JP2003119052A - 光透過シート、これを用いた発光装置、及び、光透過シートの製造方法 - Google Patents
光透過シート、これを用いた発光装置、及び、光透過シートの製造方法Info
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- JP2003119052A JP2003119052A JP2001314766A JP2001314766A JP2003119052A JP 2003119052 A JP2003119052 A JP 2003119052A JP 2001314766 A JP2001314766 A JP 2001314766A JP 2001314766 A JP2001314766 A JP 2001314766A JP 2003119052 A JP2003119052 A JP 2003119052A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 光反射防止機能を有して透過率の高い光透過
シート、その製造方法、発光装置を提供する。 【解決手段】 光透過シートは、透光性を有するシート
本体1の片側に受光面3を有するものであって、この受
光面3にエアロゲル層2を形成してなる。エアロゲル層
2が、シート本体側の屈折率が、外面側の屈折率より高
くなるように形成する。発光装置は、この光透過シート
と、この光透過シートのエアロゲル層2を形成した側に
発光体5を備え、エアロゲル層2と反対側に発光する。
シート、その製造方法、発光装置を提供する。 【解決手段】 光透過シートは、透光性を有するシート
本体1の片側に受光面3を有するものであって、この受
光面3にエアロゲル層2を形成してなる。エアロゲル層
2が、シート本体側の屈折率が、外面側の屈折率より高
くなるように形成する。発光装置は、この光透過シート
と、この光透過シートのエアロゲル層2を形成した側に
発光体5を備え、エアロゲル層2と反対側に発光する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、表面で光が反射す
ることを抑え、光透過性が良好な光透過シート、これを
用いた発光装置、及び、光透過シートの製造方法に関す
るものである。
ることを抑え、光透過性が良好な光透過シート、これを
用いた発光装置、及び、光透過シートの製造方法に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】シート状の基板に発光層を形成した平面
状の発光装置が利用されている。発光装置として、例え
ば、ガラス基板に有機エレクトロルミネッセンス素子を
形成した平面光源が挙げられる。この平面光源は、ガラ
スの屈折率が1.5程度、空気の屈折率が1.0である
ため、ガラス基材と外部(空気)との界面においてこの
屈折率の違いから、界面で一部の光が反射して外部に取
り出されずに、その発光量に対する輝度が低下してしま
う。そのため、平面状の発光装置として、輝度が良好な
ものが求められている。
状の発光装置が利用されている。発光装置として、例え
ば、ガラス基板に有機エレクトロルミネッセンス素子を
形成した平面光源が挙げられる。この平面光源は、ガラ
スの屈折率が1.5程度、空気の屈折率が1.0である
ため、ガラス基材と外部(空気)との界面においてこの
屈折率の違いから、界面で一部の光が反射して外部に取
り出されずに、その発光量に対する輝度が低下してしま
う。そのため、平面状の発光装置として、輝度が良好な
ものが求められている。
【0003】また、光を検知して測定する光検出装置に
おいても、センサーの受光部は、ガラス基板が汎用され
ており、受光面であるガラスと空気との界面で、これら
の屈折率の相違から、受光した光が全てガラス基材内に
透過できずに、受光面で光の一部が反射してしまう。そ
のため、透過率の高いものが求められている
おいても、センサーの受光部は、ガラス基板が汎用され
ており、受光面であるガラスと空気との界面で、これら
の屈折率の相違から、受光した光が全てガラス基材内に
透過できずに、受光面で光の一部が反射してしまう。そ
のため、透過率の高いものが求められている
【0004】
【発明が解決しようとする課題】そこで、上記ガラス基
材にSiO2/TiO2等の無機酸化物を積層した反射防
止膜を形成することが提案されている。上記反射防止膜
は、屈折率の異なる薄膜を、光の波長の1/4波長程度
のオーダーで制御しながら、複数層形成する方法が採用
されているが、この厚み制御が難しく、より容易に光反
射防止を備えたガラス基材等のシートが求められてい
る。
材にSiO2/TiO2等の無機酸化物を積層した反射防
止膜を形成することが提案されている。上記反射防止膜
は、屈折率の異なる薄膜を、光の波長の1/4波長程度
のオーダーで制御しながら、複数層形成する方法が採用
されているが、この厚み制御が難しく、より容易に光反
射防止を備えたガラス基材等のシートが求められてい
る。
【0005】一方、屈折率が1.5以下の材料としてシ
リカエアロゲルが注目されている。シリカエアロゲル
は、米国特許第4402927号明細書、米国特許第4
432956号明細書、米国特許第4610863号明
細書に開示されているように、アルコキシシラン(シリ
コンアルコキシドやアルキルシリケートとも称する)を
加水分解し、これを重合して得られるゲル状化合物を、
分散媒の存在下で、この分散媒の臨界点以上の超臨界条
件で乾燥することによって得ることができるものであ
る。また、シリカエアロゲルは、特開平5−27901
1号公報、特開平7−138375号公報に開示される
ように、シリカエアロゲルを疎水化処理することによっ
て、その耐湿性を高め、特性の低下を防ぐことができる
技術が開発されている。そして、この製法で作製された
シリカエアロゲルは、高断熱性、高電気絶縁性、低屈折
率性、低誘電率性などの特性を有しており、これら特性
を利用して各種の方面に応用することが期待されてい
る。
リカエアロゲルが注目されている。シリカエアロゲル
は、米国特許第4402927号明細書、米国特許第4
432956号明細書、米国特許第4610863号明
細書に開示されているように、アルコキシシラン(シリ
コンアルコキシドやアルキルシリケートとも称する)を
加水分解し、これを重合して得られるゲル状化合物を、
分散媒の存在下で、この分散媒の臨界点以上の超臨界条
件で乾燥することによって得ることができるものであ
る。また、シリカエアロゲルは、特開平5−27901
1号公報、特開平7−138375号公報に開示される
ように、シリカエアロゲルを疎水化処理することによっ
て、その耐湿性を高め、特性の低下を防ぐことができる
技術が開発されている。そして、この製法で作製された
シリカエアロゲルは、高断熱性、高電気絶縁性、低屈折
率性、低誘電率性などの特性を有しており、これら特性
を利用して各種の方面に応用することが期待されてい
る。
【0006】本発明は上記の事情に鑑みてなされたもの
で、その目的とするところは、光反射防止機能を有して
透過率の高い光透過シート、及び、その製造方法を提供
することにある。
で、その目的とするところは、光反射防止機能を有して
透過率の高い光透過シート、及び、その製造方法を提供
することにある。
【0007】さらに、本発明の他の目的とするところ
は、基板の透過率が高く、輝度が良好な発光装置を提供
することにある。
は、基板の透過率が高く、輝度が良好な発光装置を提供
することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、高断熱
性、高電気絶縁性、低屈折率性、低誘電率性などの特性
を有するシリカエアロゲルの開発を行っており、シリカ
エアロゲルがガラスと空気の屈折率の中間の屈折率に調
製することができるため、ガラス基材等のシート本体の
表面にシリカエアロゲルを形成すると、受光面の光反射
量が低減して入射する光量が増大できることを見出し、
さらに、研究を重ねた結果、シート本体側のシリカエア
ロゲルの屈折率が、外面側のシリカエアロゲルの屈折率
より低くなるように、屈折率を段階的または傾斜的に形
成することによって、光の透過率が飛躍的に向上するこ
とを見出し、本発明の完成に至ったものである。
性、高電気絶縁性、低屈折率性、低誘電率性などの特性
を有するシリカエアロゲルの開発を行っており、シリカ
エアロゲルがガラスと空気の屈折率の中間の屈折率に調
製することができるため、ガラス基材等のシート本体の
表面にシリカエアロゲルを形成すると、受光面の光反射
量が低減して入射する光量が増大できることを見出し、
さらに、研究を重ねた結果、シート本体側のシリカエア
ロゲルの屈折率が、外面側のシリカエアロゲルの屈折率
より低くなるように、屈折率を段階的または傾斜的に形
成することによって、光の透過率が飛躍的に向上するこ
とを見出し、本発明の完成に至ったものである。
【0009】また、本発明らは、研究を重ねた結果、有
機エレクトロルミネッセンス素子等の発光体を形成した
平面光源においても、発光体側にエアロゲル層を形成す
ると、特にシート本体側の屈折率が、外面側の屈折率よ
り高くなるように形成すると、エアロゲル層を通過した
光線がシート本体を通過するときに、発光面に対し入射
したときより垂直に近くなるため、シート本体と空気と
の界面で反射する光線量が低減し、輝度が高まることを
見出し、本発明の完成に至ったものである。
機エレクトロルミネッセンス素子等の発光体を形成した
平面光源においても、発光体側にエアロゲル層を形成す
ると、特にシート本体側の屈折率が、外面側の屈折率よ
り高くなるように形成すると、エアロゲル層を通過した
光線がシート本体を通過するときに、発光面に対し入射
したときより垂直に近くなるため、シート本体と空気と
の界面で反射する光線量が低減し、輝度が高まることを
見出し、本発明の完成に至ったものである。
【0010】請求項1記載の光透過シートは、透光性を
有するシート本体の片側に受光面を有するものであっ
て、この受光面にエアロゲル層を形成してなることを特
徴とする。
有するシート本体の片側に受光面を有するものであっ
て、この受光面にエアロゲル層を形成してなることを特
徴とする。
【0011】請求項2記載の光透過シートは、請求項1
記載の光透過シートにおいて、上記エアロゲル層の屈折
率は、シート本体側近傍の屈折率が、外面側近傍の屈折
率より高くなっていることを特徴とする。
記載の光透過シートにおいて、上記エアロゲル層の屈折
率は、シート本体側近傍の屈折率が、外面側近傍の屈折
率より高くなっていることを特徴とする。
【0012】請求項3記載の光透過シートは、請求項1
又は請求項2記載の光透過シートにおいて、上記エアロ
ゲル層が、複数の層からなり、シート本体側の層ほどエ
アロゲル層の屈折率が高くなるように形成したことを特
徴とする。
又は請求項2記載の光透過シートにおいて、上記エアロ
ゲル層が、複数の層からなり、シート本体側の層ほどエ
アロゲル層の屈折率が高くなるように形成したことを特
徴とする。
【0013】請求項4記載の光透過シートは、請求項1
乃至請求項3いずれか記載の光透過シートにおいて、上
記エアロゲル層が、アルコキシシランを加水分解し、重
合して得られたゲル状化合物を超臨界乾燥する前、ある
いは超臨界乾燥中に疎水化処理を施して疎水性を付与し
たものであることを特徴とする。
乃至請求項3いずれか記載の光透過シートにおいて、上
記エアロゲル層が、アルコキシシランを加水分解し、重
合して得られたゲル状化合物を超臨界乾燥する前、ある
いは超臨界乾燥中に疎水化処理を施して疎水性を付与し
たものであることを特徴とする。
【0014】請求項5記載の発光装置は、請求項1乃至
請求項4いずれか記載の光透過シートと、この光透過シ
ートのエアロゲル層を形成した側に発光体を備え、エア
ロゲル層と反対側の面に発光することを特徴とする。
請求項4いずれか記載の光透過シートと、この光透過シ
ートのエアロゲル層を形成した側に発光体を備え、エア
ロゲル層と反対側の面に発光することを特徴とする。
【0015】請求項6記載の発光装置は、請求項5記載
の発光装置において、上記発光体として、エアロゲル層
に当接して発光材料からなる発光層を備えることを特徴
とする。
の発光装置において、上記発光体として、エアロゲル層
に当接して発光材料からなる発光層を備えることを特徴
とする。
【0016】請求項7記載の光透過シートの製造方法
は、透光性を有するシート本体の表面に、アルコキシシ
ランの濃度が異なる複数のアルコキシシラン溶液を塗布
し、シート本体側近傍の屈折率が、外面側近傍の屈折率
より高くなるようにエアロゲル層を形成したことを特徴
とする。
は、透光性を有するシート本体の表面に、アルコキシシ
ランの濃度が異なる複数のアルコキシシラン溶液を塗布
し、シート本体側近傍の屈折率が、外面側近傍の屈折率
より高くなるようにエアロゲル層を形成したことを特徴
とする。
【0017】請求項8記載の光透過シートの製造方法
は、請求項7記載の光透過シートの製造方法において、
上記アルコキシシラン溶液に配合する溶媒に、沸点が1
00℃以上の溶媒を含むことを特徴とする。
は、請求項7記載の光透過シートの製造方法において、
上記アルコキシシラン溶液に配合する溶媒に、沸点が1
00℃以上の溶媒を含むことを特徴とする。
【0018】
【発明の実施の形態】本発明の光透過シートの第1の実
施の形態を図1(a)に基づいて説明する。上記光透過
シートは、シート本体1の片側に受光面3を有し、この
受光面3にエアロゲル層2を形成したものである。
施の形態を図1(a)に基づいて説明する。上記光透過
シートは、シート本体1の片側に受光面3を有し、この
受光面3にエアロゲル層2を形成したものである。
【0019】上記シート本体1は、透光性を有し、形成
したエアロゲル層2を表面に保持することができるもの
である。上記シート本体1の材料としては、例えば、ガ
ラス基材、アクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレート
樹脂(PET)、エポキシ樹脂、シリコン樹脂、シクロ
オレフィンポリマー、ポリカーボネート樹脂、フッ素樹
脂等のプラスチック基材、が挙げられる。上記シート本
体1の形状は、板状、フイルム状等特に限定されない。
したエアロゲル層2を表面に保持することができるもの
である。上記シート本体1の材料としては、例えば、ガ
ラス基材、アクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレート
樹脂(PET)、エポキシ樹脂、シリコン樹脂、シクロ
オレフィンポリマー、ポリカーボネート樹脂、フッ素樹
脂等のプラスチック基材、が挙げられる。上記シート本
体1の形状は、板状、フイルム状等特に限定されない。
【0020】上記エアロゲル層2は、透明で且つシート
本体1と空気との中間の屈折率を有するものであり、具
体的には、屈折率が1.003〜1.45程度のものが
挙げられる。
本体1と空気との中間の屈折率を有するものであり、具
体的には、屈折率が1.003〜1.45程度のものが
挙げられる。
【0021】光透過シートは、エアロゲル層2を受光面
3に有しているため、エアロゲル層2と空気との屈折率
の差が少ないため、エアロゲル層2と空気との界面で、
受光した光の反射量を低減し、エアロゲル層2を通過し
てシート本体1側に透過する光量を向上することができ
る。
3に有しているため、エアロゲル層2と空気との屈折率
の差が少ないため、エアロゲル層2と空気との界面で、
受光した光の反射量を低減し、エアロゲル層2を通過し
てシート本体1側に透過する光量を向上することができ
る。
【0022】上記エアロゲル層2を構成するエアロゲル
は、湿潤ゲルを臨界乾燥して得られるゲルが挙げられる
が、また、湿潤ゲルを非臨界乾燥して得られるゲルでも
よい。エアロゲルは、その空隙率が40容積%以上、好
ましくは60容積%以上、より好ましくは80容積%以
上のものが挙げられる。エアロゲルは、アルコキシシラ
ンから調製されるシリカエアロゲルが好適である。
は、湿潤ゲルを臨界乾燥して得られるゲルが挙げられる
が、また、湿潤ゲルを非臨界乾燥して得られるゲルでも
よい。エアロゲルは、その空隙率が40容積%以上、好
ましくは60容積%以上、より好ましくは80容積%以
上のものが挙げられる。エアロゲルは、アルコキシシラ
ンから調製されるシリカエアロゲルが好適である。
【0023】以下にシリカエアロゲルの場合について説
明する。シリカエアロゲルは、アルコキシシラン(シリ
コンアルコキシドやアルキルシリケートとも称する)
と、アルコキシシランを加水分解重合反応させる触媒
と、水と、さらに必要に応じて溶媒を混合して調合した
アルコキシシラン溶液を用いることができる。
明する。シリカエアロゲルは、アルコキシシラン(シリ
コンアルコキシドやアルキルシリケートとも称する)
と、アルコキシシランを加水分解重合反応させる触媒
と、水と、さらに必要に応じて溶媒を混合して調合した
アルコキシシラン溶液を用いることができる。
【0024】上記アルコキシシランとしては、シリカエ
アロゲルの原料として従来より公知の各種のものを用い
ることができるものであり、例えば、ジメチルジメトキ
シシラン、ジメチルジエトキシシラン等の2官能アルコ
キシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエ
トキシシラン等の3官能アルコキシシラン、テトラメト
キシシラン、テトラエトキシシラン等の4官能アルコキ
シシランが挙げられる。また、アルコキシシランを加水
分解重合反応させる触媒としては、アンモニア、フッ化
アンモニウム、水酸化ナトリウムなどの塩基性触媒を用
いることができる。
アロゲルの原料として従来より公知の各種のものを用い
ることができるものであり、例えば、ジメチルジメトキ
シシラン、ジメチルジエトキシシラン等の2官能アルコ
キシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエ
トキシシラン等の3官能アルコキシシラン、テトラメト
キシシラン、テトラエトキシシラン等の4官能アルコキ
シシランが挙げられる。また、アルコキシシランを加水
分解重合反応させる触媒としては、アンモニア、フッ化
アンモニウム、水酸化ナトリウムなどの塩基性触媒を用
いることができる。
【0025】さらに上記アルコキシシラン溶液の溶媒と
しては、水と相溶性を有し且つアルコキシシランを溶解
するものを用いるのが好ましく、例えば、メタノール、
エタノール、イソプロパノール等が挙げられるが、さら
に、溶媒に、沸点が100℃以上の溶媒を含むことが好
ましい。沸点が100℃以上の溶媒としては、N,N−
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジアセ
トンアルコール、エチレングリコール、エチレングリコ
ールモノブチルエーテル、酢酸チレングリコールモノエ
チルエーテル等のエチレングリコール誘導体、ジエチレ
ングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテ
ル等のジエチレングリコール誘導体が挙げられる。溶媒
に、沸点が100℃以上の溶媒を含むと、溶剤の揮発が
抑えられるため、エアロゲル作製のときに割れが生じる
ことを回避できる点で好ましい。
しては、水と相溶性を有し且つアルコキシシランを溶解
するものを用いるのが好ましく、例えば、メタノール、
エタノール、イソプロパノール等が挙げられるが、さら
に、溶媒に、沸点が100℃以上の溶媒を含むことが好
ましい。沸点が100℃以上の溶媒としては、N,N−
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジアセ
トンアルコール、エチレングリコール、エチレングリコ
ールモノブチルエーテル、酢酸チレングリコールモノエ
チルエーテル等のエチレングリコール誘導体、ジエチレ
ングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテ
ル等のジエチレングリコール誘導体が挙げられる。溶媒
に、沸点が100℃以上の溶媒を含むと、溶剤の揮発が
抑えられるため、エアロゲル作製のときに割れが生じる
ことを回避できる点で好ましい。
【0026】上記シリカエアロゲルは、アルコキシシラ
ンを加水分解し、これを重合して得られたシリカ骨格か
らなる湿潤状態のゲル状化合物を、アルコールあるいは
二酸化炭素の溶媒(分散媒とも記す)の存在下で、この
溶媒の臨界点以上の超臨界条件で乾燥することによって
製造することができる。超臨界乾燥は、例えば、ゲル状
化合物を、液化二酸化炭素中に浸漬し、ゲル状化合物が
含む溶媒の全部または一部をこの溶媒よりも臨界点が低
い液化二酸化炭素に置換し、その後、二酸化炭素の単独
系、あるいは二酸化炭素と溶媒の混合系の超臨界条件下
で乾燥することによって、行うことができる。
ンを加水分解し、これを重合して得られたシリカ骨格か
らなる湿潤状態のゲル状化合物を、アルコールあるいは
二酸化炭素の溶媒(分散媒とも記す)の存在下で、この
溶媒の臨界点以上の超臨界条件で乾燥することによって
製造することができる。超臨界乾燥は、例えば、ゲル状
化合物を、液化二酸化炭素中に浸漬し、ゲル状化合物が
含む溶媒の全部または一部をこの溶媒よりも臨界点が低
い液化二酸化炭素に置換し、その後、二酸化炭素の単独
系、あるいは二酸化炭素と溶媒の混合系の超臨界条件下
で乾燥することによって、行うことができる。
【0027】上記シリカエアロゲルは、アルコキシシラ
ンを加水分解し、これを重合して得られたゲル状化合物
を、疎水化処理を施して疎水性を付与することが好まし
い。疎水性を付与したシリカエアロゲルは、湿気や水の
浸入を抑え、屈折率や光透過性が劣化することを防ぐこ
とができる。
ンを加水分解し、これを重合して得られたゲル状化合物
を、疎水化処理を施して疎水性を付与することが好まし
い。疎水性を付与したシリカエアロゲルは、湿気や水の
浸入を抑え、屈折率や光透過性が劣化することを防ぐこ
とができる。
【0028】上記疎水化処理は、ゲル状化合物を超臨界
乾燥する前、あるいは超臨界乾燥中に行うことができ
る。疎水化処理を行う手法としては、例えば、疎水化処
理剤を溶媒に溶解させた疎水化処理液中にゲル状化合物
を浸漬し、混合するなどしてゲル状化合物内に疎水化処
理剤を浸透させた後、必要に応じて加熱し、疎水化処理
反応を行う方法等が挙げられる。上記疎水化処理は、ゲ
ル状化合物の表面に存在するシラノール基の水酸基を、
疎水化処理剤の有する官能基と反応させて疎水化するた
めに行うものである。
乾燥する前、あるいは超臨界乾燥中に行うことができ
る。疎水化処理を行う手法としては、例えば、疎水化処
理剤を溶媒に溶解させた疎水化処理液中にゲル状化合物
を浸漬し、混合するなどしてゲル状化合物内に疎水化処
理剤を浸透させた後、必要に応じて加熱し、疎水化処理
反応を行う方法等が挙げられる。上記疎水化処理は、ゲ
ル状化合物の表面に存在するシラノール基の水酸基を、
疎水化処理剤の有する官能基と反応させて疎水化するた
めに行うものである。
【0029】上記疎水化処理に用いる溶媒としては、例
えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、キ
シレン、トルエン、ベンゼン、N,N−ジメチルホルム
アミド、ヘキサメチルジシロキサン等が挙げられるが、
疎水化処理剤が容易に溶解し、かつ、疎水化処理前のゲ
ル状化合物が含有する溶媒と置換可能なものであれば、
上記に限定されるものではない。また、後の工程で超臨
界乾燥を行う場合、超臨界乾燥の容易な溶媒、例えば、
メタノール、エタノール、イソプロパノール、液体二酸
化炭素等と同一種類もしくはそれとの置換が容易なもの
の方が好ましい。
えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、キ
シレン、トルエン、ベンゼン、N,N−ジメチルホルム
アミド、ヘキサメチルジシロキサン等が挙げられるが、
疎水化処理剤が容易に溶解し、かつ、疎水化処理前のゲ
ル状化合物が含有する溶媒と置換可能なものであれば、
上記に限定されるものではない。また、後の工程で超臨
界乾燥を行う場合、超臨界乾燥の容易な溶媒、例えば、
メタノール、エタノール、イソプロパノール、液体二酸
化炭素等と同一種類もしくはそれとの置換が容易なもの
の方が好ましい。
【0030】また、上記疎水化処理剤としては、例え
ば、ヘキサメチルジシラザン、ヘキサメチルジシロキサ
ン、トリメチルメトキシシラン、ジメチルジメトキシシ
ラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシ
シラン、トリメチルエトキシシラン、ジメチルジエトキ
シシラン、メチルトリエトキシシラン等が挙げられる。
ば、ヘキサメチルジシラザン、ヘキサメチルジシロキサ
ン、トリメチルメトキシシラン、ジメチルジメトキシシ
ラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシ
シラン、トリメチルエトキシシラン、ジメチルジエトキ
シシラン、メチルトリエトキシシラン等が挙げられる。
【0031】上記シリカエアロゲルは、多孔質であり、
上記アルコキシシラン溶液の含有するアルコキシシラン
の濃度を調製することによって、屈折率が1.003と
空気の屈折率に近いものから、1.3程度のものまで作
製することが可能である。
上記アルコキシシラン溶液の含有するアルコキシシラン
の濃度を調製することによって、屈折率が1.003と
空気の屈折率に近いものから、1.3程度のものまで作
製することが可能である。
【0032】また、エアロゲルは、上記屈折率のもので
あれば、上記アルコキシシランから調製されるシリカエ
アロゲル以外のものを用いてもよい。他から調製される
シリカエアロゲルとしては、ケイ酸ナトリウムを原料と
して、製造したものでもよい。さらに、シリカエアロゲ
ル以外のエアロゲルとして、メラミン樹脂の湿潤ゲルを
形成した後に超臨界して得られるものでもよい。これら
エアロゲルのなかでも、アルコキシシランから上記製法
で得られたシリカエアロゲルは、低屈折率に加えて、耐
湿性に優れ、高断熱性、高電気絶縁性などの特性を有す
るので、長期にわたり、広範囲の環境や用途で使用でき
るため最適なものである。
あれば、上記アルコキシシランから調製されるシリカエ
アロゲル以外のものを用いてもよい。他から調製される
シリカエアロゲルとしては、ケイ酸ナトリウムを原料と
して、製造したものでもよい。さらに、シリカエアロゲ
ル以外のエアロゲルとして、メラミン樹脂の湿潤ゲルを
形成した後に超臨界して得られるものでもよい。これら
エアロゲルのなかでも、アルコキシシランから上記製法
で得られたシリカエアロゲルは、低屈折率に加えて、耐
湿性に優れ、高断熱性、高電気絶縁性などの特性を有す
るので、長期にわたり、広範囲の環境や用途で使用でき
るため最適なものである。
【0033】上記光透過シートを製造する方法は、例え
ば、シリカエアロゲルの場合、シート本体1の表面にア
ルコキシシランの濃度を調製した上記アルコキシシラン
溶液を塗布する。上記アルコキシシラン溶液を塗布する
方法は、スピンコーティング、ディップコーティング、
バーコーティング、ロールコーティング、スプレーコー
ティングなど任意の方法を用いることができる。アルコ
キシシラン溶液の組成に起因する粘度、ゲル化時間、ゲ
ル化までの特性の経時変化などに応じて適宜の方法を採
用することができるが、なかでも、汎用性を考慮すると
スピンコーティング法が最も好ましい。
ば、シリカエアロゲルの場合、シート本体1の表面にア
ルコキシシランの濃度を調製した上記アルコキシシラン
溶液を塗布する。上記アルコキシシラン溶液を塗布する
方法は、スピンコーティング、ディップコーティング、
バーコーティング、ロールコーティング、スプレーコー
ティングなど任意の方法を用いることができる。アルコ
キシシラン溶液の組成に起因する粘度、ゲル化時間、ゲ
ル化までの特性の経時変化などに応じて適宜の方法を採
用することができるが、なかでも、汎用性を考慮すると
スピンコーティング法が最も好ましい。
【0034】上記製造方法は、アルコキシシラン溶液中
のアルコキシシランが水と加水分解重合反応触媒の作用
で加水分解すると共に重合反応してゲル化し、シリカ骨
格からなる湿潤状態のゲル状化合物が形成される。そし
て、シート本体1の表面のゲル状化合物を養生する。こ
の養生工程を省くと、シリカエアロゲルはその構造の弱
さから、超臨界乾燥工程において白化や収縮を起こして
しまう。また、この養生を非乾燥雰囲気で行なわない
と、同様に白化や収縮を起こし、さらにクラックが発生
するおそれがある。
のアルコキシシランが水と加水分解重合反応触媒の作用
で加水分解すると共に重合反応してゲル化し、シリカ骨
格からなる湿潤状態のゲル状化合物が形成される。そし
て、シート本体1の表面のゲル状化合物を養生する。こ
の養生工程を省くと、シリカエアロゲルはその構造の弱
さから、超臨界乾燥工程において白化や収縮を起こして
しまう。また、この養生を非乾燥雰囲気で行なわない
と、同様に白化や収縮を起こし、さらにクラックが発生
するおそれがある。
【0035】その後、上記製造方法は、シート本体1の
表面のゲル状化合物を養生した後に、ゲル状化合物を超
臨界乾燥する。この超臨界乾燥に先立って、ゲル状化合
物を疎水化処理してもよいし、あるいは超臨界乾燥中に
疎水化処理してもよい。超臨界乾燥は、表面にゲル状化
合物を有するシート本体1を高圧容器に入れ、高圧容器
内で行うことができる。
表面のゲル状化合物を養生した後に、ゲル状化合物を超
臨界乾燥する。この超臨界乾燥に先立って、ゲル状化合
物を疎水化処理してもよいし、あるいは超臨界乾燥中に
疎水化処理してもよい。超臨界乾燥は、表面にゲル状化
合物を有するシート本体1を高圧容器に入れ、高圧容器
内で行うことができる。
【0036】次に、本発明の光透過シートの第2の実施
の形態を図1(b)に基づいて説明する。上記第1の実
施の形態と異なる点のみ説明する。
の形態を図1(b)に基づいて説明する。上記第1の実
施の形態と異なる点のみ説明する。
【0037】上記光透過シートは、エアロゲル層2が、
2層以上からなり、エアロゲル層2の屈折率が、外面側
のエアロゲル層ほど低くなるように形成する。すなわ
ち、図1(b)に示すような3層のエアロゲル層2a,
2b,2cを形成した光透過シートは、シート本体側の
エアロゲル層2aの屈折率が中間層のエアロゲル層2b
の屈折率より高く、外側のエアロゲル層2cの屈折率が
中間層のエアロゲル層2bの屈折率より低い。例えば、
シート本体1が屈折率が1.5のガラス基材なら、シー
ト本体側のエアロゲル層2aの屈折率は1.30程度、
中間層のエアロゲル層2bの屈折率は1.20程度、外
側のエアロゲル層2cの屈折率は1.10程度とする。
外側のエアロゲル層2cの屈折率が、より空気の屈折率
(1.0)に近くなっている。層間の界面で反射する光
の量は、層間の屈折率の差が大きい程多くなる。上記光
透過シートは、屈折率を段階的に変化させて、層の屈折
率の差を小さくすることにより、反射する光の量を少な
くすることができる。そして、上記光透過シートは、図
2に示すように、小さい角度で受光面3に入射した光線
4でも、エアロゲル層2を通過する毎に受光面3に対し
より大きい角度で透過していくものである。
2層以上からなり、エアロゲル層2の屈折率が、外面側
のエアロゲル層ほど低くなるように形成する。すなわ
ち、図1(b)に示すような3層のエアロゲル層2a,
2b,2cを形成した光透過シートは、シート本体側の
エアロゲル層2aの屈折率が中間層のエアロゲル層2b
の屈折率より高く、外側のエアロゲル層2cの屈折率が
中間層のエアロゲル層2bの屈折率より低い。例えば、
シート本体1が屈折率が1.5のガラス基材なら、シー
ト本体側のエアロゲル層2aの屈折率は1.30程度、
中間層のエアロゲル層2bの屈折率は1.20程度、外
側のエアロゲル層2cの屈折率は1.10程度とする。
外側のエアロゲル層2cの屈折率が、より空気の屈折率
(1.0)に近くなっている。層間の界面で反射する光
の量は、層間の屈折率の差が大きい程多くなる。上記光
透過シートは、屈折率を段階的に変化させて、層の屈折
率の差を小さくすることにより、反射する光の量を少な
くすることができる。そして、上記光透過シートは、図
2に示すように、小さい角度で受光面3に入射した光線
4でも、エアロゲル層2を通過する毎に受光面3に対し
より大きい角度で透過していくものである。
【0038】複数のエアロゲル層2を有する光透過シー
トを製造する方法は、例えば、アルコキシシランの濃度
が異なる複数のアルコキシシラン溶液を用い、シート本
体1の表面に、先ずアルコキシシランの濃度がより高い
アルコキシシラン溶液をスピンコーティング等によって
塗布し、アルコキシシランのゲル状化合物を形成した後
に、さらにその上にアルコキシシランの濃度がより低い
アルコキシシラン溶液を塗布してゲル状化合物を形成す
る。上記製造方法は、アルコキシシランの濃度の順にア
ルコキシシラン溶液を塗布してゲル状化合物を形成した
後に、これらゲル状化合物を養生し、その後、疎水化処
理及び超臨界乾燥を行う。
トを製造する方法は、例えば、アルコキシシランの濃度
が異なる複数のアルコキシシラン溶液を用い、シート本
体1の表面に、先ずアルコキシシランの濃度がより高い
アルコキシシラン溶液をスピンコーティング等によって
塗布し、アルコキシシランのゲル状化合物を形成した後
に、さらにその上にアルコキシシランの濃度がより低い
アルコキシシラン溶液を塗布してゲル状化合物を形成す
る。上記製造方法は、アルコキシシランの濃度の順にア
ルコキシシラン溶液を塗布してゲル状化合物を形成した
後に、これらゲル状化合物を養生し、その後、疎水化処
理及び超臨界乾燥を行う。
【0039】上記光透過シートのエアロゲル層2は、シ
ート本体側の屈折率が、外面側の屈折率より高くなるよ
うに形成することが好ましいものであるが、そのエアロ
ゲル層2は、第2の実施の形態のように複数のエアロゲ
ル層2a,2b・・を形成する以外に、単層でも可能で
ある。単層のエアロゲル層2で屈折率を変化させる方法
は、例えば、アルコキシシランの濃度が異なるアルコキ
シシラン溶液を2液用い、シート本体1の表面に、先ず
アルコキシシランの濃度がより高い第1のアルコキシシ
ラン溶液をスピンコーティング等によって塗布し、アル
コキシシランがゲル化した直後に、第2のアルコキシシ
ラン溶液を塗布する。ゲル化した直後としては、0〜3
分程度である。このとき、第2のアルコキシシラン溶液
の一部が、第1のアルコキシシラン溶液でゲル化したも
のの内部に拡散し、第1のアルコキシシラン溶液がゲル
化した際に残った未反応のシリケートと結合して、これ
らの界面のアルコキシシランの濃度が第1と第2の中間
の濃度となり、単層でも屈折率が徐々に変化したエアロ
ゲル層2となる。
ート本体側の屈折率が、外面側の屈折率より高くなるよ
うに形成することが好ましいものであるが、そのエアロ
ゲル層2は、第2の実施の形態のように複数のエアロゲ
ル層2a,2b・・を形成する以外に、単層でも可能で
ある。単層のエアロゲル層2で屈折率を変化させる方法
は、例えば、アルコキシシランの濃度が異なるアルコキ
シシラン溶液を2液用い、シート本体1の表面に、先ず
アルコキシシランの濃度がより高い第1のアルコキシシ
ラン溶液をスピンコーティング等によって塗布し、アル
コキシシランがゲル化した直後に、第2のアルコキシシ
ラン溶液を塗布する。ゲル化した直後としては、0〜3
分程度である。このとき、第2のアルコキシシラン溶液
の一部が、第1のアルコキシシラン溶液でゲル化したも
のの内部に拡散し、第1のアルコキシシラン溶液がゲル
化した際に残った未反応のシリケートと結合して、これ
らの界面のアルコキシシランの濃度が第1と第2の中間
の濃度となり、単層でも屈折率が徐々に変化したエアロ
ゲル層2となる。
【0040】上記光透過シートは、受光面3での光の反
射を抑え、光の透過率が高いものである。上記光透過シ
ートは、センサーの受光部、眼鏡のレンズ等に用いるこ
とができる。
射を抑え、光の透過率が高いものである。上記光透過シ
ートは、センサーの受光部、眼鏡のレンズ等に用いるこ
とができる。
【0041】次に、本発明の発光装置の実施の形態を、
図3に基づいて説明する。上記発光装置は、上述の光透
過シートのエアロゲル層2を形成した側に発光体5を備
え、エアロゲル層2と反対側6に発光するものである。
図3に基づいて説明する。上記発光装置は、上述の光透
過シートのエアロゲル層2を形成した側に発光体5を備
え、エアロゲル層2と反対側6に発光するものである。
【0042】上記発光体5としては、例えば、アントラ
セン、ナフタレン、ピレン、テトラセン、コロネン、ペ
リレン、フタロペリレン、ナフタロペリレン、ジフェニ
ルブタジエン、テトラフェニルブタジエン、クマリン、
オキサジアゾール、ビスベンゾキサゾリン、ビススチリ
ル、シクロペンタジエン、キノリン金属錯体、トリス
(8−ヒドロキシキノリナート)アルミニウム錯体、ト
リス(4−メチル−8−キノリナート)アルミニウム錯
体、トリス(5−フェニル−8−キノリナート)アルミ
ニウム錯体、アミノキノリン金属錯体、ベンゾキノリン
金属錯体、トリ−(p−ターフェニル−4−イル)アミ
ン、1−アリール−2,5−ジ(2−チエニル)ピロー
ル誘導体、ピラン、キナクリドン、ルブレン、ジスチル
ベンゼン誘導体、ジスチルアリーレン誘導体、及び各種
蛍光色素等が挙げられる。
セン、ナフタレン、ピレン、テトラセン、コロネン、ペ
リレン、フタロペリレン、ナフタロペリレン、ジフェニ
ルブタジエン、テトラフェニルブタジエン、クマリン、
オキサジアゾール、ビスベンゾキサゾリン、ビススチリ
ル、シクロペンタジエン、キノリン金属錯体、トリス
(8−ヒドロキシキノリナート)アルミニウム錯体、ト
リス(4−メチル−8−キノリナート)アルミニウム錯
体、トリス(5−フェニル−8−キノリナート)アルミ
ニウム錯体、アミノキノリン金属錯体、ベンゾキノリン
金属錯体、トリ−(p−ターフェニル−4−イル)アミ
ン、1−アリール−2,5−ジ(2−チエニル)ピロー
ル誘導体、ピラン、キナクリドン、ルブレン、ジスチル
ベンゼン誘導体、ジスチルアリーレン誘導体、及び各種
蛍光色素等が挙げられる。
【0043】上記発光体5をエアロゲル層2の表面に形
成する場合、形成方法は、真空蒸着法、電子ビーム蒸着
法、イオンプレーティング法、溶液にしてスクリーン印
刷等によって行うことができる。
成する場合、形成方法は、真空蒸着法、電子ビーム蒸着
法、イオンプレーティング法、溶液にしてスクリーン印
刷等によって行うことができる。
【0044】上記発光装置は、エアロゲル層2の屈折率
を段階的または傾斜的に変化させ、シート本体側のシリ
カエアロゲル2aの屈折率が、外面側のシリカエアロゲ
ルの屈折率2bより低くなるようにすることが好適であ
る。図中の符号7は、ブラックライト等の発光体5を発
光させる手段である。なお、発光体5として、有機エレ
クトロルミネッセンス素子(図示せず)を採用すること
ができる。
を段階的または傾斜的に変化させ、シート本体側のシリ
カエアロゲル2aの屈折率が、外面側のシリカエアロゲ
ルの屈折率2bより低くなるようにすることが好適であ
る。図中の符号7は、ブラックライト等の発光体5を発
光させる手段である。なお、発光体5として、有機エレ
クトロルミネッセンス素子(図示せず)を採用すること
ができる。
【0045】上記発光装置は、エアロゲル層2を通過し
た光線がシート本体1を通過するときにより垂直に近く
なるため、シート本体1と空気との界面で反射して内部
に残留する光線量が低減し、透過する光線量が増加する
ので、輝度が高まるものである。上記発光装置は、有機
エレクトロルミネッセンス素子を利用したディスプレー
の平面光源等に用いることができる。
た光線がシート本体1を通過するときにより垂直に近く
なるため、シート本体1と空気との界面で反射して内部
に残留する光線量が低減し、透過する光線量が増加する
ので、輝度が高まるものである。上記発光装置は、有機
エレクトロルミネッセンス素子を利用したディスプレー
の平面光源等に用いることができる。
【0046】
【実施例】本発明の効果を実施例及び比較例で確認し
た。屈折率は、分光エリプソメーター(ジェー・エー・
ウラーム・ジャパン株式会社製)を用いて測定した。
た。屈折率は、分光エリプソメーター(ジェー・エー・
ウラーム・ジャパン株式会社製)を用いて測定した。
【0047】(実施例1)シート本体としてソーダガラ
ス基板を用い、このガラス基板の上に2層のエアロゲル
層を以下のようにして形成した。
ス基板を用い、このガラス基板の上に2層のエアロゲル
層を以下のようにして形成した。
【0048】テトラメトキシシランのオリゴマー(コル
コート社製「メチルシリケート51」)とメタノール
を、質量比34:47で混合してA1液を調製した。ま
た、水と、28質量%アンモニア水と、メタノールとを
それぞれ質量比210:1:143で混合してB1液を
調製した。そして、A1液とB1液を17:18の質量
比で混合して第1のアルコキシシラン溶液を得た。この
第1のアルコキシシラン溶液を混合開始して1分経過し
た時点で、予め表面をアルカリ洗浄したソーダガラス板
の上に滴下し、スピンコーターの回転室にこのガラス板
を入れ、ガラス板を回転させてガラス板の表面にアルコ
キシシラン溶液をスピンコーティングした。ここで、ス
ピンコーターの回転室には、予めメタノールを入れてメ
タノール雰囲気になるようにしてあり、またガラス板の
回転は500rpmで2秒間行なった。このように第1
のアルコキシシラン溶液をスピンコーティングした後、
3分間放置してアルコキシシランをゲル化させた。
コート社製「メチルシリケート51」)とメタノール
を、質量比34:47で混合してA1液を調製した。ま
た、水と、28質量%アンモニア水と、メタノールとを
それぞれ質量比210:1:143で混合してB1液を
調製した。そして、A1液とB1液を17:18の質量
比で混合して第1のアルコキシシラン溶液を得た。この
第1のアルコキシシラン溶液を混合開始して1分経過し
た時点で、予め表面をアルカリ洗浄したソーダガラス板
の上に滴下し、スピンコーターの回転室にこのガラス板
を入れ、ガラス板を回転させてガラス板の表面にアルコ
キシシラン溶液をスピンコーティングした。ここで、ス
ピンコーターの回転室には、予めメタノールを入れてメ
タノール雰囲気になるようにしてあり、またガラス板の
回転は500rpmで2秒間行なった。このように第1
のアルコキシシラン溶液をスピンコーティングした後、
3分間放置してアルコキシシランをゲル化させた。
【0049】さらに、10分放置した後に、この上に第
2のアルコキシシラン溶液を塗布した。第2のアルコキ
シシラン溶液は、以下のようにして得た。テトラメトキ
シシランのオリゴマー(コルコート社製「メチルシリケ
ート51」)とメタノールを、質量比47:81で混合
してA2液を調製した。また、水と、28質量%アンモ
ニア水と、メタノールとをそれぞれ質量比50:1:8
1で混合してB2液を調製した。そして、A2液とB2
液を16:17の質量比で混合して第2のアルコキシシ
ラン溶液とした。この第2のアルコキシシラン溶液を混
合終了後、1分30秒経過した時点で、上記ゲル化した
ガラス板の上に滴下し、上述と同様の条件でスピンコー
ティングし、2層のゲル状化合物を形成した。次いで、
このゲル状化合物を形成したガラス板を、水:28質量
%アンモニア水:メタノール=210:1:418の質
量比の組成の養生溶液中に浸漬し、室温にて1昼夜養生
した。次に、ガラス板の表面に形成したゲル状化合物
を、ヘキサメチルジシラザンの10質量%イソプロパノ
ール溶液中に浸漬し、疎水化処理をした。その後、高圧
容器中に入れ、高圧容器内を液化炭酸ガスで満たし、8
0℃、16MPa、2時間の条件で超臨界乾燥をした。
これによって、ガラス板の表面に膜厚2μm、屈折率
1.2、その上に膜厚2μm、屈折率1.1の2層から
なるシリカエアロゲル層を形成した光透過シートを得
た。
2のアルコキシシラン溶液を塗布した。第2のアルコキ
シシラン溶液は、以下のようにして得た。テトラメトキ
シシランのオリゴマー(コルコート社製「メチルシリケ
ート51」)とメタノールを、質量比47:81で混合
してA2液を調製した。また、水と、28質量%アンモ
ニア水と、メタノールとをそれぞれ質量比50:1:8
1で混合してB2液を調製した。そして、A2液とB2
液を16:17の質量比で混合して第2のアルコキシシ
ラン溶液とした。この第2のアルコキシシラン溶液を混
合終了後、1分30秒経過した時点で、上記ゲル化した
ガラス板の上に滴下し、上述と同様の条件でスピンコー
ティングし、2層のゲル状化合物を形成した。次いで、
このゲル状化合物を形成したガラス板を、水:28質量
%アンモニア水:メタノール=210:1:418の質
量比の組成の養生溶液中に浸漬し、室温にて1昼夜養生
した。次に、ガラス板の表面に形成したゲル状化合物
を、ヘキサメチルジシラザンの10質量%イソプロパノ
ール溶液中に浸漬し、疎水化処理をした。その後、高圧
容器中に入れ、高圧容器内を液化炭酸ガスで満たし、8
0℃、16MPa、2時間の条件で超臨界乾燥をした。
これによって、ガラス板の表面に膜厚2μm、屈折率
1.2、その上に膜厚2μm、屈折率1.1の2層から
なるシリカエアロゲル層を形成した光透過シートを得
た。
【0050】(実施例2)シート本体として実施例1と
同様のソーダガラス基板を用い、このガラス基板の上に
3層のエアロゲル層を形成した。
同様のソーダガラス基板を用い、このガラス基板の上に
3層のエアロゲル層を形成した。
【0051】実施例1と同様にして、第1のアルコキシ
シラン溶液をスピンコーティングした後、3分間放置し
てアルコキシシランをゲル化させた。さらに、10分放
置した後に、この上に第3のアルコキシシラン溶液を塗
布した。第3のアルコキシシラン溶液は、以下のように
して得た。テトラメトキシシランのオリゴマー(コルコ
ート社製「メチルシリケート51」)とメタノールを、
質量比40:62で混合してA3液を調製した。また、
水と、28質量%アンモニア水と、メタノールとをそれ
ぞれ質量比112:1:130で混合してB3液を調製
した。そして、A3液とB3液を16:17の質量比で
混合して第3のアルコキシシラン溶液とした。この第3
のアルコキシシラン溶液を混合終了後1分30秒経過し
た時点で、上記ゲル化したガラス板の上に滴下し、上述
と同様の条件でスピンコーティングした。さらに、10
分放置した後に、この上に実施例1と同様にして調製し
た第2のアルコキシシラン溶液を滴下し、上述と同様の
条件でスピンコーティングし、3層のゲル状化合物を形
成した。その後、実施例1と同様にして、養生し、疎水
化処理をし、超臨界乾燥をした。これによって、ガラス
板の表面に膜厚2μm、屈折率1.2、その上にその上
に膜厚2μm、屈折率1.15、さらにその上に膜厚2
μm、屈折率1.1の3層からなるシリカエアロゲル層
を形成した光透過シートを得た。
シラン溶液をスピンコーティングした後、3分間放置し
てアルコキシシランをゲル化させた。さらに、10分放
置した後に、この上に第3のアルコキシシラン溶液を塗
布した。第3のアルコキシシラン溶液は、以下のように
して得た。テトラメトキシシランのオリゴマー(コルコ
ート社製「メチルシリケート51」)とメタノールを、
質量比40:62で混合してA3液を調製した。また、
水と、28質量%アンモニア水と、メタノールとをそれ
ぞれ質量比112:1:130で混合してB3液を調製
した。そして、A3液とB3液を16:17の質量比で
混合して第3のアルコキシシラン溶液とした。この第3
のアルコキシシラン溶液を混合終了後1分30秒経過し
た時点で、上記ゲル化したガラス板の上に滴下し、上述
と同様の条件でスピンコーティングした。さらに、10
分放置した後に、この上に実施例1と同様にして調製し
た第2のアルコキシシラン溶液を滴下し、上述と同様の
条件でスピンコーティングし、3層のゲル状化合物を形
成した。その後、実施例1と同様にして、養生し、疎水
化処理をし、超臨界乾燥をした。これによって、ガラス
板の表面に膜厚2μm、屈折率1.2、その上にその上
に膜厚2μm、屈折率1.15、さらにその上に膜厚2
μm、屈折率1.1の3層からなるシリカエアロゲル層
を形成した光透過シートを得た。
【0052】(実施例3)シート本体として実施例1と
同様のソーダガラス基板を用い、このガラス基板の上に
屈折率が徐々に変化した単層のエアロゲル層を形成し
た。
同様のソーダガラス基板を用い、このガラス基板の上に
屈折率が徐々に変化した単層のエアロゲル層を形成し
た。
【0053】実施例1と同様にして、第1のアルコキシ
シラン溶液をスピンコーティングした後、3分間放置し
てアルコキシシランをゲル化させた。その直後に、この
上に実施例1と同様に調製した第2のアルコキシシラン
溶液を滴下し、上述と同様の条件でスピンコーティング
した。その後、実施例1と同様にして、養生し、疎水化
処理をし、超臨界乾燥をした。これによって、ガラス板
の表面に膜厚4μm、シート本体側から外側に、屈折率
が1.2から1.1に変化した単層のシリカエアロゲル
層を形成した光透過シートを得た。
シラン溶液をスピンコーティングした後、3分間放置し
てアルコキシシランをゲル化させた。その直後に、この
上に実施例1と同様に調製した第2のアルコキシシラン
溶液を滴下し、上述と同様の条件でスピンコーティング
した。その後、実施例1と同様にして、養生し、疎水化
処理をし、超臨界乾燥をした。これによって、ガラス板
の表面に膜厚4μm、シート本体側から外側に、屈折率
が1.2から1.1に変化した単層のシリカエアロゲル
層を形成した光透過シートを得た。
【0054】(実施例4)シート本体として実施例1と
同様のソーダガラス基板を用い、このガラス基板の上に
単層のエアロゲル層を形成した。
同様のソーダガラス基板を用い、このガラス基板の上に
単層のエアロゲル層を形成した。
【0055】アルコキシシラン溶液として、実施例1の
第2のアルコキシシラン溶液を用いた。この第2のアル
コキシシラン溶液を混合開始して1分30秒経過した時
点で、予め表面をアルカリ洗浄したソーダガラス板の上
に滴下し、実施例1と同様の条件でスピンコーティング
し、単層のゲル状化合物を形成した。その後、実施例1
と同様にして、養生し、疎水化処理をし、超臨界乾燥を
した。これによって、ガラス板の表面に膜厚2μm、屈
折率1.1の単層のシリカエアロゲル層を形成した光透
過シートを得た。
第2のアルコキシシラン溶液を用いた。この第2のアル
コキシシラン溶液を混合開始して1分30秒経過した時
点で、予め表面をアルカリ洗浄したソーダガラス板の上
に滴下し、実施例1と同様の条件でスピンコーティング
し、単層のゲル状化合物を形成した。その後、実施例1
と同様にして、養生し、疎水化処理をし、超臨界乾燥を
した。これによって、ガラス板の表面に膜厚2μm、屈
折率1.1の単層のシリカエアロゲル層を形成した光透
過シートを得た。
【0056】(実施例5)アルコキシシラン溶液の溶媒
に、沸点が100℃以上の溶媒として、N,N−ジメチ
ルホルムアミドを用い、シート本体として実施例1と同
様のソーダガラス基板の上に2層のエアロゲル層を形成
した。
に、沸点が100℃以上の溶媒として、N,N−ジメチ
ルホルムアミドを用い、シート本体として実施例1と同
様のソーダガラス基板の上に2層のエアロゲル層を形成
した。
【0057】テトラメトキシシランのオリゴマー(コル
コート社製「メチルシリケート51」)とメタノール
を、質量比34:47で混合してA1液を調製した。ま
た、水と、28質量%アンモニア水と、N,N−ジメチ
ルホルムアミドとをそれぞれ質量比50:1:95で混
合してB4液を調製した。そして、A1液とB4液を1
6:17の質量比で混合して第4のアルコキシシラン溶
液とした。
コート社製「メチルシリケート51」)とメタノール
を、質量比34:47で混合してA1液を調製した。ま
た、水と、28質量%アンモニア水と、N,N−ジメチ
ルホルムアミドとをそれぞれ質量比50:1:95で混
合してB4液を調製した。そして、A1液とB4液を1
6:17の質量比で混合して第4のアルコキシシラン溶
液とした。
【0058】実施例1において、第1のアルコキシシラ
ン溶液に代わり、この第4のアルコキシシラン溶液を用
いた以外は、実施例1と同様にして、エアロゲル層を形
成した。これによって、ガラス板の表面に膜厚2μm、
屈折率1.2、その上に膜厚2μm、屈折率1.1の2
層からなるシリカエアロゲル層からなる光透過シートを
得た。
ン溶液に代わり、この第4のアルコキシシラン溶液を用
いた以外は、実施例1と同様にして、エアロゲル層を形
成した。これによって、ガラス板の表面に膜厚2μm、
屈折率1.2、その上に膜厚2μm、屈折率1.1の2
層からなるシリカエアロゲル層からなる光透過シートを
得た。
【0059】(比較例1)実施例1で用いたソーダガラ
ス基板を比較例1とした。
ス基板を比較例1とした。
【0060】(光透過率の測定)得られた実施例1〜
5、及び、比較例1の光透過率を測定した。エアロゲル
層側から光線を照射し、その透過率を自記分光光度計
(日立製作所株式会社製「U―3400」)で測定し
た。結果は、表1に示すとおり、実施例はいずれも、比
較例に比較して透過率が高かった。
5、及び、比較例1の光透過率を測定した。エアロゲル
層側から光線を照射し、その透過率を自記分光光度計
(日立製作所株式会社製「U―3400」)で測定し
た。結果は、表1に示すとおり、実施例はいずれも、比
較例に比較して透過率が高かった。
【0061】
【表1】
【0062】(実施例6)実施例1の光透過シートを用
い、このエアロゲル層の上に、発光体としてトリス(8
−ヒドロキシキノリナート)アルミニウム錯体(株式会
社同仁化学研究所製)を真空蒸着して、厚み0.1μm
で形成した。
い、このエアロゲル層の上に、発光体としてトリス(8
−ヒドロキシキノリナート)アルミニウム錯体(株式会
社同仁化学研究所製)を真空蒸着して、厚み0.1μm
で形成した。
【0063】(実施例7)実施例3の光透過シートを用
い、このエアロゲル層の上に、発光体としてトリス(8
−ヒドロキシキノリナート)アルミニウム錯体(株式会
社同仁化学研究所製)を真空蒸着して、厚み0.1μm
で形成した。
い、このエアロゲル層の上に、発光体としてトリス(8
−ヒドロキシキノリナート)アルミニウム錯体(株式会
社同仁化学研究所製)を真空蒸着して、厚み0.1μm
で形成した。
【0064】(比較例2)比較例1のガラス基板のみの
上に、発光体としてトリス(8−ヒドロキシキノリナー
ト)アルミニウム錯体(株式会社同仁化学研究所製)を
真空蒸着して、厚み0.1μmで形成した。
上に、発光体としてトリス(8−ヒドロキシキノリナー
ト)アルミニウム錯体(株式会社同仁化学研究所製)を
真空蒸着して、厚み0.1μmで形成した。
【0065】(輝度の測定)得られた実施例6、7、及
び、比較例2の輝度を測定した。発光体側から4Wのブ
ラックライトを80mmの高さから照射し、ガラス基板
側から発光する輝度を測定した。結果は、表2に示すと
おり、実施例はいずれも、比較例に比較して輝度が良好
であった。
び、比較例2の輝度を測定した。発光体側から4Wのブ
ラックライトを80mmの高さから照射し、ガラス基板
側から発光する輝度を測定した。結果は、表2に示すと
おり、実施例はいずれも、比較例に比較して輝度が良好
であった。
【0066】
【表2】
【0067】
【発明の効果】請求項1〜4に係る光透過シートは、受
光面にエアロゲル層を形成しているので、光反射防止機
能を有して透過率の高いものである。
光面にエアロゲル層を形成しているので、光反射防止機
能を有して透過率の高いものである。
【0068】請求項5〜6に係る発光装置は、基板の透
過率が高く、輝度が良好なものである。
過率が高く、輝度が良好なものである。
【0069】請求項7〜8に係る光透過シートの製造方
法は、光反射防止機能を有して透過率の高い光透過シー
トを得ることができる。
法は、光反射防止機能を有して透過率の高い光透過シー
トを得ることができる。
【図1】(a)は本発明の第1の実施の形態を示した概
略図、(b)は本発明の第2の実施の形態を示した概略
図である。
略図、(b)は本発明の第2の実施の形態を示した概略
図である。
【図2】第2の実施の形態で受光した光線を模式的に示
した概略図である。
した概略図である。
【図3】本発明の発光装置の実施の形態を示した概略図
である。
である。
1 シート本体
2、2a、2b、2c エアロゲル層、
3 受光面
4 光線
5 発光体
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 横山 勝
大阪府門真市大字門真1048番地松下電工株
式会社内
Fターム(参考) 2K009 AA02 AA05 CC03 CC09 CC42
DD02
4F100 AA20B AA20C AA20D AA20E
AG00 AR00A AR00B AR00C
AR00D AR00E BA02 BA03
BA04 BA05 BA10A BA10E
BA42 EH462 EJ212 EJ862
JB06B JB06C JB06D JB06E
JM01B JN01A JN06 JN18B
JN18C JN18D JN18E JN28E
4G059 AA01 AB09 AC04 CB05
Claims (8)
- 【請求項1】 透光性を有するシート本体の片側に受光
面を有するものであって、この受光面にエアロゲル層を
形成してなることを特徴とする光透過シート。 - 【請求項2】 上記エアロゲル層の屈折率は、シート本
体側近傍の屈折率が、外面側近傍の屈折率より高くなっ
ていることを特徴とする請求項1記載の光透過シート。 - 【請求項3】 上記エアロゲル層が、複数の層からな
り、シート本体側の層ほどエアロゲル層の屈折率が高く
なるように形成したことを特徴とする請求項1又は請求
項2記載の光透過シート。 - 【請求項4】 上記エアロゲル層が、アルコキシシラン
を加水分解し、重合して得られたゲル状化合物を超臨界
乾燥する前、あるいは超臨界乾燥中に疎水化処理を施し
て疎水性を付与したものであることを特徴とする請求項
1乃至請求項3いずれか記載の光透過シート。 - 【請求項5】 請求項1乃至請求項4いずれか記載の光
透過シートと、この光透過シートのエアロゲル層を形成
した側に発光体を備え、エアロゲル層と反対側の面に発
光することを特徴とする発光装置。 - 【請求項6】 上記発光体として、エアロゲル層に当接
して発光材料からなる発光層を備えることを特徴とする
請求項5記載の発光装置。 - 【請求項7】 透光性を有するシート本体の表面に、ア
ルコキシシランの濃度が異なる複数のアルコキシシラン
溶液を塗布し、シート本体側近傍の屈折率が、外面側近
傍の屈折率より高くなるようにエアロゲル層を形成した
ことを特徴とする光透過シートの製造方法。 - 【請求項8】 上記アルコキシシラン溶液に配合する溶
媒に、沸点が100℃以上の溶媒を含むことを特徴とす
る請求項7記載の光透過シートの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001314766A JP2003119052A (ja) | 2001-10-12 | 2001-10-12 | 光透過シート、これを用いた発光装置、及び、光透過シートの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001314766A JP2003119052A (ja) | 2001-10-12 | 2001-10-12 | 光透過シート、これを用いた発光装置、及び、光透過シートの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003119052A true JP2003119052A (ja) | 2003-04-23 |
Family
ID=19133026
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001314766A Pending JP2003119052A (ja) | 2001-10-12 | 2001-10-12 | 光透過シート、これを用いた発光装置、及び、光透過シートの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003119052A (ja) |
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-
2001
- 2001-10-12 JP JP2001314766A patent/JP2003119052A/ja active Pending
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