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JP2002500661A - 2−トリフルオルメトキシアニリンの新規な製造方法 - Google Patents

2−トリフルオルメトキシアニリンの新規な製造方法

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Publication number
JP2002500661A
JP2002500661A JP50032299A JP50032299A JP2002500661A JP 2002500661 A JP2002500661 A JP 2002500661A JP 50032299 A JP50032299 A JP 50032299A JP 50032299 A JP50032299 A JP 50032299A JP 2002500661 A JP2002500661 A JP 2002500661A
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JP
Japan
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compound
formula
hydrogen atom
alkyl group
solvent
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP50032299A
Other languages
English (en)
Inventor
デュリ,ミシェル
Original Assignee
ロディア シミ
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ロディア シミ filed Critical ロディア シミ
Publication of JP2002500661A publication Critical patent/JP2002500661A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C213/00Preparation of compounds containing amino and hydroxy, amino and etherified hydroxy or amino and esterified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton
    • C07C213/02Preparation of compounds containing amino and hydroxy, amino and etherified hydroxy or amino and esterified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton by reactions involving the formation of amino groups from compounds containing hydroxy groups or etherified or esterified hydroxy groups

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】 本発明は、次式I: の化合物を製造するにあたり、a)次の一般式II:

Description

【発明の詳細な説明】 2−トリフルオルメトキシアニリンの新規な製造方法 本発明は、2−メトキシアミノフェニル基を含有する芳香族化合物、特に2− トリフルオルメトキシアニリンの製造方法に関する。 2−トリフルオルメトキシアニリンは、多くの医薬品及び農薬製品の合成にお ける中間体である。 種々の合成経路が提案された。 しかして、2−ニトロトリフルオルメトキシフェニルを使用し、それを接触水 素化により又は酸性媒体中でSnCl2により還元することからなるいくつかの 方法が知られている(Zurn.Obshchei.Khim.(31),19 61,p.915−924、(CA C55)23408);J.Org.Ch em.(29),1964,p.1−11)。 Zurn.Obshchei.Khim.(31),1961,p.915− 924に記載された別の方法は、2−ニトロトリフルオルメトキシアニリンから 得られた4−ヨード−2−ニトロトリフルオルメトキシフェニルを選択的に還元 して4−ヨードトリフルオルメトキシアニリンを得、この化合物をラネーニッケ ル上で水素化することからなる。 本発明は、2−メトキシアミノフェニル基を含有する芳香族化合物から2−ト リフルオルメトキシアミノフェニル基を含有する芳香族化合物を製造する新規な 方法を提供する。 さらに詳しくは、本発明は、次式I: (ここでR1及びR2は、同一であっても異なっていてもよく、水素原子又はC1 〜C6アルキル基を表わし、或いはR1及びR2はそれらが結合している炭素原子 と一緒になってC6〜C10アリール基を表わす) の化合物の製造方法であって、これは a)次の一般式II: (ここでR1、R2及びR3は上記の意味を表わし、或いはR1は水素原子又はC1 〜C6アルキル基を表わし、R2及びR3のうちの少なくとも一方は塩素原子を表 わし、他方は水素原子又はC1〜C5アルキル基であり、 或いはR1及びR2はそれらが結合している炭素原子と一緒になってC6〜C10 アリール環を表わし、R3は水素原子、C1〜C6アルキル基又は塩素原子を表わ す)の化合物をニトロ化剤と随意に反応させて次式III: (ここでR1、R2及びR3は上で定義した通りである) の化合物を形成させ、 b)式IIIの化合物を還元して次式IV:(ここでR1、R2及びR3は上で定義した通りである) の化合物を形成させ、 c)工程b)で得た化合物を脱塩化水素反応に付して式Iの化合物を得、 d)工程c)で得た化合物を反応混合物から単離する 工程を含む。 工程a)は、一般式IIの化合物をプロトン溶媒、例えば酢酸中で、又は非プロ トン溶媒、有利には塩素化溶媒、例えばジクロルメタン中で、又は溶媒を使用し ないで、硫酸媒体中の硝酸と反応させることによって有利に実施される。 反応温度は0〜60℃の範囲にあるが、反応は好ましくは20〜40℃で実施 される。 工程a)の後、適当ならば、得られた位置エナンチオマーは、2−ニトロトリ フルオルメトキシフェニル化合物を単離するために分離される。 工程:b)は、アルコール又は酢酸のような溶媒中でラネーニッケルの存在下 での接触水素化である。 別法として、ニトロ官能基は、ベシャンの反応に従って、溶媒として酢酸中の 塩酸媒体中で又は水中でFeの存在下にアミノ基に還元することができる。 別の変法は、前の工程の化合物をエタノール中の塩酸媒体中でSnCl2で還 元し、反応媒体を1〜数時間の範囲の期間にわたり加熱還流することからなる。 工程c)は、工程bの化合物を、溶媒としてアルコール又は酢酸を使用して、 ラネーニッケルの存在下に水素化することによって実施することができる。 工程b)とc)は同時に実施することができる。 工程a)は、随意であるが好ましく、また式IIの化合物を得るためのその他の どんな方法も許容できる。 出発物質は簡単に製造することができる既知の化合物である。 例えば、4−クロルトリフルオルメトキシベンゼンは、Zurn.Obshc hei.Khim.(31),1961,p.915−924、(CA C55 )23408);J.Org.Chem.(29),1964,p.1−11に 記載のようにp−クロルフェノールから製造することができる。 式IIの化合物としては、R1、R2及びR3が水素原子を表わすもの、又はR2及 びR3が塩素を表わし、R1が水素原子であるものが好ましい。 後者の場合の利点は、工程a)の反応の良好な選択性、従って後続の異性体の 分離工程を実施する必要性がないことである。 4−クロルトリフルオルメトキシベンゼンからの2−トリフルオルメトキシア ニリンの製造を以下に詳細に説明する。実施例 1)4−クロル−2(−3)−ニトロトリフルオルメトキシベンゼンの合成 40℃に予熱した1640gの96.8%硫酸と680.4gの100%硝酸 との原料に1207.0gの4−クロルトリフルオルメトキシベンゼンを1時間 にわたり添加する。次いで、反応物全体を50℃に加熱し、この温度に4時間保 持する。攪拌を停止した後、上部の有機相を40℃でデカンテーションし、次い で638.2gの18.2%苛性ソーダ液に注ぎ入れる。さらにデカンテーショ ンした後、有機相を250mlの水で洗浄する。粗製の反応物は、4−クロル− 2−ニトロトリフルオルメトキシベンゼンと4−クロル−3−ニトロトリフルオ ルメトキシベンゼンとの50/50混合物を含有した。(重量:1550g、ア ニリン純度:91.8%)。ニトロ化収率は96%であった。 2)2−アミノ−4−クロルトリフルオルメトキシベンゼンの合成 500mlのオートクレーブに10gのラネーニッケルを170mlのメタノ ール中50%の水分で装入する。オートクレーブを水素でフラッシュした後、反 応物全体を50℃に加熱し、水素圧を12〜13バールに調節する。次いで、1 07.0gの2−ニトロ−4−クロルトリフルオルメトキシベンゼンを反応物全 体に1時間30分〜2時間にわたり連続的に添加する。ニトロ化合物の添加後、 反応物全体を50℃に30分間〜1時間保持する。このように形成された2−ア ミノ−4−クロルトリフルオルメトキシベンゼンの反応物全体は脱塩化水素工程 に直接使用する。 3)2−トリフルオルメトキシアニリンの合成 粗製の反応物全体を含有し、12〜13バールの水素圧にある上記の反応器に 68.5gの30.2%の苛性ソーダ液を導入すると共に反応物全体の温度を5 0〜70℃に保持する。次いで、反応物全体を70℃に6時間保持する。この期 間の後、脱塩化水素が完了するが、反応物全体を室温に冷却し、次いで、100 mlの水を添加する。次いで、触媒をろ別し、次いで2相のろ液を100℃に加 熱してメタノールを除去する。次いで、デカンテーション残留物をデカンテーシ ョンして、96.9%のタイターを有する77.7gの粗製の2−アミノトリフ ルオルメトキシベンゼンを得た(化学収率:96%)。次いで、この粗生成物を 真空下に蒸留して(20トールで64℃で)99%以上のタイターで2−アミノ トリフルオルメトキシベンゼンを得た。 これと同じ操作を4−クロル−2−ニトロトリフルオルメトキシベンゼンと4 −クロル−3−ニトロトリフルオルメトキシベンゼンとの50/50混合物につ いて実施することができる。しかして、2−アミノトリフルオルメトキシベンゼ ン(2−トリフルオルメトキシアニリン)と3−アミノトリフルオルメトキシベ ンゼン(3−トリフルオルメトキシアニリン)との混合物を得た。次いで、これ らの二つのアニリンを真空蒸留により分離した(2.7×103Pa(20トー ル)でのそれぞれの沸点:64℃及び89℃)。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,ML,MR, NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,KE,L S,MW,SD,SZ,UG,ZW),EA(AM,AZ ,BY,KG,KZ,MD,RU,TJ,TM),AL ,AM,AT,AU,AZ,BA,BB,BG,BR, BY,CA,CH,CN,CU,CZ,DE,DK,E E,ES,FI,GB,GE,GH,GM,GW,HU ,ID,IL,IS,JP,KE,KG,KP,KR, KZ,LC,LK,LR,LS,LT,LU,LV,M D,MG,MK,MN,MW,MX,NO,NZ,PL ,PT,RO,RU,SD,SE,SG,SI,SK, SL,TJ,TM,TR,TT,UA,UG,US,U Z,VN,YU,ZW

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1. 次式I: (ここでR1及びR2は、同一であっても異なっていてもよく、水素原子又はC1 〜C6アルキル基を表わし、或いはR1及びR2はそれらが結合している炭素原子 と一緒になってC6〜C10アリール基を表わす) の化合物を製造するにあたり、 a)次の一般式II: (ここでR1、R2及びR3は上記の意味を表わし、或いはR1は水素原子又はC1 〜C6アルキル基を表わし、R2及びR3のうちの少なくとも一方は塩素原子を表 わし、他方は水素原子又はC1〜C5アルキル基であり、 或いはR1及びR2はそれらが結合している炭素原子と一緒になってC6〜C10 アリール環を表わし、R3は水素原子、C1〜C6アルキル基又は塩素原子を表わ す) の化合物をニトロ化剤と随意に反応させて次式III:(ここでR1、R2及びR3は上で定義した通りである) の化合物を形成させ、 b)式IIIの化合物を還元して次式IV: (ここでR1、R2及びR3は上で定義した通りである) の化合物を形成させ、 c)工程b)で得た化合物を脱塩化水素反応に付して式Iの化合物を得、 d)工程c)で得た化合物を反応混合物から単離する 工程を含む、式Iの化合物の製造方法。 2. 工程a)が一般式IIの化合物を硫酸媒体中の硝酸とプロトン溶媒又は非プ ロトン溶媒中で0〜50℃の温度で又は溶媒の不存在下に反応させることを含む 請求項1に記載の方法。 3. 工程b)がラネーニッケルの存在下での接触水素化を含む請求項1に記載 の方法。 4. 工程c)がラネーニッケルの存在下での接触水素化である請求項1に記載 の方法。 5. 4−クロルトリフルオルメトキシベンゼンから2−トリフルオルメトキシ アニリンを製造することからなる請求項1〜4のいずれかに記載の方法。
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