JP2003078105A - スタックチップモジュール - Google Patents
スタックチップモジュールInfo
- Publication number
- JP2003078105A JP2003078105A JP2001388916A JP2001388916A JP2003078105A JP 2003078105 A JP2003078105 A JP 2003078105A JP 2001388916 A JP2001388916 A JP 2001388916A JP 2001388916 A JP2001388916 A JP 2001388916A JP 2003078105 A JP2003078105 A JP 2003078105A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor chip
- chip
- pad
- stack
- module according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 53
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims abstract description 10
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 27
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 9
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000008393 encapsulating agent Substances 0.000 claims description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 abstract description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 16
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 3
- 239000000700 radioactive tracer Substances 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 229920001651 Cyanoacrylate Polymers 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- MWCLLHOVUTZFKS-UHFFFAOYSA-N Methyl cyanoacrylate Chemical compound COC(=O)C(=C)C#N MWCLLHOVUTZFKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 acrylic ester Chemical class 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 239000013034 phenoxy resin Substances 0.000 description 1
- 229920006287 phenoxy resin Polymers 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000008054 signal transmission Effects 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004634 thermosetting polymer Substances 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/12—Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/50—Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the groups H01L21/18 - H01L21/326 or H10D48/04 - H10D48/07 e.g. sealing of a cap to a base of a container
- H01L21/56—Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
- H01L21/563—Encapsulation of active face of flip-chip device, e.g. underfilling or underencapsulation of flip-chip, encapsulation preform on chip or mounting substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/34—Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
- H01L23/36—Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/28—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
- H01L24/29—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L24/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L25/00—Assemblies consisting of a plurality of semiconductor or other solid state devices
- H01L25/03—Assemblies consisting of a plurality of semiconductor or other solid state devices all the devices being of a type provided for in a single subclass of subclasses H10B, H10F, H10H, H10K or H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
- H01L25/04—Assemblies consisting of a plurality of semiconductor or other solid state devices all the devices being of a type provided for in a single subclass of subclasses H10B, H10F, H10H, H10K or H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
- H01L25/065—Assemblies consisting of a plurality of semiconductor or other solid state devices all the devices being of a type provided for in a single subclass of subclasses H10B, H10F, H10H, H10K or H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H10D89/00
- H01L25/0652—Assemblies consisting of a plurality of semiconductor or other solid state devices all the devices being of a type provided for in a single subclass of subclasses H10B, H10F, H10H, H10K or H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H10D89/00 the devices being arranged next and on each other, i.e. mixed assemblies
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L25/00—Assemblies consisting of a plurality of semiconductor or other solid state devices
- H01L25/03—Assemblies consisting of a plurality of semiconductor or other solid state devices all the devices being of a type provided for in a single subclass of subclasses H10B, H10F, H10H, H10K or H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
- H01L25/04—Assemblies consisting of a plurality of semiconductor or other solid state devices all the devices being of a type provided for in a single subclass of subclasses H10B, H10F, H10H, H10K or H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
- H01L25/065—Assemblies consisting of a plurality of semiconductor or other solid state devices all the devices being of a type provided for in a single subclass of subclasses H10B, H10F, H10H, H10K or H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H10D89/00
- H01L25/0657—Stacked arrangements of devices
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/0556—Disposition
- H01L2224/05571—Disposition the external layer being disposed in a recess of the surface
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/05573—Single external layer
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/161—Disposition
- H01L2224/16135—Disposition the bump connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
- H01L2224/16145—Disposition the bump connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32245—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
- H01L2224/45099—Material
- H01L2224/451—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/45138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/45144—Gold (Au) as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48247—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/4826—Connecting between the body and an opposite side of the item with respect to the body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73201—Location after the connecting process on the same surface
- H01L2224/73203—Bump and layer connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73201—Location after the connecting process on the same surface
- H01L2224/73203—Bump and layer connectors
- H01L2224/73204—Bump and layer connectors the bump connector being embedded into the layer connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73201—Location after the connecting process on the same surface
- H01L2224/73207—Bump and wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73201—Location after the connecting process on the same surface
- H01L2224/73215—Layer and wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73253—Bump and layer connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73265—Layer and wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/83—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
- H01L2224/831—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector the layer connector being supplied to the parts to be connected in the bonding apparatus
- H01L2224/83102—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector the layer connector being supplied to the parts to be connected in the bonding apparatus using surface energy, e.g. capillary forces
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/91—Methods for connecting semiconductor or solid state bodies including different methods provided for in two or more of groups H01L2224/80 - H01L2224/90
- H01L2224/92—Specific sequence of method steps
- H01L2224/921—Connecting a surface with connectors of different types
- H01L2224/9212—Sequential connecting processes
- H01L2224/92122—Sequential connecting processes the first connecting process involving a bump connector
- H01L2224/92125—Sequential connecting processes the first connecting process involving a bump connector the second connecting process involving a layer connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same main group of the same subclass of class H10, e.g. assemblies of rectifier diodes
- H01L2225/04—All the devices being of a type provided for in the same main group of the same subclass of class H10, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
- H01L2225/065—All the devices being of a type provided for in the same main group of the same subclass of class H10
- H01L2225/06503—Stacked arrangements of devices
- H01L2225/0651—Wire or wire-like electrical connections from device to substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same main group of the same subclass of class H10, e.g. assemblies of rectifier diodes
- H01L2225/04—All the devices being of a type provided for in the same main group of the same subclass of class H10, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
- H01L2225/065—All the devices being of a type provided for in the same main group of the same subclass of class H10
- H01L2225/06503—Stacked arrangements of devices
- H01L2225/06513—Bump or bump-like direct electrical connections between devices, e.g. flip-chip connection, solder bumps
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same main group of the same subclass of class H10, e.g. assemblies of rectifier diodes
- H01L2225/04—All the devices being of a type provided for in the same main group of the same subclass of class H10, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
- H01L2225/065—All the devices being of a type provided for in the same main group of the same subclass of class H10
- H01L2225/06503—Stacked arrangements of devices
- H01L2225/06572—Auxiliary carrier between devices, the carrier having an electrical connection structure
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same main group of the same subclass of class H10, e.g. assemblies of rectifier diodes
- H01L2225/04—All the devices being of a type provided for in the same main group of the same subclass of class H10, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
- H01L2225/065—All the devices being of a type provided for in the same main group of the same subclass of class H10
- H01L2225/06503—Stacked arrangements of devices
- H01L2225/06582—Housing for the assembly, e.g. chip scale package [CSP]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same main group of the same subclass of class H10, e.g. assemblies of rectifier diodes
- H01L2225/04—All the devices being of a type provided for in the same main group of the same subclass of class H10, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
- H01L2225/065—All the devices being of a type provided for in the same main group of the same subclass of class H10
- H01L2225/06503—Stacked arrangements of devices
- H01L2225/06589—Thermal management, e.g. cooling
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L24/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L24/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/00014—Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01005—Boron [B]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01033—Arsenic [As]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01078—Platinum [Pt]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01079—Gold [Au]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01082—Lead [Pb]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/12—Passive devices, e.g. 2 terminal devices
- H01L2924/1204—Optical Diode
- H01L2924/12042—LASER
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/1515—Shape
- H01L2924/15153—Shape the die mounting substrate comprising a recess for hosting the device
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/15165—Monolayer substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/181—Encapsulation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/30—Technical effects
- H01L2924/301—Electrical effects
- H01L2924/30105—Capacitance
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
- Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 放熱能力を向上させ、電気的及び機械的信頼
性を向上させたスタックチップモジュールを提供するこ
と。 【解決手段】 一側面に溝が備えられ、一端が該溝に隣
接して配置される回路パターンが備えられた基板と、前
記溝内に接着剤によって接着され、パッド形成面に互い
に電気的に接続されたセンターパッド及びエッジパッド
が備えられた第1半導体チップと、前記回路パターンと
前記第1半導体チップのエッジパッドを電気的に接続す
るゴールドワイヤと、前記第1半導体チップのセンター
パッドと対応してパッド形成面にセンターパッドが備え
られ、該パッド形成面が前記第1半導体チップのパッド
形成面と対向して配置された第2半導体チップと、前記
第1及び第2半導体チップのセンターパッドを接合し且
つ電気的に接続するバンプと、前記第2半導体チップの
側面付近を封止する封止剤とを備える。
性を向上させたスタックチップモジュールを提供するこ
と。 【解決手段】 一側面に溝が備えられ、一端が該溝に隣
接して配置される回路パターンが備えられた基板と、前
記溝内に接着剤によって接着され、パッド形成面に互い
に電気的に接続されたセンターパッド及びエッジパッド
が備えられた第1半導体チップと、前記回路パターンと
前記第1半導体チップのエッジパッドを電気的に接続す
るゴールドワイヤと、前記第1半導体チップのセンター
パッドと対応してパッド形成面にセンターパッドが備え
られ、該パッド形成面が前記第1半導体チップのパッド
形成面と対向して配置された第2半導体チップと、前記
第1及び第2半導体チップのセンターパッドを接合し且
つ電気的に接続するバンプと、前記第2半導体チップの
側面付近を封止する封止剤とを備える。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体装置に関し、
特に、放熱能力を向上させると共に、電気的及び機械的
信頼性を向上させたスタックチップモジュールに関す
る。
特に、放熱能力を向上させると共に、電気的及び機械的
信頼性を向上させたスタックチップモジュールに関す
る。
【0002】
【従来の技術】電気・電子製品の高性能化が進められる
に伴い、限定された大きさの基板により多数の半導体パ
ッケージを実装するための多くの技術が提案、研究され
ている。ところが、パッケージは1つの半導体チップが
搭載されることを基本としているため、望む実装密度を
得るには限界がある。
に伴い、限定された大きさの基板により多数の半導体パ
ッケージを実装するための多くの技術が提案、研究され
ている。ところが、パッケージは1つの半導体チップが
搭載されることを基本としているため、望む実装密度を
得るには限界がある。
【0003】メモリチップの容量増大、即ち、高集積化
を達成する方法として、限定された空間内により多数の
メモリセルを実装する技術が一般に知られているが、こ
のような方法は精密な微細線幅の形成が要求される等、
高精度の製造技術の開発に長期間を必要とする。したが
って、近年はより容易に高集積化を実現する方法として
スタッキング(stacking)技術が開発され、これに関す
る研究が活発に進められている。
を達成する方法として、限定された空間内により多数の
メモリセルを実装する技術が一般に知られているが、こ
のような方法は精密な微細線幅の形成が要求される等、
高精度の製造技術の開発に長期間を必要とする。したが
って、近年はより容易に高集積化を実現する方法として
スタッキング(stacking)技術が開発され、これに関す
る研究が活発に進められている。
【0004】半導体業界においてスタッキングとは、少
なくとも2つ以上の半導体チップをスタックしてメモリ
容量を倍増させる技術である。このようなスタッキング
によると、2つの64MDRAM級チップをスタックし
て128MDRAM級チップを構成することができ、さ
らに、2つの128MDRAM級チップをスタックして
256MDRAM級チップを構成することができる。
なくとも2つ以上の半導体チップをスタックしてメモリ
容量を倍増させる技術である。このようなスタッキング
によると、2つの64MDRAM級チップをスタックし
て128MDRAM級チップを構成することができ、さ
らに、2つの128MDRAM級チップをスタックして
256MDRAM級チップを構成することができる。
【0005】ここで、2つの半導体チップをスタックす
る方法には、封止された2つのパッケージをスタックす
る方法と、スタックされた2つのベアチップを1つのパ
ッケージ内に封止する方法とがある。以下において、各
方法によって製造される従来のスタックパッケージを、
図1及び図2を参照して説明する。
る方法には、封止された2つのパッケージをスタックす
る方法と、スタックされた2つのベアチップを1つのパ
ッケージ内に封止する方法とがある。以下において、各
方法によって製造される従来のスタックパッケージを、
図1及び図2を参照して説明する。
【0006】図1は、前者の方法によって製造された従
来のスタックパッケージを示す断面図である。図示され
ているように、2つの半導体パッケージ10a、10b
が上・下に配置されると共に、トップパッケージ10a
のアウターリードがボトムパッケージ10bのアウター
リードにボンディングされている。各パッケージ10
a、10bにおいて、半導体チップ1a、1bの一側面
上には接着剤3a、3bによってリードフレーム4a、
4bが接着されている。各リードフレーム4a、4bの
インナーリードは、ゴールドワイヤ5a、5bを介して
各半導体チップ1a、1bのボンディングパッド2a、
2bと電気的に接続されており、各半導体チップ1a、
1bと、これにワイヤボンディングされたリードフレー
ム4a、4bのインナーリードを含む空間領域は、リー
ドフレーム4a、4bのアウターリードだけが両側に露
出するように封止剤6a、6bによって封止されてい
る。
来のスタックパッケージを示す断面図である。図示され
ているように、2つの半導体パッケージ10a、10b
が上・下に配置されると共に、トップパッケージ10a
のアウターリードがボトムパッケージ10bのアウター
リードにボンディングされている。各パッケージ10
a、10bにおいて、半導体チップ1a、1bの一側面
上には接着剤3a、3bによってリードフレーム4a、
4bが接着されている。各リードフレーム4a、4bの
インナーリードは、ゴールドワイヤ5a、5bを介して
各半導体チップ1a、1bのボンディングパッド2a、
2bと電気的に接続されており、各半導体チップ1a、
1bと、これにワイヤボンディングされたリードフレー
ム4a、4bのインナーリードを含む空間領域は、リー
ドフレーム4a、4bのアウターリードだけが両側に露
出するように封止剤6a、6bによって封止されてい
る。
【0007】図2は、後者の方式によって製造された従
来のスタックパッケージを示す断面図である。図示され
ているように、2つの半導体チップ11a、11bがボ
ンディングパッド12a、12bの形成面が向き合うよ
うに配置されており、リードフレーム14a、14bが
接着剤13a、13bによって各半導体チップ11a、
11bのボンディングパッド12a、12bの形成面上
にそれぞれ接着されている。各リードフレーム14a、
14bのインナーリードは、ゴールドワイヤ15a、1
5bを介して各半導体チップ11a、11bのボンディ
ングパッド12a、12bと電気的に接続されており、
上部半導体チップ11aのボンディングパッド12aと
ワイヤボンディングされていないリードフレームの他端
は、下部半導体チップ11bのリードフレーム14bに
ボンディングされている。本スタックパッケージは、下
部半導体チップ11bのリードフレームのアウターリー
ドだけが両側に露出するように封止剤16によって封止
されている。
来のスタックパッケージを示す断面図である。図示され
ているように、2つの半導体チップ11a、11bがボ
ンディングパッド12a、12bの形成面が向き合うよ
うに配置されており、リードフレーム14a、14bが
接着剤13a、13bによって各半導体チップ11a、
11bのボンディングパッド12a、12bの形成面上
にそれぞれ接着されている。各リードフレーム14a、
14bのインナーリードは、ゴールドワイヤ15a、1
5bを介して各半導体チップ11a、11bのボンディ
ングパッド12a、12bと電気的に接続されており、
上部半導体チップ11aのボンディングパッド12aと
ワイヤボンディングされていないリードフレームの他端
は、下部半導体チップ11bのリードフレーム14bに
ボンディングされている。本スタックパッケージは、下
部半導体チップ11bのリードフレームのアウターリー
ドだけが両側に露出するように封止剤16によって封止
されている。
【0008】しかし、上記した従来のスタックパッケー
ジに関しては、ヒートシンクの取付けが困難な構造を有
するため、放熱能力が不十分である問題点がある。さら
に、従来のスタックパッケージに関しては、それぞれ次
のような問題点がある。
ジに関しては、ヒートシンクの取付けが困難な構造を有
するため、放熱能力が不十分である問題点がある。さら
に、従来のスタックパッケージに関しては、それぞれ次
のような問題点がある。
【0009】先ず、図1に示したスタックパッケージ
は、2つの単位パッケージがスタックされた構造である
ことから、全体の高さが増加するために構造的に小型化
が困難である。また、図1に示したスタックパッケージ
は、トップパッケージ10aの電気的信号経路とボトム
パッケージ10bの電気的信号経路が相違するため、電
気的に信頼性を確保することが困難である。さらに、図
1に示したスタックパッケージは、トップパッケージ1
0aとボトムパッケージ10bの間の接続が各アウター
リードの間のソルダー接続により行われるため、接続の
信頼性を確保することが困難である。
は、2つの単位パッケージがスタックされた構造である
ことから、全体の高さが増加するために構造的に小型化
が困難である。また、図1に示したスタックパッケージ
は、トップパッケージ10aの電気的信号経路とボトム
パッケージ10bの電気的信号経路が相違するため、電
気的に信頼性を確保することが困難である。さらに、図
1に示したスタックパッケージは、トップパッケージ1
0aとボトムパッケージ10bの間の接続が各アウター
リードの間のソルダー接続により行われるため、接続の
信頼性を確保することが困難である。
【0010】次に、図2に示したスタックパッケージ
は、信号伝達のための上・下ゴールドワイヤ15a、1
5b間の距離が近いことにより、2つの半導体チップ1
1a、11bが動作するとき、信号の干渉によるノイズ
が発生することがある。また、図2に示したスタックパ
ッケージの製造においては、リードフレーム間の接合を
レーザ溶接により行うための設備投資が必要である。さ
らに、図2に示したスタックパッケージは、再加工(re
work)がほとんど不可能である。
は、信号伝達のための上・下ゴールドワイヤ15a、1
5b間の距離が近いことにより、2つの半導体チップ1
1a、11bが動作するとき、信号の干渉によるノイズ
が発生することがある。また、図2に示したスタックパ
ッケージの製造においては、リードフレーム間の接合を
レーザ溶接により行うための設備投資が必要である。さ
らに、図2に示したスタックパッケージは、再加工(re
work)がほとんど不可能である。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記のよう
な問題点を解決するために考案されたものであり、放熱
能力を向上させることができるスタックチップモジュー
ルを提供することを目的とする。
な問題点を解決するために考案されたものであり、放熱
能力を向上させることができるスタックチップモジュー
ルを提供することを目的とする。
【0012】また、本発明は、構造的に安定であり、電
気的特性を確保することができるスタックチップモジュ
ールを提供することをも目的とする。
気的特性を確保することができるスタックチップモジュ
ールを提供することをも目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明に係るスタックチ
ップモジュールは、一側面に所定の大きさの溝が形成さ
れ、一端が該溝に隣接して配置される回路パターンが形
成された基板、前記溝内に接着剤によって接着され、該
接着剤によって接着されていないパッド形成面に互いに
電気的に接続された複数のセンターパッド及びエッジパ
ッドを備えた第1半導体チップ、前記回路パターンと前
記第1半導体チップのエッジパッドを、それぞれ電気的
に接続する複数のゴールドワイヤ、前記第1半導体チッ
プのセンターパッドと対応してパッド形成面に複数のセ
ンターパッドを備え、該パッド形成面が前記第1半導体
チップのパッド形成面と対向するように配置された第2
半導体チップ、前記第1半導体チップのセンターパッド
と前記第2半導体チップのセンターパッドとの間にそれ
ぞれ介在し、両者を接合すると共に電気的に接続する複
数のバンプ、及び前記ゴールドワイヤ、前記第1半導体
チップのエッジパッド及び前記回路パターンを含んで前
記第2半導体チップの側面を封止する封止剤を備えてい
ることを特徴とする。 また、本発明に係るスタックチ
ップモジュールは、前記第2半導体チップの背面に取り
付けられた第1ヒートシンクを更に備えることができ
る。
ップモジュールは、一側面に所定の大きさの溝が形成さ
れ、一端が該溝に隣接して配置される回路パターンが形
成された基板、前記溝内に接着剤によって接着され、該
接着剤によって接着されていないパッド形成面に互いに
電気的に接続された複数のセンターパッド及びエッジパ
ッドを備えた第1半導体チップ、前記回路パターンと前
記第1半導体チップのエッジパッドを、それぞれ電気的
に接続する複数のゴールドワイヤ、前記第1半導体チッ
プのセンターパッドと対応してパッド形成面に複数のセ
ンターパッドを備え、該パッド形成面が前記第1半導体
チップのパッド形成面と対向するように配置された第2
半導体チップ、前記第1半導体チップのセンターパッド
と前記第2半導体チップのセンターパッドとの間にそれ
ぞれ介在し、両者を接合すると共に電気的に接続する複
数のバンプ、及び前記ゴールドワイヤ、前記第1半導体
チップのエッジパッド及び前記回路パターンを含んで前
記第2半導体チップの側面を封止する封止剤を備えてい
ることを特徴とする。 また、本発明に係るスタックチ
ップモジュールは、前記第2半導体チップの背面に取り
付けられた第1ヒートシンクを更に備えることができ
る。
【0014】また、本発明に係るスタックチップモジュ
ールは、一面が前記溝の底面を形成し、前記一面の反対
の面を露出するように備えられ、前記第1半導体チップ
の底面と接触する第2ヒートシンクを更に備えることが
できる。 また、本発明に係るスタックチップモジュー
ルは、前記基板の溝が前記基板の両面にジグザグに形成
され、前記第1及び第2半導体チップが前記基板に両面
実装されることができる。
ールは、一面が前記溝の底面を形成し、前記一面の反対
の面を露出するように備えられ、前記第1半導体チップ
の底面と接触する第2ヒートシンクを更に備えることが
できる。 また、本発明に係るスタックチップモジュー
ルは、前記基板の溝が前記基板の両面にジグザグに形成
され、前記第1及び第2半導体チップが前記基板に両面
実装されることができる。
【0015】
【発明の実施の形態】以下に、図面に基づいて本発明の
実施の形態に関して説明する。
実施の形態に関して説明する。
【0016】[第1の実施の形態]図6は、本発明の第
1の実施の形態に係るスタックチップモジュールを示す
断面図である。図示されているように、数個のセンター
パッド20a及びエッジパッド20bを有する下部半導
体チップ20(以下、ボトムチップと記す)が基板30
に形成された溝(T)内に接着剤40によって接着され
ており、エッジパッド20bは回路パターン32とゴー
ルドワイヤ44により接続されている。数個のセンター
パッド22aを有する上部半導体チップ22(以下、ト
ップチップと記す)が、ボトムチップ20の上部にパッ
ド形成面がボトムチップ20のパッド形成面と向き合う
ように配置されており、トップチップ22のセンターパ
ッド22aとボトムチップ20のセンターパッド20a
が、バンプ42により電気的に接続されている。ワイヤ
ボンディングされたボトムチップ20のエッジパッド2
0b及び基板30の回路パターン32を含んでトップチ
ップ22の側面が、封止剤46によって封止されてい
る。
1の実施の形態に係るスタックチップモジュールを示す
断面図である。図示されているように、数個のセンター
パッド20a及びエッジパッド20bを有する下部半導
体チップ20(以下、ボトムチップと記す)が基板30
に形成された溝(T)内に接着剤40によって接着され
ており、エッジパッド20bは回路パターン32とゴー
ルドワイヤ44により接続されている。数個のセンター
パッド22aを有する上部半導体チップ22(以下、ト
ップチップと記す)が、ボトムチップ20の上部にパッ
ド形成面がボトムチップ20のパッド形成面と向き合う
ように配置されており、トップチップ22のセンターパ
ッド22aとボトムチップ20のセンターパッド20a
が、バンプ42により電気的に接続されている。ワイヤ
ボンディングされたボトムチップ20のエッジパッド2
0b及び基板30の回路パターン32を含んでトップチ
ップ22の側面が、封止剤46によって封止されてい
る。
【0017】ボトムチップ20において、各エッジパッ
ド20bは電気的なロジック(logic)、例えば、金属
トレーサー(metal tracer:図示省略)によりそれぞれ
のセンターパッド20aと電気的に接続されている。金
属トレーサーは、チップ製造時の金属層をパターニング
するとき、又は、保護膜形成後の配線工程において形成
することができる。トップチップ22は、ワイヤボンデ
ィングされたボトムチップ20のエッジパッド20bを
覆わない大きさ、即ち、エッジパッド20bによって挟
まれたボトムチップ20の領域にのみ配置できる大きさ
である。
ド20bは電気的なロジック(logic)、例えば、金属
トレーサー(metal tracer:図示省略)によりそれぞれ
のセンターパッド20aと電気的に接続されている。金
属トレーサーは、チップ製造時の金属層をパターニング
するとき、又は、保護膜形成後の配線工程において形成
することができる。トップチップ22は、ワイヤボンデ
ィングされたボトムチップ20のエッジパッド20bを
覆わない大きさ、即ち、エッジパッド20bによって挟
まれたボトムチップ20の領域にのみ配置できる大きさ
である。
【0018】ボトムチップ20とトップチップ22のセ
ンターパッド20a、22aは、同数存在し、対応する
位置に装備され、バンプ42により互いに電気的に接続
される。併せて、トップチップ22とボトムチップ20
は、バンプ42により接続される。バンプ42には、ニ
ッケルバンプ、ゴールドバンプ及びソルダーバンプの何
れかが利用可能である。さらに、バンプ42の高さは、
接続の信頼性を考慮して40μm以上、より具体的に
は、40〜100μm程度にすることが望ましい。
ンターパッド20a、22aは、同数存在し、対応する
位置に装備され、バンプ42により互いに電気的に接続
される。併せて、トップチップ22とボトムチップ20
は、バンプ42により接続される。バンプ42には、ニ
ッケルバンプ、ゴールドバンプ及びソルダーバンプの何
れかが利用可能である。さらに、バンプ42の高さは、
接続の信頼性を考慮して40μm以上、より具体的に
は、40〜100μm程度にすることが望ましい。
【0019】基板30は、メインボードのソケットに差
し込むことができる形状の印刷回路基板であり、一側面
にボトムチップ20を設置できる大きさの溝(T)を備
え、回路パターン32の一端、即ち、電極端子が溝
(T)に隣接して配置される。このとき、基板30の厚
さは、1,200〜1,600μm程度であり、溝(T)の深さ
は、ボトムチップ20の厚さと同程度の深さであり、具
体的には、20〜30μm程度である。
し込むことができる形状の印刷回路基板であり、一側面
にボトムチップ20を設置できる大きさの溝(T)を備
え、回路パターン32の一端、即ち、電極端子が溝
(T)に隣接して配置される。このとき、基板30の厚
さは、1,200〜1,600μm程度であり、溝(T)の深さ
は、ボトムチップ20の厚さと同程度の深さであり、具
体的には、20〜30μm程度である。
【0020】封止剤46は、ゴールドワイヤ44とボト
ムチップ20のエッジパッド22b及び基板30の回路
パターン32を保護するために形成されたものであり、
モールドレジン(mold resin)をディスペンス(dispen
sing)することにより形成され、このとき、モールドレ
ジンはトップチップ20、ボトムチップ22の間の空間
にもアンダーフィルされる。封止剤46の材料には、エ
ポキシ又は変換されたエポキシレジン、ポリエステル又
は変換されたポリマー、アクリル酸エステル、変換され
たエステル、シリコンレジン、フェノキシレジン、ポリ
ウレタン、ポリスルファイド(polysulfied)、シアノ
クリレート(cyanocrylats)、ポリエレキシン(polyel
exins)、そして、その他の室温で硬化する熱硬化性ポ
リマーが利用可能である。
ムチップ20のエッジパッド22b及び基板30の回路
パターン32を保護するために形成されたものであり、
モールドレジン(mold resin)をディスペンス(dispen
sing)することにより形成され、このとき、モールドレ
ジンはトップチップ20、ボトムチップ22の間の空間
にもアンダーフィルされる。封止剤46の材料には、エ
ポキシ又は変換されたエポキシレジン、ポリエステル又
は変換されたポリマー、アクリル酸エステル、変換され
たエステル、シリコンレジン、フェノキシレジン、ポリ
ウレタン、ポリスルファイド(polysulfied)、シアノ
クリレート(cyanocrylats)、ポリエレキシン(polyel
exins)、そして、その他の室温で硬化する熱硬化性ポ
リマーが利用可能である。
【0021】以下において、前述した本発明の第1の実
施の形態に係るスタックチップモジュールの製造方法
を、図3〜図6を参照して説明する。
施の形態に係るスタックチップモジュールの製造方法
を、図3〜図6を参照して説明する。
【0022】まず、図3に示されているように、一側面
に回路パターン32及び所定深さの溝(T)が形成され
た基板30に、接着剤40を溝(T)の底面に塗布す
る。数個のセンターパッド20a及びエッジパッド20
bを有するボトムチップ20を溝(T)内に設置し、接
着剤40の硬化(curing)により機械的に堅固に固定す
る。
に回路パターン32及び所定深さの溝(T)が形成され
た基板30に、接着剤40を溝(T)の底面に塗布す
る。数個のセンターパッド20a及びエッジパッド20
bを有するボトムチップ20を溝(T)内に設置し、接
着剤40の硬化(curing)により機械的に堅固に固定す
る。
【0023】次に、図4に示されているように、ボトム
チップ20のエッジパッド20bと基板30の回路パタ
ーン32とを、ワイヤボンディング工程においてそれぞ
れゴールドワイヤ44により電気的に接続する。
チップ20のエッジパッド20bと基板30の回路パタ
ーン32とを、ワイヤボンディング工程においてそれぞ
れゴールドワイヤ44により電気的に接続する。
【0024】最後に、図5に示されているように、数個
のセンターパッド22aを有するトップチップ22に、
バンプ42を各センターパッド22a上に形成する。こ
のバンプ42は、ニッケルバンプ、ゴールドバンプ及び
ソルダーバンプの何れかでよく、接合信頼性を確保する
ため40μm以上、より具体的には、40〜100μm
の高さに形成する。トップチップ22を、そのセンター
パッド22a上に形成されたバンプ42がボトムチップ
20のセンターパッド20aと接するようにボンディン
グし、これによって、トップチップ22のセンターパッ
ド22aとボトムチップ20のセンターパッド20aが
電気的に接続される。ボンディングの後、バンプによる
ボトムチップ20とトップチップ22の間の接合強度を
高めるため、リフローのような熱処理を行うことが望ま
しい。
のセンターパッド22aを有するトップチップ22に、
バンプ42を各センターパッド22a上に形成する。こ
のバンプ42は、ニッケルバンプ、ゴールドバンプ及び
ソルダーバンプの何れかでよく、接合信頼性を確保する
ため40μm以上、より具体的には、40〜100μm
の高さに形成する。トップチップ22を、そのセンター
パッド22a上に形成されたバンプ42がボトムチップ
20のセンターパッド20aと接するようにボンディン
グし、これによって、トップチップ22のセンターパッ
ド22aとボトムチップ20のセンターパッド20aが
電気的に接続される。ボンディングの後、バンプによる
ボトムチップ20とトップチップ22の間の接合強度を
高めるため、リフローのような熱処理を行うことが望ま
しい。
【0025】図6に示されているように、封止剤46を
ディスペンシング工程によって、ワイヤボンディングさ
れたボトムチップ20のエッジパッド22b、及び基板
30の回路パターン32とトップチップ22の側面を覆
うように形成し、その結果として、本発明に係るスタッ
クチップモジュールが完成される。ここで、ディスペン
シング工程時に、ボトムチップ20、トップチップ22
の間の空間も封止剤46によってアンダーフィルし、特
に、ボトムチップ20、トップチップ22の間の空間
は、この空間におけるボイド発生を最少化するために、
真空状態に維持しておくことが望ましい。
ディスペンシング工程によって、ワイヤボンディングさ
れたボトムチップ20のエッジパッド22b、及び基板
30の回路パターン32とトップチップ22の側面を覆
うように形成し、その結果として、本発明に係るスタッ
クチップモジュールが完成される。ここで、ディスペン
シング工程時に、ボトムチップ20、トップチップ22
の間の空間も封止剤46によってアンダーフィルし、特
に、ボトムチップ20、トップチップ22の間の空間
は、この空間におけるボイド発生を最少化するために、
真空状態に維持しておくことが望ましい。
【0026】上記した第1の実施の形態に係るスタック
チップモジュールは、従来のスタックチップパッケージ
と比べて次のような利点を有する。
チップモジュールは、従来のスタックチップパッケージ
と比べて次のような利点を有する。
【0027】第1に、第1の実施の形態に係るスタック
チップモジュールは、2つのベアチップをスタックした
構造であるため、2つのパッケージをスタックした従来
のスタックパッケージ(以下、第1型のスタックパッケ
ージと記す)に比べて全体の高さが相対的に低く、よっ
て、構造的に安定である。
チップモジュールは、2つのベアチップをスタックした
構造であるため、2つのパッケージをスタックした従来
のスタックパッケージ(以下、第1型のスタックパッケ
ージと記す)に比べて全体の高さが相対的に低く、よっ
て、構造的に安定である。
【0028】第2に、第1の実施の形態に係るスタック
チップモジュールは、チップ等の間の電気的接続がバン
プ42により行われるため、従来の第1型のスタックパ
ッケージと比べてトップチップ22の電気的な信号経路
が短く、さらに、ソルダージョイントによる信頼性の低
下も発生しない。
チップモジュールは、チップ等の間の電気的接続がバン
プ42により行われるため、従来の第1型のスタックパ
ッケージと比べてトップチップ22の電気的な信号経路
が短く、さらに、ソルダージョイントによる信頼性の低
下も発生しない。
【0029】第3に、第1の実施の形態に係るスタック
チップモジュールは、チップ等の間の電気的接続がバン
プ42により行われるため、2つのチップをスタックし
て1つのパッケージに構成した従来のスタックパッケー
ジ(以下、第2型のスタックパッケージと記す)と比べ
て、チップの動作時に信号干渉の発生が軽減される。特
に、第1の実施の形態に係るスタックチップモジュール
は、ボトムチップ20での金属トレーサーの設計によっ
て、信号干渉を最少化することができる。
チップモジュールは、チップ等の間の電気的接続がバン
プ42により行われるため、2つのチップをスタックし
て1つのパッケージに構成した従来のスタックパッケー
ジ(以下、第2型のスタックパッケージと記す)と比べ
て、チップの動作時に信号干渉の発生が軽減される。特
に、第1の実施の形態に係るスタックチップモジュール
は、ボトムチップ20での金属トレーサーの設計によっ
て、信号干渉を最少化することができる。
【0030】第4に、第1の実施の形態に係るスタック
チップモジュールは、チップ等の間の結合がバンプ42
により行われ、基板30とボトムチップ20の間の電気
的接続がゴールドワイヤにより行われ得るため、従来の
第2型のスタックパッケージと比べて、既存の工程を用
いて製造され得ることにより、新たに設備投資の費用が
発生しない。また、第1の実施の形態に係るスタックチ
ップモジュールは、バンプ42の除去及びゴールドワイ
ヤ44の除去が容易であり、再加工が可能である。
チップモジュールは、チップ等の間の結合がバンプ42
により行われ、基板30とボトムチップ20の間の電気
的接続がゴールドワイヤにより行われ得るため、従来の
第2型のスタックパッケージと比べて、既存の工程を用
いて製造され得ることにより、新たに設備投資の費用が
発生しない。また、第1の実施の形態に係るスタックチ
ップモジュールは、バンプ42の除去及びゴールドワイ
ヤ44の除去が容易であり、再加工が可能である。
【0031】第5に、第1の実施の形態に係るスタック
チップモジュールは、トップチップ22の背面が外部に
露出した構造となっているため、ヒートシンクの取付け
が容易であり、放熱能力を向上させることができる。
チップモジュールは、トップチップ22の背面が外部に
露出した構造となっているため、ヒートシンクの取付け
が容易であり、放熱能力を向上させることができる。
【0032】第6に、第1の実施の形態に係るスタック
チップモジュールは、バンプ42を中心に2つのチップ
が配置された構造であるため、反りなどの歪み不良の発
生を防止することができ、よって、機械的信頼性に優れ
ることとなる。
チップモジュールは、バンプ42を中心に2つのチップ
が配置された構造であるため、反りなどの歪み不良の発
生を防止することができ、よって、機械的信頼性に優れ
ることとなる。
【0033】[第2の実施の形態]図7は、本発明の第
2の実施の形態に係るスタックチップモジュールを示す
断面図である。この実施の形態においては、第1ヒート
シンク50が露出したトップチップ22の背面に取り付
けられている。これによって、本発明の第2の実施の形
態に係るスタックチップモジュールは、従来のスタック
パッケージと比べて向上した放熱能力を有する。
2の実施の形態に係るスタックチップモジュールを示す
断面図である。この実施の形態においては、第1ヒート
シンク50が露出したトップチップ22の背面に取り付
けられている。これによって、本発明の第2の実施の形
態に係るスタックチップモジュールは、従来のスタック
パッケージと比べて向上した放熱能力を有する。
【0034】[第3の実施の形態]図8は、本発明の第
3の実施の形態に係るスタックチップモジュールを示す
断面図である。この実施の形態においては、第2ヒート
シンク52は、溝(T)の底面を挟んで、ボトムチップ
20に対応する位置に、放熱フィンが露出するように基
板30に埋め込まれて設置されている。この第2ヒート
シンク52は、基板30の製作時にめっき工程によって
形成されることが望ましく、特に、ヒートシンクの平坦
な面が溝(T)と接することにより、溝(T)を介して
ボトムチップ20と接触するように形成されることが望
ましい。
3の実施の形態に係るスタックチップモジュールを示す
断面図である。この実施の形態においては、第2ヒート
シンク52は、溝(T)の底面を挟んで、ボトムチップ
20に対応する位置に、放熱フィンが露出するように基
板30に埋め込まれて設置されている。この第2ヒート
シンク52は、基板30の製作時にめっき工程によって
形成されることが望ましく、特に、ヒートシンクの平坦
な面が溝(T)と接することにより、溝(T)を介して
ボトムチップ20と接触するように形成されることが望
ましい。
【0035】さらに、図示されてはいないが、基板30
にボトムチップ20と接触するように第2ヒートシンク
52を備えた本実施の形態に係るスタックチップモジュ
ールに、図7と同様に、露出したトップチップ22の背
面に第1ヒートシンク50を取り付けることもできる。
この場合、放熱能力をより向上させたスタックチップモ
ジュールを実現することができる。
にボトムチップ20と接触するように第2ヒートシンク
52を備えた本実施の形態に係るスタックチップモジュ
ールに、図7と同様に、露出したトップチップ22の背
面に第1ヒートシンク50を取り付けることもできる。
この場合、放熱能力をより向上させたスタックチップモ
ジュールを実現することができる。
【0036】[第4の実施の形態]図9は、本発明の第
4の実施の形態に係るスタックチップモジュールを示す
断面図である。この実施の形態において、ボトムチップ
20が設置される溝(T)は、基板30の両面にジグザ
グに設置され、これによって、ボトムチップ20及びト
ップチップ22は基板30に両面実装される。この実施
の形態に係るスタックチップモジュールは、基板30へ
の両面実装が行われることにより、より多数のチップを
実装することが可能となり、よって、集積度の向上した
モジュールを実現することができる。
4の実施の形態に係るスタックチップモジュールを示す
断面図である。この実施の形態において、ボトムチップ
20が設置される溝(T)は、基板30の両面にジグザ
グに設置され、これによって、ボトムチップ20及びト
ップチップ22は基板30に両面実装される。この実施
の形態に係るスタックチップモジュールは、基板30へ
の両面実装が行われることにより、より多数のチップを
実装することが可能となり、よって、集積度の向上した
モジュールを実現することができる。
【0037】
【発明の効果】上記ように、本発明に係るスタックチッ
プモジュールは、バンプを利用してチップ間の結合及び
電気的接続を行うことにより、軽量化、薄型化、小型化
を実現することができ、特に、電気的及び機械的信頼性
を向上させることができる。さらに、本発明に係るスタ
ックチップモジュールは、既存の材料と設備をそのまま
利用して製作され得るため、費用面でも有用である。
プモジュールは、バンプを利用してチップ間の結合及び
電気的接続を行うことにより、軽量化、薄型化、小型化
を実現することができ、特に、電気的及び機械的信頼性
を向上させることができる。さらに、本発明に係るスタ
ックチップモジュールは、既存の材料と設備をそのまま
利用して製作され得るため、費用面でも有用である。
【0038】尚、本発明は上記した実施の形態に限定さ
れるものではなく、その技術的思想の範囲内において、
各種の変更が可能である。
れるものではなく、その技術的思想の範囲内において、
各種の変更が可能である。
【図1】 2つの半導体チップをスタックした従来のス
タックパッケージを示す断面図である。
タックパッケージを示す断面図である。
【図2】 2つのベアチップをスタックした従来のスタ
ックパッケージを示す断面図である。
ックパッケージを示す断面図である。
【図3】 本発明の第1の実施の形態に係るスタックチ
ップモジュールの製造方法を説明するための断面図であ
る。
ップモジュールの製造方法を説明するための断面図であ
る。
【図4】 本発明の第1の実施の形態に係るスタックチ
ップモジュールの製造方法を説明するためのボトムチッ
プ20が溝(T)内に設置された状態の断面図である。
ップモジュールの製造方法を説明するためのボトムチッ
プ20が溝(T)内に設置された状態の断面図である。
【図5】 本発明の第1の実施の形態に係るスタックチ
ップモジュールの製造方法を説明するためのワイヤボン
ディングされた状態の断面図である。
ップモジュールの製造方法を説明するためのワイヤボン
ディングされた状態の断面図である。
【図6】 本発明の第1の実施の形態に係るスタックチ
ップモジュールの製造方法を説明するためのトップチッ
プがボトムチップにバンプ接続された状態の断面図であ
る。
ップモジュールの製造方法を説明するためのトップチッ
プがボトムチップにバンプ接続された状態の断面図であ
る。
【図7】 本発明の第2の実施の形態に係るスタックチ
ップモジュールを示す断面図である。
ップモジュールを示す断面図である。
【図8】 本発明の第3の実施の形態に係るスタックチ
ップモジュールを示す断面図である。
ップモジュールを示す断面図である。
【図9】 本発明の第4の実施の形態に係るスタックチ
ップモジュールを示す断面図である。
ップモジュールを示す断面図である。
【符号の説明】
20 ボトムチップ
20a、22a センターパッド
20b エッジパッド
22 トップチップ
30 基板
32 回路パターン
40 接着剤
42 バンプ
44 ゴールドワイヤ
46 封止剤
50 第1ヒートシンク
52 第2ヒートシンク
Claims (9)
- 【請求項1】 一側面に所定の大きさの溝が形成され、
一端が該溝に隣接して配置される回路パターンが形成さ
れた基板、 前記溝内に接着剤によって接着され、該接着剤によって
接着されていないパッド形成面に互いに電気的に接続さ
れた複数のセンターパッド及びエッジパッドを備えた第
1半導体チップ、 前記回路パターンと前記第1半導体チップのエッジパッ
ドを、それぞれ電気的に接続する複数のゴールドワイ
ヤ、 前記第1半導体チップのセンターパッドと対応してパッ
ド形成面に複個のセンターパッドを備え、該パッド形成
面が前記第1半導体チップのパッド形成面と対向するよ
うに配置された第2半導体チップ、 前記第1半導体チップのセンターパッドと前記第2半導
体チップのセンターパッドとの間にそれぞれ介在し、両
者を接合すると共に電気的に接続する複数のバンプ、及
び前記ゴールドワイヤ、前記第1半導体チップのエッジ
パッド及び前記回路パターンを含んで前記第2半導体チ
ップの側面を封止する封止剤を備えていることを特徴と
するスタックチップモジュール。 - 【請求項2】 前記第2半導体チップは、前記第1半導
体チップの複数のエッジパッドによって挟まれる領域に
のみ配置され得る大きさをであることを特徴とする、請
求項1に記載のスタックチップモジュール。 - 【請求項3】 前記バンプは、ニッケルバンプ、ゴール
ドバンプ及びソルダーバンプによって形成されるグルー
プから選択される何れか1つであることを特徴とする、
請求項1に記載のスタックチップモジュール。 - 【請求項4】 前記バンプの高さは、40〜100μm
であることを特徴とする、請求項1又は3に記載のスタ
ックチップモジュール。 - 【請求項5】 前記第2半導体チップの背面に取り付け
られた第1ヒートシンクを更に備えていることを特徴と
する、請求項1に記載のスタックチップモジュール。 - 【請求項6】 前記基板は、ソケットに差し込むことが
できる形状の印刷回路基板であることを特徴とする、請
求項1に記載のスタックチップモジュール。 - 【請求項7】 前記基板は、一面が前記溝の底面を形成
し、前記一面の反対の面を露出する第2ヒートシンクが
装備されたものであることを特徴とする、請求項1に記
載のスタックチップモジュール。 - 【請求項8】 前記溝は、基板の両面にジグザグに形成
されたものであることを特徴とする、請求項1に記載の
スタックチップモジュール。 - 【請求項9】 前記第1半導体チップ、前記第2半導体
チップ、前記ゴールドワイヤ及び前記バンプは、基板の
両側面にジグザグに形成された各溝に実装されたもので
あることを特徴とする、請求項8に記載のスタックチッ
プモジュール。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020010052870A KR20030018642A (ko) | 2001-08-30 | 2001-08-30 | 스택 칩 모듈 |
KR2001-052870 | 2001-08-30 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003078105A true JP2003078105A (ja) | 2003-03-14 |
Family
ID=19713750
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001388916A Pending JP2003078105A (ja) | 2001-08-30 | 2001-12-21 | スタックチップモジュール |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6867486B2 (ja) |
JP (1) | JP2003078105A (ja) |
KR (1) | KR20030018642A (ja) |
TW (1) | TW521309B (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010074072A (ja) * | 2008-09-22 | 2010-04-02 | Nec Corp | 半導体装置および半導体装置の製造方法 |
JP2011501397A (ja) * | 2007-04-23 | 2011-01-06 | キューファー アセット リミテッド. エル.エル.シー. | 極薄チップパッケージング |
Families Citing this family (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5915167A (en) * | 1997-04-04 | 1999-06-22 | Elm Technology Corporation | Three dimensional structure memory |
US6551857B2 (en) * | 1997-04-04 | 2003-04-22 | Elm Technology Corporation | Three dimensional structure integrated circuits |
KR100415279B1 (ko) * | 2001-06-26 | 2004-01-16 | 삼성전자주식회사 | 칩 적층 패키지 및 그 제조 방법 |
US6979894B1 (en) | 2001-09-27 | 2005-12-27 | Marvell International Ltd. | Integrated chip package having intermediate substrate |
AU2003255254A1 (en) * | 2002-08-08 | 2004-02-25 | Glenn J. Leedy | Vertical system integration |
TW575931B (en) * | 2002-10-07 | 2004-02-11 | Advanced Semiconductor Eng | Bridge connection type of chip package and process thereof |
DE60323883D1 (en) * | 2003-05-28 | 2008-11-13 | Infineon Technologies Ag | Ic-gehäuse mit flexiblem substrat |
TW200511531A (en) * | 2003-09-08 | 2005-03-16 | Advanced Semiconductor Eng | Package stack module |
US7095104B2 (en) * | 2003-11-21 | 2006-08-22 | International Business Machines Corporation | Overlap stacking of center bus bonded memory chips for double density and method of manufacturing the same |
TWI254427B (en) * | 2003-12-02 | 2006-05-01 | United Test And Assembly Ct | Chip scale package and method of assembling the same |
KR100699807B1 (ko) | 2006-01-26 | 2007-03-28 | 삼성전자주식회사 | 적층 칩 및 그를 갖는 적층 칩 패키지 |
DE102006022748B4 (de) * | 2006-05-12 | 2019-01-17 | Infineon Technologies Ag | Halbleiterbauteil mit oberflächenmontierbaren Bauelementen und Verfahren zu seiner Herstellung |
KR100800473B1 (ko) | 2006-06-30 | 2008-02-04 | 삼성전자주식회사 | 재배선 칩 패드를 갖는 적층 칩 및 이를 이용한 적층 칩패키지 |
CN201038143Y (zh) * | 2006-11-23 | 2008-03-19 | 番禺得意精密电子工业有限公司 | 散热器 |
KR100896179B1 (ko) * | 2007-01-05 | 2009-05-12 | 삼성전자주식회사 | 스택 패키지 및 그 제조방법 |
US7579215B2 (en) * | 2007-03-30 | 2009-08-25 | Motorola, Inc. | Method for fabricating a low cost integrated circuit (IC) package |
KR20090027325A (ko) * | 2007-09-12 | 2009-03-17 | 삼성전자주식회사 | 반도체 패키지 및 이를 갖는 반도체 모듈 |
JP2010010269A (ja) * | 2008-06-25 | 2010-01-14 | Elpida Memory Inc | 半導体装置、半導体装置製造用中間体およびそれらの製造方法 |
US20100019392A1 (en) * | 2008-07-25 | 2010-01-28 | Tan Gin Ghee | Stacked die package having reduced height and method of making same |
US8406004B2 (en) | 2008-12-09 | 2013-03-26 | Stats Chippac Ltd. | Integrated circuit packaging system and method of manufacture thereof |
US8274149B2 (en) * | 2010-03-29 | 2012-09-25 | Advanced Semiconductor Engineering, Inc. | Semiconductor device package having a buffer structure and method of fabricating the same |
US8222726B2 (en) * | 2010-03-29 | 2012-07-17 | Advanced Semiconductor Engineering, Inc. | Semiconductor device package having a jumper chip and method of fabricating the same |
US8779578B2 (en) * | 2012-06-29 | 2014-07-15 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Multi-chip socket |
CN103984066B (zh) * | 2014-05-20 | 2016-08-24 | 昆山柯斯美光电有限公司 | 用于高速传输的多路并行光组件及其组装方法 |
CN110890284A (zh) * | 2019-12-04 | 2020-03-17 | 长电科技(滁州)有限公司 | 一种芯片堆叠封装结构及其工艺方法 |
CN113257686B (zh) * | 2021-07-14 | 2021-09-10 | 江苏华昶熠电子科技有限公司 | 一种生物识别封装及其制备方法 |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AU8519891A (en) | 1990-08-01 | 1992-03-02 | Staktek Corporation | Ultra high density integrated circuit packages, method and apparatus |
JPH06112461A (ja) * | 1992-09-28 | 1994-04-22 | Mitsubishi Electric Corp | 固体撮像装置 |
KR0184076B1 (ko) | 1995-11-28 | 1999-03-20 | 김광호 | 상하 접속 수단이 패키지 내부에 형성되어 있는 3차원 적층형 패키지 |
KR100186309B1 (ko) | 1996-05-17 | 1999-03-20 | 문정환 | 적층형 버텀 리드 패키지 |
JPH11168185A (ja) * | 1997-12-03 | 1999-06-22 | Rohm Co Ltd | 積層基板体および半導体装置 |
JPH11177020A (ja) * | 1997-12-11 | 1999-07-02 | Oki Electric Ind Co Ltd | 半導体実装構造およびその実装方法 |
KR19990024255U (ko) * | 1997-12-12 | 1999-07-05 | 김영환 | 적층형 볼 그리드 어레이 패키지 |
US5998860A (en) * | 1997-12-19 | 1999-12-07 | Texas Instruments Incorporated | Double sided single inline memory module |
US6326696B1 (en) * | 1998-02-04 | 2001-12-04 | International Business Machines Corporation | Electronic package with interconnected chips |
KR100265566B1 (ko) | 1998-05-12 | 2000-09-15 | 김영환 | 칩 스택 패키지 |
US6084308A (en) * | 1998-06-30 | 2000-07-04 | National Semiconductor Corporation | Chip-on-chip integrated circuit package and method for making the same |
US6153929A (en) | 1998-08-21 | 2000-11-28 | Micron Technology, Inc. | Low profile multi-IC package connector |
KR100290784B1 (ko) | 1998-09-15 | 2001-07-12 | 박종섭 | 스택 패키지 및 그 제조방법 |
JP3105200B2 (ja) | 1998-10-07 | 2000-10-30 | 沖電気工業株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
US6265771B1 (en) * | 1999-01-27 | 2001-07-24 | International Business Machines Corporation | Dual chip with heat sink |
KR100333388B1 (ko) * | 1999-06-29 | 2002-04-18 | 박종섭 | 칩 사이즈 스택 패키지 및 그의 제조 방법 |
US6294839B1 (en) * | 1999-08-30 | 2001-09-25 | Micron Technology, Inc. | Apparatus and methods of packaging and testing die |
US6303981B1 (en) * | 1999-09-01 | 2001-10-16 | Micron Technology, Inc. | Semiconductor package having stacked dice and leadframes and method of fabrication |
TW429494B (en) * | 1999-11-08 | 2001-04-11 | Siliconware Precision Industries Co Ltd | Quad flat non-leaded package |
DE10110203B4 (de) * | 2001-03-02 | 2006-12-14 | Infineon Technologies Ag | Elektronisches Bauteil mit gestapelten Halbleiterchips und Verfahren zu seiner Herstellung |
-
2001
- 2001-08-30 KR KR1020010052870A patent/KR20030018642A/ko not_active Ceased
- 2001-12-18 TW TW090131293A patent/TW521309B/zh not_active IP Right Cessation
- 2001-12-18 US US10/017,318 patent/US6867486B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2001-12-21 JP JP2001388916A patent/JP2003078105A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011501397A (ja) * | 2007-04-23 | 2011-01-06 | キューファー アセット リミテッド. エル.エル.シー. | 極薄チップパッケージング |
JP2010074072A (ja) * | 2008-09-22 | 2010-04-02 | Nec Corp | 半導体装置および半導体装置の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW521309B (en) | 2003-02-21 |
KR20030018642A (ko) | 2003-03-06 |
US6867486B2 (en) | 2005-03-15 |
US20030042589A1 (en) | 2003-03-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2003078105A (ja) | スタックチップモジュール | |
US7723839B2 (en) | Semiconductor device, stacked semiconductor device, and manufacturing method for semiconductor device | |
US6919627B2 (en) | Multichip module | |
US6555917B1 (en) | Semiconductor package having stacked semiconductor chips and method of making the same | |
JP5579402B2 (ja) | 半導体装置及びその製造方法並びに電子装置 | |
US7883936B2 (en) | Multi layer low cost cavity substrate fabrication for PoP packages | |
US6960827B2 (en) | Semiconductor device and manufacturing method thereof | |
JP4369216B2 (ja) | マルチチップパッケージおよびマルチチップパッケージの製造方法 | |
US20040222508A1 (en) | Semiconductor device, electronic device, electronic apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and method of manufacturing electronic device | |
US20090102037A1 (en) | Semiconductor package, module, system having solder ball coupled to chip pad and manufacturing method thereof | |
US20040245652A1 (en) | Semiconductor device, electronic device, electronic appliance, and method of manufacturing a semiconductor device | |
JP2000269408A (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
KR100265566B1 (ko) | 칩 스택 패키지 | |
JP4075204B2 (ja) | 積層型半導体装置 | |
TW201123402A (en) | Chip-stacked package structure and method for manufacturing the same | |
US20170207148A1 (en) | Lead frame and semiconductor device | |
KR100475337B1 (ko) | 고전력칩스케일패키지및그제조방법 | |
CN101241902A (zh) | 多芯片的半导体封装件及其制法 | |
EP1627430B1 (en) | An integrated circuit package employing a flexible substrate | |
KR20010063236A (ko) | 적층 패키지와 그 제조 방법 | |
KR100650728B1 (ko) | 스택 패키지 및 그 제조방법 | |
KR100444168B1 (ko) | 반도체패키지 | |
JP2001291821A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP2007234683A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP2001291818A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 |