのため、図14に示すように2段階にわたるダイシングが利用される場合がある。図14はウェハーからなる複数偏光分離素子体107をダイシングブレード108で切削する様子を模式的に示した正面図である。図14(a)に示すように下部透明基板105の上部までをまずカットし、その後、図14(b)に示すように全体をカットする。若しくは、上部透明基板101の下部までをまずカットし、その後、全体をカットする。この方法では、1回のダイシング毎の切削試料にかかる負荷は低減するが、依然として1回目のダイシングにおいて硬度の小さい材料102A,103,102B,104,102Cと硬度の大きい材料101,105とを同時に切削しているため、光学的異方性膜104や接着層102B,102C及び透明基板101,105等の接着部を中心に素子の端部に欠けが生じる。
【0013】
欠けの程度が大きい場合やばらつく場合には偏光分離素子100の品質保持に影響する。また、小さい欠けであっても、接着層102B,102Cや透明基板101,105によって抑制されていた光学的異方性膜104の応力が緩和される引き金となり、前述のように偏光分離素子100が端から剥がれるという問題がある。
【0014】
結局、従来例に示すような偏光分離素子100の構成では、ダイシング方法の工夫によってチッピングによる素子の剥がれを低減することは困難である。従って、チッピングの影響を低減する偏光分離素子の構成の開発が必要となる。即ち、光学的異方性膜を一対の透明基板で挟んだ素子構造の場合にはダイシング後の断面に欠けが生じやすいため、これによる劣化を防ぎ、信頼性を向上させ得る偏光分離素子の構造を開発する必要がある。
【0015】
本発明の目的は、製造後からの時間経過において温度・湿度などの環境の変化に起因する劣化を抑制し得る構造の偏光分離素子を提供することである。
【0016】
本発明の目的は、さらにその信頼性を高めることである。
【0017】
本発明の目的は、このような偏光分離素子の作製を容易にし、材料コストを抑えることである。
【0018】
本発明の目的は、さらに偏光分離度を向上させることである。
【0019】
本発明の目的は、さらに透過率を向上させることである。
【0020】
【課題を解決するための手段】
請求項1記載の発明は、凹凸状の回折格子を有する光学的異方性膜を一対の光学的透明基板で挟んだ構造の偏光分離素子において、前記光学的透明基板が前記回折格子側に対して凸状となるようにその周辺に段差を有し、当該光学的透明基板に接する接着層が前記段差部分にも充填されている。
【0021】
従って、光学的透明基板が回折格子側に対して凸状となるようにその周辺に段差を有し、当該光学的透明基板に接する接着層が段差部分にも充填されていることから、ダイシング等による製造工程を経た場合の光学的透明基板等のチッピングが光学的異方性膜とは積層方向において離れた位置で生ずることとなり、チッピングにより素子が剥がれるなどの影響を低減させることができる上に、当該偏光分離素子の側面の一部にも接着層が連続して形成されることとなり、光学的異方性膜の材料の剥がれが抑制され、従来の偏光分離素子と比較して、素子としての信頼性を大きく向上する。
【0022】
請求項2記載の発明は、請求項1記載の偏光分離素子において、前記段差は、一対の前記光学的透明基板の何れか一方に有する。
【0023】
従って、一対の光学的透明基板の何れか一方にのみ段差を有して当該段差にも接着剤が充填されている素子構造の場合にも、当該段差を有する光学的透明基板側に関して光学的異方性膜に対するチッピングによる剥がれの影響を低減させることができる。
【0024】
請求項3記載の発明は、請求項1記載の偏光分離素子において、前記段差は、一対の前記光学的透明基板の両方に各々有する。
【0025】
従って、一対の光学的透明基板の両方の各々に段差を有して各々の段差に接着剤が充填されている素子構造であるので、ダイシング等による製造工程を経た場合の光学的透明基板等のチッピングが何れも光学的異方性膜とは積層方向において離れた位置で生ずることとなり、チッピングにより素子が剥がれるなどの影響を確実に低減させることができる上に、当該偏光分離素子の側面の一部に接着層が形成されることとなり、光学的異方性膜の材料の剥がれが抑制され、従来の偏光分離素子と比較して、素子としての信頼性を大きく向上する。
【0026】
請求項4記載の発明は、請求項1ないし3の何れか一記載の偏光分離素子において、前記段差は、複数本の溝が形成された透明基板を用い、前記溝を回折格子側に配置させ当該溝部分を含めて接着剤を充填して作製されたウェハー状の複数偏光分離素子体から各偏光分離素子に切り分けるために前記溝部分でダイシングすることにより形成される。
【0027】
従って、製造段階において、当該偏光分離素子を構成する光学的透明基板に或る深さで複数本の溝が形成された透明基板を用い、その溝側を光学的異方性膜に対向させる形で使用し当該溝部分を含めて接着剤を充填して作製されたウェハー状の複数偏光分離素子体から各偏光分離素子に切り分けるために溝部分でダイシングすることにより形成された段差を各々の偏光分離素子が有し、当該溝に充填された接着層がそのまま段差部分に充填された形で残るので、最終的にウェハー基板から各素子に切断された際にはダイシングによる製造工程を経た場合の光学的透明基板等のチッピングが光学的異方性膜とは積層方向において離れた位置で生ずることとなり、チッピングにより素子が剥がれるなどの影響を低減させることができる上に、当該偏光分離素子の側面の一部に接着層が形成されることとなり、光学的異方性膜の材料の剥がれが抑制され、従来の偏光分離素子と比較して、素子としての信頼性を大きく向上する。
【0028】
請求項5記載の発明は、請求項1ないし4の何れか一記載の偏光分離素子において、前記光学的異方性膜は有機複屈折膜である。
【0029】
従って、光学的異方性膜として高分子からなる有機複屈折膜を用いているので、当該偏光分離素子の作製が容易となり、かつ、その材料も低コストで済む。
【0030】
請求項6記載の発明は、請求項1ないし5の何れか一記載の偏光分離素子において、前記光学的異方性膜の常光線方向屈折率と異常光線方向屈折率との何れか一方の屈折率と、当該光学的異方性膜に形成された凹凸状の前記回折格子を埋める樹脂の屈折率とが同一である。
【0031】
従って、回折格子としての性能が向上し、偏光分離度が向上する。
【0032】
請求項7記載の発明は、請求項1ないし6の何れか一記載の偏光分離素子において、一対の前記光学的透明基板のうちの少なくとも一方は、その光入射面若しくは光出射面の少なくとも一方に反射防止膜が施された光学的透明基板である。
【0033】
従って、反射防止膜を光入射面又は光出射面に備えることにより、透過率が向上する。
【0034】
請求項8記載の発明は、請求項1ないし7の何れか一記載の偏光分離素子において、前記光学的透明基板と前記光学的異方性材料とを接着するために用いられる接着剤は、感光性を有するエポキシ系接着剤、アクリル系接着剤又はゴム系接着剤である。
【0035】
従って、接着層として紫外線硬化型樹脂のように感光性を有する樹脂、さらには、その樹脂として光学的異方性膜の応力を緩和させる効果を持つ弾力性の強いエポキシ系接着剤、アクリル系接着剤又はゴム系接着剤を用いることにより、タクトを上昇させ得る上に、当該偏光分離素子内部に発生する応力を緩和させることができ、素子の信頼性が向上する。
【0036】
請求項9記載の発明のホログラムレーザユニットは、発光素子と、受光素子と、前記発光素子から発せられたレーザ光を透過し光ディスク側からの戻り光を前記受光素子側に回折させる請求項1ないし8の何れか一記載の偏光分離素子と、を一体に備える。
【0037】
従って、請求項1ないし8の何れか一記載の偏光分離素子を備えることにより、請求項1ないし8の何れか一記載の発明の作用を奏するホログラムレーザユニットを提供できる。
【0038】
請求項10記載の発明の光ピックアップ装置は、請求項9記載のホログラムレーザユニットと、このホログラムレーザユニットの発光素子から発せられたレーザ光を対物レンズに集光させる対物レンズと、を備える。
【0039】
従って、請求項9記載のホログラムレーザユニット、即ち、請求項1ないし8の何れか一記載の偏光分離素子を備えることにより、請求項1ないし8の何れか一記載の発明の作用を奏する光ピックアップ装置を提供できる。
【0040】
請求項11記載の発明の偏光分離素子の作製方法は、ウェハー状の透明基板に素子サイズに合わせて複数本の溝を形成する工程と、ウェハー状の前記透明基板を前記溝が回折格子側となるように配置させ前記溝部分を含めて接着剤を充填する工程を含み複数の偏光分離素子分を一体に有するウェハー状の複数偏光分離素子体を作製する工程と、このウェハー状の前記複数偏光分離素子体を前記溝部分でダイシングすることにより各偏光分離素子に切り分ける工程と、を有する。
【0041】
従って、製造段階において、各偏光分離素子を構成する光学的透明基板に或る深さで複数本の溝が形成された透明基板を用い、その溝側を光学的異方性膜に対向させる形で使用し当該溝部分を含めて接着剤を充填して作製されたウェハー状の複数偏光分離素子体から各偏光分離素子に切り分けるために溝部分でダイシングすることにより形成された段差を各々の偏光分離素子が有し、当該溝に充填された接着層がそのまま段差部分に充填された形で残るので、最終的にウェハー基板から各素子に切断された際にはダイシングによる製造工程を経た場合の光学的透明基板等のチッピングが光学的異方性膜とは積層方向において離れた位置で生ずることとなり、チッピングにより素子が剥がれるなどの影響を低減させることができる上に、当該偏光分離素子の側面の一部に接着層が形成されることとなり、光学的異方性膜の材料の剥がれが抑制され、従来の偏光分離素子と比較して、素子としての信頼性を大きく向上する。
【0042】
【発明の実施の形態】
本発明の第一の実施の形態を図1ないし図3に基づいて説明する。図1は、本実施の形態の偏光分離素子1の素子構造例を示す原理的な断面図である。本実施の形態の偏光分離素子1の断面構造は、基本的には、図11に示した偏光分離素子100の断面構造と同様であり、上層から順に、上部透明基板2(BK7、厚さ:1.0mm)、接着層3A(アクリル系接着剤、厚さ:0.03mm)、λ/4板4(厚さ:0.1mm)、接着層3B(エポキシ系紫外線硬化型樹脂、屈折率1.58、厚さ:0.04mm)、光学的異方性膜としての有機複屈折膜5(異常光線方向屈折率1.58、常光線方向屈折率1.67、厚さ:0.1mm)、接着層3C(エポキシ系紫外線硬化型樹脂、厚さ:0.03mm)、下部透明基板6(BK7、厚さ:1.0mm)の積層構造として構成されている。
【0043】
有機複屈折膜5には、凹凸状の回折格子7(格子深さ4μm、ピッチ2μm、P偏光透過率約98%、S偏光透過率約1%、1次回折光回折効率約40%)が形成されており、その溝を接着層3Bが埋める構造になっている。一対の光学的透明基板としての上部透明基板2の上面(光出射面)、下部透明基板6の下面(光入射面)には各々反射防止膜(図示せず)が施されている。また、一対の透明基板2,6はその周辺部において、中央部などの厚みと比較して厚みが0.5mm程薄くなっており、回折格子7側に対して凸状となるようにその周辺に段差8を有する構造とされている。また、接着層3A,3Cはこの段差8部分まで充填されることにより、接着層3A,3Cの端部(周辺部)の厚みは、中央部などの厚みと比較して0.5mm程厚くなっている。つまり、本実施の形態の偏光分離素子1は、基本的には偏光分離素子100と同様の素子断面構造を有するが、その素子周辺部構造が異なる構造として作製されている。
【0044】
ここに、本実施の形態の偏光分離素子1の作製では、透明基板2と接着層3A、接着層3Cと透明基板6の間で各々チッピングが生じている。図2は、チッピングによる欠けを誇張して模式的に示しており、その一部を点線による円で示している。チッピングによる欠けは有機複屈折膜5よりも鉛直方向に約0.5mm離れた箇所で生じており、透明基板2,6や接着層3A,3Cの欠けに起因する有機複屈折膜5の剥がれが低減することとなる。また、当該偏光分離素子1の側面に段差8部分に充填された接着層3A,3Cにより高さ約1mmの樹脂層が形成されているため、有機複屈折膜5の応力は緩和され、従来の偏光分離素子100と比較して、素子としての信頼性が非常に高いものとなる。
【0045】
このような偏光分離素子1の作製方法を以下に説明する。
【0046】
(a) 直径100mm、厚さ1.0mmのショット製光学ガラスBK7からなる透明基板(ウェハー状透明基板11)の反射防止膜が施されていない面に、厚さ1.0mmのダイシングブレードを用いてライン間隔5.7mm、切削深さ0.5mmで図2(a)に示すように縦横各12ラインの溝12を切削した。この結果、図2(b)に示すように透明基板11に一定間隔5.7mmで深さ0.5mmの溝12が縦横に各12本作製されたものである。なお、図2(a)はウェハーとしての透明基板11を溝切削する様子を真上から見た状態で示す図であり、図2(b)はダイシングにより得られた透明基板11の正面図である。図2(a)(b)の何れも溝12の本数は簡略化して記している。このような透明基板11を透明基板2,6用として2枚作製した。
【0047】
(b) その後、作製された透明基板11を流水で洗浄し、オーブン中に数時間放置して乾燥させた。
【0048】
(c) 溝12用のラインの切削が行われたウェハー状の透明基板11の切削が行われた面を表面に紫外線硬化型樹脂(接着層3C)を滴下し、一定膜厚に引伸ばした後に、直径80mmの有機複屈折膜5を貼り付け、高圧水銀灯によって紫外線を照射し、接着層を硬化させた。
【0049】
(d) 透明基板11に貼付された有機複屈折膜5表面にフォトリソグラフィー、ドライエッチングによって回折格子7を形成した。
【0050】
(e) 工程(a)で作製された他方の透明基板11を溝12のラインが切削された面に、アクリル系接着剤(接着層3A)を用いてλ/4板4を貼り付けた。
【0051】
(f) 工程(d)で作製された基板11を回折格子7が形成された面を表面にして、平面ステンレス台に固定し、紫外線硬化型樹脂(接着層3B)を滴下した。この樹脂が滴下されている面に、工程(e)で作製された基板11を、λ/4板4を下側にして貼り付けられるように一定圧力を加え、滴下した紫外線硬化型樹脂の膜厚が位置に依らず一定になるように広げた。この状態で保持し、上部から高圧水銀灯によって紫外線を照射し、接着層を硬化させた。
【0052】
(g) 工程(f)により作製されたウェハー状の偏光分離素子(複数偏光分離素子体13)をダイシングテープに固定し、工程(a)で用いたダイシングブレードよりも粒度が小さく、厚さ0.3mmのダイシングブレードを用いてライン間隔5.7mmで、図3に示すように、基板に形成されている切り目の線(ダイシングライン)の中央(溝12の中央)を切削し、各偏光分離素子1に切削した。図3は工程(f)により作製されたウェハー状の偏光分離素子(複数偏光分離素子体13)の断面図である。工程(a)により上部と下部の透明基板11(2,6)に形成された幅約1mmの溝12に接着層3A,3Cの接着剤が埋め込まれている形になっている。各素子1に切り分ける際には、工程(a)で用いたダイシングブレードの厚さよりも小さい厚さのダイシングブレードを用いて切削するため、切削後には透明基板2,6の周囲に段差8が形成され、この段差8部分にまで接着剤が充填されることで接着層3A,3Cによって偏光分離素子1の側面に高さ約1mmの樹脂層が形成される。
【0053】
(h) その後、ダイシングテープ全体に紫外線を照射して、テープから各素子1を剥離した。このようにして断面図が図1となる偏光分離素子1を得た。
【0054】
従来の偏光分離素子100では、チッピングにより素子が剥がれるなど影響は大きかったが、本実施の形態による偏光分離素子1では、チッピングによる欠けは有機複屈折膜5よりも鉛直方向(膜厚方向)に約0.5mm離れた箇所で生じるため、透明基板2,6や接着層3A,3Cの欠けに起因する有機複屈折膜5の剥がれを低減できる。また、段差8部分に充填された接着層3A,3Cにより偏光分離素子1の側面に高さ約1mmの樹脂層が形成されることにより、有機複屈折膜5の剥がれは抑制され、従来の偏光分離素子100と比較して、素子としての信頼性が大きく向上する。
【0055】
本発明の第二の実施の形態を図4及び図5に基づいて説明する。第一の実施の形態で示した部分と同一部分は同一符号を用いて示し、説明も省略する(以降の実施の形態でも同様とする)。図4は、本実施の形態の偏光分離素子20の素子構造例を示す原理的な断面図である。本実施の形態の偏光分離素子20の断面構造は、基本的には、図1に示した偏光分離素子1の断面構造と同様であり、上層から順に、上部透明基板2、接着層3A、λ/4板4、接着層3B、有機複屈折膜5、接着層3C、下部透明基板6の積層構造として構成されているが、図1の場合と異なり、透明基板6側のみがその周辺において、中央などの厚みと比較して厚みが0.5mm程薄くなっており、回折格子7側に対して凸状となるようにその周辺に段差8を有する構造とされている。また、接着層3Cはこの段差8部分まで充填されることにより、接着層3Cの端部(周辺部)の厚みは、中央部などの厚みと比較して0.5mm程厚くなっている。一方、透明基板2、接着層3A側は偏光分離素子100の場合と同様とされている。つまり、本実施の形態の偏光分離素子20も、基本的には偏光分離素子100と同様の素子断面構造を有するが、その素子周辺部構造が異なる構造として作製されている。
【0056】
本実施の形態の偏光分離素子20の作製では、上部透明基板2と接着層3A、接着層3Cと下部透明基板6の間でチッピングが生じている。チッピングによる欠けを模式的に図4では示しており、その一部を点線による円で示している。チッピングによる欠けは有機複屈折膜5よりも鉛直方向に約0.5mm下(下部透明基板6側)の箇所で生じており、下部透明基板6や接着層3Cの欠けに起因する有機複屈折膜5の剥がれが低減されている。また、偏光分離素子20の側面に接着層3Cにより高さ約0.5mmの樹脂層が形成されているため、有機複屈折膜5の応力は緩和され、従来の偏光分離素子100と比較して、素子としての信頼性が高い。
【0057】
本実施の形態の偏光分離素子20の作製方法を以下に示す。
【0058】
まず、第一の実施の形態の工程(a)による透明基板11(下部透明基板6用)を1枚だけ作製し、工程(b)(c)(d)を同様に行なう。
【0059】
(e) 切削などが施されていない透明基板14(上部透明基板2用)を用意し、反射防止膜が施されていない面に、アクリル系接着剤(接着層3A)を用いてλ/4板4を貼り付ける。
【0060】
(f) 工程(d)で作製された基板11を回折格子7が形成された面を表面にして、平面ステンレス台に固定し、紫外線硬化型樹脂(接着層3B)を滴下した。この樹脂が滴下されている面に、工程(e)で作製された基板14のλ/4板4側が平行に貼り付けられるように一定圧力を加え、滴下した紫外線硬化型樹脂の膜厚が位置に依らず一定になるように広げた。この状態で保持し、上部から高圧水銀灯によって紫外線を照射し、接着層を硬化させた。
【0061】
(g) 工程(f)により作製された基板(複数偏光分離素子体15)をダイシングテープに固定した。
【0062】
(h) 上部透明基板ウェハー14には切り目(溝12)は入っていないが、透明であるため、有機複屈折膜5や接着層3A,3B,3Cが無い端部で下部透明基板ウェハー11の切り目(溝12)の箇所を見て、ダイシングブレードの切削する位置を調整した。
【0063】
(i) 工程(a)で用いたダイシングブレードよりも粒度が小さく、厚さ0.3mmのダイシングブレードを用いてライン間隔5.7mmで、図5に示すように、下部透明基板ウェハー11に形成されている切り目の線の中央(溝12の中央)を切削し各素子20に切削した。図5は工程(f)により作製されたウェハー状の偏光分離素子(複数偏光分離素子体15)の断面図である。工程(a)により下部透明基板ウェハ11に形成された幅約1mmの溝12に接着層3Cの接着剤が埋め込まれている形になっていて、工程(a)で用いたダイシングブレードの厚さよりも薄い厚さのダイシングブレードを用いて切削するため、切削後には下部透明基板6の周囲に段差8が形成され、この段差8部分にも接着剤が充填されて偏光分離素子20の下部透明基板6の側面に高さ約0.5mmの樹脂層が形成される。
【0064】
なお、工程(h)及び工程(i)では、作製されたウェハーの上下を逆にし、下部透明基板下面を上面としてダイシングを行ってもよい。
【0065】
(j) その後、ダイシングテープ全体に紫外線を照射して、テープから各素子11を剥離した。このようにして断面図が図4となる偏光分離素子20を得た。
【0066】
従来の偏光分離素子100では、チッピングにより素子が剥がれるなど影響は大きかったが、本実施の形態による偏光分離素子20では、下部透明基板6と接着層3Cの間のチッピングによる欠けは有機複屈折膜5よりも鉛直方向に約0.5mm下(下部透明基板6側)の箇所で生じるため、下部透明基板6や接着層3Cの欠けに起因する有機複屈折膜5の剥がれを低減させることができる。また、偏光分離素子20の側面に高さ約0.5mmの樹脂層が形成されることにより、有機複屈折膜5の剥がれが抑制され、従来の偏光分離素子100と比較して、素子としての信頼性が向上する。
【0067】
本発明の第三の実施の形態を図6及び図7に基づいて説明する。図6は、本実施の形態の偏光分離素子21の素子構造例を示す原理的な断面図である。本実施の形態の偏光分離素子21の断面構造は、基本的には、図1に示した偏光分離素子1の断面構造と同様であるが、上層から順に、上部透明基板2、接着層3B、有機複屈折膜5、接着層3C、下部透明基板6の積層構造として構成されており、接着層3A及びλ/4板4を含まない構造とされている。また、図1の場合と異なり、透明基板2側のみがその周辺部において、中央部などの厚みと比較して厚みが0.5mm程薄くなっており、回折格子7側に対して凸状となるようにその周辺に段差8を有する構造とされている。また、接着層3Bはこの段差8部分まで充填されることにより、接着層3Bの端部(周辺部)の厚みは、中央部などの厚みと比較して0.5mm程厚くなっている。一方、透明基板6、接着層3C側は偏光分離素子100の場合と同様とされている。つまり、本実施の形態の偏光分離素子21も、基本的には偏光分離素子100と同様の素子断面構造を有するが、その素子周辺部構造が異なる構造として作製されている。
【0068】
本実施の形態による偏光分離素子21の作製では、上部透明基板2と接着層3B、接着層3Cと下部透明基板6の間でチッピングが生じている。チッピングによる欠けを模式的に図6では示しており、その一部を点線による円で示している。チッピングによる欠けは有機複屈折膜5よりも鉛直方向に約0.5mm上(上部透明基板2側)の箇所で生じており、上部透明基板2や接着層3Bの欠けに起因する有機複屈折膜5の剥がれを低減されている。また、偏光分離素子21の側面に接着層3Bにより高さ約0.5mmの樹脂層が形成されているため、有機複屈折膜5の応力は緩和され、従来の偏光分離素子100と比較して、素子としての信頼性が高い。
【0069】
本実施の形態の偏光分離素子21の作製方法を以下に示す。
【0070】
まず、第一の実施の形態の工程(a)による透明基板11(上部透明基板2用)を1枚だけ作製し、工程(b)を同様に行う。
【0071】
(c) 切削などが施されていない透明基板16(下部透明基板6用)を用意し、反射膜が施されていない面に紫外線硬化型樹脂(接着層3C)を滴下し、一定膜厚に引伸ばした後に、直径80mmの有機複屈折膜5を貼付し、高圧水銀灯によって紫外線を照射し、接着剤を硬化させた。
【0072】
(d) 透明基板16に貼付された有機複屈折膜5表面にフォトリソグラフィー、ドライエッチングによって回折格子7を形成する。
【0073】
(e) 工程(d)で作製された基板16を回折格子7が形成された面を表面にして、平面ステンレス台に固定し、紫外線硬化型樹脂(接着層3B)を滴下した。この樹脂が滴下されている面に、工程(a)及び工程(b)で作製された基板11を溝12が形成されている面を下面にして貼り合わせ、一定圧力を加え、滴下した紫外線硬化型樹脂の膜厚が位置に依らず一定になるように広げた。この状態で保持し、上部から高圧水銀灯によって紫外線を照射し、接着層を硬化させた。
【0074】
(f) 工程(e)により作製された基板(複数偏光分離素子体17)をダイシングテープに固定した。
【0075】
(g) 工程(a)で用いたダイシングブレードよりも粒度が小さく、厚さ0.3mmのダイシングブレードを用いてライン間隔5.7mmで、図7に示すように、上部透明基板11に形成されている切り目の線の中央(溝12の中央)を切削し各素子21に切削した。図7は工程(e)により作製されたウェハー状の偏光分離素子(複数偏光分離素子体17)の断面図である。工程(a)により上部透明基板11に形成された幅約1mmの溝12に接着層3Aの接着剤が埋め込まれている形になっていて、工程(a)で用いたダイシングブレードの厚さよりも小さい厚さのダイシングブレードを用いて切削するため、切削後には上部透明基板2の周囲に段差8が形成され、この段差8部分にも接着剤が充填されて偏光分離素子21の下部透明基板2の側面に高さ約0.5mmの樹脂層が形成される。
【0076】
(h) その後、ダイシングテープ全体に紫外線を照射して、テープから各素子21を剥離した。
【0077】
このようにして断面図が図6となる偏光分離素子21を得た。従来の偏光分離素子100では、チッピングにより素子が剥がれるなど影響は大きかったが、本実施の形態による偏光分離素子21では、上部透明基板2と接着層3Bの間のチッピングによる欠けは有機複屈折膜5よりも鉛直方向に約0.5mm上の箇所で生じるため、上部透明基板2や接着層3Bの欠けに起因する有機複屈折膜5の剥がれを低減させることができる。また、偏光分離素子21の側面に接着層3Bによる高さ約0.5mmの樹脂層が形成されることにより、有機複屈折膜5の剥がれは抑制され、従来の偏光分離素子100と比較して、素子としての信頼性を向上できる。
【0078】
本発明の第四の実施の形態を図8及び図9に基づいて説明する。図8は、本実施の形態の偏光分離素子31の素子構造例を示す原理的な断面図である。本実施の形態の偏光分離素子31の断面構造は、基本的には、図1に示した偏光分離素子1の断面構造と同様であるが、上層から順に、上部透明基板2、接着層3B、有機複屈折膜5、接着層3C、下部透明基板6の積層構造として構成されており、接着層3A及びλ/4板4を含まない構造とされている。後は、図1の場合と同様であり、一対の透明基板2,6はその周辺部において、中央部などの厚みと比較して厚みが0.5mm程薄くなっており、回折格子7側に対して凸状となるようにその周辺に段差8を有する構造とされている。また、接着層3B,3Cはこの段差8部分まで充填されることにより、接着層3B,3Cの端部(周辺部)の厚みは、中央部などの厚みと比較して0.5mm程厚くなっている。つまり、本実施の形態の偏光分離素子31は、基本的には偏光分離素子100と同様の素子断面構造を有するが、その素子周辺部構造が異なる構造として作製されている。なお、本実施の形態の接着層3B,3Cとしては、弾性力の強い接着剤が用いられている。
【0079】
本実施の形態による偏光分離素子31の作製では、上部透明基板2と接着層3B、接着層3Cと下部透明基板6の間でチッピングが生じている。チッピングによる欠けを模式的に図8では示しており、その一部を点線による円で示している。チッピングによる欠けは有機複屈折膜5よりも鉛直方向に約0.5mm離れた箇所で生じており、透明基板2,6や接着層3B,3Cの欠けに起因する有機複屈折膜5の剥がれを低減されている。また、偏光分離素子31の側面に高さ約1mmの樹脂層が形成されているため、有機複屈折膜5の応力は緩和され、従来の偏光分離素子100と比較して、素子としての信頼性が非常に高い。
【0080】
本実施の形態の偏光分離素子31の作製方法としては、基本的には、第一の実施の形態の偏光分離素子1の作製方法に準ずればよく、工程(e)を省略し、工程(f)において、工程(d)で作製された基板11を回折格子7が形成された面を表面にして、平面ステンレス台に固定し、紫外線硬化型樹脂(接着層3B)を滴下した。この樹脂が滴下されている面に、溝12が形成されている他方の基板11を、溝12側を下側にして貼り付けられるように一定圧力を加え、滴下した紫外線硬化型樹脂の膜厚が位置に依らず一定になるように広げた。この状態で保持し、上部から高圧水銀灯によって紫外線を照射し、接着層を硬化させ、その後、工程(f)〜(h)を行えばよい。このようにして断面図が図8となる偏光分離素子31が作製される。
【0081】
このような偏光分離素子31を用いて図10に示すようなホログラムレーザユニット41及び光ピックアップ装置51を構成することができる。まず、ホログラムレーザユニット41は、半導体レーザ42と受光素子(フォトダイオード)43とが共通のステム44上にマウントされたユニット本体45のキャップ46上の実装位置に水平に位置調整した偏光分離素子31の4隅を接着剤47により固定することにより構成されている。光ピックアップ装置51はこのようなホログラムレーザユニット41とコリメートレンズ52とλ/4板53と対物レンズ54とを組合せることにより構成されている。
【0082】
即ち、半導体レーザ42から発せられた光は、光ディスク55で反射され、対物レンズ54等の光学系を介してホログラムレーザユニット41に返される。この際に、光ディスク55からの反射光は偏光分離素子31の回折格子7で回折光が分離され、ホログラムレーザユニット41の受光素子43にて受光される。本実施の形態の場合の偏光分離素子31はλ/4板4を含まない構成であるため、コリメートレンズ52と対物レンズ54との間にλ/4板53が設置されている。
【0083】
前述した工程(a)〜(h)により作製された偏光分離素子31を用いてこのような光ピックアップ装置51を作製する方法を以下に説明する。
【0084】
(i) 把持ハンドが備えられたホログラム実装装置を用いて、半導体レーザ42と受光素子(フォトダイオード)43が共通のステム44上にマウントされているユニット本体45のキャップ46の実装位置に偏光分離素子31を水平に位置調整した。
【0085】
(j) 偏光分離素子31の側面端部の下4隅にディスペンサを用いて素子固定接着剤47として紫外線硬化型樹脂を塗布し、紫外線を照射して本固定した。
【0086】
(k) 光学調整されたコリメートレンズ52、対物レンズ54を用いて、図10に示すような光ピックアップ光学系を形成した。
【0087】
本実施の形態の光ピックアップ装置51では、レーザ光が照射される偏光分離素子31の信頼性が光ピックアップ装置51全体の信頼性に大きく影響するが、前述した如く信頼性の向上した偏光分離素子31を用いることにより信頼性の高い光ピックアップ装置となる。
【0088】
以上、本発明を説明するために幾つかの実施の形態を説明したが、本発明はこれらの実施の形態に留まることなく応用できることは言うまでもない。例えば、第四の実施の形態においては、λ/4板5を含まない構造の偏光分離素子31を作製し、光ピックアップ装置51を組む際にコリメートレンズ52及び対物レンズ54の間にλ/4板53を挟む構成としたが、第一及び第二の実施の形態において、λ/4板5を含まない構造の偏光分離素子1,11を作製し、光ピックアップ装置51を組む際にコリメートレンズ52及び対物レンズ54の間にλ/4板53を挟む構成としてもよい。また、第一の実施の形態では、接着層3Aとしてアクリル系粘着剤、接着層3B,3Cとしてエポキシ系接着剤を用いたが、感光性であり、弾力性の強い接着剤であれば組成成分は特に限定されるものではない。
【0089】
【発明の効果】
請求項1記載の発明の偏光分離素子によれば、光学的透明基板が回折格子側に対して凸状となるようにその周辺に段差を有し、当該光学的透明基板に接する接着層が段差部分にも充填されているので、ダイシング等による製造工程を経た場合の光学的透明基板等のチッピングが光学的異方性膜とは積層方向において離れた位置で生ずることとなり、チッピングにより素子が剥がれるなどの影響を低減させることができる上に、当該偏光分離素子の側面の一部にも接着層が連続して形成されることとなり、光学的異方性膜の材料の剥がれが抑制され、従来の偏光分離素子と比較して、素子としての信頼性を大きく向上させることができる。
【0090】
請求項2記載の発明によれば、請求項1記載の偏光分離素子において、一対の光学的透明基板の何れか一方にのみ段差を有して当該段差にも接着剤が充填されている素子構造の場合にも、当該段差を有する光学的透明基板側に関して光学的異方性膜に対するチッピングによる剥がれの影響を低減させることができる。
【0091】
請求項3記載の発明によれば、請求項1記載の偏光分離素子において、一対の光学的透明基板の両方の各々に段差を有して各々の段差にも接着剤が充填されている素子構造であるので、ダイシング等による製造工程を経た場合の光学的透明基板等のチッピングが何れも光学的異方性膜とは積層方向において離れた位置で生ずることとなり、チッピングにより素子が剥がれるなどの影響を確実に低減させることができる上に、当該偏光分離素子の側面の一部に接着層が形成されることとなり、光学的異方性膜の材料の剥がれが抑制され、従来の偏光分離素子と比較して、素子としての信頼性を大きく向上させることができる。
【0092】
請求項4記載の発明によれば、請求項1ないし3の何れか一記載の偏光分離素子において、製造段階において、当該偏光分離素子を構成する光学的透明基板に或る深さで複数本の溝が形成された透明基板を用い、その溝側を光学的異方性膜に対向させる形で使用し当該溝部分を含めて接着剤を充填して作製されたウェハー状の複数偏光分離素子体から各偏光分離素子に切り分けるために溝部分でダイシングすることにより形成された段差を各々の偏光分離素子が有し、当該溝に充填された接着層がそのまま段差部分に充填された形で残るので、最終的にウェハー基板から各素子に切断された際にはダイシングによる製造工程を経た場合の光学的透明基板等のチッピングが光学的異方性膜とは積層方向において離れた位置で生ずることとなり、チッピングにより素子が剥がれるなどの影響を低減させることができる上に、当該偏光分離素子の側面の一部に接着層が形成されることとなり、光学的異方性膜の材料の剥がれが抑制され、従来の偏光分離素子と比較して、素子としての信頼性を大きく向上させることができる。
【0093】
請求項5記載の発明によれば、請求項1ないし4の何れか一記載の偏光分離素子において、光学的異方性膜として高分子からなる有機複屈折膜を用いているので、当該偏光分離素子の作製を容易にすることができ、かつ、材料的にも低コスト化を図ることができる。
【0094】
請求項6記載の発明によれば、請求項1ないし5の何れか一記載の偏光分離素子において、回折格子としての性能を向上させ、偏光分離度を向上させることができる。
【0095】
請求項7記載の発明によれば、請求項1ないし6の何れか一記載の偏光分離素子において、反射防止膜を光入射面又は光出射面に備えるので、透過率を向上させることができる。
【0096】
請求項8記載の発明によれば、請求項1ないし7の何れか一記載の偏光分離素子において、接着層として紫外線硬化型樹脂のように感光性を有する樹脂、さらには、その樹脂として光学的異方性膜の応力を緩和させる効果を持つ弾力性の強いエポキシ系接着剤、アクリル系接着剤又はゴム系接着剤を用いることにより、タクトを上昇させ得る上に、当該偏光分離素子内部に発生する応力を緩和させることができ、素子の信頼性が向上する。
【0097】
請求項9記載の発明によれば、請求項1ないし8の何れか一記載の偏光分離素子を備えることにより、請求項1ないし8の何れか一記載の発明の効果を奏するホログラムレーザユニットを提供することができる。
【0098】
請求項10記載の発明によれば、請求項9記載のホログラムレーザユニット、即ち、請求項1ないし8の何れか一記載の偏光分離素子を備えることにより、請求項1ないし8の何れか一記載の発明の効果を奏する光ピックアップ装置を提供することができる。
【0099】
請求項11記載の発明によれば、製造段階において、各偏光分離素子を構成する光学的透明基板に或る深さで複数本の溝が形成された透明基板を用い、その溝側を光学的異方性膜に対向させる形で使用し当該溝部分を含めて接着剤を充填して作製されたウェハー状の複数偏光分離素子体から各偏光分離素子に切り分けるために溝部分でダイシングすることにより形成された段差を各々の偏光分離素子が有し、当該溝に充填された接着層がそのまま段差部分に充填された形で残るので、最終的にウェハー基板から各素子に切断された際にはダイシングによる製造工程を経た場合の光学的透明基板等のチッピングが光学的異方性膜とは積層方向において離れた位置で生ずることとなり、チッピングにより素子が剥がれるなどの影響を低減させることができる上に、当該偏光分離素子の側面の一部に接着層が形成されることとなり、光学的異方性膜の材料の剥がれが抑制され、従来の偏光分離素子と比較して、素子としての信頼性を大きく向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第一の実施の形態の偏光分離素子の素子構造例を示す原理的な断面図である。
【図2】(a)はウェハーとしての透明基板を溝切削する様子を真上から見た状態で示す平面図、(b)はダイシングにより得られた透明基板の正面図である。
【図3】複数偏光分離素子体を示す断面図である。
【図4】本発明の第二の実施の形態の偏光分離素子の素子構造例を示す原理的な断面図である。
【図5】複数偏光分離素子体を示す断面図である。
【図6】本発明の第三の実施の形態の偏光分離素子の素子構造例を示す原理的な断面図である。
【図7】複数偏光分離素子体を示す断面図である。
【図8】本発明の第四の実施の形態の偏光分離素子の素子構造例を示す原理的な断面図である。
【図9】複数偏光分離素子体を示す断面図である。
【図10】光ピックアップ装置の構成例を示す光学系構成図である。
【図11】従来の偏光分離素子の素子構造例を示す原理的な断面図である。
【図12】そのダイシング工程を示す平面図である。
【図13】界面での剥離の様子を誇張して示す正面図である。
【図14】ダイシング処理を示す工程図である。
【符号の説明】
1 偏光分離素子
2 光学的透明基板
3 接着層
5 有機複屈折膜、光学的異方性膜
6 光学的透明基板
7 回折格子
8 段差
11
11 透明基板
12 溝
20,21,31 偏光分離素子
41 ホログラムレーザユニット
42 発光素子
43 受光素子
54 対物レンズ
【発明の属する技術分野】
本発明は、凹凸状の回折格子を有する光学的異方性膜を一対の光学的透明基板で挟んだ構造の偏光分離素子、ホログラムレーザユニット、光ピックアップ装置及び偏光分離素子の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
光ディスクの情報読取部である光ピックアップ装置は、現在、小型化、低価格化、高性能化などの要求を受けている。中でも、偏光分離素子は期待を集めている。偏光分離素子は半導体レーザ素子及び受光素子が設けられたレーザユニットからの出射光を全透過し、光ディスクからの反射光を回折して、レーザユニットの受光素子にて受光させる役割を果たす。
【0003】
これまで提案されてきた偏光分離素子100の構造例の一例を図11の断面図に示す。図11に示す構成例は、例えば、特許文献1,2によるもので、上から上部透明基板101、接着層102A、λ/4板103、接着層102B、有機複屈折膜などの光学的異方性膜104、接着層102C、下部透明基板105である。光学的異方性膜104には、凹凸状の回折格子106が形成されており、その溝を接着層102Bが埋める構造になっている。上部透明基板101及び下部透明基板105は光学的に透明である。光源からの入射光が、偏光分離素子100に下面から入射する。光ディスクからの反射光はλ/4板103によって偏光方向が90°回転し、偏光成分の違いにより回折格子106部分で異常光線が分離され、受光素子で受光され信号検出される。
【0004】
このような偏光分離素子の作製方法としては、これまで、下部透明基板105上に有機複屈折膜などの光学的異方性膜104を貼り付け、その表面にエッチングにより回折格子106を形成し、λ/4板103及び上部透明基板101を貼り合わせた後、図12(ウェハーとしての複数偏光分離素子体107の切削を真上から見た模式図)のようにダイシングによりウェハーとしての複数偏光分離素子体107を一定間隔で縦横に切削することにより、数mm角のチップを作製し、各チップを取り出す方法が特許文献1,2等により提案されている。
【0005】
このように作製される構造の偏光分離素子100は、図13に示すように有機複屈折膜などの光学的異方性膜104が温度・湿度などの環境の変化に対して伸縮し、接着層102Cとの界面(若しくは、接着層102Bとの界面)で剥離することによって劣化することがある。図13は偏光分離素子100の下部(光学的異方性膜104、接着層102C、下部透明基板105)を模式的に示した正面図であり、光学的異方性膜104が接着層102Cとの界面で剥離する様子を誇張して示している。
【0006】
このような偏光分離素子100の劣化要因の一つとして、ダイシング時のチッピングがある。図11では上部透明基板101と接着層102A、接着層102Cと下部透明基板105との間の素子端面におけるチッピングの影響の様子を誇張して模式的に示しており、そのうち、1箇所を点線円内に示している。
【0007】
ダイシング工程では多数個の偏光分離素子分の回折格子が形成された基板(複数偏光分離素子体107)の下面を粘着剤が塗布されたダイシングシート上に貼付し、ダイシング装置テーブルに固定してダイシングブレードによって各偏光分離素子に切断する。その後、各偏光分離素子をダイシングシートから剥離する。
【0008】
基板表面に回折格子が形成されている場合には、回折格子表面の品質向上のために、回折格子に対向する領域のみ粘着性の低下したダイシングシートを利用する発明が開示されている(例えば、特許文献3参照)。切断条件は、透明基板1枚を切断する条件と大きく変わることなく切削でき、特別に考慮すべき点はない。
【0009】
【特許文献1】
特開2000−75130公報
【特許文献2】
特開2001−66428公報
【特許文献3】
特開2001−228335公報
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、図11のように光学的異方性膜104を一対の透明基板101,105で挟んだ素子構造の場合には、回折格子106が形成された光学的異方性膜104がダイシング時にダイシングシートと接着しないという利点がある反面、透明基板101,105同士を貼り合わせた構造のものを切断するため、1回でフルカットすると端面の欠けが大きいという問題が生じる。光学的異方性膜104や接着層102B,102Cのような硬度の小さい材料とガラスのような上部透明基板101、下部透明基板105を1回でフルカットすることは、切削材料によってブレードの種類を選定するダイシング本来の条件に反し、ブレードにかかる負荷が大きい。
【0011】
また、透明基板としてガラスを用い、ガラス切削用ブレードを用いる際にはブレードに接着層などの切削屑が詰まり、ドレッシング、プレカットの工程を頻繁に必要とする。
【0012】
そのため、図14に示すように2段階にわたるダイシングが利用される場合がある。図14はウェハーからなる複数偏光分離素子体107をダイシングブレード108で切削する様子を模式的に示した正面図である。図14(a)に示すように下部透明基板105の上部までをまずカットし、その後、図14(b)に示すように全体をカットする。若しくは、上部透明基板101の下部までをまずカットし、その後、全体をカットする。この方法では、1回のダイシング毎の切削試料にかかる負荷は低減するが、依然として1回目のダイシングにおいて硬度の小さい材料102A,103,102B,104,102Cと硬度の大きい材料101,105とを同時に切削しているため、光学的異方性膜104や接着層102B,102C及び透明基板101,105等の接着部を中心に素子の端部に欠けが生じる。
【0013】
欠けの程度が大きい場合やばらつく場合には偏光分離素子100の品質保持に影響する。また、小さい欠けであっても、接着層102B,102Cや透明基板101,105によって抑制されていた光学的異方性膜104の応力が緩和される引き金となり、前述のように偏光分離素子100が端から剥がれるという問題がある。
【0014】
結局、従来例に示すような偏光分離素子100の構成では、ダイシング方法の工夫によってチッピングによる素子の剥がれを低減することは困難である。従って、チッピングの影響を低減する偏光分離素子の構成の開発が必要となる。即ち、光学的異方性膜を一対の透明基板で挟んだ素子構造の場合にはダイシング後の断面に欠けが生じやすいため、これによる劣化を防ぎ、信頼性を向上させ得る偏光分離素子の構造を開発する必要がある。
【0015】
本発明の目的は、製造後からの時間経過において温度・湿度などの環境の変化に起因する劣化を抑制し得る構造の偏光分離素子を提供することである。
【0016】
本発明の目的は、さらにその信頼性を高めることである。
【0017】
本発明の目的は、このような偏光分離素子の作製を容易にし、材料コストを抑えることである。
【0018】
本発明の目的は、さらに偏光分離度を向上させることである。
【0019】
本発明の目的は、さらに透過率を向上させることである。
【0020】
【課題を解決するための手段】
請求項1記載の発明は、凹凸状の回折格子を有する光学的異方性膜を一対の光学的透明基板で挟んだ構造の偏光分離素子において、前記光学的透明基板が前記回折格子側に対して凸状となるようにその周辺に段差を有し、当該光学的透明基板に接する接着層が前記段差部分にも充填されている。
【0021】
従って、光学的透明基板が回折格子側に対して凸状となるようにその周辺に段差を有し、当該光学的透明基板に接する接着層が段差部分にも充填されていることから、ダイシング等による製造工程を経た場合の光学的透明基板等のチッピングが光学的異方性膜とは積層方向において離れた位置で生ずることとなり、チッピングにより素子が剥がれるなどの影響を低減させることができる上に、当該偏光分離素子の側面の一部にも接着層が連続して形成されることとなり、光学的異方性膜の材料の剥がれが抑制され、従来の偏光分離素子と比較して、素子としての信頼性を大きく向上する。
【0022】
請求項2記載の発明は、請求項1記載の偏光分離素子において、前記段差は、一対の前記光学的透明基板の何れか一方に有する。
【0023】
従って、一対の光学的透明基板の何れか一方にのみ段差を有して当該段差にも接着剤が充填されている素子構造の場合にも、当該段差を有する光学的透明基板側に関して光学的異方性膜に対するチッピングによる剥がれの影響を低減させることができる。
【0024】
請求項3記載の発明は、請求項1記載の偏光分離素子において、前記段差は、一対の前記光学的透明基板の両方に各々有する。
【0025】
従って、一対の光学的透明基板の両方の各々に段差を有して各々の段差に接着剤が充填されている素子構造であるので、ダイシング等による製造工程を経た場合の光学的透明基板等のチッピングが何れも光学的異方性膜とは積層方向において離れた位置で生ずることとなり、チッピングにより素子が剥がれるなどの影響を確実に低減させることができる上に、当該偏光分離素子の側面の一部に接着層が形成されることとなり、光学的異方性膜の材料の剥がれが抑制され、従来の偏光分離素子と比較して、素子としての信頼性を大きく向上する。
【0026】
請求項4記載の発明は、請求項1ないし3の何れか一記載の偏光分離素子において、前記段差は、複数本の溝が形成された透明基板を用い、前記溝を回折格子側に配置させ当該溝部分を含めて接着剤を充填して作製されたウェハー状の複数偏光分離素子体から各偏光分離素子に切り分けるために前記溝部分でダイシングすることにより形成される。
【0027】
従って、製造段階において、当該偏光分離素子を構成する光学的透明基板に或る深さで複数本の溝が形成された透明基板を用い、その溝側を光学的異方性膜に対向させる形で使用し当該溝部分を含めて接着剤を充填して作製されたウェハー状の複数偏光分離素子体から各偏光分離素子に切り分けるために溝部分でダイシングすることにより形成された段差を各々の偏光分離素子が有し、当該溝に充填された接着層がそのまま段差部分に充填された形で残るので、最終的にウェハー基板から各素子に切断された際にはダイシングによる製造工程を経た場合の光学的透明基板等のチッピングが光学的異方性膜とは積層方向において離れた位置で生ずることとなり、チッピングにより素子が剥がれるなどの影響を低減させることができる上に、当該偏光分離素子の側面の一部に接着層が形成されることとなり、光学的異方性膜の材料の剥がれが抑制され、従来の偏光分離素子と比較して、素子としての信頼性を大きく向上する。
【0028】
請求項5記載の発明は、請求項1ないし4の何れか一記載の偏光分離素子において、前記光学的異方性膜は有機複屈折膜である。
【0029】
従って、光学的異方性膜として高分子からなる有機複屈折膜を用いているので、当該偏光分離素子の作製が容易となり、かつ、その材料も低コストで済む。
【0030】
請求項6記載の発明は、請求項1ないし5の何れか一記載の偏光分離素子において、前記光学的異方性膜の常光線方向屈折率と異常光線方向屈折率との何れか一方の屈折率と、当該光学的異方性膜に形成された凹凸状の前記回折格子を埋める樹脂の屈折率とが同一である。
【0031】
従って、回折格子としての性能が向上し、偏光分離度が向上する。
【0032】
請求項7記載の発明は、請求項1ないし6の何れか一記載の偏光分離素子において、一対の前記光学的透明基板のうちの少なくとも一方は、その光入射面若しくは光出射面の少なくとも一方に反射防止膜が施された光学的透明基板である。
【0033】
従って、反射防止膜を光入射面又は光出射面に備えることにより、透過率が向上する。
【0034】
請求項8記載の発明は、請求項1ないし7の何れか一記載の偏光分離素子において、前記光学的透明基板と前記光学的異方性材料とを接着するために用いられる接着剤は、感光性を有するエポキシ系接着剤、アクリル系接着剤又はゴム系接着剤である。
【0035】
従って、接着層として紫外線硬化型樹脂のように感光性を有する樹脂、さらには、その樹脂として光学的異方性膜の応力を緩和させる効果を持つ弾力性の強いエポキシ系接着剤、アクリル系接着剤又はゴム系接着剤を用いることにより、タクトを上昇させ得る上に、当該偏光分離素子内部に発生する応力を緩和させることができ、素子の信頼性が向上する。
【0036】
請求項9記載の発明のホログラムレーザユニットは、発光素子と、受光素子と、前記発光素子から発せられたレーザ光を透過し光ディスク側からの戻り光を前記受光素子側に回折させる請求項1ないし8の何れか一記載の偏光分離素子と、を一体に備える。
【0037】
従って、請求項1ないし8の何れか一記載の偏光分離素子を備えることにより、請求項1ないし8の何れか一記載の発明の作用を奏するホログラムレーザユニットを提供できる。
【0038】
請求項10記載の発明の光ピックアップ装置は、請求項9記載のホログラムレーザユニットと、このホログラムレーザユニットの発光素子から発せられたレーザ光を対物レンズに集光させる対物レンズと、を備える。
【0039】
従って、請求項9記載のホログラムレーザユニット、即ち、請求項1ないし8の何れか一記載の偏光分離素子を備えることにより、請求項1ないし8の何れか一記載の発明の作用を奏する光ピックアップ装置を提供できる。
【0040】
請求項11記載の発明の偏光分離素子の作製方法は、ウェハー状の透明基板に素子サイズに合わせて複数本の溝を形成する工程と、ウェハー状の前記透明基板を前記溝が回折格子側となるように配置させ前記溝部分を含めて接着剤を充填する工程を含み複数の偏光分離素子分を一体に有するウェハー状の複数偏光分離素子体を作製する工程と、このウェハー状の前記複数偏光分離素子体を前記溝部分でダイシングすることにより各偏光分離素子に切り分ける工程と、を有する。
【0041】
従って、製造段階において、各偏光分離素子を構成する光学的透明基板に或る深さで複数本の溝が形成された透明基板を用い、その溝側を光学的異方性膜に対向させる形で使用し当該溝部分を含めて接着剤を充填して作製されたウェハー状の複数偏光分離素子体から各偏光分離素子に切り分けるために溝部分でダイシングすることにより形成された段差を各々の偏光分離素子が有し、当該溝に充填された接着層がそのまま段差部分に充填された形で残るので、最終的にウェハー基板から各素子に切断された際にはダイシングによる製造工程を経た場合の光学的透明基板等のチッピングが光学的異方性膜とは積層方向において離れた位置で生ずることとなり、チッピングにより素子が剥がれるなどの影響を低減させることができる上に、当該偏光分離素子の側面の一部に接着層が形成されることとなり、光学的異方性膜の材料の剥がれが抑制され、従来の偏光分離素子と比較して、素子としての信頼性を大きく向上する。
【0042】
【発明の実施の形態】
本発明の第一の実施の形態を図1ないし図3に基づいて説明する。図1は、本実施の形態の偏光分離素子1の素子構造例を示す原理的な断面図である。本実施の形態の偏光分離素子1の断面構造は、基本的には、図11に示した偏光分離素子100の断面構造と同様であり、上層から順に、上部透明基板2(BK7、厚さ:1.0mm)、接着層3A(アクリル系接着剤、厚さ:0.03mm)、λ/4板4(厚さ:0.1mm)、接着層3B(エポキシ系紫外線硬化型樹脂、屈折率1.58、厚さ:0.04mm)、光学的異方性膜としての有機複屈折膜5(異常光線方向屈折率1.58、常光線方向屈折率1.67、厚さ:0.1mm)、接着層3C(エポキシ系紫外線硬化型樹脂、厚さ:0.03mm)、下部透明基板6(BK7、厚さ:1.0mm)の積層構造として構成されている。
【0043】
有機複屈折膜5には、凹凸状の回折格子7(格子深さ4μm、ピッチ2μm、P偏光透過率約98%、S偏光透過率約1%、1次回折光回折効率約40%)が形成されており、その溝を接着層3Bが埋める構造になっている。一対の光学的透明基板としての上部透明基板2の上面(光出射面)、下部透明基板6の下面(光入射面)には各々反射防止膜(図示せず)が施されている。また、一対の透明基板2,6はその周辺部において、中央部などの厚みと比較して厚みが0.5mm程薄くなっており、回折格子7側に対して凸状となるようにその周辺に段差8を有する構造とされている。また、接着層3A,3Cはこの段差8部分まで充填されることにより、接着層3A,3Cの端部(周辺部)の厚みは、中央部などの厚みと比較して0.5mm程厚くなっている。つまり、本実施の形態の偏光分離素子1は、基本的には偏光分離素子100と同様の素子断面構造を有するが、その素子周辺部構造が異なる構造として作製されている。
【0044】
ここに、本実施の形態の偏光分離素子1の作製では、透明基板2と接着層3A、接着層3Cと透明基板6の間で各々チッピングが生じている。図2は、チッピングによる欠けを誇張して模式的に示しており、その一部を点線による円で示している。チッピングによる欠けは有機複屈折膜5よりも鉛直方向に約0.5mm離れた箇所で生じており、透明基板2,6や接着層3A,3Cの欠けに起因する有機複屈折膜5の剥がれが低減することとなる。また、当該偏光分離素子1の側面に段差8部分に充填された接着層3A,3Cにより高さ約1mmの樹脂層が形成されているため、有機複屈折膜5の応力は緩和され、従来の偏光分離素子100と比較して、素子としての信頼性が非常に高いものとなる。
【0045】
このような偏光分離素子1の作製方法を以下に説明する。
【0046】
(a) 直径100mm、厚さ1.0mmのショット製光学ガラスBK7からなる透明基板(ウェハー状透明基板11)の反射防止膜が施されていない面に、厚さ1.0mmのダイシングブレードを用いてライン間隔5.7mm、切削深さ0.5mmで図2(a)に示すように縦横各12ラインの溝12を切削した。この結果、図2(b)に示すように透明基板11に一定間隔5.7mmで深さ0.5mmの溝12が縦横に各12本作製されたものである。なお、図2(a)はウェハーとしての透明基板11を溝切削する様子を真上から見た状態で示す図であり、図2(b)はダイシングにより得られた透明基板11の正面図である。図2(a)(b)の何れも溝12の本数は簡略化して記している。このような透明基板11を透明基板2,6用として2枚作製した。
【0047】
(b) その後、作製された透明基板11を流水で洗浄し、オーブン中に数時間放置して乾燥させた。
【0048】
(c) 溝12用のラインの切削が行われたウェハー状の透明基板11の切削が行われた面を表面に紫外線硬化型樹脂(接着層3C)を滴下し、一定膜厚に引伸ばした後に、直径80mmの有機複屈折膜5を貼り付け、高圧水銀灯によって紫外線を照射し、接着層を硬化させた。
【0049】
(d) 透明基板11に貼付された有機複屈折膜5表面にフォトリソグラフィー、ドライエッチングによって回折格子7を形成した。
【0050】
(e) 工程(a)で作製された他方の透明基板11を溝12のラインが切削された面に、アクリル系接着剤(接着層3A)を用いてλ/4板4を貼り付けた。
【0051】
(f) 工程(d)で作製された基板11を回折格子7が形成された面を表面にして、平面ステンレス台に固定し、紫外線硬化型樹脂(接着層3B)を滴下した。この樹脂が滴下されている面に、工程(e)で作製された基板11を、λ/4板4を下側にして貼り付けられるように一定圧力を加え、滴下した紫外線硬化型樹脂の膜厚が位置に依らず一定になるように広げた。この状態で保持し、上部から高圧水銀灯によって紫外線を照射し、接着層を硬化させた。
【0052】
(g) 工程(f)により作製されたウェハー状の偏光分離素子(複数偏光分離素子体13)をダイシングテープに固定し、工程(a)で用いたダイシングブレードよりも粒度が小さく、厚さ0.3mmのダイシングブレードを用いてライン間隔5.7mmで、図3に示すように、基板に形成されている切り目の線(ダイシングライン)の中央(溝12の中央)を切削し、各偏光分離素子1に切削した。図3は工程(f)により作製されたウェハー状の偏光分離素子(複数偏光分離素子体13)の断面図である。工程(a)により上部と下部の透明基板11(2,6)に形成された幅約1mmの溝12に接着層3A,3Cの接着剤が埋め込まれている形になっている。各素子1に切り分ける際には、工程(a)で用いたダイシングブレードの厚さよりも小さい厚さのダイシングブレードを用いて切削するため、切削後には透明基板2,6の周囲に段差8が形成され、この段差8部分にまで接着剤が充填されることで接着層3A,3Cによって偏光分離素子1の側面に高さ約1mmの樹脂層が形成される。
【0053】
(h) その後、ダイシングテープ全体に紫外線を照射して、テープから各素子1を剥離した。このようにして断面図が図1となる偏光分離素子1を得た。
【0054】
従来の偏光分離素子100では、チッピングにより素子が剥がれるなど影響は大きかったが、本実施の形態による偏光分離素子1では、チッピングによる欠けは有機複屈折膜5よりも鉛直方向(膜厚方向)に約0.5mm離れた箇所で生じるため、透明基板2,6や接着層3A,3Cの欠けに起因する有機複屈折膜5の剥がれを低減できる。また、段差8部分に充填された接着層3A,3Cにより偏光分離素子1の側面に高さ約1mmの樹脂層が形成されることにより、有機複屈折膜5の剥がれは抑制され、従来の偏光分離素子100と比較して、素子としての信頼性が大きく向上する。
【0055】
本発明の第二の実施の形態を図4及び図5に基づいて説明する。第一の実施の形態で示した部分と同一部分は同一符号を用いて示し、説明も省略する(以降の実施の形態でも同様とする)。図4は、本実施の形態の偏光分離素子20の素子構造例を示す原理的な断面図である。本実施の形態の偏光分離素子20の断面構造は、基本的には、図1に示した偏光分離素子1の断面構造と同様であり、上層から順に、上部透明基板2、接着層3A、λ/4板4、接着層3B、有機複屈折膜5、接着層3C、下部透明基板6の積層構造として構成されているが、図1の場合と異なり、透明基板6側のみがその周辺において、中央などの厚みと比較して厚みが0.5mm程薄くなっており、回折格子7側に対して凸状となるようにその周辺に段差8を有する構造とされている。また、接着層3Cはこの段差8部分まで充填されることにより、接着層3Cの端部(周辺部)の厚みは、中央部などの厚みと比較して0.5mm程厚くなっている。一方、透明基板2、接着層3A側は偏光分離素子100の場合と同様とされている。つまり、本実施の形態の偏光分離素子20も、基本的には偏光分離素子100と同様の素子断面構造を有するが、その素子周辺部構造が異なる構造として作製されている。
【0056】
本実施の形態の偏光分離素子20の作製では、上部透明基板2と接着層3A、接着層3Cと下部透明基板6の間でチッピングが生じている。チッピングによる欠けを模式的に図4では示しており、その一部を点線による円で示している。チッピングによる欠けは有機複屈折膜5よりも鉛直方向に約0.5mm下(下部透明基板6側)の箇所で生じており、下部透明基板6や接着層3Cの欠けに起因する有機複屈折膜5の剥がれが低減されている。また、偏光分離素子20の側面に接着層3Cにより高さ約0.5mmの樹脂層が形成されているため、有機複屈折膜5の応力は緩和され、従来の偏光分離素子100と比較して、素子としての信頼性が高い。
【0057】
本実施の形態の偏光分離素子20の作製方法を以下に示す。
【0058】
まず、第一の実施の形態の工程(a)による透明基板11(下部透明基板6用)を1枚だけ作製し、工程(b)(c)(d)を同様に行なう。
【0059】
(e) 切削などが施されていない透明基板14(上部透明基板2用)を用意し、反射防止膜が施されていない面に、アクリル系接着剤(接着層3A)を用いてλ/4板4を貼り付ける。
【0060】
(f) 工程(d)で作製された基板11を回折格子7が形成された面を表面にして、平面ステンレス台に固定し、紫外線硬化型樹脂(接着層3B)を滴下した。この樹脂が滴下されている面に、工程(e)で作製された基板14のλ/4板4側が平行に貼り付けられるように一定圧力を加え、滴下した紫外線硬化型樹脂の膜厚が位置に依らず一定になるように広げた。この状態で保持し、上部から高圧水銀灯によって紫外線を照射し、接着層を硬化させた。
【0061】
(g) 工程(f)により作製された基板(複数偏光分離素子体15)をダイシングテープに固定した。
【0062】
(h) 上部透明基板ウェハー14には切り目(溝12)は入っていないが、透明であるため、有機複屈折膜5や接着層3A,3B,3Cが無い端部で下部透明基板ウェハー11の切り目(溝12)の箇所を見て、ダイシングブレードの切削する位置を調整した。
【0063】
(i) 工程(a)で用いたダイシングブレードよりも粒度が小さく、厚さ0.3mmのダイシングブレードを用いてライン間隔5.7mmで、図5に示すように、下部透明基板ウェハー11に形成されている切り目の線の中央(溝12の中央)を切削し各素子20に切削した。図5は工程(f)により作製されたウェハー状の偏光分離素子(複数偏光分離素子体15)の断面図である。工程(a)により下部透明基板ウェハ11に形成された幅約1mmの溝12に接着層3Cの接着剤が埋め込まれている形になっていて、工程(a)で用いたダイシングブレードの厚さよりも薄い厚さのダイシングブレードを用いて切削するため、切削後には下部透明基板6の周囲に段差8が形成され、この段差8部分にも接着剤が充填されて偏光分離素子20の下部透明基板6の側面に高さ約0.5mmの樹脂層が形成される。
【0064】
なお、工程(h)及び工程(i)では、作製されたウェハーの上下を逆にし、下部透明基板下面を上面としてダイシングを行ってもよい。
【0065】
(j) その後、ダイシングテープ全体に紫外線を照射して、テープから各素子11を剥離した。このようにして断面図が図4となる偏光分離素子20を得た。
【0066】
従来の偏光分離素子100では、チッピングにより素子が剥がれるなど影響は大きかったが、本実施の形態による偏光分離素子20では、下部透明基板6と接着層3Cの間のチッピングによる欠けは有機複屈折膜5よりも鉛直方向に約0.5mm下(下部透明基板6側)の箇所で生じるため、下部透明基板6や接着層3Cの欠けに起因する有機複屈折膜5の剥がれを低減させることができる。また、偏光分離素子20の側面に高さ約0.5mmの樹脂層が形成されることにより、有機複屈折膜5の剥がれが抑制され、従来の偏光分離素子100と比較して、素子としての信頼性が向上する。
【0067】
本発明の第三の実施の形態を図6及び図7に基づいて説明する。図6は、本実施の形態の偏光分離素子21の素子構造例を示す原理的な断面図である。本実施の形態の偏光分離素子21の断面構造は、基本的には、図1に示した偏光分離素子1の断面構造と同様であるが、上層から順に、上部透明基板2、接着層3B、有機複屈折膜5、接着層3C、下部透明基板6の積層構造として構成されており、接着層3A及びλ/4板4を含まない構造とされている。また、図1の場合と異なり、透明基板2側のみがその周辺部において、中央部などの厚みと比較して厚みが0.5mm程薄くなっており、回折格子7側に対して凸状となるようにその周辺に段差8を有する構造とされている。また、接着層3Bはこの段差8部分まで充填されることにより、接着層3Bの端部(周辺部)の厚みは、中央部などの厚みと比較して0.5mm程厚くなっている。一方、透明基板6、接着層3C側は偏光分離素子100の場合と同様とされている。つまり、本実施の形態の偏光分離素子21も、基本的には偏光分離素子100と同様の素子断面構造を有するが、その素子周辺部構造が異なる構造として作製されている。
【0068】
本実施の形態による偏光分離素子21の作製では、上部透明基板2と接着層3B、接着層3Cと下部透明基板6の間でチッピングが生じている。チッピングによる欠けを模式的に図6では示しており、その一部を点線による円で示している。チッピングによる欠けは有機複屈折膜5よりも鉛直方向に約0.5mm上(上部透明基板2側)の箇所で生じており、上部透明基板2や接着層3Bの欠けに起因する有機複屈折膜5の剥がれを低減されている。また、偏光分離素子21の側面に接着層3Bにより高さ約0.5mmの樹脂層が形成されているため、有機複屈折膜5の応力は緩和され、従来の偏光分離素子100と比較して、素子としての信頼性が高い。
【0069】
本実施の形態の偏光分離素子21の作製方法を以下に示す。
【0070】
まず、第一の実施の形態の工程(a)による透明基板11(上部透明基板2用)を1枚だけ作製し、工程(b)を同様に行う。
【0071】
(c) 切削などが施されていない透明基板16(下部透明基板6用)を用意し、反射膜が施されていない面に紫外線硬化型樹脂(接着層3C)を滴下し、一定膜厚に引伸ばした後に、直径80mmの有機複屈折膜5を貼付し、高圧水銀灯によって紫外線を照射し、接着剤を硬化させた。
【0072】
(d) 透明基板16に貼付された有機複屈折膜5表面にフォトリソグラフィー、ドライエッチングによって回折格子7を形成する。
【0073】
(e) 工程(d)で作製された基板16を回折格子7が形成された面を表面にして、平面ステンレス台に固定し、紫外線硬化型樹脂(接着層3B)を滴下した。この樹脂が滴下されている面に、工程(a)及び工程(b)で作製された基板11を溝12が形成されている面を下面にして貼り合わせ、一定圧力を加え、滴下した紫外線硬化型樹脂の膜厚が位置に依らず一定になるように広げた。この状態で保持し、上部から高圧水銀灯によって紫外線を照射し、接着層を硬化させた。
【0074】
(f) 工程(e)により作製された基板(複数偏光分離素子体17)をダイシングテープに固定した。
【0075】
(g) 工程(a)で用いたダイシングブレードよりも粒度が小さく、厚さ0.3mmのダイシングブレードを用いてライン間隔5.7mmで、図7に示すように、上部透明基板11に形成されている切り目の線の中央(溝12の中央)を切削し各素子21に切削した。図7は工程(e)により作製されたウェハー状の偏光分離素子(複数偏光分離素子体17)の断面図である。工程(a)により上部透明基板11に形成された幅約1mmの溝12に接着層3Aの接着剤が埋め込まれている形になっていて、工程(a)で用いたダイシングブレードの厚さよりも小さい厚さのダイシングブレードを用いて切削するため、切削後には上部透明基板2の周囲に段差8が形成され、この段差8部分にも接着剤が充填されて偏光分離素子21の下部透明基板2の側面に高さ約0.5mmの樹脂層が形成される。
【0076】
(h) その後、ダイシングテープ全体に紫外線を照射して、テープから各素子21を剥離した。
【0077】
このようにして断面図が図6となる偏光分離素子21を得た。従来の偏光分離素子100では、チッピングにより素子が剥がれるなど影響は大きかったが、本実施の形態による偏光分離素子21では、上部透明基板2と接着層3Bの間のチッピングによる欠けは有機複屈折膜5よりも鉛直方向に約0.5mm上の箇所で生じるため、上部透明基板2や接着層3Bの欠けに起因する有機複屈折膜5の剥がれを低減させることができる。また、偏光分離素子21の側面に接着層3Bによる高さ約0.5mmの樹脂層が形成されることにより、有機複屈折膜5の剥がれは抑制され、従来の偏光分離素子100と比較して、素子としての信頼性を向上できる。
【0078】
本発明の第四の実施の形態を図8及び図9に基づいて説明する。図8は、本実施の形態の偏光分離素子31の素子構造例を示す原理的な断面図である。本実施の形態の偏光分離素子31の断面構造は、基本的には、図1に示した偏光分離素子1の断面構造と同様であるが、上層から順に、上部透明基板2、接着層3B、有機複屈折膜5、接着層3C、下部透明基板6の積層構造として構成されており、接着層3A及びλ/4板4を含まない構造とされている。後は、図1の場合と同様であり、一対の透明基板2,6はその周辺部において、中央部などの厚みと比較して厚みが0.5mm程薄くなっており、回折格子7側に対して凸状となるようにその周辺に段差8を有する構造とされている。また、接着層3B,3Cはこの段差8部分まで充填されることにより、接着層3B,3Cの端部(周辺部)の厚みは、中央部などの厚みと比較して0.5mm程厚くなっている。つまり、本実施の形態の偏光分離素子31は、基本的には偏光分離素子100と同様の素子断面構造を有するが、その素子周辺部構造が異なる構造として作製されている。なお、本実施の形態の接着層3B,3Cとしては、弾性力の強い接着剤が用いられている。
【0079】
本実施の形態による偏光分離素子31の作製では、上部透明基板2と接着層3B、接着層3Cと下部透明基板6の間でチッピングが生じている。チッピングによる欠けを模式的に図8では示しており、その一部を点線による円で示している。チッピングによる欠けは有機複屈折膜5よりも鉛直方向に約0.5mm離れた箇所で生じており、透明基板2,6や接着層3B,3Cの欠けに起因する有機複屈折膜5の剥がれを低減されている。また、偏光分離素子31の側面に高さ約1mmの樹脂層が形成されているため、有機複屈折膜5の応力は緩和され、従来の偏光分離素子100と比較して、素子としての信頼性が非常に高い。
【0080】
本実施の形態の偏光分離素子31の作製方法としては、基本的には、第一の実施の形態の偏光分離素子1の作製方法に準ずればよく、工程(e)を省略し、工程(f)において、工程(d)で作製された基板11を回折格子7が形成された面を表面にして、平面ステンレス台に固定し、紫外線硬化型樹脂(接着層3B)を滴下した。この樹脂が滴下されている面に、溝12が形成されている他方の基板11を、溝12側を下側にして貼り付けられるように一定圧力を加え、滴下した紫外線硬化型樹脂の膜厚が位置に依らず一定になるように広げた。この状態で保持し、上部から高圧水銀灯によって紫外線を照射し、接着層を硬化させ、その後、工程(f)〜(h)を行えばよい。このようにして断面図が図8となる偏光分離素子31が作製される。
【0081】
このような偏光分離素子31を用いて図10に示すようなホログラムレーザユニット41及び光ピックアップ装置51を構成することができる。まず、ホログラムレーザユニット41は、半導体レーザ42と受光素子(フォトダイオード)43とが共通のステム44上にマウントされたユニット本体45のキャップ46上の実装位置に水平に位置調整した偏光分離素子31の4隅を接着剤47により固定することにより構成されている。光ピックアップ装置51はこのようなホログラムレーザユニット41とコリメートレンズ52とλ/4板53と対物レンズ54とを組合せることにより構成されている。
【0082】
即ち、半導体レーザ42から発せられた光は、光ディスク55で反射され、対物レンズ54等の光学系を介してホログラムレーザユニット41に返される。この際に、光ディスク55からの反射光は偏光分離素子31の回折格子7で回折光が分離され、ホログラムレーザユニット41の受光素子43にて受光される。本実施の形態の場合の偏光分離素子31はλ/4板4を含まない構成であるため、コリメートレンズ52と対物レンズ54との間にλ/4板53が設置されている。
【0083】
前述した工程(a)〜(h)により作製された偏光分離素子31を用いてこのような光ピックアップ装置51を作製する方法を以下に説明する。
【0084】
(i) 把持ハンドが備えられたホログラム実装装置を用いて、半導体レーザ42と受光素子(フォトダイオード)43が共通のステム44上にマウントされているユニット本体45のキャップ46の実装位置に偏光分離素子31を水平に位置調整した。
【0085】
(j) 偏光分離素子31の側面端部の下4隅にディスペンサを用いて素子固定接着剤47として紫外線硬化型樹脂を塗布し、紫外線を照射して本固定した。
【0086】
(k) 光学調整されたコリメートレンズ52、対物レンズ54を用いて、図10に示すような光ピックアップ光学系を形成した。
【0087】
本実施の形態の光ピックアップ装置51では、レーザ光が照射される偏光分離素子31の信頼性が光ピックアップ装置51全体の信頼性に大きく影響するが、前述した如く信頼性の向上した偏光分離素子31を用いることにより信頼性の高い光ピックアップ装置となる。
【0088】
以上、本発明を説明するために幾つかの実施の形態を説明したが、本発明はこれらの実施の形態に留まることなく応用できることは言うまでもない。例えば、第四の実施の形態においては、λ/4板5を含まない構造の偏光分離素子31を作製し、光ピックアップ装置51を組む際にコリメートレンズ52及び対物レンズ54の間にλ/4板53を挟む構成としたが、第一及び第二の実施の形態において、λ/4板5を含まない構造の偏光分離素子1,11を作製し、光ピックアップ装置51を組む際にコリメートレンズ52及び対物レンズ54の間にλ/4板53を挟む構成としてもよい。また、第一の実施の形態では、接着層3Aとしてアクリル系粘着剤、接着層3B,3Cとしてエポキシ系接着剤を用いたが、感光性であり、弾力性の強い接着剤であれば組成成分は特に限定されるものではない。
【0089】
【発明の効果】
請求項1記載の発明の偏光分離素子によれば、光学的透明基板が回折格子側に対して凸状となるようにその周辺に段差を有し、当該光学的透明基板に接する接着層が段差部分にも充填されているので、ダイシング等による製造工程を経た場合の光学的透明基板等のチッピングが光学的異方性膜とは積層方向において離れた位置で生ずることとなり、チッピングにより素子が剥がれるなどの影響を低減させることができる上に、当該偏光分離素子の側面の一部にも接着層が連続して形成されることとなり、光学的異方性膜の材料の剥がれが抑制され、従来の偏光分離素子と比較して、素子としての信頼性を大きく向上させることができる。
【0090】
請求項2記載の発明によれば、請求項1記載の偏光分離素子において、一対の光学的透明基板の何れか一方にのみ段差を有して当該段差にも接着剤が充填されている素子構造の場合にも、当該段差を有する光学的透明基板側に関して光学的異方性膜に対するチッピングによる剥がれの影響を低減させることができる。
【0091】
請求項3記載の発明によれば、請求項1記載の偏光分離素子において、一対の光学的透明基板の両方の各々に段差を有して各々の段差にも接着剤が充填されている素子構造であるので、ダイシング等による製造工程を経た場合の光学的透明基板等のチッピングが何れも光学的異方性膜とは積層方向において離れた位置で生ずることとなり、チッピングにより素子が剥がれるなどの影響を確実に低減させることができる上に、当該偏光分離素子の側面の一部に接着層が形成されることとなり、光学的異方性膜の材料の剥がれが抑制され、従来の偏光分離素子と比較して、素子としての信頼性を大きく向上させることができる。
【0092】
請求項4記載の発明によれば、請求項1ないし3の何れか一記載の偏光分離素子において、製造段階において、当該偏光分離素子を構成する光学的透明基板に或る深さで複数本の溝が形成された透明基板を用い、その溝側を光学的異方性膜に対向させる形で使用し当該溝部分を含めて接着剤を充填して作製されたウェハー状の複数偏光分離素子体から各偏光分離素子に切り分けるために溝部分でダイシングすることにより形成された段差を各々の偏光分離素子が有し、当該溝に充填された接着層がそのまま段差部分に充填された形で残るので、最終的にウェハー基板から各素子に切断された際にはダイシングによる製造工程を経た場合の光学的透明基板等のチッピングが光学的異方性膜とは積層方向において離れた位置で生ずることとなり、チッピングにより素子が剥がれるなどの影響を低減させることができる上に、当該偏光分離素子の側面の一部に接着層が形成されることとなり、光学的異方性膜の材料の剥がれが抑制され、従来の偏光分離素子と比較して、素子としての信頼性を大きく向上させることができる。
【0093】
請求項5記載の発明によれば、請求項1ないし4の何れか一記載の偏光分離素子において、光学的異方性膜として高分子からなる有機複屈折膜を用いているので、当該偏光分離素子の作製を容易にすることができ、かつ、材料的にも低コスト化を図ることができる。
【0094】
請求項6記載の発明によれば、請求項1ないし5の何れか一記載の偏光分離素子において、回折格子としての性能を向上させ、偏光分離度を向上させることができる。
【0095】
請求項7記載の発明によれば、請求項1ないし6の何れか一記載の偏光分離素子において、反射防止膜を光入射面又は光出射面に備えるので、透過率を向上させることができる。
【0096】
請求項8記載の発明によれば、請求項1ないし7の何れか一記載の偏光分離素子において、接着層として紫外線硬化型樹脂のように感光性を有する樹脂、さらには、その樹脂として光学的異方性膜の応力を緩和させる効果を持つ弾力性の強いエポキシ系接着剤、アクリル系接着剤又はゴム系接着剤を用いることにより、タクトを上昇させ得る上に、当該偏光分離素子内部に発生する応力を緩和させることができ、素子の信頼性が向上する。
【0097】
請求項9記載の発明によれば、請求項1ないし8の何れか一記載の偏光分離素子を備えることにより、請求項1ないし8の何れか一記載の発明の効果を奏するホログラムレーザユニットを提供することができる。
【0098】
請求項10記載の発明によれば、請求項9記載のホログラムレーザユニット、即ち、請求項1ないし8の何れか一記載の偏光分離素子を備えることにより、請求項1ないし8の何れか一記載の発明の効果を奏する光ピックアップ装置を提供することができる。
【0099】
請求項11記載の発明によれば、製造段階において、各偏光分離素子を構成する光学的透明基板に或る深さで複数本の溝が形成された透明基板を用い、その溝側を光学的異方性膜に対向させる形で使用し当該溝部分を含めて接着剤を充填して作製されたウェハー状の複数偏光分離素子体から各偏光分離素子に切り分けるために溝部分でダイシングすることにより形成された段差を各々の偏光分離素子が有し、当該溝に充填された接着層がそのまま段差部分に充填された形で残るので、最終的にウェハー基板から各素子に切断された際にはダイシングによる製造工程を経た場合の光学的透明基板等のチッピングが光学的異方性膜とは積層方向において離れた位置で生ずることとなり、チッピングにより素子が剥がれるなどの影響を低減させることができる上に、当該偏光分離素子の側面の一部に接着層が形成されることとなり、光学的異方性膜の材料の剥がれが抑制され、従来の偏光分離素子と比較して、素子としての信頼性を大きく向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第一の実施の形態の偏光分離素子の素子構造例を示す原理的な断面図である。
【図2】(a)はウェハーとしての透明基板を溝切削する様子を真上から見た状態で示す平面図、(b)はダイシングにより得られた透明基板の正面図である。
【図3】複数偏光分離素子体を示す断面図である。
【図4】本発明の第二の実施の形態の偏光分離素子の素子構造例を示す原理的な断面図である。
【図5】複数偏光分離素子体を示す断面図である。
【図6】本発明の第三の実施の形態の偏光分離素子の素子構造例を示す原理的な断面図である。
【図7】複数偏光分離素子体を示す断面図である。
【図8】本発明の第四の実施の形態の偏光分離素子の素子構造例を示す原理的な断面図である。
【図9】複数偏光分離素子体を示す断面図である。
【図10】光ピックアップ装置の構成例を示す光学系構成図である。
【図11】従来の偏光分離素子の素子構造例を示す原理的な断面図である。
【図12】そのダイシング工程を示す平面図である。
【図13】界面での剥離の様子を誇張して示す正面図である。
【図14】ダイシング処理を示す工程図である。
【符号の説明】
1 偏光分離素子
2 光学的透明基板
3 接着層
5 有機複屈折膜、光学的異方性膜
6 光学的透明基板
7 回折格子
8 段差
11
11 透明基板
12 溝
20,21,31 偏光分離素子
41 ホログラムレーザユニット
42 発光素子
43 受光素子
54 対物レンズ
Claims (11)
- 凹凸状の回折格子を有する光学的異方性膜を一対の光学的透明基板で挟んだ構造の偏光分離素子において、
前記光学的透明基板が前記回折格子側に対して凸状となるようにその周辺に段差を有し、当該光学的透明基板に接する接着層が前記段差部分にも充填されていることを特徴とする偏光分離素子。 - 前記段差は、一対の前記光学的透明基板の何れか一方に有することを特徴とする請求項1記載の偏光分離素子。
- 前記段差は、一対の前記光学的透明基板の両方に各々有することを特徴とする請求項1記載の偏光分離素子。
- 前記段差は、複数本の溝が形成された透明基板を用い、前記溝を回折格子側に配置させ当該溝部分を含めて接着剤を充填して作製されたウェハー状の複数偏光分離素子体から各偏光分離素子に切り分けるために前記溝部分でダイシングすることにより形成されることを特徴とする請求項1ないし3の何れか一記載の偏光分離素子。
- 前記光学的異方性膜は有機複屈折膜であることを特徴とする請求項1ないし4の何れか一記載の偏光分離素子。
- 前記光学的異方性膜の常光線方向屈折率と異常光線方向屈折率との何れか一方の屈折率と、当該光学的異方性膜に形成された凹凸状の前記回折格子を埋める樹脂の屈折率とが同一であることを特徴とする請求項1ないし5の何れか一記載の偏光分離素子。
- 一対の前記光学的透明基板のうちの少なくとも一方は、その光入射面若しくは光出射面の少なくとも一方に反射防止膜が施された光学的透明基板であることを特徴とする請求項1ないし6の何れか一記載の偏光分離素子。
- 前記光学的透明基板と前記光学的異方性材料とを接着するために用いられる接着剤は、感光性を有するエポキシ系接着剤、アクリル系接着剤又はゴム系接着剤であることを特徴とする請求項1ないし7の何れか一記載の偏光分離素子。
- 発光素子と、
受光素子と、
前記発光素子から発せられたレーザ光を透過し光ディスク側からの戻り光を前記受光素子側に回折させる請求項1ないし8の何れか一記載の偏光分離素子と、を一体に備えることを特徴とするホログラムレーザユニット。 - 請求項9記載のホログラムレーザユニットと、
このホログラムレーザユニットの発光素子から発せられたレーザ光を対物レンズに集光させる対物レンズと、
を備えることを特徴とする光ピックアップ装置。 - ウェハー状の透明基板に素子サイズに合わせて複数本の溝を形成する工程と、
ウェハー状の前記透明基板を前記溝が回折格子側となるように配置させ前記溝部分を含めて接着剤を充填する工程を含み複数の偏光分離素子分を一体に有するウェハー状の複数偏光分離素子体を作製する工程と、
このウェハー状の前記複数偏光分離素子体を前記溝部分でダイシングすることにより各偏光分離素子に切り分ける工程と、
を有する偏光分離素子の作製方法。
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-
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