JP2004142161A - 表面防汚性複合樹脂フィルム、表面防汚性物品、化粧板 - Google Patents
表面防汚性複合樹脂フィルム、表面防汚性物品、化粧板 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004142161A JP2004142161A JP2002307498A JP2002307498A JP2004142161A JP 2004142161 A JP2004142161 A JP 2004142161A JP 2002307498 A JP2002307498 A JP 2002307498A JP 2002307498 A JP2002307498 A JP 2002307498A JP 2004142161 A JP2004142161 A JP 2004142161A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- composite resin
- fine particles
- resin film
- coating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 title claims abstract description 57
- 239000000805 composite resin Substances 0.000 title claims abstract description 53
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 155
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 152
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 48
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 48
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 40
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims abstract description 30
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims abstract description 11
- 239000002352 surface water Substances 0.000 claims abstract description 11
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 158
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 114
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 72
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 64
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 25
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 24
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 24
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 19
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 18
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 13
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 claims description 12
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 8
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 8
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 8
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 claims description 3
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims description 3
- 230000004927 fusion Effects 0.000 claims description 2
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 claims 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 abstract description 33
- 238000010586 diagram Methods 0.000 abstract 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 159
- -1 1 Chemical class 0.000 description 83
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 72
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 70
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 54
- 239000002585 base Substances 0.000 description 37
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 23
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 18
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 18
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 18
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 18
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 18
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 17
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 16
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 16
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 description 16
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 16
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 16
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 15
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 15
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 15
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 15
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 15
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 15
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 14
- 239000000047 product Substances 0.000 description 13
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical class OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 11
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 11
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 10
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 9
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 7
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 6
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 6
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 6
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 6
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 5
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 5
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 5
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 5
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 5
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 4
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 4
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N acetic acid Substances CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LJCFOYOSGPHIOO-UHFFFAOYSA-N antimony pentoxide Inorganic materials O=[Sb](=O)O[Sb](=O)=O LJCFOYOSGPHIOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GHPGOEFPKIHBNM-UHFFFAOYSA-N antimony(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Sb+3].[Sb+3] GHPGOEFPKIHBNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 4
- 239000007771 core particle Substances 0.000 description 4
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 4
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 4
- 238000010248 power generation Methods 0.000 description 4
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 4
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CMUYENAAZXDZQM-UHFFFAOYSA-N acetic acid;nonane Chemical compound CC(O)=O.CCCCCCCCC CMUYENAAZXDZQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 3
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 229940028356 diethylene glycol monobutyl ether Drugs 0.000 description 3
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 3
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 3
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 3
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 3
- WHIVNJATOVLWBW-UHFFFAOYSA-N n-butan-2-ylidenehydroxylamine Chemical compound CCC(C)=NO WHIVNJATOVLWBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 3
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 3
- JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N oxolane-2,4-dione Chemical compound O=C1COC(=O)C1 JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 3
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 3
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N Glycolic acid Chemical compound OCC(O)=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 229910000422 cerium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 2
- 229910001512 metal fluoride Inorganic materials 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JKQOBWVOAYFWKG-UHFFFAOYSA-N molybdenum trioxide Chemical compound O=[Mo](=O)=O JKQOBWVOAYFWKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N tetraphosphorus decaoxide Chemical compound O1P(O2)(=O)OP3(=O)OP1(=O)OP2(=O)O3 DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N (E)-8-Octadecenoic acid Natural products CCCCCCCCCC=CCCCCCCC(O)=O WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 1
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 2-Methylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 20:1omega9c fatty acid Natural products CCCCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 5-(5-carboxythiophen-2-yl)thiophene-2-carboxylic acid Chemical compound S1C(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)S1 DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 9-Heptadecensaeure Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910011255 B2O3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005642 Oleic acid Substances 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N Oleic acid Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003087 TiOx Inorganic materials 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910001860 alkaline earth metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001634 calcium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 1
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 description 1
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003575 carbonaceous material Substances 0.000 description 1
- 239000004568 cement Substances 0.000 description 1
- CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N ceric oxide Chemical compound O=[Ce]=O CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000421 cerium(III) oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N chloroacetic acid Chemical compound OC(=O)CCl FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940106681 chloroacetic acid Drugs 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013065 commercial product Substances 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N diboron trioxide Chemical compound O=BOB=O JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- OREAFAJWWJHCOT-UHFFFAOYSA-N dimethylmalonic acid Chemical compound OC(=O)C(C)(C)C(O)=O OREAFAJWWJHCOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000002296 dynamic light scattering Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N ethyl acetoacetate Chemical compound CCOC(=O)CC(C)=O XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000003925 fat Substances 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N isooleic acid Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCCC(O)=O QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N oleic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M sodium fluoride Inorganic materials [F-].[Na+] PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010345 tape casting Methods 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- HLLICFJUWSZHRJ-UHFFFAOYSA-N tioxidazole Chemical compound CCCOC1=CC=C2N=C(NC(=O)OC)SC2=C1 HLLICFJUWSZHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAHWFTWPSFSFMS-UHFFFAOYSA-N trihydroxysilane Chemical compound O[SiH](O)O DAHWFTWPSFSFMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004034 viscosity adjusting agent Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
- Finishing Walls (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
【解決手段】少なくとも1μm以上の厚みを有する樹脂フィルムをベースフィルムとし、ベースフィルムの表面に1層以上の層を設けて形成される複合樹脂フィルムに関する。最表面の層が、シリコーン化合物の縮合物をバインダー成分とし、且つ表面水滴接触角が40°以下のコーティング乾燥被膜から形成されている。
【選択図】 なし
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、表面防汚性複合樹脂フィルムに関するものであり、さらにこの表面防汚性複合樹脂フィルムを用いた表面防汚性物品及び化粧板に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
光半導体(いわゆる光触媒)を含有するコーティング材の硬化被膜が、表面で超親水性を発現し、屋外構造物の汚れ防止、特に透明部材の光透過率あるいは光反射率の維持に有効であることが知られている。
【0003】
しかしながら、代表的な光半導体物質であるTiO2は高屈折率材料であるため、その硬化被膜は高屈折膜になり、透明部材にこのような硬化被膜を形成すると、透明部材が元々有していた透過率よりも、片面コーティングで1%〜5%程度透過率が低くなり、屋外での汚染物質に対する防汚染性効果で透過率を維持したとしても、光半導体を含有させることによって初期の透過率が低下している分だけ不利になり、採用に当たっては、長期的な透過率データを必要とする。また、光半導体は有機物を分解する作用を有するため、ポリカーボネイト、アクリル樹脂、フッ素樹脂等の有機基材に直接コーティングすると、有機基材が光半導体の作用で分解・白化するおそれがある。そのため、有機基材と光半導体を含有するコーティング被膜との間にシリコーン樹脂からなるバリアー層を設けることが必要となり、この結果、さらに透過率を低下させてしまうことになるものであった。同様のことは、反射膜の付いた反射板でも、初期反射率を低下させてしまうということで問題になるものであった。
【0004】
一方、透明部材の表面に高屈折膜と低屈折膜を積層して、例えばディスプレイ表面の反射防止を行なうことが一般的に行なわれているが、現在はディスプレイの平面化に伴い、PETフィルムに代表される透明有機フィルムに液体コーティング材を塗布して高屈折層と低屈折層を積層した反射防止フィルムが用いられている。この反射防止フィルムにおける反射防止能は、同時に透過率アップを意味している。
【0005】
しかし、この反射防止フィルムにおいて、最表面の低屈折層は、一般的にはフッ素樹脂系材料からなるが、コーティング法で形成されるフッ素樹脂系材料であるので、フッ素樹脂フィルムで知られるような屋外30年耐久性は有していない。そのため、上記のようなディスプレイ用の反射防止フィルムを屋外で使用することはできないという問題があった。また、フッ素樹脂材料は表面が通常撥水性であるので、屋外で汚れが表面に蓄積しやすく、この汚れで透過率あるいは反射率が短期間で低下する傾向にあるという問題もあった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上記の問題点を解決するものであり、表面の親水性による耐汚染性機能によって、光透過率あるいは光反射率を屋外で長期間に亘って維持することができる表面防汚性複合樹脂フィルムを提供することを目的とするものであり、また発電効率などの機能を向上させることができる表面防汚性物品を提供することを目的とするものであり、さらに表面を美麗に維持することができる化粧板を提供することを目的とするものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明の請求項1に係る表面防汚性複合樹脂フィルムは、少なくとも1μm以上の厚みを有する樹脂フィルムをベースフィルムとし、ベースフィルムの表面に1層以上の層を設けて形成される複合樹脂フィルムにおいて、最表面の層が、シリコーン化合物の縮合物をバインダー成分とし、且つ表面水滴接触角が40°以下のコーティング乾燥被膜から形成されていることを特徴とするものである。
【0008】
また請求項2の発明は、請求項1において、上記シリコーン化合物の縮合物が、4官能アルコキシシランの加水分解物及び/又は部分加水分解物の縮合物であることを特徴とするものである。
【0009】
また請求項3の発明は、請求項1又は2において、上記乾燥被膜に、シリカ微粒子を含有することを特徴とするものである。
【0010】
また請求項4の発明は、請求項3において、シリカ微粒子が外殻を有する中空状シリカ微粒子であることを特徴とするものである。
【0011】
また請求項5の発明は、請求項1乃至4のいずれかにおいて、上記乾燥被膜に、フッ化マグネシウム微粒子を含有することを特徴とするものである。。
【0012】
また請求項6の発明は、請求項1乃至5のいずれかにおいて、上記乾燥被膜に、フッ素系多孔質微粒子を含有することを特徴とするものである。
【0013】
また請求項7の発明は、請求項1乃至6のいずれかにおいて、上記乾燥被膜に、屈折率1.50以上の金属酸化物微粒子を含有することを特徴とするものである。
【0014】
また請求項8の発明は、請求項7において、上記金属酸化物微粒子が導電性金属酸化物であることを特徴とするものである。
【0015】
また請求項9の発明は、請求項7において、上記金属酸化物微粒子が光半導体であることを特徴とするものである。
【0016】
また請求項10の発明は、請求項1乃至9のいずれかにおいて、上記ベースフィルムと最表面の乾燥被膜の層との間に、少なくとも1層の透明樹脂層が形成されていることを特徴とするものである。
【0017】
また請求項11の発明は、請求項10において、上記透明樹脂層が、透明樹脂フィルムから形成されていることを特徴とするものである。
【0018】
また請求項12の発明は、請求項10において、上記透明樹脂層が、コーティングによる乾燥被膜から形成されていることを特徴とするものである。
【0019】
また請求項13の発明は、請求項10乃至12のいずれかにおいて、上記透明樹脂層が、光拡散手段を有して形成されていることを特徴とするものである。
【0020】
また請求項14の発明は、請求項13において、上記光拡散手段が、紫外線吸収機能を有する無機粒子で形成されていることを特徴とするものである。
【0021】
また請求項15の発明は、請求項1乃至14のいずれかにおいて、上記最表面の層を形成する乾燥被膜の屈折率が、直下の層の屈折率よりも0.3以上小さいことを特徴とするものである。
【0022】
また請求項16の発明は、請求項1乃至14のいずれかにおいて、上記最表面の層を形成する乾燥被膜の屈折率が、直下の層の屈折率よりも0.3以上大きいことを特徴とするものである。
【0023】
また請求項17の発明は、請求項1乃至16のいずれかにおいて、上記ベースフィルムの裏面に、着色印刷層が形成されていることを特徴とするものである。
【0024】
本発明の請求項18に係る表面防汚性物品は、上記請求項1乃至16のいずれかに記載の表面防汚性複合樹脂フィルムが、熱融着、接着剤による接着、粘着剤による接着から選ばれる手段で、物品の表面に貼着されて成ることを特徴とするものである。
【0025】
また請求項19の発明は、請求項18において、上記物品が太陽電池モジュールであることを特徴とするものである。
【0026】
本発明の請求項20に係る化粧板は、上記請求項17に記載の表面防汚性複合樹脂フィルムが、板材の表面に貼着されて成ることを特徴とするものである。
【0027】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を実施の実施の形態を説明する。
【0028】
本発明に係る表面防汚性複合樹脂フィルムは、樹脂フィルムからなるベースフィルムの最表面に、シリコーン化合物の縮合物をバインダー成分とするコーティング材組成物をコーティングして、乾燥被膜を形成することによって得られるものである。
【0029】
本発明に使用されるシリコーン化合物(マトリクス形成材料)の縮合物からなる乾燥被膜において、マトリクス形成材料は多孔質のマトリクス(バインダー)を形成する性質を有するものである。特に透過率向上用途では、多孔質率は高い方が好ましい。ここで、この多孔質のマトリクスを形成する性質とは、マトリクス形成材料を、それが溶解し得る適切な液体溶媒(例えば水、有機溶媒等)に溶解させて得られる液体混合物を、基材に塗布して形成される塗膜を乾燥して得られる被膜としてのフィルム状物が微細な空隙を含む多孔質体となる性質を意味する。空隙の形態は特に限定されるものではなく、独立気泡のように独立していても、あるいは連続気泡のようにつながっていてもよい。空隙の形状も特に限定されるものではなく、例えば球形であっても、あるいは細長い孔状であってもよい。コーティング材組成物を塗布して乾燥することによって形成される被膜において、マトリクス材料以外に微粒子が存在する場合、マトリクスと微粒子との間の境界部に空隙が存在するときや、微粒子同士の間の境界部に空隙が存在するときには、これらの空隙もマトリクスの多孔質を構成する微細な空隙と実質的に同じである。
【0030】
このように、コーティング材組成物を用いて形成された乾燥被膜は多孔質のマトリクスからなるものであり、バインダーとして作用するマトリクスがその中に微細な空隙を多数含む状態であるので、マトリクスの見かけ比重がマトリクスを構成する材料自体(即ち、空隙が実質的に存在しない場合の材料)の真比重より小さい。使用用途が透過率向上の場合は、マトリクスの真比重に対するマトリクスの見かけ比重の割合(見かけ比重/真比重)は、好ましくは0.90以下、より好ましくは0.75以下である。尚、この割合は、塗膜が上記の微粒子の存在に起因する空隙を含む場合、このような空隙の体積をも含んで算出される値である。またマトリクス内の空隙は、通常、被膜の周辺気体を含む。また、使用用途が金属反射層等に直接コーティングして、反射率向上を目的とする場合は、マトリクスの真比重に対するマトリクスの見かけ比重の割合(見かけ比重/真比重)は、好ましくは0.80以上、より好ましくは0.90以上である。
【0031】
上述の塗膜の乾燥に際しては、マトリクス形成材料がマトリクスに転換される間、マトリクス形成材料は化学的に変化してもよく、あるいは化学的に変化しなくてもよい。そのような化学的な変化は、例えば加水分解反応およびその後の縮合反応等に起因するマトリクス形成材料の変化であってもよい。化学的に変化しない場合であっても、マトリクス形成材料は、液体に溶解した状態から多孔質状態に構造が変化する。ここで乾燥とは、コーティング材組成物を塗布することによって形成した塗膜の液体成分が実質的に残らないようにして、固体の被膜が残るようにする処理であり、この乾燥に際しては、加熱してもよい。
【0032】
尚、マトリクス形成材料が乾燥に際して多孔質のマトリクスを転換するメカニズムは、いずれの適当なものであってもよい。例えば、マトリクス形成材料を含む液体混合物の塗膜を乾燥してフィルム状物を得る過程において、マトリクス形成材料の化学的変化によってフィルム状物自体が多孔質構造を有するメカニズムを採用できる。具体的には、マトリクス形成材料が架橋および/または縮合することに起因して多孔質構造を固有的に有するマトリクスを形成できる。また、別の態様では、マトリクス形成材料を含む液体混合物の塗膜から液体成分を除去した後に、液体成分が予め占めていた領域がそのまま空隙として残るメカニズムを採用することができる。更に、マトリクス形成材料の一部が、比較的熱分解し易い官能基を含み、乾燥被膜形成後に熱乾燥することにより官能基が熱分解され、官能基が予め占めていた領域がそのまま空隙として残るメカニズムも採用できる。更には、マトリクス形成材料の液状での分子構造を制御する方法(例えば3次元架橋/2次元架橋の比率、分子量等の制御)を採用することができる。2次元架橋が多いほど、あるいは分子量が小さいほど乾燥被膜はより多孔質になる傾向にある。
【0033】
そして本発明において、マトリクス形成材料によって形成されるマトリクスは、耐候性の観点からシリコーン系樹脂(シリカ樹脂)等が必要である。
【0034】
本発明で用いるコーティング材組成物の1つの態様において、マトリクス形成材料として使用できるシリコーン化合物は、シロキサン結合を有する珪素化合物(これを「珪素化合物(1)」と呼ぶ)であるか、あるいはフィルム状物を形成する過程において、シロキサン結合を新たにもたらし得る珪素化合物(これを「珪素化合物(2)」と呼ぶ)である。後者の珪素化合物(2)は、既にシロキサン結合を有していてもよい。これらの珪素化合物には、有機珪素化合物(即ち、有機基を有する珪素化合物)、ハロゲン化珪素化合物(例えば、塩素、フッ素等のハロゲンを含む化合物)および有機ハロゲン化珪素化合物(即ち、有機基およびハロゲンを含む化合物)等が含まれる。
【0035】
コーティング材組成物のマトリクス形成材料が、シロキサン結合を新たにもたらし得る珪素化合物(2)である場合、加水分解可能置換基および水酸基から選択される基の少なくとも2つが、同じまたは異なる珪素原子に結合している珪素化合物であるのが好ましい。これらの少なくとも2つの基は、同じであっても、あるいは異なってもよい。加水分解可能置換基は水の存在下で加水分解して水酸基を有する化合物(シラノール化合物)となる。従って、加水分解可能置換基および水酸基から選択される基の少なくとも2つが同じまたは異なる珪素原子に結合している珪素化合物は、水の存在下、加水分解可能置換基および水酸基から選択される基の少なくとも2つが同じまたは異なる珪素原子に結合している同じ種類または別の種類の珪素化合物と縮合して新たにシロキサン結合をもたらす。
【0036】
本発明で用いるコーティング材組成物の他の1つの態様において、マトリクス形成材料として使用することができるシリコーン化合物は、次の一般式(1):
【0037】
【化1】
【0038】
(式中、置換基X1、X2、X3およびX4は水素、ハロゲン(例えば塩素、フッ素等)、1価の炭化水素基、OR(Rは1価の炭化水素基)で表されるアルコキシ基およびOHで表される水酸基から選択される基であり、これらは相互に異なっても、部分的に異なっても、あるいは全部同じであってもよく、これらの少なくとも2つは、それぞれアルコキシ基および水酸基から選択される基である。)
で表されるシラン化合物である(これを「シラン化合物(1)」と呼ぶ)。このシラン化合物(1)は、上記珪素化合物(2)に相当し、少なくとも2つ、好ましくは3つ、より好ましくは4つの同じまたは異なるアルコキシル基および/もしくは水酸基を有する。マトリクス形成材料は、このシラン化合物(1)の少なくとも1つのアルコキシル基が加水分解されているものであってもよい。
【0039】
さらに別の態様では、マトリクス形成材料としてのシリコーン化合物は、上記シラン化合物(1)の1種またはそれ以上が、加水分解可能な場合には加水分解した後、縮合することによって生成するシロキサン化合物またはポリシロキサン化合物(このシロキサン化合物とポリシロキサン化合物を総称して「(ポリ)シロキサン化合物(1)」と呼ぶ)である。尚、ポリシロキサン化合物とは2以上のシロキサン結合を有する化合物を意味する。この(ポリ)シロキサン化合物(1)は、上記珪素化合物(1)に相当する。また、この(ポリ)シロキサン化合物(1)は、少なくとも2つのアルコキシル基および/または水酸基を置換基として有するのが好ましく(このような(ポリ)シロキサン化合物を「(ポリ)シロキサン化合物(2)」と呼ぶ)、その場合、この(ポリ)シロキサン化合物(2)は、シロキサン結合を既に有するが、上記珪素化合物(2)に相当する。
【0040】
尚、上記のシラン化合物(1)および(ポリ)シロキサン化合物(2)は、アルコキシル基を有する場合、アルコキシル基が加水分解して生成する水酸基を有することができる。その結果、これらのシラン化合物(1)および(ポリ)シロキサン化合物(2)も、コーティング材組成物を塗布して乾燥するに際して、少なくとも部分的に縮合して架橋し、多孔質のマトリクスを形成できる。従って、この縮合に際しては、生成する全ての水酸基が縮合に関与するとは限らず、一般的には、一部分の水酸基は、そのままの状態で残る。尚、(ポリ)シロキサン化合物(1)は、アルコキシ基および/または水酸基の置換基を有さない場合であっても、コーティング材組成物を塗布して乾燥するに際して、多孔質のマトリクスを形成できる。
【0041】
このように、シラン化合物(1)および(ポリ)シロキサン化合物(2)は、架橋して多孔質のマトリクスを形成するが、置換基の水酸基、または置換基がアルコキシ基の場合はそれが加水分解して生成する水酸基は、珪素化合物同士の縮合による架橋をもたらすと共に、架橋に関与せずに残存するものは、親水性基として機能してコーティング基材等への密着性を向上させることができるものであり、また被膜が帯電し難くなるものである。
【0042】
このようなシラン化合物(1)はその分子量が40〜300であるのが好ましく、100〜200であるのがより好ましい。また、(ポリ)シロキサン化合物(1)および(ポリ)シロキサン化合物(2)は、乾燥被膜の機械的強度が要求される場合は、その重量平均分子量が約200〜2000であるのが好ましく、600〜1200であるのがより好ましい。この範囲の分子量であると、乾燥被膜の強度がアップしかつマトリクスの多孔質率がアップし易い傾向にある。また、(ポリ)シロキサン化合物(1)および(ポリ)シロキサン化合物(2)は、乾燥被膜に機械的強度を要求されない場合は、その重量平均分子量が約2000以上であるのが好ましく、5000以上であるのがより好ましい。この範囲の分子量であると、より加水分解反応が進むため、未反応のアルコキシ基がほとんど存在せず、乾燥被膜はより低屈折率になりやすい傾向にある。
【0043】
本発明で用いるコーティング材組成物の好ましい1つの態様において、マトリクス形成材料として使用することのできるシリコーン化合物は、SiX4(Xは加水分解可能な1価の有機置換基、例えばアルコキシル基)で表される4官能加水分解可能オルガノシランである。この4官能加水分解可能オルガノシランは、上記のシラン化合物(1)に含まれるものである。
【0044】
本発明で用いるコーティング材組成物の好ましいもう1つの態様において、マトリクス形成材料として使用することのできるシリコーン化合物は、SiX4(Xは加水分解可能な有機置換基、例えばアルコキシ基)で表される4官能加水分解可能オルガノシランの部分加水分解物及び/又は完全加水分解物が縮合して生成するシロキサン結合を有する化合物、好ましくは複数のシロキサン結合を有する樹脂(この化合物および樹脂を総称して「シリコーンレジン」と呼ぶ)である。このようなシリコーンレジンは上記の(ポリ)シロキサン化合物(1)に含まれるが、シリコーンレジンが、珪素に結合した水酸基または加水分解可能な有機置換基を有する縮合性である場合には、(ポリ)シロキサン化合物(2)に相当する。尚、完全加水分解物とは加水分解可能な有機置換基が全て加水分解したもの、即ち、テトラヒドロキシシラン(Si(OH)4)を意味し、部分加水分解物とはそれ以外の加水分解物(即ち、ジまたはトリヒドロキシシラン)を意味する。このようなシリコーンレジンについても、重量平均分子量は約200〜2000であるのが好ましく、600〜1200であるのがより好ましい。
【0045】
上述のようなシラン化合物(1)、(ポリ)シロキサン化合物(1)、(ポリ)シロキサン化合物(2)、4官能加水分解可能オルガノシランならびにシリコーンレジンは、それによって形成されるフィルム状物(乾燥被膜)が親水性となるものが好ましく、例えば、石英ガラス基材の表面に膜厚100nmとなるように塗布して乾燥し、100℃における熱処理によって得られる被膜の表面水滴接触角が40°以下、好ましくは20°以下、より好ましくは10°以下となるようなフィルム状物を形成できるのが好ましい。例えばシリコーンレジンは、SiX4(X=OR、Rは1価の炭化水素基)で表されるテトラアルコキシシランを、モル比[H2O]/[OR]が1.0以上、例えば1.0〜5.0、好ましくは1.0〜3.0となる量の水の存在下、ならびに好ましくは酸又はアルカリ触媒存在下で、加水分解して得られた部分加水分解物及び/又は完全加水分解物を用いて得ることができる。特に酸触媒存在下で、加水分解して得られる加水分解物及び/又は完全加水分解物は、2次元架橋構造を形成しやすいため、乾燥被膜の多孔質率アップになる傾向がある。また1.0未満のモル比では未反応アルコキシル基の量が多くなり、被膜の屈折率を高くするといった悪影響を及ぼすおそれがあり、逆に、5.0より大きい場合には縮合反応が極端に速くに進み、コーティング材組成物のゲル化を招くおそれがある。この場合、加水分解は、いずれの適当な条件で実施してもよい。例えば、5℃〜30℃の温度で10分〜2時間、これらの材料を撹拌して混合することによって加水分解できる。また、分子量を2000以上にして、マトリクス材料自身の屈折率をより小さくするためには、得られた加水分解物を、例えば40〜100℃で2〜100時間反応させて所望のシリコーンレジンを得ることができる。
【0046】
上記のように分子量2000以上のシリコーンレジンを得るに際して、SiX4と水と希釈シンナー及び他成分合計量に対して、5重量%以上20重量%以下のSiO2換算の固形分(SiX4に含まれるSiが全てSiO2に変換されると仮定した場合のSiO2の量)となるような量のSiX4を用いて加水分解反応して得られる部分加水分解物及び/又は加水分解物を用いるのが特に好ましい。SiX4の量が5重量%未満では、上記の量の水を配合しても未反応アルコキシル基の量が多くなる場合があり、マトリクス材料の屈折率を高くするといった悪影響を及ぼすおそれがあり、逆に、20重量%より大きくなると、上記の量の水を配合してもコーティング材組成物のゲル化を招くおそれがある。
【0047】
本発明で用いるコーティング材組成物には、バインダー成分の他に各種の微粒子を含有させることができる。この微粒子としては、シリカ系微粒子を用いるのが好ましく、特に、使用用途が透過率向上の場合は、中空シリカ微粒子を用いるのが好ましい。ここで、中空微粒子とは、外殻によって包囲された空洞部を有する粒子である。中空微粒子自体の屈折率は、1.20〜1.40であるのが好ましく1.20〜1.35であるのがより好ましい。尚、中空微粒子の屈折率は、特開2001−233611号公報に開示されている方法によって測定できる。すなわち、標準屈折液としてCARGILL製のSeriesA、AAを用い、微粒子分散液をエバポレーターに採り、分散媒を蒸発させ、これを120℃で乾燥し、粉末とする。次に屈折率が既知の標準屈折液を2、3滴ガラス板上に滴下し、これにこの粉末を混合する。そしてこの操作を種々の標準屈折液で行い、混合液が透明になったときの標準屈折液の屈折率を微粒子の屈折率とする。
【0048】
また中空微粒子の好ましい外径は5〜2000nmであり、より好ましくは20〜100nmである。外殻は、いずれの好ましい材料からできていてもよく、そのような好ましい材料には、金属酸化物、シリカ等が含まれる。中空微粒子は、その平均粒子径に比べて外殻の厚みが薄いものを用いるのが好ましく、また、乾燥被膜中に占める中空微粒子の体積が多くなるようにすることが好ましい。
【0049】
中空微粒子の外殻を構成する材料としては、より具体的には、SiO2、SiOx、TiO2、TiOx、SnO2、CeO2、Sb2O5、ITO、ATO、Al2O3等の単独材料や、またはこれらの材料を組み合わせた混合物材料を例示することができる。また、これらの材料のいずれかの組み合わせの複合酸化物であってもよい。尚、SiOxは、酸化雰囲気中で焼成した場合に、SiO2となるものが好ましい。本発明の乾燥被膜はマトリクス材料がシリコーン樹脂からなるので、SiO2系材料を使用することが好ましい。
【0050】
また、中空微粒子の屈折率は、マトリクス形成材料の被膜からなるフィルム状物の屈折率より小さいのが好ましく、この場合、両者の差は少なくとも0.05が好ましく、より好ましくは少なくとも0.10である。この場合、フィルム状物の屈折率は比較的低いのが好ましく、例えば1.35〜1.50であるのが特に好ましい。別の態様では、中空微粒子の屈折率は、フィルム状物の屈折率より大きいのが好ましく、この場合、両者の差は少なくとも0.10が好ましく、好ましくは少なくとも0.15である。尚、フィルム状物の屈折率は、本発明で用いるコーティング材組成物により形成される乾燥被膜のマトリクスの部分の屈折率に対応する。
【0051】
上記のように中空微粒子は、外殻の内部に空洞が形成されたものであり、いずれの適当な既知の中空微粒子を使用してもよいが、本発明において特に使用するのが好ましい中空微粒子は、シリカ系中空微粒子である。その平均粒子径、屈折率は先に説明したものがよい。具体的には、以下のようなものを用いることができる。すなわち、シリカ系無機酸化物からなる外殻(シェル)の内部に空洞を有した中空シリカ微粒子を用いることができる。シリカ系無機酸化物とは、(A)シリカ単一層、(B)シリカとシリカ以外の無機酸化物とからなる複合酸化物の単一層、及び(C)上記(A)層と(B)層との二重層を包含するものをいう。外殻は細孔を有する多孔質なものであってもよく、あるいは細孔が閉塞されて空洞が外殻の外側に対して密封されているものであってもよい。外殻は、内側の第1シリカ被覆層及び外側の第2シリカ被覆層からなる複数のシリカ系被覆層であることが好ましい。外側に第2シリカ被覆層を設けることにより、外殻の微細孔を閉塞させて外殻を緻密化したり、さらには、内部の空洞を密封した中空シリカ微粒子を得ることができる。
【0052】
外殻の厚みは1〜50nm、特に5〜20nmの範囲であるのが好ましい。外殻の厚みが1nm未満であると、中空微粒子が所定の粒子形状を保持していない場合がある。逆に、外殻の厚みが50nmを超えると、中空シリカ微粒子中の空洞が小さく、その結果、空洞の割合が減少して屈折率の低下が不十分であるおそれがある。更に、外殻の厚みは、中空微粒子の平均粒子径の1/50〜1/5の範囲にあることが好ましい。上述のように第1シリカ被覆層および第2シリカ被覆層を外殻として設ける場合、これらの層の厚みの合計が、上記1〜50nmの範囲となるようにすればよく、特に、緻密化された外殻には、第2シリカ被覆層の厚みは20〜49nmの範囲が好適である。
【0053】
尚、空洞には中空シリカ微粒子を調製するときに使用した溶媒及び/又は乾燥時に浸入する気体が存在してもよい。また、後述する空洞を形成するための前駆体物質が空洞には残存していてもよい。前駆体物質は、外殻に付着してわずかに残存していることもあるし、空洞内の大部分を占めることもある。ここで、前駆体物質とは、外殻によって包囲された核粒子から、核粒子の構成成分の一部を除去した後に残存する多孔質物質である。核粒子には、シリカとシリカ以外の無機酸化物とからなる多孔質の複合酸化物粒子を用いる。無機酸化物としては、Al2O3、B2O3、TiO2、ZrO2、SnO2、Ce2O3、P2O5、Sb2O3、MoO3、ZnO2、WO3等の1種又は2種以上を挙げることができる。2種以上の無機酸化物として、TiO2−Al2O3、TiO2−ZrO2等を例示することができる。なお、この多孔質物質の細孔内にも上記溶媒あるいは気体が存在してよい。このときの核粒子の構成成分の除去量が多くなると空洞の容積が増大し、屈折率の低い中空シリカ微粒子が得られ、この中空シリカ微粒子を配合して得られる透明被膜は低屈折率で反射防止性能に優れる。
【0054】
上記のように中空シリカ微粒子の平均粒子径は5nm〜2μm(2000nm)の範囲が好ましい。5nmよりも平均粒子径が小さいと、中空によって低屈折率になる効果が小さく、逆に2μmよりも平均粒子径が大きいと、透明性が極端に悪くなり、拡散反射(Anti−Glare)による寄与が大きくなってしまう。コーティング材組成物を用いて形成される乾燥被膜が高い透明性を有することが要求される用途として、例えばディスプレイ最表面等の反射防止用途がある。そのためには、使用する中空シリカ微粒子の粒子径は5〜100nmの範囲内にあるのが好ましい。尚、本発明において粒子径は、透過型電子顕微鏡観察による数平均粒子径である。(動的光散乱法によって求められる平均粒子径は、分散粒子径を測定するので、2次凝集している場合は、真の粒子1つの粒子径は測定できない。)
上記のような中空シリカ微粒子は特開2001−233611号公報で公知であると共に、市販品として提供されており、市販品を容易に入手して使用に供することができる。
【0055】
上記のように本発明で用いるコーティング材組成物において、シリコーン化合物の1つの態様は、SiX4(Xは加水分解可能置換基)で表される4官能加水分解可能オルガノシラン、その部分加水分解物及び加水分解物、ならびにこれらが縮合したもの(即ち、シリコーンレジン)から選択されるものである。これらの材料はいずれも、シリカ微粒子の分散安定性に優れている。これに対して他の金属酸化物微粒子あるいは有機系微粒子を用いる場合には分散安定性に欠け、かつ得られる乾燥被膜の機械的強度が、シリカ微粒子より劣る傾向にある。他の金属酸化物あるいは有機系微粒子も、外殻最表面がシリカ系材料で被覆されている場合は、分散安定性、乾燥被膜の機械的強度を向上させることができる。また、これらの4官能加水分解可能オルガノシランおよびそれに由来する材料は、3官能加水分解可能オルガノシラン、2官能加水分解可能オルガノシラン、その部分加水分解物及び加水分解物、ならびにこれらのシランが縮合して生じるレジンをマトリクス形成材料として用いる場合と比較して、得られるフィルム状物の屈折率をより小さくし、更に、乾燥被膜の架橋密度をより高くすることができる。
【0056】
上記の4官能加水分解可能オルガノシランとしては、下記式(2)で表される4官能アルコキシシランを挙げることができる。
【0057】
Si(OR)4 式(2)
上記化学式(2)中のアルコキシル基「OR」の「R」は1価の炭化水素基であれば特に限定されるものではないが、炭素数1〜8の1価の炭化水素基が好適である。例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ペプチル基、オクチル基等のアルキル基等を例示することができる。アルコキシル基中に含有されるアルキル基のうち、炭素数が3以上のものについては、n−プロピル基、n−ブチル基等のように直鎖状のものであってもよいし、イソプロピル基、イソブチル基、t−ブチル基等のように分岐を有するものであってもよい。
【0058】
4官能アルコキシシラン等の4官能加水分解可能オルガノシランを用いてシリコーンレジンを調製するにあたっては、4官能加水分解可能オルガノシランを加水分解(以下、部分加水分解も含む)して縮合する。ここで、得られるシリコーンレジンの重量平均分子量は特に限定されるものではないが、コーティング材組成物中のより少ない割合のシリコーンレジンによって、得られる乾燥被膜のより大きい機械的強度を得るためには、重量平均分子量は200〜2000の範囲にあることが好ましい。重量平均分子量が200より小さいと被膜形成能力に劣るおそれがある。逆に2000を超えると被膜の機械的強度に劣るおそれがあるが、機械的強度を必要しない用途では、マトリクス材料自身の屈折率を小さくするために分子量2000以上が有効である。尚、分子量は、後述するようにGPCを用いて測定した数値である。
【0059】
一般的に、4官能加水分解可能オルガノシランSiX4を加水分解して縮合することによって得られるシリコーンレジンは、分子内に未反応基、即ち、加水分解可能置換基Xが一部残った状態で縮合して、オリゴマー化あるいは高分子化されている。コーティング材組成物をコーティングして被膜を形成する場合、マトリクス形成材料としてのシリコーンレジンがその分子内に未反応基が残留しており、その結果、形成されるマトリクスが未反応の置換基を有していても、乾燥して得られる被膜を300℃を超える温度で熱処理して硬化被膜を得る場合には、未反応基は分解されるので、最終的に得られる硬化被膜の屈折率に悪影響を及ぼすことはない。熱処理が50〜300℃、特に50℃〜150℃のように比較的低温で行われる場合には、未反応基は分解されることなく硬化被膜中に残留することがあり、その結果、マトリクスとしての屈折率が高くなるという悪影響を及ぼすおそれがある。
【0060】
これを考慮すると、4官能加水分解可能オルガノシランは、部分加水分解物よりも完全に加水分解した状態でマトリクス形成材料として使用するか、あるいは、完全に加水分解した状態のものを用いてシリコーンレジンを調製して、それをマトリクス形成材料として用いる方が好ましいが、完全に加水分解をするためには、一般的には分子量2000以上の高分子になるため、乾燥被膜の機械的強度は期待できず、比較的機械的強度を必要としない用途に有効である。完全に反応した加水分解物は分子末端に−OH基のみを有しているので、この完全加水分解物を用いて被膜を形成した場合、残存している基は−OHのみとなるので、この被膜の表面は親水性に優れたものとなり、表面水滴接触角は小さくなる。また、機械的強度を必要とする用途には、分子量600〜2000のシリコーンレジンが有効であり、この分子量範囲では部分加水分解物であるため、マトリクス材料自身の屈折率は、完全加水分解したシリコーンレジンより大きくなるが、低分子量の縮合物から形成される乾燥被膜はより多孔率が高くなる傾向にあり、乾燥被膜中に占める微粒子/シリコーンレジン縮合物の比率が高くなっても、機械的強度を保つことが可能である。ちなみに、分子量2000以上のシリコーンレジンでは微粒子/シリコーンレジン縮合物の比率に関わらず、機械的強度は期待できない。
【0061】
具体的には、機械的強度を必要としない用途においては、コーティング材組成物のマトリクス形成材料に用いるシリコーンレジンとしては、これを石英ガラス基材の表面に膜厚100nmとなるように塗布して乾燥し、100℃で熱処理して得られた硬化被膜の表面水滴接触角が20°以下、好ましくは10°以下、より好ましくは5°以下(実質上の下限は、0°)となるものを用いるのが好ましい。即ち、そのようなシリコーンレジンをマトリクス形成材料として用いれば、被膜を低温で処理しても−OH以外の未反応基が残留せず、硬化被膜の屈折率が上昇するのを容易に抑制することができつものであり、逆に、上記表面水滴接触角が10°、特に20°を超えることになるシリコーンレジンを用いる場合には、有機樹脂での硬化被膜の接触角が、40°より大きくなる恐れがあり、防汚染性が十分に得られない。また、分子量2000以下のシリコーンレジンは、上記のような方法で表面水滴接触角を測定しても、表面水滴接触角は40°以下にはならない。これは未反応基が残留しているためである。硬化被膜の水滴接触角は、使用する微粒子やシリコーンレジン種、その分子量及び微粒子/シリコーンレジン縮合物比率によって異なるが、例えば、微粒子がシリカ微粒子、シリコーンレジンが4官能アルコキシドシランの部分加水分解物及び/あるいは加水分解物の場合、シリコーンレジンの分子量が2000以上で、かつ上述シリコーンレジン単独の乾燥被膜(石英ガラス上での)の水滴接触角が20°以下の場合は、シリカ微粒子/シリコーンレジン縮合物の比率、硬化被膜の乾燥温度に関わらず、硬化被膜の表面水滴接触角は40°以下になる。また、シリコーンレジンの分子量が2000以下の場合は、硬化被膜の乾燥温度が酸化雰囲気下で300℃以上の高温であれば、シリカ微粒子/シリコーンレジン縮合物の比率に関わらず、表面水滴接触角は40°以下になるが、乾燥温度が300℃以下の低温であれば、シリカ微粒子/シリコーンレジン縮合物の重量比率が60/40以上でないと、硬化被膜の水滴接触角は40°以下にならない傾向にある。
【0062】
本発明で用いるコーティング材組成物において、含まれる微粒子の量とマトリクス形成材料の量は、いずれの適当な割合であってよいが、一般的には、微粒子の重量のマトリクス形成材料に対する重量比(即ち、微粒子重量/マトリクス形成材料重量)は、20/70〜95/5であるのが好ましく、例えば4官能シリコーンレジンを使用する場合で、分子量が2000以上の場合は、30/70〜60/40、分子量が2000以下の場合は、70/30〜90/10であるのがより好ましい。
【0063】
尚、微粒子として、中空微粒子を使用する場合は、乾燥被膜中に占める中空微粒子(例えば中空シリカ微粒子)の割合が多いほど、被膜の屈折率を低下させることができるが、その反面、被膜の機械的強度が低下する。従って、中空微粒子の割合を多くすることによって、相対的に少ない割合となったマトリクス材料によって被膜の機械的強度を向上させる必要がある。そのためには、4官能加水分解可能アルコキシシランまたはそれに由来する縮合性のシリコーンレジンをマトリクス材料として使用する場合、特にシリコーンレジンの分子量が2000以下の場合、被膜の形成に際して、これらを縮合させてマトリクスを形成する際にその架橋密度を向上させるのがよい。
【0064】
マトリクス形成材料を調製するために、上記のシラン化合物(1)、特に4官能アルコキシシラン等の4官能加水分解可能オルガノシランを加水分解する場合、必要に応じて触媒を使用してよい。使用する触媒は、特に限定されるものではないが、得られる部分加水分解物及び/あるいは加水分解物が2次元架橋構造になりやすく、その縮合化合物が多孔質化しやすい点、また、加水分解に要する時間を短縮する点から、酸触媒が好ましい。このような酸性触媒としては、特に限定されないが、例えば、有機酸(例えば酢酸、クロロ酢酸、クエン酸、安息香酸、ジメチルマロン酸、蟻酸、プロピオン酸、グルタール酸、グリコール酸、マレイン酸、マロン酸、トルエンスルホン酸、シュウ酸等)、無機酸(例えば塩酸、硝酸、ハロゲン化シラン等)、酸性ゾル状フィラー(例えば酸性コロイダルシリカ、酸化チタニアゾル等)を挙げることができ、これらの1種又はそれ以上を使用することができる。アルコキシドの加水分解は、機械的強度を必要としない用途では必要に応じて、加温して行ってもよく、特に40〜100℃の条件下で2〜100時間かけて加水分解反応を促進させると、未反応アルコキシド基を限りなく少なくすることができてマトリクス形成材料自身の屈折率が低下して好ましい。上記の温度範囲や時間範囲を外れて加水分解すると、未反応アルコキシド基が残留するおそれがある。尚、上記酸性触媒の代わりに、水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム等のアルカリ金属あるいはアルカリ土類金属の水酸化物の水溶液、アンモニア水、アミン類の水溶液等のアルカリ触媒を用いてもよいが、アルカリ性触媒では3次元架橋を形成しやすく、乾燥被膜の多孔質率が低くなるという点や、ゲル化しやすいという点で、酸性触媒の方が好ましい。またマトリクス形成材料として加水分解可能置換基を有する場合には、加水分解触媒を含んでよい。
【0065】
本発明で用いるコーティング材組成物は、上述の中空微粒子、好ましくは中空シリカ微粒子および上述のマトリクス形成材料でシリコーン化合物を含有して調製されるものであるが、塗布して塗膜を形成すること、また、マトリクス形成材料の少なくとも部分的な加水分解が起こるのが好ましい場合があることの点から、水または水と他の液体、例えば有機溶媒との混合物を含むのが好ましい。この有機溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール(IPA)、n−ブタノール、イソブタノール等の低級脂肪族アルコール類、エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル等のエチレングリコール誘導体、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のジエチレングリコール誘導体、及びジアセトンアルコール等の親水性有機溶媒を挙げることができ、これらからなる群より選ばれる1種あるいは2種以上を使用することができる。更に、これらの親水性有機溶媒と併用して、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトオキシム等の1種あるいは2種以上のものを使用することができる。
【0066】
本発明で用いるコーティング材組成物において、マトリクス形成材料は、以下の3つの態様(a)、(b)および(c)に分類できる:
(a)1つの態様では、マトリクス形成材料は、上述のシラン化合物(1)(好ましくは4官能加水分解可能オルガノシラン、より好ましくは4官能加水分解可能アルコキシシラン)である。この場合、シラン化合物(1)は、構成成分を配合・混合してコーティング材組成物を調製する間、および/または、調製後にベースフィルムに塗布して塗膜を乾燥する間、水の存在下で縮合してマトリクスを形成する。
【0067】
(b)別の態様では、マトリクス形成材料は、(ポリ)シロキサン化合物(2)(好ましくは縮合性シリコーンレジン)である。この場合、(ポリ)シロキサン化合物(2)は、コーティング材組成物を調製する間、および/または、調製後にベースフィルムに塗布して塗膜を乾燥する間、水の存在下で縮合してマトリクスを形成する。尚、縮合が生じる程度は、マトリクス形成材料としてシラン化合物(1)が含まれる上述の態様より小さい。
【0068】
(c)更にもう1つの態様では、マトリクス形成材料は、(ポリ)シロキサン化合物(1)(好ましくはシリコーンレジン)であって、この化合物は水酸基も加水分解可能置換基も実質的に有さない化合物である。この場合、(ポリ)シロキサン化合物(1)は、コーティング材組成物を調製する間および調製後にベースフィルムに塗布して塗膜を乾燥する間、縮合することなく多孔質のマトリクスを形成する。
【0069】
また、コーティング材組成物に、上記(a)および(b)の態様のマトリクス形成材料を含む場合、マトリクス形成材料を架橋する硬化触媒を含むのが好ましい。これによって、コーティング材組成物をベースフィルムに塗布して塗膜を形成して乾燥する際に、縮合反応が促進されて被膜中の架橋密度が高くなり、被膜の耐水性及び耐アルカリ性を向上させることができる効果がある。そのような硬化触媒には、金属キレート化合物(例えばTiキレート化合物、Zrキレート化合物等)、有機酸等が挙げられる。金属キレート化合物は、マトリクス形成材料が4官能アルコキシシランを原料とする場合に特に有効である。
【0070】
特に好ましい硬化触媒は有機ジルコニウムであり、上記のような硬化触媒の効果を得るために使用するのが特に好ましい。有機ジルコニウムとしては、特に限定されるものではないが、例えば、一般式ZrOnR2 m(OR1)p(m,pは0〜4の整数、nは0又は1、2であり、n+m+p=4)表され、この化学式中のアルコキシル基(OR1)の官能基(R1)が式(2)と同様のものを用いることができる。また、R2としては、例えばC5H7O2であるもの(アセチルアセトネート錯体)やC6H9O3であるもの(エチルアセトアセテート錯体)を挙げることができる。R1とR2としては、1つの分子中に同一あるいは異種のものが存在していてもよい。特に有機ジルコニウムとして、Zr(OC4H9)4、Zr(OC4H9)3(C5H7O2)及びZr(OC4H9)2(C5H7O2)(C6H9O3)のうち少なくともいずれかを用いると、被膜の機械的強度を一層向上させることができるものである。例えば、シリカ微粒子に対して(ポリ)シロキサン化合物(2)、例えば4官能加水分解可能アルコキシシランを縮合して得られるシリコーンレジンの割合が少ないコーティング材組成物を用いて被膜を形成すると、この被膜の機械的強度は不足する場合があるが、有機ジルコニウムを添加することによって、被膜の機械的強度を向上させることができる。また、このコーティング材組成物を基材に塗布した後に、これを比較的低温である100℃で熱処理を行って得られる硬化被膜は、有機ジルコニウムを添加しない場合の300℃を超える高温で熱処理を行う場合と同等の強度を有する。
【0071】
また、有機ジルコニウムの添加量は、ZrO2換算でコーティング材組成物中における固形分(コーティング材組成物全重量中の加熱残分%を意味する。微粒子は仕込み重量、マトリクス形成材料は縮合化合物換算、例えば、4官能シリコーンアルコキシドの場合はSiO2、3官能シリコーンアルコキシドの場合は、RSiO1.5))全量に対して、0.1〜10重量%であることが好ましい。添加量が0.1重量%未満では有機ジルコニウムの添加による効果がみられないおそれがあり、逆に、10重量%を超えるとコーティング材組成物がゲル化したり、凝集等が起こったりするおそれがある。
【0072】
本発明で用いるコーティング材組成物には、中空ではないシリカ微粒子(以下、単にシリカ粒子という)を含有させることもできる。このような微粒子を共存させることによって、形成される乾燥被膜の機械的強度を向上させることができ、更には、被膜の表面平滑性と耐クラック性をも改善することができるものである。
【0073】
上記のシリカ粒子の形態としては、特に限定されるものではなく、例えば、粉体状の形態でもゾル状の形態でもよい。シリカ粒子をゾル状の形態、すなわちコロイダルシリカとして使用する場合、特に限定されるものではないが、例えば、水分散コロイダルシリカあるいはアルコール等の親水性の有機溶媒に分散したコロイダルシリカを使用することができる。一般にこのようなコロイダルシリカは、固形分としてのシリカを20〜50重量%含有しており、この値からシリカ配合量を決定することができる。
【0074】
ここで、水分散コロイダルシリカを使用する場合には、このコロイダルシリカ中に固形分以外として存在する水は、シラン化合物(1)、例えば4官能加水分解可能オルガノシランの加水分解に使用することができる。従って、この加水分解の際の水の量には、水分散性コロイダルシリカの水を加算する必要がある。水分散性コロイダルシリカは通常、水ガラスから作られるものであり、市販品を容易に入手して使用することができる。
【0075】
また、有機溶媒分散コロイダルシリカは、上記の水分散コロイダルシリカの水を有機溶媒と置換することによって容易に調製することができる。このような有機溶媒分散コロイダルシリカも、水分散コロイダルシリカと同様に、市販品を容易に入手して使用することができる。有機溶媒分散コロイダルシリカにおいて、コロイダルシリカが分散している有機溶媒の種類は、特に限定されるものではないが、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール(IPA)、n−ブタノール、イソブタノール等の低級脂肪族アルコール類、エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル等のエチレングリコール誘導体、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のジエチレングリコール誘導体、及びジアセトンアルコール等の親水性有機溶媒を挙げることができ、これらからなる群より選ばれる1種あるいは2種以上を使用することができる。更に、これらの親水性有機溶媒と併用して、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトオキシム等の1種あるいは2種以上のものを使用することができる。
【0076】
この非中空の微粒子、例えば上記のシリカ粒子の添加量は、コーティング材組成物中における固形分全量に対して、0.1〜80重量%であることが好ましい。0.1重量%未満ではこのシリカ粒子の添加による効果を得ることができないおそれがあり、逆に80重量%を超えると、乾燥被膜の機械的強度に悪影響を及ぼすおそれがある。
【0077】
本発明で用いるコーティング材組成物には、透過率向上用途に使用する場合、シリカ以外の多孔質微粒子を含有させることもできる。この多孔質微粒子は、例えば中空形態のもの、ミクロポアを有するもの、マクロポアを有するもの等、いずれの形態であってもよい。多孔質微粒子の材質は特に限定さえるものではないが、例えば有機質のものを用いることができ、具体的には炭素系材料、フッ素系材料の多孔質フィラーを用いることができる。このような多孔質微粒子としては、コーティング材組成物に多孔質微粒子を加えて得られる乾燥被膜の屈折率を低くするものが好ましく、このような効果をもたらす材質や構造であるものが好ましい。具体的には、フッ素系材料に代表される有機材料の外殻からなる中空微粒子、シリカエアロゲル微粒子、メソポーラスシリカ微粒子、カーボンナノチューブ等のようなフィラーを例示できる。但し、有機系材料は硬化被膜の表面を撥水性にする傾向になるので、多く添加する場合は、SiO2被覆あるいはカップリング剤処理等が必要になる。
【0078】
また、得られる乾燥被膜の屈折率を低くする(透過率向上させる)観点から、コーティング材組成物には金属フッ化物の微粒子を更に含有させるようにしてもよい。具体的には、CaF2、NaF、MgF2等のフィラーを例示できる。ここで、シリコーン系マトリクス材料に対する分散性及び、硬化被膜の機械的強度をより向上させるために、金属フッ化物微粒子の表面をシリカで被覆しているものがより好ましい。
【0079】
さらに本発明で用いるコーティング材組成物には、屈折率1.50以上の金属酸化物微粒子を含有していても良い。金属膜の反射率を向上させるためには、乾燥被膜の屈折率は高い方が好ましく、このような金属酸化物粒子を含有させることによって、乾燥被膜の屈折率を高めることができるものである。添加量は、反射率を向上させる用途で乾燥被膜を用いる場合は最低限の機械的強度を保つ範囲で多いほうが好ましい。
【0080】
金属酸化物微粒子としては、TiO2、TiO2−X、ZnO、Al2O3、ITO、ATO、ZnSb2O6、SnO2、Sb2O3、Sb2O5等を挙げることができる。金属酸化物微粒子は形状に特に限定なく、非中空微粒子、微粒子中空状、ファイバー、ウイスカー等の形態であってよい。
【0081】
これらの中でも、TiO2に代表される光半導体(いわゆる光触媒)は、光照射(紫外光応答型の場合)によって励起され、活性酸素等の活性種を発生し、その活性種は大変酸化力が強いため、乾燥被膜の表面に付着した有機汚れ(例えば指紋は一般にはオレイン酸)を分解除去できる効果、いわゆるセルフクリーンと呼ばれる防汚染効果と、乾燥被膜の表面に−OH基を形成して表面を超親水性にし汚れが付着し難くする効果と、同時に帯電防止(塵、埃を付着させにくくさせる効果)の効果がある。光半導体微粒子の種類や添加量は特に限定されるものでなく、要求される防汚染レベル、帯電防止レベルを発揮できるよう適宜選択すればよいが、一般に光半導体材料は高屈折材料であり、乾燥被膜の屈折率を上げる方向になってしまうので、使用目的が透過率向上の場合は、添加量はより少ない量が好ましい。十分な防汚染レベル、帯電防止レベルを発揮するために必要量を添加して、乾燥被膜の屈折率が極端に上昇する場合は、光半導体微粒子の形状を中空に変えるなどの工夫が必要である。
【0082】
また、光半導体微粒子を添加する場合のマトリクス形成材料は本発明のようにシリコーン系でなければならない(特にSi元素の高い含有比率が要求される)。これは光半導体の分解効果で、Si−以外の結合は切断され、バインダーとしての能力を失活するためである。尚、シリコーン系マトリクス形成材料を利用する場合、分子構造の一部に光半導体の分解効果によって、分解されやすいC−C結合を主体とする有機官能基を導入することによって、乾燥被膜の屈折率を下げることも可能である。
【0083】
さらに、上記の金属酸化物粒子の中でも、導電性金属酸化物を用いることによって、乾燥被膜に帯電防止機能、電磁波吸収機能、色調補正機能、赤外線遮蔽機能を同時に付与することが可能になるものである。添加量は特に限定されないが、光半導体と同じように、導電性金属酸化物は高屈折材料であり、乾燥被膜の屈折率を上げる方向に作用するので、透過率向上が必要な場合には、より少ない量が好ましい。帯電防止機能、電磁波吸収機能を十分に発揮するために必要量を添加する場合には、乾燥被膜の屈折率が極端に上昇しないように、導電性金属酸化物微粒子の形状を中空に変えるなどの工夫が必要である。乾燥被膜を反射率向上用途で用いる場合には、最低限の機械的強度を保つ範囲で添加量を多くするほうが好ましい。
【0084】
さらに本発明のコーティング材組成物には、シランカップリング剤を含有することができる。シランカップリング剤を含むことによって、コーティング材組成物を用いてベースフィルムに乾燥被膜を形成する場合、ベースフィルムと乾燥被膜との間の密着性が向上するものである。好ましいシランカップリング剤の具体例としては、次のものを挙げることができる。
【0085】
【化2】
【0086】
さらに、本発明で用いるコーティング材組成物には、必要に応じてレベリング材や粘度調整剤を添加することもできる。
【0087】
尚、上記のようにして得られるコーティング材組成物は、既述のように、必要に応じて有機溶媒や水で希釈してもよく、またコーティング材組成物を調製するにあたって、予め個々の成分を必要に応じて有機溶媒、水等で希釈しておいてもよい。希釈する際の有機溶媒としては、特に限定されるものではないが、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール(IPA)、n−ブタノール、イソブタノール等の低級脂肪族アルコール類;エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル等のエチレングリコール誘導体;ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のジエチレングリコール誘導体、及びジアセトンアルコール等を挙げることができ、これらからなる群より選ばれる1種あるいは2種以上を使用することができる。更に、これらの親水性有機溶媒と併用して、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトオキシム等の1種あるいは2種以上のものを使用することができる。
【0088】
そして、上記のようにして調製したコーティング材組成物をベースフィルムの表面にコーティングして塗膜を形成し、この塗膜を乾燥・硬化させることによって乾燥化被膜を得ることができ、表面に低屈折率あるいは高屈折率を有する乾燥被膜が形成された複合樹脂フィルムを得ることができるものである。またこの表面の乾燥被膜は、表面水滴接触角が40°以下の親水性であるので、汚れが付着し難く、付着した汚れも雨水などで容易に洗い流され、表面防汚性に形成されている。従って、この複合樹脂フィルムを、熱融着や、接着剤による接着や、粘着剤による接着で、物品の表面に貼着することによって、表面防汚性物品を得ることができるものである。
【0089】
ここで、ベースフィルムを形成する樹脂フィルムとしては、特に限定されるものではないが、例えば、ポリカーボネートやポリエチレンテレフタレート、アクリル樹脂系、ポリフッ化ビニリデン(PVdF)などのフッ素樹脂系、トリアセチルセルロース、ポリイミド、PVA系に代表される有機系基材の透明フィルムを挙げることができ、その中でも屋外使用での長期耐久性を必要とする場合は、アクリル樹脂系、フッ素樹脂系、PVA系が好ましい。またベースフィルムの形状としては、フィルム状の他に薄板状であってもよい。ベースフィルムは単独の材料で形成されていても構わないし、異種材料が積層されているものでも構わない。ベースフィルムを形成する樹脂フィルムは少なくとも1μm以上の厚みを有するものであることが望ましい。
【0090】
また、ベースフィルムの表面に予め別の透明樹脂層が少なくとも1層以上、形成されていても構わない。例えばこの別の透明樹脂層としては、紫外線硬化型ハードコート層、電子線硬化型ハードコート層、熱硬化型ハードコート層が挙げられる。これらの中でも、屋外での耐久性を考慮して、熱硬化型ハードコート層が好ましい。ハードコート層の材質は、アクリル樹脂、ウレタン樹脂を主体とする有機系、シリコーン系に大別される。また、ハードコート層中に帯電防止剤、色素、紫外線吸収剤を添加することによって、電磁波シールド機能、帯電防止機能、赤外線遮蔽機能、色調補正機能、紫外線吸収機能を付与することも可能である。
【0091】
透明樹脂層は、コーティング材料をベースフィルムの表面にコーティングして乾燥・硬化して得られる被膜によって形成するようにしてもよく、また透明樹脂フィルムをベースフィルムの表面に積層して形成するようにしてもよい。
【0092】
さらに、この透明樹脂層内に大粒子径(0.1μm以上)の粒子を添加して、光拡散層の機能を付与することも可能である。光拡散層は、本発明の表面防汚性複合樹脂フィルムを太陽電池モジュールの表面に貼着して太陽電池の保護フィルムとして使用するときに、特に重要である。太陽電池モジュール上での反射光をなるべく外に逃がさず、光拡散層から再び太陽電池モジュール表面に向かわすことができ、発電効率を高めることができるのである。このとき、粒子としてZnO、CeO2に代表される無機紫外線吸収剤を選択すれば、光拡散層に紫外線吸収機能、光拡散機能を同時に付与できる。透明樹脂層の屈折率はその上に形成される蒸気の乾燥被膜の屈折率にあわせて、適宜選択して調整すれば良い。また、ベースフィルムに紫外線吸収剤、帯電防止剤、色素、大粒子系の粒子を添加することによって、上記と同様の機能を付与することが可能なことは言うまでもない。
【0093】
ここで、乾燥被膜の屈折率がその直下の層(すなわちベースフィルムの上に乾燥被膜が直接形成されている場合にはベースフィルム、ベースフィルムに透明樹脂層が設けられている場合には透明樹脂層)の屈折率より0.3以上小さいと、表面防汚性複合フィルムは表面からの光透過率が高くなり、ベースフィルムが元々有している初期透過率より透過率を向上させることができるものである。また、乾燥被膜の屈折率がその直下の層の屈折率より0.3以上大きいと、表面防汚性複合フィルムは表面の光反射率が高くなり、ベースフィルムが元々有している初期反射率より反射率を向上させることができるものである。
【0094】
また、本発明の表面防汚性複合樹脂フィルムにおいて、乾燥被膜の直下の層に、シランカップリング剤、金属酸化物微粒子(特にSiO2)を導入することが、乾燥被膜との密着性をアップするために好ましい。もちろん、直下の層のバインダー成分がシリコーン系であることが密着性をアップさせることは言うまでもない。
【0095】
また、本発明の表面防汚性複合樹脂フィルムにおいて、ベースフィルムの乾燥被膜を形成する側と反対側の裏面には着色印刷層が形成されていてもよい。着色印刷層は、単色、柄印刷、反射色など任意に形成することができ、印刷材料も限定されない。この着色印刷層のさらに直下に粘着層あるいは接着層を施せば、鋼板やアルミニウム板、プラスチック板などの板材の表面に貼付して、化粧板として使用することができる。
【0096】
なお、コーティング材組成物をベースフィルムの表面にコーティングする際に、被膜が均一に形成されるように、あるいは被膜とベースフィルムとの密着性が向上するように、ベースフィルムの表面(予め透明樹脂層が設けられている場合には透明樹脂層の表面)を前洗浄しておくのが好ましい。前洗浄の方法としては、アルカリ洗浄、ふっ化アンモニウム洗浄、プラズマ洗浄(減圧プラズマおよび大気圧プラズマを含む)、UVオゾン洗浄、酸化セリウム洗浄、コロナ放電による洗浄等を挙げることができる。
【0097】
また、コーティング材組成物をベースフィルムの表面にコーティングするにあたって、その方法は特に限定されるものではないが、例えば、刷毛塗り、スプレーコート、浸漬(ディップコート)、ロールコート、グラビアコート、マイクログラビアコート、フローコート、カーテンコート、ナイフコート、スピンコート、テーブルコート、シートコート、枚葉コート、ダイコート、バーコート、リバースコート、キャップコート等の通常の各種塗布方法から選択することができる。このようにコーティング材組成物を用いたコーティング法で被膜を形成する場合、気相法や液相法よりも大面積の被膜を容易に得ることができると共に、高いスピードで被膜形成をすることができるものである。
【0098】
そして、このようにベースフィルムの表面に形成した被膜を乾燥させた後に、これに熱処理を行うのが好ましい。この熱処理によって、被膜の機械的強度をさらに向上させることができるものである。熱処理の際の温度は、特に限定されるものではない。このように熱処理をすることによって被膜の硬度を高めることができ、熱処理後の被膜を硬化被膜(hardened coating)にすることができる。
【0099】
例えば4官能アルコキシレジンから形成したシリコーンレジンをマトリクス形成材料として使用するコーティング材組成物を用いて被膜を形成する場合、低温、好ましくは100〜300℃、より好ましくは50〜150℃で5〜30分熱処理する。このように低温で熱処理を行っても、高温で熱処理を行う場合と実質的に同等の機械的強度を得ることができるので、この場合には、被膜の形成コストを低減することが可能となる。また、高温による熱処理の場合のように、ベースフィルムの種類が制限されることがなくなる。
【0100】
また、ベースフィルムの表面に形成する乾燥被膜の膜厚は、使用用途、目的等に応じて適宜選択することができ、特に限定されるものではないが、0.01〜10.0μmの範囲が好ましく、乾燥被膜にクラックが発生するのを抑制するためには、0.01〜0.5μmの範囲がより好ましい。
【0101】
【実施例】
以下、本発明を実施例によって具体的に説明する。なお、特に断らない限り、「部」は全て「重量部」を、「%」は、後述する全光線透過率、反射率及びヘーズ率を除き、全て「重量%」を表す。また、重量分子量はGPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)により、測定機として東ソー(株)のHLC8020を用いて、標準ポリスチレンで検量線を作成し、その換算値として測定したものである。
【0102】
<実施例1>
テトラエトキシシラン208部にメタノール356部を加え、更に水126部及び0.01Nの塩酸18部(「H2O」/「OR」=2.0)を加え、これをディスパーを用いてよく混合して混合液を得た。この混合液を25℃恒温槽中で2時間撹拌して、重量平均分子量を4000に調整することにより、シリコーンレジン(A)を得た。次にこのシリコーンレジン(A)に、シリカ微粒子(触媒化成工業製 商品名:OSCAL1432「IPA分散コロイダルシリカ」、一次粒子径:10〜20nm、固形分30%)/シリコーンレジン(A)(縮合化合物換算)が固形分基準で重量比が40/60となるように配合し、その後、全固形分が1%になるようにIPAで希釈することによって、コーティング材組成物を調製した。
【0103】
そして、このコーティング材組成物を1時間放置した後に、PVdF/アルリル複合フィルム(呉羽化学工業製、商品名:クレハKFCフィルム、品番:FT−50Y、PVdF厚み:4μm、アクリル厚み:46μm、合計フィルム厚み:50μm)のアクリル表面にワイヤーバーコーターによって塗布して膜厚が約100nmの塗膜を形成し、1分間放置して乾燥した後に、被膜を80℃で10分間酸素雰囲気下で熱処理して、表面防汚性複合樹脂フィルムを得た。
【0104】
<実施例2>
テトラエトキシシラン208部にメタノール356部を加え、更に水126部及び0.01Nの塩酸18部(「H2O」/「OR」=2.0)を混合し、これをディスパーを用いてよく混合して混合液を得た。この混合液を25℃恒温槽中で2時間撹拌し、60℃恒温槽中で20時間加熱して、重量平均分子量を6000に調整することにより、シリコーンレジン(B)を得た。次にこのシリコーンレジン(B)に、シリカ微粒子(触媒化成工業製 商品名:OSCAL1432「IPA分散コロイダルシリカ」、一次粒子径:10〜20nm、固形分:30%)/シリコーンレジン(A)(縮合化合物換算)が固形分基準で重量比が40/60となるように配合し、その後、全固形分が1%になるようにIPAで希釈することによって、コーティング材組成物を調製した。
【0105】
そして、このコーティング材組成物を1時間放置した後に、PVdF/アルリル複合フィルム(呉羽化学工業製、商品名:クレハKFCフィルム、品番:FT−50Y、PVdF厚み:4μm、アクリル厚み:46μm、合計フィルム厚み:50μm)のアクリル表面にワイヤーバーコーターによって塗布して膜厚が約100nmの塗膜を形成し、1分間放置して乾燥した後に、被膜を80℃で10分間酸素雰囲気下で熱処理して、表面防汚性複合樹脂フィルムを得た。
【0106】
<実施例3>
実施例2において、シリカ微粒子を中空シリカ微粒子(触媒化成工業製 商品名:CS−60IPA「IPA分散コロイダル中空シリカ」、一次粒子径:約60nm、外殻厚み約15nm、固形分20%)に変更した以外は、実施例2と同様にして表面防汚性複合樹脂フィルムを得た。
【0107】
<実施例4>
テトラエトキシシラン208部にメタノール356部を加え、更に水18部及び0.01Nの塩酸水溶液18部(「H2O」/「OR」=0.5)を加え、これをディスパーを用いてよく混合して混合液を得た。この混合液を25℃恒温槽中で2時間撹拌して、重量平均分子量を850に調整したシリコーンレジン(C)を得た。次にこのシリコーンレジン(C)に、シリカ微粒子(触媒化成工業製 商品名:OSCAL1432「IPA分散コロイダルシリカ」、一次粒子径:10〜20nm、固形分:30%)/シリコーンレジン(C)(縮合化合物換算)が固形分基準で重量比が80/20となるように配合し、その後、全固形分が1%になるようにIPAで希釈することによって、コーティング材組成物を調製した。
【0108】
そして、このコーティング材組成物を1時間放置した後に、PVdF/アルリル複合フィルム(呉羽化学工業製、商品名:クレハKFCフィルム、品番:FT−50Y、PVdF厚み:4μm、アクリル厚み:46μm、合計フィルム厚み:50μm)のアクリル表面にワイヤーバーコーターによって塗布して膜厚が約100nmの塗膜を形成し、1分間放置して乾燥した後に、被膜を80℃で10分間酸素雰囲気下で熱処理して、表面防汚性複合樹脂フィルムを得た。
【0109】
<実施例5>
実施例4において、シリカ微粒子を中空シリカ微粒子(触媒化成工業製 商品名:CS−60IPA「IPA分散コロイダル中空シリカ」、一次粒子径:約60nm、外殻厚み約15nm、固形分20%)に変更した以外は、実施例4と同様にした。
【0110】
<実施例6>
実施例4において、シリカ微粒子をSb2O5微粒子(日産化学工業製 商品名:AMF−130S「メタノール分散Sb2O5微粒子」、一次粒子径:約10nm、固形分:30%)に変更した以外は、実施例4と同様にして表面防汚性複合樹脂フィルムを得た。
【0111】
<実施例7>
実施例2において、PVdF/アルリル複合フィルムのアクリル表面上に、シリコーン系熱硬化型コーティング材組成物(シリコーン系コーティング材「松下電工製、商品名:フレッセラN−A210、固形分20%」に酸化亜鉛微粒子「住友大阪セメント製、一次粒子径:0.2μm」を、シリコーン系コーティング材(縮合化合物)/酸化亜鉛微粒子が重量比で80/20になるように添加して調製)をワイヤーバーコーターによって塗布して膜厚が約5μmになるように形成し、1分間放置して乾燥した後に、被膜を80℃で60分間酸素雰囲気下で熱処理したフィルムを使用した以外は、実施例2と同様にして表面防汚性複合樹脂フィルムを得た。
【0112】
<比較例1>
PVdF/アルリル複合フィルム(呉羽化学工業製、商品名:クレハKFCフィルム、品番:FT−50Y、PVdF厚み:4μm、アクリル厚み:46μm、合計フィルム厚み:50μm)を、何もコーティングしないで使用し、これを比較例1とした。
【0113】
<比較例2>
実施例5において、中空シリカ微粒子/シリコーンレジン(C)(縮合化合物換算)が固形分基準で重量比が50/50となるように配合した以外は、実施例5と同様にした。
【0114】
<比較例3>
メチルトリエトキシシラン178部にメタノール356部を加え、更に水90部及び0.01Nの塩酸18部(「H2O」/「OR」=2.0)を混合し、これをディスパーを用いてよく混合して混合液を得た。この混合液を25℃恒温槽中で2時間撹拌して、重量平均分子量を800に調整することにより、シリコーンレジン(D)を得た。そしてこのシリコーンレジン(D)を使用した以外は、実施例1と同様にした。
【0115】
上記の実施例1〜7及び比較例1〜3で得た複合樹脂フィルムについて、全光線透過率、ヘーズ率、硬化被膜の屈折率及び水滴接触角、防汚染性を測定し、複合樹脂フィルムの性能評価をした。
【0116】
(全光線透過率)
分光光度計(日立製作所製「U−3400」)を使用して、波長550nmの全光線透過率を測定した。
【0117】
(ヘーズ率)
ヘーズメータ(日本電色工業製「NDH2000」)を使用して測定した。
【0118】
(屈折率)
走査型電子顕微鏡でフィルム破断面を観察し、硬化被膜の膜厚を測定した後、エリプソメーター(ULVAC製「EMS−1」)で屈折率を導出した。
【0119】
(接触角)
接触角計(協和界面科学製「CA−W150」)を使用して測定した。
【0120】
(防汚染性)
複合フィルムを屋外(松下電工構内「大阪府門真市門真1048」の建屋屋上)に、南方位、傾斜角30°で配置して、半年間暴露し、全光線透過率を測定した。
【0121】
上記の各試験結果を表1に示す。
【0122】
【表1】
【0123】
【発明の効果】
上記のように本発明の請求項1に係る表面防汚性複合樹脂フィルムは、少なくとも1μm以上の厚みを有する樹脂フィルムをベースフィルムとし、ベースフィルムの表面に1層以上の層を設けて形成される複合樹脂フィルムにおいて、最表面の層が、シリコーン化合物の縮合物をバインダー成分とし、且つ表面水滴接触角が40°以下のコーティング乾燥被膜から形成されているので、光半導体を用いる必要なくシリコーン化合物の縮合物をバインダー成分として表面を親水性に形成することができ、表面の親水性による耐汚染性機能によって、光透過率あるいは光反射率を屋外で長期間に亘って維持することができるものである。
【0124】
また請求項2の発明は、請求項1において、上記シリコーン化合物の縮合物が、4官能アルコキシシランの加水分解物及び/又は部分加水分解物の縮合物であるので、低屈折率で強度の高い乾燥被膜をベースフィルムの表面に形成することができるものである。
【0125】
また請求項3の発明は、請求項1又は2において、上記乾燥被膜に、シリカ微粒子を含有するので、乾燥被膜の機械的強度を向上させることができると共に、表面平滑性や耐クラック性を向上させることができるものである。
【0126】
また請求項4の発明は、請求項3において、シリカ微粒子が外殻を有する中空状シリカ微粒子であるので、乾燥被膜の屈折率を下げることができ、表面防汚性複合樹脂フィルムの光透過率を高めることができるものである。
【0127】
また請求項5の発明は、請求項1乃至4のいずれかにおいて、上記乾燥被膜に、フッ化マグネシウム微粒子を含有するので、乾燥被膜の屈折率を下げることができ、表面防汚性複合樹脂フィルムの光透過率を高めることができるものである。
【0128】
また請求項6の発明は、請求項1乃至5のいずれかにおいて、上記乾燥被膜に、フッ素系多孔質微粒子を含有するので、乾燥被膜の屈折率を下げることができ、表面防汚性複合樹脂フィルムの光透過率を高めることができるものである。
【0129】
また請求項7の発明は、請求項1乃至6のいずれかにおいて、上記乾燥被膜に、屈折率1.50以上の金属酸化物微粒子を含有するので、乾燥被膜の屈折率を高めることができ、表面防汚性複合樹脂フィルムの光反射率を高めることができるものである。
【0130】
また請求項8の発明は、請求項7において、上記金属酸化物微粒子が導電性金属酸化物であるので、乾燥被膜に帯電防止機能等を付与することができるものである。
【0131】
また請求項9の発明は、請求項7において、上記金属酸化物微粒子が光半導体であるので、光半導体の作用で乾燥被膜にセルフクリーニング性、超親水性、帯電防止性を付与することができるものである。
【0132】
また請求項10の発明は、請求項1乃至9のいずれかにおいて、上記ベースフィルムと最表面の乾燥被膜の層との間に、少なくとも1層の透明樹脂層が形成されているので、乾燥被膜と透明樹脂層との屈折率の差で光透過率あるいは光反射率を高めることがきるものである。
【0133】
また請求項11の発明は、請求項10において、上記透明樹脂層が、透明樹脂フィルムから形成されているので、ベースフィルムに透明樹脂フィルムを積層することによって透明樹脂層を容易に形成することができるものである。
【0134】
また請求項12の発明は、請求項10において、上記透明樹脂層が、コーティングによる乾燥被膜から形成されているので、ベースフィルムにコーティング材料をコーティングすることによって透明樹脂層を容易に形成することができるものである。
【0135】
また請求項13の発明は、請求項10乃至12のいずれかにおいて、上記透明樹脂層が、光拡散手段を有して形成されているので、反射光を拡散させて透過率を高めることができるものである。
【0136】
また請求項14の発明は、請求項13において、上記光拡散手段が、紫外線吸収機能を有する無機粒子で形成されているので、光拡散機能と共に紫外線吸収機能を同時に付与することができるもものである。
【0137】
また請求項15の発明は、請求項1乃至14のいずれかにおいて、上記最表面の層を形成する乾燥被膜の屈折率が、直下の層の屈折率よりも0.3以上小さいので、透過率を高めることができるものである。
【0138】
また請求項16の発明は、請求項1乃至14のいずれかにおいて、上記最表面の層を形成する乾燥被膜の屈折率が、直下の層の屈折率よりも0.3以上大きいので、光の反射率を高めることができるものである。
【0139】
また請求項17の発明は、請求項1乃至16のいずれかにおいて、上記ベースフィルムの裏面に、着色印刷層が形成されているので、表面防汚性複合樹脂フィルムで化粧を行なうことが可能になるものである。
【0140】
本発明の請求項18に係る表面防汚性物品は、上記請求項1乃至16のいずれかに記載の表面防汚性複合樹脂フィルムが、熱融着、接着剤による接着、粘着剤による接着から選ばれる手段で、物品の表面に貼着されたものであるので、物品の表面が汚れることを表面防汚性複合樹脂フィルムによって低減することができ、発電効率などの機能を向上させることができるものである。
【0141】
また請求項19の発明は、請求項18において、上記物品が太陽電池モジュールであるので、太陽電池モジュールの表面が汚れて光の透過率が低下することを防止することができ、発電効率を向上させることができるものである。しかも表面防汚性複合樹脂フィルムは薄く軽量であり、太陽電池を家屋の屋根の上などに設置するにあたって重量負担を軽減することができるものである。
【0142】
本発明の請求項20に係る化粧板は、上記請求項17に記載の表面防汚性複合樹脂フィルムが、板材の表面に貼着されているので、表面防汚性複合樹脂フィルムで化粧を行なうことができると同時に、表面が汚れることを表面防汚性複合樹脂フィルムによって低減して、美麗に維持することができるものである。
Claims (20)
- 少なくとも1μm以上の厚みを有する樹脂フィルムをベースフィルムとし、ベースフィルムの表面に1層以上の層を設けて形成される複合樹脂フィルムにおいて、最表面の層が、シリコーン化合物の縮合物をバインダー成分とし、且つ表面水滴接触角が40°以下のコーティング乾燥被膜から形成されていることを特徴とする表面防汚性複合樹脂フィルム。
- 上記シリコーン化合物の縮合物が、4官能アルコキシシランの加水分解物及び/又は部分加水分解物の縮合物であることを特徴とする請求項1に記載の表面防汚性複合樹脂フィルム。
- 上記乾燥被膜に、シリカ微粒子を含有することを特徴とする請求項1又は2に記載の表面防汚性複合樹脂フィルム。
- シリカ微粒子が外殻を有する中空状シリカ微粒子であることを特徴とする請求項3に記載の表面防汚性複合樹脂フィルム。
- 上記乾燥被膜に、フッ化マグネシウム微粒子を含有することを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の表面防汚性複合樹脂フィルム。
- 上記乾燥被膜に、フッ素系多孔質微粒子を含有することを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の表面防汚性複合樹脂フィルム。
- 上記乾燥被膜に、屈折率1.50以上の金属酸化物微粒子を含有することを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の表面防汚性複合樹脂フィルム。
- 上記金属酸化物微粒子が導電性金属酸化物であることを特徴とする請求項7に記載の表面防汚性複合樹脂フィルム。
- 上記金属酸化物微粒子が光半導体であることを特徴とする請求項7に記載の表面防汚性複合樹脂フィルム。
- 上記ベースフィルムと最表面の乾燥被膜の層との間に、少なくとも1層の透明樹脂層が形成されていることを特徴とする請求項1乃至9のいずれかに記載の表面防汚性複合樹脂フィルム。
- 上記透明樹脂層が、透明樹脂フィルムから形成されていることを特徴とする請求項10に記載の表面防汚性複合樹脂フィルム。
- 上記透明樹脂層が、コーティングによる乾燥被膜から形成されていることを特徴とする請求項10に記載の表面防汚性複合樹脂フィルム。
- 上記透明樹脂層が、光拡散手段を有して形成されていることを特徴とする請求項10乃至12のいずれかに記載の表面防汚性複合樹脂フィルム。
- 上記光拡散手段が、紫外線吸収機能を有する無機粒子で形成されていることを特徴とする請求項13に記載の表面防汚性複合樹脂フィルム。
- 上記最表面の層を形成する乾燥被膜の屈折率が、直下の層の屈折率よりも0.3以上小さいことを特徴とする請求項1乃至14のいずれかに記載の表面防汚性複合樹脂フィルム。
- 上記最表面の層を形成する乾燥被膜の屈折率が、直下の層の屈折率よりも0.3以上大きいことを特徴とする請求項1乃至14のいずれかに記載の表面防汚性複合樹脂フィルム。
- 上記ベースフィルムの裏面に、着色印刷層が形成されていることを特徴とする請求項1乃至16のいずれかに記載の表面防汚性複合フィルム。
- 上記請求項1乃至17のいずれかに記載の表面防汚性複合樹脂フィルムが、熱融着、接着剤による接着、粘着剤による接着から選ばれる手段で、物品の表面に貼着されて成ることを特徴とする表面防汚性物品。
- 上記物品が太陽電池モジュールであることを特徴とする請求項18に記載の表面防汚性物品。
- 上記請求項17に記載の表面防汚性複合樹脂フィルムが、板材の表面に貼着されて成ることを特徴とする化粧板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002307498A JP4048912B2 (ja) | 2002-10-22 | 2002-10-22 | 表面防汚性複合樹脂フィルム、表面防汚性物品、化粧板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002307498A JP4048912B2 (ja) | 2002-10-22 | 2002-10-22 | 表面防汚性複合樹脂フィルム、表面防汚性物品、化粧板 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004142161A true JP2004142161A (ja) | 2004-05-20 |
JP4048912B2 JP4048912B2 (ja) | 2008-02-20 |
Family
ID=32453934
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002307498A Expired - Fee Related JP4048912B2 (ja) | 2002-10-22 | 2002-10-22 | 表面防汚性複合樹脂フィルム、表面防汚性物品、化粧板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4048912B2 (ja) |
Cited By (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006057046A (ja) * | 2004-08-23 | 2006-03-02 | Diatex Co Ltd | 防汚性オーバーラミシート |
JP2006076184A (ja) * | 2004-09-10 | 2006-03-23 | Diatex Co Ltd | 防汚性シート |
JP2006084764A (ja) * | 2004-09-16 | 2006-03-30 | Diatex Co Ltd | 防汚性表示シート |
WO2006137173A1 (ja) * | 2005-06-22 | 2006-12-28 | Ube-Nitto Kasei Co., Ltd. | 防汚性印刷用基材およびそれを用いた印刷物、印刷体 |
WO2007131474A1 (de) | 2006-05-17 | 2007-11-22 | Nano-X Gmbh | Beschichtungsmaterial |
JP2008500208A (ja) * | 2004-05-28 | 2008-01-10 | ピーピージー インダストリーズ オハイオ, インコーポレイテッド | 多層コーティングおよび関連する方法 |
JP2008050380A (ja) * | 2006-08-22 | 2008-03-06 | Snt Co | 撥水剤およびその使用 |
EP1887059A4 (en) * | 2005-06-02 | 2008-12-17 | Asahi Glass Co Ltd | HOLLOWED SiO2 DISPERSION, COATING COMPOSITION, AND SUBSTRATE WITH ANTIREFLECTION COVER |
JP2009053373A (ja) * | 2007-08-24 | 2009-03-12 | Panasonic Electric Works Co Ltd | 反射防止膜付き基材 |
WO2011096320A1 (ja) | 2010-02-05 | 2011-08-11 | コニカミノルタオプト株式会社 | フィルムミラー、太陽熱発電用フィルムミラー及び太陽光発電用反射装置 |
JP2011178137A (ja) * | 2010-03-04 | 2011-09-15 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 親油性表面層材料、及び、親油性化粧板 |
JP2011186478A (ja) * | 2011-03-22 | 2011-09-22 | Diatex Co Ltd | 防汚性オーバーラミシート |
WO2012098971A1 (ja) | 2011-01-19 | 2012-07-26 | コニカミノルタオプト株式会社 | フィルムミラー及び太陽熱発電用反射装置 |
KR101193870B1 (ko) | 2011-08-05 | 2012-10-26 | 주식회사 원풍 | 방오 성능이 우수한 지붕재 시트 및 그의 제조방법 |
WO2013094633A1 (ja) | 2011-12-21 | 2013-06-27 | コニカミノルタ株式会社 | 太陽光反射用フィルムミラー及び太陽熱発電用反射装置 |
WO2013103139A1 (ja) | 2012-01-06 | 2013-07-11 | コニカミノルタアドバンストレイヤー株式会社 | フィルムミラー、フィルムミラーの製造方法、太陽熱発電用フィルムミラー及び太陽熱発電用反射装置 |
US8916266B2 (en) | 2009-03-11 | 2014-12-23 | Asahi Kasei E-Materials Corporation | Coating composition, coating film, laminate, and process for production of laminate |
CN104552532A (zh) * | 2013-10-11 | 2015-04-29 | 抚顺森隆达木业有限公司 | 一种防静电地板制作工艺 |
JP2018049074A (ja) * | 2016-09-20 | 2018-03-29 | キヤノンファインテックニスカ株式会社 | 光学膜、該光学膜を備えた基材、及び該基材を有する光学デバイス |
WO2019208609A1 (ja) * | 2018-04-26 | 2019-10-31 | 住友化学株式会社 | シリコーン樹脂硬化膜及びシリコーン樹脂硬化膜の製造方法 |
CN114325887A (zh) * | 2020-10-09 | 2022-04-12 | 佳能株式会社 | 透光部件和护罩 |
JP2024500294A (ja) * | 2020-12-09 | 2024-01-09 | サン-ゴバン パフォーマンス プラスティックス コーポレイション | 反射防止コーティング付き複合フィルム |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104589746B (zh) * | 2015-01-13 | 2017-10-20 | 北京康得新功能材料有限公司 | 一种装饰用复合片材结构及其制备方法 |
-
2002
- 2002-10-22 JP JP2002307498A patent/JP4048912B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008500208A (ja) * | 2004-05-28 | 2008-01-10 | ピーピージー インダストリーズ オハイオ, インコーポレイテッド | 多層コーティングおよび関連する方法 |
JP2006057046A (ja) * | 2004-08-23 | 2006-03-02 | Diatex Co Ltd | 防汚性オーバーラミシート |
JP2006076184A (ja) * | 2004-09-10 | 2006-03-23 | Diatex Co Ltd | 防汚性シート |
JP2006084764A (ja) * | 2004-09-16 | 2006-03-30 | Diatex Co Ltd | 防汚性表示シート |
EP1887059A4 (en) * | 2005-06-02 | 2008-12-17 | Asahi Glass Co Ltd | HOLLOWED SiO2 DISPERSION, COATING COMPOSITION, AND SUBSTRATE WITH ANTIREFLECTION COVER |
WO2006137173A1 (ja) * | 2005-06-22 | 2006-12-28 | Ube-Nitto Kasei Co., Ltd. | 防汚性印刷用基材およびそれを用いた印刷物、印刷体 |
WO2007131474A1 (de) | 2006-05-17 | 2007-11-22 | Nano-X Gmbh | Beschichtungsmaterial |
JP2008050380A (ja) * | 2006-08-22 | 2008-03-06 | Snt Co | 撥水剤およびその使用 |
JP2009053373A (ja) * | 2007-08-24 | 2009-03-12 | Panasonic Electric Works Co Ltd | 反射防止膜付き基材 |
US9630208B2 (en) | 2009-03-11 | 2017-04-25 | Asahi Kasei E-Materials Corporation | Coating composition, coating film, laminate, and process for manufacturing the laminate |
US9833811B2 (en) | 2009-03-11 | 2017-12-05 | Asahi Kasei E-Materials Corporation | Coating composition, coating film, laminate and process for manufacturing the laminate |
US8916266B2 (en) | 2009-03-11 | 2014-12-23 | Asahi Kasei E-Materials Corporation | Coating composition, coating film, laminate, and process for production of laminate |
WO2011096320A1 (ja) | 2010-02-05 | 2011-08-11 | コニカミノルタオプト株式会社 | フィルムミラー、太陽熱発電用フィルムミラー及び太陽光発電用反射装置 |
JP2011178137A (ja) * | 2010-03-04 | 2011-09-15 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 親油性表面層材料、及び、親油性化粧板 |
WO2012098971A1 (ja) | 2011-01-19 | 2012-07-26 | コニカミノルタオプト株式会社 | フィルムミラー及び太陽熱発電用反射装置 |
JP2011186478A (ja) * | 2011-03-22 | 2011-09-22 | Diatex Co Ltd | 防汚性オーバーラミシート |
KR101193870B1 (ko) | 2011-08-05 | 2012-10-26 | 주식회사 원풍 | 방오 성능이 우수한 지붕재 시트 및 그의 제조방법 |
WO2013094633A1 (ja) | 2011-12-21 | 2013-06-27 | コニカミノルタ株式会社 | 太陽光反射用フィルムミラー及び太陽熱発電用反射装置 |
WO2013103139A1 (ja) | 2012-01-06 | 2013-07-11 | コニカミノルタアドバンストレイヤー株式会社 | フィルムミラー、フィルムミラーの製造方法、太陽熱発電用フィルムミラー及び太陽熱発電用反射装置 |
CN104552532B (zh) * | 2013-10-11 | 2016-07-13 | 抚顺森隆达木业有限公司 | 一种防静电地板制作工艺 |
CN104552532A (zh) * | 2013-10-11 | 2015-04-29 | 抚顺森隆达木业有限公司 | 一种防静电地板制作工艺 |
JP2018049074A (ja) * | 2016-09-20 | 2018-03-29 | キヤノンファインテックニスカ株式会社 | 光学膜、該光学膜を備えた基材、及び該基材を有する光学デバイス |
WO2019208609A1 (ja) * | 2018-04-26 | 2019-10-31 | 住友化学株式会社 | シリコーン樹脂硬化膜及びシリコーン樹脂硬化膜の製造方法 |
CN114325887A (zh) * | 2020-10-09 | 2022-04-12 | 佳能株式会社 | 透光部件和护罩 |
JP2022063262A (ja) * | 2020-10-09 | 2022-04-21 | キヤノン株式会社 | 透光部材およびシールド |
JP2022063027A (ja) * | 2020-10-09 | 2022-04-21 | キヤノン株式会社 | 透光部材およびシールド |
CN114325887B (zh) * | 2020-10-09 | 2024-08-09 | 佳能株式会社 | 透光部件和护罩 |
JP7661201B2 (ja) | 2020-10-09 | 2025-04-14 | キヤノン株式会社 | 透光部材およびシールド |
JP2024500294A (ja) * | 2020-12-09 | 2024-01-09 | サン-ゴバン パフォーマンス プラスティックス コーポレイション | 反射防止コーティング付き複合フィルム |
JP7551924B2 (ja) | 2020-12-09 | 2024-09-17 | サン-ゴバン パフォーマンス プラスティックス コーポレイション | 反射防止コーティング付き複合フィルム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4048912B2 (ja) | 2008-02-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4048912B2 (ja) | 表面防汚性複合樹脂フィルム、表面防汚性物品、化粧板 | |
JP4107050B2 (ja) | コーティング材組成物及びそれにより形成された被膜を有する物品 | |
KR100783714B1 (ko) | 코팅재 조성물 및 그것에 의해 형성된 피막을 가지는 물품 | |
JP4309744B2 (ja) | フッ素系複合樹脂フィルム及び太陽電池 | |
JP6633519B2 (ja) | 防曇膜つき透明物品 | |
JP2003202406A (ja) | 反射防止フィルム及びディスプレイ装置 | |
JP6118012B2 (ja) | 防曇性膜被覆物品 | |
CN1860196A (zh) | 具有低折射率及斥水性的覆膜 | |
JP4251093B2 (ja) | 照明装置 | |
JP2019500208A (ja) | 低放射率を有する被覆ポリマー基材を製造する方法 | |
JP6617699B2 (ja) | ガラス物品 | |
JP5357502B2 (ja) | 低屈折率コーティング材組成物及び塗装品 | |
JP2003202960A (ja) | タッチパネル | |
JP5942140B2 (ja) | 被覆部材 | |
JP4820152B2 (ja) | 複合被膜構造及び塗装外装材 | |
JP5310549B2 (ja) | 低屈折率被膜形成用塗布液、その製造方法及び反射防止材 | |
JP4725074B2 (ja) | コーティング材組成物及び塗装品 | |
WO2018198936A1 (ja) | 低反射膜付き透明基板、光電変換装置、低反射膜付き透明基板の低反射膜を形成するための塗工液及び低反射膜付き透明基板の製造方法 | |
JP4725073B2 (ja) | コーティング材組成物及び塗装品 | |
JP4438594B2 (ja) | コーティング材組成物及び塗装品 | |
JP3183806B2 (ja) | ゾルゲル膜およびその形成法 | |
JPH11320750A (ja) | 光触媒性親水性複合材料 | |
JP2005113048A (ja) | 樹脂成形品の製造方法 | |
JP2004351650A (ja) | 樹脂成形体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050819 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070802 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070807 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071009 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20071106 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20071119 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4048912 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101207 Year of fee payment: 3 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101207 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111207 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121207 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121207 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131207 Year of fee payment: 6 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |