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JP2003297238A - プラズマディスプレイパネルの製造方法 - Google Patents

プラズマディスプレイパネルの製造方法

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JP2003297238A
JP2003297238A JP2002102358A JP2002102358A JP2003297238A JP 2003297238 A JP2003297238 A JP 2003297238A JP 2002102358 A JP2002102358 A JP 2002102358A JP 2002102358 A JP2002102358 A JP 2002102358A JP 2003297238 A JP2003297238 A JP 2003297238A
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silver
electrode
forming
glass substrate
display panel
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JP2002102358A
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大輔 足立
Keisuke Sumita
圭介 住田
英樹 ▲芦▼田
Hideki Ashida
Morio Fujitani
守男 藤谷
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Priority to PCT/JP2003/004197 priority patent/WO2003085689A1/ja
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    • H01J11/00Gas-filled discharge tubes with alternating current induction of the discharge, e.g. alternating current plasma display panels [AC-PDP]; Gas-filled discharge tubes without any main electrode inside the vessel; Gas-filled discharge tubes with at least one main electrode outside the vessel
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  • Plasma & Fusion (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 銀材料を用いてもガラス基板の着色がなく、
高輝度なプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供
する。 【解決手段】 誘電体膜9が形成される前に、大気中の
硫黄化合物と反応して電極表面に生成した硫黄を含有す
る硫化銀(Ag2S)や亜硫酸銀(Ag2SO3)などの
銀化合物を除去する除去工程を加える。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、表示デバイス等に
用いるプラズマディスプレイパネルの製造方法に関し、
特にフロート法で製造されたガラス基板に銀を含む電極
を形成した場合のガラス基板の着色を抑え、パネルの製
造歩留まりを向上させることができる製造方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】高品位テレビジョン画像を大画面で表示
するためのディスプレイ装置として、プラズマディスプ
レイパネル(以下PDPと呼ぶ)を使用した装置への期
待が高まっている。
【0003】PDPは、基本的には、前面板と背面板と
で構成されている。前面板は、ガラス基板と、その一方
の主面上に形成されたストライプ状の透明電極およびバ
ス電極よりなる表示電極と、この表示電極を覆ってコン
デンサとしての働きをする誘電体膜と、この誘電体膜上
に形成されたMgO保護層とで構成されている。
【0004】ガラス基板としては大面積化が容易で平坦
性に優れたガラスの製造に適したフロート法によるガラ
ス基板を用い、薄膜プロセスにより透明電極を形成しそ
の上に導電性を確保するために銀材料を含むペーストを
パターン化した後焼成し、バス電極を形成している。さ
らに、コントラストを向上させるための遮光層用ペース
トをパターン化した後、焼成して形成し、これら全体を
覆うように誘電体膜ペーストを塗布し焼成して形成し、
最後にMgO保護層を広く知られている薄膜形成後術を
用いて形成している。
【0005】一方、背面板は、ガラス基板と、その一方
の主面上に形成されたストライプ状のアドレス電極と、
このアドレス電極を覆う誘電体膜と、その上に形成され
た隔壁と、各隔壁間に形成された、赤色、緑色および青
色でそれぞれ発光する蛍光体層とで構成されている。
【0006】前面板と背面板とはその電極形成面側を対
向させて気密封着され、隔壁によって形成された放電空
間にはNe−Xe等の放電ガスが400Torr〜60
0Torrの圧力で封入されている。表示電極に映像信
号電圧を選択的に印加することによって放電ガスを放電
させ、それによって発生した紫外線が各色蛍光体層を励
起して赤色、緑色、青色の発光をさせて、カラー画像表
示を実現している。
【0007】前面板にフロート法により製造されたガラ
ス基板を用い、その上に銀材料を用いた電極を形成する
とガラス基板の表面に着色層が形成されて黄色に変化す
ることが知られている(特開平10−255669号公
報、特開平11−246238号公報)。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】このような、フロート
ガラスが銀電極により着色あるいは発色する現象は、フ
ロートガラス上に存在する還元性の錫(Sn)と銀イオ
ン(Ag+)との酸化還元反応により銀コロイドが生成
し、波長350nmから450nm付近に光吸収が生じ
ることに起因すると考えられている。
【0009】すなわち、フロートガラスは、成形過程で
水素雰囲気にさらされるため、ガラス表面に厚さ数ミク
ロンの還元層が生成し、この層には溶融錫(Sn)由来
の錫イオン(Sn++)が存在する。ガラス基板に透明電
極を介して銀(Ag)のバス電極を形成する際の熱処理
により、バス電極から銀イオン(Ag+)が離脱し、こ
の銀イオン(Ag+)が透明電極上を拡散してガラス表
面に到達し、ガラス中に含まれるアルカリ金属のイオン
との間でイオン交換が生じ、ガラス中に銀イオン(Ag
+)が侵入する。侵入した銀イオン(Ag+)は還元層に
存在する錫イオン(Sn++)によって還元され、金属銀
(Ag)のコロイドを生成する。この銀(Ag)コロイ
ドによって、ガラス基板は黄色く着色あるいは発色す
る。フロート法はPDPのような大型表示装置に用いる
ガラス基板の製造に最も優れている方法であるが、溶融
した錫(Sn)上で形成するために、ガラス基板への錫
(Sn)の付着を避けることができない。
【0010】また、ガラス基板がこのように黄色に発色
あるいは着色した場合、PDPのような表示デバイスに
とっては致命的な欠陥となる。なぜなら、ガラス基板の
着色により青色の表示輝度が低下するため表示色度が変
化し、特に白色表示時には色温度が低下する等の画質が
劣化するからである。また、パネル全体が黄色く着色し
て見え、商品価値を下げるためでもある。このような銀
を含む電極の使用によって生じるガラス基板の発色ある
いは着色を、このガラス基板の電極形成面側を研磨し、
その表面に形成された還元性の層を除くことによって抑
制できることが明らかにされている(例:特開平10−
255669号公報)。これによれば、発色度合いの小
さいガラス基板を作製することができるものの、PDP
用ガラス基板の製造工程に適用しようとしたとき、表面
層の除去という工程を必要とすることから、その量産性
向上が新たな課題となっている。
【0011】本発明は、上記課題を解決するためになさ
れたものであり、フロートガラスを用いたPDP等の表
示装置に用いるガラス基板上に銀(Ag)を含む材料で
電極を形成する場合の銀イオン(Ag+)によるガラス
基板の着色(黄変)を低減できるPDPの製造方法を提
供することを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】ガラス基板の着色(黄
変)には銀イオン(Ag+)が必須であり、室温では銀
イオンは電極表面に生成した酸化銀(Ag2O)と硫黄
を含有する銀化合物(例えば硫化銀(Ag2S)や亜硫
酸銀(Ag2SO3))の形で存在する。焼成工程でこれ
らの銀化合物が分解する時に銀イオン(Ag+)として
電極から離脱し、この銀イオン(Ag+)が透明電極を
拡散してガラス表面に至り、ガラス中に含まれるナトリ
ウムイオン(Na+)等とイオン交換してガラス中に銀
イオン(Ag+)が侵入する。侵入した銀イオン(A
+)は還元層に存在する錫イオン(Sn++)によって
還元され、金属銀(Ag)のコロイドを形成してガラス
基板表面が着色される。
【0013】本発明のPDPの製造方法は、フロート法
により作製されたガラス基板に銀材料を含有する電極パ
ターンを形成する電極形成工程と、電極パターンを含む
ガラス基板に誘電体膜を形成する誘電体膜形成工程と、
誘電体膜に保護膜を形成する工程とを有するPDPの製
造方法であって、少なくとも誘電体膜形成工程の前に電
極パターンの表面層を除去する表面除去工程を有してい
る。この製造方法によれば、誘電体膜が形成される前
に、大気中の硫黄化合物と反応して電極表面に生成した
硫黄を含有する硫化銀(Ag2S)や亜硫酸銀(Ag2
3)等の銀化合物を除去することにより、誘電体膜の
焼成工程でのこれら化合物の分解を抑制することができ
る。
【0014】また本発明のPDPの製造方法において
は、さらに電極形成工程後にPDPのコントラストを向
上させるための遮光層を形成するための遮光層形成工程
と、遮光層を焼成するための遮光層焼成工程とを含み、
遮光層焼成工程の前に表面除去工程を有している。その
ため、遮光層の形成過程で電極表面に生成する銀化合物
を除去し、ガラス基板への銀イオン(Ag+)の拡散を
抑制することができる。
【0015】さらに本発明のPDPの製造方法は、表面
除去工程が電極表面に生成した硫黄を含む銀化合物の除
去工程を有する。常温・常圧の大気中の硫化水素と硫黄
酸化物の濃度は通常高々0.02ppmと極めて低いた
め、硫黄を含有する銀化合物の生成速度は比較的小さ
い。それゆえ、硫黄化合物の生成量制御および生成物除
去は容易に行うことができ、本製造方法により大気中に
放置した際に電極表面に生成される硫黄化合物を除去
し、基板への銀イオン拡散量の増加を抑制することがで
きる。
【0016】さらに本発明のPDPの製造方法は、表面
除去の方法として、銀イオンの還元反応を用いる方法や
研磨方法を用いる方法としており、プロセス中に導入す
ることが容易で確実に着色現象を抑制することができ
る。
【0017】さらに本発明のPDPの製造方法は、表面
除去工程を雰囲気温度が硫化銀(Ag2S)の分解反応
が促進される520℃以下の環境下で行うこととしてい
るため、硫黄化合物の分解を抑制した条件下で電極表面
に生成した硫黄化合物を確実に除去できる。
【0018】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を用いて説明する。
【0019】図1は、実施の形態に係るPDPの主要構
成を示す要部断面斜視図である。図において、z方向が
PDPの厚み方向に、またxy面がPDP面に平行な平
面に相当する。図2は図1のA−A断面矢視図である。
【0020】図1に示すように、PDPは、互いに対向
させて配置された前面板1および背面板2で構成され
る。前面板1において、前面ガラス基板3の背面板2側
の面上に、ストライプ状の透明電極4がx方向を長手方
向として複数本平行に形成されている。さらに透明電極
4よりも幅が狭く、導電性に優れたバス電極5が、図2
に示すように、奇数番目の透明電極4については長手方
向の一方の端縁に沿って、また偶数番目の透明電極4に
ついては長手方向の他方の端縁に沿ってそれぞれ透明電
極4上に配設されて、表示電極6が構成されている。隣
接する表示電極6の、バス電極5に覆われている端縁側
の間それぞれには、遮光層7が設けられている。この遮
光層7は非発光時に蛍光体層8からの白色を遮蔽し、コ
ントラストを向上させるためのものである。
【0021】そして、前面ガラス基板3の、表示電極6
と遮光層7とを配設した面上に、表示電極6上および遮
光層7上を含めて、誘電体膜9が形成され、さらに誘電
体膜9上全域に保護膜10が積層されている。
【0022】表示電極6は相隣り合う遮光層7の間に形
成された表示電極6Aと同6Bとで構成され、一つの表
示画素に対応している。
【0023】背面板2において、背面ガラス基板11
の、前面板1側の面上に、複数のアドレス電極12がy
方向を長手方向としてストライプ状に並設され、さらに
アドレス電極12を覆って背面板誘電体層13が形成さ
れている。そして、ストライプ状の隔壁14が、背面板
誘電体層13面の、アドレス電極12間の領域の直上に
位置するよう配設されている。隔壁14と背面板誘電体
層13とで構成されるストライプ状の凹部には、赤色、
緑色および青色で発光する蛍光体層8が規則的に配置、
形成されている。
【0024】このような構成を有する前面板1と背面板
2とは、図1に示すように、アドレス電極12と表示電
極6とが直交するように対向させて配置され、背面板2
の隔壁14および背面板誘電体層13で構成されたスト
ライプ状凹部と、前面板1の保護膜10とで囲まれた空
間には、放電ガスが充填され、前面板1および背面板2
の外周縁部が封着ガラスで封止されている。
【0025】これにより、隣接する隔壁14間に放電空
間15が形成され、図2に示すように、隣り合う一対の
表示電極6A、6Bと1本のアドレス電極12とが交叉
する領域が放電空間15となり、画像表示にかかわるセ
ルとなる。放電空間15には、He、XeまたはNe等
の希ガス成分からなる放電ガス(封入ガス)が400T
orr〜600Torr程度の圧力で封入されている。
【0026】PDP駆動時には各セルにおいて、アドレ
ス電極12と表示電極6、あるいは一対の表示電極6
A、同6B同士での放電によって短波長の紫外線(波長
約147nm)が発生し、蛍光体層8が発光して画像表
示がなされる。
【0027】本実施の形態における前面板1の具体的な
製造方法について説明する。図3および図4は本発明の
実施の形態に係る電極およびそれを用いたPDPの前面
板の製造工程の一例を概略的に示す流れ図であり、図3
は前面板1の遮光層7の形成プロセスの途中までを示
し、それ以降を図4に示している。図3において、第1
の工程A1は、フロート法で形成された前面ガラス基板
3上にITOや酸化錫(SnO2)等からなる透明電極
材料膜16をスパッタ法等により一様に成膜する工程で
ある。工程A2はフォトリソグラフィー法を用いて透明
電極材料膜16を所望の形状にパターニングし透明電極
4を形成する工程である。このときノボラック樹脂を主
成分とするポジ型レジスト17を1.5μm〜2μmの
膜厚で塗布し、所望のパターンの露光乾板18を介して
紫外線を露光し、レジストを硬化させる。前記紫外線の
光源19は超高圧水銀ランプであり、光量は300mJ
/cm2である。次にアルカリ水溶液で現像を行い、レ
ジストパターンを形成する。その後工程A3にて、塩酸
を主成分とする溶液に基板を浸積させてエッチングを行
い、不要部分の除去を行い、最後にレジストを剥離した
後、乾燥工程を経てパターンニングされた透明電極4が
形成される。工程A4は金属電極材料膜20を透明電極
4上に形成する工程である。この工程は用いられる材料
が銀(Ag)を材料に含有する導電性材料、ガラスフリ
ット(PbO−B23−SiO2系やBi23−B23
−SiO2系等)、重合開始剤、光硬化性モノマー、有
機溶剤を成分として含有するネガ型感光性ペーストであ
る。形成方法としてはスクリーン印刷法やシート法等が
用いられ、スクリーン印刷法の場合には乾燥工程を経て
次工程に進む。工程A5は金属電極材料膜20をパター
ン化して表示電極となるバス電極5を形成する工程であ
り、金属電極材料膜20に所望のパターンの露光乾板2
1を介して紫外線を照射し露光部を硬化させる。このと
きの紫外線の光源22は超高圧水銀ランプであり、光量
は300mJ/cm2である。次に工程A6において、
アルカリ性現像液(0.3wt%の炭酸ナトリウム水溶
液)を用いて現像してパターンを形成し、乾燥後空気中
でガラス材料の軟化点以上の温度で焼成を行い銀材料よ
りなる導電性に優れたバス電極5を前面ガラス基板3上
に形成された透明電極4上に固着させる。
【0028】本実施の形態では、バス電極5として一層
の電極で説明しているが、この電極部でのコントラスト
を向上させるために透明電極4上に黒色の電極を形成
し、さらにその上に銀材料よりなるバス電極5を形成し
ても良い。
【0029】工程A7は、バス電極5間からの背面板2
の蛍光体層8から白色反射を抑制しコントラストを向上
させるために設ける遮光層材料膜23の形成工程であ
る。この工程で用いられる材料は黒色顔料、ガラスフリ
ット(PbO−B23−SiO 2系やBi23−B23
−SiO2系等)、重合開始剤、光硬化性モノマー、有
機溶剤を成分として含有するネガ型感光性ペーストであ
る。ここで黒色顔料は例えば銅(Cu)、鉄(Fe)、
クロム(Cr)、マンガン(Mn)、コバルト(Co)
の酸化物の2種類以上を主成分として含む金属酸化物顔
料を用いている。形成方法としてはスクリーン印刷法や
シート法等が用いられ、スクリーン印刷法の場合には乾
燥工程を経て次工程に進む。
【0030】工程A8は、遮光層7を形成する工程であ
る。この工程は銀電極形成の工程A5と同様の露光プロ
セスであり、露光照度等の条件は異なるが工程としては
同一であるので説明は省略する。
【0031】次に図4について説明する。図4の工程は
図3の工程と連続している。工程A9において、アルカ
リ性現像液を用いて現像して遮光層7のパターンを形成
し、乾燥処理をする。
【0032】前述のように、ガラス基板の着色(黄変)
は特に電極表面に生成した酸化銀(Ag2O)と硫黄を
含有する銀化合物(例えば硫化銀(Ag2S)や亜硫酸
銀(Ag2SO3))とに起因しており、焼成工程でこれ
らの銀化合物が分解する時に銀イオン(Ag+)がガラ
ス基板へ拡散することによって発生する。したがって、
バス電極5が形成された工程A6から遮光層7が形成さ
れ焼成工程に入るまでの時間の中で、大気中の酸素ある
いは硫黄成分と銀(Ag)との化合物が形成されてい
る。したがって、本実施の形態では、これらのうち、電
極表面に形成される硫黄との銀化合物除去を目的とし
て、工程A10を設けている。
【0033】工程A10のバス電極5の表面に生成した
硫黄を含む銀化合物を除去する工程である。この工程で
は槽24内で0.1wt%に相当するアルミニウム(A
l)を溶解させた2wt%、80℃の炭酸水素ナトリウ
ム水溶液からなる処理液25にバス電極5を形成し、遮
光層7は乾燥工程まで経た前面板仕掛品26を15分間
侵積させて、バス電極表面に生成した硫黄を含む銀化合
物を除去する。その後、水洗を行い基板表面に残留した
銀イオン(Ag+)やナトリウムイオン(Na+)等を除
去している。この時、銀イオンとアルミニウムイオンと
の間の還元反応によりバス電極表面に生成した硫黄を含
む銀化合物を除去している。なお、本実施の形態では用
いたアルミニウム金属以外に、銀(Ag)よりもイオン
化傾向の低い他の金属を用いても良いことは言うまでも
ない。また、バス電極表面に生成した硫黄を含む銀化合
物の除去は、本実施の形態で示すアルミニウム(Al)
を溶解させた2wt%、80℃の炭酸水素ナトリウム水
溶液を用いる方法以外に、例えば、水素(H2)等還元
性雰囲気中で前面板仕掛品26を加熱して除去を行って
も良いし、その他にもバフ研磨法等の機械的手段によっ
て除去しても良く、本実施の形態に限定されるものでは
ない。また、バフ研磨等を用いて表面除去を行う場合、
その除去深さは工程の環境条件によっても変化するが、
一般的な常温常圧の大気環境中ではその表面から20n
mまで除去することにより硫黄を含む銀化合物を除去す
ることが可能である。そのため、簡易な機械的研磨の方
法によっても、他の構成要素に影響を与えることなく硫
黄を含む銀化合物の除去が可能であった。
【0034】工程A11は、バス電極5表面の硫黄を含
む銀化合物を除去した後の、遮光層7を焼成するプロセ
スである。硫黄を含む銀化合物がその前工程である工程
A10で除去されているため、焼成工程でこれらの銀化
合物が分解する時に銀イオン(Ag+)に変化すること
がなくなる。したがって、この銀イオン(Ag+)が透
明電極4を拡散してガラス表面に至り、ガラス中に含ま
れるナトリウムイオン(Na+)等とイオン交換してガ
ラス中に銀イオン(Ag+)が侵入する。侵入した銀イ
オン(Ag+)は還元層に存在する錫イオン(Sn++
によって還元され、金属銀(Ag)のコロイドを形成し
てガラス基板表面が着色されることもなくなる。
【0035】遮光層7を形成した後、誘電体膜9と保護
膜10を形成して前面板1が完成するが、誘電体膜9を
形成するまでに、大気中に放置しておくとバス電極5の
表面に硫黄との化合物が生成される。製造ラインとして
一定時間経過後に誘電体膜が形成される場合は硫黄との
化合物の制御が可能であるが、着色が発生しないレベル
とするには1時間〜2時間程度の放置時間しか許せな
い。そこで本実施の形態では、工程A12に再度の銀電
極表面除去工程を付加している。工程はA10と同様で
あるので説明を省略する。
【0036】工程A13は誘電体膜9を形成する工程で
ある。誘電体ガラス粉末を含むペーストをスクリーン印
刷法等を用いて画面表示領域の全面に塗布する。その
後、赤外線乾燥炉を用いた100℃、10分間の乾燥工
程によりペーストに含まれる溶剤は塗膜から除去され
る。スクリーン印刷法では一度の印刷では所望の膜厚の
塗膜が形成されないため、この印刷および乾燥工程を複
数回繰り返し所望の膜厚の誘電体材料膜を形成する。そ
の後600℃程度の温度で焼成して誘電体膜9を形成す
る。なお、このときの誘電体膜9の膜厚は約30μmで
ある。
【0037】工程A14は保護膜10の形成する工程で
ある。保護層はMgOからなり電子ビーム蒸着法によ
り、膜厚約600nmでパネルに一様に成膜される。こ
のようにして前面板1が完成する。この前面板1が背面
板2と貼り合わされてPDPが完成する。
【0038】なお、本実施の形態では、銀電極表面に生
成される硫黄を含む銀化合物除去を遮光層の焼成工程前
と誘電体膜形成工程前との2回行っているが、誘電体膜
形成工程前の一回だけで行うことでも着色を抑制する効
果はある。すなわち、銀電極と環境中に存在する硫黄分
との反応によって生成する化合物を焼成工程で分解され
る前に除去することによって着色を抑制できる。
【0039】また、図5には空気中の硫化銀(Ag
2S)の熱分解特性を示す。バス電極5の電極表面に生
成される硫化銀(Ag2S)は、温度が520℃を超え
ると急激に分解が進む。そこで本実施の形態によれば、
前述の銀電極表面除去工程を520℃以下で行うことで
その化合物の分解を抑制しながら効率的な化合物の除去
が可能となる。
【0040】表1には本実施の形態における図3、図4
に示す一連の工程により作成した場合と、従来の工程す
なわち硫黄を含む銀化合物を除去する工程がない場合と
の、前面板の着色度および工程途中での電極表面の硫黄
化合物層の厚みを示している。
【0041】
【表1】
【0042】表中の硫黄の検出深さは、図4の工程A1
0の硫黄を含む銀化合物の銀電極表面除去工程の直後に
バス電極の表面の組成をオージェ電子分光法により深さ
方向分析した。
【0043】また、完成した前面板の黄色着色度は、L
*a*b*表色系(CIE1976)のb*の値を計測
して比較した。なお、このとき光源はD65光源を用い
た。
【0044】その結果、従来品では5nmの深さまで硫
黄を含む銀化合物が検出されたのに対して、本実施の形
態による工程品からは検出されず、この工程で電極表面
の硫黄を含む銀化合物が除去されていることが確認され
た。また、着色度合いを示すb*は本実施の形態による
前面板では0.4であったのに対して、従来品では2.
0であり、本実施の形態による前面板が従来品よりも着
色強度が低いことを示している。
【0045】このように、硫黄を含む銀化合物の除去す
ることでガラス基板の黄色着色を防止することができ
た。
【0046】
【発明の効果】本発明のプラズマディスプレイパネルの
製造方法は、フロート法により作製されたガラス基板に
銀材料を含有する電極パターンを形成する電極形成工程
と、電極パターンを含むガラス基板に誘電体膜を形成す
る誘電体膜形成工程と、誘電体膜に保護膜を形成する工
程とを有するプラズマディスプレイパネルの製造方法
の、少なくとも誘電体膜形成工程の前に電極パターンの
電極表面を除去する表面除去工程を有しているため、誘
電体が形成される前に、大気中の硫黄と反応して電極表
面に沿って生成した硫黄を含有する銀化合物、例えば硫
化銀(Ag2S)や亜硫酸銀(Ag2SO3)等を含む層
を除去することにより、誘電体膜の焼成工程でのこれら
化合物の分解を抑制することができる。そのため、導電
性の優れた銀材料を用いた電極の場合でも、ガラス基板
の黄色着色を防止することが可能であり、輝度低下のな
い高品質のプラズマディスプレイパネルを提供すること
ができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】PDPの主要構成を示す要部断面斜視図
【図2】図1におけるA−A断面矢視図
【図3】本発明の実施の形態を示す遮光層形成の露光工
程までの工程流れ図
【図4】本発明の実施の形態を示す保護膜形成工程まで
の工程流れ図
【図5】Ag2Sの熱分解特性図
【符号の説明】
1 前面板 2 背面板 3 前面ガラス基板 4 透明電極 5 バス電極 6,6A,6B 表示電極 7 遮光層 8 蛍光体層 9 誘電体膜 10 保護膜 11 背面ガラス基板 12 アドレス電極 13 背面板誘電体層 14 隔壁 15 放電空間 16 透明電極材料膜 17 ポジ型レジスト 18,21 露光乾板 19,22 光源 20 金属電極材料膜 23 遮光層材料膜 24 槽 25 処理液 26 前面板仕掛品
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ▲芦▼田 英樹 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 藤谷 守男 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 5C027 AA01 5C040 FA01 FA04 GB03 GB14 GC05 GC18 GC19 GD09 JA23 JA28 KA01 LA17 MA10

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 フロート法によって作製されたガラス基
    板の一方の主面に銀材料を含有する表示電極となる電極
    パターンを形成する電極形成工程と、前記電極パターン
    の表面層を除去する表面除去工程と、前記電極パターン
    上を含む前記ガラス基板の一方の主面上に誘電体膜を形
    成する誘電体膜形成工程と、前記誘電体膜上に保護膜を
    形成する保護膜形成工程とを有することを特徴とするプ
    ラズマディスプレイパネルの製造方法。
  2. 【請求項2】 前記電極形成工程の後にさらに遮光層形
    成工程と遮光層焼成工程とを有し、前記遮光層焼成工程
    の前に前記電極パターンの表面層を除去する表面除去工
    程を有することを特徴とする請求項1に記載のプラズマ
    ディスプレイパネルの製造方法。
  3. 【請求項3】 前記表面除去工程は前記電極パターンの
    表面に生成した硫黄を含む銀化合物の除去工程であるこ
    とを特徴とする請求項1または請求項2に記載のプラズ
    マディスプレイパネルの製造方法。
  4. 【請求項4】 前記表面除去工程が銀イオンの還元反応
    を含む工程であることを特徴とする請求項3に記載のプ
    ラズマディスプレイパネルの製造方法。
  5. 【請求項5】 前記表面除去工程が前記電極パターンの
    表面を機械的に研磨する研磨工程であることを特徴とす
    る請求項3に記載のプラズマディスプレイパネルの製造
    方法。
  6. 【請求項6】 前記表面除去工程は520℃以下の雰囲
    気中で行われることを特徴とする請求項2から請求項5
    のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネルの製造
    方法。
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