JP2003082105A

JP2003082105A - 気相重合法による伝導性高分子の合成方法及びその製造物

Info

Publication number: JP2003082105A
Application number: JP2001280290A
Authority: JP
Inventors: Yoru Kim Jin; ジン・ヨル・キム; Ryuru Kim En; エン・リュル・キム
Original assignee: Hanyang Hak Won Co Ltd
Current assignee: Hanyang Hak Won Co Ltd
Priority date: 2001-09-14
Filing date: 2001-09-14
Publication date: 2003-03-19
Anticipated expiration: 2021-09-14
Also published as: JP4318414B2

Abstract

(57)【要約】【課題】従来の方法より製造過程を短縮すると共に、
製造原価を節減することができる一方、薄膜特性が優秀
であり、電気伝導度を自由に調節することができる気相
重合法による伝導性分子の合成方法を提供する。【解決手段】本発明は基材表面に酸化剤を数μｍ単位
で塗布し、乾燥器で乾燥する段階と、酸化剤で塗布され
た基材に気体状態の単量体を接触させることで、基材の
表面で重合反応を行う段階と、重合が完了した後、未反
応単量体及び酸化剤を除去する洗浄段階とを含む伝導性
高分子の合成方法を提供することを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は気相重合法による伝
導性高分子の合成方法及びその製造物に係り、より詳し
く基材の表面に酸化剤を数μｍ単位で塗布し、乾燥器で
乾燥する段階と、酸化剤で塗布された基材に気体状態の
単量体を接触させることで、基材の表面で重合反応を行
う段階と、重合が完了した後、未反応単量体及び酸化剤
を除去する洗浄段階とを含むことを特徴とする伝導性高
分子の合成方法及びそれにより製造された伝導性高分
子、そして前記伝導性高分子を用いる方法に関する。

【０００２】過去数年間、複素環（heterocyclics）状
の伝導性高分子はフィルム状で電子部品及び各種センサ
などに適用されてきた。複素環式化合物のうち、ポリピ
ロール（polypyrrole）とポリチオフェン（polythiophe
ne）は合成が容易であり、合成された高分子は高い電気
伝導性と優秀な大気安定性を併せ持つので、合成とその
応用に関する研究が多く行われていた。

【０００３】前記化合物の合成法として、従来、電気化
学重合法（electro-chemical polymerization）や化学
酸化法（chemical oxidative polymerization）などが
知られているが、これらは他の共役系伝導性高分子と同
様に溶融や溶解ができないので、フィルム状に加工しに
くいという問題点がある。また、化学酸化法で合成され
た高分子は粒子状であり、電気化学法で合成された高分
子は薄いフィルム状に形成され、機械強度が低いので、
実際応用するのに多くの制限がある。

【０００４】上述した問題点を補完するために多くの研
究が行われており、一般的な方法としては、粒子状の伝
導性高分子を一般高分子と混合し、加工性と物性を強化
した複合材料を製造する方法が提案されている。特に、
薄い伝導性複合フィルムを製造する方法としては電気化
学重合法が広く知られているが、この方法は加工性又は
連続工程での製造に難点がある。最近、気相重合法の一
部が紹介されており、この方法は大体酸化剤が分散され
た一般高分子フィルムを主材料として用い、ここに単量
体の蒸気を接触させる方法を用いる。しかし、この場
合、反応時間がかなりかかるなどの付随的な問題が提起
されている。

【０００５】最近、伝導性フィルムは半導体ＩＣチップ
または精密電子機器の運搬用（shipping trayまたはcar
rier tape）はもとより、ディスプレイ用材料としても
使用できるなどその用途を拡大し得ると報告されてお
り、特に最近は電子波遮蔽材料としての機能が浮き彫り
になっている。しかし、前記伝導性フィルムは現在まで
伝導性高分子自体を重合した後、別途の塗布工程でフィ
ルム化する方法により製造されてきた。また、真空蒸着
による金属薄膜が透明導伝材料として用いられており、
これらは電極材料としては優秀な性能を持つが、真空成
形などの２次加工を必要とする材料としての使用は困難
であり、製造原価が高いという問題点がある。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は従来の方法より製造過程を短縮すると共に、製造原価
を節減することができる一方、薄膜特性が優秀であり、
電気伝導度を自由に調節することができる気相重合法に
よる伝導性高分子の合成方法を提供することにある。

【０００７】本発明の他の目的は前記合成方法に従って
製造された伝導性高分子を提供することにある。

【０００８】本発明のまた他の目的は前記製造された伝
導性高分子を電子部品素材及びディスプレイなどに用い
る方法を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は基材表面に酸化剤を数μｍ単位で塗布し、
乾燥器で乾燥する段階と、酸化剤で塗布された基材に気
体状態の単量体を接触させることで、基材の表面で重合
反応を行う段階と、重合が完了した後、未反応単量体及
び酸化剤を除去する洗浄段階とを備えたものであること
を特徴とする。

【００１０】

【発明の実施の形態】前記基材はプラスチック材または
金属材であり、前記プラスチック材はポリエステル（po
lyester）、ポリカーボネート（polycarbonate）、ポリ
エーテルサルホン（polyethersulfone）及び非結晶ポリ
エステル（amorphous polyester）(Ａ−ＰＥＴまたはＰ
ＥＴ−Ｇ)から構成される群から選択される。

【００１１】前記酸化剤はＣｕＣｌ_３、トルエンスルホ
ン酸鉄(III)（Iron(III)-toluenesulfonate）、過塩素
酸鉄(III)（Iron(III)-perchlorate）、ＦｅＣｌ_３及び
Ｃｕ（ＣｌＯ_４）_２・６Ｈ_２Ｏ（copper(II)-perchlora
tehexahydrate）から構成される群から選択され、前記
酸化剤はメチルアルコール（methyl alcohol）、２−ブ
チルアルコール（butyl alcohol）、エチルセロソルブ
（ethyl cellosolve）、エチルアルコール（ethyl alco
hol）、シクロヘキサン（cyclohexane）、アセトン（ac
etone）、エチルアセテート（ethyl acetate）、トルエ
ン（toluen）及びメチルエチルケトン（methyl ethyl k
etone）から構成される群から選択される有機溶剤の単
一または混合物に溶解させて製造される。前記溶剤は単
独または２個乃至４個を混合して用いることができ、例
えばメチルアルコール、２−ブチルアルコール及びエチ
ルセロソルブから構成される有機溶剤を７：２：１，
６：２：２，６：３：１，５：３：２の割合で混合して
用いる。前記酸化剤は全体重量に対して０．５重量％乃
至１０重量％の割合で製造される。

【００１２】前記酸化剤で塗布された基材は５０℃乃至
８０℃の乾燥器で０．１分間乃至８分間乾燥される。

【００１３】前記酸化剤の他にホスト高分子の添加が可
能であり、前記ホスト高分子はポリアクリル酸ブチル
（poly butyl acrylate）、ポリカーボネート(polycarb
onate)、ポリエステル（polyester）、ポリウレタン（p
olyurethane）、ポリ塩化ビニル（polyvinyl chlorid
e）、ポリビニルアルコール（polyvinyl alcohol）、メ
タクリル酸メチル（ＭＭＡ）を含む共重合樹脂、メチル
セルロース（methyl cellulose）及びキトサン（chitos
an）から構成される群から選択される紫外線（ＵＶ）ま
たは熱硬化型アクリル樹脂である。前記ホスト高分子は
全体重量に対して０．５重量％乃至５重量％の割合で製
造される。

【００１４】前記単量体はピロール（pyrrole）、チオ
フェン（thiophene）、フラン（furan）、セレノフェン
（selenophene）、２，３−ジヒドロチオ（dihydrothi
o）−３，４−ダイオキシン（dioxin）及びこれらの誘
導体から構成される群から選択される。

【００１５】蒸発室（vaporizing chamber）で前記単量
体が気化され、酸化剤で塗布された基材に接触されるこ
とにより重合反応が行われ、前記反応温度は０℃乃至１
００℃であり、反応時間は１０秒乃至４０分である。

【００１６】重合反応後の未反応単量体及び酸化剤はメ
タノールまたは水で洗浄される。

【００１７】前記一連の工程は段階的もしくは連続的な
工程で行われる。

【００１８】本発明に係る合成方法に従って製造された
伝導性高分子は次のような化学式の構造を持つ。

【００１９】

【化２】

【００２０】ここで、Ｘは硫黄（Ｓ：sulfur）、酸素
（Ｏ：oxygen）、セレニウム（Ｓｅ：selenium）及びＮ
Ｈから構成される群から選択され、Ｒ_１及びＲ_２は水
素、３個乃至１５個の炭素を含むアルキル基、３個乃至
１５個の炭素を含むエーテル（ether）、酸素原子を含
む環構造、ハロゲン元素及びベンゼン基から構成される
群から選択される。

【００２１】前記伝導性高分子は好ましくはポリピロー
ル（polypyrrole）、ポリチオフェン（polythiophen
e）、ポリフラン（polyfuran）、ポリセレノフェン（po
lyselenophene）及びこれらの誘導体であり、直径０．
０５μｍ乃至５μｍのフィルム状に製造される。

【００２２】本発明に従って製造された伝導性高分子は
静電気防止用、帯電防止用及び電子波遮蔽用として用
い、前記高分子を含めて２層以上の構造を持つ無反射フ
ィルム製造用として用い、また電子ディスプレイの機能
膜または透明電極層としても用いることができる。

【００２３】本発明は、酸化剤を高分子または金属など
の基材表面に数十Å乃至数百Å単位で薄く塗布した後、
伝導性高分子の単量体を気体状態の蒸気として発生させ
ながら、酸化剤で塗布されている前記基材の表面に接触
させることにより、直接重合反応を行えるようにしたも
ので、重合と同時に薄い薄膜の伝導性コーティングフィ
ルム状を得ることができる。

【００２４】従来の方法は伝導性高分子を合成し、ホス
ト高分子と混合した後、プラスチックまたは金属などの
基材表面に塗布する方法であり、合成から最終フィルム
状の製造まで５段階乃至６段階の工程を経るべきであ
る。特に、伝導性高分子物質の合成時に伴う原価を考慮
すると、本発明に係る伝導性高分子の製造方法は、僅か
２段階乃至３段階の簡単な工程を経るので、製造原価を
２／３以上節約することができるという長所があること
がわかる。

【００２５】本発明により製造される伝導性高分子とし
ては主に複素環式（heterocyclic）構造を持つ共役係高
分子、即ちポリピロール（polypyrrole）及びその誘導
体、ポリチオフェン（polythiophene）及びその誘導
体、ポリフラン（polyfuran）及びその誘導体、ポリセ
レノフェン（polyselenophene）及びその誘導体などが
挙げられ、前記化学式１で表現することができる。

【００２６】本発明は酸化剤としてＣｕ(ＣｌＯ_４)_２・
６Ｈ_２Ｏ、遷移金属化合物ＦｅＣｌ_３等の強酸性のル
イス酸（Lewis acid）を用い、これらは基材の材質に応
じて様々な混合溶媒を用いることで接着性を向上させ
る。場合によっては、前記酸化剤の他に固形分含量で約
５％以下のホスト高分子を用いることもできる。この場
合、ホスト高分子としてはポリウレタン（polyurethan
e）、ポリ塩化ビニル（polyvinyl chloride）、ポリビ
ニルアルコール（polyvinyl alcohol）を用い、場合に
よってはメチルセルロース（methyl cellulose）、キト
サン（chitosan）を用いることもできる。前記高分子物
質は一般的にフィルムとしての優秀な成形性と機械的な
強度を持ち、ピロール（pyrrole）などの単量体に対し
て高い親和力を示すので、気相重合時のホスト高分子と
して挙げられる。場合によっては接着力向上のために添
加剤を使用することもできる。

【００２７】本発明により製造された共役係高分子の電
気伝導度は１０^２Ω／□乃至１０^８Ω／□程度であり、
電気伝導度と機械的強度は酸化剤の濃度、合成時間及び
温度によって差違がある。特に、ピロールを単量体とし
て用いた場合は、反応時間、反応温度、反応溶媒及び酸
化剤などの変数が合成の伝導性高分子の微細構造及び電
気伝導度に大きく影響を及ぼす。また、ピロールは比較
的低い酸化電位（oxidation potential）と高い蒸気圧
を持つので、気相状態下で容易に化学反応を行うことが
できる。

【００２８】本発明に係る気相重合による伝導性高分子
の合成は温度条件０℃乃至１００℃で行われ、合成から
フィルム形成までの３段階で行われる。

【００２９】第１段階、プラスチックまたは金属などの
基材の表面に０．５重量％乃至１０重量％の酸化剤を数
μｍ単位で塗布する。この際の溶剤条件は使用基材の種
類によって異なり、通常２種乃至４種の有機溶剤を混合
して用いる。酸化剤で塗布された基材は酸化剤の変形を
考慮し、８０℃以下の熱風乾燥器で乾燥させる。

【００３０】第２段階、酸化剤で塗布された基材に上述
の重合単量体を気化して接触させることにより、基材の
表面で重合反応を行う。この際、単量体を気化させる方
法としては、密閉されたチャンバ内で単量体を０℃乃至
１００℃で蒸留させる方法と、ＣＶＤ（chemical vapor
deposition）装置による方法などが挙げられる。この
時、温度条件と反応時間の調整を必要とし、１０秒乃至
４０分程度所要されるが、一般的には標物性及び単量体
の種類によって異なる。

【００３１】第３段階、重合が完了した後、未反応の単
量体及び酸化剤を除去するための洗浄工程を行う。この
際の使用溶剤としては通常アルコール類を用い、場合に
よっては水で洗浄することもできる。上記のような一連
の工程は、段階的または連続的に行われることができ、
重合からフィルム化までの一連の作業工程で処理するこ
とができるという特徴を持つ。本発明により製造された
伝導性高分子フィルムは１Ｈ乃至３Ｈ程度の鉛筆強度を
維持し、接着性が優秀である。尚、通常アルコール類の
溶剤で安定した特性を示す。

【００３２】（実施例１）酸化剤としてのＦｅＣｌ_３を
メチルアルコール、２−ブチルアルコール及びエチルセ
ロソルブがそれぞれ７：２：１の割合で混合された溶媒
に重量比で２％溶解させた後、基材としてのポリエステ
ルフィルムにスピンコーティングした後、温度条件約６
０℃乃至７０℃で２分間乃至３分間乾燥させた。酸化剤
で塗布されたポリエステルフィルムは薄い黄色であっ
た。飽和状態のピロール単量体が生成されるように設計
されたＣＶＤチャンバ内で前記酸化剤塗布の基材を約２
０秒間乃至３０秒間反応させた後、未反応物を除去する
ためにメタノール溶媒で洗浄した。この時の反応チャン
バの温度は２０℃であった。結果として透明な褐色の伝
導性高分子ポリピロールフィルムを製造した。前記フィ
ルムはそれぞれ透過度が約７５％、直径が約１μｍ乃至
２μｍ、面抵抗が約１０^４Ω／□であり、イソプロピル
アルコール（isopropyl alcohol）などの有機溶剤に対
して安定しており、２００℃以上の高温処理に対しても
電気伝導度が変化しなかった。

【００３３】（実施例２）酸化剤としてのＦｅＣｌ_３を
メチルアルコール、２−ブチルアルコール及びエチルセ
ロソルブがそれぞれ６：２：２の割合で混合された溶媒
に重量比で２％溶解させた後、ホスト高分子としての分
子量８０，０００乃至１２０，０００のポリビニルアル
コールを全体重量比で１％添加した後、基材としてのポ
リエステルフィルムにスピンコーティングした後、温度
条件約６０℃乃至７０℃で２分間乃至３分間乾燥させ
た。酸化剤で塗布されたポリエステルフィルムは薄い黄
色であった。飽和状態のピロール単量体が生成されるよ
うに設計されたＣＶＤチャンバ内で前記酸化剤塗布の基
材を約２０秒間乃至３０秒間反応させた後、未反応物を
除去するためにメタノール溶媒で洗浄した。その結果と
して透明色の伝導性高分子フィルムを製造した。前記フ
ィルムはそれぞれ透過度が約７５％、直径が約１μｍ乃
至２μｍ、面抵抗が約１０^４Ω／□であり、イソプロピ
ルアルコールなどの有機溶剤に対して安定しており、２
００℃以上の高温処理に対しても電気伝導度が変化しな
かった。この場合、形成されたフィルムの均一性が高
く、伝導性高分子薄膜の表面程度が向上した。

【００３４】（実施例３）酸化剤としてのＣｕ（ＣｌＯ
_４）_２・６Ｈ_２Ｏをメチルアルコール、２−ブチルアル
コール及びエチルセロソルブがそれぞれ６：２：２の割
合で混合された溶媒に重量比で３％溶解させた後、ポリ
エステルフィルムにスピンコーティングした後、温度条
件約６０℃乃至７０℃で２分間乃至３分間乾燥させた。
飽和状態のピロール単量体が生成されるように設計され
たＣＶＤチャンバ内で前記酸化剤塗布の基材を約２０秒
間乃至３０秒間反応させた後、未反応物を除去するため
にメタノール溶媒で洗浄した。その結果として透明色の
伝導性高分子フィルムを製造した。前記フィルムは透過
度が約７５％、直径が約１μｍ乃至２μｍ、面抵抗が約
１０^３Ω／□であり、イソプロピルアルコールなどの有
機溶剤に対して安定しており、２００℃以上の高温処理
に対しても電気伝導度が変化しなかった。

【００３５】（実施例４）酸化剤としてのＦｅＣｌ_３を
メチルアルコール、２−ブチルアルコール及びエチルセ
ロソルブがそれぞれ６：３：１の割合で混合された溶媒
に重量比で３％溶解させた後、非結晶ポリエステルフィ
ルムにスピンコーティングした後、温度条件約６０℃乃
至７０℃で２分間乃至３分間乾燥させた。酸化剤で塗布
されたポリエステルフィルムは黄色であった。飽和状態
の２，３−ジヒドロチオ−３，４−ダイオキシン単量体
が生成されるように設計されたＣＶＤチャンバ内で前記
酸化剤塗布の基材を約３０分間乃至４０分間反応させた
後、未反応物を除去するためにメタノール溶媒で洗浄し
た。この時の反応温度は４５℃であった。その結果とし
て透明褐色の伝導性高分子フィルムを製造した。前記フ
ィルムは透過度が約７５％、直径が約１μｍ乃至２μ
ｍ、面抵抗が約５５０Ω／□であり、イソプロピルアル
コールなどの有機溶剤に対して安定し、２００℃以上の
高温処理に対しても電気伝導度が変化しなかった。

【００３６】（実施例５）実施例１において酸化剤とし
てのＦｅＣｌ_３を重量比で５％製造して用いた。

【００３７】（実施例６）実施例１において酸化剤とし
てのＦｅＣｌ_３を重量比で３％溶解させた後、ポリカー
ボネートフィルムに浸漬コーティングした後、温度条件
約６０℃乃至７０℃で２分乃至３分乾燥させた。

【００３８】（実施例７）実施例１において酸化剤とし
てのＦｅＣｌ_３を重量比で３％製造し、この時、溶媒条
件としてはメチルアルコール、２−ブチルアルコール及
びエチルセロソルブの割合をそれぞれ５：３：２とし
た。

【００３９】（実施例８）実施例２においてホスト高分
子としてメチルセルロースを使用した。

【００４０】（実施例９）実施例２において酸化剤とし
てＦｅＣｌ_３の代わりにＣｕ（ＣｌＯ_４）_２・６Ｈ_２Ｏ
を重量比で３％製造して使用し、反応温度は４５℃、反
応時間は２０秒乃至３０秒にした。

【００４１】（実施例１０）実施例３において酸化剤と
してのＦｅＣｌ_３を重量比で１０％製造して使用し、
２，３−ジヒドロチオ−３，４−ダイオキシン単量体を
使用した。この時の反応時間は４０分に調整した。

【００４２】（実施例１１）実施例１において酸化剤と
してのＦｅＣｌ_３を重量比で６％製造して使用し、フラ
ン単量体を使用した。この時の反応時間は３０分にし
た。

【００４３】本発明において面抵抗は４単刺法、透過度
は分光光度計（ＵＶ／ＶＩＳ spectrophotometer）を
用いて測定し、信頼性実験は８５℃／８５％ＲＨの高温
高湿条件下で測定し、そして硬度は鉛筆強度で測定し
た。熱安定性評価はDupont社のＴＧＡ２０５０分光計を
用いて測定範囲３０℃乃至５００℃で、熱速度１０℃／
分で行われた。

【００４４】本発明により製造された透明伝導性フィル
ムは酸化剤の厚さ、反応時間及び反応温度などに応じ
て、電気伝導度を２００Ω／□〜１０^８Ω／□の範囲で
自由に調節して製造することができ、静電気及び帯電防
止コーティング用はもとより、中抵抗以下の電極材料と
して用いることができる。また、前記伝導性高分子を含
めて２層以上の構造を持つ無反射フィルムの製造用及び
ディスプレイの機能膜として用いることができる。３倍
乃至５倍の延伸までは伝導度を維持することができるの
で成形材料としての特性もある。

【００４５】

【発明の効果】以上説明したように、本発明は気相重合
法を用いて製造過程を２段階乃至３段階に短縮させるこ
とにより、５段階乃至６段階の工程を経る従来の方法に
比べて、製造原価を２／３以上節減することができると
いう効果があり、また薄膜特性が優秀であり、電気伝導
度を自由に調節することができるので、電極材料、成形
材料などの多様な製品の製造に用いることができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｈ０１Ｂ 13/00 Ｈ０１Ｂ 13/00 ５０３Ｚ (72)発明者ジン・ヨル・キム韓国、キョンギ−ド、アニャン−シ、ドンギャン−ク、サムホ・アパートメント・ビサン−３・ドンナンバー17−803 (72)発明者エン・リュル・キム韓国、キョンギ−ド、ソンナム−シ、バンダン−ク、イムワン・アパートメント・ヒョジャチョン・192・ソヒュン−ドンナンバー305−501 Ｆターム(参考） 4J031 AA24 AA26 AA27 AA28 AC01 AE11 AF25 CA02 CA21 CA50 CB03 CE01 4J032 BA01 BA02 BA03 BA04 BA08 BA09 BA13 BA14 BB01 BC02 BC06 BC07 BC10 CE01 CG01 5G307 FA01 FA02 FB03 FC03 GA05 GB01 GC01 5G323 AA01 BA05 BB06

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基材表面に酸化剤を数μｍ単位で塗布
し、乾燥器で乾燥する段階と、酸化剤が塗布された基材
に気体状態の単量体を接触させることにより、基材の表
面で重合反応を行う段階と、重合が完了した後に未反応
単量体及び酸化剤を除去する洗浄段階と、を含むことを
特徴とする気相重合法による伝導性高分子の合成方法。
【請求項２】前記基材はプラスチック材または金属材
であることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】前記プラスチック材はポリエステル、ポ
リカーボネート、ポリアミド、ポリエーテルサルホン及
び非結晶ポリエステルから構成される群から選択される
ことを特徴とする請求項２記載の方法。
【請求項４】前記酸化剤はＣｕＣｌ_３、トルエンスル
ホン酸鉄(III)（Iron(III)-toluenesulfonate）、過塩
素酸鉄(III)（Iron(III)-perchlorate）、ＦｅＣｌ_３及
びＣｕ（ＣｌＯ_４）_２・６Ｈ_２Ｏから構成される群から
選択されることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項５】前記酸化剤はメチルアルコール、２−ブ
チルアルコール、エチルセロソルブ、エチルアルコー
ル、シクロヘキサン、アセトン、エチルアセテート、ト
ルエン及びメチルエチルケトンから構成される群から選
択される有機溶剤の単一または混合物に溶解させて製造
されることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項６】前記酸化剤は全体重量に対して０．５重
量％乃至１０重量％の割合で製造されることを特徴とす
る請求項５記載の方法。
【請求項７】前記酸化剤にホスト高分子を添加するこ
とを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項８】前記ホスト高分子はポリアクリル酸ブチ
ル、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリウレタン、
ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコール、メタクリル酸
メチル（ＭＭＡ）を含む共重合樹脂、メチルセルロース
及びキトサンから構成される群から選択される紫外線
（ＵＶ）または熱硬化型アクリル樹脂を特徴とする請求
項７記載の方法。
【請求項９】前記酸化剤及びホスト高分子はメチルア
ルコール、２−ブチルアルコール、エチルセロソルブ、
エチルアルコール、シクロヘキサン、アセトン、エチル
アセテート、トルエン及びメチルエチルケトンから構成
される群から選択される有機溶剤の単一または混合物に
溶解させて製造されることを特徴とする請求項７記載の
方法。
【請求項１０】前記ホスト高分子は全体重量に対して
０．５重量％乃至５重量％の割合で製造されることを特
徴とする請求項９記載の方法。
【請求項１１】前記単量体はピロール、チオフェン、
フラン、セレノフェン、２，３−ジヒドロチオ−３，４
−ダイオキシン及びこれらの誘導体から構成される群か
ら選択されることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項１２】前記単量体が蒸発室（vaporizing cha
mber）で気化され、前記酸化剤で塗布された基材に接触
されることにより重合反応が行われることを特徴とする
請求項１記載の方法。
【請求項１３】前記反応温度は０℃乃至１００℃であ
ることを特徴とする請求項１２記載の方法。
【請求項１４】前記反応時間は１０秒乃至４０分であ
ることを特徴とする請求項１２記載の方法。
【請求項１５】前記未反応単量体及び酸化剤をメタノ
ールまたは水で洗浄することを特徴とする請求項１記載
の方法。
【請求項１６】前記一連の工程は段階的もしくは連続
的に行われることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項１７】請求項１乃至請求項１６のうちのいず
れか１項に記載の方法で製造され、次のような化学式を
持つことを特徴とする伝導性高分子。【化１】（ここで、Ｘは硫黄（Ｓ）、酸素（Ｏ）、セレニウム
（Ｓｅ）及びＮＨから構成される群から選択され、Ｒ_１
及びＲ_２は水素、３個乃至１５個の炭素を含むアルキル
基、３個乃至１５個の炭素を含むエーテル、酸素原子を
含む環構造、ハロゲン元素及びベンゼン基から構成され
る群から選択される。）
【請求項１８】ポリピロール、ポリチオフェン、ポリ
フラン、ポリセレノフェン及びこれらの誘導体から構成
される群から選択されることを特徴とする請求項１７記
載の伝導性高分子。
【請求項１９】直径０．０５μｍ乃至５μｍのフィル
ム状であることを特徴とする請求項１７記載の伝導性高
分子。
【請求項２０】静電気防止用、帯電防止用及び電子波
遮蔽用として用いられることを特徴とする請求項１７記
載の伝導性高分子。
【請求項２１】高分子を含めて２層以上の構造を持つ
無反射フィルムの製造用として用いられることを特徴と
する請求項１７記載の伝導性高分子。
【請求項２２】電子ディスプレイの機能膜または透明
電極層として用いられることを特徴とする請求項１７記
載の伝導性高分子。