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JP2002355562A - 光応答性材料及びその製造方法 - Google Patents

光応答性材料及びその製造方法

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JP2002355562A
JP2002355562A JP2001168797A JP2001168797A JP2002355562A JP 2002355562 A JP2002355562 A JP 2002355562A JP 2001168797 A JP2001168797 A JP 2001168797A JP 2001168797 A JP2001168797 A JP 2001168797A JP 2002355562 A JP2002355562 A JP 2002355562A
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binder
photoresponsive
emitting diode
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JP2001168797A
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Shinichi Sugihara
愼一 杉原
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ECODEVICE CO Ltd
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Priority to EP02019367A priority patent/EP1393803A1/en
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Abstract

(57)【要約】 【課題】実質的に酸素欠陥を有さないにもかかわらず、
可視光線への応答性は有する新規な光応答性材料、その
製造方法、及びその用途を提供。 【解決手段】ルチル型酸化チタンであって、光源のピー
ク波長が５２０ｎｍであり、半値幅が２０ｎｍである光
の作用により活性を有する光応答性材料。光の作用によ
り活性がＮＯ除去活性である。窒素元素を含むルチル型
酸化チタンであることができる。ルチル型酸化チタンを
窒素プラズマで処理するか、またはアンモニア雰囲気中
で加熱処理ことを含む光応答性材料の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、可視光応答性を有
するルチル型酸化チタンをベースにした可視光応答性材
料、その製造方法、及びこの光応答性材料の用途、さら
にはこの光応答性材料を用いた可視光応答性塗料、塗膜
及びにこの光応答性材料を含む塗膜を有する物品に関す
る。本発明の可視光応答性塗膜及びこの可視光応答性塗
膜を有する物品は、光触媒、光センサー、光電池用材
料、光防汚材料、光親水性材料、光防菌材料等として有
用なものである。
【０００２】
【従来の技術】アナターゼ型二酸化チタンからなる光触
媒を用いて、抗菌性タイル、セルフ・クリーニング建
材、超親水性材料、脱臭・消臭材料、水の浄化、癌の治
療等を行えることが知られ（光クリーン革命（藤嶋昭
他））、種々の用途開発が活発に行われている。具体的
には、例えば、ＷＯ９４／１１０９２号には室内照明下
における光触媒による空気処理方法が開示されている。
特開平７−１０２６７８号には、光触媒を用いた院内感
染の防止方法が開示されている。特開平８−６７８３５
号公報及び特開平８−１６４３３４号公報には抗菌性塗
料が開示されている。さらにＷＯ９６／２９３７５には
超親水性材料が開示されている。
【０００３】ところが、アナターゼ型二酸化チタンは、
励起光として４００ｎｍ以下の紫外線が必要である。そ
れに対して、励起光源となり得る太陽光や人工光には、
紫外線よりも可視光線がケタ違いに多く含まれている。
しかし、上記二酸化チタンからなる光触媒では、残念な
がら、可視光線はほとんどといって良いほど利用でき
ず、エネルギー変換効率という観点からは、非常に非効
率的であった。そして、この非効率性が実用化に向けて
の大きな壁となっていた。
【０００４】そこで、可視光線を利用可能な光触媒の開
発も徐々に行われている。例えば、特開平１０−１４６
５３０号公報には、表面よりも深い層におけるＯ／Ｔｉ
原子数比が表面におけるＯ／Ｔｉ原子数比よりも小さい
酸化チタン系光触媒が開示されている。この光触媒は、
チタンアルコキシドとキレート化剤（例えば、アセチル
アセトン）との錯体を酸化性雰囲気で５００℃前後で加
熱することで形成される。しかるに、この方法では、チ
タンアルコキシドとキレート化剤（例えば、アセチルア
セトン）を使用するため製造コストが高くなり、Ｏ／Ｔ
ｉ原子数比を表面と内部とで異なるようにする必要があ
るために製造条件のコントロールが非常に困難である、
といった問題がある。また、実施例において４２０ｎｍ
以上の光照射により、活性が得られたと記載されている
が、得られる活性は、非常に低く、実用に供せる程度の
ものではなかった。
【０００５】また、安定した酸素欠陥を有するアナター
ゼ型二酸化チタンからなる可視光照射下で活性を有する
触媒が知られている（WO00/10706）。この光触媒は、例
えば、紫外線型光触媒として知られている石原産業製の
アナターゼ型二酸化チタンであるST-01を原料とし、こ
れを水素またはアルゴン等のプラズマ処理することで得
られるものである。石原産業製のST-01は、主に紫外線
に対する活性を有する物であるが、紫外線に対する活性
よりは相当に低くなるが、４２０ｎｍ付近までの可視光
線に対する活性も示す。しかし４７０ｎｍ以上では実質
的に活性は有さない。それに対して、上記WO00/10706に
記載の光触媒は、４２０ｎｍ付近にとどまらず６００ｎ
ｍ前後までの波長の光でもＮＯを光酸化できるものであ
り、真に可視型の光触媒といえる物であった。
【０００６】しかるに、上記光触媒は、酸素欠陥を有す
るアナターゼ型二酸化チタンからなるものであり、上記
酸素欠陥はある程度の期間は安定であるが、例えば、長
期間屋外で使用した場合、徐々に酸素欠陥が解消される
場合がある。また、酸素欠陥を有することに起因すると
考えられるデメリットもあった。例えば、ある種の無機
系バインダーとの間で相互作用を起こし、活性が低下す
る場合があった。
【０００７】そこで本発明の目的は、実質的に酸素欠陥
を有さないにもかかわらず、可視光線への応答性は有す
る新規な光応答性材料及びその製造方法を提供すること
にある。さらに、本発明は、上記新規な光応答性材料の
用途を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の手段は以下のとおりである。 （１）ルチル型酸化チタンであって、光源のピーク波長
が５２０ｎｍであり、半値幅が２０ｎｍである光の作用
により活性を有する光応答性材料。 （２）光の作用により活性がＮＯ除去活性である（１）
に記載の光応答性材料。 （３）窒素元素を含むルチル型酸化チタンである（１）
または（２）に記載の光応答性材料。 （４）光源のピーク波長が６３０ｎｍであって、半値幅
が２０ｎｍである光の作用により活性を有する（１）〜
（３）のいずれかに記載の光応答性材料。 （５）Ｘ線光電子分光法による測定において、Ｔｉ−Ｎ
の結合が観測される（１）〜（４）のいずれかに記載の
光応答性材料。 （６）チタンと酸素及び窒素とが、化学量論比が1.5〜
2.4の範囲である（３）〜（５）のいずれかに記載の光
応答性材料。 （７）原料ルチル型酸化チタンを窒素プラズマで処理す
ることを含む（１）〜（６）のいずれかに記載の光応答
性材料の製造方法。 （８）原料ルチル型酸化チタンをアンモニア雰囲気中で
加熱処理することを含む（１）〜（６）のいずれかに記
載の光応答性材料の製造方法。 （９）原料ルチル型酸化チタンが湿式法または乾式法で
得られた酸化チタンである（７または８に記載の製造方
法。 （１０）（１）〜（６）のいずれかに記載の光応答性材
料に発光ダイオードまたは有機エレクトロルミネッセン
スの光を照射する、光応答性材料の活性化方法。 （１１）窒素酸化物を含有する気体を、可視光領域の少
なくとも一部の光を含む光を照射した光応答性材料に接
触させることで、前記気体中の窒素酸化物濃度を低減す
る方法であって、前記光応答性材料が（１）〜（６）の
いずれかに記載の光応答性材料である前記方法。 （１２）前記光が発光ダイオードからの光である（１
１）に記載の方法。 （１３）発光ダイオードが紫色発光ダイオード、青色発
光ダイオード、緑色発光ダイオード、黄色発光ダイオー
ド、または白色発光ダイオードである（１２）に記載の
方法。 （１４）発光ダイオード基板上に光応答性材料を含む層
を有する装置を用いる（１１〜（１３）のいずれかに記
載の方法。 （１５）発光ダイオード基板が、少なくとも発光ダイオ
ードとその上に設けた光透過性層とからなり、前記光透
過性層の上に前記光応答性材料を含む層を設けた（１
４）に記載の方法。 （１６） 窒素酸化物を含有する気体が空気である（１
１）〜（１５）のいずれかに記載の方法。 （1７） バインダー、光応答性材料及び溶媒を含む可視
光応答性塗料であって、前記光応答性材料が、（１）〜
（６）のいずれかに記載の光応答性材料であることを特
徴とする塗料。 （１８）バインダーが有機バインダーまたは無機バイン
ダーである（１７）に記載の塗料。 （１９）溶媒が水または有機溶媒である（１７）または
（１８）に記載の塗料。 （２０）有機バインダーが、フッ素系ポリマー、シリコ
ン系ポリマー、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエス
テル樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂
からなる群から選ばれる少なくとも１種のバインダーで
ある（１８）または（１９）に記載の塗料。 （２１）無機バインダーが、アルキルシリケート、ハロ
ゲン化ケイ素およびこれらの部分加水分解物などの加水
分解性ケイ素化合物を加水分解して得られた生成物、有
機ポリシロキサン化合物の重縮合物、シリカ、コロイダ
ルシリカ、水ガラス、オルガノポリシロキサンなどのケ
イ素化合物、リン酸亜鉛、リン酸アルミニウムなどのリ
ン酸塩、重リン酸塩、セメント、石灰、セッコウ、ほう
ろう用フリット、グラスライニング用うわぐすり、プラ
スター、珪藻土からなる群から選ばれる少なくとも１種
のバインダーである（１８）または（１９）に記載の塗
料。 （２２）粒状物質、吸着剤及び／又は担体をさらに含む
（１７）〜（２１）のいずれかに記載の塗料。 （２３）粒状物質が、平均粒子径が１ｎｍ〜１００μｍ
の無機物または有機物粒子であり、吸着剤及び担体が活
性炭、ゼオライト、またはシリカゲルである（２２に記
載の塗料。 （２４）バインダー及び光応答性材料を含む可視光応答
性塗膜であって、前記光応答性材料が、（１）〜（６）
のいずれかに記載の光応答性材料であることを特徴とす
る塗膜。 （２５）バインダーが有機バインダーまたは無機バイン
ダーである（２４）に記載の塗膜。 （２６）有機バインダーが、フッ素系ポリマー、シリコ
ン系ポリマー、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエス
テル樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂
からなる群から選ばれる少なくとも１種のバインダーで
ある（２５）に記載の塗膜。 （２７）無機バインダーが、アルキルシリケート、ハロ
ゲン化ケイ素およびこれらの部分加水分解物などの加水
分解性ケイ素化合物を加水分解して得られた生成物、有
機ポリシロキサン化合物の重縮合物、シリカ、コロイダ
ルシリカ、水ガラス、オルガノポリシロキサンなどのケ
イ素化合物、リン酸亜鉛、リン酸アルミニウムなどのリ
ン酸塩、重リン酸塩、セメント、石灰、セッコウ、ほう
ろう用フリット、グラスライニング用うわぐすり、プラ
スター、珪藻土からなる群から選ばれる少なくとも１種
のバインダーからなる群から選ばれる少なくとも１種の
バインダーである（２５）に記載の塗膜。 （２８）粒状物質、吸着剤及び／又は担体をさらに含む
（２４）〜（２７）のいずれかに記載の塗膜。 （２９）粒状物質が、平均粒子径が１ｎｍ〜１００μｍ
の無機物または有機物粒子であり、吸着剤及び担体が、
活性炭、ゼオライト、またはシリカゲルある（２８）に
記載の塗膜。 （３０）（２４）〜（２９）のいずれか一項に記載の塗
膜を表面の少なくとも一部に有する物品。 （３１）物品が、セラミックス、ガラスなどの無機材質
の物品、プラスチック、ゴム、木、紙などの有機材質の
物品、またはアルミニウムなどの金属、綱などの合金な
どの金属材質の物品である（３０）に記載の物品。 （３２）（１）〜（６）のいずれか一項に記載の光応答
性材料を用いる殺菌、防藻、防黴、及び／又は防汚方
法。 （３３）（１）〜（６）のいずれか一項に記載の光応答
性材料を用いる水の浄化方法。 （３４）可視光領域の少なくとも一部の光を照射した
（１）〜（６）のいずれか一項に記載の光応答性材料を
用いる水の光分解方法。
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明の光応答性材料は、ルチル
型酸化チタンであって、光源のピーク波長が５２０ｎｍ
であり、半値幅が２０ｎｍである光の作用により活性を
有する光応答性材料である。ここで、光の作用により活
性は、例えば、ＮＯ除去活性であることができる。さら
に、本発明の光応答性材料は、窒素元素を含むルチル型
酸化チタンであることもできる。特に、本発明の光応答
性材料は、場合によっては、光源のピーク波長が６３０
ｎｍであって、半値幅が２０ｎｍである光の作用によっ
ても活性を有する。
【００１０】本発明の光応答性材料の活性は、例えば、
ＮＯｘ酸化活性（ＮＯ除去活性）を測定することにより
評価することができる。ＮＯｘ酸化活性（ＮＯ除去活
性）の測定方法は、実施例において詳述するが、例え
ば、光源として３００Ｗキセノンランプを用い、日本分
光製照射装置により半値幅２０ｎｍとした単色光を光源
として用いることができる。単色光のピーク波長は、例
えば、波長３６０ｎｍ、４２０ｎｍ、４７０ｎｍ、５２
０ｎｍ、５７０ｎｍ、６３０ｎｍとすることができる。
さらに本発明の光応答性材料は、場合によっては、光源
のピーク波長が５７０ｎｍであって、半値幅が２０ｎｍ
である光の作用によっても、ＮＯ2生成活性を有する。
【００１１】また、本発明の光応答性材料は、可視光照
射下で活性を示し、より具体的には、少なくとも４００
〜５５０ｎｍ、好ましくは４００〜６００ｎｍの可視光
照射下でＮＯｘ酸化活性を有する。従来のルチル型酸化
チタンは、４００ｎｍ付近の可視光線に対しては、ある
程度の活性を有する。例えば、触媒学会参照触媒ＪＲＣ
−ＴＩＯ−３（ルチル）は表６にデータを示す様に、４
７０ｎｍまでの波長域では弱いながらも活性を示すが、
５００ｎｍを超える波長域では活性を示さない。５００
ｎｍを超え、６００ｎｍ付近までの波長域の可視光線に
対して光触媒活性を示す、ルチル型酸化チタンをベース
とする材料はこれまでに知られていない。
【００１２】上記触媒学会参照触媒ＪＲＣ−ＴＩＯ−３
（ルチル）は、波長３６０ｎｍの光を照射した時に得ら
れるＮＯｘ酸化活性（ＮＯ除去活性）を基準にするとす
ると、波長４７０ｎｍの光を照射した時に得られるＮＯ
ｘ酸化活性（ＮＯ除去活性）は約１０％であり、波長５
２０ｎｍの光については全く活性を示さない。それに対
して、本発明の光応答性材料は、少なくとも３６０ｎｍ
〜５７０ｎｍの範囲の上記単色光を使用した場合にＮＯ
ｘ酸化活性（ＮＯ除去活性）が見られ、場合によっては
波長６３０ｎｍの単色光を光源として場合であってもＮ
Ｏｘ酸化活性（ＮＯ除去活性）を示す。具体的には、例
えば、本発明の光応答性材料の１つは、波長３６０ｎｍ
の光を照射した時に得られるＮＯｘ酸化活性（ＮＯ除去
活性）を基準にすると、波長４７０ｎｍの光を照射した
時に得られるＮＯｘ酸化活性（ＮＯ除去活性）は約８０
であり、波長５２０ｎｍの光については約５０％であ
り、波長５７０ｎｍの光については約１０％である。
【００１３】本発明の光応答性材料は、窒素元素を含む
ルチル型酸化チタンを包含する。窒素元素を含むこと
は、例えば、Ｘ線光電子分光法による測定において、Ｔ
ｉ−Ｎの結合が観測されることで確認できる。窒素元素
の含有量は、Ｘ線光電子分光法による測定において観測
されるチタンと結合している窒素の１ｓ電子に帰属され
るピークの面積から求めることができる。窒素元素の含
有量は、本発明の光応答性材料が可視光応答性を有する
ように適宜選択することができる。例えば、（Ｔｉ２ｐ
３／２）及び（Ｔｉ２ｐ１／２）の面積を１００とした
場合、（Ｎ１ｓ）の面積が、例えば、０．０１〜１０の
範囲であることができ、０．１〜５の範囲であることも
できる。また、本発明の光応答性材料がルチル型酸化チ
タンであることは、原料として用いる酸化チタンがルチ
ル型であること、及び本発明の光応答性材料のＸＲＤに
よる測定によって確認できる。この点は実施例において
も説明する。
【００１４】さらに本発明の窒素元素を含む態様の光応
答性材料においては、チタンと酸素及び窒素とが、ほぼ
化学量論比である。チタンと酸素及び窒素とが、ほぼ化
学量論比であることは、例えば、Ｘ線光電子分光法によ
り得られるチタンの２ｐ電子に帰属されるピークの面積
に対する、チタンと結合している酸素の１ｓ電子に帰属
されるピークの面積並びにチタンと結合している窒素の
１ｓ電子に帰属されるピークの面積より算出された元素
比（（Ｏ１ｓ＋Ｎ１ｓ）／Ｔｉ２ｐ）により特定でき
る。そして、本発明の光応答性材料は、面積より算出さ
れた元素比（Ｏ１ｓ＋Ｎ１ｓ）／Ｔｉ２ｐが、例えば
１．５以上、２．４以下である。より好ましい面積より
算出された元素比（Ｏ１ｓ＋Ｎ１ｓ）／Ｔｉ２ｐは、
１．７５〜２．２０の範囲である。
【００１５】本発明の光応答性材料は、例えば、原料ル
チル型酸化チタンを窒素プラズマで処理することを含む
方法により製造することができる。あるいは本発明の光
応答性材料は、例えば、原料ルチル型酸化チタンをアン
モニア雰囲気中で加熱処理することを含む方法により製
造することができる。上記方法で使用する原料ルチル型
酸化チタンは、湿式法で製造されたルチル型酸化チタ
ン、乾式法で製造されたルチル型酸化チタンのいずれで
あってもよい。尚、原料ルチル型酸化チタンは、結晶性
が比較的低いルチル型酸化チタンであることが、本発明
の光応答性材料を製造しやすいという観点から好まし
い。
【００１６】窒素プラズマ処理法による場合、好ましく
は、処理系内への大気の侵入が実質的にない状態でルチ
ル型酸化チタンを窒素プラズマ処理することが好まし
い。
【００１７】窒素プラズマ処理は、電磁波、例えば、マ
イクロ波やラジオ波を照射した減圧状態においたルチル
型酸化チタンに、窒素ガスを導入することで窒素プラズ
マを発生させ、このプラズマにルチル型酸化チタンを所
定時間暴露することで行うことができる。上記減圧状態
は、例えば１０トール以下であることができ、２トール
以下であることもできる。電磁波の出力は、処理するル
チル型酸化チタンの量やプラズマの発生状態を考慮して
適宜決定できる。窒素ガスの導入量は、減圧状態やプラ
ズマの発生状態を考慮して適宜決定できる。また、ルチ
ル型酸化チタンの窒素プラズマへの暴露時間は、ルチル
型酸化チタンに導入される窒素元素量と光（特に可視光
線）応答性を考慮して適宜決定する。
【００１８】窒素プラズマ処理法は、プラズマ処理系内
への大気の侵入が実質的にない状態で行うことが好まし
く、プラズマ処理系内への大気の侵入が実質的にない状
態とは、密閉された系の真空度が１トール変化するのに
少なくとも１０分を要する状態を意味する。大気の侵入
が少ない程、ルチル型酸化チタンへの窒素元素の導入は
容易になると推察されている。また、上記窒素プラズマ
は、所望により、窒素以外のガスを含むこともできる。
【００１９】アンモニア雰囲気中で加熱処理する方法
は、以下のようにして原料ルチル型酸化チタンをアンモ
ニア気流中で例えば、７５０〜８５０℃で０．５〜１．
５時間加熱することにより行われる。
【００２０】また、上記本発明の材料の製造は、粉体の
みならず、適当なバインダーを用いて、または用いずに
基板に固定したルチル型酸化チタン等を対象とすること
もできる。
【００２１】また、本発明の光応答性材料は、ルチル型
酸化チタンに窒素をイオン注入することを含む方法によ
っても製造することが可能である。上記方法で使用する
ルチル型酸化チタンは、湿式法で製造されたルチル型酸
化チタン、乾式法で製造されたルチル型酸化チタンのい
ずれであってもよい。イオン注入法は、半導体産業で使
用されている方法及び装置を用いて行うことができる。
尚、イオン注入の条件は、注入すべき窒素イオンの量及
びルチル型酸化チタンの状態等により適宜決定できる。
また、イオン注入法は、粉体のみならず、適当なバイン
ダーを用いて、または用いずに基板に固定したルチル型
酸化チタン等を対象とすることもできる。
【００２２】［塗料］本発明の塗料は上記光応答性材料
とバインダー及び溶媒を少なくとも含有する。バインダ
ーは有機バインダー及び無機バインダーのいずれであっ
てもよい。無機バインダーとしては、例えば、アルキル
シリケート、ハロゲン化ケイ素およびこれらの部分加水
分解物などの加水分解性ケイ素化合物を加水分解して得
られた生成物、シリカ、コロイダルシリカ、水ガラス、
オルガノポリシロキサンなどのケイ素化合物、有機ポリ
シロキサン化合物の重縮合物、リン酸亜鉛、リン酸アル
ミニウムなどのリン酸塩、重リン酸塩、セメント、石
灰、セッコウ、ほうろう用フリット、グラスライニング
用うわぐすり、プラスター、珪藻土などの無機系バイン
ダーを挙げることができる。また、有機バインダーとし
ては、例えば、フッ素系ポリマー、シリコン系ポリマ
ー、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、
メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂などの有機
系バインダーなどが挙げられる。バインダーは、光触媒
の光触媒機能により劣化したり、分解したりするため、
使用場面、光触媒機能の程度や用途に応じてバインダー
の種類を適宜選択することができる。しかし、本発明で
は、光触媒として前記光応答性材料を用いるため、従来
の紫外線型の光触媒を用いる塗料に比べて光触媒機能に
よる劣化が格段に少ないか、紫外線の殆どない室内で使
用される場合には、光触媒機能による劣化は殆どない。
従って、紫外線型の光触媒を使用した塗料では使用でき
なかったアクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹
脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂等の有
機バインダーも良好に使用することができる。本発明で
は、これらのバインダーを単一または２種以上を組み合
わせて用いることができる。
【００２３】アルキルシリケートとしては、例えば、一
般式としてＳｉn Ｏn-1 （ＯＲ）2n +2（但しＳｉはケイ
素、Ｏは酸素、Ｒはアルキル基を示す。）で表される化
合物を挙げることができ、上記ｎは例えば、１〜６であ
って、Ｒは例えば、炭素数が１〜４のアルキル基である
ものを挙げることができる。ただし、これらの限定され
ない。セメントとしては、例えば早強セメント、普通セ
メント、中庸熱セメント、耐硫酸塩セメント、ホワイト
（白色）セメント、油井セメント、地熱井セメントなど
のポルトランドセメント、フライアッシュセメント、高
硫酸塩セメント、シリカセメント、高炉セメントなどの
混合セメント、アルミナセメントなどを用いることがで
きる。プラスターとしては、例えばセッコウプラスタ
ー、石灰プラスター、ドロマイトプラスターなどを用い
ることができる。フッ素系ポリマーとしては、例えばポ
リフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、ポリ塩化三フ
ッ化エチレン、ポリ四フッ化エチレン、ポリ四フッ化エ
チレン−六フッ化プロピレンコポリマー、エチレン−ポ
リ四フッ化エチレンコポリマー、エチレン−塩化三フッ
化エチレンコポリマー、四フッ化エチレン−パーフルオ
ロアルキルビニルエーテルコポリマーなどの結晶性フッ
素樹脂、パーフルオロシクロポリマー、ビニルエーテル
−フルオロオレフィンコポリマー、ビニルエステル−フ
ルオロオレフィンコポリマーなどの非晶質フッ素樹脂、
各種のフッ素系ゴムなどを用いることができる。特に、
ビニルエーテル−フルオロオレフィンコポリマー、ビニ
ルエステル−フルオロオレフィンコポリマーを主成分と
したフッ素系ポリマーが分解・劣化が少なく、また、取
扱が容易であるため好ましい。シリコン系ポリマーとし
ては、直鎖シリコン樹脂、アクリル変性シリコン樹脂、
各種のシリコン系ゴムなどを用いることができる。
【００２４】有機ポリシロキサン化合物の重縮合物に用
いる有機ポリシロキサン化合物は、有機珪素化合物の加
水分解物として公知の物質であり、例えば、特開平８−
１６４３３４号公報、特開平８−６７８３５号公報、特
開平８−１５５３０８号公報、特開平１０−６６８３０
号公報、特許第２７５６４７４号等に記載のものをその
まま使用することができる。有機ポリシロキサン化合物
は、有機珪素化合物を加水分解物であるが、有機珪素化
合物としては、アルキル基及びアルコキシ基を有するも
のを挙げることができる。
【００２５】アルキル基及びアルコキシ基を有する有機
珪素化合物を加水分解物も公知であり、例えばR1 nSi(OR
2)4-nで表される有機珪素化合物を加水分解することに
より得られる。R1及びR2は、それぞれ、例えば、炭素数
1〜8の低級アルキル基であることができ、得られるコー
ティングの膜強度を考慮すると、R1は炭素数1〜3の低級
アルキル基、好ましくはメチル基であることが適当であ
る。上記式中のnは、0〜2の整数であり、具体的には、
少なくともnが１及び２の有機珪素化合物の混合物の加
水分解物(3次元架橋物)を用いることが膜強度等を考慮
すると適当である。
【００２６】上記有機珪素化合物としては、例えば、メ
チルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、
メチルトリイソプロポキシシラン、メチルトリｔ−ブト
キシシラン、メチルトリクロルシラン、メチルトリブロ
ムシラン；エチルトリメトキシシラン、エチルトリエト
キシシラン、エチルトリイソプロポキシシラン、エチル
トリｔ−ブトキシシラン、エチルトリクロルシラン、エ
チルトリブロムシラン;ｎ−プロピルトリメトキシシラ
ン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルト
リイソプロポキシシラン、ｎ−プロピルトリｔ−ブトキ
シシラン、n−プロピルトリクロルシラン、ｎ−プロピ
ルトリブロムシラン;ｎ−ヘキシルトリメトキシシラ
ン、ｎ−ヘキシルトリエトキシシラン、ｎ−ヘキシルト
リイソプロポキシシラン、ｎ−ヘキシルトリｔ−ブトキ
シシラン、n−ヘキシルトリクロルシラン、ｎ−ヘキシ
ルトリブロムシラン;ｎ−デシルトリメトキシシラン、
ｎ−デシルトリエトキシシラン、ｎ−デシルトリイソプ
ロポキシシラン、ｎ−デシルトリｔ−ブトキシシラン、
n−デシルトリクロルシラン、ｎ−デシルトリブロムシ
ラン;ｎ−オクタデシルトリメトキシシラン、ｎ−オク
タデシルトリエトキシシラン、ｎ−オクタデシルトリイ
ソプロポキシシラン、ｎ−オクタデシルトリｔ−ブトキ
シシラン、n−オクタデシルトリクロルシラン、ｎ−オ
クタデシルトリブロムシラン、テトラメトキシシラン、
テトラエトキシシラン、テトラブトキシシラン、ジメト
キシジエトキシシラン；ジメチルジメトキシシラン、ジ
メチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメ
チルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチ
ルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメ
トキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシ
シラン、γ−グリシドキシプロピルトリイソプロポキシ
シラン、γ−グリシドキシプロピルトリｔ−ブトキシシ
ラン等を挙げることができる。
【００２７】バインダーの配合量は、固形分に換算し
て、光応答性材料粒子に対して１０〜２０００重量％程
度であり、２５〜１０００重量％が好ましく、２５〜５
００重量％がより好ましく、２５〜２５０重量％がさら
に好ましい。バインダーの配合量を上記範囲とすること
で、光応答性材料塗膜としたとき光応答性材料が脱離す
ることなく、かつ可視光応答性材料機能を維持すること
ができる。
【００２８】溶媒としては、無機溶媒または有機溶媒、
それらの混合物を用いることができる。無機溶媒として
は水が好ましい。有機溶媒としては、メタノール、エタ
ノール、２−プロパノール、エチレングリコール等のア
ルコール類、ケトン類などを用いることができる。取扱
い性、塗工性の点からアルコールを含有してなるものが
好ましい。溶媒の配合量は、作業性に応じて適宜設定す
ることができる。
【００２９】本発明の可視光応答性塗料組成物には、必
要により、ジカルボン酸およびその誘導体からなる群よ
り選択される少なくとも一種の化合物を含有させること
ができる。ジカルボン酸とは、分子内にカルボキシル基
ＣＯＯＨを二個持つ有機化合物であり、例えば、シュウ
酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピ
メリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸など
の脂肪族飽和ジカルボン酸、マレイン酸、フマル酸など
の脂肪族不飽和ジカルボン酸、フタル酸、イソフタル
酸、テレフタル酸などの芳香族ジカルボン酸などを用い
ることができる。ジカルボン酸誘導体とは、前記のジカ
ルボン酸のエステル化物、ジカルボン酸の塩、ジカルボ
ン酸無水物、ジカルボン酸アジド、ジカルボン酸アミ
ド、ジカルボン酸イミドなどのジカルボン酸に小部分の
構造上の変化があってできる化合物のことであり、例え
ば、ジカルボン酸メチル、ジカルボン酸エチル、ジカル
ボン酸プロピル、ジカルボン酸ブチル、ジカルボン酸ナ
トリウム、ジカルボン酸アンモニウムなどを用いること
ができる。また、ジカルボン酸またはその誘導体を含有
した商品、例えば、三種のジカルボン酸エステルを配合
した商品名ローディアソルブ（ロ─ヌ・プーラン ジャ
パン社製）を用いてもよい。
【００３０】ジカルボン酸およびその誘導体の含有量
は、可視光応答性塗料組成物中の可視光応答性材料粒子
に対して０．５〜５００重量％程度であり、５〜５００
重量％が好ましく、１０〜５００重量％がより好まし
く、２５〜２５０重量％がさらに好ましい。ジカルボン
酸およびその誘導体の含有量が上記範囲より少ないと添
加効果が発現しにくく、また、上記範囲より多くしても
それ以上の顕著な効果が認められにくい。なお、ジカル
ボン酸またはその誘導体を含有する可視光応答性塗料組
成物を用いて作成した可視光応答性材料膜は多孔性にな
り、可視光応答性材料機能が改善できる。また、本発明
の可視光応答性塗料組成物には、ジカルボン酸およびそ
の誘導体からなる群より選択される少なくとも一種の化
合物、可視光応答性材料粒子、バインダー、溶媒以外
に、分散剤、界面活性剤、硬化剤、架橋剤などの種々の
添加剤を含有させてもよい。
【００３１】本発明は、前記の可視光応答性塗料組成物
を用いて可視光応答性材料塗膜を形成された物品に関す
る。物品としては、セラミックス、ガラスなどの無機材
質の物品、プラスチック、ゴム、木、紙などの有機材質
の物品、アルミニウムなどの金属、綱などの合金などの
金属材質の物品を用いることができる。物品の大きさや
形には特に制限されない。物品上に形成される可視光応
答性材料塗膜の膜厚は、用途に応じて適宜設定すること
ができ、例えば、０．０１〜１００μｍ程度の膜厚とす
ることができる。本発明の可視光応答性塗料組成物を用
いて、物品上に可視光応答性材料膜を形成するには、物
品に可視光応答性塗料組成物を塗布したりあるいは吹き
付けたりして行うことができる。具体的には、可視光応
答性材料粒子とバインダーとを溶媒に分散させて塗料組
成物とし、次いで、該塗料組成物を基体に塗布し或いは
吹き付けて、該可視光応答性材料粒子とバインダーとを
基体の少なくとも一部に配置させるのが好ましい。前記
の溶媒としては、水やトルエン、アルコールなどの有機
溶媒を用いることができる。塗布方法としては、例え
ば、含浸法、ディップコーティング法、スピナーコーテ
ィング法、ブレードコーティング法、ローラーコーティ
ング法、ワイヤーバーコーティング法、リバースロール
コーティング法、刷毛塗り法、スポンジ塗り法などの通
常の方法で塗布したり、あるいは、スプレーコーティン
グ法などの通常の方法で吹き付けたりすることができ
る。このようにして塗布あるいは吹き付けた後、乾燥ま
たは焼成して溶媒を除去する。乾燥または焼成の温度
は、５００℃より低い温度で行うのが好ましく、室温〜
４００℃の温度で行うのがより好ましい。この場合、５
００℃より高いと可視光応答性材料機能が低下しやすく
なるため好ましくない。さらに、必要に応じて、用いた
バインダーを固化するために、例えば紫外線照射などの
方法を用いてもよい。なお、物品に可視光応答性塗料組
成物を塗布したりあるいは吹き付けしたりする前に、必
要に応じて、前記の有機系バインダーである、アクリル
樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、メラミン樹
脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂などの有機系バインダ
ーや前記の無機系バインダーをプライマーあるいは塗装
として予め物品に塗布したりあるいは吹き付けしたりし
てもよい。
【００３２】本発明の塗料及び塗膜は、粒状物質、吸着
剤及び／又は担体をさらに含むことができ、粒状物質
は、平均粒子径が１ｎｍ〜１００μｍの無機物または有
機物粒子であることができる。本発明においては、バイ
ンダーを介して、可視光応答性材料粒子と吸着剤及び／
又は担体とを基体上に接着させると、被処理物質を吸着
及び／又は担持する作用を兼ね備えることができるため
好ましい。前記の吸着剤及び担体としては、一般的な吸
着剤及び担体を用いることができ、例えば、活性炭、ゼ
オライト、シリカゲルなどを用いることができる。
【００３３】本発明の塗料及び塗膜は、上記成分以外
に、コロイド状酸化物をさらに含有させることができ
る。コロイド状酸化物としてはコロイド状シリカを挙げ
ことができる。コロイド状酸化物は、微粒子であること
からコーティングの表面積を高め(多孔性にする)、可視
光応答性材料と被反応物との接触頻度を高めることがで
きる。
【００３４】さらに、本発明においては、基体上に、バ
インダーからなる、可視光応答性材料粒子を含有しない
第一層を設け、さらに、該第一層の上に、バインダーと
可視光応答性材料粒子とからなる第二層を設けることが
できる。可視光応答性材料粒子を含有しない第一層を設
けることによって、基体と、可視光応答性材料粒子を含
有した第二層との結びつきが強固になって、該可視光応
答性材料粒子を基体上に、一層強固に、かつ、一層長期
間にわたって接着させることができる。このようなバイ
ンダーとしては、有機系バインダーが好ましい。さら
に、前記の第一層には、充填剤として、可視光応答性材
料機能を有さない無機粒子を含有させるのが好ましい。
このような無機粒子としては、可視光応答性材料機能を
有さないように、酸化ケイ素、酸化アルミニウムや酸化
ジルコニウムなどで表面処理を施した、酸化チタン、酸
化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウムなどを
用いることができる。
【００３５】本発明においては、塗料組成物中の可視光
応答性材料粒子の量は、該可視光応答性材料粒子とバイ
ンダーとの合量に対する容積基準で５〜９８％、好まし
くは２０〜９８％、より好ましくは５０〜９８％、もっ
とも好ましくは７０〜９８％である。前記塗料組成物に
は、架橋剤、分散剤、充填剤などを配合させることがで
きる。架橋剤としては、イソシアネート系、メラミン系
などの通常の架橋剤を、分散剤としては、カップリング
剤などを使用することができる。特に、塗料組成物中の
可視光応答性材料粒子の含有量を、該可視光応答性材料
粒子とバインダーとの合量に対する容積基準で４０〜９
８％とする場合には、該塗料組成物中にカップリング剤
を配合するのが好ましい。このカップリング剤の添加量
は、好ましくは５〜５０％、より好ましくは７〜３０％
である。
【００３６】前記のようにして塗布或いは吹き付けた
後、固化させて本発明の可視光応答性材料塗膜を得る。
固化は、乾燥したり、紫外線を照射したり、加熱した
り、冷却したり、架橋剤を使用したりする方法で行なう
ことができが、固化の温度は、４００℃より低い温度、
好ましくは室温〜２００℃の温度で行なう。この場合、
４００℃より高いとバインダーが熱劣化し、可視光応答
性材料粒子が脱離し易くなるため好ましくない。本発明
においては、イソシアネート系、メラミン系などの架橋
剤を使用して固化させる方法が好ましい。
【００３７】本発明は、上記本発明の塗膜を基材表面の
少なくとも一部に有する物品に関する。基材としては、
例えば、建築物の外壁面、屋根外面屋上面、窓ガラス外
面若しくは窓ガラス内面、部屋の壁面、床面若しくは天
井面、ブラインド、カーテン、道路の防護壁、トンネル
の内壁、照明灯の外面若しくは反射面、車両の内装面、
ミラー面、窓ガラス外面若しくは窓ガラス内面であるこ
とができる。本発明の光応答性材料含む塗膜又はこの塗
膜を有する物品を用いることで、殺菌及び／又は防汚方
法を提供することができる。また、本発明の光応答性材
料を用いることで、水の浄化方法や窒素酸化物の浄化方
法を提供することもできる。
【００３８】本発明の可視光応答性材料を含む塗膜は、
可視光線を照射することにより、その回りに存在する有
害物質、悪臭物質、油分などを分解して浄化したり、殺
菌したりすることができる。照射する光としては、可視
光線を含有した光が挙げられ、例えば、発光ダイオー
ド、有機エレクトロルミネッセンス太陽光や蛍光灯、ハ
ロゲンランプ、キセノンフラッシュランプ、水銀灯など
の光を用いることができる。特に、４００ｎｍ〜７００
ｎｍの可視光線を含有した光が好ましい。光の照射量や
照射時間などは処理する物質の量などによって適宜設定
できる。
【００３９】本発明の方法で使用する発光ダイオード
は、少なくとも可視光領域に発光波長を有するか、可視
光領域のみに発光波長を有する発光ダイオードである。
そのような発光ダイオードとしては、例えば、紫色発光
ダイオード、青色発光ダイオード、緑色発光ダイオー
ド、黄色発光ダイオード、または白色発光ダイオードを
挙げることができる。紫色発光ダイオードは紫外領域か
ら可視光領域に発光波長を有する。また、青色発光ダイ
オード、緑色発光ダイオード、黄色発光ダイオード、ま
たは白色発光ダイオードは、可視光領域のみに発光波長
を有する。青色発光ダイオード（ＢＬＵＥ）、緑色発光
ダイオード（ＧＲＥＥＮ）、及び白色発光ダイオード
（ＷＨＩＴＥ）の発光スペクトルを図３に示す。
【００４０】本発明の光応答性材料の活性化方法により
活性化された光応答性材料は、例えば、化学反応方法、
環境浄化方法、殺菌方法、防汚方法等に利用することが
できる。
【００４１】本発明は、発光ダイオード基板上に可視光
応答性光触媒を含む層を有する装置に関する。発光ダイ
オード基板は、例えば、少なくとも発光ダイオードとそ
の上に設けた光透過性層とからなり、前記光透過性層の
上に前記可視光応答性材料を含む層を設けたものである
ことができる。さらに本発明は、発光ダイオード、可視
光応答性材料、及び前記発光ダイオードからの光を前記
可視光応答性材料に移送するための光移送手段を含む装
置に関する。ここで、光移送手段は例えば、光ファイバ
ーであることができる。
【００４２】上記可視光応答性材料を含む層は、例え
ば、粉末状態の上記光応答性材料を発光ダイオードの上
に設けた光透過性層のような基材に塗布することにより
形成することができる。あるいは、基材上にルチル型酸
化チタンを、必要により適当なバインダーとともに塗布
し、窒素プラズマ処理することで、本発明の光応答性材
料を含む層を形成することもできる。
【００４３】上記光応答性材料を用いることで、殺菌、
防藻、防黴、及び／又は防汚方法を提供することができ
る。また、上記光応答性材料を用いることで、水の浄化
方法や大気中の窒素酸化物を低減する方法を提供するこ
ともできる。
【００４４】本発明は、本発明の光応答性材料に可視光
領域の少なくとも一部の波長の光、好ましくは少なくと
も４００〜６００ｎｍの波長の光を照射し、これに水を
接触させることにより、水を光分解する方法を包含す
る。
【００４５】
【実施例】以下に本発明の実施例を示すが、本発明はこ
れに限定されるものではない。 実施例１ 触媒学会参照触媒ＪＲＣ−ＴＩＯ−３（ルチル）１０ｇ
を４００ｍｌの石英製反応管に収容した。この石英製反
応管をプラズマ発生装置に接続し、系内を真空ポンプで
排気した後、Ｎ2ガス（流量を100sccm）を系内の圧力が
約１トールとなるように導入した。1200Ｗの電磁波
（２．４５ＧＨｚ）を反応管の二酸化チタン粉末に照射
し、プラズマを発生させた。反応管内のルチル型二酸化
チタン粉末を撹拌しながら５分間処理して本発明の光応
答性材料を得た。なお、プラズマ処理系は、ガスを導入
せず、かつポンプでの排気も断絶した状態で真空度が１
トール上昇するのに４０分を要した。得られたサンプル
のＸＲＤを図１に示すとともに、得られたサンプルのＸ
ＰＳの測定結果を以下に示す。ＸＰＳの測定には、Ｘ線
光電子分析装置（（株）島津製作所製 ＥＳＣＡ ７５
０型）を使用した。
【００４６】得られたルチル型酸化チタン粉末をＸ線光
電子分光法（ＸＰＳ）により、チタンの２ｐ電子に帰属
されるピーク（４５８．９ｅＶ（Ｔｉ２ｐ３／２））及
び（４６４．３ｅＶ（Ｔｉ２ｐ１／２））の面積とチタ
ンと結合している酸素の１ｓ電子に帰属されるピーク
（５３０．０ｅＶ（Ｏ１ｓ））の面積及び窒素の１ｓ電
子に帰属されるピーク（３９３．５ｅＶ（Ｎ１ｓ））の
面積とを求めた。得られた面積より算出された元素比
（（Ｏ１ｓ＋Ｎ１ｓ）／Ｔｉ２ｐ）は、１．９８であっ
た。但し、４５８．９ｅＶ（Ｔｉ２ｐ３／２）及び４６
４．３ｅＶ（Ｔｉ２ｐ１／２）の面積は、１２４１１ｃ
ｐｓ・ｅＶであった。５３０．０ｅＶ（Ｏ１ｓ）の面積
は、２４４６２ｃｐｓ・ｅＶであった。３９３．５ｅＶ
（Ｎ１ｓ）の面積は、２７３ｃｐｓ・ｅＶであった。
【００４７】尚、プラズマ処理しないルチル型酸化チタ
ン粉末（触媒学会参照触媒ＪＲＣ−ＴＩＯ−３（ルチ
ル））についてもＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）を測定し
た。その結果、窒素の１ｓ電子に帰属されるピークは観
測されなかった。また、チタンの２ｐ電子に帰属される
ピーク（４５８．９ｅＶ（Ｔｉ２ｐ３／２）及び４６
４．５ｅＶ（Ｔｉ２ｐ１／２）の面積とチタンと結合し
ている酸素の１ｓ電子に帰属されるピーク（５２９．８
ｅＶ（Ｏ１ｓ）の面積より算出された元素比（Ｏ１ｓ／
Ｔｉ２ｐ）は、１．９９であった。
【００４８】実施例２ 触媒学会参照触媒ＪＲＣ−ＴＩＯ−３（ルチル）１０ｇ
を４００ｍｌの石英製反応管に収容した。この石英製反
応管をプラズマ発生装置に接続し、系内を真空ポンプで
排気した後、Ｎ2ガス（流量を100sccm）を系内の圧力が
約１トールとなるように導入した。600Ｗの電磁波
（２．４５ＧＨｚ）を反応管の二酸化チタン粉末に照射
し、プラズマを発生させた。反応管内のルチル型二酸化
チタン粉末を撹拌しながら１０分間照射した後１０分放
置し、また、２０分プラズマ処理を行って本発明の光応
答性材料を得た。なお、プラズマ処理系は、ガスを導入
せず、かつポンプでの排気も断絶した状態で真空度が１
トール上昇するのに４０分を要した。
【００４９】得られたサンプルのＸＲＤを図２に示すと
ともに、得られたサンプルのＸＰＳの測定結果を以下に
示す。
【００５０】得られたルチル型酸化チタン粉末をＸ線光
電子分光法（ＸＰＳ）により、チタンの２ｐ電子に帰属
されるピーク（４５９．２ｅＶ（Ｔｉ２ｐ３／２）及び
４６４．７ｅＶ（Ｔｉ２ｐ１／２）の面積とチタンと結
合している酸素の１ｓ電子に帰属されるピーク（５３
０．１ｅＶ（Ｏ１ｓ）の面積及び窒素の１ｓ電子に帰属
されるピーク（３９４．８ｅＶ（Ｎ１ｓ）の面積とを求
めた。得られた面積より算出された元素比（（Ｏ１ｓ＋
Ｎ１ｓ）／Ｔｉ２ｐ）は、１．９７であった。但し、４
５９．２ｅＶ（Ｔｉ２ｐ３／２）及び４６４．７ｅＶ
（Ｔｉ２ｐ１／２）の面積は、１４５６５ｃｐｓ・ｅＶ
であった。５３０．１ｅＶ（Ｏ１ｓ）の面積は、２８４
３０ｃｐｓ・ｅＶであった。３９４．８ｅＶ（Ｎ１ｓ）
の面積は、１０２ｃｐｓ・ｅＶであった。尚、プラズマ
処理しないルチル型酸化チタン粉末についての面積より
算出された元素比（Ｏ１ｓ／Ｔｉ２ｐ）は、実施例１に
記載したように１．９９であった。
【００５１】試験例１ メチレンブルーの消色試験 実施例１及び２で製造した粉体０．２ｇを水を用いて板
ガラス（6×6ｃｍ）に均一に塗布し、常温にて乾燥させ
た。板ガラスの中心付近に０．０５ｗｔ％メチレンブル
ー水溶液を約２ｍｌ滴下させ、常温にて乾燥させた。光
源は、試料に対して１ｃｍとなるように設置した。光源
には青色LED（日亜化学工業（株）製、型番ＮＳＳＢ４
５０）を１辺が１．５ｃｍに収まるように碁盤状に2×2
合計４個ならべたものを用い1個の発光ダイオードに対
し３．７Vとなるように電圧かけ点灯させた。試料に対
する光の照射時間は、1時間とした。光を照射した後、
各試料の光を照射した部分の色の変化を表１に示した。
【００５２】比較例１ 実施例１または２で製造した粉体の代わりに市販されて
いる超微粒子酸化チタン粉末（ST-01石原産業製、アナ
ターゼ型酸化チタン）を用いた以外実施例１と同様にメ
チレンブルーの消色試験を行った。結果を表１に示す。 比較例２ 実施例１または２で製造した粉体の代わりに市販されて
いる超微粒子酸化チタン粉末P-25（デグサ製、ルチル型
酸化チタンとアナターゼ型酸化チタンの混晶）を用いた
以外実施例１と同様にメチレンブルーの消色試験を行っ
た。結果を表１に示す。
【００５３】
【表１】
【００５４】試験例２（緑色発光ダイオード） 実施例１及び２で製造した粉体０．２ｇを水を用いて板
ガラス（6×6ｃｍ）に均一に塗布し、常温にて乾燥させ
た。板ガラスの中心付近に ０．０５ ｗｔ％メチレンブ
ルー水溶液を約２ｍｌ滴下させ、常温にて乾燥させた。
光源は、試料に対して１ｃｍとなるように設置した。メ
チレンブルーの着色が見られる部分に光を照射した。光
源には、緑色LED（日亜化学工業製、型番NSSG450）を1
辺１．５ｃｍ角に収まるよう碁盤状に2×2合計４個なら
べたものを用い1個の発光ダイオードに対し３．７Vとな
るように電圧かけ点灯させた。試料に対する光の照射時
間は、1時間とした。光を照射した後、各試料の光を照
射した部分の色の変化を表２に示した。
【００５５】比較例３ 実施例１または２で製造した粉体の代わりに市販されて
いる超微粒子酸化チタン粉末（ST-01石原産業製、アナ
ターゼ型酸化チタン）を用いた以外実施例２と同様にメ
チレンブルーの消色試験を行った。結果を表１に示す。 比較例４ 実施例１または２で製造した粉体の代わりに市販されて
いる超微粒子酸化チタン粉末P-25（デグサ製、ルチル型
酸化チタンとアナターゼ型酸化チタンの混晶）を用いた
以外実施例２と同様にメチレンブルーの消色試験を行っ
た。結果を表２に示す。
【００５６】
【表２】
【００５７】試験例３ 青色発光ダイオードによるイソプロパノールの酸化 ２Lのベルジャー型反応容器を用い、ガラス板（５×５
ｃｍ×２ｍｍ）に実施例２で調製した試料（可視光応答
性材料）０．２ｇを水に懸濁し、塗布したものを光源か
ら７ｃｍの所定の位置に設置した。光源は、青色発光ダ
イオード（日亜化学工業製 型式：NSPB500S）を1辺
１．５ｃｍの正方形に収まるよう碁盤状に3×3合計９個
ならべたものを試料に対し照射設置した。1個の発光ダ
イオードに対し３Vとなるように電圧かけ点灯させた。
試料の位置での照度は、２５００ｌｘであった。反応
は、反応系内部が、５４０ｐｐｍとなるようにイソプロ
パノールを投入した（イソプロパノール投入量 543pp
m）。また、反応系内部は、空気雰囲気1気圧とし、湿度
は３０％であった。平衡に達した後光照射を開始した。
反応系内のイソプロパノール、アセトン、二酸化炭素の
それぞれの濃度は、シリンジを用いて反応系から採取
し、FIDおよびTCDを用いて測定した。光を照射してから
の、反応の結果を以下の表に示す。
【００５８】
【表３】
【００５９】試験例４（ＮＯｘ除去活性の波長依存性） 実施例１及び２で作製した試料及び触媒学会参照触媒Ｊ
ＲＣ−ＴＩＯ−３（ルチル）（比較例５）を、各０．２
ｇガラスプレート(６×６ｃｍ)にそれぞれ塗布したもの
を、パイレックス（登録商標）ガラス製反応容器(内径
１６０ｍｍ、厚さ２５ｍｍ)内に設置した。光源には、
３００Ｗクセノンランプを用いた照射装置(日本分光
(株)製商品名:ＳＭ−５型ＣＴ−１０)により、半値幅２
０ｎｍの単光色として、光を照射した。この反応容器に
湿度Ｏ％ＲＨの模擬汚染空気(ＮＯ：１ｐｐｍ)を１．５
リットル／分の流速で連続的に供給し、反応出口におけ
るＮＯ及びＮＯ2の濃度変化をモニターした。ＮＯの濃
度は、オゾンを用いた化学発光法により測定した。１時
間のモニターの値の累積値から各測定波長におけるＮＯ
ｘの除去率(％)（＝ＮＯ減少率−ＮＯ2生成率）を求め
た。尚、ＮＯ濃度の測定には、Monitor labs Inc.製、N
itrogen Oxides analyzer Model 8840を用いた。結果を
以下の表に示す。
【００６０】
【表４】
【００６１】
【表５】
【００６２】
【表６】
【００６３】試験例５ 異なる発光波長を有する３種類のＬＥＤを使ってＮＯｘ
の除去活性試験を行った。実施例２で作製した試料０．
２ｇをガラスプレート（６×６ｃｍ）に塗布したものを
パイレックスガラス製反応容器（内径１６０ｍｍ、厚さ
２５ｍｍ）内に設置した。光源から試料までの距離が４
ｃｍとなるように設置した。光源は以下の通りである。 緑色LED：豊田合成（株）製、型番E1S03-AG 青色LED：豊田合成（株）製、型番E1S02-4B0A7 白色LED：日亜化学工業（株）製、型番 NSCW-100 いずれの場合も、LEDは、4cmx4cmの正方形の基板にその
中心を除き、縦横1cm間隔で1個づつ、計24個を埋め込ん
だ（図９(a)）。この光源を光量100%としたとき、光量5
0%及び25%の光源も作製した。光量50%の光源は、計12個
のLEDを、四隅が点灯し各隣り合わないような形で配置
した(図９(b))。光量25%の光源は、6個のLEDを、四隅と
正方形の対角線上に2個配置した(図９(c))。各LEDに対
する電圧とトータルの電流（1個あたりの電流はトータ
ルの電流をLED個数で割ったものになる）をかけたもの
を消費電力とした。
【００６４】上記反応容器に湿度０％RHの模擬汚染空気
（NO：１ｐｐｍ）を１．５リットル／分の流速で連続的
に供給し、反応出口におけるNO及びNO2の濃度変化をモ
ニターした。NOの濃度はオゾンを用いた化学発光法によ
り測定した。1時間のモニター値の累積値から各光照射
条件におけるNOxの除去率（％）（＝NO減少率−NO2生成
率）を求めた。尚、NO濃度測定には、Monitor labs In
c.製、Nitrogen Oxidesanalyzer Model 8840を用いた。
【００６５】光源として上記いずれかのLED6個を用い、
かつトータルの電流値を0.2AとしたときのNOxの除去率
を以下の表６に示す。比較として実施例２で製造した粉
体の代わりに市販されている超微粒子酸化チタン粉末
（ST-01石原産業製）を用いた例を比較例1、市販されて
いる超微粒子酸化チタン粉末P-25（デグサ製）を用いた
例を比較例2とした。
【００６６】
【表７】
【００６７】上記表７に示す結果から、本発明の材料に
よれば、LEDを光源として可視光を含む光によって窒素
酸化物を酸化除去することができることが分かる。特
に、500〜550nmに発光ヒ゜ークを有する緑色のLEDを用いた
場合でも、本発明の材料であれば、窒素酸化物を酸化除
去する効果があることが分かった。
【００６８】
【００６９】実施例３ 実施例２で得られた光応答性材料を以下に示す組成の混
合物としてペイントシェイカーで１時間振とうして充分
混合し、分散させて塗料組成物を得た。 光応答性材料 ９．８ｇ 酢酸ビニル−アクリルコポリマー（大日本インキ化学工
業社製、ボンコート６２９０） ０．７ｇ 水 ２４．８ｍｌ 前記組成の塗料組成物を２０ｃｍ2 のガラス板に塗布し
た後、１２０℃で１０分間乾燥させて、可視光応答性塗
膜（試料Ａ）を得た。この試料Ａの光応答性材料含有量
は、該光応答性材料とバインダーとの合量に対する容積
基準で９０％であった。
【００７０】実施例４ 実施例２で得られた光応答性材料を以下に示す組成の混
合物をペイントシェイカーで３時間振とうして充分混合
し、分散させて塗料組成物を得た。なお、下記のルミフ
ロンＬＦ２００Ｃは、ビニルエーテルとフルオロオレフ
ィンとのコポリマーを主成分としたフッ素系ポリマーで
ある。 光応答性材料９．８０ｇ フッ素系ポリマー（旭ガラス社製、ルミフロンＬＦ２０
０Ｃ） ０．８０ｇ イソシアネート系硬化剤 ０．１６ｇ チタンカップリング剤（味の素社製、プレーンアクト３
３８Ｘ）１．００ｇ トルエン ２３．６０ｍｌ 前記組成の塗料組成物を２０ｃｍ2 のガラス板に塗布し
た後、１２０℃の温度で２０分間乾燥させて、本発明の
可視光応答性塗膜（試料Ｂ）を得た。この試料Ｂの可視
光応答性材料含有量は、該可視光応答性材料とバインダ
ーとの合量に対する容積基準で９０％であった。
【００７１】実施例５ 実施例２で得られた光応答性材料を以下に示す組成の混
合物としてペイントシェイカーで３時間振とうして充分
混合し、分散させて塗料組成物を得た。 光応答性材料７．６４ｇ フッ素系ポリマー（旭ガラス社製、ルミフロンＬＦ２０
０Ｃ） ２．３６ｇ イソシアネート系硬化剤 ０．４７ｇ チタンカップリング剤（味の素社製、プレーンアクト３
３８Ｘ）０．７６ｇ トルエン ２２．５０ｍｌ 前記組成の塗料組成物を２０ｃｍ2 のガラス板に塗布し
た後、１２０℃の温度で２０分間乾燥させて、本発明の
可視光応答性塗膜（試料Ｃ）を得た。この試料Ｃの光応
答性材料含有量は、該光応答性材料とバインダーとの合
量に対する容積基準で７０％であった。
【００７２】実施例６ 実施例２で得た光応答性材料を以下に示す組成の混合物
としてペイントシェイカーで１時間振とうして充分混合
し、分散させて塗料組成物を得た。 光応答性材料９．８ｇ ポリオルガノシロキサン系無機バインダー（日本合成ゴ
ム社製、Ｔ２２０２ＡとＴ２２０２Ｂの３：１混合品）
２．７ｇ イソプロピルアルコール ２１．５ｍｌ 前記組成の塗料組成物を２０ｃｍ2 のガラス板に塗布し
た後、１８０℃で１０分間乾燥させて、本発明の可視光
応答性塗膜（試料Ｄ）を得た。この試料Ｄの光応答性材
料含有量は、該光応答性材料とバインダーとの合量に対
する容積基準で９０％であった。
【００７３】試験例６ ＮＯの酸化活性 実施例３〜６で作製した試料Ａ〜Ｄをパイレックスガラ
ス製反応容器（内径１６０ｍｍ、厚さ２５ｍｍ）内に設
置した。光源には３００Ｗクセノンランプを用い、日本
分光製照射装置により半値幅２０ｎｍの単色光として、
光を照射した。上記反応容器に湿度０％RHの模擬汚染空
気（ＮＯ：１ｐｐｍ）を１．５リットル／分の流速で連
続的に供給し、反応出口におけるＮＯの濃度変化をモニ
ターした。ＮＯの濃度はオゾンを用いた化学発光法によ
り測定した。1時間のモニター値の累積値からＮＯｘの
除去率を求めた。４７０nmにおける各試料のＮＯ除去濃
度（％）を下記の表に示した。
【００７４】
【表８】
【００７５】試験例７ 実施例２で得た光応答性材料を含む塗膜の抗菌性能を見
るために、財団法人日本食品センター「光フィルム密着
法」を参考にして、試験を行った。試験方法は、抗菌製
品技術協議会 試験法「抗菌製品の抗菌力評価試験法II
I（１９９８年度改訂版）」を参考にして検体の抗菌力
試験を行った。条件は以下の通り 黄色ブドウ球菌：スタフィロコッカス・アウレウス（st
aphylococcus aureus）IFO 12732 菌液調整溶液：1/500NB 培地（リン酸緩衝溶液で希釈） 光照射条件：6000lx（白色蛍光灯）
【００７６】塗膜試料は、バインダーとしては、アルコ
キシシラン系バインダー（オキツモ(株)製）を用いた。
このバインダーは、メチルトリメトキシシラン100重量
部とコロイド状シリカの水分散液（固形分３０％）100
重量部との混合物を加水分解して調製されたものであ
る。このバインダー100ｇと実施例２のサンプル50ｇと
混合し、得られた混合物にイソプロピルアルコール50ｇ
を加えて塗料とし、作成した塗料をガラス板（5×5cm）
に刷毛で塗布し、乾燥させた後、180℃で2時間焼き付け
を行うことにより塗膜試料を作成した。得られた塗膜試
料に、生菌数が約3×105個となるように、上記黄色ブド
ウ球菌を含有する菌液調整溶液を塗布した。この試料に
白色蛍光灯を25℃で24時間照射した後の生菌数を常法に
よりカウントした。対照サンプルとして、ポリエチレン
フィルム及び塗膜を有さないガラス板を用いた。得られ
た結果を以下の表に示す。
【００７７】
【表９】
【００７８】実施例７ 触媒学会参照触媒JRC-TIO-3（ルチル）１０ｇを400mlの
石英製反応管に収容した。この石英製反応管をプラズマ
発生装置に接続し、系内を真空ポンプで排気した後、N2
ガス（流量：100sccm）を系内の圧力が約1トールとなる
ように導入した。600Wの電磁波（2.45GHz）を反応管内
の二酸化チタン粉末を攪拌しながら10分間照射して、本
発明の光応答性材料を得た。なお、プラズマ処理系は、
ガスを導入せず、かつポンプでの排気も断絶した状態で
真空度が1トール上昇するのに40分要した。
【００７９】実施例８ 触媒学会参照触媒JRC-TIO-3（ルチル）１０ｇを400mlの
石英製反応管に収容した。この石英製反応管をプラズマ
発生装置に接続し、系内を真空ポンプで排気した後、N2
ガス（流量：100sccm）を系内の圧力が約1トールとなる
ように導入した。600Wの電磁波（2.45GHz）を反応管内
の二酸化チタン粉末を攪拌しながら10分間照射した後、
10分放置し、また、10分間プラズマ処理を行って本発明
の光応答性材料を得た。得られた光応答性材料（ルチル
型酸化チタン粉末）のＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）の測
定結果を以下の表１０に示す。
【００８０】実施例９ 触媒学会参照触媒JRC-TIO-3（ルチル）１０ｇを400mlの
石英製反応管に収容した。この石英製反応管をプラズマ
発生装置に接続し、系内を真空ポンプで排気した後、N2
ガス（流量：100sccm）を系内の圧力が約1トールとなる
ように導入した。600Wの電磁波（2.45GHz）を反応管内
の二酸化チタン粉末を攪拌しながら10分間照射した後、
10分放置し、また、10分間プラズマ処理を3回行って、
本発明の光応答性材料を得た。（プラズマ処理として10
分×４回）得られた光応答性材料（ルチル型酸化チタン
粉末）のＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）の測定結果を以下
の表１０に示す。
【００８１】
【表１０】
【００８２】実施例１０ 触媒学会参照触媒JRC-TIO-3（ルチル）１０ｇを400mlの
石英製反応管に収容した。この石英製反応管をプラズマ
発生装置に接続し、系内を真空ポンプで排気した後、N2
ガス（流量：100sccm）を系内の圧力が約1トールとなる
ように導入した。600Wの電磁波（2.45GHz）を反応管内
の二酸化チタン粉末を攪拌しながら10分間照射した後、
10分放置し、また、10分間プラズマ処理を７回行って、
本発明の光応答性材料を得た。（プラズマ処理として10
分×８回）
【００８３】実施例１１ 触媒学会参照触媒JRC-TIO-3（ルチル）１０ｇを400mlの
石英製反応管に収容した。この石英製反応管をプラズマ
発生装置に接続し、系内を真空ポンプで排気した後、N2
ガス（流量：100sccm）を系内の圧力が約1トールとなる
ように導入した。600Wの電磁波（2.45GHz）を反応管内
の二酸化チタン粉末を攪拌しながら連続で120分間照射
処理を行って本発明の光応答性材料を得た。（プラズマ
処理として連続120分）
【００８４】実施例７〜１１で得られた光応答性材料及
び原料として用いた触媒学会参照触媒JRC-TIO-3（ルチ
ル）の反射率スペクトル及びＸＲＤを測定し、それぞれ
図４及び５に示す。さらに、実施例７〜１１で得られた
光応答性材料及び原料として用いた触媒学会参照触媒JR
C-TIO-3（ルチル）のＮＯ除去活性を試験例４と同様の
方法で求め、図６に示す。
【００８５】図４に示す反射率スペクトルから、プラズ
マ処理時間又は回数が増えると４５０ｎｍ付近の吸収が
増大し、さらにプラズマ処理時間又は回数が増えると５
５０ｎｍ以上の領域における吸収が増大していくことが
わかる。図５に示すＸＲＤの結果から、プラズマ処理時
間又は回数が増えると、ルチル型の結晶性が高くなるこ
とが分かる。図６に示すＮＯ除去活性の結果は、本発明
の光応答性材料は、いずれも、５２０ｎｍに波長ピーク
を有する光源を用いた場合にもＮＯ除去活性を有し、さ
らに、物によっては６３０ｎｍに波長ピークを有する光
源を用いた場合にもＮＯ除去活性を示すことが分かる。
【００８６】実施例１２（水の光分解） 実施例７〜１１で得られた本発明の光応答性材料を用い
て以下の条件で水の光分解試験を行った。実施例７〜１
１で得られたサンプル０．２ｇを水分解活性の性能を調
べるために水素生成能、および酸素生成能を各条件のも
と測定を行った。水素生成の測定は、塩化白金酸を用い
白金が1wt%となるように各試料含浸法を用いて担持し、
１０mol％メタノール水溶液200mlに白金を担持した各サ
ンプル０．２ｇを分散させ外部照射型閉鎖循環系を用
い、反応を行った。光源には、３００W-Xeランプを用
い、フィルターを用いて４２０nm以上の可視光を照射し
た。酸素生成能の測定は、各サンプル０．２ｇを0.01mo
l/l硝酸銀水溶液 200mlに分散させ、外部照射型閉鎖循
環系を用い、反応を行った。光源には、３００W−Xeラ
ンプを用い、フィルターを用いて４２０nm以上の可視光
を照射した。
【００８７】測定条件は，以下のとおり 閉鎖型循環系 内容量 500ｍＬ 反応セル：パイレッ
クスガラス 照射条件：３００WーXeランプ ４２０ｎｍ以下カット
フィルタ （品番：LX-300F イノテックス） 生成物の定量：ガスクロマトグラフ（品番：島津GC-8
A）
【００８８】（水素生成反応） 試料の前処理：白金アンミン錯体 Ptで1wt%含浸し、水
素雰囲気３００℃、３時間で焼成還元を行った。 試料量：０．２ｇ 反応溶液：１０mol％メタノール水溶液200ml
【００８９】（酸素生成反応） 試料量：０．２ｇ 反応溶液：0.01mol/l硝酸銀水溶液200ml
【００９０】水素生成反応の結果を図７〜１１に示す。
酸素生成反応の結果を図１２〜１６に示す。水素生成反
応及び酸素生成反応のいずれにおいても、窒素生成が観
測された。これは、本発明の光応答性材料が光分解され
ているためであると考えられる。その中では、実施例１
１で得られたものが、窒素生成も少なく、安定した活性
を示していた。
【００９１】実施例１３ 石英ガラス製管状炉（発熱体：30cm×ｔ20cm、石英管：
70cm×ｔ2.5cm）を用い、ルチル型酸化チタン（触媒学
会参照触媒：JRC-TIO-３）３ｇを焼成ボートにそれぞれ
１ｇづつ乗せ、管状炉に沿って１つづつ配置した。ま
た、２番目の焼成ボートが、ほぼ中央になるように配置
した。室温でNH3を２０分流通させた後NH3雰囲気（NH3
流量：50sccm）750℃で、1時間焼成することにより、ア
ンモニア焼成処理を行った。試料の取り出しはアンモニ
ア雰囲気のまま自然冷却を行い，室温になった後におこ
なった。サンプルは、中央の焼成ボートサンプルは、真
っ黒となったため、下流部の黄色に変色した部分を採取
して、本発明の光応答性材料を得た。
【００９２】実施例１３のサンプル及び原料のJRC-TIO-
３についてXRDを測定した。結果を図１７に示す。熱処
理により結晶の成長が確認できる。新しいピークの生成
は、確認できなかった。実施例１３のサンプルについて
UVのスペクトルを測定した。結果を図１８に示す。さら
に、実施例１３のサンプル及び原料のJRC-TIO-３につい
てNO除去活性を試験例４と同様の方法で求めた。結果を
図１９に示す。さらに、実施例１３のサンプル及び原料
のJRC-TIO-３についてESCAを測定した。結果を以下の表
に示す。
【００９３】
【表１１】
【００９４】さらに、実施例１３のサンプル及び原料の
JRC-TIO-３の比表面積を求め、以下の表に示す。
【００９５】
【表１２】
【００９６】
【発明の効果】本発明によれば、従来殆ど可視光領域に
光応答性を有さなかったルチル型の酸化チタンに光応答
性を付与することができる。特に、従来のアナターゼ型
酸化チタンをベースとする可視光応答性材料では知られ
ていなかった６００ｎｍを超える波長域においても光応
答性を発揮し得る材料を提供できる。また、ルチル型酸
化チタンは、アナターゼ型酸化チタンに比べて化学的に
安定であることから、本発明の光応答性材料も安定性が
高いものである。さらに本発明によれば、本発明の光応
答性材料を種々の用途に使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例１で得られたサンプルのＸＲＤを示す。
【図２】実施例２で得られたサンプルのＸＲＤを示す。
【図３】青色発光ダイオード（ＢＬＵＥ）、緑色発光ダ
イオード（ＧＲＥＥＮ）、及び白色発光ダイオード（Ｗ
ＨＩＴＥ）の発光スペクトルを示す。
【図４】実施例７〜１１で得られた本発明の光応答性材
料及び原料として用いた触媒学会参照触媒JRC-TIO-3
（ルチル）の反射率スペクトルを示す。
【図５】実施例７〜１１で得られた光応答性材料及び原
料として用いた触媒学会参照触媒JRC-TIO-3（ルチル）
のＸＲＤ測定結果を示す。
【図６】実施例７〜１１で得られた本発明の光応答性材
料のＮＯ除去活性を示す。
【図７】実施例７で得られた本発明の光応答性材料の水
素生成反応の結果を示す。
【図８】実施例８で得られた本発明の光応答性材料の水
素生成反応の結果を示す。
【図９】実施例９で得られた本発明の光応答性材料の水
素生成反応の結果を示す。
【図１０】実施例１０で得られた本発明の光応答性材料
の水素生成反応の結果を示す。
【図１１】実施例１１で得られた本発明の光応答性材料
の水素生成反応の結果を示す。
【図１２】実施例７で得られた本発明の光応答性材料の
酸素生成反応の結果を示す。
【図１３】実施例８で得られた本発明の光応答性材料の
酸素生成反応の結果を示す。
【図１４】実施例９で得られた本発明の光応答性材料の
酸素生成反応の結果を示す。
【図１５】実施例１０で得られた本発明の光応答性材料
の酸素生成反応の結果を示す。
【図１６】実施例１１で得られた本発明の光応答性材料
の酸素生成反応の結果を示す。
【図１７】実施例１３のサンプル及び原料のJRC-TIO-３
についてのXRD測定結果を示す。
【図１８】実施例１３のサンプルについてUVのスペクト
ル測定結果を示す。
【図１９】実施例１３のサンプル及び原料のJRC-TIO-３
についてNO除去活性測定結果を示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ０１Ｊ 37/34 Ｃ０１Ｂ 13/02 Ｂ Ｃ０１Ｂ 3/04 Ｃ０９Ｄ 1/00 13/02 5/00 Ｚ Ｃ０９Ｄ 1/00 5/14 5/00 5/16 5/14 7/12 5/16 201/00 7/12 Ｂ０１Ｄ 53/36 Ｊ 201/00 １０２Ｄ Ｆターム(参考） 4D048 AA06 BA07X BA41X BA46X BB01 BB03 EA01 EA04 4G042 BA08 BB04 4G069 AA03 AA08 BA02A BA04A BA04B BA07A BA08A BA38 BA48A BC75B BD06A BD06B CA01 CA13 CC33 CD10 DA05 EA01Y EA08 EC22X EC22Y EC27 FA01 FA02 FA03 FB14 FB23 FB29 FB58 FC06 FC08 4J038 AA011 CD091 CG001 DA161 DB001 DD001 DD121 DD231 DG001 DL021 DL031 HA026 HA156 HA216 HA286 HA376 HA416 HA446 HA466 HA486 HA491 HA556 KA02 KA06 KA07 KA12 KA20 MA14 NA02 NA05 NA18 PC02 PC03 PC06 PC07 PC08 PC10

Claims (34)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】ルチル型酸化チタンであって、光源のピー
    ク波長が５２０ｎｍであり、半値幅が２０ｎｍである光
    の作用により活性を有する光応答性材料。
  2. 【請求項２】光の作用により活性がＮＯ除去活性である
    請求項１に記載の光応答性材料。
  3. 【請求項３】窒素元素を含むルチル型酸化チタンである
    請求項１または２に記載の光応答性材料。
  4. 【請求項４】光源のピーク波長が６３０ｎｍであって、
    半値幅が２０ｎｍである光の作用により活性を有する請
    求項１〜３のいずれか１項に記載の光応答性材料。
  5. 【請求項５】Ｘ線光電子分光法による測定において、Ｔ
    ｉ−Ｎの結合が観測される請求項１〜４のいずれか１項
    に記載の光応答性材料。
  6. 【請求項６】チタンと酸素及び窒素とが、化学量論比が
    1.5〜2.4の範囲である請求項３〜５のいずれか１項に記
    載の光応答性材料。
  7. 【請求項７】原料ルチル型酸化チタンを窒素プラズマで
    処理することを含む請求項１〜６のいずれか１項に記載
    の光応答性材料の製造方法。
  8. 【請求項８】原料ルチル型酸化チタンをアンモニア雰囲
    気中で加熱処理することを含む請求項１〜６のいずれか
    １項に記載の光応答性材料の製造方法。
  9. 【請求項９】原料ルチル型酸化チタンが湿式法または乾
    式法で得られた酸化チタンである請求項７または８に記
    載の製造方法。
  10. 【請求項１０】請求項１〜６のいずれか１項に記載の光
    応答性材料に発光ダイオードまたは有機エレクトロルミ
    ネッセンスの光を照射する、光応答性材料の活性化方
    法。
  11. 【請求項１１】窒素酸化物を含有する気体を、可視光領
    域の少なくとも一部の光を含む光を照射した光応答性材
    料に接触させることで、前記気体中の窒素酸化物濃度を
    低減する方法であって、前記光応答性材料が請求項１〜
    ６のいずれか１項に記載の光応答性材料である前記方
    法。
  12. 【請求項１２】前記光が発光ダイオードからの光である
    請求項１１に記載の方法。
  13. 【請求項１３】発光ダイオードが紫色発光ダイオード、
    青色発光ダイオード、緑色発光ダイオード、黄色発光ダ
    イオード、または白色発光ダイオードである請求項１２
    に記載の方法。
  14. 【請求項１４】発光ダイオード基板上に光応答性材料を
    含む層を有する装置を用いる請求項１１〜１３のいずれ
    か１項に記載の方法。
  15. 【請求項１５】発光ダイオード基板が、少なくとも発光
    ダイオードとその上に設けた光透過性層とからなり、前
    記光透過性層の上に前記光応答性材料を含む層を設けた
    請求項１４に記載の方法。
  16. 【請求項１６】 窒素酸化物を含有する気体が空気であ
    る請求項１１〜１５のいずれか１項に記載の方法。
  17. 【請求項1７】 バインダー、光応答性材料及び溶媒を含
    む可視光応答性塗料であって、前記光応答性材料が、請
    求項１〜６のいずれか１項に記載の光応答性材料である
    ことを特徴とする塗料。
  18. 【請求項１８】バインダーが有機バインダーまたは無機
    バインダーである請求項１７に記載の塗料。
  19. 【請求項１９】溶媒が水または有機溶媒である請求項１
    ７または１８に記載の塗料。
  20. 【請求項２０】有機バインダーが、フッ素系ポリマー、
    シリコン系ポリマー、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポ
    リエステル樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アルキ
    ド樹脂からなる群から選ばれる少なくとも１種のバイン
    ダーである請求項１８または１９に記載の塗料。
  21. 【請求項２１】無機バインダーが、アルキルシリケー
    ト、ハロゲン化ケイ素およびこれらの部分加水分解物な
    どの加水分解性ケイ素化合物を加水分解して得られた生
    成物、有機ポリシロキサン化合物の重縮合物、シリカ、
    コロイダルシリカ、水ガラス、オルガノポリシロキサン
    などのケイ素化合物、リン酸亜鉛、リン酸アルミニウム
    などのリン酸塩、重リン酸塩、セメント、石灰、セッコ
    ウ、ほうろう用フリット、グラスライニング用うわぐす
    り、プラスター、珪藻土からなる群から選ばれる少なく
    とも１種のバインダーである請求項１８または１９に記
    載の塗料。
  22. 【請求項２２】粒状物質、吸着剤及び／又は担体をさら
    に含む請求項１７〜２１のいずれか１項に記載の塗料。
  23. 【請求項２３】粒状物質が、平均粒子径が１ｎｍ〜１０
    ０μｍの無機物または有機物粒子であり、吸着剤及び担
    体が活性炭、ゼオライト、またはシリカゲルである請求
    項２２に記載の塗料。
  24. 【請求項２４】バインダー及び光応答性材料を含む可視
    光応答性塗膜であって、前記光応答性材料が、請求項１
    〜６のいずれか１項に記載の光応答性材料であることを
    特徴とする塗膜。
  25. 【請求項２５】バインダーが有機バインダーまたは無機
    バインダーである請求項２４に記載の塗膜。
  26. 【請求項２６】有機バインダーが、フッ素系ポリマー、
    シリコン系ポリマー、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポ
    リエステル樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アルキ
    ド樹脂からなる群から選ばれる少なくとも１種のバイン
    ダーである請求項２５に記載の塗膜。
  27. 【請求項２７】無機バインダーが、アルキルシリケー
    ト、ハロゲン化ケイ素およびこれらの部分加水分解物な
    どの加水分解性ケイ素化合物を加水分解して得られた生
    成物、有機ポリシロキサン化合物の重縮合物、シリカ、
    コロイダルシリカ、水ガラス、オルガノポリシロキサン
    などのケイ素化合物、リン酸亜鉛、リン酸アルミニウム
    などのリン酸塩、重リン酸塩、セメント、石灰、セッコ
    ウ、ほうろう用フリット、グラスライニング用うわぐす
    り、プラスター、珪藻土からなる群から選ばれる少なく
    とも１種のバインダーからなる群から選ばれる少なくと
    も１種のバインダーである請求項２５に記載の塗膜。
  28. 【請求項２８】粒状物質、吸着剤及び／又は担体をさら
    に含む請求項２４〜２７のいずれか１項に記載の塗膜。
  29. 【請求項２９】粒状物質が、平均粒子径が１ｎｍ〜１０
    ０μｍの無機物または有機物粒子であり、吸着剤及び担
    体が、活性炭、ゼオライト、またはシリカゲルある請求
    項２８に記載の塗膜。
  30. 【請求項３０】請求項２４〜２９のいずれか一項に記載
    の塗膜を表面の少なくとも一部に有する物品。
  31. 【請求項３１】物品が、セラミックス、ガラスなどの無
    機材質の物品、プラスチック、ゴム、木、紙などの有機
    材質の物品、またはアルミニウムなどの金属、綱などの
    合金などの金属材質の物品である請求項３０に記載の物
    品。
  32. 【請求項３２】請求項１〜６のいずれか一項に記載の光
    応答性材料を用いる殺菌、防藻、防黴、及び／又は防汚
    方法。
  33. 【請求項３３】請求項１〜６のいずれか一項に記載の光
    応答性材料を用いる水の浄化方法。
  34. 【請求項３４】可視光領域の少なくとも一部の波長の光
    を照射した請求項１〜６のいずれか一項に記載の光応答
    性材料を用いる水の光分解方法。
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Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004329916A (ja) * 2003-04-14 2004-11-25 Showa Denko Kk 発光ダイオードを用いた光触媒装置及び発光ダイオードの使用方法
JP2005089213A (ja) * 2003-09-16 2005-04-07 Tayca Corp 酸化チタンの製造方法
JP2005349373A (ja) * 2004-06-08 2005-12-22 Shinshu Univ 漏光型光触媒ファイバー
JP2008501491A (ja) * 2004-06-04 2008-01-24 エステーオー アクチエンゲゼルシャフト 塗装物質
JP2009018231A (ja) * 2007-07-10 2009-01-29 Achilles Corp 光触媒性積層塗膜
JP2009067648A (ja) * 2007-09-14 2009-04-02 Kyushu Univ 酸化チタン膜の形成方法及び酸化チタン膜
WO2009157266A1 (ja) * 2008-06-27 2009-12-30 国立大学法人東北大学 ルチル型二酸化チタン光触媒
JP2011120998A (ja) * 2009-12-10 2011-06-23 Tohoku Univ 可視光応答性ルチル型二酸化チタン光触媒
JPWO2011115237A1 (ja) * 2010-03-15 2013-07-04 株式会社キャタラー 光触媒フィルター及びそれを具備する脱臭装置
JP2016059868A (ja) * 2014-09-17 2016-04-25 旭化成ケミカルズ株式会社 水素生成触媒、及びその製造方法
WO2018180046A1 (ja) * 2017-03-29 2018-10-04 堺化学工業株式会社 電極材料及びその用途
JP2022076643A (ja) * 2020-11-10 2022-05-20 Dic株式会社 塗料、及び該塗料が塗装された物品

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2845375B1 (fr) * 2002-10-03 2004-11-26 Francais Ciments Melange granulaire photocatalytique pour mortier et beton et son utilisation
DE102004027549A1 (de) * 2004-04-07 2005-10-27 Kronos International, Inc. Kohlenstoffhaltiger Titandioxid-Photokatalysator und Verfahren zu seiner Herstellung
JP5374747B2 (ja) * 2006-02-01 2013-12-25 東芝マテリアル株式会社 光触媒材料およびそれを用いた光触媒組成物並びに光触媒製品
WO2008147971A2 (en) * 2007-05-24 2008-12-04 Certainteed Corporation Photocatalytic roofing granules, photocatayltic roofing products, and process for preparing same
WO2018217580A1 (en) * 2017-05-20 2018-11-29 Honeywell International Inc. Intellectual Property-Patent Services Milk lumilux dispersion
WO2014169373A1 (en) * 2013-04-19 2014-10-23 Khashayar Ghandi Process for generating hydrogen using photo-catalytic composite material
CN103349971B (zh) * 2013-07-23 2015-02-04 四川农业大学 利用离子液体/聚苯胺制备的多孔碳负载二氧化钛复合材料及其方法和应用
JP6866596B2 (ja) * 2015-09-30 2021-04-28 Toto株式会社 光触媒塗装体
US11224860B2 (en) * 2019-02-28 2022-01-18 The Hong Kong Polytechnic University Nanofiber surfaces

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5433538A (en) * 1977-08-22 1979-03-12 Nippon Zeon Co Ltd Improved chlorinated rubber composition for coating
DK157816C (da) * 1985-06-11 1990-07-09 Malning Hf Maling paa acrylbasis, som giver vandtaette, men vanddamppermeable overtraek
DE4308428A1 (de) * 1993-03-17 1994-09-22 Basf Lacke & Farben Bindemittelsysteme für die Elektrotauchlackierung
JPH08283022A (ja) * 1995-04-11 1996-10-29 Ykk Kk ＴｉＯ２ 系複合超微粒子及びその製造方法
US5759256A (en) * 1996-05-24 1998-06-02 Kerr-Mcgee Chemical Corp. Method for making a rutile mixed metal oxide pigment
US6365545B1 (en) * 1996-09-20 2002-04-02 Daiken Chemical Co., Ltd. Highly functional base material
JP3573392B2 (ja) * 1996-12-09 2004-10-06 東芝ライテック株式会社 光触媒体、光源および照明器具
WO1998043733A1 (en) * 1997-04-01 1998-10-08 Otsuka Kagaku Kabushiki Kaisha Photocatalyst, process for producing the same and multifunctional members
WO2000010706A1 (en) * 1998-08-21 2000-03-02 Ecodevice Laboratory Co., Ltd. Visible radiation type photocatalyst and production method thereof
WO2001010553A1 (en) * 1999-08-05 2001-02-15 Kabushiki Kaisha Toyota Chuo Kenkyusho Photocatalytic material and photocatalytic article
WO2001054811A1 (en) * 2000-01-27 2001-08-02 Kabushiki Kaisha Toyota Chuo Kenkyusho Photocatalyst
CN1396888A (zh) * 2000-01-31 2003-02-12 有限会社环境设备研究所 可见光应答材料及其制造方法
JP4626099B2 (ja) * 2000-07-17 2011-02-02 株式会社豊田中央研究所 光触媒体
AU783565B2 (en) * 2000-10-20 2005-11-10 Sumitomo Chemical Company, Limited Photocatalyst, process for producing the same and photocatalyst coating composition comprising the same
EP1285953A4 (en) * 2000-11-17 2005-02-23 Ecodevice Lab Co Ltd COATING REACTING TO VISIBLE LIGHT, COATING FILM AND ARTICLE
JP4107807B2 (ja) * 2001-02-07 2008-06-25 独立行政法人科学技術振興機構 水の可視光分解用オキシサルファイド光触媒
US7414009B2 (en) * 2001-12-21 2008-08-19 Showa Denko K.K. Highly active photocatalyst particles, method of production therefor, and use thereof

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004329916A (ja) * 2003-04-14 2004-11-25 Showa Denko Kk 発光ダイオードを用いた光触媒装置及び発光ダイオードの使用方法
JP2005089213A (ja) * 2003-09-16 2005-04-07 Tayca Corp 酸化チタンの製造方法
JP2008501491A (ja) * 2004-06-04 2008-01-24 エステーオー アクチエンゲゼルシャフト 塗装物質
JP2005349373A (ja) * 2004-06-08 2005-12-22 Shinshu Univ 漏光型光触媒ファイバー
JP2009018231A (ja) * 2007-07-10 2009-01-29 Achilles Corp 光触媒性積層塗膜
JP2009067648A (ja) * 2007-09-14 2009-04-02 Kyushu Univ 酸化チタン膜の形成方法及び酸化チタン膜
US8445401B2 (en) 2008-06-27 2013-05-21 Tohoku University Rutile-type titanium dioxide photocatalyst
WO2009157266A1 (ja) * 2008-06-27 2009-12-30 国立大学法人東北大学 ルチル型二酸化チタン光触媒
JP2011120998A (ja) * 2009-12-10 2011-06-23 Tohoku Univ 可視光応答性ルチル型二酸化チタン光触媒
JPWO2011115237A1 (ja) * 2010-03-15 2013-07-04 株式会社キャタラー 光触媒フィルター及びそれを具備する脱臭装置
JP2016059868A (ja) * 2014-09-17 2016-04-25 旭化成ケミカルズ株式会社 水素生成触媒、及びその製造方法
WO2018180046A1 (ja) * 2017-03-29 2018-10-04 堺化学工業株式会社 電極材料及びその用途
JP2018170139A (ja) * 2017-03-29 2018-11-01 堺化学工業株式会社 電極材料及びその用途
GB2573931A (en) * 2017-03-29 2019-11-20 Sakai Chemical Industry Co Electrode material and application thereof
GB2573931B (en) * 2017-03-29 2022-01-26 Sakai Chemical Industry Co Electrode material and application thereof
JP2022076643A (ja) * 2020-11-10 2022-05-20 Dic株式会社 塗料、及び該塗料が塗装された物品
JP7679616B2 (ja) 2020-11-10 2025-05-20 Dic株式会社 塗料、及び該塗料が塗装された物品

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