JP2002251710A - 磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高密度テ゛ィシ゛タル記録に適した磁気記録媒体、詳
しくはＭＲヘッドを使って再生するのに適した磁気記録
媒体を提供すること。 【解決手段】 非磁性可撓性支持体上に非磁性粉末と結
合剤とを含む非磁性層及び強磁性金属粉末と結合剤と非
磁性粉末とを含む磁性層をこの順に設けた磁気記録媒
体。前記磁性層の平均厚みδが0.01〜0.2μmであり、前
記強磁性金属粉末は平均長軸長ljが100nm未満であり、
平均短軸長lmが20 nm未満であり、前記磁性層に含まれ
る非磁性粉末は粒状または針状の非磁性粉末であり、該
非磁性粉末の平均粒径または短軸長lhと前記平均短軸長
lmとの比(lh/lm)が0.2を超え、2.5以下であり、かつ、
磁気現像ヌケ(ヒ゜ンホール)の最大面積Ｋがヒ゛ット面積の50%以下
である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、特にＭＲヘット゛を用
いて再生する高密度記録可能な磁気記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、ビデオテープ、オーディオテー
プ、磁気ディスク等の磁気記録媒体としては強磁性酸化
鉄、Ｃｏ変性強磁性酸化鉄、ＣｒＯ₂、強磁性合金粉末
等を結合在中に分散した磁性層を非磁性支持体に塗設し
たものが広く用いられる。近年高密度化と共に記録波長
が短くなる傾向にあり、磁性層の厚さが厚いと出力が低
下する記録時の自己減磁損失、再生時の厚み損失の問題
が大きくなっている。このため、磁性層を薄くすること
が行われているが、磁性層を約２μｍ以下に薄くすると
磁性層の表面に非磁性支持体の影響が表れやすくなり、
電磁変換特性やドロップアウトの悪化傾向が見られる。

【０００３】この問題を解決する一つの手段に、同時重
層塗布方式を用いて下層に非磁性の層を設け、濃度の高
い磁性塗布液を薄く塗布する方法がある（特開昭63-191
315号公報、特開昭63-187418号公報）。これらの発明に
より飛躍的に歩留まりは改良され良好な電磁変換特性を
得ることができるようになった。しかし、更に高密度の
磁気記録媒体が望まれている。

【０００４】一方、磁気ヘッドは従来磁気誘導を応用し
て記録再生するインタ゛クティフ゛ヘット゛が主体であったが、近年
では媒体磁化量に応じた磁気抵抗の変化を利用したＭＲ
ヘッドがハードディスクを主体とした高密度テ゛ィシ゛タル記
録の分野で普及しており、高密度記録用のテープ・フレキシ
フ゛ルテ゛ィスク等の分野に拡がりつつある。

【０００５】ＭＲヘッドを使用した磁気記録の諸問題に
関しては多くの研究がされており数多くの論文が発表さ
れている。ＭＲヘッドで再生する場合は、ＭＲヘット゛が高
感度なので、出力の高い媒体より、ノイズが低い媒体が
適している。このために、磁性体間の磁気的相互作用を
低減すべく種々の技術が開示されている。例えば薄膜の
場合、磁性層を多層構成にして非磁性層を挟む、非磁性
膜のポア中に磁性体を形成させる、あるいは蒸着テーフ゜で
は磁性粒子結晶表面にCoOを形成させる、などが知られ
ている。

【０００６】一方、本出願の技術分野である塗布型媒体
では、特開平11-73640号公報の様に磁性層を非磁性物で
希釈して磁性粒子の充填度を下げることが提案されてい
る。これらは、基本的に非磁性物あるいは反強磁性物質
で磁性体間の静磁気結合を断ち切る具体的な手段であ
る。但し、磁性層を非磁性物で希釈する際に、磁性体や
非磁性物が均一に分散し、非磁性物の凝集体が発生しな
いようにしないと磁気的ヒ゜ンホールの発生を引き起こし、Ｄ
Ｃ消磁ノイス゛(変調ノイス゛)増大やヒ゛ット出力の振幅変動を引き
起こし、エラー上昇の原因になる問題が発生する。

【０００７】発明者らは,ＭＲヘッドへの適性を向上す
るため鋭意検討し、特開平11-73640号公報の考え方を更
に発展させ磁性層を非磁性物で希釈する際に、磁性体や
非磁性物が均一に分散し、非磁性物の凝集体が発生しな
いような具体的な媒体を見いだすに至った。これによ
り、AC消磁ノイス゛及びDC消磁ノイス゛(変調ノイス゛)の低い媒体を
見いだすに至った。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、ＭＲ
ヘッドに於ける電磁変換特性が良好で、かつ生産性に優
れた磁気記録媒体を提供することであり、更に、詳しく
は短記録波長の記録再生性能、歩留まりの優れた磁気記
録媒体を提供することである。

【課題を解決するための手段】本発明者らは上述の課題
を達成するために磁性層の構造や磁気特性について鋭意
検討した結果、本発明に至った。即ち本発明は、非磁性
可撓性支持体上に非磁性粉末と結合剤とを含む非磁性層
及び強磁性金属粉末と結合剤と非磁性粉末とを含む磁性
層をこの順に設けた磁気記録媒体であって、前記磁性層
の平均厚みδが0.01〜0.2μmであり、前記強磁性金属粉
末は平均長軸長ljが100nm未満であり、平均短軸長lmが2
0 nm未満であり、前記磁性層に含まれる非磁性粉末は粒
状または針状の非磁性粉末であり、該非磁性粉末の平均
粒径または短軸長lhと前記平均短軸長lmとの比(lh/lm)
が0.2を超え、2.5以下であり、かつ、磁気現像ヌケ(ヒ゜ンホー
ル)の最大面積Ｋがヒ゛ット面積の50%以下であることを特徴
とする磁気記録媒体に関する。

【０００９】さらに本発明は、非磁性粉末と結合剤とを
含む非磁性層用塗布液及び強磁性金属粉末と結合剤と非
磁性粉末とを含む磁性層用塗布液を非磁性可撓性支持体
上にこの順に塗布することを含む上記本発明の磁気記録
媒体の製造方法であって、前記強磁性金属粉末と前記結
合剤とを含む液及び前記非磁性粉末と前記結合剤とを含
む液とを、前記強磁性金属粉末及び前記非磁性粉末の分
散性が最適化するまで、独立に混練・分散し、得られた
2つの液を塗布直前に混合・分散して前記磁性層用塗布
液を得ることを特徴とする製造方法に関する。上記製造
方法は、非磁性層用塗布液及び磁性層用塗布液を塗布し
塗膜を形成した後、前記強磁性金属粉末のＨcの0.4倍か
ら1.5倍の磁場強度の配向を前記塗膜に対して長手方向
にかけることをさらに含むことが好ましい。

【００１０】本発明の磁気記録媒体では、磁性体を磁気
的にセハ゜レートした状態にできるため、粒子ノイズつまりAC
消磁ノイス゛を低くでき、かつ磁性層中の非磁性粉末と磁性
体との存在状態を均一化して、磁化量の変動を抑制でき
るのでＤＣ消磁ノイス゛(変調ノイス゛)を低減できる。つまり、
ＭＲヘット゛を用いて本発明の磁気記録媒体を再生する際
に、高Ｃ／Ｎが得られる。さらに、磁性体を非磁性粉体
により希釈することで、磁性層の残留磁化量を低減でき
るため、MRヘット゛の飽和現象を回避できる。

【００１１】ここで本発明の作用機構について述べる。
ＭＲヘッドでは、インダクティブヘッドに比べて高い再
生出力が得られる。従来のインダクティブヘッドでは磁
性層の残留磁化を大きくする検討が行われてきたが、Ｍ
Ｒヘッドでは逆にノイズが大きくなり必ずしも大きな残
留磁化は、性能向上につながらないことが知られてい
る。本発明において磁性層の平均厚みδを0.01〜0.2μm
に規定したのは以下の理由による。すなわち、磁性層の平
均厚みδが薄すぎると磁化量が少なすぎて、システム全体の
ノイス゛に対して信号が検出出来なくなる。磁性層厚δが厚
く、Brδがヘット゛の諸元で決まるある値以上になるとMRヘット
゛の飽和現象(出力が増加しなくなり、ノイス゛だけ増加しＣ
／Ｎ比が低下してしまう現象)が発生する。そのため、
本発明のように非磁性粉体による希釈によるBr低減が有
効な手段のひとつになる。但し、０．２μｍを超える
と、ＭＲヘッドの飽和現象対策から、Ｂｒ低減が更に必
要になるが、それにより磁性層中の磁性体の存在比率が
低下するため、Ｃ／Ｎは低下する。

【００１２】磁性層に含まれる非磁性粉末の平均粒径ま
たは短軸長lhと磁性体の短軸長lmの比(lh/lm)が0.2を超
え、2.5以下とする(0.2×lm＜lh≦2.5×lm)のは、磁気
的相互作用低減と磁気的ヒ゜ンホールのハ゛ランスに基づく。即
ち、非磁性粉末の平均粒径または短軸長lh が、比(lh/l
m)が0.2以下では、磁気的相互作用低減効果が低下し、
非磁性粉体による希釈効果が低下する。また、比(lh/l
m)が2.5を超えると、磁気的ピンホールが大きくなりＤ
Ｃ消磁ノイズが大きくなるため、非磁性粉体希釈による
弊害が顕在化する。

【００１３】前記特開平11-73640号公報に記載の発明で
も、非磁性粉末を含む磁性層が開示され、かつ磁性粉末
と非磁性粉末の重量比が規定されている。しかし、磁気
的相互作用低減に効果があるのは本質的には、磁性粒子
の体積充填度であり、磁性体間に非磁性粉末が入って磁
気的にセパレートできる状態を作り得るかどうかが問題
である。しかるに、特開平11-73640号公報には、磁性粒
子の体積充填度についての記載はない。又、特開平11-7
3640号公報では磁気的ピンホールについても言及してい
ない。磁性層に含まれる非磁性粉末の量を増やせば、非
磁性粉末の凝集や未分散部分が磁気的ピンホールにな
る。この磁気的ピンホールが磁性体粒子1、2個レヘ゛ルの面
積でかつ均一に存在している場合は問題ないが、不均一
であり、磁気的ピンホールの面積が大きい場合はDC消磁
ノイス゛(変調ノイズ)の問題が発生する。尚、特開平11-736
40号公報に記載の発明は、非磁性粉末としてαFe₂O₃が
例示されている（請求項２）。しかし、非磁性粉末を単
にαFe₂O₃にするだけでは、磁気的ピンホールの面積を
磁性体粒子数個レヘ゛ル迄低減し、かつ磁性体と非磁性粉体
の分布の均一性を高めることはできない。

【００１４】それに対して本発明では、磁性層に含まれ
る非磁性粉末の平均粒径または短軸長lhと磁性体の短軸
長lmの関係を0.2×lm＜lh≦2.5×lmと規定することで、
上述の磁気的相互作用低減と磁気的ピンホールの問題の
両方を同時に解決している。

【００１５】磁性粒子の配向状態を乱さないため(磁気
的相互作用を低減するため)には、磁性体の短軸長に比
較して、非磁性粉末の粒径または針状の場合は短軸長lh
は、磁性体の短軸長lmと上記の関係を満たす必要が有
る。しかるに、前記公報には、非磁性粉末の粒子形状と
サイス゛に関しての開示はない。上述のように、磁性体の短
軸長lmに比べて非磁性粉末の短軸長ないしは粒径lhが大
きく成りすぎると配向性が低下する。又、非磁性粉末の
短軸長ないしは粒径lhが上記範囲より小さくなると、非
磁性粉末の凝集や未分散が発生しやすくなり、結果とし
て磁性体の配向性低下や磁気的ヒ゜ンホールの面積が大きくな
り、あるいは均一性が低下する問題が発生する。

【００１６】更に本発明の磁気記録媒体では、磁気現像
ヌケ(ヒ゜ンホール)の最大面積Ｋがヒ゛ット面積の50%以下である。
磁気現像ヌケ(ヒ゜ンホール)の最大面積Ｋがヒ゛ット面積の50%を超
えると、ビート振幅変動によりエラーレートが著しく上
昇する。磁気現像ヌケ(ヒ゜ンホール)の最大面積Ｋはヒ゛ット面積の
０．１〜２０%の範囲であることが好ましい。

【００１７】上記本発明の磁気記録媒体、特に、磁気現
像ヌケ(ヒ゜ンホール)の最大面積Ｋがヒ゛ット面積の50%以下である
磁気記録媒体は、磁性層用塗布液の調製を、強磁性金属
粉末と結合剤とを含む液及び非磁性粉末と結合剤とを含
む液とを独立に混練・分散して調製し、得られた2つの
液を塗布直前に混合・分散することにより行う方法によ
り製造することができる。磁性層用塗布液作製におい
て、強磁性金属粉末と結合剤とを含む磁性液と非磁性粉
末と結合剤からなる非磁性液を別に混練・分散し、塗布
直前に両者を混合・分散する理由は、未分散の状態に有
る非磁性粉末の量を低減し、磁性体粒子と非磁性粉末が
粒子レベル(分散した状態で)で均一になっている塗布磁
性液を作製するためである。非磁性粉末と磁性体を同時
に混練・分散した場合、それぞれの粉体の分散進度に違
いがあるため(一般的に非磁性粉末の方が強磁性金属粉
末に比べて分散進度は遅い)、分散不良による非磁性粉
体の未分散物発生か過分散による磁性体の凝集を引き起
こす。別分散することで、磁性体及び非磁性粉末の分散
性を最適化できるため、未分散物の防止と凝集対策が可
能になる。

【００１８】さらに、本発明の製造方法では、上記磁性
層用塗布液の調製の他に、塗布後の配向条件も重要であ
る。一般にテープ系の磁気記録媒体では、面内長手方向
に磁性体が配列するように塗布乾燥時に配向をかけてい
る。強磁性金属粉末のようなσsの高い磁性体では、Ｈc
に比べて1.5倍以上の配向磁場を液の流動性がある状態
でかけると磁性体自身の凝集が発生し易く、非磁性粉末
と磁性体の分布の不均一性をひきおこす恐れが有る。す
なわち、磁気的ピンホールの面積が大きくなり、ある一
定面積中の磁気的ピンホールの個数が減る現象をもたら
す恐れが有る。

【００１９】そのため、本発明では、非磁性層用塗布液
及び磁性層用塗布液を塗布し塗膜を形成した後に、面内
長手方向にかける配向磁場強度を該強磁性金属粉末のHc
の1.5倍以下にすることが好ましい。但し、配向磁場強
度が該強磁性金属粉末のHcの0.4倍未満になると、十分
な配向性が得られにくく磁気的相互作用の増大やノイズ
上昇を引き起こす恐れが有るので、Hcの0.4倍以上とす
ることが好ましい。尚、ディスク系磁気記録媒体につい
ては、上記配向強度の範囲で、面内にランタ゛ム配向するこ
とが上記観点から好ましい。

【００２０】磁性層に含まれる強磁性金属粉体は強磁性
合金粉末であって、飽和磁化σsが１３０Ａｍ²/kg未満7
０Ａm²/kg以上、抗磁力Ｈｃが158kＡ/m以上、平均長軸長
が100nm未満でかつ平均短軸長が20nm未満、結晶子サイス゛が
13nm以下であることが好ましい。尚、平均長軸長は40nm
以上であること、平均短軸長は6nm以上であることがそ
れぞれ好ましい。上記数値限定の理由は以下の通りであ
る。

【００２１】理論的には、磁性粒子の平均磁気モーメントμp
が大きくなると、媒体ノイス゛が増加することが知られてい
る（法橋：日本応用磁気学会誌 Vol.21、No 4-1、p149〜
(1997)）。μpはμp＝σs×ρ×Ｖ、ここでσsは磁性
体の質量当たりの磁気モーメント、ρは密度、Ｖは平均体積で
ある。従ってσsは小さいことが好ましい。特開平11-7364
0ではσsが130Am²/kg以上が好ましい範囲としている
が、MRヘット゛での再生においては130Ａm²/kg未満が好まし
い。σsが低すぎると異方性定数が小さくなりＨｃが低下
するので、合金粉末では７０Ａm²/kg以上が好ましい。
また上式より平均体積Ｖも小さいことが好ましい。従っ
て平均長軸長が100nm未満、平均短軸長が20nm未満、結晶
子サイス゛13nm以下であることが好ましい。以上の磁性体が
好ましいことは、前記理論からあるいは類推できるかも
しれないが、本発明の特徴は上記の磁性粒子と特定の非
磁性粒子を混合することにより、従来知られている理論
や特開平11ー73640号公報での開示技術では得られない新
たな磁気記録媒体が得られることである。

【００２２】本発明の磁気記録媒体の磁性層の好ましい
態様は以下の通りである。磁気的相互作用低減と磁化量
のハ゛ランスに基づき、磁性体体積充填度は15%〜45%である
ことが好ましい。より好ましくは20%〜35%、更に好まし
くは20〜30%である。該非磁性粉体の体積／磁性体体積
の比率pは0.05＜p＜2が好ましい。比率ｐが0.05より小
さくなると磁気的相互作用を低減する効果が低下する。
比率pが２を越えると磁性体の配向性が低下するため配
向時における磁性体と非磁性粉体の均一性を維持しにく
くなる。体積充填率は磁性体以外の非磁性物質（非磁性
粉末、結合剤、空気(空隙)）によって決定される。本発明
では主に非磁性粉末の添加量を変えることで体積充填率
を調整している。

【００２３】磁性層の平均厚みδは0.02〜0.2μmで、好
ましくは0.02〜0.1μmである。記録信号の最短ヒ゛ット長Tb
に対して、Tb/20≦δ≦Tb、さらにTb/10≦δ≦2Tb/3が好
ましい。 磁性層において磁性体と混合する非磁性粉末は、長軸長
0.2μm以下、好ましくは0.15μm以下で、針状比３〜20、
好ましくは5〜15の針状粒子、もしくは平均粒径50nm以
下、好ましくは1nm〜40nmの粒状粒子であることが適当で
ある。このような非磁性粉末としては、α-Fe₂O₃、TiO₂、
ZrO₂、SnO₂、Al₂O₃、SiO₂、CeO₂、ZnO、Cr₂O₃などの酸化物、C
u、Ag、Cr、Al、等の非磁性金属粉末、BaSO₄、CaCO₃、等の塩
類、カーホ゛ンフ゛ラック、メラミン樹脂など微粒子樹脂粉末などが挙げ
られる。磁性粉末の分散に適した極性基を有するハ゛インタ゛
ーを用いる場合は金属酸化物が適する。また、MRヘット゛では
放電が問題であるので導電性を付与するため電気抵抗の
低いカーホ゛ンフ゛ラックや金属粒子を使うことも有効である。さ
らにこれらの粉体は前記形状・サイス゛の範囲内なら単独で
も、２種類以上でも用いることができる。

【００２４】磁気記録媒体に含まれる磁性体について説
明する。本発明では、磁性体として強磁性合金粉末を用
いる。強磁性合金粉末の飽和磁気モーメントσsは130Am²/kg未
満、70Am²/kg以上、好ましくは125Am²/kg以下、80Am²/kg
以上であることが適当である。130Am²/kg以上ではノイス゛
が高くなり、70Am²/kg未満になるとHcが低下する傾向が
ある。Ｈｃは上述のように158kA/m以上、好ましくは174kA
/m以上であることが適当である。Hcは高い方が電磁変換
特性に優れるので高い方が好ましいが、160〜300kA/mが
現実的である。但し、記録ヘット゛のBs向上により高Hcでも
記録可能になればこの限りではない。磁性粒子のサイス゛
は、平均長軸長100nm未満好ましくは80nm以下である。結
晶子サイス゛(X線粒径)は13nm以下、好ましくは12nm以下で
ある。これらの値は小さい方が好ましいが、現実的には
平均長軸長は40nm以上〜100nm未満、結晶子サイス゛は６nm以
上〜13nm以下である。小さすぎると磁化の熱的安定性が
劣化する。BET法による比表面積は40〜100m²/gの範囲が
好ましい。大きすぎると分散性が劣化する。

【００２５】強磁性合金粉末はＦｅを主体にしたもの
で、高いHcを得るためにCoを固溶させたものが好まし
い。強磁性合金粉末の組成・製造方法は公知の技術が使
用可能である。さらに所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、
Ｓ，Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ，Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐ
ｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、
Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、
Ｐ，Ｍｎ，Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂなどの原子を含んでも
構わない。

【００２６】これらの強磁性微粉末にはあとで述べる分
散剤、潤滑剤、界面活性剤、帯電防止剤などで分散前に
あらかじめ処理を行っても構わない。具体的には、特公
昭44-14090号公報、特公昭45-18372号公報、特公昭47-2
2062号公報、特公昭47-22513号公報、特公昭46-28466号
公報、特公昭46-38755号公報、特公昭47-4286号公報、
特公昭47-12422号公報、特公昭47-17284号公報、特公昭
47-18509号公報、特公昭47-18573号公報、特公昭39-103
07号公報、特公昭48-39639号公報、米国特許3026215号
明細書、同3031341号明細書、同3100194号明細書、同32
42005号明細書、同3389014号明細書などに記載されてい
る。

【００２７】上記強磁性合金微粉末については水酸化
物、または酸化物を含んでもよい。合金粉末において本
発明に規定するσsを達成するには、表面に非磁性の酸
化被膜を（従来より多く)形成させる方法や、ＡｌやＹ
などを従来より多く被着させることが挙げられる。 強磁性合金粉末のタッフ゜密度は０．２〜０．８ｇ／ｍｌが
好ましい。

【００２８】強磁性合金粉末のｐＨは用いる結合剤との
組合せにより最適化することが好ましい。その範囲は４
〜１２であるが、好ましくは６〜１０である。空孔が少
ないほうが好ましくその値は２０容量％以下、さらに好
ましくは５容量％以下である。この強磁性粉末のＳＦＤ
（Switching Field Distribution）０．６以下を達成
するためには、強磁性粉末のＨｃの分布を小さくする必
要がある。そのためには、ケ゛ータイトの粒度分布をよくする
こと、γ−ヘマタイトの焼結を防止することなどの方法があ
る。

【００２９】本発明に使用される結合剤としては磁性層
及び非磁性層ともに、従来公知の熱可塑系樹脂、熱硬化
系樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物が使用される。熱
可塑系樹脂としては、ガラス転移温度が−１００〜１５
０℃、数平均分子量が１０００〜２０００００、好まし
くは１００００〜１０００００、重合度が約５０〜１０
００程度のものである。このような例としては、塩化ビ
ニル、酢酸ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、ア
クルリ酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アク
リロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、
スチレン、ブタジエン、エチレン、ビニルブチラール、
ビニルアセタール、ビニルエーテル、等を構成単位とし
て含む重合体または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種
ゴム系樹脂がある。また、熱硬化性樹脂または反応型樹
脂としてはフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタ
ン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹
脂、アクリル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリ
コーン樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル
樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエス
テルポリオールとポリイソシアネートの混合物、ポリウ
レタンとポリイソシアネートの混合物等があげられる。

【００３０】これらの樹脂については朝倉書店発行の
「プラスチックハンドブック」に詳細に記載されてい
る。また、公知の電子線硬化型樹脂を非磁性層、磁性層
に使用することも可能である。これらの例とその製造方
法については特開昭６２−２５６２１９号公報に詳細に
記載されている。以上の樹脂は単独または組合せて使用
できるが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、塩化ビ
ニル酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアル
コール樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共重
合体の中から選ばれる少なくとも１種とポリウレタン樹
脂の組合せ、またはこれらにポリイソシアネートを組み
合わせたものがあげられる。ポリウレタン樹脂の構造は
ポリエステルポリウレタン、ポリエーテルポリウレタ
ン、ポリエーテルポリエステルポリウレタン、ポリカー
ボネートポリウレタン、ポリエステルポリカーボネート
ポリウレタン、ポリカプロラクトンポリウレタンなど公
知のものが使用できる。ここに示したすべての結合剤に
ついて、より優れた分散性と耐久性を得るためには必要
に応じ、ＣＯＯＭ，ＳＯ₃Ｍ、ＯＳＯ₃Ｍ、Ｐ＝Ｏ（Ｏ
Ｍ） ₂、Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂（以上につきＭは水素原
子、またはアルカリ金属塩基）、ＯＨ、ＮＲ₂、Ｎ⁺Ｒ₃
（Ｒは炭化水素基）、エポキシ基、ＳＨ、ＣＮ、などか
ら選ばれる少なくともひとつ以上の極性基を共重合また
は付加反応で導入したものを用いることが好ましい。こ
のような極性基の量は１０^-1〜１０^-8モル／ｇであり、好
ましくは１０^-2〜１０^-6モル／ｇである。

【００３１】本発明に用いられるこれらの結合剤の具体
的な例としてはユニオンカーバイト社製ＶＡＧＨ、ＶＹ
ＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ、ＶＲＯＨ、ＶＹ
ＥＳ、ＶＹＮＣ、ＶＭＣＣ、ＸＹＨＬ、ＸＹＳＧ、ＰＫ
ＨＨ、ＰＫＨＪ、ＰＫＨＣ、ＰＫＦＥ、日信化学工業社
製ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５、ＭＰＲ−ＴＡＬ、Ｍ
ＰＲ−ＴＳＮ、ＭＰＲ−ＴＭＦ、ＭＰＲ−ＴＳ、ＭＰＲ
−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学社製１０００Ｗ、Ｄ
Ｘ８０、ＤＸ８１、ＤＸ８２、ＤＸ８３、１００ＦＤ、
日本ゼオン社製ＭＲ−１０５、ＭＲ１１０、ＭＲ１０
０、４００Ｘ−１１０Ａ、日本ポリウレタン社製ニッポ
ランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ２３０４、大日本イン
キ社製パンデックスＴ−５１０５、Ｔ−Ｒ３０８０、Ｔ
−５２０１、バ−ノックＤ−４００、Ｄ−２１０−８
０、クリスボン６１０９、７２０９、東洋紡社製バイロ
ンＵＲ８２００、ＵＲ８３００、ＵＲ−８６００、ＵＲ
−５５００、ＵＲ−４３００、ＲＶ５３０、ＲＶ２８
０、大日精化社製ダイフェラミン４０２０、５０２０、
５１００、５３００、９０２０、９０２２、７０２０、
三菱化成社製ＭＸ５００４、三洋化成社製サンプレンＳ
Ｐ−１５０、ＴＩＭ−３００３、ＴＩＭ−３００５、旭
化成社製サランＦ３１０、Ｆ２１０などが挙げられる。

【００３２】本発明の磁性層に用いられる結合剤は強磁
性粉末に対し、２〜３０重量％の範囲、好ましくは５〜
２５重量％の範囲で用いられる。塩化ビニル系樹脂を用
いる場合は１〜３０重量％、ポリウレタン樹脂を用いる
場合は１〜２０重量％、ポリイソシアネートは１〜２０
重量％の範囲でこれらを組み合わせて用いるのが好まし
い。本発明において、ポリウレタンを用いる場合はガラ
ス転移温度が−５０〜１００℃、破断伸びが１００〜２
０００％、破断応力は4.9×10^-6〜9.8×10^-4GPa（０．
０５〜１０ｋｇ／ｃｍ²）、降伏点は4.9×10^-6〜9.8×1
0^-4GPa（０．０５〜１０ｋｇ／ｃｍ²）が好ましい。本
発明の磁気記録媒体は二層以上からなる。従って、結合
剤量、結合剤中に占める塩化ビニル系樹脂、ポリウレタ
ン樹脂、ポリイソシアネート、あるいはそれ以外の樹脂
の量、磁性層を形成する各樹脂の分子量、極性基量、あ
るいは先に述べた樹脂の物理特性などを必要に応じ非磁
性層と上層磁性層、その他磁性層とで変えることはもち
ろん可能であり、多層磁性層に関する公知技術を適用で
きる。例えば、上下層、非磁性層でバインダー量を変更
する場合、磁性層表面の擦傷を減らすためには上層磁性
層のバインダー量を増量することが有効であり、ヘッド
に対するヘッドタッチを良好にする為には、磁性層以外
のバインダー量を多くして柔軟性を持たせることにより
達成される。

【００３３】本発明に用いるポリイソシアネートとして
は、トリレンジイソシアネート、４−４’−ジフェニル
メタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，
５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタン
トリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これ
らのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、ま
た、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソ
シアネート等を使用することができる。これらのイソシ
アネート類の市販されている商品名としては、日本ポリ
ウレタン社製コロネートＬ、コロネートＨＬ、コロネー
ト２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、
ミリオネートＭＴＬ、武田薬品社製タケネートＤ−１０
２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、
タケネートＤ−２０２、住友バイエル社製デスモジュー
ルＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮ、デスモ
ジュールＨＬ、等がありこれらを単独または硬化反応性
の差を利用して二つもしくはそれ以上の組合せで非磁性
層、磁性層とも用いることができる。

【００３４】本発明の磁性層に使用されるカーボンブラ
ックはゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブ
ラック、アセチレンブラック、等を用いることができ
る。比表面積は５〜５００ｍ²／ｇ、ＤＢＰ吸油量は１
０〜４００ｍｌ／１００ｇ、粒子径は５ｎｍ〜３００ｎ
ｍ、ｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０重量％、タ
ップ密度は０．１〜１ｇ／ｍｌ、が好ましい。本発明に
用いられるカーボンブラックの具体的な例としてはキャ
ボット社製ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００、１３０
０、１０００、９００、８００、７００、ＶＵＬＣＡＮ
ＸＣ−７２、旭カーボン社製＃８０、＃６０、＃５
５、＃５０、＃３５、三菱化成工業社製＃２４００Ｂ、
＃２３００、＃９００、＃１０００、＃３０、＃４０、
＃１０Ｂ、コンロンビアカーボン社製ＣＯＮＤＵＣＴＥ
Ｘ ＳＣ、ＲＡＶＥＮ １５０、５０、４０、１５など
が挙げられる。カーボンブラックを分散剤などで表面処
理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一
部をグラファイト化したものを使用しても構わない。ま
た、カーボンブラックを磁性塗料に添加する前にあらか
じめ結合剤で分散しても構わない。これらのカーボンブ
ラックは単独、または組合せで使用することができる。
カーボンブラックを使用する場合は強磁性粉末に対する
量の０．１〜３０重量％で用いることが好ましい。カー
ボンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係数低減、遮光
性付与、膜強度向上などの働きがあり、これらは用いる
カーボンブラックにより異なる。従って本発明に使用さ
れるこれらのカーボンブラックは上層磁性層、下層非磁
性層でその種類、量、組合せを変え、粒子サイズ、吸油
量、電導度、ｐＨなどの先に示した諸特性をもとに目的
に応じて使い分けることはもちろん可能である。本発明
の磁性層で使用できるカーボンブラックは例えば「カー
ボンブラック便覧（カーボンブラック協会編）」を参考
にすることができる。

【００３５】本発明の磁性層には、前記非磁性粉末以外
に研磨剤としてα化率９０％以上のα−アルミナ、β−
アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α
−酸化鉄、コランダム、人造ダイアモンド、窒化珪素、
チタンカーハ゛イト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素、など
主としてモース硬度６以上の公知の材料が単独または組
合せで使用される。また、これらの研磨剤どうしの複合
体（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）を使用し
てもよい。これらの研磨剤には主成分以外の化合物また
は元素が含まれる場合もあるが主成分が９０重量％以上
であれば効果に変わりはない。これら研磨剤の粒子サイ
ズは０．０１〜２μｍが使用出来るが、磁性層厚みが薄
いので0.01〜0.3μmのものが好ましい。また、必要に応じ
て粒子サイス゛の異なる研磨剤を組み合わせたり、単独の研
磨剤でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせること
もできる。タップ密度は０．３〜２ｇ／ｍｌ、含水率は
０．１〜５重量％、ｐＨは2〜11、比表面積は1〜30m²／
ｇ、が好ましい。本発明に用いられる研磨剤の形状は針
状、球状、サイコロ状、のいずれでも良いが、形状の一
部に角を有するものが研磨性が高く好ましい。本発明に
用いられる研磨剤の具体的な例としては、住友化学社製
ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−３０、ＡＫＰ−５０、ＨＩＴ−
５０、ＨＩＴ−１００、日本化学工業社製G５、G７、Ｓ
１、戸田工業社製ＴＦ−１００、ＴＦ−１４０が挙げら
れる。本発明に用いられる研磨剤は磁性層（上下層）、
非磁性層で種類、量および組合せを替え、目的に応じて
使い分けることはもちろん可能である。これらの研磨剤
はあらかじめ結合剤で分散処理したのち磁性塗料中に添
加しても構わない。

【００３６】次に下層非磁性層の詳細な内容について説
明する。本発明の非磁性層に用いられる非磁性粉末は、
例えば金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化
物、金属炭化物、金属硫化物、等の無機質化合物から選
択することができる。無機化合物としては例えばα化率
９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミ
ナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化
鉄、コランダム、窒化珪素、チタンカーバイト、酸化チ
タン、二酸化珪素、酸化スス゛、酸化マク゛ネシウム、酸化タンク゛ステ
ン、酸化シ゛ルコニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウ
ム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、２硫化モリフ゛テ゛ンな
どが単独または組合せで使用される。特に好ましいのは
二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、硫酸バリウムであ
り、更に好ましいのは二酸化チタンとα−酸化鉄であ
る。これら非磁性粉末の粒子サイズは０．００５〜２μ
ｍが好ましいが、必要に応じて粒子サイズの異なる非磁
性粉末を組み合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒径分
布を広くして同様の効果をもたせることもできる。とり
わけ好ましいのは０．０１μｍ〜０．２μｍである。形
状は針状、粒状、板状を用いることができ、特に針状が
好ましい。タップ密度は０．０５〜２ｇ／ｍｌ、好まし
くは０．２〜１．５ｇ／ｍｌである。含水率は０．１〜
５重量％好ましくは０．２〜３重量％である。ｐＨは２
〜１１であるが、６〜９の間が特に好ましい。比表面積
は１〜１００ｍ²／ｇ、好ましくは５〜５０ｍ²／ｇ、更
に好ましくは７〜４０ｍ²／ｇである。結晶子サイス゛は
０．０１μｍ〜２μｍが好ましい。DBPを用いた吸油量
は５〜１００ml/100g、好ましくは１０〜８０ml/100g、
更に好ましくは２０〜６０ml/100gである。比重は１〜
１２、好ましくは３〜６である。形状は針状、球状、多
面体状、板状のいずれでも良い。強熱減量は２０重量％
以下であることが好ましい。本発明に用いられる上記無
機粉末のモース硬度は４以上のものが好ましい。これらの
粉体表面のラフネスファクターは０．８〜１．５が好ま
しく、更に好ましいのは０．９〜１．２である。ステア
リン酸（ＳＡ）吸着量は１〜２０μmol／ｍ²、更に好ま
しくは２〜１５μmol/ｍ²である。下層非磁性粉体の２
５℃での水への湿潤熱は2.0×10^-5J/cm²（２００erg/cm
²）〜6.0×10^-5J/cm²（６００erg/cm²）の範囲にあるこ
とが好ましい。また、この湿潤熱の範囲にある溶媒を使
用することができる。１００〜４００℃での表面の水分
子の量は１〜１０個/100Åが適当である。水中での等電
点のｐＨは３〜６の間にあることが好ましい。

【００３７】これらの粉体の表面にはAl₂O₃、SiO₂、TiO
₂、ZrO₂、SnO₂、Sb₂O₃、ZnOで表面処理することが好ま
しい。特に分散性に好ましいのはAl₂O₃、SiO₂、TiO₂、Z
rO₂、であるが、更に好ましいのはAl₂O₃、SiO₂、ZrO₂で
ある。これらは組み合わせて使用しても良いし、単独で
用いることもできる。また、目的に応じて共沈させた表
面処理層を用いても良いし、先ずアルミナで処理した後
にその表層をシリカで処理する構造、その逆の構造を取
ることもできる。また、表面処理層は目的に応じて多孔
質層にしても構わないが、均質で密である方が一般には
好ましい。

【００３８】また、下層にカーボンブラックを混合させ
て公知の効果であるＲｓを下げることができる。このた
めにはゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブ
ラック、アセチレンブラック、等を用いることができ
る。比表面積は１００〜５００ｍ²／ｇ、好ましくは１
５０〜４００ｍ²／ｇ、ＤＢＰ吸油量は２０〜４００ｍ
ｌ／１００ｇ、好ましくは３０〜２００ｍｌ／１００ｇ
である。粒子径は５ｎｍ〜８０ｎｍ、好ましく１０〜５
０ｎｍ、さらに好ましくは１０〜４０ｎｍである。ｐＨ
は２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は
０．１〜１ｇ／ｍｌ、が好ましい。本発明に用いられる
カーボンブラックの具体的な例としてはキャボット社製
ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００、１３００、１００
０、９００、８００、８８０、７００、ＶＵＬＣＡＮ
ＸＣ−７２、三菱化成工業社製＃３０５０Ｂ，３１５０
Ｂ，３２５０Ｂ、＃３７５０Ｂ、＃３９５０Ｂ、＃９５
０、＃６５０Ｂ，＃９７０Ｂ、＃８５０Ｂ、ＭＡ−６０
０、コロンビアカーボン社製ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ Ｓ
Ｃ、ＲＡＶＥＮ 8800、8000、7000、5750、5250、350
0、2100、2000、1800、1500、1255、1250、アクソ゛ー社製ケッ
チェンフ゛ラックECなどが挙げられる。

【００３９】カーボンブラックを分散剤などで表面処理
したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部
をグラファイト化したものを使用しても構わない。ま
た、カーボンブラックを塗料に添加する前にあらかじめ
結合剤で分散しても構わない。これらのカーホ゛ンフ゛ラックは上
記無機質粉末に対して５０重量％を越えない範囲、非磁
性層総重量の４０％を越えない範囲で使用できる。これ
らのカーボンブラックは単独、または組合せで使用する
ことができる。本発明で使用できるカーボンブラックは
例えば「カーボンブラック便覧（カーボンブラック協会
編）」を参考にすることができる。

【００４０】本発明に用いられる有機質粉末はアクリルスチレン
系樹脂粉末、ヘ゛ンソ゛ク゛アナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、フ
タロシアニン系顔料が挙げられるが、ホ゜リオレフィン系樹脂粉末、ホ゜
リエステル系樹脂粉末、ホ゜リアミト゛系樹脂粉末、ホ゜リイミト゛系樹脂
粉末、ホ゜リフッ化エチレン樹脂が使用される。その製法は特開
昭62-18564号公報、特開昭60-255827号公報に記されて
いるようなものが使用できる。これらの非磁性粉末はハ゛
インタ゛ーに対して、重量比率で２０〜０．１、体積比率で
１０〜０．１の範囲で用いられる。特に好ましくはバイ
ンダーの体積比が下層に含まれる粉体の体積に較べて
２．０倍から０．３倍の範囲である。なお、一般の磁気
記録媒体において下塗層を設けることが行われている
が、これは支持体と磁性層等の接着力を向上させるため
に設けられるものであって、厚さも０．５μｍ以下で本
発明の下層非磁性層とは異なるものである。本発明にお
いても下層非磁性層と支持体との接着性を向上させるた
めに下塗層を設けることが好ましい。非磁性層のバイン
ダー、潤滑剤、分散剤、添加剤、溶剤、分散方法その他
は磁性層のそれが適用できる。特に、バインダー量、種
類、添加剤、分散剤の添加量、種類に関しては磁性層に
関する公知技術が適用できる。

【００４１】本発明において、上下層ともに公知の添加
剤を添加することが出来る。添加剤としては潤滑効果、
帯電防止効果、分散効果、可塑効果、などをもつものが
使用される。二硫化モリブデン、二硫化タングステング
ラファイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコーンオイ
ル、極性基をもつシリコーン、脂肪酸変性シリコーン、
フッ素含有シリコーン、フッ素含有アルコール、フッ素
含有エステル、ポリオレフィン、ポリグリコール、アル
キル燐酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、アルキル
硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、ポリフェニル
エーテル、フッ素含有アルキル硫酸エステルおよびその
アルカリ金属塩、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸
（不飽和結合を含んでも、また分岐していても構わな
い）、および、これらの金属塩（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｕ
など）または、炭素数１２〜２２の一価、二価、三価、
四価、五価、六価アルコール、（不飽和結合を含んで
も、また分岐していても構わない）、炭素数１２〜２２
のアルコキシアルコール、炭素数１０〜２４の一塩基性
脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐していても構
わない）と炭素数２〜１２の一価、二価、三価、四価、
五価、六価アルコールのいずれか一つ（不飽和結合を含
んでも、また分岐していても構わない）とからなるモノ
脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エステルまたはトリ脂肪
酸エステル、アルキレンオキシド重合物のモノアルキル
エーテルの脂肪酸エステル、炭素数８〜２２の脂肪酸ア
ミド、炭素数８〜２２の脂肪族アミン、などが使用でき
る。

【００４２】これらの具体例としてはラウリン酸、ミリ
スチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、ス
テアリン酸ブチル、オレイン酸、リノール酸、リノレン
酸、エライジン酸、ステアリン酸オクチル、ステアリン
酸アミル、ステアリン酸イソオクチル、ミリスチン酸オ
クチル、ステアリン酸ブトキシエチル、アンヒドロソル
ビタンモノステアレート、アンヒドロソルビタンジステ
アレート 、アンヒドロソルビタントリステアレート、
オレイルアルコール、ラウリルアルコール、が挙げられ
る。また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グ
リシドール系、アルキルフェノールエチレンオキサイド
付加体、等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステ
ルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導
体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類、等
のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン酸、
燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、などの酸性基
を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホ
ン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル
類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤等も使用
できる。

【００４３】これらの界面活性剤については、「界面活
性剤便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載され
ている。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１０
０％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副
反応物、分解物、酸化物等の不純分が含まれていても構
わない。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さら
に好ましくは１０％以下である。

【００４４】本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面
活性剤は非磁性層、磁性層でその種類、量を必要に応じ
使い分けることができる。例えば、非磁性層、磁性層で
融点の異なる脂肪酸を用い表面へのにじみ出しを制御す
る、沸点や極性の異なるエステル類を用い表面へのにじ
み出しを制御する、界面活性剤量を調節することで塗布
の安定性を向上させる、潤滑剤の添加量を非磁性層で多
くして潤滑効果を向上させるなどが考えられ、無論ここ
に示した例のみに限られるものではない。また本発明で
用いられる添加剤のすべてまたはその一部は、磁性塗料
製造のどの工程で添加しても構わない。例えば、混練工
程前に強磁性粉末と混合する場合、強磁性粉末と結合剤
と溶剤による混練工程で添加する場合、分散工程で添加
する場合、分散後に添加する場合、塗布直前に添加する
場合などがある。また、目的に応じて磁性層を塗布した
後、同時または逐次塗布で、添加剤の一部または全部を
塗布することにより目的が達成される場合がある。ま
た、目的によってはカレンダーした後、またはスリット
終了後、磁性層表面に潤滑剤を塗布することもできる。

【００４５】本発明で用いられる有機溶媒は任意の比率
でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホ
ロン、テトラヒドロフラン、等のケトン類、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソブチ
ルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルシクロ
ヘキサノール、などのアルコール類、酢酸メチル、酢酸
ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチ
ル、酢酸グリコール等のエステル類、グリコールジメチ
ルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサ
ン、などのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン、などの芳
香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロラ
イド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒド
リン、ジクロルベンゼン、等の塩素化炭化水素類、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン等のものが使用で
きる。これら有機溶媒は必ずしも１００％純粋ではな
く、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解
物、酸化物、水分等の不純分がふくまれても構わない。
これらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに好まし
くは１０％以下である。本発明で用いる有機溶媒は磁性
層と非磁性層でその種類は同じであることが好ましい。
その添加量は変えても構わない。非磁性層に表面張力の
高い溶媒（シクロヘキサノン、ジオキサンなど）を用い
塗布の安定性をあげる、具体的には上層溶剤組成の算術
平均値が下層溶剤組成の算術平均値を下回らないことが
肝要である。分散性を向上させるためにはある程度極性
が強い方が好ましく、溶剤組成の内、誘電率が１５以上
の溶剤が５０％以上含まれることが好ましい。また、溶
解パラメータは８〜１１であることが好ましい。

【００４６】本発明の上下層に使用される結合剤として
は従来公知の熱可塑系樹脂、熱硬化系樹脂、反応型樹脂
やこれらの混合物が使用される。熱可塑系樹脂として
は、ガラス転移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子
量が１０００〜２０００００、好ましくは１００００〜
１０００００、重合度が約５０〜１０００程度のもので
ある。このような例としては、塩化ビニル、酢酸ビニ
ル、ビニルアルコール、マレイン酸、アクルリ酸、アク
リル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、
メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタ
ジエン、エチレン、ビニルブチラール、ビニルアセター
ル、ビニルエーテル、等を構成単位として含む重合体ま
たは共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂があ
る。また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂としてはフェ
ノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、
尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル系反
応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、エポ
キシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシアネ
ートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオールと
ポリイソシアネートの混合物、ポリウレタンとポリイソ
シアネートの混合物等が挙げられる。

【００４７】これらの樹脂については朝倉書店発行の
「プラスチックハンドブック」に詳細に記載されてい
る。また、公知の電子線硬化型樹脂を非磁性層、磁性層
に使用することも可能である。これらの例とその製造方
法については特開昭６２−２５６２１９号公報に詳細に
記載されている。以上の樹脂は単独または組合せて使用
できるが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、塩化ビ
ニル酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアル
コール樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共重
合体の中から選ばれる少なくとも１種とポリウレタン樹
脂の組合せ、またはこれらにポリイソシアネートを組み
合わせたものが挙げられる。ポリウレタン樹脂の構造は
ポリエステルポリウレタン、ポリエーテルポリウレタ
ン、ポリエーテルポリエステルポリウレタン、ポリカー
ボネートポリウレタン、ポリエステルポリカーボネート
ポリウレタン、ポリカプロラクトンポリウレタンなど公
知のものが使用できる。ここに示したすべての結合剤に
ついて、より優れた分散性と耐久性を得るためには必要
に応じ、ＣＯＯＭ，ＳＯ₃Ｍ、ＯＳＯ₃Ｍ、Ｐ＝Ｏ（Ｏ
Ｍ） ₂、Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂（以上につきＭは水素原
子、またはアルカリ金属塩基）、ＯＨ、ＮＲ₂、Ｎ⁺Ｒ₃
（Ｒは炭化水素基）、エポキシ基、ＳＨ、ＣＮ、などか
ら選ばれる少なくともひとつ以上の極性基を共重合また
は付加反応で導入したものを用いることが好ましい。こ
のような極性基の量は１０^-1〜１０^-8モル／ｇであり、好
ましくは１０^-2〜１０^-6モル／ｇである。

【００４８】本発明の磁性層に用いられる結合剤は強磁
性粉末に対し、２〜３０重量％の範囲、好ましくは５〜
２５重量％の範囲で用いられる。塩化ビニル系樹脂を用
いる場合は１〜３０重量％、ポリウレタン樹脂を用いる
場合は１〜２０重量％、ポリイソシアネートは１〜２０
重量％の範囲でこれらを組み合わせて用いるのが好まし
い。本発明において、ポリウレタンを用いる場合はガラ
ス転移温度が−５０〜１００℃、破断伸びが１００〜２
０００％、破断応力は4.9×10^-6〜9.8×10^-4GPa（０．
０５〜１０ｋｇ／ｃｍ²）、降伏点は4.9×10^-6〜9.8×1
0^-4GPa（０．０５〜１０ｋｇ／ｃｍ²）が好ましい。本
発明の磁気記録媒体は二層以上からなる。従って、結合
剤量、結合剤中に占める塩化ビニル系樹脂、ポリウレタ
ン樹脂、ポリイソシアネート、あるいはそれ以外の樹脂
の量、磁性層を形成する各樹脂の分子量、極性基量、あ
るいは先に述べた樹脂の物理特性などを必要に応じ非磁
性層と上層磁性層、その他磁性層とで変えることはもち
ろん可能であり、多層磁性層に関する公知技術を適用で
きる。例えば、上下層、非磁性層でバインダー量を変更
する場合、磁性層表面の擦傷を減らすためには上層磁性
層のバインダー量を増量することが有効であり、ヘッド
に対するヘッドタッチを良好にする為には、磁性層以外
のバインダー量を多くして柔軟性を持たせることにより
達成される。

【００４９】本発明に用いるポリイソシアネートとして
は、トリレンジイソシアネート、４−４’−ジフェニル
メタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，
５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタン
トリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これ
らのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、ま
た、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソ
シアネート等を使用することができる。これらのイソシ
アネート類の市販されている商品名としては、日本ポリ
ウレタン社製コロネートＬ、コロネートＨＬ、コロネー
ト２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、
ミリオネートＭＴＬ、武田薬品社製タケネートＤ−１０
２，タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、
タケネートＤ−２０２、住友バイエル社製デスモジュー
ルＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮ、デスモ
ジュールＨＬ、等がありこれらを単独または硬化反応性
の差を利用して二つもしくはそれ以上の組合せで非磁性
層、磁性層とも用いることができる。

【００５０】本発明の磁性層に使用されるカーボンブラ
ックはゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブ
ラック、アセチレンブラック、等を用いることができ
る。比表面積は５〜５００ｍ²／ｇ、ＤＢＰ吸油量は１
０〜４００ｍｌ／１００ｇ、粒子径は５ｎｍ〜３００ｎ
ｍ、ｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０重量％、タ
ップ密度は０．１〜１ｇ／ｍｌ、が好ましい。本発明に
用いられるカーボンブラックの具体的な例としてはキャ
ボット社製ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００、１３０
０、１０００、９００、８００、７００、ＶＵＬＣＡＮ
ＸＣ−７２、旭カーボン社製＃８０、＃６０，＃５
５、＃５０、＃３５、三菱化成工業社製＃２４００Ｂ、
＃２３００、＃９００、＃１０００、＃３０、＃４０、
＃１０Ｂ、コンロンビアカーボン社製ＣＯＮＤＵＣＴＥ
Ｘ ＳＣ、ＲＡＶＥＮ １５０、５０、４０、１５など
が挙げられる。カーボンブラックを分散剤などで表面処
理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一
部をグラファイト化したものを使用しても構わない。ま
た、カーボンブラックを磁性塗料に添加する前にあらか
じめ結合剤で分散しても構わない。これらのカーボンブ
ラックは単独、または組合せで使用することができる。
カーボンブラックを使用する場合は強磁性粉末に対する
量の０．１〜３０重量％で用いることが好ましい。カー
ボンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係数低減、遮光
性付与、膜強度向上などの働きがあり、これらは用いる
カーボンブラックにより異なる。従って本発明に使用さ
れるこれらのカーボンブラックは上層磁性層、下層非磁
性層でその種類、量、組合せを変え、粒子サイズ、吸油
量、電導度、ｐＨなどの先に示した諸特性をもとに目的
に応じて使い分けることはもちろん可能である。本発明
の磁性層で使用できるカーボンブラックは例えば「カー
ボンブラック便覧（カーボンブラック協会編）」を参考
にすることができる。

【００５１】本発明に用いられる研磨剤としてはα化率
９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ
素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダ
ム、人造ダイアモンド、窒化珪素、チタンカーバイト、
酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素、など主としてモ
ース硬度６以上の公知の材料が単独または組合せで使用
される。また、これらの研磨剤どうしの複合体（研磨剤
を他の研磨剤で表面処理したもの）を使用してもよい。
これらの研磨剤には主成分以外の化合物または元素が含
まれる場合もあるが主成分が９０重量％以上であれば効
果に変わりはない。これら研磨剤の粒子サイズは０．０
１〜２μｍが好ましいが、必要に応じて粒子サイズの異
なる研磨剤を組み合わせたり、単独の研磨剤でも粒径分
布を広くして同様の効果をもたせることもできる。タッ
プ密度は０．３〜２ｇ／ｍｌ、含水率は０．１〜５重量
％、ｐＨは２〜１１、比表面積は１〜３０ｍ²／ｇ、が
好ましい。本発明に用いられる研磨剤の形状は針状、球
状、サイコロ状、のいずれでも良いが、形状の一部に角
を有するものが研磨性が高く好ましい。本発明に用いら
れる研磨剤の具体的な例としては、住友化学社製ＡＫＰ
−２０、ＡＫＰ−３０、ＡＫＰ−５０、ＨＩＴ−５０、
ＨＩＴ−１００、日本化学工業社製Ｇ５、Ｇ７、Ｓ−
１、戸田工業社製ＴＦ−１００、ＴＦ−１４０などが挙
げられる。本発明に用いられる研磨剤は磁性層（上下
層）、非磁性層で種類、量および組合せを変え、目的に
応じて使い分けることはもちろん可能である。これらの
研磨剤はあらかじめ結合剤で分散処理したのち磁性塗料
中に添加しても構わない。本発明の磁気記録媒体の磁性
層表面および磁性層端面に存在する研磨剤は５個／１０
０μｍ ²以上が好ましい。

【００５２】本発明に使用される、添加剤としては潤滑
効果、帯電防止効果、分散効果、可塑効果、などをもつ
ものが使用される。二硫化モリブデン、二硫化タングス
テングラファイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコー
ンオイル、極性基をもつシリコーン、脂肪酸変性シリコ
ーン、フッ素含有シリコーン、フッ素含有アルコール、
フッ素含有エステル、ポリオレフィン、ポリグリコー
ル、アルキル燐酸エステルおよびそのアルカリ金属
塩、、アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属
塩、ポリフェニルエーテル、フッ素含有アルキル硫酸エ
ステルおよびそのアルカリ金属塩、炭素数１０〜２４の
一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐して
いても構わない）、および、これらの金属塩（Ｌｉ、Ｎ
ａ、Ｋ、Ｃｕなど）または、炭素数１２〜２２の一価、
二価、三価、四価、五価、六価アルコール（不飽和結合
を含んでも、また分岐していても構わない）、炭素数１
２〜２２のアルコキシアルコール、炭素数１０〜２４の
一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐して
いても構わない）と炭素数２〜１２の一価、二価、三
価、四価、五価、六価アルコールのいずれか一つ（不飽
和結合を含んでも、また分岐していても構わない）とか
らなるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エステルまた
はトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキシド重合物のモ
ノアルキルエーテルの脂肪酸エステル、炭素数８〜２２
の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪族アミン、など
が使用できる。

【００５３】これらの具体例としてはラウリン酸、ミリ
スチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、ス
テアリン酸ブチル、オレイン酸、リノール酸、リノレン
酸、エライジン酸、ステアリン酸オクチル、ステアリン
酸アミル、ステアリン酸イソオクチル、ミリスチン酸オ
クチル、ステアリン酸ブトキシエチル、アンヒドロソル
ビタンモノステアレート、アンヒドロソルビタンジステ
アレート 、アンヒドロソルビタントリステアレート、
オレイルアルコール、ラウリルアルコール、が挙げられ
る。また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グ
リシドール系、アルキルフェノールエチレンオキサイド
付加体、等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステ
ルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導
体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類、等
のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン酸、
燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、などの酸性基
を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホ
ン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル
類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤等も使用
できる。

【００５４】これらの界面活性剤については、「界面活
性剤便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載され
ている。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１０
０％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副
反応物、分解物、酸化物 等の不純分がふくまれてもか
まわない。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さ
らに好ましくは１０％以下である。

【００５５】本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面
活性剤は非磁性層、磁性層でその種類、量を必要に応じ
使い分けることができる。例えば、非磁性層、磁性層で
融点の異なる脂肪酸を用い表面へのにじみ出しを制御す
る、沸点や極性の異なるエステル類を用い表面へのにじ
み出しを制御する、界面活性剤量を調節することで塗布
の安定性を向上させる、潤滑剤の添加量を非磁性層で多
くして潤滑効果を向上させるなどが考えられ、無論ここ
に示した例のみに限られるものではない。また本発明で
用いられる添加剤のすべてまたはその一部は、磁性塗料
製造のどの工程で添加しても構わない。例えば、混練工
程前に強磁性粉末と混合する場合、強磁性粉末と結合剤
と溶剤による混練工程で添加する場合、分散工程で添加
する場合、分散後に添加する場合、塗布直前に添加する
場合などがある。また、目的に応じて磁性層を塗布した
後、同時または逐次塗布で、添加剤の一部または全部を
塗布することにより目的が達成される場合がある。ま
た、目的によってはカレンダーした後、またはスリット
終了後、磁性層表面に潤滑剤を塗布することもできる。

【００５６】本発明で使用されるこれら潤滑剤の商品例
としては、日本油脂社製ＮＡＡ−１０２、ＮＡＡ−４１
５、ＮＡＡ−３１２、ＮＡＡ−１６０、ＮＡＡ−１８
０、ＮＡＡ−１７４、ＮＡＡ−１７５、ＮＡＡ−２２
２、ＮＡＡ−３４、ＮＡＡ−３５、ＮＡＡ−１７１、Ｎ
ＡＡ−１２２、ＮＡＡ−１４２、ＮＡＡ−１６０、ＮＡ
Ａ−１７３Ｋ、ヒマシ硬化脂肪酸、ＮＡＡ−４２，ＮＡ
Ａ−４４、カチオンＳＡ、カチオンＭＡ、カチオンＡ
Ｂ、カチオンＢＢ、ナイミーンＬ−２０１、ナイミーン
Ｌ−２０２、ナイミーンＳ−２０２、ノニオンＥ−２０
８、ノニオンＰ−２０８、ノニオンＳ−２０７、ノニオ
ンＫ−２０４、ノニオンＮＳ−２０２、ノニオンＮＳ−
２１０、ノニオンＨＳ−２０６、ノニオンＬ−２、ノニ
オンＳ−２、ノニオンＳ−４、ノニオンＯ−２、ノニオ
ンＬＰ−２０Ｒ、ノニオンＰＰ−４０Ｒ、ノニオンＳＰ
−６０Ｒ、ノニオンＯＰ−８０Ｒ、ノニオンＯＰ−８５
Ｒ、ノニオンＬＴ−２２１、ノニオンＳＴ−２２１、ノ
ニオンＯＴ−２２１、モノグリＭＢ、ノニオンＤＳ−６
０、アノンＢＦ、アノンＬＧ、ブチルステアレート、ブ
チルラウレート、エルカ酸、関東化学社製オレイン酸、
竹本油脂社製ＦＡＬ−２０５、ＦＡＬ−１２３、新日本
理化社製エヌジェルブＬＯ、エヌジェルブＩＰＭ、サン
ソサイザーＥ４０３０、信越化学社製ＴＡ−３、ＫＦ−
９６、ＫＦ−９６Ｌ、ＫＦ９６Ｈ、ＫＦ４１０、ＫＦ４
２０、ＫＦ９６５、ＫＦ５４、ＫＦ５０、ＫＦ５６、Ｋ
Ｆ９０７、ＫＦ８５１、Ｘ−２２−８１９、Ｘ−２２−
８２２、ＫＦ９０５、ＫＦ７００、ＫＦ３９３、ＫＦ−
８５７、ＫＦ−８６０、ＫＦ−８６５、Ｘ−２２−９８
０、ＫＦ−１０１、ＫＦ−１０２、ＫＦ−１０３、Ｘ−
２２−３７１０、Ｘ−２２−３７１５、ＫＦ−９１０、
ＫＦ−３９３５、ライオンアーマー社製アーマイドＰ、
アーマイドＣ、アーモスリップＣＰ、ライオン油脂社製
デユオミンＴＤＯ、日清製油社製ＢＡ−４１Ｇ、三洋化
成社製プロファン２０１２Ｅ、ニューポールＰＥ６１、
イオネットＭＳ−４００、イオネットＭＯ−２００、イ
オネットＤＬ−２００、イオネットＤＳ−３００、イオ
ネットＤＳ−１０００、イオネットＤＯ−２００などが
挙げられる。

【００５７】本発明で用いられる有機溶媒は任意の比率
でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホ
ロン、テトラヒドロフラン、等のケトン類、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソブチ
ルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルシクロ
ヘキサノール、などのアルコール類、酢酸メチル、酢酸
ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチ
ル、酢酸グリコール等のエステル類、グリコールジメチ
ルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサ
ン、などのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン、などの芳
香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロラ
イド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒド
リン、ジクロルベンゼン、等の塩素化炭化水素類、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン等のものが使用で
きる。これら有機溶媒は必ずしも１００％純粋ではな
く、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解
物、酸化物、水分等の不純分が含まれても構わない。こ
れらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに好ましく
は１０％以下である。本発明で用いる有機溶媒は磁性層
と非磁性層でその種類は同じであることが好ましい。そ
の添加量は変えてもかまわない。非磁性層に表面張力の
高い溶媒（シクロヘキサノン、ジオキサンなど）を用い
塗布の安定性をあげる、具体的には上層溶剤組成の算術
平均値が下層溶剤組成の算術平均値を下回らないことが
肝要である。分散性を向上させるためにはある程度極性
が強い方が好ましく、溶剤組成の内、誘電率が１５以上
の溶剤が５０％以上含まれることが好ましい。また、溶
解パラメータは８〜１１であることが好ましい。

【００５８】本発明の磁気記録媒体の厚み構成は非磁性
可撓性支持体が１〜１００μｍ、好ましくは４〜８０μ
ｍ。磁性層と非磁性層を合わせた厚みは非磁性可撓性支
持体の厚みの１／１００〜２倍の範囲で用いられる。ま
た、非磁性可撓性支持体と非磁性層の間に密着性向上の
ための下塗り層を設けても構わない。本下塗層厚みは
０．０１〜２μｍ、好まししくは０．０２〜０．５μｍ
である。また、非磁性支持体の磁性層側と反対側にバッ
クコート層を設けても構わない。この厚みは０．１〜２
μｍ、好ましくは０．３〜１．０μｍである。これらの
下塗層、バックコート層は公知のものが使用できる。

【００５９】本発明に用いられる非磁性可撓性支持体は
ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレー
ト等のポリエステル類、ポリオレフィン類、セルロース
トリアセテート、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリ
イミド、ポリアミドイミド、ポリスルフォン、アラミ
ド、芳香族ホ゜リアミト゛などの公知のフィルムが使用でき
る。これらの支持体にはあらかじめコロナ放電処理、プ
ラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理、などをお
こなっても良い。本発明の目的を達成するには、非磁性
可撓性支持体として中心線平均表面粗さ（カットオフ値
０．２５ｍｍ）が０．０３μｍ以下、好ましくは０．０
２μｍ以下、さらに好ましくは０．０１μｍ以下のもの
を使用する必要がある。また、これらの非磁性支持体は
単に中心線平均表面粗さが小さいだけではなく、１μｍ
以上の粗大突起がないことが好ましい。また表面の粗さ
形状は必要に応じて支持体に添加されるフィラーの大き
さと量により自由にコントロールされるものである。こ
れらのフィラーとしては一例としてはＣａ，Ｓｉ、Ｔｉ
などの酸化物や炭酸塩の他、アクリル系などの有機微粉
末が挙げられる。本発明に用いられる非磁性支持体のテ
ープ走行方向のＦ−５値は好ましくは0.049〜0.49GPa
（５〜５０ｋｇ／ｍｍ²）、テープ幅方向のＦ−５値は
好ましくは０．０２９４〜０．２９４GPa（３〜３０ｋ
ｇ／ｍｍ²）であり、テープ長手方向のＦ−５値がテー
プ幅方向のＦ−５値より高いのが一般的であるが、特に
幅方向の強度を高くする必要があるときはその限りでな
い。

【００６０】また、支持体のテープ走行方向および幅方
向の１００℃、３０分での熱収縮率は好ましくは３％以
下、さらに好ましくは１．５％以下、８０℃、３０分で
の熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは
０．５％以下である。破断強度は両方向とも0.049〜0.9
8GPa（５〜１００ｋｇ／ｍｍ²）、弾性率は0.98〜19.6G
Pa（１００〜２０００ｋｇ／ｍｍ²）、が好ましい。

【００６１】本発明の磁気記録媒体の磁性塗料を製造す
る工程は、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれ
らの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程からな
る。個々の工程はそれぞれ２段階以上にわかれていても
構わない。本発明においては強磁性粉末と結合剤とを主
体とした磁性液と該非磁性粉体と結合剤とを主体とした
非磁性液を別々に混練・分散し、混合することが好まし
い。走行耐久性確保の観点で添加する粒径60nm以上のカ
ーボンブラック、研磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤な
どの原料はどの工程の最初または途中で添加してもかま
わない。

【００６２】本発明の目的を達成するためには、従来の
公知の製造技術を一部の工程として用いることができる
ことはもちろんであるが、混練工程では連続ニーダや加
圧ニーダなど強い混練力をもつものを使用することによ
り初めて本発明の磁気記録媒体の高い残留磁束密度（Ｂ
ｒ）を得ることができた。連続ニーダまたは加圧ニーダ
を用いる場合は強磁性粉末と結合剤のすべてまたはその
一部（ただし全結合剤の３０％以上が好ましい）および
強磁性粉末１００重量部に対し１５〜５００重量部の範
囲で混練処理される。これらの混練処理の詳細について
は特開平１−１０６３３８号公報、特開昭６４−７９２
７４号公報に記載されている。また、下層非磁性層液を
調整する場合には高比重の分散メディアを用いることが
望ましく、ジルコニアビーズが好適である。

【００６３】本発明のような重層構成の磁気記録媒体を
塗布する装置、方法の例として以下のような構成を提案
できる。 １，磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗
布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルーシ゛ョン塗布装置等
により、まず下層を塗布し、下層がウェット状態のうち
に特公平1-46186号公報や特開昭60-238179号公報、特開
平2-265672号公報に開示されている支持体加圧型エクストルー
シ゛ョン塗布装置により上層を塗布する。 ２，特開昭63-88080号公報、特開平2-17971号公報、特開
平2-265672号公報に開示されているような塗布液通液ス
リットを二つ内蔵する一つの塗布ヘッドにより上下層を
ほぼ同時に塗布する。 ３，特開平2-174965号公報に開示されているハ゛ックアッフ゜ロー
ル付きエクストルーシ゛ョン塗布装置により上下層をほぼ同時に塗
布する。

【００６４】なお、磁性粒子の凝集による磁気記録媒体
の電磁変換特性等の低下を防止するため、特開昭62-951
74号公報や特開平1-236968号公報に開示されているよう
な方法により塗布ヘッド内部の塗布液にせん断を付与す
ることが望ましい。さらに、塗布液の粘度については、
特開平3-8471号公報に開示されている数値範囲を満足す
る必要がある。本発明の磁気記録媒体を得るためには以
下の範囲の配向強度を与えることが好ましい。配向磁場
強度Ｈは磁性体Hcの0.4倍以上1.5倍以下、好ましくは、
0.5倍以上1.2倍以下である。ソレノイドとコバルト磁石
を同極対向で併用することが好ましい。コバルト磁石を
同極対向単独で使用する場合は設置位置を磁性層の乾燥
がある程度進んで、流動性がなくなる直前の位置に設定
することが好ましい。ディスク媒体として本発明を適用
する場合はむしろ配向をランダマイズするような配向法
が必要であるが配向磁場強度Ｈは上記範囲であることが
好ましい。

【００６５】さらに、カレンダ処理ロールとしてエポキ
シ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐
熱性のあるプラスチックロールを使用する。また、金属
ロール同志で処理することも出来る。処理温度は、好ま
しくは７０℃以上、さらに好ましくは８０℃以上であ
る。線圧力は好ましくは２００ｋｇ／ｃｍ、さらに好ま
しくは３００ｋｇ／ｃｍ以上である。本発明の磁気記録
媒体の磁性層面およびその反対面のＳＵＳ４２０Ｊに対
する摩擦係数は好ましくは０．５以下、さらに０．３以
下、表面固有抵抗は好ましくは１０⁴〜１０¹²オーム／
ｓｑ、磁性層の０．５％伸びでの弾性率は走行方向、幅
方向とも好ましくは０．９８〜１９．６ＧＰａ（１００
〜２０００ｋｇ／ｍｍ²）、破断強度は好ましくは０．
００９８〜０．２９GPa（１〜３０ｋｇ／ｍｍ²）、磁気
記録媒体の弾性率は走行方向、長手方向とも好ましくは
0.98〜14.7GPa（１００〜１５００ｋｇ／ｍｍ²）、残留
のびは好ましくは０．５％以下、１００℃以下のあらゆ
る温度での熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ま
しくは０．５％以下、もっとも好ましくは０．１％以下
である。磁性層のガラス転移温度(110Hzで測定した動的
粘弾性測定の損失弾性率の極大点)は５０℃以上１２０
℃以下が好ましく、下層非磁性層のそれは０℃〜１００
℃が好ましい。損失弾性率は１×１０³〜８×１０⁴ N/c
m²（１×１０⁸〜８×１０⁹dyne/cm²）の範囲にあること
が好ましく、損失正接は０．２以下であることが好まし
い。損失正接が大きすぎると粘着故障が出やすい。

【００６６】磁性層中に含まれる残留溶媒は好ましくは
１００ｍｇ／ｍ2以下、さらに好ましくは１０ｍｇ／ｍ²
以下であり、第二層に含まれる残留溶媒が第一層に含ま
れる残留溶媒より少ないほうが好ましい。磁性層が有す
る空隙率は非磁性下層、磁性層とも好ましくは３０容量
％以下、さらに好ましくは２０容量％以下である。空隙
率は高出力を果たすためには小さい方が好ましいが、目
的によってはある値を確保した方が良い場合がある。例
えば、繰り返し用途が重視されるデータ記録用磁気記録
媒体では空隙率が大きい方が走行耐久性は好ましいこと
が多い。本発明の磁気記録媒体の磁気特性は磁場３９８
ｋＡ／ｍ（５ｋＯｅ）で測定した場合、テープ走行方向
の角形比は０．７０以上であり、好ましくは０．８０以
上さらに好ましくは０．９０以上である。テープ走行方
向に直角な二つの方向の角型比は走行方向の角型比の８
０％以下となることが好ましい。磁性層のＳＦＤ（Swit
ching Field Distribution）は０．６以下であること
が好ましい。磁性層の中心線表面粗さ（カットオフ値
０．２５ｍｍ）Ｒａは１ｎｍ〜１０ｎｍが好ましいが、
その値は目的により適宜設定されるべきである。電磁変
換特性を良好にする為にはＲａは小さいほど好ましい
が、走行耐久性を良好にするためには逆に大きいほど好
ましい。ＡＦＭ（Atomic Force Micro Scope）によ
る評価で求めたＲＭＳ（２乗平均）表面粗さＲ_RMSは２
ｎｍ〜１５ｎｍの範囲にあることが好ましい。

【００６７】本発明の磁気記録媒体は下層非磁性層と上
層磁性層を有するが、目的に応じ非磁性層と磁性層でこ
れらの物理特性を変えることができるのは容易に推定さ
れることである。例えば、磁性層の弾性率を高くし走行
耐久性を向上させると同時に非磁性層の弾性率を磁性層
より低くして磁気記録媒体のヘッドへの当りを良くする
などである。２層以上の磁性層にそれぞれどのような物
理特性をもたらすかは、公知の磁性層重層に関する技術
を参考にすることができる。例えば上層磁性層のＨｃを
下層のＨｃより高くすることは特公昭３７−２２１８号
公報、特開昭５８−５６２２８号公報等を初め多くの発
明があるが、本発明のように磁性層を薄層にすることに
より、より高いＨｃの磁性層でも記録が可能になる。

【００６８】

【実施例】次に本発明の詳細な内容を実施例によって具
体的に説明する。実施例中「部」との表示は「重量部」
を意味する。 非磁性層 非磁性粉体 α−Ｆｅ₂Ｏ₃ ８０部 平均長軸長 ０．１μｍ BET法による比表面積 ４８ｍ²／ｇ ｐＨ ８ Ｆｅ₂Ｏ₃含有量 90%以上 DBP吸油量 27〜38ml/100g 表面処理剤 Al₂O₃ カーボンブラック ２０部 平均一次粒子径 １６ｎｍ ＤＢＰ吸油量 ８０ml/100g ｐＨ ８．０ ＢＥＴ法による比表面積 ２５０m²/g 揮発分 １．５％ フェニルフォスホン酸 ３部 塩化ビニル共重合体 ８部 日本セ゛オン社製MR-110 ポリエステルポリウレタン樹脂 ４部 ネオヘ゜ンチルク゛リコール/カフ゜ロラクトンホ゜リオール/MDI (4,4'-diphenylmethane-diisocyanate)=０．９／２．６／１ -SO₃Na基 １×１０^-4eq/g含有、Ｔｇ ６５℃ ブチルステアレート １部 ステアリン酸 １部 メチルエチルケトン １００部 シクロヘキサノン ５０部 トルエン ５０部

【００６９】 磁性層 強磁性金属微粉末 (表1及び２参照) １００部 非磁性粉末Ｘ (表1及び２参照) 表１及び２参照 フェニルフォスホン酸 ５部 塩化ビニル共重合体 ６部 日本セ゛オン社製MR-110 ポリエステルポリウレタン樹脂 １２部 ネオヘ゜ンチルク゛リコール/カフ゜ロラクトンホ゜リオール/MDI (4,4'-diphenylmethane-diisocyanate)=０．９／２．６／１ -SO₃Na基 １×１０^-4eq/g含有、Ｔｇ６５℃ α−アルミナ（粒子サイズ０．１８μｍ） １０部 カーボンブラック（粒子サイズ０．０９μｍ） ６部 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 １部 メチルエチルケトン １２０部 シクロヘキサノン １２０部

【００７０】上記非磁性層の塗料は、各成分を連続ニー
ダで混練したのち、サンドミルを用いてシ゛ルコニアヒ゛ース゛で
分散させた。得られた分散液にポリイソシアネートを４
部加えた。磁性層は非磁性粉体Ｘと塩化ビニル共重合体
とメチルエチルケトン60部、シクロヘキサノン60部を除
く成分をオーフ゜ンニータ゛ーで混練したのちサンドミルを用いて
シ゛ルコニアヒ゛ース゛1mmφで1.5時間分散させた。また前記残り
の成分を別に混練し、0.3mmφのシ゛ルコニアヒ゛ース゛で６時間分
散させ濾過した後、分散済みの磁性塗料と混合し、シルコニ
アヒ゛ース゛1mmφで0.5時間分散して磁性液を作製した。前記
非磁性層と磁性層の分散液にさらにそれぞれにメチルエ
チルケトン、シクロヘキサノン混合溶媒４０部を加え、
１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、非磁
性層、磁性層形成用の塗布液をそれぞれ調製した。得ら
れた非磁性層塗布液を、乾燥後の厚さが1.5μｍになる
ようにさらにその直後にその上に磁性層の厚さが０.08
μｍになるように厚さ5.2μｍで中心線表面粗さ（カッ
トオフ値０．２５ｍｍ）が０．０１μｍのポリエチレン
ナフタレート支持体上に同時重層塗布を行い、両層がま
だ湿潤状態にあるうちに２５０ｍＴ（２５００Ｇ）の永
久磁石と１５０ｍＴ（１５００Ｇ）のソレノイドにて長
手方向に配向させ乾燥後、金属ロールのみから構成され
る７段のカレンダで温度８０℃、線圧350kg/cmで速度50
m/分にて処理を行い、カレンタ゛処理後に6.35mmにスリットしてテ
ーフ゜を作成した。

【００７１】評価方法 （１）出力、ＣＮＲはドラムテスターを用いて測定し
た。相対速度は10.5m/secとした。使用したヘット゛は記録ヘ
ット゛がBsが1.2T、キ゛ャッフ゜長が0.22μm、トラック幅18μmのMIG
ヘット゛で記録波長0.5μmの単一周波数(21MHz)の信号を最
適記録電流で記録した。再生はトラック幅6μm、シールト゛間キ゛ャッ
フ゜長0.2μmのSALハ゛イアス方式のA-MRヘット゛を用いた。再生信
号はシハ゛ソク製スヘ゜クトラムアナライサ゛ーを用いて周波数分析を行い、
21ＭHzの出力とＤＣイレース後のノイス゛レヘ゛ル及び23MHzのノ
イス゛レヘ゛ルの比をCNR及び近傍CNRとした。 （２）磁気的ピンホール(磁気現像ヌケ) 上記記録ヘット゛を使い、波長0.5μmで記録したテーフ゜上に、平
均粒径0.02μmのフェリコロイト゛の溶液を塗布乾燥させ、電子
顕微鏡(SEM)で5万倍の任意の10視野(1視野の面積は2.1
μm×1.7μm=3.57μm)の写真を撮り、フェリコロイト゛粒子が乗
っていない面積を計測した。上記磁気現像ヌケ調査面積
(35.7μm²)における最大磁気現像ヌケ面積s_maxと磁気現像
ヌケの総面積Ｓを求めた。ヒ゛ット面積当たりの最大磁気現像
ヌケ面積の比率は上記測定での最大磁気現像ヌケ面積s_maxを
ヒ゛ット面積(本発明ではヒ゛ット長0.25μm×6μm=1.5μm²)で
割って求めた。磁気現像ヌケの調査面積は、ヒ゛ット面積の20
倍以上確保することが精度向上の観点から好ましい。 （３）Ｈc、Br、SQ 振動試料型磁束計（東英工業製）を用い、Ｈｍ796kA/m
（１０kOe）で測定した。 （４）レマネンス測定サンフ゜ル をAC消磁した後、上記磁束計（Ｈｍ796kA/m（１０
ｋOe））にて、交流・直流消磁レマネンスを測定した。
交流消磁状態から磁性粒子の50%を反転させる磁界Ｈ0.5
と飽和磁化での交流消磁レマネンスＭｒ(s)をゼロにす
る磁界Hrについて、△Ｈr＝Ｈ0.5−Ｈｒを磁気的相互作
用の指標とした。△Hrが0になると磁気的相互作用がな
いとことを示す。△Ｈr＞0は、印可磁場により減磁する
ように磁性粒子間の磁気的結合が生じる。△Hrが小さい
程、磁気的相互作用が小さいことを示す。 （５）磁性体体積充填率 磁性層組成成分のうち、溶剤以外の重量と比重（下記）
から不揮発分の総体積を算出する。また、窒素吸着法に
よって磁性層の空隙率を求めて、前記不揮発分の体積と
合わせ計算にて磁性体体積充填率を求める。 磁性体体積充填率＝磁性体体積／[不揮発分総体積／
｛(100-空隙率)/100｝]×100 （６）該非磁性粉体／磁性体体積比率 上記と同じように磁性層組成成分のうち、重量と比重
（下記）から該非磁性粉体の体積と磁性体の体積を算出
し、体積比率を求めた。 （７）厚み測定 サンプルテープを長手方向に約０．１μmの厚みにタ゛イヤモ
ント゛カッターで切り出し、透過型電子顕微鏡で倍率１０００
００倍で観測・撮影して磁性層表面、磁性層／非磁性層
界面に線を引きZeiss社製画像処理装置ＩＢＡＳ２で測
定した。測定長が２１cmの場合８５〜３００回計測し平
均値δと標準偏差σを算出した。 （８）Ra：テ゛シ゛タルオフ゜チカルフ゜ロフィーメター(WYKO製)を用いた光
干渉法により、カットオフ0.25mmの条件で中心線平均粗さRa
を計測した。PSD(Power Spectrum Density):同測定機を
使い、サンフ゜リンク゛間隔と高さの2乗を掛け合わせて算出。
単位はnm³。サンフ゜リンク゛間隔10μmについてPSDを求めた （９）AFM表面突起：デジタルインスツルメンツ社ナノ
スコープ3装置を使用し、稜角70度・SiN製の四角錐を探
針で、30μm平方角の表面粗さを測定する。基準面からの
高さが20nm以上の表面突起高さの突起個数をカウントし
た。

【００７２】

【表１】

【００７３】

【表２】

【００７４】実施例・比較例の説明 比較例１は、微粒子強磁性金属粉末を使用し、本発明の
非磁性粉末を含有していない例であり、これを評価の基
準にした。比較例2は、特開平11−73640号公報に記載の
発明の再現例。但し、公報には、磁性層中のαFe₂O₃の形
状・サイス゛の開示が無いので、長軸長240nm、短軸長40nmの
α-Fe₂O₃を比較例1の磁性層に添加した。磁性液作製に
おいて、非磁性粉末を磁性体と同時混練、同時分散し、
塗布後の配向で2極対抗磁石の強度を478kA/mをかけた
後、ソレノイト゛による磁場強度を119kA/mかけてサンフ゜ル作製し
た。比較例1に比べて、磁気的相互作用が低減するが、
磁気的ヒ゜ンホールの最大面積が大きくなる。又、SQが低下
し、磁性層厚みの標準偏差が大きくなるとともに10μm-P
SDの長波長の表面粗さが増大した。CNR、近傍CNRともに
低下するが、特に近傍CNRの低下が著しい。実施例1 〜
５は、本発明の実施例である。実施例1は、磁性層の平
均厚みδが0.08μmであり、強磁性金属粉末の平均長軸
長ljが60nmであり、平均短軸長lmが13 nm未満であり、
比(lh/lm)が0.69であり、磁気現像ヌケ(ヒ゜ンホール)の最大面
積Ｋがヒ゛ット面積の8%である。その結果、ΔＨｒは低減
し、ＣＮＲ及び近傍ＣＮＲは共に向上した。実施例2
は、磁性層の平均厚みδが0.08μmであり、強磁性金属
粉末の平均長軸長ljが60nmであり、平均短軸長lmが13 n
m未満であり、比(lh/lm)が0.69であり、磁気現像ヌケ(ヒ゜ン
ホール)の最大面積Ｋがヒ゛ット面積の5.3%である。さらに実施
例2は、実施例1よりも非磁性粉体の体積比率を下げた例
である。その結果、比較例１に対して、ＣＮＲ及び近傍
ＣＮＲが向上した。但し、実施例１よりは、ΔＨｒ、Ｃ
ＮＲ及び近傍ＣＮＲの改善効果は多少低下した。実施例
3は、磁性層の平均厚みδが0.08μmであり、強磁性金属
粉末の平均長軸長ljが60nmであり、平均短軸長lmが13 n
m未満であり、比(lh/lm)が0.77であり、磁気現像ヌケ(ヒ゜ン
ホール)の最大面積Ｋがヒ゛ット面積の4%である。さらに実施例
3は、粒状の非磁性粉体を使用し、実施例1よりも非磁性
粉体の体積比率を下げた例である。実施例３は、実施例
２よりは非磁性粉体の体積比率が高い例である。その結
果、比較例１に対してΔＨｒが低減し、ＣＮＲ及び近傍
ＣＮＲが向上した。ΔＨｒ、ＣＮＲ及び近傍ＣＮＲの改
善効果は、実施例１より低いが、実施例２よりは高かっ
た。実施例4は、磁性層の平均厚みδが0.08μmであり、
強磁性金属粉末の平均長軸長ljが60nmであり、平均短軸
長lmが13 nm未満であり、比(lh/lm)が0.77であり、磁気
現像ヌケ(ヒ゜ンホール)の最大面積Ｋがヒ゛ット面積の8%である。さ
らに実施例4は、非磁性粉体をジルコニアに代え、かつ
実施例1よりも非磁性粉体の体積比率を下げた例であ
る。その結果、比較例１に対してΔＨｒが低減し、ＣＮ
Ｒ及び近傍ＣＮＲが向上した。実施例３に対して、非磁
性粉体の体積比率が低いが、ΔＨｒが低減し、ＣＮＲ及
び近傍ＣＮＲは向上した。実施例５は、実施例３に対し
て非磁性粉体の粒径を大きくし、比（lh/lm）を２．３
１に上げた例である。比較例１に対して、ΔHrが低減
し、CNR及び近傍CNRが向上した。実施例３に対しては、
ΔHrが低減するが、近傍CNRも低下した。比較例3は、実
施例1の磁性液に対して、磁性体(長軸長110nm,短軸長20
nm、Hcが195kA/m（2450Oe）、σsが155Am²/kgの強磁性金
属粉末)を置き換えて、磁性液の調液条件と塗布後の配
向条件を比較例2で作製した例である。実施例1に比べて
磁気的相互作用が増大するとともに,磁気的ピンホール
の最大面積も大きくなる。その結果、CNR、近傍CNRの著
しい低下が確認された。比較例４は、実施例4の磁性液
に対して,非磁性粉体Xの添加量を増やし,比較例2と同じ
調液条件と配向条件で作製したもので、磁気的ピンホー
ルの最大面積／ヒ゛ット面積比率が本発明の範囲を超える例
である。比較例1に比べて、10μm-PSDの長波長の表面粗
さや磁気的相互作用が低減するが、CNR、近傍CNRが低下
する。特に近傍CNRの低下が著しい。

【００７５】

【発明の効果】本発明によれば、ＭＲヘッドに於ける電
磁変換特性が良好で、かつ生産性に優れた磁気記録媒体
を提供することができる。特に本発明によれば、短記録
波長の記録再生性能、歩留まりの優れた磁気記録媒体を
提供することができる。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】非磁性可撓性支持体上に非磁性粉末と結合
   剤とを含む非磁性層及び強磁性金属粉末と結合剤と非磁
   性粉末とを含む磁性層をこの順に設けた磁気記録媒体で
   あって、 前記磁性層の平均厚みδが0.01〜0.2μmであり、前記強
   磁性金属粉末は平均長軸長ljが100nm未満であり、平均
   短軸長lmが20 nm未満であり、前記磁性層に含まれる非
   磁性粉末は粒状または針状の非磁性粉末であり、該非磁
   性粉末の平均粒径または短軸長lhと前記平均短軸長lmと
   の比(lh/lm)が0.2を超え、2.5以下であり、かつ、磁気
   現像ヌケ(ヒ゜ンホール)の最大面積Ｋがヒ゛ット面積の50%以下であ
   ることを特徴とする磁気記録媒体。
2. 【請求項２】非磁性粉末と結合剤とを含む非磁性層用塗
   布液及び強磁性金属粉末と結合剤と非磁性粉末とを含む
   磁性層用塗布液を非磁性可撓性支持体上にこの順に塗布
   することを含む請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方
   法であって、 前記強磁性金属粉末と前記結合剤とを含む液及び前記非
   磁性粉末と前記結合剤とを含む液とを、前記強磁性金属
   粉末及び前記非磁性粉末の分散性が最適化するまで、独
   立に混練・分散し、得られた2つの液を塗布直前に混合
   ・分散して前記磁性層用塗布液を得ることを特徴とする
   製造方法。