JP2002165126A - 撮像装置及び撮像システム、並びに撮像方法 - Google Patents
撮像装置及び撮像システム、並びに撮像方法Info
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Links
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 title claims abstract description 226
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 206
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 182
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 129
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 claims abstract description 101
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims abstract description 94
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 claims abstract description 84
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 26
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims description 15
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 8
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 69
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 48
- 230000006870 function Effects 0.000 description 38
- 238000000034 method Methods 0.000 description 22
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 19
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 12
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 11
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 9
- 238000005315 distribution function Methods 0.000 description 8
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 5
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 5
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 4
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 4
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 4
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 4
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 2
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- -1 silver halide Chemical class 0.000 description 2
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000013144 data compression Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 238000005375 photometry Methods 0.000 description 1
- 230000011514 reflex Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/28—Systems for automatic generation of focusing signals
- G02B7/34—Systems for automatic generation of focusing signals using different areas in a pupil plane
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N23/00—Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof
- H04N23/60—Control of cameras or camera modules
- H04N23/67—Focus control based on electronic image sensor signals
- H04N23/672—Focus control based on electronic image sensor signals based on the phase difference signals
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F39/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one element covered by group H10F30/00, e.g. radiation detectors comprising photodiode arrays
- H10F39/10—Integrated devices
- H10F39/12—Image sensors
- H10F39/18—Complementary metal-oxide-semiconductor [CMOS] image sensors; Photodiode array image sensors
- H10F39/182—Colour image sensors
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F39/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one element covered by group H10F30/00, e.g. radiation detectors comprising photodiode arrays
- H10F39/80—Constructional details of image sensors
- H10F39/803—Pixels having integrated switching, control, storage or amplification elements
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F39/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one element covered by group H10F30/00, e.g. radiation detectors comprising photodiode arrays
- H10F39/80—Constructional details of image sensors
- H10F39/805—Coatings
- H10F39/8053—Colour filters
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F39/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one element covered by group H10F30/00, e.g. radiation detectors comprising photodiode arrays
- H10F39/80—Constructional details of image sensors
- H10F39/806—Optical elements or arrangements associated with the image sensors
- H10F39/8063—Microlenses
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F39/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one element covered by group H10F30/00, e.g. radiation detectors comprising photodiode arrays
- H10F39/80—Constructional details of image sensors
- H10F39/806—Optical elements or arrangements associated with the image sensors
- H10F39/8067—Reflectors
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Automatic Focus Adjustment (AREA)
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- Color Television Image Signal Generators (AREA)
- Studio Devices (AREA)
Abstract
焦点検出が可能な撮像装置において、高精度で迅速な位
相差方式焦点検出を実現するとともに、画像の撮像にお
いても良質な画像信号を得ることができる撮像装置を提
供する。 【解決手段】 撮像素子100の画素部は、撮像光学系
の射出瞳上の異なる領域を通過した光束を光電変換する
第1及び第2の光電変換部101,102を備える。ま
た、光電変換部101,102は、焦点検出に用いられ
る撮像光学系のF数を基に所定の間隔を隔てて配置さ
れ、光電変換部101,102の間の領域において、第
1の光電変換部101による第1の感度分布と第2の光
電変換部102による第2の感度分布とが重複するよう
に構成される。
Description
光束を撮像素子にて光電変換し、画像信号を生成する撮
像装置、この撮像装置を含むデジタルカメラ、ビデオカ
メラ、銀塩カメラなどの撮像システム、及び撮像方法に
関するものである。
押下に応答して、CCDやCMOSセンサなどの固体撮像素子
に被写体像を所望の時間露光し、これより得られた1つ
の画面の静止画像を表す画像信号をデジタル信号に変換
して、YC処理などの所定の処理を施して、所定の形式の
画像信号を得る。撮像された画像を表すデジタルの画像
信号は、それぞれの画像毎に、半導体メモリに記憶され
る。記憶された画像信号は、随時読み出されて表示また
は印刷可能な信号に再生され、モニタなどに出力されて
表示される。
学系の焦点検出では撮像装置を利用したコントラスト検
出方式の焦点検出が行われており、一般に、このような
コントラスト検出方式の焦点検出においては、撮像光学
系の光軸上位置を僅かに移動させながらコントラストの
極値を求めていくために、合焦するまでの焦点調節にか
なりの時間を要するという問題がある。
カメラのなどに用いられている位相差検出方式の焦点検
出をデジタルカメラの撮像素子を利用して行う焦点検出
方法が提案されている。位相差検出方式の焦点検出では
デフォーカス量を求めることができるので、コントラス
ト検出方式に比して合焦するまでの時間を大幅に短縮す
ることができるという利点がある。このような焦点検出
方法の一例として、1対の光電変換部を2次元的に配列
したマイクロレンズアレイ毎に設け、このマイクロレン
ズによって、1対の光電変換部よりなる画素部を撮像光
学系の瞳に投影することで瞳を分離し、位相差式の焦点
検出を行う方法が提案されている。更に、この受光手段
として、1つのマイクロレンズ内における1対の光電変
換部出力信号の加算、非加算を画素部単位で任意に行う
ことのできる特開平9−46596号公報に記載の固体
撮像素子を用いた撮像装置が提案されている。
示す断面図である。同図において、124はP型ウェ
ル、125、126はゲート酸化膜、127、128は
ポリSi、129、130は完全空乏化できる濃度のn
層、131はn+ フローティングディフュージョン領域
(FD領域)、132、133は表面P+層である。F
D領域131は転送MOSトランジスタの構成要素であ
るポリSi127,128を介して第1及び第2の光電
変換部であるn層129、130と接続される。n層1
29及び130と表面P+層132及び133は埋め込
み型フォトダイオードとして光電変換部を形成し、この
構造により表面で発生する暗電流を抑制することができ
る。CFは特定の波長域の光を透過するカラーフィルタ
ー、μLは撮像光学系からの光束を効率的に第1及び第
2の光電変換部に導くためのマイクロレンズである。こ
のマイクロレンズμLのパワーは、撮像光学系の射出瞳
と各画素部内の一対の光電変換部が結像するように設定
されており、従って、第1及び第2の光電変換部でそれ
ぞれ射出瞳上の異なる領域を通過した光束を光電変換す
るよう構成されている。
による撮像光学系の射出瞳分離の様子は図40のように
なる。同図において、1は絞りSTが開放状態の場合
で、絞りSTの開口を後方レンズ群grp3、grp4
を通して見た虚像である。斜線部2は固体撮像素子10
0の第1の光電変換部に入射する光束が通過する射出瞳
上の第1の領域、斜線部3は固体撮像素子100の第2
の光電変換部に入射する光束が通過する射出瞳上の第2
の領域である。なお、第1の領域2と第2の領域2の間
にはわずかながら隙間4が存在するので、この領域を通
過した光束は第1及び第2の光電変換部の何れにも光電
変換されない。これは、図38に示すように、n層12
9及び130とP+層132及び133からなる埋め込
み型フォトダイオードの間にn+FD領域を設けている
ためで、この部分においては光電変換が行われない。
1光電変換部と第2光電変換部で発生した電荷を別々にF
D領域133へ転送でき、このFD領域133に接続し
た転送MOSトランジスタのタイミングだけで、2つの
光電変換部の信号電荷の加算、非加算を実現している。
従って、撮像時には第1及び第2の光電変換部の信号電
荷を加算して読み出すことにより、撮像光学系の射出瞳
全体の光束を光電変換する。
電変換部の信号電荷を独立に読み出すことで、撮像光学
系の射出瞳上の異なる領域を通過した光束をそれぞれ光
電変換している。ここで、いま撮像光学系の射出瞳は図
40に示すように第1の領域2と第2の領域3に分離さ
れているので、撮像光学系のデフォーカスにより物体像
の位相ずれが生じる方向は図中矢印Aで示す方向であ
る。従って、焦点検出時には固体撮像素子上に矢印Aで
示す方向を長手方向とする画素列を設定し、独立に読み
出した1対の信号電荷から1対の画像信号を生成するこ
とで、物体像の位相ずれを検出することができる。な
お、位相ずれの検出には公知の相関演算などを用いれば
よい。以上のような構成で、固体撮像素子100による
撮像と位相差方式焦点検出の両立を実現している。
カスから大デフォーカスに至るまで高精度に位相ずれを
検出するには、任意のデフォーカスにおいて位相ずれ方
向での1対の物体像が略相似形状であることが望まし
い。こうすることにより、公知の相関演算で算出される
1対の物体像の位相ずれ量と撮像光学系のデフォーカス
量の関係をほぼ線形にすることができ、位相ずれ量から
撮像光学系のデフォーカス量を容易に導き出すことがで
きる。
物体像の光量分布をg(x,y)とするとき、
が成立する。ここでh(x,y)は被写体が画像形成シ
ステムにおいて劣化する状態を表す伝達関数で、点像分
布関数(point spread function)と呼ばれる。従っ
て、焦点検出に用いる1対の物体像の相似性を知るに
は、点像分布関数を知る必要がある。
対の物体像の1次元方向に注目し、その位相ずれを検出
ため、点像分布関数の代わりに1次元の関数である線像
分布関数(line spread function)により、焦点検出に
関する画像システムを評価することができる。そこで、
被写体像の光量分布をf(x)、物体像の光量分布をg
(x)と置き換えると、上記式(1)は線像分布関数L
(a)を用いて以下のように書き換えられる。
時の位相ずれ方向における1対の線像分布関数を知るこ
とにより、1対の物体像の相似性を知ることができ、位
相差方式焦点検出の基本的なデフォーカス性能を知るこ
とができる。そして、式(2)より1対の線像分布関数
の相似性が高いほど、1対の物体像の相似性も高くなる
ことが分かる。
面上に形成する点像の強度分布、いわゆる点像分布関数
は、射出瞳形状が結像面上に縮小投影されていると考え
られる。同様に、線像分布関数は1次元方向における射
出瞳形状、即ち、射出瞳形状を1次元方向に積分したも
のがマイクロレンズμLにより結像面上に縮小したもの
と考えることができる。実際には光学系の収差や製造誤
差により、光線が射出瞳上のどこを通過したかで結像位
置や強度が異なり、線像分布関数の形状は多少変化する
が、ここでは、位相ずれ方向における1対の線像分布関
数相似性を知ることが目的であるので、撮像光学系、マ
イクロレンズμLは収差のない理想レンズとして簡略化
する。また、上記従来例で説明した、撮像光学系の赤外
カットフィルターF1、ローパスフィルターLPF、カ
ラーフィルターCF、光電変換部の感度分布、光電変換
部のS/Nなどについても省略する。
変換部に入射する光束が通過する第1及び第2の領域
2、3を位相ずれ方向、即ち矢印A方向に積分してみ
る。図41は、積分した結果を示すグラフで、原点を光
軸L1としている。図中横軸が位相ずれ方向、縦軸が強
度で、第1の瞳強度分布5が射出瞳上の第1の領域2、
第2の瞳強度分布6が射出瞳上の第2の領域3にそれぞ
れ対応している。実際には、第1及び第2の瞳強度分布
がマイクロレンズμLにより結像面上に縮小されて線像
分布関数となるわけだが、1対の線像分布関数の相似性
を知るにはこのままで差し支えない。更に、ここでは撮
像光学系のデフォーカスを考慮していないが、小デフォ
ーカスの場合、第1及び第2の瞳強度分布5,6のそれ
ぞれを横軸方向に縮小、縦軸方向に拡大、大デフォーカ
スの場合横軸方向に拡大、縦軸方向に縮小と考えること
ができる。
6は位相ずれ方向、即ち横軸方向に互いにミラー反転し
たような半円形状となり、相似性は低い。従って、撮像
光学系の射出瞳上で第1の領域2を通過する光束の任意
のデフォーカスにおける1対の線像分布関数も位相ずれ
方向において相似性が低いことが分かる。合焦近辺の線
像分布関数は5、6を極端に横軸方向に縮小、縦軸方向
に拡大したもの、即ちインパルス波形のような形状とな
るため、相似性は高くなるが、ある程度デフォーカスし
てくると互いにミラー反転した半円形状が顕著に現れ、
相似性は低下する。
スして、図41の第1及び第2の瞳強度分布5,6に示
すように、1対の線像分布関数の相似性が低い場合、結
像面上の1対の物体像は、その線像分布関数の影響を受
けて位相ずれ方向で不均一に変形し、相似性は低くな
る。一方、撮像光学系の焦点が合焦近辺にある場合、線
像分布関数はインパルス波形のような形状となるため、
結像面上における1対の物体像もほぼ相似形となる。い
ま、位相ずれ方向における物体像とは、前述した位相ず
れ方向を長手方向とした画素列による画像信号と等価で
あるので、撮像光学系がある程度デフォーカスしている
場合、第1及び第2の光電変換部で得られる1対の画像信
号の相似性は低く、互いに左右反転したような形状にな
る。
相関演算によって算出される位相ずれ量と撮像光学系の
デフォーカス量の関係を、実用的なデフォーカス範囲に
おいておおよそ線形にし、検出される位相ずれ量から予
想されるデフォーカス量を算出して、撮像光学系を合焦
させる。上記従来例における位相ずれ量とデフォーカス
量の関係は、1対の画像信号の相似性が高い小デフォー
カスの範囲ではほぼ線形となるが、デフォーカス量が増
大するにつれて1対の画像信号の相似性は低下し、線形
とならない。従って、撮像光学系がある程度以上デフォ
ーカスしている場合、1回の焦点検出では合焦に至るこ
とはできない。しかしながら、小デフォーカスの範囲で
はほぼ線形となるので、複数回焦点検出を行うことで、
小デフォーカスを経て合焦に至ることが可能となる。
STを1対の開口部を有する2孔絞りとし、撮像時は退
避する構成とすると、焦点検出時における1対の線像分
布関数の特性を改善することができるため、大デフォー
カスでも複数回の焦点検出を必要としない焦点検出を実
現できる。
来例においては、特に撮像光学系がある程度デフォーカ
スしている場合、複数回の焦点検出が必要となり、位相
差方式焦点検出の長所である迅速な焦点調節が行えなく
なる。
を有する2孔絞りを用いた場合、撮像光学系がある程度
デフォーカスしていても複数回の焦点検出は必要ない
が、撮像光学系に絞りの駆動メカなどを設け退避可能に
する必要があるため撮像装置の小型化、コストを妨げ
る。
撮像光学系の絞りSTの開度との関係をおおよそ線形に
することで、被写体輝度、撮像素子の感度が与えられた
ときに、フィルムカメラと同様の手法で絞り値とシャッ
ター速度を算出する、いわゆるAPEX方式の演算が成
り立つ。こうすることで、フィルムカメラと同じように
一般の露出計を用いて露光量を算出することができ、撮
影操作は極めて容易である。しかしながら、従来例にお
いては、図39に示すようにpnフォトダイオード12
9、130の間にn+FD領域131を設けたために、
図40の隙間4で示す第1及び第2の光電変換部の何れ
にも光電変換されない領域が存在し、撮像光学系の絞り
STを絞り込んでいくと、射出瞳の開口領域に対する隙
間4の領域の割合は増大していくため、1対の光電変換
部に入射する光量と撮像光学系の絞りSTの開度との関
係は線形にならずに、絞り込んでいくほど誤差は増大す
る。従って、APEX方式の露出演算にも誤差が生じ、
また一般の露出計を用いることもできなくなる。
電変換部間の光電変換されない領域が存在すると、撮影
した画像に不自然なボケ(2線ボケ)が生じやすくな
る。
に鑑みてなされたものであり、固体撮像素子による撮像
と位相差方式焦点検出を両立するとともに、カメラの小
型化、コストを妨げずに小デフォーカスから大デフォー
カスに至るまで高精度で迅速な焦点検出が可能で、撮像
時には、元々撮像光学系の射出瞳の全光束を使った画像
を得るように設計された通常の固体撮像素子で得られる
画像と同レベルのS/N的に優れた画像を得ることがで
きる撮像装置を提供することである。
像光学系と、前記結像光学系の射出瞳を複数に分離した
光束のうち第1の光束を光電変換する第1の光電変換部
と、前記第1の光束とは異なる第2の光束を光電変換す
る第2の光電変換部とを有する画素部が2次元領域に複
数配置されてなる撮像素子とを備え、前記撮像素子は、
前記画素部に、前記第1の光電変換部による第1の感度
分布と前記第2の光電変換部による第2の感度分布が重
複する感度領域を有する。
相ずれ方向における1対の線像分布関数を小デフォーカ
スから大デフォーカスに至るまで相似形とすることがで
きるため、高精度で迅速な焦点検出を実現できる。ま
た、第1の光電変換と第2の光電変換部の間に入射する
光束も光電変換することができるのでAPEX方式の露
出演算もほぼ成立し、元々撮像光学系の射出瞳の全光束
を使った画像を得るように設計された通常の固体撮像素
子で得られる画像と同レベルのS/N的に優れた画像を
得ることができる。
素子は、前記第1の光電変換部及び前記第2の光電変換
部による分割方向が異なる少なくとも2種類以上の前記
画素部を備える。この構成により、更に高品位な画像を
得ることができると共に、焦点検出性能を向上させるこ
とができる。
素子は、前記感度領域が異なる少なくとも2種類以上の
前記画素部を備える。この構成により、複数のF数おい
て高精度で迅速な焦点検出が実現できる。
領域は、焦点検出時における前記結像光学系のF数に基
づいて最適化されている。この構成により、撮像及び焦
点検出の両方で良質な画像信号を得ることができる。
前記結像光学系の射出瞳を複数に分離した光束のうち第
1の光束を光電変換する第1の光電変換部と、前記第1
の光束とは異なる第2の光束を光電変換する第2の光電
変換部とを有する画素部が2次元領域に複数配置されて
なる撮像素子と、前記撮像素子からの信号に所定の処理
を加える信号処理手段と、外部装置との間で信号授受を
行うインターフェース手段と、当該システム全体の動作
を制御する制御手段とを備え、前記撮像素子は、前記画
素部に、前記第1の光電変換部による第1の感度分布と
前記第2の光電変換部による第2の感度分布が重複する
感度領域を有する。
相ずれ方向における1対の線像分布関数を小デフォーカ
スから大デフォーカスに至るまで相似形とすることがで
きるため、高精度で迅速な焦点検出を実現できる。ま
た、第1の光電変換と第2の光電変換部の間に入射する
光束も光電変換することができるのでAPEX方式の露
出演算もほぼ成立し、元々撮像光学系の射出瞳の全光束
を使った画像を得るように設計された通常の固体撮像素
子で得られる画像と同レベルのS/N的に優れた画像を
実現する撮像システムを得ることができる。
束を撮像素子にて光電変換し、画像信号を生成する方法
であって、前記結像光学系の射出瞳を複数に分離するこ
とにより、光束を第1の光束及び第2の光束に分離し、
前記撮像素子を構成する複数の画素部における第1の光
電変換部で前記第1の光束を、第2の光電変換部で前記
第2の光束をそれぞれ光電変換するに際して、前記画素
部において、前記第1の光電変換部による第1の感度分
布と前記第2の光電変換部による第2の感度分布を重複
させる感度領域を形成する。
相ずれ方向における1対の線像分布関数を小デフォーカ
スから大デフォーカスに至るまで相似形とすることがで
きるため、高精度で迅速な焦点検出を実現できる。ま
た、第1の光電変換と第2の光電変換部の間に入射する
光束も光電変換することができるのでAPEX方式の露
出演算もほぼ成立し、元々撮像光学系の射出瞳の全光束
を使った画像を得るように設計された通常の固体撮像素
子で得られる画像と同レベルのS/N的に優れた画像を
実現することができる。
諸実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明す
る。
について述べる。なお、従来例で図示した構成部材等に
対応するものについては、同符号を用いることとする。
て説明する。本実施形態の撮像光学系の構成を図36に
示す。この撮像光学系は、固体撮像素子100を用いる
デジタルカラーカメラのズーム光学系であり、撮像光学
系とカメラ本体が一体的に設けられている。同図の左手
が物体側、右手が像面側となっている。同図において、
撮像光学系は、負レンズ,正レンズ,正レンズからなる
正の第1群(grp1)、負レンズ,負と正の接合レン
ズからなる負の第2群(grp2)、絞りST、正レン
ズからなる正の第3群(grp3)、負と正の接合レン
ズからなる第4群(grp4)により構成される。ま
た、F1は赤外線(IR)カットフィルター、LPFは
光学ローパスフィルター、 L1は撮像光学系の光軸で
ある。
って焦点距離が広角から望遠に向かうに従い、負の第2
群grp2が像面側へ、正の第4群grp4が物体側へ
と同時に動く。撮像光学系は、図示しないレンズ駆動機
構を持ち、モーターとギア列を用いて負の第2群grp
2を光軸方向に移動させて、物体像が撮像素子100上
でピントを結ぶように焦点調節する。
置の1つであるCMOSプロセスコンパチブルのセンサ
(以降、CMOSセンサと略す)である。このタイプの
センサはIEEETRANSACTIONS ON E
LECTRON DEVICE,VOL41,PP45
2〜453,1994などの文献で発表されている。C
MOSセンサの特長の1つに、光電変換部のMOSトラ
ンジスタと周辺回路のMOSトランジスタを同一工程で
形成できるため、マスク枚数、プロセス工程がCCDと
比較して大幅に削減できるということが挙げられる。
の光電変換部を構成し、光電変換部毎に設けていたフロ
ーティングディフュージョン領域(以降、FD領域)と
ソースフォロワアンプを2つの光電変換部に1個だけ形
成し、2つの光電変換領域をMOSトランジスタスイッ
チを介してそのFD領域に接続する。従って、2つの光
電変換部の電荷を同時、または、別々にフローティング
ディフュージョン部へ転送でき、FD領域に接続した転
送MOSトランジスタのタイミングだけで、2つの光電
変換部の信号電荷加算、非加算を簡単に行うことができ
る。この構造を利用して、撮像光学系の射出瞳全体から
の光束による光電変換出力を行う第1の出力モードと、
撮像レンズの射出瞳の一部からの光束による光電変換出
力を行う第2の出力モードとを切り替え可能としてい
る。画素部レベルで信号の加算を行う第1の出力モード
では、信号を読み出した後で加算する方式に比べてノイ
ズの少ない信号を得ることができる。
部の信号電荷加算、非加算を簡単に行うことができる撮
像素子100内のエリアセンサ部の回路構成図である。
同図は、2列×2行の画素部による2次元エリアセンサ
を示したものであるが、実際は、1920列×1080
行等と画素数を多くし、実用的な解像度を得る。図37
において、101及び102はpnフォトダイオードを
用いた第1及び第2の光電変換部、103及び104は
転送スイッチMOSトランジスタ、105はリセット用
MOSトランジスタ、106はソースフォロワアンプM
OSトランジスタ、107は垂直選択スイッチMOSト
ランジスタ、108はソースフォロワの負荷MOSトラ
ンジスタ、109は暗出力転送MOSトランジスタ、1
10は明出力転送MOSトランジスタ、111は暗出力
蓄積容量CTN、112は明出力蓄積容量CTS、11
3および114は垂直転送MOSトランジスタ、115
および116は垂直出力線リセットMOSトランジス
タ、117は差動出力アンプ、118は垂直走査部、1
19は水平走査部で、画素部120を構成している。こ
こで、隣接した第1の光電変換部101と第2の光電変
換部102をひとまとめにしたものが画素部120で、
その他の画素部121〜123についても同様の構成で
ある。
像装置の斜視図である。同図において、7は図36に示
す撮像光学系のうち、絞りSTよりも物体側にある第1
群(grp1)と第2群(grp2)とをまとめて示し
た前方レンズ群、8は絞りSTよりも像面側にある第3
群(grp3)、第4群(grp4)、をまとめて示し
た後方レンズ群であり、絞りSTの開口を通過した光束
によって撮像素子100上に物体像を形成する。なお、
図の煩雑さを無くすため赤外線カットフィルターF1、
光学ローパスフィルターLPFは省略している。絞りS
Tは軸L2を中心にして回転し、不図示のモーターの駆
動力によって選択的に4つのポジションをとり、開口9
〜12を切り替え可能である。
置の1つであるCMOSプロセスコンパチブルのセンサ
(以降、CMOSセンサと略す)である。本実施形態で
は、従来例と同様に1つの画素部に2つの光電変換部を
構成し、通常光電変換部毎に設けていたフローティング
ディフュージョン領域(以降、FD領域と略す)とソー
スフォロワアンプを2つの光電変換部に1個だけ形成
し、2つの光電変換領域をMOSトランジスタスイッチ
を介してそのFD領域に接続する構成とした。従って、
2つの光電変換部の電荷を同時、又は別々にFD領域へ
転送でき、FD領域に接続した転送MOSトランジスタ
のタイミングだけで、2つの光電変換部の信号電荷加
算、非加算を簡単に行うことができる。
全体からの光束による光電変換出力を行う第1の出力モ
ードと、撮像レンズの射出瞳の一部からの光束による光
電変換出力を行う第2の出力モードとを切り替え可能と
している。画素部レベルで信号の加算を行う第1の出力
モードでは、信号を読み出した後で加算する方式に比べ
てノイズの少ない信号を得ることができる。
荷加算、非加算を簡単に行うことができる固体撮像素子
100内のエリアセンサ部の回路構成図は図37と同様
である。同図は、2列×2行の画素部による2次元エリ
アセンサを示したものであるが、実際は従来同様に19
20列×1080行等と画素数を多くし、実用的な解像
度を得る。
画素部構成について説明する。図2は図37の画素部1
20を拡大して示す画素部上面図、図3は図2の画素部
を断面A−Aで切断した画素部断面図である。これらの
図において、124はP型ウェル、125はゲート酸化
膜、127、128はポリSi、129、130は完全
空乏化できる濃度のn層、131はn + フローティング
ディフュージョン領域(FD領域)、132は表面P+
層である。FD領域131は転送MOSトランジスタ1
03、104(図中ポリSi127、128)を介して
第1及び第2の光電変換部101、102(図中n層1
29、130)と接続される。n層129及び130と
表面P+層132は埋め込み型フォトダイオードとして
光電変換部を形成し、この構造により表面で発生する暗
電流を抑制することができる。
フィルター、μLは図38に示す撮像光学系からの光束
を効率的に第1及び第2の光電変換部101、102に
導くためのマイクロレンズである。図2の画素部上面図
においては、124〜132の画素部上面にゲート酸化
膜125、カラーフィルターCF、マイクロレンズμL
が配置されるわけだが、図の煩雑さをなくすためゲート
酸化膜125は省略し、カラーフィルターCF、マイク
ロレンズμLは図中点線で示している。また、二点鎖線
は第1及び第2の光電変換部より構成される略正方形の画
素部を理解しやすくするために図示したものであり、こ
の1つの画素部が2次元領域に格子状に配列され、固体
撮像素子100のエリアセンサ部を形成している。
36の撮像光学系の射出瞳と1対の光電変換部120が
結像するように設定されており、従って、第1及び第2
の光電変換部101、102でそれぞれ射出瞳上の異な
る領域を通過した光束を光電変換するように構成されて
いる。
080行の画素部を有する固体撮像素子100うち4列
×4行のみを抜き出した拡大平面図である。光電変換部
とMOSトランジスタを含む各画素部はほぼ正方形にレ
イアウトされ、格子状に隣接して配置されている。図3
7を用いて先に説明した画素部120〜123は、図中
それぞれ画素部11〜14内に位置し、従って、1つの画
素部がそれぞれ近接した2つの光電変換部を有する構成
となっている。
R(赤色)G(緑色)B(青色)のカラーフィルターを
交互に配して、4つの画素部が一組となる所謂ベイヤー
配列を形成している。ベイヤー配列では、観察者が画像
を見たときに強く感じやすいGの画素部をRやBの画素
部よりも多く配置する事で、総合的な像性能を上げてい
る。
号は主にGから生成し、色信号はR,G,Bから生成す
る。前述したように画素部はそれぞれ1対の光電変換部
を有している。図に付した、R、G、Bは赤色,緑色,
青色のカラーフィルターを備えた画素部であることを、
RGBに続く1あるいは2は、第1光電変換部か第2光
電変換部かの区別を表している。例えば、R1は赤色カ
ラーフィルターを備えた第1光電変換部であり、G2は
緑色カラーフィルターを備えた第2光電変換部を意味す
る。
る割合は少なく、撮像光学系から射出した光束を有効に
利用するためには、画素部毎に集光用レンズを設けて、
1対の光電変換部以外に到達しようとする光を光電変換
部上に偏向することが必要で、それが図3に示されるマ
イクロレンズμLである。
イクロレンズと1対の光電変換部との光学的位置関係を
示す断面図で、撮影光学系L1付近の一部分を拡大した
ものである。マイクロレンズμL−1〜μL−4は画素
部の中心と光軸とがおおよそ一致した軸対称型の球面レ
ンズあるいは非球面レンズであって、各々矩形の有効部
を持ち、光入射側を凸形状として格子状に密に並べられ
ている。図1に示す撮像光学系は図の左側に位置し、撮
像光学系を射出した光束は、IRカットフィルターF
1、光学ローパスフィルターLPFを通って、先ずマイ
クロレンズμL−1〜μL−4に入射する。各マイクロレ
ンズの後方にはカラーフィルターCF−1〜CF−4が
配置され、ここで所望の波長域のみが選択されて各光電
変換部に到達する。
ようにベイヤー配列を構成しており、RGBの3種があ
る。また、ベイヤー配列であることから、断面に現れる
のはこのうちの2種であって、CF−1、CF−3が緑
色透過カラーフィルター、CF−2、CF−4が赤色透
過カラーフィルターである。
素子における各画素部内の1対の光電変換部を撮像光学
系の射出瞳に投影するように設定されている。このと
き、1対の光電変換部の投影像が撮像光学系の絞り開放
時の射出瞳よりも大きくなるように投影倍率を設定し、
1対の光電変換部に入射する光量と撮像光学系の絞りS
Tの開度との関係をおおよそ線形にする。こうすれば、
被写体輝度、撮像素子の感度が与えられたときに、フィ
ルムカメラと同様の手法で絞り値とシャッター速度を算
出することができる。つまり、入射光量が絞りの開口面
積に比例するようになり、APEX方式の演算が成り立
つ。フィルムカメラと同じように一般の露出計を用いて
露光量を算出することができて、撮影操作は極めて容易
である。
100への入射角が、固体撮像素子100上のすべての
マイクロレンズにおいて0度となるようにテレセントリ
ック系とするのがマイクロレンズによる瞳投影精度の点
で望ましいが、小型化、ズーム比の高倍率化の要求から
完全なテレセントリック系にするのは困難である。この
際には、マイクロレンズと画素部とを僅かに偏心させ、
偏心量を撮像光学系の光軸から画素部までの距離の関数
とすればよい。一般には、この偏心量を距離に応じて単
調に増加させれば、画面周辺の画素部においても撮像光
学系の射出瞳上に正しく投影できるようになる。しかし
ながら、本実施形態では、10列×10行のブロック毎
にマイクロレンズを一律に偏心させる構成としている。
こうすることで、マイクロレンズの製造工程を簡略化で
き、コストダウンの効果がある。
めに、図6に示した1つの画素部について、第1の光電
変換部に入射する光束と、第2の光電変換部に入射する
光束のそれぞれを分けて示した図である。第1の光電変
換部に入射する光束を示す図6(a)では、図の下方か
らの光束が第1の光電変換部に入射し、第2の光電変換
部に入射する光束を示す図6(b)では、図の上方から
の光束が第2の光電変換部に入射していることが分か
る。
部に入射する光束は図7に示すようになり、エリアセン
サ部のいずれの位置に入射する光束も、絞りSTの上半
分を通過する光束である。一方、撮像素子全体の第1光
電変換部に入射する光束は撮像レンズの光軸L1を対称
軸として上下を反転したものとして考えればよい。以上
のような構成で、撮像素子100の第1及び第2光電変
換部における出力信号を独立に読み出すことで、撮影光
学系の異なる射出瞳を通過した光束を光電変換すること
を可能としている。一方、撮像時には第1及び第2の光
電変換部における出力信号を加算することで撮像光学系
の射出瞳全体の光束を光電変換することを可能とし、固
体撮像素子100による撮像と位相差方式焦点検出の両
立を実現している。
検出の特性及び撮像の特性について述べる。位相差方式
焦点検出において、小デフォーカスから大デフォーカス
に至るまで高精度に位相ずれを検出するには、実用的な
デフォーカス範囲において位相ずれ方向での1対の物体
像が略相似形状であることが望ましく、こうすることに
より、公知の相関演算で算出される1対の物体像の位相
ずれ量と撮像光学系のデフォーカス量の関係をほぼ線形
にすることができるため、位相ずれ量から撮像光学系の
デフォーカス量を容易に導き出すことができ、高精度で
迅速に焦点検出を実現できる。そこで本実施形態におい
ても、1対の物体像の相似性を知るために位相ずれ方向
における1対の線像分布関数を調べてみる。
タとしては、撮像光学系の収差、赤外カットフィルター
F1、ローパスフィルターLPF、マイクロレンズμL
の収差、カラーフィルターCF、光電変換部の感度分
布、光電変換部のS/N、射出瞳分離の様子などが必要
になる。ここでは、撮像光学系、マイクロレンズμLは
収差のない理想レンズとし、赤外カットフィルターF
1、ローパスフィルターLPF、カラーフィルターC
F、光電変換部のS/Nは省略し、計算を簡略化する。
従って、本実施形態では、光電変換部の感度分布、射出
瞳分離の様子から線像分布関数を求める。
考えてみる。図8,9は光電変換部の感度分布を説明す
るための画素部を示す図で、図8は図2の画素部上面
図、図9は図3の画素断面図と同様である。これらの図
に示されるように、1対の光電変換部、即ち図中右上が
り斜線部で示すn層129、130は微小な間隔ΔLを
隔てて配置され、n層129、130の間、即ち図中左
上がり斜線部で示す領域BはP型ウェルで構成されてい
る。また、図9において点線で示される133はn層1
29、130の下の空乏層である。
た光が光子hνとしてシリコン中に入るとキャリアが発
生し、キャリアの1つである電子について考えると、ま
ずn層で発生した電子はn層中に蓄えられる。またP型
ウェル中で発生した電子については、その電子が拡散に
よって空乏層の端に運動してきた場合、空乏層のポテン
シャル勾配によってn層へ運動し、n層中に蓄えられ
る。このような法則により、例えばn層129側に近い
位置のP型ウェル中で発生した電子はn層129へと蓄
積され、また逆も真である。そして、ポテンシャル勾配
に捕らえられなかった電子は、有効な電荷とならず消滅
する。
合を考えてみると、拡散によってある地点へ電荷がやっ
てくる可能性は距離に依存し、従って、n層129そば
の中性領域(空乏層ができていない半導体内の領域)に
おいて発生した電子はよりn層129に捕らえられやす
く、n層130近傍で発生した電子はn層130に捕ら
えられやすく、中間点で発生した場合は半々の確率でど
ちらかに捕獲される。
離が電子の拡散長に対して十分短い場合ほぼ線形とな
る。拡散長のオーダーは数ミリにもおよび、一方距離、
即ちΔLは高々数ミクロンゆえ、十分短いと考えてよい
ので、本実施形態においては、この領域Bにおいて発生
した電子のうち、n層129が捕獲する確率はn層12
9からの距離との関係においてほぼ線形となり、n層1
30においても同様である。
30に移動する電子のほか、P型ウェル中へ移動してい
き、有効な光電荷とならないキャリアがほんのわずかで
あるが存在する。なお、n層129、130の下方の空
乏層133が領域B付近において一部つながることがあ
るが、その場合も同様の現象がみられる。つながった部
分においてはドリフト(空乏層によって設けられるポテ
ンシャル勾配による電子の運動)により割合が規定され
るが、繋がっていない位置においては、上記と同様に電
子の捕獲される割合が決まる。
における1対の光電変換部の感度分布は図10のように
なる。図10において、縦軸は感度、横軸は断面方向、
即ち図9の紙面左右方向、原点は1対の光電変換部の中
心と一致している。17はn層129による第1の光電
変換部101に対応した感度分布、18はn層130に
よる第2の光電変換部102に対応した感度分布で、図
8の領域Bに対応した部分、即ち図の縦軸付近で1対の
感度分布17、18が重複する、即ち位相ずれ方向にお
ける1対の感度分布にクロストークが発生している。こ
の感度分布17、18が重複するクロストーク部分は、
図8、9のn層129、130間の間隔ΔLにほぼ一致
している。
ける1次元方向の感度分布であるが、断面A−Aに平行
な1次元方向の感度分布は1対の光電変換部どこでも同
様であるので、図10の領域Bに入射する光束も第1若
しくは第2の光電変換部101、102のどちらかに光
電変換されることが分かる。
加算した感度分布19を示し、従って、この感度分布1
9が第1及び第2の光電変換部101、102の光電変
換出力を加算する撮像時の光電変換部感度分布に相当す
る。感度分布19は円で囲んだ部分Cにおいて感度の低
下がみられるが、これは、図8の領域Bに対応した部分
で前述したような理由により生じているが、その低下の
度合いはごくわずかであるため画像信号への影響は極め
て少ない。
で、それに比べると飛躍的な向上と言える。従って、本
実施形態において、撮像時には撮像光学系の射出瞳全体
の光束を光電変換することが可能で、前述したAPEX
式の露出演算もほぼ成立し、不自然なボケのない良質な
画像信号を得ることが可能となる。
明する。図12は本実施形態における第1及び第2の光
電変換部による撮像光学系の射出瞳分離の様子を示す図
である。同図において、20は絞りSTが開放状態の場
合で、絞りSTの開口9を後方レンズ群grp3、gr
p4を通して見た虚像である。右上がり斜線部21は固
体撮像素子100の第1の光電変換部に入射する光束が
通過する射出瞳上の第一の領域、左上がり斜線部22は
固体撮像素子100の第2の光電変換部に入射する光束
が通過する射出瞳上の第二の領域である。点線で示す2
3、24、25は絞りSTの開口10、11、12にそ
れぞれ対応しており、同様に後方レンズ群grp3、g
rp4を通して見た虚像である。
フォーカスにより1対の物体像に位相ずれが生じる方向
を示している。第一の領域20と第2の領域21は中央
部領域26付近で交錯しており、これが図10の感度分
布17、18が重複しているクロストーク部分、図8で
言うと領域Bに相当している。即ち、中部領域26を通
過した光束も、マイクロレンズμLにより図8の領域B
上に導かれる。従って、例えば、第1の領域21に関す
る1次元方向の瞳強度分布を算出するには、図12の右
上がり斜線部を位相ずれ方向に積分した結果をS
(X)、図10の位相ずれ方向における第1の光電変換
部の感度分布をP(Y)とすると、積分結果S(X)の
Xに対応した感度分布P(Y)をS(X)に乗じる必要
があり、最終的に以下の式(3)により位相ずれ方向に
おける瞳強度分布が算出される。
射出瞳上の位相ずれ方向の座標Xに対応して1つのYが
定まる。
施形態の瞳強度分布を表すグラフである。原点は光軸L
1と一致しており、横軸が位相ずれ方向、縦軸が強度、
27が射出瞳上の第1の領域21に対応した第1の瞳強度
分布、28が射出瞳上の第2の領域22に対応した第2
の瞳強度分布を示している。実際には、第1及び第2の
瞳強度分布がマイクロレンズμLにより結像面上に縮小
されて線像分布関数となるわけだが、ここでは1対の線
像分布関数の相似性を知ることが目的であるのでこのま
まで差し支えない。更に、撮像光学系のデフォーカスも
考慮していないが、小デフォーカスの場合、第1及び第
2の瞳強度分布27、28を横軸方向に縮小、縦軸方向
に拡大、大デフォーカスの場合横軸方向に拡大、縦軸方
向に縮小と考えることができる。
7、28は、図10に示す感度分布17、18のクロス
トークの影響を受け、中央付近の角部29、30を境に
重複している。しかしながら、それぞれの強度分布は左
右に裾を広げた形状となり、従来例の第1及び第2の瞳
強度分布5、6に比べて相似性が向上している。実際の
線像分布関数は、光学系の収差やローパスフィルターL
PFの効果で、第1及び第2の瞳強度分布27、28の
角部29、30が丸みを帯び、全体的に裾もなだらかに
なることが予想されるので1対の線像分布関数の相似性
は更に向上していると推定される。
軸と画素部の中心が偏心していない光軸L1付近の画素
部について述べたが、固体撮像素子100上の周辺部に
おいても同様である。
ーカスから大デフォーカスにいたるまで、相似性の高い
線像分布関数を得ることができる。また、位相ずれ検出
に用いる1対の物体像は、式(2)より、図13の線像
分布関数と被写像の位相ずれ方向の光量分布とのたたみ
こみ積分で与えられるので、相似性の高い良質な焦点検
出用画像信号を得ることが可能となる。
像を得るためには、1対の線像分布関数の相似性が重要
となり、本実施形態では1対の光電変換部の構成を工夫
し、位相ずれ方向における感度分布にクロストークを設
けることで、1対の線像分布関数の相似性を向上させ
た。位相ずれ方向における感度分布のクロストーク量
は、図8〜10を用いて説明したように、n層129、
130間の距離ΔLによって決定され、このΔLの量に
より1対の線像分布関数の相似性は変化すると言える。
従って、このΔLを位相ずれ方向におけるn層129、
130の幅と焦点検出時の撮像光学系のF数(Fナンバ
ー)を基に最適化する必要がある。
させた場合の1対の線像分布関数を示す図であり、3
1,33,35は図12の第1の領域21に、32,3
4,36は第2の領域22に対応しており、31,32
が図12における23(図1における開口10)に、3
3,34が図12における24(図1における開口1
1)に、35,36が図12における25(図1におけ
る開口12)にそれぞれ対応している。
のFナンバーを変化させることによって、1対の線像分
布関数の相似性が変化している様子が見られ、絞りST
の開口10若しくは開口11に対応した線像分布関数3
1,32若しくは33,34の相似性が高いことが分か
る。位相差方式の焦点検出においては、撮像光学系のF
ナンバーが明るいほど、基線長が長くなり高精細なデフ
ォーカス検出が可能となり、低輝度時の限界性能も向上
するので、本実施形態では、絞りSTの開口10で焦点
検出を行うこととする。
を行いたい場合は、図9に示すn層129,130間の
間隔ΔLを広げて、1対の線像分布27,28の相似性
を向上させればよい。ただし、この場合は図11の円C
で示すように、撮像時の光電変換部感度分布の落ち込み
部分の領域が拡大するので、APEX式の露出演算に誤
差が生じやすくなる。また、撮像時の画像信号にも不自
然なボケが発生しやすくもなる。本実施形態では、この
ようなことも考慮して、n層129,130間の間隔Δ
Lと焦点検出時のFナンバーを決定している。
像を算出してみる。そのために、まず被写体像を定義す
る。図16は被写体像の位相ずれ方向における光量分布
を示し、44は2つの矩形波よりなる1次元方向の被写
体像光量分布である。これは、黒地に白地の2本線のチ
ャートによる光量分布である。従って、立ち上がり、立
ち下りの極端な矩形波となっている。
と図14の瞳強度分布31,32をデフォーカス時の線
像分布関数に変換したものから前記式(2)のたたみこ
み積分で得られる1対の物体像を表している。図17
(a)は撮像光学系が後ピン方向に1mmデフォーカス
して場合で、物体像45が射出瞳上の第1の領域21
に、物体像46が第2の領域22にそれぞれ対応してい
る。
系が後ピン方向に3mm、5mmデフォーカスした場合
の物体像を示し、物体像47,49が射出瞳上の第1の
領域21に、物体像48,50が第2の領域22にそれ
ぞれ対応している。これらの図から明らかのように、デ
フォーカスが1mm、3mmでの1対の物体像の相似性
は高く、公知の相関演算などにより高精度に位相ずれを
算出することができる。
性が低下するが、デフォーカスが大きくなるに従って、
1対の物体像のボケ具合は増大していくので、十分に相
関演算を用いて位相ずれを検出することができる。
デフォーカス量とそのとき公知の相関演算で検出される
位相ずれ量の関係を表すグラフである。図中黒丸のプロ
ット51、52、53が図17(a),(b),(c)
にそれぞれ対応している。この図からも明らかなよう
に、実用的なデフォーカス範囲において、デフォーカス
量と位相ずれ量の関係はほぼ線形となるので、検出され
る位相ずれ量を基に容易に撮像光学系のデフォーカス量
を算出することができる。
なデフォーカス範囲において相似性の高い1対の物体像
で焦点検出を行うことができ、結果として高精度で迅速
な焦点検出を実現できる。また撮像時は、射出瞳の全光
束を光電変換するように設計された通常の固体撮像素子
と同様の良質な画像信号を得ることができる。
明する。撮影光学系がデフォーカスした場合、物体像は
瞳の分離方向に位相がシフトしたものとなるので、焦点
検出領域を撮像光学系の瞳の分離方向を長手方向とした
長方形として設定しておく。
サ部に設定された焦点検出領域を説明するための図で、
図中太線枠で囲まれた37〜43が焦点検出領域として
あらかじめ設定されている。図中焦点検出領域37付近
のみ格子状に並べられた画素部を表示しているが、その
他の領域については省略している。
2光電変換部における出力信号を独立に読み出した画像
信号を用いて、位相シフト量検出手段である周知の相関
演算などにより位相シフト量を検出する。そして、その
位相シフト量をデフォーカス量に換算して撮像光学系の
焦点調節を行う。なお、焦点検出時の撮像光学系のFナ
ンバーは、前述したように絞りSTの開口10を用いる
こととする。また、焦点検出領域21は2組の画素列で
構成されているが、これは、図4で説明したベイヤー配
列で構成される撮像素子100から各色(緑、赤、青)
の画像信号を取り出すためで、詳細は後述する。
9〜12を用い、第1光電変換部と第2光電変換部にお
ける出力信号を画素部レベルで加算することで、不自然
な像のボケが生じることはなく、元々撮像光学系の瞳の
全光束を使った画像を得るように設計された固体撮像素
子で得られる画像と同レベルのS/N的に優れた高品位
画像を得ることができる。
成について説明する。図19は、撮像素子100の周辺
回路を含む内部構成を示したブロック図である。撮像素
子100内には、タイミング発生部134、エリアセン
サ部135、画素の出力を選択する垂直走査部136お
よび水平走査部137、アナログ信号処理部138、ア
ナログ/デジタル変換を行うA/D変換部139、デジ
タル化された信号を出力信号に変換するデジタル信号処
理部140、デジタル画像信号を外部に出力し、また外
部からのコマンドデータを受け取るインターフェイス部
141が設けられている。また、エリアセンサ部135
は上述したCMOSセンサである。
準周波数であるマスタークロックを元に、各光電変換部
で光電変換された画像信号を読み出すためのタイミング
信号を発生し、垂直および水平走査部136、137
が、このタイミング信号に従って所要の走査制御を行っ
て、電荷を読み出す。
期信号と水平同期信号を外部に出力し、撮像素子外でタ
イミング信号が必要なシステム用に、同期信号を供給す
る。
部135から読み出された画像信号をノイズ低減処理、
増幅処理、ガンマ処理、クランプ処理してA/D変換部
139に出力するためのものである。A/D変換部13
9はこの画像信号をデジタル信号に変換して出力し、デ
ジタル信号処理部140は、A/D変換部139にてデ
ジタル変換された画像信号をインターフェイス部141
に出力する。インターフェイス部141はデジタル信号
処理部139から出力されるデジタル画像信号を撮像素
子100の外部に出力する。
ド対応で撮像素子100のモードや出力信号形態、信号
出力タイミングなどをコントロールでき、外部からイン
ターフェイス部141に撮像画像や焦点検出用画像を得
るための所要のコマンドを与えると、インターフェイス
部141が受けたコマンド対応の制御を行うように各構
成要素を制御する。
部の構成を示すブロック図で、焦点検出用画像を簡単に
得るため、信号処理1(140−1)、・・・、信号処
理n(140−n)として出力位置指定コマンドが用意
されており、エリアセンサ部138の撮像領域のうち、
図15に示した焦点検出領域37〜43が何れかに対応
しており、任意の焦点検出領域を指定することにより、
第1光電変換部と第2光電変換部における1対の焦点検
出用画像信号が得られるような構成となっている。
処理部140に特定の撮像用のコマンドを指定すること
により、エリアセンサ部138の撮像領域における第1
光電変換部及び第2光電変換部での画像信号を画素部レ
ベルで加算した撮像用画像信号を得ることができる。
については、焦点検出用として電荷蓄積レベルが最適化
された画像を出力するように構成されており、焦点検出
領域内で適切な信号レベルを得るため、焦点検出領域別
にも電子シャッタ設定を行うことができる。
素の電荷蓄積時間が同じであるが、本実施形態における
撮像素子100はCMOSセンサの特長を生かして、画
素単位、あるいはライン単位、あるいはブロック単位で
の読み出しを行う構造をとることが容易にでき、更に、
蓄積時間の始まりと終りを単位毎に異ならせることが可
能である。ここでは、垂直ライン単位に電荷蓄積時間を
変えるものとし、焦点検出領域内の画像がA/D変換レ
ンジを有効に使えるようになっている。
は7つのみが設定されているが、あらかじめ定められた
領域から選択するのではなく、トラックボールなどのポ
インティングデバイスを用意し、数100程度の焦点検
出領域から幾つかを任意に指定するようにしてもよい。
こうすることで、撮像領域における広い領域での焦点検
出を行うこともできる。
電気回路を示すブロック図である。図21において、図
19に示される撮像素子100にはIF部141を介し
てマイクロコンピュータ142が接続されマイクロコン
ピュータ142により所要のコマンドをIF部141に
与えることにより撮像素子100の制御を行う。マイク
ロコンピュータ140はCPU(中央演算処理部)14
3、ROM144、RAM145、EEPROM146
を有し、ROM144に格納されているプログラムに従
って各種動作が実行される。またEEPROM146に
は画像信号補正処理情報などの情報があらかじめ格納さ
れている。
ための信号処理について説明する。まず、撮像光学系の
Fナンバーは前述したように図1の開口10を用いて焦
点検出を行う。図22は焦点検出領域37の拡大図であ
る。図に示すように、焦点検出領域37は12個の画素
部で構成された画素列51,52を2組備えているが、
実際の焦点検出領域37は、例えば300行×2列の多
数の画素より構成されており、ここでは図の煩雑さをな
くすため12行×2列のみを用いて説明する。
はベイヤー配列をなしているので、各画素列には2種類
のカラーフィルターが交互に配列されることになる。そ
こで、焦点検出のために、各画素列をカラーフィルター
の種類で分類し、更に、それぞれから、第1光電変換部
からの信号と第2光電変換部からの信号とからなる1対
の画像信号を生成する。従って、焦点検出領域37から
は全部で4対の画像信号ができる。
的に一律の蓄積時間とする。図23〜26はこの4対の
画像信号を示しており、図23は画素列51のうち緑色
カラーフィルターを備えた1画素おきの1対の画像信号
で、白丸のプロットで示す53はG1で示した第1の光
電変換部の信号、黒丸のプロット54はG2で示した第
2の光電変換部の信号である。同様に、図24は画素列
52のうち緑色カラーフィルターを備えた1画素おきの
1対の画像信号、図25は画素列51のうち赤色カラー
フィルターを備えた1画素おきの1対の画像信号、図2
6は画素列52のうち青色カラーフィルターを備えた1
画素おきの1対の画像信号をそれぞれ示しており、白丸
のプロットで示す55、57、59は第1の光電変換部
による画像信号、黒丸のプロットで示す56、58、6
0は第2の光電変換部による画像信号である。
域37上に成された物体像が、オレンジ色と黄色の濃淡
である場合の例であり、図23と図24に示した緑色の
コントラストが高く、図25に示した赤色は低コントラ
ストであるものの強度は強く、更に、図26に示した青
色はコントラストも強度も低くなっている。図は物体像
がデフォーカスした状態を示し、第1光電変換部の画像
信号と第2光電変換部の画像信号とは位相がシフトして
いることが分かる。また、焦点検出時のFナンバーに合
わせて図8、9に示す1対の光電変換部間の間隔ΔLを
最適化し、1対の線像分布の相似性を向上させているの
で、図23〜図26における1対の画像信号の相似性は
損なわれていない。
電変換部の画像信号と第の2光電変換部の画像信号とは
位相が一致するため、1対の信号の同一性を判定するこ
とで合焦検知を行うことができる。つまり、相関演算を
用いた公知の手法を用いて位相ずれ量を検出することに
より、デフォーカス量を求めることができる。得られた
デフォーカス量を撮像光学系の第2群grp2を駆動す
べき量に換算すれば、自動焦点調節が可能である。レン
ズの駆動量をあらかじめ知ることができるので、通常、
合焦位置までのレンズ駆動はほぼ一回で済み、極めて高
速な焦点調節が実現できる。
が、色分解しない場合はこれらを足しあわせた信号を得
ることに相当するために低コントラストになりやすく、
この結果、検出不能状態に陥りやすい。これに対して、
色分解した信号を用いれば、ここに示したようにRGB
すべての信号に高いコントラストが現れるとは限らない
が、逆にRGBの何れかには高コントラストな信号が得
られ、ほとんどの場合焦点検出が可能となる。
位相ずれ量、画像信号55,56から検出された位相ず
れ量、信号57,58から検出された位相ずれ量、信号
59,60から検出された位相ずれ量のうち、信頼性が
高いものだけを選択して平均すれば、より高い焦点検出
精度を得ることが可能である。例えば、図25や図26
の場合のように低コントラストな信号では、その焦点検
出結果を焦点調節に用いないようにすればよい。
置は、固体撮像素子100による位相差方式焦点検出と
撮像を両立するとともに、焦点検出時には小デフォーカ
スから大デフォーカスに至るまで相似性の高い1対の画
像信号を得ることができ、高精度で迅速な焦点検出を実
現できる。また、撮像時には不自然なボケのない撮像光
学系の射出瞳全体の光束による高品位画像信号を得るこ
とができる。
に分離した1対の光電変換部を有する固体撮像素子10
0を用いて説明したが、画素部を左右方向に分離した場
合あっても、位相ずれ方向に光電変換部感度分布のクロ
ストークが発生するようにすれば、上記のような効果は
得られる。
1実施形態の固体撮像素子100を改良したものであ
り、上下方向に分離された1対の光電変換部よりなる画
素部と左右方向に分離された画素部を混在させた例であ
る。そうすることにより、撮影された画像のボケ具合を
より向上させ、より高品位な画像を得ることができる。
ては、位相ずれ方向にコントラストのある被写体の焦点
検出は得意とするが、位相ずれ方向に平行な方向にコン
トラストのある被写体については焦点検出不能となるこ
とが多い。
00の画素部を上下方向にのみ分離した構成では、上下
方向にコントラストのある被写体、いわゆる横線検出は
得意とするが、縦線検出は行えない。ところが、第2の
実施形態は、異なる方向に分離された光電変換部よりな
る画素を混在させているので、縦線検出、横線検出の両
方をも実現している。なお、基本的な光学構成、マイク
ロレンズによる瞳結像、画素部内の構成、回路構成など
第1の実施形態と同様部分についての説明は省略する。
1080行の画素部を有する固体撮像素子100うち4
列×4行のみを抜き出した拡大平面図であり、第1の実
施形態の図4に対応する。1対の光電変換部とMOSト
ランジスタを含む各画素はほぼ正方形にレイアウトさ
れ、格子状に隣接して配置されている。画素61〜64
は1つの画素がそれぞれ近接した1対の光電変換部を有
する構成となっている。また、このエリアセンサ部は、
各画素にR(赤色)G(緑色)B(青色)のカラーフィ
ルターを交互に配して、4画素が一組となる所謂ベイヤ
ー配列を形成し、図27に付した、R、G、Bは赤色,
緑色,青色のカラーフィルターを備えた画素部であるこ
とを、RGBに続く1あるいは2は、第1光電変換部か
第2光電変換部かの区別を表している。
占める割合は少ないためマイクロレンズμLによって画
素部全体の光束を集光して1対の光電変換部に導く構成
としている。図27において、一組のベイヤー配列画素
61〜64は、緑色カラーフィルターの画素64はのみ
が左右方向に分離された光電変換部よりなり、その他の
画素61〜63は上下方向に分離された光電変換部より
構成されている。従って、4画素一組のベイヤー配列に
おいて緑色カラーフィルターの1画素のみが異なる方向
に分離されている構成となっており、この画素による1
対の画像信号で縦線検出を行うことができる。以上のよ
うな2列×2行の画素配列構成を固体撮像素子100の
1920列×1080行の2次元領域に繰り返し配置
し、エリアセンサ部を形成している。
出瞳上に投影された1対の光電変換部が射出瞳を分離し
ている様子は、上下方向に画素部が分離されている画
素、例えば、図27の画素61〜63については、図1
2と同様になる。従って、上下方向に分離された画素部
の位相ずれ方向における感度分布は、図10に示すよう
な1対の光電変換部間でクロスしている。一方、左右方
向に画素部が分離された画素、例えば、図27の画素6
4は、第一の実施形態の図8に表す画素部上面図を90
度回転させたものと考えることができるので、位相ずれ
方向における感度分布は図10と同様となり、射出瞳分
離の様子は図12を90度回転させた図28のようにな
る。
している部分は第1の実施形態と同様の部分であり、絞
りSTの開口9を後方レンズ群grp3、grp4を通
して見た虚像である。右上がり斜線部65は固体撮像素
子100の左右方向に分離された画素部における第1の
光電変換部に入射する光束が通過する射出瞳上の第一の
領域、左上がり斜線部66は固体撮像素子100の左右
方向に分離された画素部における第2の光電変換部に入
射する光束が通過する射出瞳上の第二の領域である。ま
た、矢印Eは射出瞳分離の方向、即ちデフォーカスによ
り1対の物体像に位相ずれが生じる方向で、図12の位
相ずれが生じる方向である矢印Dと直交している。更
に、第一の領域65と第2の領域66は中央部領域67
で交錯しており、これが図10の感度分布17、18が
重複しているクロストーク部分、図8で言うと領域Bに
相当している。
上下方向に分離された画素部、若しくは、画素64のよ
うに左右方向に分離された画素部の何れであっても、位
相ずれ方向は互いに直交するが、位相ずれ方向における
1対の線像分布関数は図13(図14)のようになり、
小デフォーカスから大デフォーカスに至るまで相似性の
高い1対の焦点検出用画像信号を得ることができる。
する撮像時においては、ベイヤー配列において視感度の
高い緑色カラーフィルターの画素部分離方向を互いに直
交するように構成しているので、図11の円Cで示す感
度落ち込みも互いに直交する関係にあるわけで、撮影画
像におけるわずかに不自然なボケ具合も目立たなくする
ことができ、より高品位な画像信号を得ることができ
る。
て説明する。図29は固体撮像素子100上にあらかじ
め設定された焦点検出領域72〜78を表す図であり、
添え字aが上下方向に分離した画素部による横線検出を
目的とした焦点検出領域、添え字bが左右方向に分離し
た画素部による縦線検出を目的とした焦点検出領域であ
る。図中焦点検出領域74a、74b付近のみ格子状に
並べられた画素を表示しているが、その他の領域につい
ては省略している。それぞれの焦点検出領域は、射出瞳
分離による位相ずれが生じる方向を長手方向とし、位相
ずれの変換を効率よく検出できるように構成されてい
る。
焦点検出領域における焦点検出方法について説明する。
図30は、焦点検出領域74aの拡大図である。図30
に示すように、焦点検出領域74aは12個の画素部で
構成された画素列75、76を2組備えているが、実際
の焦点検出領域74aは、例えば300行×2列の多数
の画素より構成されており、ここでは図の煩雑さをなく
すため12行×2列のみを用いて説明する。焦点検出領
域74aは上下方向に位相ずれする1対の物体像を検出
するように構成されているので、上下方向に分離された
画素部による画像信号で焦点検出を行うこととなる。従
って、第1の実施形態の場合と同様にカラーフィルター
の色で分解した画像信号を生成すると、緑色、青色、赤
色の各色1組ずつ計3組の画像信号を得ることができ
る。
領域における焦点検出方法について説明する。図31
は、焦点検出領域75bの拡大図である。焦点検出領域
75bも同様に、実際は2行×300列の多数の画素よ
り構成される。焦点検出領域75bは、左右方向に位相
ずれする1対の物体像を検出するように構成されている
ので、左右方向に分離された画素部による画像信号で焦
点検出を行う。
78の緑色カラーフィルターによる1対の画像信号のみ
が得られる。なお、4画素一組のベイヤー配列画素にお
いて、緑色カラーフィルターの1画素のみを左右方向に
分離したのは、多くの被写体像はRGBに色分解した場
合、緑色成分を含むことが多く、実用的な被写体像にお
いては、緑色成分だけでも十分に焦点検出を行う上でほ
とんど弊害がないからである。
上下方向である3対の画像信号と位相ずれ方向が左右方
向である1対の画像信号が得られる。一般的に被写体像
は上下若しくは左右どちらかの方向にコントラストを有
する場合が多いので、前記3対の画像信号のコントラス
トが低くても、多くの場合前記1対の画像信号にはコン
トラスト成分が含まれていることから、この画像信号を
用いることで、位相ずれを検出することができる。従っ
て、本実施形態では、第1の実施形態と比較してほとん
どの被写体の焦点検出を行うことが可能となる。
向に分離した画素部の両方とも、1対の光電変換部間の
感度分布にクロストークを設けたので、撮像若しくは焦
点検出という目的に最適な画像信号を得ることができ
る。
ターの画素のみを異なる方向に分離したが、緑色、青
色、赤色のすべてが上下若しくは左右方向に分離される
ような画素部配列としてもよい。
1の実施形態を改良した例で、図8における1対の光電
変換部間の間隔ΔLを異ならせた複数の種類の画素部を
混在させた固体撮像素子100を備えた撮像装置であ
る。
可能とし、特に交換レンズシステムにおいて、明るいF
ナンバーを備えた撮影レンズが装着された場合、通常焦
点検出を行うFナンバーより明るいFナンバーで焦点検
出を行うことで、焦点検出の基線長をより長くすること
ができ、より高精度な焦点検出を実現できると共に、低
輝度限界の性能も向上させることができる。
による瞳結像、画素部内の構成、回路構成など第1の実
施形態と同様部分についての説明は省略する。また、こ
れから説明する図中、第1の実施形態と同様の符号を付
した部材は、第1の実施形態と同様であるので説明は省
略する。
のブロック図で、交換レンズシステムにおける撮影レン
ズ79と撮像装置80が図示されている。撮影レンズ7
9はEEPROM147とレンズIF部148を有して
いる。一方、撮像装置80は、撮像装置IF部149と
レンズ装着検知手段150を有している。以上のような
構成で、撮影レンズ79を図の矢印F方向に移動させ、
不図示の着脱自在なレンズ装着メカ機構により撮像装置
80に対して撮影レンズ79が固定される。そうする
と、レンズ装着検知手段150により撮影レンズ79の
装着が検出され、レンズIF部148、撮像装置IF部
を介して、撮影レンズ79のEEPROM147にあら
かじめ記憶された、撮影レンズに関する情報や光学補正
値などを撮像装置80が読み込む。
撮像素子100に配置される画素部を拡大した上面図
で、異なる2種類の構成の画素部が混在する。これらの
図において、1対の光電変換部を構成するn層129、
130の間の間隔ΔL1、ΔL2は異なっており、以下
の式(4)のような関係がある。 ΔL1<ΔL2 (4)
9、130とその間の領域Gを加えた部分と、図33
(b)におけるn層129、130とその間の領域Hを
加えた部分は、互いに同形状、同面積としている。そし
て、n層129、130の間の領域G、Hにおいても第
1の実施形態と同様に光電変換は行われ、従って、一対
の光電変換部における画素部分離方向の感度分布は図3
4にようになる。
布81a、81bが図33(a)に、点線で示す1対の
感度分布82a、82bが図33(b)にそれぞれ対応
しており、1対の感度分布にクロストークが生じる中央
部以外は互いに重なって表示されている。これらの図か
らも明らかなように、n層129、130の間の間隔が
大きい感度分布82a、82bの方が1対の感度分布8
2a、82bが重複するクロストーク部分が大きくなっ
ている。
説明したように、撮像光学系の1つのFナンバーに対し
て1対の線像分布関数の相似性が最も高くなるようなn
層129、130の間の間隔ΔLは限られてくる。い
ま、本実施形態では、n層129、130間の間隔ΔL
1、ΔL2が互いに異なっており、2種類の間隔ΔL
1、ΔL2を有する画素部が混在している。従って、2
種類の画素部における1対の線像分布関数の相似性が高
くなるFナンバーも2種類存在することとなり、式
(4)の関係からΔL2の画素部の方がより明るいFナ
ンバーで1対の線像分布関数の相似性が最も高くなるよ
うになる。
す画素部は、交換レンズシステムにおけるすべての撮影
レンズが満たすFナンバー、例えばF5.6付近におい
て、1対の線像分布関数の相似性が最も高くなるようΔ
L1が設定され、図33(b)に示す画素部は、交換レ
ンズシステムにおける一部の撮影レンズが備える明るい
Fナンバー、例えばF2.8付近において、1対の線像
分布関数の相似性が最も高くなるように設定されてい
る。
に入射する光量と撮影レンズのFナンバーがほぼ線形と
なる範囲における最も明るいFナンバーは、F2.0付
近に設定されており、上記2つの焦点検出時のFナンバ
ーより明るいFナンバーとなっている。従って、焦点検
出時には、撮影レンズの射出瞳全体の光束を光電変換す
ることが可能になる。
バーを有する通常の撮影レンズが装着されている場合
は、撮影レンズの絞りをF5.6にした上で、図33
(a)に示す画素部による画像信号で焦点検出を行い、
F2.8以下のFナンバーを有する一部の撮影レンズが
装着されている場合は、図33(b)に示す画素部によ
る画像信号で焦点検出を行う。そうすることで、小デフ
ォーカスから大デフォーカスに至るまで高精度で確実な
焦点検出を行えると共に、F2.8以上の明るいFナン
バーの撮影レンズが装着された際には、F2.8の光束
を用いて焦点検出を行うことができるので、より敏感度
の高い焦点検出を行うことができる。また、焦点検出の
低輝度限界も向上させることができる。
る情報は、図32の撮影レンズ79のEEPROM14
7にあらかじめ記憶し、撮影レンズが装着された際にそ
の情報を撮像装置側がIF部を介して読み込めばよい。
また、撮像時の感度分布は、図34の1対の感度分布を
加算したものとなる。
向における撮像時の感度分布は、1対の光電変換部間で
わずかながら他の部分に比べて感度が落ちる。従って、
図33(b)の画素部の方が1対の光電変換部間の間隔
ΔL2を大きくしているため、図33(a)の画素部よ
り感度が落ちる部分が大きくなる。従って、撮像時の画
像信号にもわずかではあるが感度むらが生じる。このよ
うな場合には、図19の固体撮像素子100のアナログ
信号処理部138における増幅率を図33(a)、
(b)の画素部同士を互いに異ならせておけば、IF部
141を介して感度むらのないより良質な画像信号を得
ることも可能である。
検出方法について説明する。図35は固体撮像素子10
0上に設けた焦点検出領域を示す図である。83〜89
は焦点検出領域を示し、添え字aが図33(a)の画素
部により構成される焦点検出領域、添え字bが図33
(b)の画素部により構成される焦点検出領域である。
図中焦点検出領域85a、85b付近のみ格子状に並べ
られた画素を表示しているが、その他の領域については
省略している。それぞれの焦点検出領域は、射出瞳分離
による位相ずれが生じる方向、即ち画素部における1対
の光電変換部分離方向を長手方向とし、位相ずれの変換
を効率よく検出できるように構成されている。
9aと添え字bの焦点検出領域83b〜89bはそれぞ
れ隣接して配置されている。そして、F2.8より暗い
Fナンバーを開放Fナンバーとする撮影レンズが装着さ
れた場合の焦点検出では、まず撮影レンズのFナンバー
をF5.6にセットし、焦点検出領域83a〜89aを
用いて焦点検出用の画像信号を形成する。一方、F2.
8以下のFナンバーを開放Fナンバーとする明るい撮影
レンズが装着された場合の焦点検出では、撮影レンズの
FナンバーをF2.8にセットし、焦点検出領域83b
〜89bを用いて焦点検出用画像信号を形成する。焦点
検出領域83a〜89bは、いずれも第1の実施形態の
図22と同様の構成で2組の画素列より形成されるの
で、色分解した焦点検出用画像信号としては、図23〜
26に示すように1つの焦点検出領域あたり4対得られ
ることとなる。そして、公知の相関演算により前記画像
信号から位相ずれ量を算出し、この位相ずれ量を撮影レ
ンズのデフォーカス量に換算することで、位相差方式焦
点検出を実現している。
撮影レンズが備える開放Fナンバーに応じて、2種類の
焦点検出領域を選択することができ、より明るいFナン
バーにおいても焦点検出が行えるようにしているので、
明るいFナンバーが持つ高敏感、低輝度限界向上といっ
た利点を生かした焦点検出を行うこともできる。なお、
本実施形態では、基本となる焦点検出時のFナンバーと
それより明るいFナンバーに対応する構成としたが、基
本となる焦点検出時のFナンバーより暗いFナンバーに
対応するようにしてもよい。
点検出においては、一般的に撮影レンズのFナンバーが
暗い場合に撮像面上において焦点検出可能な領域は撮影
レンズの光軸付近に限られることが多いので、基本の焦
点検出Fナンバーより暗いFナンバーに対応した画素部
を設けると、撮影レンズの開放Fナンバーが比較的暗い
高倍率ズームレンズを装着した際にも、撮像面上の広い
領域で焦点検出を行うことが可能となり、有効である。
応した画素部を設けるようにして、明るいFナンバーか
ら暗いFナンバーまで焦点検出を行えるようにしてもよ
い。
第1〜第3の実施形態で示した撮像装置をスチルカメラ
に適用してなる撮像システムについて例示する。
要構成を示すブロック図である。同図において、1はレ
ンズのプロテクトとメインスイッチを兼ねるバリア、2
は被写体の光学像を固体撮像素子4に結像させるレン
ズ、3はレンズ2を通った光量を可変するための絞り、
4はレンズ2で結像された被写体を画像信号として取り
込むための固体撮像素子であり、これが第1〜第3の実
施形態の撮像素子100に対応する。5は固体撮像素子
4から出力される画像信号のアナログ−ディジタル変換
を行うA/D変換器、6はA/D変換器5から出力され
た画像データに各種の補正やデータ圧縮処理を施す信号
処理部、7は固体撮像素子4,A/D変換器5,信号処
理部6に各種のタイミング信号を出力するタイミング発
生部、8は各種の演算と当該スチルカメラ全体の動作を
統括制御する全体制御・演算部、9は画像データを一時
的に記憶するためのメモリ部、10は記憶媒体に記憶又
は読み出しを行うための記憶媒体制御インターフェース
(I/F)部、11は記憶媒体に記憶又は読み出しを行
うための半導体メモリ等の着脱可能な記憶媒体、12は
外部コンピュータ等と通信するための外部I/F部であ
る。
動作について説明する。
続いてコントロール系の電源がオンされ、更にA/D変
換器5等の撮像系回路の電源がオンされる。
御・演算部8は絞り3を開放とし、固体撮像素子4から
出力された信号がA/D変換器5で変換された後、信号
処理部6に入力する。そのデータを基に露出の演算を全
体制御・演算部8にて行う。全体制御・演算部8はこの
測光を行った結果により明るさを判断し、その結果に応
じて絞り3を制御する。
像信号を基に、被写体までの距離の演算を全体制御・演
算部8にて行う。その後、レンズ2を駆動して合焦した
か否かを判断し、合焦していないと判断したときには、
再びレンズ2を駆動して測距を行う。
始される。露光が終了すると、固体撮像素子4から出力
された画像信号はA/D変換器5で変換され、信号処理
部6を通り全体制御・演算部8の制御によりメモリ部9
に書き込まれる。
全体制御・演算部8の制御により記憶媒体制御I/F部
10を通り記憶媒体11に記憶される。また、外部I/
F部13を通り直接コンピュータ等に入力して画像の加
工を行ってもよい。
による位相差方式焦点検出を行っているので、結果とし
て高精度で迅速な焦点検出を実現できる。また撮像時
は、射出瞳の全光束を光電変換するように設計された通
常の固体撮像素子と同様の良質な画像信号を得ることが
できる。本実施形態のスチルカメラは、上述の効果を奏
する撮像装置を備えているため、優れた画像表示を実現
した信頼性の高いものである。
が得られた。 (1)焦点検出時のFナンバーを基に、小デフォーカス
から大デフォーカスに至るまで1対の画像信号の相似性
が高くなるよう画素部を構成したので、高精度で迅速な
焦点調節を実現できた。 (2)同時に、元々撮像光学系の瞳の全光束を使った画
像を得るように設計された撮像素子で得られる画像と同
等のS/N的に優れた高品位画像を得ることができ、画
像の不自然なボケをほぼ無くすことができた。 (3)複数のF数で小デフォーカスから大デフォーカス
に至るまで、高精度で迅速な焦点調節を実現できた。
斜視図である。
のエリアセンサ部の画素部における上面図である。
る。
す模式図である。
図である。
電変換部に入射する光束を各々示した模式図である。
示した撮影光学系の構成図である。
子を説明するための平面図である。
子を説明するための断面図である。
布を表す特性図である。
表す模式図である。
分布を示す模式図である。
る。
である。
性図である。
である。
ブロック図である。
ック図である。
である。
受光部における1対の画像信号を示す特性図である。
受光部における1対の画像信号を示す特性図である。
受光部における1対の画像信号を示す特性図である。
受光部における1対の画像信号を示す特性図である。
配列を部分的に拡大して示す模式図である。
示す模式図である。
出領域を示す模式図である。
である。
である。
る電気系のブロック図である。
素部の上面図である。
感度分布を表す模式図である。
出領域を示す模式図である。
の構成図である。
子のエリアセンサ部の回路図である。
ラの主要構成を示すブロック図である。
図である。
である。
の空乏層からなる第1,第2光電変換部 103,104 フォトゲート 105,106 転送スイッチMOSトランジスタ 17,18 1対の光電変換部の感度分布 21,22 分離された射出瞳上の領域 27,28 1対の瞳強度分布 37〜43 焦点検出領域 53〜60 焦点検出用画像信号
Claims (13)
- 【請求項1】 結像光学系と、 前記結像光学系の射出瞳を複数に分離した光束のうち第
1の光束を光電変換する第1の光電変換部と、前記第1
の光束とは異なる第2の光束を光電変換する第2の光電
変換部とを有する画素部が2次元領域に複数配置されて
なる撮像素子とを備え、 前記撮像素子は、前記画素部に、前記第1の光電変換部
による第1の感度分布と前記第2の光電変換部による第
2の感度分布が重複する感度領域を有することを特徴と
する撮像装置。 - 【請求項2】 前記撮像素子は、前記第1の光電変換部
及び前記第2の光電変換部による分割方向が異なる少な
くとも2種類以上の前記画素部を備えることを特徴とす
る請求項1に記載の撮像装置。 - 【請求項3】 前記撮像素子は、前記感度領域が異なる
少なくとも2種類以上の前記画素部を備えることを特徴
とする請求項1に記載の撮像装置。 - 【請求項4】 前記感度領域は、焦点検出時における前
記結像光学系のF数に基づいて最適化されていることを
特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の撮像装
置。 - 【請求項5】 結像光学系と、 前記結像光学系の射出瞳を複数に分離した光束のうち第
1の光束を光電変換する第1の光電変換部と、前記第1
の光束とは異なる第2の光束を光電変換する第2の光電
変換部とを有する画素部が2次元領域に複数配置されて
なる撮像素子と、 前記撮像素子からの信号に所定の処理を加える信号処理
手段と、 外部装置との間で信号授受を行うインターフェース手段
と、 当該システム全体の動作を制御する制御手段とを備え、 前記撮像素子は、前記画素部に、前記第1の光電変換部
による第1の感度分布と前記第2の光電変換部による第
2の感度分布が重複する感度領域を有することを特徴と
する撮像システム。 - 【請求項6】 前記インターフェース手段からの出力信
号を一時的に記憶する記憶手段を備えることを特徴とす
る請求項5に記載の撮像システム。 - 【請求項7】 前記撮像素子は、前記第1の光電変換部
及び前記第2の光電変換部による分割方向が異なる少な
くとも2種類以上の前記画素部を備えることを特徴とす
る請求項5又は6に記載の撮像システム。 - 【請求項8】 前記撮像素子は、前記感度領域が異なる
少なくとも2種類以上の前記画素部を備えることを特徴
とする請求項5又は6に記載の撮像システム。 - 【請求項9】 前記感度領域は、焦点検出時における前
記結像光学系のF数に基づいて最適化されていることを
特徴とする請求項5〜8のいずれか1項に記載の撮像シ
ステム。 - 【請求項10】 結像光学系からの光束を撮像素子にて
光電変換し、画像信号を生成する撮像方法であって、 前記結像光学系の射出瞳を複数に分離することにより、
光束を第1の光束及び第2の光束に分離し、前記撮像素
子を構成する複数の画素部における第1の光電変換部で
前記第1の光束を、第2の光電変換部で前記第2の光束
をそれぞれ光電変換するに際して、 前記画素部において、前記第1の光電変換部による第1
の感度分布と前記第2の光電変換部による第2の感度分
布を重複させる感度領域を形成することを特徴とする撮
像方法。 - 【請求項11】 前記撮像素子は、前記第1の光電変換
部及び前記第2の光電変換部による分割方向が異なる少
なくとも2種類以上の前記画素部を備えることを特徴と
する請求項10に記載の撮像方法。 - 【請求項12】 前記撮像素子は、前記感度領域が異な
る少なくとも2種類以上の前記画素部を備えることを特
徴とする請求項10に記載の撮像方法。 - 【請求項13】 前記感度領域は、焦点検出時における
前記結像光学系のF数に基づいて最適化されていること
を特徴とする請求項10〜12のいずれか1項に記載の
撮像方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000361639A JP4500434B2 (ja) | 2000-11-28 | 2000-11-28 | 撮像装置及び撮像システム、並びに撮像方法 |
US09/994,744 US7652713B2 (en) | 2000-11-28 | 2001-11-28 | Image pickup apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000361639A JP4500434B2 (ja) | 2000-11-28 | 2000-11-28 | 撮像装置及び撮像システム、並びに撮像方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002165126A true JP2002165126A (ja) | 2002-06-07 |
JP4500434B2 JP4500434B2 (ja) | 2010-07-14 |
Family
ID=18833041
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000361639A Expired - Lifetime JP4500434B2 (ja) | 2000-11-28 | 2000-11-28 | 撮像装置及び撮像システム、並びに撮像方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7652713B2 (ja) |
JP (1) | JP4500434B2 (ja) |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20071128 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090915 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091116 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20091215 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100315 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100413 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100419 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130423 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4500434 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130423 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140423 Year of fee payment: 4 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |