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JP2003029394A - Photomask washing device - Google Patents

Photomask washing device

Info

Publication number
JP2003029394A
JP2003029394A JP2001210539A JP2001210539A JP2003029394A JP 2003029394 A JP2003029394 A JP 2003029394A JP 2001210539 A JP2001210539 A JP 2001210539A JP 2001210539 A JP2001210539 A JP 2001210539A JP 2003029394 A JP2003029394 A JP 2003029394A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photomask
cleaning
brush
cleaning apparatus
unit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001210539A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Sukeyuki Nishimura
祐行 西村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP2001210539A priority Critical patent/JP2003029394A/en
Publication of JP2003029394A publication Critical patent/JP2003029394A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a space-saving and energy-saving photomask washing device which has high washing effect and is adaptive to a large-sized mask. SOLUTION: This device which washes a photomask being carried in a device main body by supplying processing liquid to the photomask is equipped with a carrying means which carries the photomask M in a posture of a slight tilt from a vertically standing posture. The carrying means is composed of a roller conveyor equipped with rollers 11 and 12. As compare with horizontal conveyance, no slack is caused and a large-sized photomask can be handled in a small space.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、板状物を洗浄する
装置に係り、詳しくは、大型のフォトマスクを洗浄する
ためのフォトマスク洗浄装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for cleaning plate-like objects, and more particularly to a photomask cleaning apparatus for cleaning a large photomask.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、液晶表示装置(LCD)、プラ
ズマディスプレイパネル(PDP)等の製造工程では、
ガラス板等の板状基板にパターン状物を形成する微細加
工が種々行われる。この微細加工は、通常は高い加工精
度を求められるので、フォトリソグラフィー法により行
うことが多い。そして、このフォトリソグラフィー法で
は、何枚ものフォトマスクを繰り返し使用するが、露光
時にそのフォトマスクに汚れが生じることが多々あり、
加工精度を維持するためには、この汚れを洗浄する必要
がある。
2. Description of the Related Art Generally, in a manufacturing process of a liquid crystal display device (LCD), a plasma display panel (PDP), etc.,
Various types of fine processing are performed to form a patterned product on a plate-shaped substrate such as a glass plate. Since this fine processing is usually required to have high processing accuracy, it is often performed by a photolithography method. In this photolithography method, many photomasks are repeatedly used, but the photomask often becomes dirty during exposure,
In order to maintain the processing accuracy, it is necessary to wash this dirt.

【0003】このようなフォトマスクの洗浄方法として
は、低粘着ローラを用いた手作業による方法が簡便であ
る。また、フォトマスクの洗浄を自動的に行う装置とし
ては、スピン洗浄装置、超音波ディップ洗浄装置、スク
ラブ洗浄装置などが広く使用されており、また一般の水
平搬送型ウェット洗浄装置も使用されている。
As a method for cleaning such a photomask, a manual method using a low-adhesion roller is convenient. Further, as a device for automatically cleaning the photomask, a spin cleaning device, an ultrasonic dip cleaning device, a scrub cleaning device, etc. are widely used, and a general horizontal transfer type wet cleaning device is also used. .

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、最近では、
LCD、PDP等の製造工程においては、生産効率を上
げるために、多面付け化が進んでおり、大型のフォトマ
スクの使用が欠かせなくなってきている。すなわち、大
型のフォトマスクは高価であるが、小さいフォトマスク
で多面付け対応するにはステップ露光が必要であり、ま
た、同一ガラス内の各面間の位置関係を高精度で形成す
るためには、複雑で極めて高価な露光装置を必要とする
上にタクトが遅いことから、一枚のフォトマスクで一括
形成するのが好ましいからである。
By the way, recently,
In the manufacturing process of LCDs, PDPs, etc., in order to improve production efficiency, the number of impositions is increasing, and the use of large photomasks is becoming indispensable. That is, a large photomask is expensive, but a small photomask requires step exposure in order to support multi-sided attachment, and in order to form the positional relationship between the surfaces in the same glass with high accuracy. This is because a complicated and extremely expensive exposure apparatus is required and the tact time is slow, and therefore it is preferable to collectively form one photomask.

【0005】このような大型のフォトマスクを使用する
場合、汚れの洗浄が問題となる。例えば、従来の技術で
述べた低粘着ローラを用いる方法は、簡便ではあるが、
洗浄効果が不十分であることは否めない。一方、スピン
洗浄装置は、比較的装置構成が簡単でコスト的には高く
ないが、大型のフォトマスクに対応できない。また、超
音波ディップ洗浄装置は、溶剤(イソプロピルアルコー
ル、代替フロン等)による蒸気洗浄を行うため、装置が
大掛かりとなり、加熱するためのエネルギーを要する上
に、溶剤廃棄の問題や代替フロンが高価であるなど多く
の問題がある。スクラブ洗浄装置は、フォトマスクを縦
方向に往復させてブラシで洗浄する構成であるため、高
さが必要である上にフォトマスクの支持部に対する着脱
がしにくいため、大型のフォトマスク用のものは現実的
でない。また、水平搬送型のウェット洗浄装置は、大型
のフォトマスクを端面保持した場合、撓みを生じるので
ブラシが均一に当たらない。このように、従来の洗浄装
置はいずれも大型のフォトマスクに対応することができ
ない。
When such a large-sized photomask is used, cleaning of dirt becomes a problem. For example, although the method using the low-adhesion roller described in the conventional technique is simple,
It cannot be denied that the cleaning effect is insufficient. On the other hand, the spin cleaning apparatus has a relatively simple apparatus configuration and is not costly, but cannot support a large photomask. In addition, since the ultrasonic dip cleaning device performs steam cleaning with a solvent (isopropyl alcohol, CFC substitutes, etc.), the device becomes bulky and requires energy for heating, and the problem of solvent disposal and the use of CFC substitutes are expensive. There are many problems such as Since the scrubbing cleaning device is configured to reciprocate the photomask in the vertical direction and clean it with a brush, it requires height and is difficult to attach / detach to / from the support part of the photomask. Not realistic. Further, in the horizontal transport type wet cleaning device, when a large photomask is held on the end surface, the brush is bent, so that the brush does not hit uniformly. Thus, none of the conventional cleaning devices can handle large photomasks.

【0006】本発明は、上記のような問題点に鑑みてな
されたものであり、その目的とするところは、洗浄効果
が高く、省スペースで省エネルギーで、大型マスクに対
応できるフォトマスク洗浄装置を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a photomask cleaning apparatus which has a high cleaning effect, is space-saving and energy-saving, and is compatible with a large mask. To provide.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明で
あるフォトマスク洗浄装置は、装置本体内で搬送中のフ
ォトマスクに対して処理液を供給することによって当該
フォトマスクの洗浄を行う装置であって、フォトマスク
を垂直に立てた状態から僅かに寝かせた姿勢で搬送する
搬送手段を備えてなることを特徴としている。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a photomask cleaning apparatus which cleans a photomask by supplying a processing liquid to the photomask being conveyed in the apparatus body. The apparatus is characterized in that it is provided with a transporting means for transporting the photomask in a posture in which the photomask is erected in a vertical state.

【0008】請求項2に記載の発明であるフォトマスク
洗浄装置は、請求項1に記載のフォトマスク洗浄装置に
おいて、搬送手段は、フォトマスクの搬送方向の上下に
併設され、その搬送方向に直交する支持軸を有する複数
のローラーを備えたローラーコンベアであることを特徴
としている。
A photomask cleaning apparatus according to a second aspect of the present invention is the photomask cleaning apparatus according to the first aspect, wherein the transporting means are provided above and below the transporting direction of the photomask and are orthogonal to the transporting direction. It is characterized in that it is a roller conveyor provided with a plurality of rollers having a supporting shaft.

【0009】請求項3に記載の発明であるフォトマスク
洗浄装置は、請求項2に記載のフォトマスク洗浄装置に
おいて、搬送手段のローラーはフォトマスクの上辺並び
に下辺の外端部のみに接触することを特徴としている。
According to a third aspect of the present invention, in the photomask cleaning apparatus according to the second aspect, the rollers of the conveying means contact only the outer edges of the upper and lower sides of the photomask. Is characterized by.

【0010】請求項4に記載の発明であるフォトマスク
洗浄装置は、請求項2又は3に記載のフォトマスク洗浄
装置において、フォトマスクの上辺側の外端部を支持す
るローラーは、高さ方向の位置が可変であることを特徴
としている。
A photomask cleaning device according to a fourth aspect of the present invention is the photomask cleaning device according to the second or third aspect, in which the roller supporting the outer edge of the upper side of the photomask is in the height direction. The position of is variable.

【0011】請求項5に記載の発明であるフォトマスク
洗浄装置は、請求項1に記載のフォトマスク洗浄装置に
おいて、装置本体は、フォトマスクをセットする入口部
と、フォトマスクの両面に水をかける予備水洗部と、処
理液を供給する処理液供給部と、フォトマスクの両面を
ブラシで洗浄するブラシ洗浄部と、ブラシ洗浄されたフ
ォトマスクに水を供給して処理液を除去するリンス部
と、フォトマスクの両面にエアーを吹き付けて水切り乾
燥を行う乾燥部と、フォトマスクを取り出す出口部とを
備えていることを特徴としている。
A photomask cleaning apparatus according to a fifth aspect of the present invention is the photomask cleaning apparatus according to the first aspect, wherein the apparatus main body is provided with an inlet for setting the photomask and water on both sides of the photomask. A pre-washing unit for spraying, a processing liquid supply unit for supplying the processing liquid, a brush cleaning unit for cleaning both sides of the photomask with brushes, and a rinse unit for supplying water to the brush-cleaned photomask to remove the processing liquid. And a drying section for spraying air on both sides of the photomask to perform draining and drying, and an outlet section for taking out the photomask.

【0012】請求項6に記載の発明であるフォトマスク
洗浄装置は、請求項5に記載のフォトマスク洗浄装置に
おいて、ブラシの支持体は装置本体に固定され、かつブ
ラシの回転軸は搬送方向に直交してなることを特徴とし
ている。
A photomask cleaning device according to a sixth aspect of the present invention is the photomask cleaning device according to the fifth aspect, in which the support of the brush is fixed to the main body of the device, and the rotation axis of the brush is in the carrying direction. It is characterized by being orthogonal.

【0013】請求項7に記載の発明であるフォトマスク
洗浄装置は、請求項5に記載のフォトマスク洗浄装置に
おいて、ブラシがフォトマスクに接触しない位置に退避
できる機構を備えたことを特徴としている。
A photomask cleaning apparatus according to a seventh aspect of the present invention is the photomask cleaning apparatus according to the fifth aspect, characterized in that the brush is retracted to a position where the brush does not contact the photomask. .

【0014】請求項8に記載の発明であるフォトマスク
洗浄装置は、請求項5に記載のフォトマスク洗浄装置に
おいて、ブラシ洗浄部で、フォトマスクはブラシに挟ま
れた状態で往復運動することを特徴としている。
According to an eighth aspect of the present invention, there is provided a photomask cleaning device according to the fifth aspect, in which the photomask is reciprocated while being sandwiched between the brushes in the brush cleaning section. It has a feature.

【0015】請求項9に記載の発明であるフォトマスク
洗浄装置は、請求項5に記載のフォトマスク洗浄装置に
おいて、処理液供給部の処理液ノズルと、ブラシ洗浄部
のブラシと、リンス部のリンスノズルとを一つのユニッ
トとし、フォトマスクが停止したままでこのユニットを
スライド往復させてフォトマスクの洗浄を行うように構
成したことを特徴としている。
A photomask cleaning apparatus according to a ninth aspect of the present invention is the photomask cleaning apparatus according to the fifth aspect, wherein the processing liquid nozzle of the processing liquid supply unit, the brush of the brush cleaning unit, and the rinse unit are provided. It is characterized in that the rinse nozzle is one unit and the photomask is cleaned by sliding the unit back and forth while the photomask is stopped.

【0016】請求項10に記載の発明であるフォトマス
ク洗浄装置は、請求項5に記載のフォトマスク洗浄装置
において、乾燥部は、搬送されるフォトマスクの面と平
行でかつ搬送方向と直交する方向に対して一定の傾斜角
を有して設置されたエアー供給手段を有することを特徴
としている。
A photomask cleaning apparatus according to a tenth aspect of the present invention is the photomask cleaning apparatus according to the fifth aspect, wherein the drying section is parallel to the surface of the photomask to be transported and orthogonal to the transportation direction. It is characterized by having an air supply means installed with a certain inclination angle with respect to the direction.

【0017】請求項11に記載の発明であるフォトマス
ク洗浄装置は、請求項5に記載のフォトマスク洗浄装置
において、入口部と出口部は、フォトマスクを移送する
移送手段を接続して、移送手段と洗浄装置本体との間で
フォトマスクの受渡しを行うための連結手段を備えたこ
とを特徴としている。
According to an eleventh aspect of the present invention, there is provided a photomask cleaning apparatus according to the fifth aspect, wherein the inlet portion and the outlet portion are connected to a transfer means for transferring the photomask and transferred. It is characterized in that it is provided with a connecting means for delivering the photomask between the means and the cleaning apparatus main body.

【0018】請求項12に記載の発明であるフォトマス
ク洗浄装置は、請求項5に記載のフォトマスク洗浄装置
において、入口部は出口部を兼ねていることを特徴とし
ている。
The photomask cleaning apparatus according to a twelfth aspect of the present invention is characterized in that, in the photomask cleaning apparatus according to the fifth aspect, the inlet portion also serves as the outlet portion.

【0019】請求項13に記載の発明であるフォトマス
ク洗浄装置は、請求項12に記載のフォトマスク洗浄装
置において、予備水洗部の水供給手段がリンス部の水供
給手段を兼ねていることを特徴としている。
The photomask cleaning apparatus according to a thirteenth aspect of the present invention is the photomask cleaning apparatus according to the twelfth aspect, wherein the water supply means of the preliminary water washing section also serves as the water supply means of the rinse section. It has a feature.

【0020】請求項14に記載の発明であるフォトマス
ク洗浄装置は、請求項13に記載のフォトマスク洗浄装
置において、ブラシを挟んで入口部兼出口部側に水供給
手段が、その反対側に処理液供給手段が配置されてなる
ことを特徴としている。
A photomask cleaning apparatus according to a fourteenth aspect of the present invention is the photomask cleaning apparatus according to the thirteenth aspect, wherein a water supply means is provided on the inlet / outlet side with the brush interposed and on the opposite side. It is characterized in that a treatment liquid supply means is arranged.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照しながら詳細に説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

【0022】図1は本発明に係るフォトマスク洗浄装置
の一例を示す概略構成図、図2は装置本体内でのフォト
マスクの搬送状態を示す側面図である。図1において、
10はフォトマスクの洗浄を行う装置本体、20は装置
本体10に対するフォトマスク移送手段としての台車で
あり、この洗浄装置により行われるフォトマスクの洗浄
工程を説明すると次のようである。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing an example of a photomask cleaning apparatus according to the present invention, and FIG. 2 is a side view showing a state of carrying a photomask in the apparatus main body. In FIG.
Reference numeral 10 is an apparatus main body for cleaning the photomask, and 20 is a carriage as a photomask transfer means for the apparatus main body 10. The photomask cleaning step performed by this cleaning apparatus will be described below.

【0023】まず、装置本体10の入口部Aに台車20
を連結し、フォトマスクMを装置本体10の入口部Aに
移載する。
First, the carriage 20 is installed at the entrance A of the apparatus body 10.
And the photomask M is transferred to the entrance A of the apparatus body 10.

【0024】装置本体10は、複数の下段のローラー1
1と上段のローラー12からなるローラーコンベアを搬
送方向の上下に併設してあり、図2に示すように、フォ
トマスクMを垂直に立てた状態から僅かに寝かせた姿勢
で搬送するようになっている。すなわち、各ローラー1
1,12は、図2に示すように搬送方向に直交する支持
軸11a,12aを有しており、またフランジ部分11
b,12bを有していて、フォトマスクMのマスク面を
傷つけないように上辺並びに下辺の外端部のみに接触し
た状態で搬送する。そして、フォトマスクMの上辺側の
外端部を支持するローラー12は、サイズの異なるフォ
トマスクに対応するため高さ方向の位置が可変になって
いる。
The apparatus main body 10 comprises a plurality of lower rollers 1
Roller conveyors composed of the upper roller 1 and the upper roller 12 are provided above and below in the carrying direction, and as shown in FIG. 2, the photomask M is carried in a state in which it is laid down slightly from a state of standing vertically. There is. That is, each roller 1
As shown in FIG. 2, reference numerals 1 and 12 have support shafts 11a and 12a orthogonal to the transport direction, and the flange portion 11
b, 12b, and is conveyed while being in contact with only the outer end portions of the upper side and the lower side so as not to damage the mask surface of the photomask M. The position of the roller 12 that supports the outer edge of the upper side of the photomask M is variable in the height direction to accommodate photomasks of different sizes.

【0025】一方、台車20は、装置本体10と同様に
下段のローラー21と上段のローラー22からなるロー
ラーコンベアを有し、装置本体10と同じ傾斜でフォト
マスクMを収納するようになっており、またフォトマス
クMの上辺側の外端部を支持するローラー22は高さ方
向の位置が可変になっている。そして、台車20は車輪
23により移動可能で、装置本体10との間に例えばピ
ン20aと受け部10aとからなる連結手段が設けられ
ており、台車20が装置本体10に連結した状態ではパ
スラインが一致し、台車20と装置本体10の入口部A
との間でフォトマスクMの受渡しが行われる。
On the other hand, the carriage 20 has a roller conveyor composed of a lower roller 21 and an upper roller 22 like the apparatus main body 10, and accommodates the photomask M at the same inclination as the apparatus main body 10. The position of the roller 22 that supports the outer edge of the upper side of the photomask M is variable in the height direction. The trolley 20 is movable by wheels 23, and a coupling means including, for example, a pin 20a and a receiving portion 10a is provided between the trolley 20 and the device body 10. When the trolley 20 is coupled to the device body 10, a pass line is provided. Coincides with each other, and the entrance A of the carriage 20 and the apparatus main body 10
The photomask M is delivered to and from.

【0026】装置本体10の入口部AにフォトマスクM
がセットされた後、フォトマスクMは入口部Aから乾燥
部Bを通過して洗浄部Cまで搬送される。図1の装置本
体10では、この洗浄部Cの領域に、フォトマスクの両
面に水をかける予備水洗部と、処理液を供給する処理液
供給部と、フォトマスクの両面をブラシで洗浄するブラ
シ洗浄部と、ブラシ洗浄されたフォトマスクに水を供給
して処理液を除去するリンス部とが配置されている。こ
の洗浄部Cをフォトマスクが通る状態を図3に示してい
る。
A photomask M is provided at the entrance A of the apparatus body 10.
After being set, the photomask M is conveyed from the inlet portion A through the drying portion B to the cleaning portion C. In the apparatus main body 10 of FIG. 1, in the area of the cleaning section C, a preliminary water washing section for spraying water on both sides of the photomask, a processing solution supply section for supplying a processing solution, and a brush for cleaning both sides of the photomask with a brush. A cleaning unit and a rinse unit for supplying water to the brush-cleaned photomask to remove the processing liquid are arranged. FIG. 3 shows a state where the photomask passes through the cleaning section C.

【0027】フォトマスクMは、搬送方向両側のリンス
ノズル13から噴射される純水により予備水洗されなが
ら装置本体10の左端まで搬送され、図1にて実線で示
す位置mで反転する。反転した後、搬送方向両側の処理
液ノズル14から処理液(洗剤)が吹き付けられ、両面
をそれぞれロールブラシ15により洗浄された後、リン
スノズル13から噴射される純水により処理液が水洗さ
れる。このように洗浄されながら、フォトマスクMは実
線で示す位置mと破線で示す位置nとの間で所定時間往
復運動を繰り返す。この洗浄時において処理液をスプレ
ーする時間、純水をスプレーする時間は適宜設定でき
る。なお、図1に示す装置では、予備水洗部の水供給手
段がリンス部の水供給手段を兼ねている。
The photomask M is carried to the left end of the apparatus main body 10 while being prewashed with pure water sprayed from the rinse nozzles 13 on both sides in the carrying direction, and is inverted at the position m shown by the solid line in FIG. After being inverted, the treatment liquid (detergent) is sprayed from the treatment liquid nozzles 14 on both sides in the transport direction, both sides are cleaned by the roll brushes 15, and then the treatment liquid is washed with pure water sprayed from the rinse nozzle 13. . While being cleaned in this way, the photomask M repeats a reciprocating motion for a predetermined time between a position m shown by a solid line and a position n shown by a broken line. During this cleaning, the time for spraying the treatment liquid and the time for spraying pure water can be appropriately set. In the apparatus shown in FIG. 1, the water supply means of the preliminary water washing section also serves as the water supply means of the rinse section.

【0028】ロールブラシ15の支持体15aは装置本
体10に固定され、かつロールブラシ15の回転軸15
bは搬送方向に直交している。ここで、各ロールブラシ
15を、それらがフォトマスクMに接触しない位置に退
避できるようにしておけば、洗浄シーケンスの組み方が
多彩になる。例えば、1)予備水洗しているときはブラ
シを当てず、洗剤スプレーしてからブラシをかける、
2)リンス時間を長く取るために、ブラシを当てずに往
復運動させる、等の洗浄を行うことができる。
The support 15a of the roll brush 15 is fixed to the apparatus main body 10 and the rotary shaft 15 of the roll brush 15 is provided.
b is orthogonal to the transport direction. If the roll brushes 15 can be retracted to positions where they do not contact the photomask M, the cleaning sequence can be assembled in various ways. For example, 1) Do not apply a brush during preliminary washing, spray with a detergent, and then apply a brush.
2) In order to take a long rinse time, cleaning such as reciprocating motion without applying a brush can be performed.

【0029】なお、図4に示すように、ロールブラシ1
5とその両側のリンスノズル13及び処理ノズル14を
例えば支持体15aにより一体化してユニットとし、フ
ォトマスクMを停止したまま、このユニットを装置本体
10内で左右にスライド往復させることでフォトマスク
Mを洗浄するようにしてもよい。
As shown in FIG. 4, the roll brush 1
5 and the rinse nozzles 13 and the processing nozzles 14 on both sides thereof are integrated by, for example, a support 15a to form a unit, and while the photomask M is stopped, the unit is slid left and right in the apparatus main body 10 to slide and reciprocate the photomask M. May be washed.

【0030】洗浄部Cにて所定の洗浄を終えたフォトマ
スクMは、乾燥部Bに戻り、そこでエアーナイフ16に
より水切り乾燥されつつ搬送され、出口部を兼ねた入口
部Aで停止する。乾燥部Bにおけるエアーナイフ16
は、図1のようにフォトマスクMの面と平行でかつ搬送
方向と直交する方向に対して一定の傾斜角を有して設置
してあるので、下方向に水を切るようにエアーを吹き出
すことができ、洗浄後のフォトマスクMを素早く乾燥さ
せることができる。
The photomask M which has undergone a predetermined cleaning in the cleaning section C returns to the drying section B, where it is transported while being drained and dried by the air knife 16, and stopped at the inlet section A which also serves as the outlet section. Air knife 16 in the drying section B
Is installed with a certain inclination angle with respect to the direction parallel to the surface of the photomask M and orthogonal to the transport direction as shown in FIG. 1, so that air is blown downward to drain water. Therefore, the photomask M after cleaning can be quickly dried.

【0031】出口部を兼ねた入口部Aまで戻ってきた洗
浄済みのフォトマスクMは、台車20に移載されて露光
工程に戻される。そして、別のフォトマスクMが台車2
0で運ばれてきて、同様の洗浄工程により次々洗浄が行
われる。
The cleaned photomask M that has returned to the entrance A that also serves as the exit is transferred to the carriage 20 and returned to the exposure step. And another photomask M is a dolly 2
It is carried at 0, and washing is performed one after another by the same washing process.

【0032】以上、本発明の実施の形態について詳細に
説明してきたが、本発明によるフォトマスク洗浄装置
は、上記した実施の形態に何ら限定されるものではな
く、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更
が可能であることは当然のことである。
Although the embodiments of the present invention have been described in detail above, the photomask cleaning apparatus according to the present invention is not limited to the above-described embodiments and does not depart from the gist of the present invention. It goes without saying that various changes can be made in.

【0033】[0033]

【発明の効果】請求項1に記載の発明であるフォトマス
ク洗浄装置は、装置本体内で搬送中のフォトマスクに対
して処理液を供給することによって当該フォトマスクの
洗浄を行う装置であって、フォトマスクを垂直に立てた
状態から僅かに寝かせた姿勢で搬送する搬送手段を備え
てなることを特徴としているので、水平搬送に比べる
と、たわみを生じることなく、少ないスペースで大型の
フォトマスクに対応することができ、しかも、やや寝か
せることで、完全に垂直にした場合に比べると搬送ロー
ラーで挟まなくてよいなど搬送系が簡素になり、水平搬
送する場合より液切れ精度がよいという効果を奏する。
The photomask cleaning device according to the first aspect of the present invention is a device for cleaning the photomask by supplying a processing liquid to the photomask being conveyed in the main body of the device. Since the photomask is equipped with a transporting device that transports the photomask from a vertical state in a slightly laid posture, compared to the horizontal transport, it does not cause any deflection and a large photomask with a small space. In addition, by slightly laying it down, the transport system is simpler, such as not having to be sandwiched by the transport rollers, compared to the case where it is completely vertical, and the liquid draining accuracy is better than when horizontally transported. Play.

【0034】請求項2に記載の発明であるフォトマスク
洗浄装置は、請求項1に記載のフォトマスク洗浄装置に
おいて、搬送手段は、フォトマスクの搬送方向の上下に
併設され、その搬送方向に直交する支持軸を有する複数
のローラーを備えたローラーコンベアであることを特徴
としているので、上記の効果に加えて、ローラーコンベ
ア上に載せるだけでよいため、搬送手段への着脱が容易
であるという効果を奏する。
A photomask cleaning apparatus according to a second aspect of the present invention is the photomask cleaning apparatus according to the first aspect, wherein the transporting means are provided above and below the transporting direction of the photomask and are orthogonal to the transporting direction. Since it is characterized in that it is a roller conveyor having a plurality of rollers having a supporting shaft, in addition to the above effects, it is only necessary to put on the roller conveyor, the effect that it is easy to attach and detach to the transport means Play.

【0035】請求項3に記載の発明であるフォトマスク
洗浄装置は、請求項2に記載のフォトマスク洗浄装置に
おいて、搬送手段のローラーはフォトマスクの上辺並び
に下辺の外端部のみに接触することを特徴としているの
で、上記の効果に加えて、洗浄中にマスク面を汚すこと
がないという効果を奏する。
A photomask cleaning apparatus according to a third aspect of the present invention is the photomask cleaning apparatus according to the second aspect, wherein the rollers of the conveying means are in contact only with the outer edges of the upper and lower sides of the photomask. In addition to the above effects, there is an effect that the mask surface is not soiled during cleaning.

【0036】請求項4に記載の発明であるフォトマスク
洗浄装置は、請求項2又は3に記載のフォトマスク洗浄
装置において、フォトマスクの上辺側の外端部を支持す
るローラーは、高さ方向の位置が可変であることを特徴
としているので、上記の効果に加えて、サイズの異なる
フォトマスクに対応できるという効果を奏する。
A photomask cleaning apparatus according to a fourth aspect of the present invention is the photomask cleaning apparatus according to the second or third aspect, wherein the roller supporting the outer edge of the upper side of the photomask is in the height direction. Since the position of is variable, the effect of being able to deal with photomasks of different sizes is obtained in addition to the above effect.

【0037】請求項5に記載の発明であるフォトマスク
洗浄装置は、請求項1に記載のフォトマスク洗浄装置に
おいて、装置本体は、フォトマスクをセットする入口部
と、フォトマスクの両面に水をかける予備水洗部と、処
理液を供給する処理液供給部と、フォトマスクの両面を
ブラシで洗浄するブラシ洗浄部と、ブラシ洗浄されたフ
ォトマスクに水を供給して処理液を除去するリンス部
と、フォトマスクの両面にエアーを吹き付けて水切り乾
燥を行う乾燥部と、フォトマスクを取り出す出口部とを
備えていることを特徴としているので、上記の効果に加
えて、所望の工程で洗浄を行うことができる。
A photomask cleaning apparatus according to a fifth aspect of the present invention is the photomask cleaning apparatus according to the first aspect, wherein the apparatus main body is provided with an inlet for setting the photomask and water on both sides of the photomask. A pre-washing unit for spraying, a processing liquid supply unit for supplying the processing liquid, a brush cleaning unit for cleaning both sides of the photomask with brushes, and a rinse unit for supplying water to the brush-cleaned photomask to remove the processing liquid. In addition to the above effects, cleaning in a desired step is also possible because the photomask is equipped with a drying section for blowing water on both sides of the photomask to perform draining and drying, and an exit section for taking out the photomask. It can be carried out.

【0038】請求項6に記載の発明であるフォトマスク
洗浄装置は、請求項5に記載のフォトマスク洗浄装置に
おいて、ブラシの支持体は装置本体に固定され、かつブ
ラシの回転軸は搬送方向に直交してなることを特徴とし
ているので、上記の効果に加えて、ブラシ洗浄部の装置
長さ方向のスペースを小さくすることができるという効
果を奏する。
A photomask cleaning apparatus according to a sixth aspect of the present invention is the photomask cleaning apparatus according to the fifth aspect, wherein the brush support is fixed to the apparatus main body, and the rotating shaft of the brush is in the carrying direction. Since they are orthogonal to each other, in addition to the above effects, there is an effect that the space of the brush cleaning unit in the device length direction can be reduced.

【0039】請求項7に記載の発明であるフォトマスク
洗浄装置は、請求項5に記載のフォトマスク洗浄装置に
おいて、ブラシがフォトマスクに接触しない位置に退避
できる機構を備えたことを特徴としているので、上記の
効果に加えて、多彩な洗浄シーケンスを採用することが
できるという効果を奏する。
A photomask cleaning apparatus according to a seventh aspect of the present invention is the photomask cleaning apparatus according to the fifth aspect, characterized in that a mechanism is provided for retracting the brush to a position where it does not contact the photomask. Therefore, in addition to the above effects, it is possible to employ a variety of cleaning sequences.

【0040】請求項8に記載の発明であるフォトマスク
洗浄装置は、請求項5に記載のフォトマスク洗浄装置に
おいて、ブラシ洗浄部で、フォトマスクはブラシに挟ま
れた状態で往復運動することを特徴としているので、上
記の効果に加えて、装置の長さに依存せず、洗浄時間を
設定して確実な洗浄を行うことができるという効果を奏
する。
According to an eighth aspect of the present invention, there is provided a photomask cleaning device according to the fifth aspect, wherein the photomask cleaning device reciprocates in the brush cleaning section while being sandwiched between the brushes. Since this is a feature, in addition to the above effects, there is an effect that a cleaning time can be set and reliable cleaning can be performed without depending on the length of the apparatus.

【0041】請求項9に記載の発明であるフォトマスク
洗浄装置は、請求項5に記載のフォトマスク洗浄装置に
おいて、処理液供給部の処理液ノズルと、ブラシ洗浄部
のブラシと、リンス部のリンスノズルとを一つのユニッ
トとし、フォトマスクが停止したままでこのユニットを
スライド往復させてフォトマスクの洗浄を行うように構
成したことを特徴としているので、上記の効果に加え
て、フォトマスクが往復動する方式に比べて洗浄を行う
装置本体の長さが短くなり、さらに省スペース化を図る
ことができるという効果を奏する。
A photomask cleaning apparatus according to a ninth aspect of the present invention is the photomask cleaning apparatus according to the fifth aspect, wherein the processing liquid nozzle of the processing liquid supply unit, the brush of the brush cleaning unit, and the rinse unit are provided. In addition to the above effects, in addition to the above effects, the photomask is characterized in that the rinse nozzle is one unit and the unit is configured to slide and reciprocate this unit while the photomask is stopped. As compared with the reciprocating method, the length of the apparatus main body for cleaning becomes shorter, and there is an effect that space saving can be achieved.

【0042】請求項10に記載の発明であるフォトマス
ク洗浄装置は、請求項5に記載のフォトマスク洗浄装置
において、乾燥部は、搬送されるフォトマスクの面と平
行でかつ搬送方向と直交する方向に対して一定の傾斜角
を有して設置されたエアー供給手段を有することを特徴
としているので、上記の効果に加えて、下方向に水を切
ることができ、素早い乾燥が可能となるという効果を奏
する。
A photomask cleaning apparatus according to a tenth aspect of the present invention is the photomask cleaning apparatus according to the fifth aspect, wherein the drying section is parallel to the surface of the photomask to be transported and orthogonal to the transportation direction. Since it is characterized by having an air supply means installed with a certain inclination angle with respect to the direction, in addition to the above effects, water can be drained downward, and quick drying is possible. Has the effect.

【0043】請求項11に記載の発明であるフォトマス
ク洗浄装置は、請求項5に記載のフォトマスク洗浄装置
において、入口部と出口部は、フォトマスクを移送する
移送手段を接続して、移送手段と洗浄装置本体との間で
フォトマスクの受渡しを行うための連結手段を備えたこ
とを特徴としているので、上記の効果に加えて、人手に
よることなく、フォトマスクの装置本体への出し入れが
行えるという効果を奏する。
The photomask cleaning apparatus according to the invention of claim 11 is the same as the photomask cleaning apparatus of claim 5, wherein the inlet and the outlet are connected to a transfer means for transferring the photomask and transferred. In addition to the above effects, the photomask can be put in and taken out of the apparatus main body without any manual labor, since the connecting means for transferring the photomask between the cleaning means and the cleaning apparatus main body is provided. There is an effect that can be done.

【0044】請求項12に記載の発明であるフォトマス
ク洗浄装置は、請求項5に記載のフォトマスク洗浄装置
において、入口部は出口部を兼ねていることを特徴とし
ているので、上記の効果に加えて、さらに省スペース化
を図ることができるという効果を奏する。
A photomask cleaning apparatus according to a twelfth aspect of the present invention is characterized in that, in the photomask cleaning apparatus according to the fifth aspect, the inlet portion also serves as the outlet portion. In addition, there is an effect that further space saving can be achieved.

【0045】請求項13に記載の発明であるフォトマス
ク洗浄装置は、請求項12に記載のフォトマスク洗浄装
置において、予備水洗部の水供給手段がリンス部の水供
給手段を兼ねていることを特徴としているので、予備水
洗部を別に設ける必要がないため、設備コストを抑える
ことができる上に、さらに省スペース化を図ることがで
きるという効果を奏する。
According to a thirteenth aspect of the present invention, in the photomask cleaning apparatus according to the twelfth aspect, the water supplying means of the preliminary water washing section also serves as the water supplying means of the rinse section. Since this is a feature, it is not necessary to separately provide a preliminary water washing section, so that the facility cost can be suppressed and further space saving can be achieved.

【0046】請求項14に記載の発明であるフォトマス
ク洗浄装置は、請求項13に記載のフォトマスク洗浄装
置において、ブラシを挟んで入口部兼出口部側に水供給
手段が、その反対側に処理液供給手段が配置されてなる
ことを特徴としているので、上記の効果に加えて、さら
に省スペース化を図ることができるという効果を奏す
る。
A photomask cleaning apparatus according to a fourteenth aspect of the present invention is the photomask cleaning apparatus according to the thirteenth aspect, in which the water supply means is provided on the inlet / outlet side with the brush interposed, and on the opposite side. Since the treatment liquid supply means is arranged, there is an effect that space saving can be achieved in addition to the above effect.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係るフォトマスク洗浄装置の一例を示
す概略構成図である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing an example of a photomask cleaning apparatus according to the present invention.

【図2】フォトマスク洗浄装置の装置本体内でのフォト
マスクの搬送状態を示す側面図である。
FIG. 2 is a side view showing a state where the photomask is conveyed in the apparatus body of the photomask cleaning apparatus.

【図3】フォトマスク洗浄装置の装置本体内の洗浄部を
フォトマスクが通る状態を示す上面図である。
FIG. 3 is a top view showing a state in which a photomask passes through a cleaning section in the apparatus body of the photomask cleaning apparatus.

【図4】処理液供給部の処理液ノズルとブラシ洗浄部の
ブラシとリンス部のリンスノズルとを一つのユニットと
した形態を示す説明図である。
FIG. 4 is an explanatory diagram showing a mode in which a processing liquid nozzle of a processing liquid supply unit, a brush of a brush cleaning unit, and a rinse nozzle of a rinse unit are combined into one unit.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

A 入口部 B 乾燥部 C 洗浄部 M フォトマスク 10 装置本体 10a 受け部 11,12 ローラー 11a,12a 支持軸 11b,12b フランジ部分 13 リンスノズル 14 処理液ノズル 15 ロールブラシ 15a 支持体 15b 回転軸 16 エアーナイフ 20 台車 20a ピン 21,22 ローラー 23 車輪 A entrance B Drying part C cleaning section M photomask 10 Device body 10a receiving part 11,12 roller 11a, 12a support shaft 11b, 12b Flange part 13 Rinse nozzle 14 Processing liquid nozzle 15 roll brush 15a support 15b rotating shaft 16 air knife 20 carts 20a pin 21,22 roller 23 wheels

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B08B 7/04 B08B 7/04 A H01L 21/68 H01L 21/68 A Fターム(参考) 2H095 BB19 BB20 BB23 BB29 BB30 BB31 3B116 AA02 AB16 AB27 BA02 BA15 BB22 CA01 CC01 CC03 3B201 AA02 AB07 AB16 AB27 AB37 BA02 BA15 BB22 BB93 BB94 CA01 CC01 CC12 4F042 AA06 CC04 DA01 DA08 DE01 DF19 DF25 DF26 ED05 5F031 CA07 FA18 GA53 MA23 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) B08B 7/04 B08B 7/04 A H01L 21/68 H01L 21/68 A F term (reference) 2H095 BB19 BB20 BB23 BB29 BB30 BB31 3B116 AA02 AB16 AB27 BA02 BA15 BB22 CA01 CC01 CC03 3B201 AA02 AB07 AB16 AB27 AB37 BA02 BA15 BB22 BB93 BB94 CA01 CC01 CC12 4F042 AA06 CC04 DA01 DA08 DE01 DF19 DF25 DF26 ED05 5F031 CA07

Claims (14)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 装置本体内で搬送中のフォトマスクに対
して処理液を供給することによって当該フォトマスクの
洗浄を行う装置であって、フォトマスクを垂直に立てた
状態から僅かに寝かせた姿勢で搬送する搬送手段を備え
てなることを特徴とするフォトマスク洗浄装置。
1. An apparatus for cleaning a photomask by supplying a treatment liquid to the photomask being transported in the apparatus body, wherein the photomask is in a state of standing upright and lying down slightly. An apparatus for cleaning a photomask, characterized in that the apparatus comprises a transfer means for transferring the same.
【請求項2】 搬送手段は、フォトマスクの搬送方向の
上下に併設され、その搬送方向に直交する支持軸を有す
る複数のローラーを備えたローラーコンベアであること
を特徴とする請求項1に記載のフォトマスク洗浄装置。
2. The transporting means is a roller conveyor provided with a plurality of rollers which are arranged above and below in the transporting direction of the photomask and have a support shaft orthogonal to the transporting direction. Photo mask cleaning equipment.
【請求項3】 搬送手段のローラーはフォトマスクの上
辺並びに下辺の外端部のみに接触することを特徴とする
請求項2に記載のフォトマスク洗浄装置。
3. The photomask cleaning apparatus according to claim 2, wherein the rollers of the conveying means contact only the outer edges of the upper side and the lower side of the photomask.
【請求項4】 フォトマスクの上辺側の外端部を支持す
るローラーは、高さ方向の位置が可変であることを特徴
とする請求項2又は3に記載のフォトマスク洗浄装置。
4. The photomask cleaning apparatus according to claim 2, wherein the roller supporting the outer edge of the upper side of the photomask has a variable position in the height direction.
【請求項5】 装置本体は、フォトマスクをセットする
入口部と、フォトマスクの両面に水をかける予備水洗部
と、処理液を供給する処理液供給部と、フォトマスクの
両面をブラシで洗浄するブラシ洗浄部と、ブラシ洗浄さ
れたフォトマスクに水を供給して処理液を除去するリン
ス部と、フォトマスクの両面にエアーを吹き付けて水切
り乾燥を行う乾燥部と、フォトマスクを取り出す出口部
とを備えていることを特徴とする請求項1に記載のフォ
トマスク洗浄装置。
5. The apparatus main body comprises an inlet for setting a photomask, a prewashing unit for spraying water on both sides of the photomask, a treatment liquid supply unit for supplying a treatment liquid, and a brush for cleaning both sides of the photomask. Brush cleaning section, a rinse section that supplies water to the brush-cleaned photomask to remove the processing liquid, a drying section that sprays air on both sides of the photomask to drain and dry, and an outlet section that takes out the photomask The photomask cleaning apparatus according to claim 1, further comprising:
【請求項6】 ブラシの支持体は装置本体に固定され、
かつブラシの回転軸は搬送方向に直交してなることを特
徴とする請求項5に記載のフォトマスク洗浄装置。
6. The brush support is fixed to the apparatus main body,
The photomask cleaning device according to claim 5, wherein the rotation axis of the brush is orthogonal to the transport direction.
【請求項7】 ブラシがフォトマスクに接触しない位置
に退避できる機構を備えたことを特徴とする請求項5に
記載のフォトマスク洗浄装置。
7. The photomask cleaning apparatus according to claim 5, further comprising a mechanism capable of retracting the brush to a position where the brush does not contact the photomask.
【請求項8】 ブラシ洗浄部で、フォトマスクはブラシ
に挟まれた状態で往復運動することを特徴とする請求項
5に記載のフォトマスク洗浄装置。
8. The photomask cleaning apparatus according to claim 5, wherein the photomask reciprocates in the brush cleaning unit while being sandwiched between the brushes.
【請求項9】 処理液供給部の処理液ノズルと、ブラシ
洗浄部のブラシと、リンス部のリンスノズルとを一つの
ユニットとし、フォトマスクが停止したままでこのユニ
ットをスライド往復させてフォトマスクの洗浄を行うよ
うに構成したことを特徴とする請求項5に記載のフォト
マスク洗浄装置。
9. A photomask comprising a treatment liquid nozzle of a treatment liquid supply unit, a brush of a brush cleaning unit, and a rinse nozzle of a rinse unit as one unit, and sliding the unit back and forth while the photomask is stopped. 6. The photomask cleaning apparatus according to claim 5, wherein the cleaning is performed.
【請求項10】 乾燥部は、搬送されるフォトマスクの
面と平行でかつ搬送方向と直交する方向に対して一定の
傾斜角を有して設置されたエアー供給手段を有すること
を特徴とする請求項5に記載のフォトマスク洗浄装置。
10. The drying section has an air supply means installed parallel to the surface of the photomask to be conveyed and having a constant inclination angle with respect to a direction orthogonal to the conveying direction. The photomask cleaning apparatus according to claim 5.
【請求項11】 入口部と出口部は、フォトマスクを移
送する移送手段を接続して、移送手段と洗浄装置本体と
の間でフォトマスクの受渡しを行うための連結手段を備
えたことを特徴とする請求項5に記載のフォトマスク洗
浄装置。
11. The inlet part and the outlet part are provided with connecting means for connecting a transfer means for transferring the photomask and for transferring the photomask between the transfer means and the cleaning apparatus main body. The photomask cleaning device according to claim 5.
【請求項12】 入口部は出口部を兼ねていることを特
徴とする請求項5に記載のフォトマスク洗浄装置。
12. The photomask cleaning apparatus according to claim 5, wherein the inlet portion also serves as the outlet portion.
【請求項13】 予備水洗部の水供給手段がリンス部の
水供給手段を兼ねていることを特徴とする請求項12に
記載のフォトマスク洗浄装置。
13. The photomask cleaning apparatus according to claim 12, wherein the water supply means of the preliminary water washing section also serves as the water supply means of the rinse section.
【請求項14】 ブラシを挟んで入口部兼出口部側に水
供給手段が、その反対側に処理液供給手段が配置されて
なることを特徴とする請求項13に記載のフォトマスク
洗浄装置。
14. The photomask cleaning apparatus according to claim 13, wherein the water supply means is arranged on the inlet / outlet side with the brush interposed, and the treatment liquid supply means is arranged on the opposite side.
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